KR20140005032A - 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법 - Google Patents

슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 슬래그 포트에서 고온 용융상태로 낙하하는 슬래그에 고속가스를 분사하여 슬래그를 비산시키는 분사장치의 분사노즐 송풍압력을 조절하여 볼 형태로 냉각 및 고체화되는 슬래그 볼의 균일한 입도 및 크기로 제어할 수 있으며, 슬래그 볼의 회수율을 향상시킬 수 있는 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법을 제공하기 위한 것으로서, 그 기술적 구성은, 제강공정의 2차 정련에서 발생되어 슬래그 포트를 통하여 일정량 출탕되는 고온 용융상태의 슬래그를 일정 방향 및 일정 위치로 낙하시키기 위한 턴디시; 및 턴디시에서 낙하되는 용융상태의 슬래그에 고속가스를 분사하여 슬래그를 비산시키기 위한 분사노즐이 구비되는 분사장치; 를 포함하는 슬래그 처리장치에 있어서, 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력을 조절하여 상기 고속가스에 의해 비산되어 낙하하는 슬래그 볼의 입도를 제어하도록 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법{Method for Controlling Particle Size of reduction slag ball for control of blast pressure}
본 발명은 슬래그 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 턴디시에서 고온 용융상태로 낙하하는 슬래그에 고속가스를 분사하는 분사장치의 송풍압력을 제어하여 슬래그의 입도 및 회수율을 조절할 수 있는 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법에 관한 것이다.
일반적으로, 환원이란, 산화물로부터 산소를 제거하는 것으로서, 금속의 산화물인 광석을 정련하여 순금속을 얻는 과정을 나타내며, 광물의 용해 과정에서 용탕에 산소가 녹아 들어가거나, 산화물이 만들지므로 슬래그나 노내 분위기의 조정에 의해 환원을 수행한다.
이렇게 제강공정의 2차 정련에서 발생하는 환원 슬래그는, 통상 2차 정련에서 발생되는 전체 슬래그 중 대략 20% 내, 외를 점유하고 있으며, 2007년도에 약 75만톤 정도의 환원 슬래그가 발생하였고, 2010년도에 약 100만톤 정도의 환원 슬래그가 발생하는 등 점차적으로 환원 슬래그의 양이 증가하는 추세이다.
한편, 제강공정의 2차 정련에서 발생되는 환원 슬래그의 경우, 적절한 사용처가 없을 뿐만 아니라, 전체 환원 슬래그에서 유리 석회가 최대 20% 정도 존재하기 때문에 부가가치적으로 활용이 어렵다는 문제점이 있었다.
여기서, 제강공정의 2차 정련에서 발생되는 환원 슬래그는 대기 중의 일반적인 환경에서 수일 동안 방치하거나, 살수 방식을 통해 냉각시킨 후 분쇄 및 가공하는 공정을 통하여 처리하고 있다.
그러나, 상술한 바와 같이 환원 슬래그의 처리 시 소음, 진동, 비산 먼지 및 침출수 등의 환경오염이 유발되고, 대량의 환원 슬래그를 보관 또는 방치하기 위한 공간이 요구될 뿐만 아니라, 환원 슬래그의 냉각 시 이에 부합되는 공간을 갖는 부지가 필요하며, 냉각 후 환원 슬래그에 포함되는 유리 석회에 대한 안정성 등을 확보해야 하는 등의 문제점이 있었다.
이로 인해, 제강공정의 2차 정련에서 발생되는 환원 슬래그의 경우, 적절한 사용처가 없기 때문에, 발생되는 슬래그의 재활용율을 낮추는 요인으로 작용하고 있어 시급한 재활용 기술의 확립이 요구되고 있는 실정이다.
한편, 상술한 바와 같이, 고온의 용융상태로 배출되는 환원 슬래그를 재활용하고자 하는 다양한 방법이 제안되었으며, 이러한 방법 중 하나로, 배출되는 슬래그에 분사장치를 통해 가스를 분사하여 냉각 및 고체화시킴으로써 슬래그를 볼 또는 파이버 형태로 변형하여 건축 및 건설용 자재로 활용하는 방안이 제안되었다.
그러나, 이러한 슬래그 처리방법은 비산먼지, 침출수 등과 같은 환경문제를 야기하고, 고압의 가스 분사에 의해 비산되면서 냉각 및 고체화되는 슬래그 볼의 입도, 크기 및 형상이 불규칙적으로 형성됨으로써 건축 및 건설용 자재로의 활용 시 요구되는 입도 및 크기보다 클 경우, 냉각 및 고체화된 슬래그 볼을 볼 밀(Ball Mill) 등으로 재차 분쇄하여 요구되는 입도 및 크기로 슬래그 볼을 가공처리하여야 하는 등의 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 턴디시에서 고온 용융상태로 낙하하는 슬래그에 고속가스를 분사하여 슬래그를 비산시키는 분사장치의 분사노즐 송풍압력을 조절하여 볼 형태로 냉각 및 고체화되는 슬래그 볼의 균일한 입도 및 크기로 제어할 수 있으며, 슬래그 볼의 회수율을 향상시킬 수 있는 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
그리고, 본 발명은, 분사장치의 분사노즐 송풍압력을 조절하여 고속가스에 의해 비산되어 냉각 및 고체화되는 슬래그 볼의 입도 및 크기를 건축자재 및 건설자재에서 요구하는 입도 및 크기로의 제작이 가능하고, 폐자재의 활용으로 인해 친환경적인 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 제강공정의 2차 정련에서 발생되어 슬래그 포트를 통하여 일정량 출탕되는 고온 용융상태의 슬래그를 일정 방향 및 일정 위치로 낙하시키기 위한 턴디시; 및 턴디시에서 낙하되는 용융상태의 슬래그에 고속가스를 분사하여 슬래그를 비산시키기 위한 분사노즐이 구비되는 분사장치; 를 포함하는 슬래그 처리장치에 있어서, 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력을 조절하여 상기 고속가스에 의해 비산되어 낙하하는 슬래그 볼의 입도를 제어하도록 이루어지는 것을 특징으로 한다.
여기서, 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력이 200mmAq 내지 1,000mmAq로 이루어진다.
바람직하게는, 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력이 700mmAq로 이루어진다.
보다 바람직하게는, 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력이 850mmAq로 이루어진다.
이상에서 설명한 바와 같이 상기와 같은 구성을 갖는 본 발명은, 고온의 용융상태로 낙하하는 슬래그에 고속가스를 분사하는 분사노즐의 송풍압력을 조절하여 비산된 후 바닥면에 낙하하는 슬래그 볼의 입도 및 크기를 제어함으로써 분쇄 가공처리 등 별도의 공정 없이 건축자재 및 건설자재에 적합한 입도 및 크기를 갖는 슬래그 볼의 제작 및 생산이 가능하고, 이로 인해 별도의 가공 처리 없이 슬래그 볼의 직접적인 적용 및 활용이 가능함과 동시에 슬래그 볼의 회수율을 향상시킬 수 있다는 등의 효과를 거둘 수 있다.
또한, 본 발명은, 첨가재로써 요구하는 입도 및 크기에 적합하도록 다양한 입도 및 크기로의 제작이 가능하여 연마재, 웨이트재, 자전거 도로용 평탄재 등 현장 작업 상황에 따라 다양한 분야에서 활용이 가능하고, 슬래그 처리 시 발생되는 소음, 진동, 비산 먼지 및 침출수 등의 발생을 방지함과 동시에 폐기되는 슬래그 등의 패자원을 재처리 및 재활용함으로써 폐자재에 대한 안전성의 확보가 용이하여 친환경적이라는 등의 효과를 거둘 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 슬래그 처리장치를 개략적으로 나타내는 도면.
이하, 본 발명에 의한 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 또한, 본 실시예에서는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니고, 단지 예시로 제시한 것이며, 그 기술적인 요지를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변경이 가능하다.
도 1은 본 발명에 의한 슬래그 처리장치를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 본 발명에 의한 슬래그 처리장치(1)는 턴디시(10) 및 분사장치(30)를 포함하는 구성으로 이루어진다.
상기 턴디시(10)는 제강공정의 2차 정련에서 발생되어 일정량 출탕되는 슬래그(3)가 슬래그 포트(2)에 담아 이송된 후 상기 슬래그 포트(2)를 기울여 슬래그(3)를 낙하시킬 경우, 고온 용융상태의 슬래그(3)를 일정 방향 및 위치로 가이드함과 동시에 낙하하는 슬래그(3)의 유량을 제어하면서 바닥면으로 낙하시키기 위한 것이다.
이를 위하여, 상기 턴디시(10)는 슬래그 포트(2)에서 공급되되, 고온 용융상태로 이루어지는 슬래그(3)의 체류 시간 및 배출 위치를 조절하기 위하여 일정 각도 경사지게 설치된다.
상기 분사장치(30)는 턴디시(10)에서 낙하하는 용융상태의 슬래그(3)에 고속가스를 분사하여 슬래그(3)를 비산시키기 위한 것으로서, 상기 턴디시(10)의 하측에 위치하고, 턴디시(10)에서 낙하하는 슬래그(3)에 고속가스를 분사하기 위한 분사노즐(31)이 구비되며, 상기 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스에 의하여 슬래그(3)를 냉각 및 고체화시킨다.
이렇게, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스에 의하여 턴디시(10)에서 낙하하여 비산되는 고온의 용융상태로 이루어지는 슬래그(3)가 다양한 직경을 갖는 구 형태로 변형된다.
본 발명의 일 실시예에서는, 상기 분사장치(30)가 턴디시(10)에서 낙하하는 슬래그(3)에 고속가스를 분사하여 슬래그(3)를 구 형태로 변형시키도록 이루어져 있으나, 상기 턴디시(10)에서 낙하하는 슬래그(3)를 구 형태로 변형시키기 용이하다면 상기 분사장치(30)에서 고압의 에어 또는 냉각수 등을 분사하도록 이루어지는 것도 가능하다.
한편, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스가 고온의 용융상태로 이루어지는 슬래그(3)를 냉각 및 고체화시키기 용이하도록 질소 등으로 이루어지는 것이 바람직하나, 이에 한정하지 아니한다.
여기서, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스의 송풍압력을 조절하여 고속가스에 의해 비산되어 낙하하는 슬래그 볼(미도시)의 입도 및 크기를 조절하도록 이루어진다.
즉, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스의 송풍압력을 밸브(미도시) 등의 개/폐 조절을 통하여 조절함으로써 상기 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스의 송풍압력을 조절하여 비산되어 냉각 및 고체화되는 슬래그 볼의 입도 및 크기를 조절하도록 이루어진다.
본 발명의 일 실시예에서는 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스의 송풍압력이 밸브의 개/폐 조절에 의해 제어되도록 이루어져 있으나, 상기 분사장치(30)로 공급되는 고속가스의 공급량을 조절하거나, 기타 다양한 방법으로 분사장치(30)의 분사노즐(31)에서 분사되는 고속가스의 송풍압력을 조절하도록 이루어지는 것도 가능하다.
한편, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 고압의 에어 또는 냉각수가 분사될 경우, 고압의 에어 또는 냉각수의 압력을 조절하여 턴디시(10)에서 낙하하는 슬래그(3)를 비산시키도록 이루어지는 것도 가능하다.
이때, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력은 200mmAq 내지 1,000mmAq로 이루어진다.
즉, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 턴디시에서 낙하하는 슬래그(3)에 고속가스의 분사 시 고속가스의 송풍압력은 200mmAq 내지 1,000mmAq의 범위를 갖도록 이루어진다.
송풍압력
(mmAq)		 입도 분포율(%) 회수율
(%)
<0.1mm 0.1~0.6mm 0.6~1.0mm 1.0~2.0mm 2.0~4.0mm >4.0mm
200 5 10 15 35 25 10 52.4
350 7.5 15 25.5 32.5 15 5 69.8
700 10 25 34.5 20 10 0.5 87.4
850 10 34.5 25 19.9 10 0.5 88.0
1,000 40 30 16.5 10 3 0.5 67.6
상기한 바와 같이, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력이 200mmAq 내지 1,000mmAq의 범위로 이루어질 경우, [표 1]에서 나타난 바와 같이, 비산되는 슬래그 볼은 0.1mm 내지 4.0mm의 범위 내의 입도 분포율을 나타낸다.
즉, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력이 200mmAq 내지 1,000mmAq의 범위로 이루어질 경우, 슬래그 볼은 0.1mm 이하, 0.1 내지 0.6mm, 0.6 내지 1.0mm, 1.0 내지 2.0mm, 2.0 내지 4.0mm, 4.0mm 이상의 입도를 갖는 슬래그 볼의 입도 분포율을 나타내며, 이에 따른 슬래그 볼의 회수율은 52.4% 내지 88.0%의 정도로 이루어진다.
바람직하게는, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력은 700mmAq로 이루어진다. 이렇게 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력이 700mmAq로 이루어질 경우, 0.1mm 내지 4.0mm의 입도 분포율에 대한 슬래그 볼의 회수율이 87.4%로 이루어진다.
보다 바람직하게는, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력은 850mmAq로 이루어진다. 이렇게 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력이 850mmAq로 이루어질 경우, 0.1mm 내지 4.0mm의 입도 분포율에 대한 슬래그 볼의 회수율이 88.0%로 이루어진다.
상기한 바와 같이, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력을 조절하여 슬래그 볼의 입도 분포율을 균일하게 함으로써 연마재, 웨이트재 및 자전거 도로용 평탄재 등으로 활용이 용이하다.
한편, 건축자재 또는 건설자재에 활용이 용이하도록 현장에서 요구하는 입도 및 크기의 슬래그 볼 제작 시 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력을 다양하게 가변적으로 조절 및 제어하여 슬래그(3)를 비산시킴으로써 현장에서 요구하는 입도 및 크기의 슬래그 볼을 제작하도록 이루어지는 것도 가능하다.
이하, 본 발명에 의한 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법을 설명한다.
먼저, 제강공정의 2차 정련에서 발생되어 일정량 출탕되는 슬래그(3)를 슬래그 포트(2)에 담아 이송한 후 상기 슬래그 포트(2)를 기울여 고온 용융상태의 슬래그(3)가 일정 각도 경사지게 위치하는 턴디시(10)로 공급된다.
이때, 상기 턴디시(10)로 출탕되는 고온의 용융상태로 이루어지는 슬래그(3)의 공급량 및 토출량은 별도로 설치되는 카메라(미도시)를 통하여 실시간으로 촬영하고, 촬영된 슬래그(3)의 공급량 및 토출량에 따른 데이터는 연산처리된 후 모니터링 장치(미도시)를 통하여 작업자에게 제공되는 것이 바람직하다.
상기한 바와 같이, 고온의 용융상태로 이루어지는 슬래그(3)가 턴디시(10)를 통하여 일정 방향 및 일정 위치로 낙하할 경우, 턴디시(10)의 하측에 위치하는 분사장치(30)가 분사노즐(31)을 통하여 상기 턴디시(10)의 전면측으로 고속가스를 분사하고, 이로 인해 턴디시(10)에서 낙하하는 슬래그(3)가 턴디시(10)의 전면측으로 비산된다.
이때, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력을 200mmAq 내지 1,000mmAq의 범위로 제어하여 턴디시(10)에서 낙하하는 슬래그(3)에 분사한다.
이렇게 상기 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력이 200mmAq 내지 1,000mmAq의 범위로 제어할 경우, 고속가스의 분사에 의해 비산되는 슬래그(3)는 0.1mm 내지 4.0mm의 균일한 입도 분포를 갖는 슬래그 볼로 변형된다.
상기한 바와 같은 송풍압력의 범위 내에서 턴디시(10)에서 낙하하는 슬래그(3)에 분사노즐(31)을 통하여 고속가스를 분사할 경우, [표 1]에서 나타내고 있는 바와 같이, 상기 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 압력이 높을수록 작은 입도를 갖는 슬래그 볼의 입도 분포율이 높고, 상기 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 압력이 낮을수록 큰 입도를 갖는 슬래그 볼의 입도 분포율이 높아 건축자재 또는 건설자재에서 요구하는 입도를 갖는 슬래그 볼의 제조 시 고속가스의 송풍압력을 제어하여 요구하는 입도 및 크기의 슬래그 볼을 제작한다.
한편, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력을 700mmAq로 할 경우, 0.1mm 이하의 슬래그 볼 입도 분포율은 10%이고, 0.1mm 내지 0.6mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 25%이며, 0.6mm 내지 1.0mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 34.5%이고, 1.0mm 내지 2.0mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 20%이며, 2.0mm 내지 4.0mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 10%이고, 4.0mm 이상의 슬래그 볼 입도 분포율은 0.5%로 이루어지며, 이때의 슬래그 볼 회수율은 87.4%로 이루어진다.
또한, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력을 850mmAq로 할 경우, 0.1mm 이하의 슬래그 볼 입도 분포율은 10.1%이고, 0.1mm 내지 0.6mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 34.5%이며, 0.6mm 내지 1.0mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 25%이고, 1.0mm 내지 2.0mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 19.9%이며, 2.0mm 내지 4.0mm의 슬래그 볼 입도 분포율은 10%이고, 4.0mm 이상의 슬래그 볼 입도 분포율은 0.5%로 이루어지며, 이때의 슬래그 볼 회수율은 88.0%로 이루어진다.
상기한 바와 같이, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력을 200mmAq 내지 1,000mmAq로 제어할 경우, 건자재용 잔골재 입도 분포와 유사한 입도 분포를 갖는 슬래그 볼을 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 연마재, 웨이트재, 자전거 도로용 평탄재 등으로 활용할 수 있는 입도 및 크기의 슬래그 볼을 얻을 수 있다.
또한, 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스의 송풍압력을 제어하여 슬래그 볼의 입도 및 크기를 다양하게 제작할 수 있다.
이렇게 상기 분사장치(30)의 분사노즐(31)을 통하여 분사되는 고속가스에 의해 비산되면서 냉각 및 고체화되어 바닥면으로 낙하한 슬래그 볼은 별도의 수집장치(미도시)를 통하여 수거된 후 건축 및 건설자재 또는 기타 다양한 제품에 첨가재로 사용되어 재활용된다.
본 발명은 특정의 실시예와 관련하여 도시 및 설명하지만, 첨부 특허청구의 범위에 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 개조 및 변화가 가능하다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다.
1 : 슬래그 처리장치, 2 : 슬래그 포트,
3 : 슬래그, 5 : 슬래그 볼,
10 : 턴디시, 30 : 분사장치,
31 : 분사노즐.

Claims (4)

  1. 제강공정의 2차 정련에서 발생되어 일정량 출탕된 후 슬래그 포트를 통하여 낙하되는 슬래그의 유량을 제어하는 턴디시; 및 상기 턴디시에서 낙하되는 용융상태의 슬래그에 고속가스를 분사하여 슬래그를 비산시키기 위한 분사노즐이 구비되는 분사장치; 를 포함하는 슬래그 처리장치에 있어서,
    상기 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력을 조절하여 상기 고속가스에 의해 비산되어 낙하하는 슬래그 볼의 입도를 제어하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력이 200mmAq 내지 1,000mmAq로 이루어지는 것을 특징으로 하는 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력이 700mmAq로 이루어지는 것을 특징으로 하는 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 분사장치의 분사노즐에서 분사되는 고속가스의 송풍압력이 850mmAq로 이루어지는 것을 특징으로 하는 슬래그 처리장치용 분사장치의 분사노즐 송풍압력 조절에 따른 슬래그 볼의 입도 제어방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20190097616A (ko) 2018-02-12 2019-08-21 (주)유진에코씨엘 분사위치가 조절되는 분사노즐이 구비된 제강슬래그용 퀀칭 시스템

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