KR20130143639A - High-refractive-index glass - Google Patents

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Abstract

본 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼40, 질량비 SiO2/SrO가 0.1∼40이며, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다.The high-refractive-index glass of the present invention is characterized in that the glass composition contains 0 to 10% of B 2 O 3 , 0.001 to 35% of SrO, 0.001 to 30% of ZrO 2 + TiO 2 , La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10 %, A mass ratio BaO / SrO of 0 to 40, a mass ratio SiO 2 / SrO of 0.1 to 40, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3.

Description

고굴절률 유리{HIGH-REFRACTIVE-INDEX GLASS}High refractive index glass {HIGH-REFRACTIVE-INDEX GLASS}

본 발명은 고굴절률 유리에 관한 것으로서, 예를 들면 유기 EL 디바이스, 특히 유기 EL 조명에 바람직한 고굴절률 유리에 관한 것이다.The present invention relates to a high refractive index glass, for example, to an organic EL device, particularly a high refractive index glass suitable for organic EL illumination.

최근, 유기 EL 발광소자를 사용한 디스플레이 조명이 점점 주목받고 있다. 이들 유기 EL 디바이스는 ITO나 FTO 등의 투명 도전막이 형성된 기판(유리판)에 의해, 유기 발광소자가 끼워진 구조를 갖고 있다(예를 들면 특허문헌 1을 참조). 이 구조에 있어서, 유기 발광소자에 전류가 흐르면 유기 발광소자 중의 정공과 전자가 회합해서 발광한다. 발광한 광은 투명 도전막을 통해서 유리판에 진입하고, 유리판 내에서 반사를 반복하면서 외부로 방출된다.2. Description of the Related Art In recent years, display illumination using an organic EL light emitting element has attracted attention. These organic EL devices have a structure in which an organic light emitting element is sandwiched by a substrate (glass plate) on which a transparent conductive film such as ITO or FTO is formed (see, for example, Patent Document 1). In this structure, when a current flows through the organic light emitting element, holes and electrons in the organic light emitting element associate and emit light. The emitted light enters the glass plate through the transparent conductive film and is emitted to the outside while repeating reflection in the glass plate.

일본 특허 공개 2007-149460호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-149460

그런데, 유기 발광소자의 굴절률 nd는 1.8∼1.9이며, 투명 전극막의 굴절률 nd는 1.9∼2.0이다. 이에 대하여 유리 기판의 굴절률 nd는 통상 1.5 정도이다. 이 때문에, 종래의 유기 EL 디바이스는 유리 기판-ITO 계면의 굴절률차에 기인하여 반사율이 높고, 유기 발광소자로부터 발생한 광을 효율적으로 인출할 수 없다고 하는 문제가 있었다.The refractive index nd of the organic light emitting element is 1.8 to 1.9, and the refractive index nd of the transparent electrode film is 1.9 to 2.0. In contrast, the refractive index nd of the glass substrate is usually about 1.5. For this reason, the conventional organic EL device has a high reflectance due to the refractive index difference of the glass substrate-ITO interface, and there is a problem that light generated from the organic light emitting element can not be drawn efficiently.

유리판으로서 고굴절률 유리를 사용하면, 유리판-투명 전극막의 계면의 굴절률차를 작게 할 수 있다.When the high refractive index glass is used as the glass plate, the refractive index difference between the interface of the glass plate and the transparent electrode film can be reduced.

고굴절률 유리로서, 광학 렌즈 등으로 사용되는 광학 유리가 알려져 있다. 광학 렌즈 등에는 액적 성형법 등으로 구 형상으로 성형한 액적 유리에 다시 열처리를 가해서 소정 형상으로 프레스 성형한 광학 유리가 사용되고 있다. 이 광학 유리는 굴절률 nd가 높지만 액상점도가 낮기 때문에, 냉각 속도가 빠른 액적 성형법 등으로 성형하지 않으면 성형시에 유리가 실투된다. 따라서, 상기 문제를 해소하기 위해서는 고굴절률 유리의 내실투성을 높일 필요가 있다.As optical glasses of high refractive index, optical glasses used for optical lenses and the like are known. BACKGROUND ART [0002] An optical glass in which a droplet glass molded into a spherical shape by a droplet forming method or the like is heat-treated again and press-molded into a predetermined shape is used for an optical lens or the like. Since this optical glass has a high refractive index nd but has a low liquid viscosity, the glass is dulled at the time of molding unless it is molded by a droplet forming method or the like which has a high cooling rate. Therefore, in order to solve the above problem, it is necessary to increase the resistance to high refractive index glass.

그런데, 유기 EL 디스플레이 등의 박형화·대형화에 따라 판 두께가 작고, 대면적인 유리판이 요구되고 있다. 이러한 유리판을 얻기 위해서는 플로트법 또는 다운드로우법(오버플로우 다운드로우법, 슬롯 다운드로우법)으로 성형할 필요가 있다. 그러나, 종래의 고굴절률 유리는 액상점도가 낮기 때문에 플로트법 또는 다운드로우법으로 성형할 수 없어 박판화·대형화가 곤란했다. 또한, 유기 EL 조명에서도 박판화·대형화의 요청이 있다.However, as the organic EL displays and the like are becoming thinner and larger, a plate thickness is small and a large-sized glass plate is required. In order to obtain such a glass plate, it is necessary to form it by a float method or a down-draw method (overflow down-draw method, slot down-draw method). However, since the conventional high refractive index glass has a low liquid viscosity, it can not be formed by the float method or the down-draw method, so that it is difficult to make it thin and large. In addition, there is a demand for thinning and enlargement in organic EL lighting.

한편, 유리 조성 중에 산화물, 특히 LaO, Nb2O5, Gd2O3을 첨가하면 액상점도의 저하를 어느 정도 억제하면서 유리판의 굴절률 nd를 높일 수 있다. 그러나, 이러한 레어 메탈 산화물은 원료 비용이 높다고 하는 문제가 있다. 또한, 유리 조성 중에 레어 메탈 산화물을 대량으로 첨가하면 내실투성이 저하되고, 유리판을 성형하기 어려워진다. 또한, 레어 메탈 산화물을 대량으로 첨가했을 경우, 내산화성도 저하된다.On the other hand, when oxides, particularly LaO, Nb 2 O 5 and Gd 2 O 3 are added to the glass composition, the refractive index nd of the glass plate can be increased while suppressing the decrease of the liquid phase viscosity to some extent. However, such a rare metal oxide has a problem that the raw material cost is high. Further, when a rare metal oxide is added in a large amount in the glass composition, the resistance to devitrification is reduced, and it becomes difficult to form the glass plate. Further, when a rare metal oxide is added in a large amount, the oxidation resistance is lowered.

그래서, 본 발명은 레어 메탈 산화물(특히 La2O3, Nb2O5, Gd2O3)의 함유량이 적음에도 불구하고 유기 발광소자나 투명 전극막의 굴절률 nd에 정합하고, 또한 내실투성이 양호한 고굴절률 유리를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.Thus, the present invention despite the low content of rare metal oxides (in particular La 2 O 3, Nb 2 O 5, Gd 2 O 3) and matched to the organic light emitting element and the transparent electrode film, the refractive index nd, and also substantial full of good and And a refractive index glass.

<제 1 발명><First Invention>

본 발명자들은 예의 검토를 행한 결과, 각 성분의 함유 범위와 굴절률을 소정 범위로 규제함으로써 상기 기술적 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여 제 1 발명으로서 제안하는 것이다. 즉, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼40, 질량비 SiO2/SrO가 0.1∼40이며, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다. 여기에서, 「ZrO2+TiO2」는 ZrO2와 TiO2의 합량을 가리킨다. 「La2O3+Nb2O5」는 La2O3과 Nb2O5의 합량을 가리킨다. 「굴절률 nd」는 시판의 굴절률 측정기로 측정 가능하고, 예를 들면 25㎜×25㎜×약 3㎜의 직육면체 시료를 제작한 후, (서랭점 Ta+30℃)∼(왜점 Ps-50℃)의 온도 영역을 0.1℃/min의 냉각 속도로 어닐 처리하고, 계속해서 굴절률이 정합하는 침액을 유리 사이에 침투시킨 상태에서 시마즈 세이사쿠쇼 제의 굴절률 측정기 KPR-2000을 사용함으로써 측정 가능하다. 「서랭점 Ta」는 ASTM C338-93에 기재된 방법으로 측정한 값을 가리킨다. 「왜점 Ps」는 ASTM C336-71에 기재된 방법으로 측정한 값을 가리킨다.As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that the above technical problem can be solved by regulating the content range of each component and the refractive index in a predetermined range, and as a first invention. That is, the high-refractive-index glass according to the first aspect of the present invention has a glass composition containing 0 to 10% of B 2 O 3 , 0.001 to 35% of SrO, 0.001 to 30% of ZrO 2 + TiO 2 , La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%, a mass ratio BaO / SrO of 0 to 40, a mass ratio SiO 2 / SrO of 0.1 to 40, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. Here, "ZrO 2 + TiO 2 " refers to the sum of ZrO 2 and TiO 2 . &Quot; La 2 O 3 + Nb 2 O 5 &quot; refers to the sum of La 2 O 3 and Nb 2 O 5 . (Refractive index nd) can be measured with a commercially available refractive index measuring instrument. For example, a rectangular parallelepiped sample having a size of 25 mm x 25 mm x approximately 3 mm is prepared (standing point Ta + 30 deg. C) Can be measured by using a refractive index measuring instrument KPR-2000 manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Ltd. under the condition that the temperature region of the glass substrate is annealed at a cooling rate of 0.1 deg. "Standing point Ta" refers to a value measured by the method described in ASTM C338-93. &Quot; Ps Ps Ps &quot; refers to the value measured by the method described in ASTM C336-71.

제 2로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 액상점도가 103.0dPa·s 이상인 것이 바람직하다. 여기에서, 「액상점도」는 액상 온도에 있어서의 유리의 점도를 백금구 인상법으로 측정한 값을 가리킨다. 「액상 온도」는 표준체 30메쉬(500㎛)를 통과하고, 50메쉬(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣어 온도 구배로 중에 24시간 유지한 후, 결정이 석출되는 온도를 측정한 값을 가리킨다.Secondly, it is preferable that the high-refractive-index glass of the first invention has a liquid-phase viscosity of 10 3.0 dPa · s or more. Here, the &quot; liquid-phase viscosity &quot; refers to a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquidus temperature by the platinum rolling method. The "liquid phase temperature" is a value obtained by passing the glass powder passing through a standard 30 mesh (500 μm) and remaining in 50 mesh (300 μm) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient for 24 hours, Lt; / RTI &gt;

제 3으로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 판 형상인 것이 바람직하다. 여기에서, 「판 형상」은 한정적으로 해석되지 않고, 판 두께가 작은 필름 형상, 예를 들면 원기둥을 따라 설치된 필름 형상의 유리를 포함하고, 또한 한쪽 면에 요철 형상이 형성된 것도 포함한다.Thirdly, it is preferable that the high-refractive-index glass of the first invention is in the form of a plate. Here, the &quot; plate shape &quot; is not limitedly interpreted, and includes a film shape having a small plate thickness, for example, a film shape glass provided along a column, and also includes a concavo-convex shape formed on one side.

제 4로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 플로트법으로 성형되어 이루어지는 것이 바람직하다.Fourth, the high-refractive-index glass of the first invention is preferably formed by a float method.

제 5로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 104dPa·s에 있어서의 온도가 1250℃ 이하인 것이 바람직하다. 여기에서, 「104.0dPa·s에 있어서의 온도」는 백금구 인상법으로 측정한 값을 가리킨다.Fifthly, it is preferable that the temperature of the high refractive index glass of the first aspect of the present invention at 10 4 dPa 가 is 1250 캜 or lower. Here, "the temperature in 10 4.0 dPa * s" points out the value measured by the platinum ball pulling-up method.

제 6으로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 왜점이 650℃ 이상인 것이 바람직하다.Sixth, it is preferable that the high refractive index glass of the first invention has a melting point of 650 ° C or higher.

제 7로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 조명 디바이스에 사용하는 것이 바람직하다.Seventh, the high refractive index glass of the first invention is preferably used in an illumination device.

제 8로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 유기 EL 조명에 사용하는 것이 바람직하다.Eighth, it is preferable that the high refractive index glass of the first invention is used in organic EL illumination.

제 9로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 유기 EL 디스플레이에 사용하는 것이 바람직하다.Ninthly, it is preferable that the high refractive index glass of the first invention is used in an organic EL display.

제 10으로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 B2O3 0∼8%, SrO 0.001∼35%, ZnO 0∼12%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼5%, Li2O+Na2O+K2O 0∼10%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼20, 질량비 SiO2/SrO가 0.1∼20, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼20이며, 굴절률 nd가 1.58 이상, 액상점도가 103.5dPa·s 이상, 왜점이 670℃ 이상인 것을 특징으로 한다. 여기에서, 「Li2O+Na2O+K2O」는 Li2O, Na2O, 및 K2O의 합량을 가리킨다. 「MgO+CaO」는 MgO와 CaO의 합량을 가리킨다.The high refractive index glass of the first aspect of the present invention is characterized in that the glass composition contains 0 to 8% of B 2 O 3 , 0.001 to 35% of SrO, 0 to 12% of ZnO, 0.001 to 30% of ZrO 2 + TiO 2 , La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 5%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 10%, a mass ratio of BaO / SrO of 0 to 20, a mass ratio of SiO 2 / SrO of 0.1 to 20 , A mass ratio (MgO + CaO) / SrO of 0 to 20, a refractive index nd of 1.58 or more, a liquid viscosity of 10 3.5 dPa s or more and a point of 670 캜 or more. Here, &quot; Li 2 O + Na 2 O + K 2 O &quot; refers to the sum of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O. &Quot; MgO + CaO &quot; refers to the sum of MgO and CaO.

제 11로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 10∼50%, B2O3 0∼8%, CaO 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼30%, ZnO 0∼4%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼5%, Li2O+Na2O+K2O 0∼2%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼20, 질량비 SiO2/SrO가 1∼15, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼20이며, 굴절률 nd가 1.6 이상, 액상점도가 104.0dPa·s 이상, 왜점이 670℃ 이상인 것을 특징으로 한다.In the eleventh aspect, the high refractive index glass according to the first aspect of the present invention comprises 10 to 50% of SiO 2 , 0 to 8% of B 2 O 3, 0 to 10% of CaO, 0.001 to 35% of SrO, , 0 to 4% of ZnO, 0.001 to 30% of ZrO 2 + TiO 2 , 0 to 5 % of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 and 0 to 2 % of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O , mass ratio of BaO / SrO is 0 to 20, the weight ratio SiO 2 / SrO is 1 to 15, the mass ratio (CaO + MgO) / and SrO is 0 to 20, the refractive index nd more than 1.6, the liquid viscosity of 10 4.0 dPa · s or more, And the point is at least 670 ° C.

제 12로, 제 1 발명의 조명 디바이스용 유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다.Claim 12, the first 1 SiO 2 0.1~60% glass sheet for lighting device of the invention is a glass composition in terms of percent by mass, B 2 O 3 0~10%, SrO 0.001~35%, BaO 0~40%, ZrO 2 + 0.001 to 30% of TiO 2 , 0 to 10% of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3.

제 13으로, 제 1 발명의 유기 EL 조명용 유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다.Claim 13 as, SiO 2 0.1~60% organic EL lighting glass plate is, in weight percent as the glass composition of the first aspect of the invention, B 2 O 3 0~10%, SrO 0.001~35%, BaO 0~40%, ZrO 2 + 0.001 to 30% of TiO 2 , 0 to 10% of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3.

제 14로, 제 1 발명의 유기 EL 디스플레이용 유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다.14 to, SiO 2 0.1~60% glass plate for an organic EL display, in mass% as the glass composition of the first aspect of the invention, B 2 O 3 0~10%, SrO 0.001~35%, BaO 0~40%, ZrO 2 + TiO 2 0.001 to 30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3.

제 15로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1.5%, SrO 0.1∼35%, BaO 0∼35%, TiO2 0.001∼25%, La2O3+Nb2O5+Gd2O3 0∼9%를 함유하고, 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다. 여기에서, 「La2O3+Nb2O5+Gd2O3」은 La2O3, Nb2O5, 및 Gd2O3의 합량을 가리킨다.In the fifteenth aspect, the high-refractive-index glass according to the first aspect of the present invention has a composition of 35 to 60% SiO 2 , 0 to 1.5% of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, 0.1 to 35% of SrO, 35 to 35%, TiO 2 0.001 to 25%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + 0 to 9% Gd 2 O 3 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. Here, "La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 " refers to the sum of La 2 O 3 , Nb 2 O 5 , and Gd 2 O 3 .

제 16으로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1.5%, SrO 0.1∼20%, BaO 17∼35%, TiO2 0.01∼20%, La2O3+Nb2O5+Gd2O3 0∼9%를 함유하고, 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다.Claim 16, the high refractive index glass is SiO 2 35~60% in mass% as the glass composition of the first aspect of the invention, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~1.5%, 0.1~20% SrO, BaO 17~ 35 to 35%, TiO 2 0.01 to 20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + 0 to 9% Gd 2 O 3 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3.

제 17로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 또한 B2O3의 함유량이 0∼3질량%인 것이 바람직하다.In the seventeenth aspect, it is preferable that the content of B 2 O 3 is 0 to 3 mass% in the high refractive index glass of the first invention.

제 18로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 또한 MgO의 함유량이 0∼3질량%인 것이 바람직하다.In the eighteenth aspect, it is preferable that the content of MgO in the high refractive index glass of the first invention is 0 to 3 mass%.

제 19로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 또한 ZrO2+TiO2의 함유량이 1∼20질량%인 것이 바람직하다.In the 19th aspect, the high refractive index glass of the first aspect of the present invention preferably further contains 1 to 20% by mass of ZrO 2 + TiO 2 .

제 20으로, 제 1 발명의 고굴절률 유리는 다운드로우법으로 성형되어서 이루어지는 것이 바람직하다. 여기에서, 「다운드로우법」이란 오버플로우 다운드로우법, 슬롯 다운드로우법, 리드로우법 등이 있다.In the twentieth aspect, it is preferable that the high-refractive-index glass of the first invention is formed by a down-draw method. Here, the &quot; down-draw method &quot; includes an overflow down-draw method, a slot-down-draw method, and a read-low method.

<제 2 발명><Second invention>

본 발명자들은 예의 검토를 행한 결과, 유리 조성 범위를 소정 범위로 규제 함으로써 상기 기술적 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여 제 2 발명으로서 제안하는 것이다. 즉, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 30∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼10%, Na2O 0∼10%, K2O 0∼10%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼60%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다. 여기에서, 「MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO」는 MgO, CaO, SrO, BaO, 및 ZnO의 합량을 가리킨다. 「La2O3+Nb2O5」는 La2O3과 Nb2O5의 합량을 가리킨다. 「굴절률 nd」는 굴절률 측정기로 측정 가능하고, 예를 들면 25㎜×25㎜×약 3㎜의 직육면체 시료를 제작한 후, (서랭점 Ta+30℃)∼(왜점 Ps-50℃)의 온도 영역을 0.1℃/min의 냉각 속도로 어닐 처리하고, 계속해서 굴절률 nd가 정합하는 침액을 유리 사이에 침투시키면서 카르뉴사 제의 굴절률 측정기 KPR-200을 사용함으로써 측정 가능하다. 「서랭점 Ta」는 ASTM C338-93에 기재된 방법으로 측정한 값을 가리킨다. 「왜점 Ps」는 ASTM C336-71에 기재된 방법으로 측정한 값을 가리킨다.As a result of intensive studies, the inventors of the present invention discovered that the above technical problem can be solved by regulating the glass composition range to a predetermined range, and propose the second invention. That is, the high-refractive-index glass of the second aspect of the invention has 30 to 60% of SiO 2 , 0 to 15% of B 2 O 3, 0 to 15% of Al 2 O 3, 0 to 10% of Li 2 O, 2 O 0-10%, K 2 O 0-10%, MgO + CaO + SrO + BaO + 20-60% ZnO, 0.0001-20% TiO 2, 0-20% ZrO 2 , La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. Here, "MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO" refers to the sum of MgO, CaO, SrO, BaO, and ZnO. &Quot; La 2 O 3 + Nb 2 O 5 &quot; refers to the sum of La 2 O 3 and Nb 2 O 5 . "Refractive index nd" can be measured with a refractive index measuring device. For example, a rectangular parallelepiped sample having a size of 25 mm × 25 mm × 3 mm is prepared, and then a temperature of (Ta Lang + 30 ° C.) Can be measured by annealing the region at a cooling rate of 0.1 占 폚 / min, and then using a refractive index measuring apparatus KPR-200 of Carnoy, while penetrating the submerged solution with the refractive index nd into the glass. "Standing point Ta" refers to a value measured by the method described in ASTM C338-93. &Quot; Ps Ps Ps &quot; refers to the value measured by the method described in ASTM C336-71.

제 2 발명의 고굴절률 유리는 SiO2 30∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼60%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0∼20%를 함유한다. 이렇게 하면, 굴절률 nd를 높이면서 내실투성을 높일 수 있다.High refractive index glass of the second aspect of the invention is a SiO 2 30~60%, B 2 O 3 0~15%, Al 2 O 3 0~15%, MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO 20~60%, TiO 2 0.0001 To 20%, and ZrO 2 0 to 20%. By doing so, it is possible to increase the refractive index nd and increase the resistance to devitrification.

제 2 발명의 고굴절률 유리는 La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유한다. 이렇게 하면, 원료 비용을 저렴화할 수 있음과 아울러 내실투성이나 내산성을 높이기 쉬워진다.The high-refractive-index glass of the second invention contains 0 to 10% of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 . By doing so, it is possible to reduce the cost of the raw material and increase the resistance and acid resistance.

제 2 발명의 고굴절률 유리는 Li2O 0∼10%, Na2O 0∼10%, K2O 0∼10%를 함유한다. 이렇게 하면, 내산성이 향상되어 산에 의한 에칭 공정에 있어서 알칼리 성분의 용출에 의해 유리가 백탁하기 어려워진다. 또한, 산에 의한 에칭 공정은 유기 EL 디스플레이 등의 제조 공정 등에 포함되고, 유리판의 내산성이 낮으면 이 에칭 공정에서 유리판이 침식되어서 백탁한다. 유리판이 백탁하면 유리판의 투과율이 저하되어 디스플레이의 고선명화가 곤란해진다.The high-refractive-index glass of the second invention contains 0 to 10% of Li 2 O, 0 to 10% of Na 2 O and 0 to 10% of K 2 O. By doing so, the acid resistance is improved and the glass becomes less cloudy by the elution of the alkali component in the etching process by the acid. Further, the acid etching process is included in the production process of the organic EL display or the like, and if the acid resistance of the glass plate is low, the glass plate is eroded in this etching process and opacified. When the glass plate is opaque, the transmittance of the glass plate is lowered, making it difficult to make the display high-definition.

제 2 발명의 고굴절률 유리는 굴절률 nd가 1.55∼2.3이다. 이렇게 하면, 유기 발광소자나 투명 도전막의 굴절률 nd에 정합하기 쉬워지고, 유기 발광소자로부터 발생한 광을 외부로 효율적으로 인출할 수 있다.The high-refractive-index glass of the second invention has a refractive index nd of 1.55 to 2.3. This makes it easy to match the refractive index nd of the organic light emitting element or the transparent conductive film, and can efficiently draw light generated from the organic light emitting element to the outside.

제 2로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼10%, Na2O 0∼10%, K2O 0∼10%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼60%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0.0001∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것이 바람직하다.Second, the high-refractive-index glass of the second aspect of the present invention contains 35 to 60% of SiO 2 , 0 to 15% of B 2 O 3, 0 to 15% of Al 2 O 3, 0 to 10% of Li 2 O, , Na 2 O 0~10%, K 2 O 0~10%, 20~60% MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO, TiO 2 0.0001~20%, ZrO 2 0.0001~20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3.

제 3으로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼1%, Na2O 0∼1%, K2O 0∼1%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼50%, BaO 0.1∼35%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0.0001∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것이 바람직하다. 여기에서, 「Li2O+Na2O+K2O」는 Li2O, Na2O, 및 K2O의 합량을 가리킨다.Third, the high-refractive-index glass according to the second aspect of the present invention contains 35 to 60% of SiO 2 , 0 to 15% of B 2 O 3, 0 to 15% of Al 2 O 3, 0 to 1% of Li 2 O, 0 to 1% of Na 2 O, 0 to 1% of K 2 O, 0 to 1% of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, 20 to 50% of MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO, , 0.0001 to 20% of TiO 2, 0.0001 to 20% of ZrO 2 , 0 to 10% of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. Here, &quot; Li 2 O + Na 2 O + K 2 O &quot; refers to the sum of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.

제 4로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 B2O3을 1질량% 이상 포함하는 것이 바람직하다.Fourth, the high-refractive-index glass of the second invention preferably contains 1% by mass or more of B 2 O 3 .

제 5로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 MgO를 1질량% 이상 포함하는 것이 바람직하다.Fifthly, the high refractive index glass of the second invention preferably contains MgO in an amount of 1% by mass or more.

제 6으로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 판 형상인 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 유기 EL 디스플레이, 유기 EL 조명, 유기 박막 태양 전지 등의 각종 디바이스의 기판에 적용하기 쉬워진다. 여기에서, 「판 형상」은 한정적으로 해석되지 않고, 판 두께가 작은 필름 형상 등, 예를 들면 원기둥을 따라 설치된 필름 형상의 유리를 포함하고, 또한 한쪽 면에 요철 형상이 형성된 것도 포함한다.Sixth, the high-refractive-index glass of the second invention is preferably plate-like. This makes it easy to apply to substrates of various devices such as organic EL displays, organic EL lights, and organic thin film solar cells. Here, the &quot; plate shape &quot; is not limitedly interpreted and includes film-shaped glass such as a film having a small plate thickness, for example, provided along a column, and includes a concavo-convex shape formed on one side.

제 7로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 액상점도가 103.0dPa·s 이상인 것이 바람직하다. 유기 EL 조명 등에는 유리판의 표면 평활성의 미세한 차이에 의해 전류 인가시의 전류 밀도가 변화되고, 조도의 불균일을 야기한다고 하는 문제가 있다. 또한, 유리판의 표면 평활성을 높이기 위해서 유리 표면을 연마하면 가공 비용이 앙등한다고 하는 문제가 발생한다. 그래서, 액상점도를 상기 범위로 하면 오버플로우 다운드로우법 등으로 유리판을 성형하기 쉬워지고, 결과적으로 미연마로도 표면 평활성이 양호한 유리판을 제작하기 쉬워진다. 여기에서, 「액상점도」는 액상 온도에 있어서의 유리의 점도를 백금구 인상법으로 측정한 값을 가리킨다. 「액상 온도」는 표준체 30메쉬(500㎛)를 통과하고, 50메쉬(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣어 온도 구배로 중에 24시간 유지하고, 결정이 석출되는 온도를 측정한 값을 가리킨다. 「오버플로우 다운드로우법」은 용융 유리를 내열성의 홈통 형상 구조물의 양측으로부터 넘치게 하고, 넘친 용융 유리를 홈통 형상 구조물의 하단에서 합류시키면서 하방으로 연신 성형해서 유리판을 성형하는 방법이다.Seventh, it is preferable that the high refractive index glass of the second invention has a liquid viscosity of 10 3.0 dPa · s or more. There is a problem that the current density at the time of current application changes due to the minute difference in the surface smoothness of the glass plate, and the unevenness of the illuminance is caused. Further, if the glass surface is polished to increase the surface smoothness of the glass plate, there arises a problem that the processing cost is increased. Therefore, when the liquidus viscosity is in the above-mentioned range, it is easy to form a glass plate by an overflow down-draw method or the like, and as a result, it becomes easy to produce a glass plate having a good surface smoothness. Here, the &quot; liquid-phase viscosity &quot; refers to a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquidus temperature by the platinum rolling method. The &quot; liquid temperature &quot; is a value obtained by passing the glass powder passing through a standard 30 mesh (500 mu m) and remaining in 50 mesh (300 mu m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient for 24 hours, Point. The &quot; overflow down-draw method &quot; is a method in which the molten glass is flooded from both sides of the heat-resistant trough-like structure, and the molten glass overflowing is formed by downward drawing while the molten glass is merged at the lower end of the trough-like structure.

제 8로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 플로트법 또는 다운드로우법으로 성형되어서 이루어지는 것이 바람직하다. 여기에서, 「다운드로우법」에는 오버플로우 다운드로우법, 슬롯 다운드로우법 등이 있다.Eighth, it is preferable that the high-refractive-index glass of the second invention is formed by a float method or a down-draw method. Here, the &quot; down-draw method &quot; includes an overflow down-draw method, a slot-down draw method, and the like.

제 9로, 제 2 발명의 고굴절률 유리는 적어도 한쪽 면에 미연마의 표면을 갖고, 그 표면의 표면 조도 Ra가 10Å 이하인 것이 바람직하다. 여기에서, 「표면 조도 Ra」는 JIS B0601: 2001에 준거한 방법으로 측정한 값을 가리킨다.It is preferable that the high-refractive-index glass of the second invention has a surface which is not polished at least on one side, and the surface roughness Ra of the surface is 10 angstrom or less. Here, &quot; surface roughness Ra &quot; refers to a value measured by a method in accordance with JIS B0601: 2001.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

상기 제 1 발명 및 제 2 발명에 의하면, 레어 메탈 산화물(특히 La2O3, Nb2O5, Gd2O3)의 함유량을 적게 하면서 유기 발광소자나 투명 전극막의 굴절률 nd에 정합하고, 또한 내실투성이 양호한 고굴절률 유리를 제공할 수 있다.According to the first invention and the second invention, the refractive index nd of the organic light emitting element or the transparent electrode film is adjusted while the content of the rare metal oxide (particularly, La 2 O 3 , Nb 2 O 5 , and Gd 2 O 3 ) It is possible to provide a high refractive index glass that is resistant to devitrification.

<제 1 실시형태>&Lt; First Embodiment >

제 1 발명의 실시형태(이하, 제 1 실시형태라고 함)에 의한 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼40, 질량비 SiO2/SrO가 0.1∼40이다. 상기한 바와 같이, 각 성분의 함유 범위를 한정한 이유를 이하에 설명한다. 또한, 이하의 함유 범위의 설명에 있어서 %표시는 특별한 언급이 있을 경우를 제외하고 질량%를 나타낸다.No. (hereinafter referred to as first embodiment), the embodiment of the first invention has a high refractive index glass as the glass composition, in weight percent B 2 O 3 0~10% by, 0.001~35% SrO, ZrO 2 + TiO 2 0.001~ It is 30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0~10% and containing, by mass ratio BaO / SrO is 0 to 40, the weight ratio SiO 2 / SrO is 0.1 to 40 a. The reasons for limiting the content range of each component as described above will be explained below. In the following description of the content range, "%" represents% by mass unless otherwise specified.

B2O3의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. B2O3의 함유량이 많아지면 굴절률 nd나 영률이 저하되기 쉬워진다. 따라서, B2O3의 바람직한 상한 범위는 8% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 미만, 1% 이하, 특히 1% 미만이다.The content of B 2 O 3 is 0 - 10% is preferred. When the content of B 2 O 3 is increased, the refractive index nd or the Young's modulus tends to be lowered. Therefore, the upper limit of the preferable range of B 2 O 3 is 8% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, particularly 1% or less.

SrO의 함유량은 0.001∼35%가 바람직하다. SrO는 알칼리토류 금속 산화물 중에서는 비교적 실투성을 억제하면서, 굴절률 nd를 높이는 효과가 큰 성분이다. 그러나, SrO의 함유량이 많아지면 굴절률 nd, 밀도, 열팽창계수가 높아지거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SrO의 바람직한 상한 범위는 30% 이하, 25% 이하, 20% 이하, 15% 이하, 12% 이하, 10% 이하, 특히 8% 이하이다. SrO의 바람직한 하한 범위는 0.01% 이상, 0.1% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 3.5% 이상, 특히 4% 이상이다.The content of SrO is preferably 0.001 to 35%. SrO is a component having a high effect of increasing the refractive index nd while suppressing the relatively low saturation of the alkaline earth metal oxide. However, if the content of SrO is increased, the refractive index nd, the density, the thermal expansion coefficient become high, the component balance of the glass composition becomes poor, and the resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit of the preferable range of SrO is 30% or less, 25% or less, 20% or less, 15% or less, 12% or less, 10% or less, particularly 8% or less. The preferable lower limit of the SrO content is at least 0.01%, at least 0.1%, at least 1%, at least 2%, at least 3%, at least 3.5%, especially at least 4%.

TiO2+ZrO2의 함유량은 0.001∼30%가 바람직하다. TiO2+ZrO2의 함유량이 많아지면 내실투성이 저하되기 쉬워지거나, 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 한편, TiO2+ZrO2의 함유량이 적어지면 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, TiO2+ZrO2의 바람직한 상한 범위는 25% 이하, 20% 이하, 18% 이하, 15% 이하, 14% 이하, 특히 13% 이하이다. TiO2+ZrO2의 바람직한 하한 범위는 0.01% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 3% 이상, 5% 이상, 6% 이상, 특히 7% 이상이다.The content of TiO 2 + ZrO 2 is preferably 0.001 to 30%. If the content of TiO 2 + ZrO 2 is increased, the resistance to devitrification tends to be lowered, or the density and thermal expansion coefficient may be excessively high. On the other hand, when the content of TiO 2 + ZrO 2 is decreased, the refractive index nd is likely to decrease. Therefore, the upper limit of the preferable range of TiO 2 + ZrO 2 is 25% or less, 20% or less, 18% or less, 15% or less, 14% or less, particularly 13% or less. The lower limit of the range of TiO 2 + ZrO 2 is at least 0.01%, at least 0.5%, at least 1%, at least 3%, at least 5%, at least 6%, especially at least 7%.

TiO2의 함유량은 0∼30%가 바람직하다. TiO2는 굴절률 nd를 높이는 성분이다. 그러나, TiO2의 함유량이 많아지면 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아지거나, 내실투성이 저하되기 쉬워지거나, 투과율이 저하되는 경향이 있다. 따라서, TiO2의 바람직한 상한 범위는 25% 이하, 15% 이하, 12% 이하, 특히 8% 이하이다. TiO2의 바람직한 하한 범위는 0.001% 이상, 0.01% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 특히 3% 이상이다.The content of TiO 2 is preferably 0 to 30%. TiO 2 is a component that increases the refractive index nd. However, when the content of TiO 2 is increased, the density and the coefficient of thermal expansion become too high, resistance to devitrification tends to decrease, and the transmittance tends to decrease. Therefore, the upper limit of the preferable range of TiO 2 is 25% or less, 15% or less, 12% or less, particularly 8% or less. The lower limit of the TiO 2 is preferably 0.001% or more, 0.01% or more, 0.5% or more, 1% or more, and particularly 3% or more.

ZrO2의 함유량은 0∼30%가 바람직하다. ZrO2는 굴절률 nd를 향상시키고, 액상 온도 부근의 점성을 높이는 효과가 큰 성분이다. 그러나, ZrO2의 함유량이 많아지면 밀도나 지나치게 높아지거나, 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, ZrO2의 바람직한 상한 범위는 15% 이하, 10% 이하, 7% 이하, 특히 6% 이하이다. ZrO2의 바람직한 하한 범위는 0.001% 이상, 0.01% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 특히 3% 이상이다.The content of ZrO 2 is preferably 0 to 30%. ZrO 2 improves the refractive index nd and has a high effect of increasing the viscosity near the liquid phase temperature. However, when the content of ZrO 2 is large, the density becomes too high, and the resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the preferred upper limit of the range of ZrO 2 is 15% or less, 10% or less, 7% or less, particularly 6% or less. The lower limit of the range of ZrO 2 is preferably 0.001% or more, 0.01% or more, 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, especially 3% or more.

La2O3+Nb2O5의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. La2O3+Nb2O5의 함유량이 많아지면 굴절률 nd는 높아지기 쉽지만, 그 함유량이 10%보다 많아지면 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되거나, 원료 비용이 상승하여 유리의 제조 비용이 앙등할 우려가 있다. 특히, 조명 등의 용도에서는 저렴한 유리가 요구되기 때문에 원료 비용의 상승은 바람직하지 못하다. 따라서, La2O3+Nb2O5의 바람직한 하한 범위는 9% 이하, 8% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 특히 0.1% 이하이다.The content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is preferably 0 to 10%. If the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is increased, the refractive index nd tends to be higher. However, if the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is more than 10%, the balance of the glass composition may be lacking and the resistance to devitrification may decrease. There is concern that this may arise. Particularly, inexpensive glass is required in applications such as lighting, so that an increase in raw material costs is not preferable. Therefore, the lower limit of the range of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is preferably 9% or less, 8% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less,

La2O3은 굴절률 nd를 높이는 성분이다. La2O3의 함유량이 많아지면 내실투성이 저하되기 쉬워지고, 또한 밀도, 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 따라서, La2O3의 함유량은 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 5% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 특히 0.1% 이하가 바람직하다.La 2 O 3 is a component that increases the refractive index nd. If the content of La 2 O 3 is increased, the resistance to devitrification tends to be lowered, and the density and thermal expansion coefficient may be excessively high. Therefore, the content of La 2 O 3 is preferably 10% or less, 9% or less, 8% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1% or less.

Nb2O5는 굴절률 nd를 높이는 성분이다. Nb2O5의 함유량이 많아지면 내실투성이 저하되기 쉬워지고, 또한 밀도, 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 따라서, Nb2O5의 함유량은 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 5% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 특히 0.1% 이하가 바람직하다.Nb 2 O 5 is a component that increases the refractive index nd. If the content of Nb 2 O 5 is increased, the resistance to devitrification tends to be lowered, and the density and the thermal expansion coefficient may become excessively high. Therefore, the content of Nb 2 O 5 is preferably 10% or less, 9% or less, 8% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1% or less.

질량비 (La2O3+Nb2O5)/(ZrO2+TiO2)는 0∼30이 바람직하다. 질량비 (La2O3+Nb2O5)/(ZrO2+TiO2)가 클수록 내실투성의 저하를 억제하면서 굴절률 nd를 높이는 것이 가능하게 되지만, 이 값이 지나치게 크면 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되거나, 원료 비용이 지나치게 높아진다. 따라서, 질량비 (La2O3+Nb2O5)/(ZrO2+TiO2)의 바람직한 상한 범위는 20 이하, 10 이하, 5 이하, 2 이하, 1 이하, 0.1 이하, 특히 0.01 이하이다.The mass ratio (La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) / (ZrO 2 + TiO 2 ) is preferably 0 to 30. The mass ratio (La 2 O 3 + Nb 2 O 5) / (ZrO 2 + TiO 2) is higher while suppressing the deterioration of resistance to devitrification, but makes it possible to increase the refractive index nd, this value is too large, the component balance of the glass composition lacks And the cost of raw materials becomes excessively high. Therefore, the preferable upper limit of the mass ratio (La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) / (ZrO 2 + TiO 2 ) is 20 or less, 10 or less, 5 or less, 2 or less, 1 or less,

질량비 BaO/SrO는 0∼40이다. 질량비 BaO/SrO가 지나치게 크면 내실투성이 저하되거나, 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 한편, 질량비 BaO/SrO가 지나치게 작으면 굴절률 nd가 저하되거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하될 우려가 있다. 따라서, 질량비 BaO/SrO의 바람직한 상한 범위는 30 이하, 20 이하, 10 이하, 8 이하, 특히 5 이하이다. 질량비 BaO/SrO의 바람직한 하한 범위는 0.1 이상, 0.5 이상, 1 이상, 2.5 이상, 특히 3 이상이다.The mass ratio BaO / SrO is 0 to 40. If the mass ratio of BaO / SrO is too large, the resistance to devitrification may decrease or the density and thermal expansion coefficient may become excessively high. On the other hand, if the mass ratio BaO / SrO is too small, the refractive index nd may be lowered, or the component balance of the glass composition may be lacking, thereby reducing the resistance to devitrification. Therefore, the upper limit of the preferable range of the mass ratio of BaO / SrO is 30 or less, 20 or less, 10 or less, 8 or less, particularly 5 or less. The preferred lower limit of the mass ratio of BaO / SrO is 0.1 or more, 0.5 or more, 1 or more, 2.5 or more, and especially 3 or more.

BaO는 알칼리토류 금속 산화물 중에서는 유리의 점성을 극단적으로 저하시키지 않고 굴절률 nd를 높이는 성분이다. BaO의 함유량은 0∼40%가 바람직하다. BaO의 함유량이 많아지면 굴절률 nd, 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽다. 그러나, BaO의 함유량이 40%를 초과하면 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, BaO의 바람직한 상한 범위는 35% 이하, 32% 이하, 30% 이하, 29.5% 이하, 29% 이하, 특히 28% 이하가 바람직하다. 단, BaO의 함유량이 적어지면 원하는 굴절률 nd를 얻기 어려워지는 동시에 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, BaO의 바람직한 하한 범위는 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 5% 이상, 10% 이상, 15% 이상, 17% 이상, 20% 이상, 23% 이상, 특히 25% 이상이 바람직하다.BaO is a component of the alkaline earth metal oxide which increases the refractive index nd without extremely lowering the viscosity of the glass. The content of BaO is preferably 0 to 40%. As the content of BaO increases, the refractive index nd, density, and thermal expansion coefficient tend to increase. However, when the content of BaO exceeds 40%, the component balance of the glass composition is lost, and resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit of the preferable range of BaO is preferably 35% or less, 32% or less, 30% or less, 29.5% or less, 29% or less, particularly 28% or less. However, if the content of BaO is decreased, it becomes difficult to obtain a desired refractive index nd, and it becomes difficult to secure a high liquid viscosity. Therefore, the lower limit of the preferable range of BaO is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 5% or more, 10% or more, 15% or more, 17% or more, 20% or more, 23% or more, Do.

질량비 SiO2/SrO는 0.1∼40이다. 질량비 SiO2/SrO가 지나치게 크면 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 한편, 질량비 SiO2/SrO가 지나치게 작으면 내실투성이 저하되기 쉬워지거나, 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 따라서, 질량비 SiO2/SrO의 바람직한 상한 범위는 30 이하, 20 이하, 15 이하, 10 이하, 9 이하, 특히 8 이하이다. 질량비 SiO2/SrO의 바람직한 하한 범위는 0.5 이상, 1 이상, 2 이상, 2.5 이상, 특히 3 이상이다.The mass ratio SiO 2 / SrO is 0.1 to 40. If the mass ratio SiO 2 / SrO is excessively large, the refractive index nd tends to decrease. On the other hand, if the mass ratio SiO 2 / SrO is too small, the resistance to devitrification tends to be lowered, or the density and the thermal expansion coefficient may become excessively high. Accordingly, the upper limit of the preferable range of the mass ratio SiO 2 / SrO is 30 or less, 20 or less, 15 or less, 10 or less, 9 or less, and particularly 8 or less. The lower limit of the mass ratio SiO 2 / SrO is preferably 0.5 or more, 1 or more, 2 or more, 2.5 or more, especially 3 or more.

SiO2의 함유량은 0.1∼60%가 바람직하다. SiO2의 함유량이 많아지면 용융성, 성형성이 저하되기 쉬워지고, 또한 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, SiO2의 함유량은 55% 이하, 53% 이하, 52% 이하, 50% 이하, 49% 이하, 48% 이하, 특히 45% 이하가 바람직하다. 한편, SiO2의 함유량이 적어지면 유리의 그물코 구조를 형성하기 어려워져서 유리화가 곤란해진다. 또한, 유리의 점성이 지나치게 저하되어서 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, SiO2의 함유량은 3% 이상, 5% 이상, 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 특히 40% 이상이 바람직하다.The content of SiO 2 is a 0.1~60% is preferred. When the content of SiO 2 is increased, the meltability and moldability are likely to be lowered, and the refractive index nd is likely to be lowered. Therefore, the content of SiO 2 is preferably 55% or less, 53% or less, 52% or less, 50% or less, 49% or less, 48% or less, particularly 45% or less. On the other hand, if the content of SiO 2 is decreased, it is difficult to form a glass network structure, and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, making it difficult to secure a high liquid-phase viscosity. Therefore, the content of SiO 2 is preferably 3% or more, 5% or more, 10% or more, 15% or more, 20% or more, 25% or more, 30% or more, 35% or more and more preferably 40% or more.

Al2O3의 함유량은 0∼20%가 바람직하다. Al2O3의 함유량이 많아지면 유리에 실투 결정이 석출되기 쉬워져서 액상점도가 저하되기 쉬워지고, 또한 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, Al2O3의 바람직한 상한 범위는 15% 이하, 10% 이하, 8% 이하, 특히 6% 이하이다. 또한, Al2O3의 함유량이 적어지면 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 반대로 유리가 실투하기 쉬워진다. 따라서, Al2O3의 바람직한 하한 범위는 0.1% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 특히 3% 이상이다.The content of Al 2 O 3 is 0 - 20% is preferred. When the content of Al 2 O 3 is increased, the crystal is liable to precipitate on the glass, so that the liquid phase viscosity tends to be lowered, and the refractive index nd is likely to be lowered. Therefore, the preferable upper limit range of Al 2 O 3 is 15% or less, 10% or less, 8% or less, particularly 6% or less. In addition, when the content of Al 2 O 3 is decreased, the balance of the components of the glass composition is lacking, and on the contrary, the glass is liable to fail. Therefore, the lower limit of the preferable range of Al 2 O 3 is 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, particularly 3% or more.

MgO의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. MgO는 굴절률 nd, 영률, 왜점을 높이는 성분임과 아울러 고온점도를 저하시키는 성분이지만, MgO를 다량으로 첨가하면 액상 온도가 상승하여 내실투성이 저하되거나, 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 따라서, MgO의 바람직한 상한 범위는 5% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 1.5% 이하, 1% 이하, 특히 0.5% 이하이다.The content of MgO is preferably 0 to 10%. MgO is a component that increases the refractive index nd, Young's modulus, and the point of weakening, and also lowers the high temperature viscosity. However, when a large amount of MgO is added, the liquid phase temperature rises and the resistance to devitrification may decrease or the density and thermal expansion coefficient may become excessively high. Therefore, the upper limit of the preferable range of MgO is 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1.5% or less, 1% or less, particularly 0.5% or less.

CaO의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. CaO의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 CaO의 함유량이 지나치게 많으면 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 바람직한 상한 범위는 9% 이하, 특히 8.5% 이하이다. 또한, CaO의 함유량이 적어지면 용융성이 저하되거나, 영률이 저하되거나, 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 바람직한 하한 범위는 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 특히 4% 이상이다.The content of CaO is preferably 0 to 10%. If the content of CaO is increased, the density and the thermal expansion coefficient are liable to be increased. If the content of CaO is too large, the component balance of the glass composition is lost and resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit of the range of CaO is preferably not more than 9%, particularly not more than 8.5%. Further, when the content of CaO is decreased, the meltability is lowered, the Young's modulus is lowered, and the refractive index nd is likely to be lowered. Therefore, the lower limit of the range of CaO is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 4% or more.

질량비 (MgO+CaO)/SrO는 0∼20이 바람직하다. 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 커지면 높은 굴절률 nd를 유지하면서 유리를 저밀도화시키거나, 고온점도를 저하시키는 것이 가능하게 되지만, 액상 온도도 높아지기 쉽고, 높은 액상점도를 유지하기 어려워진다. 따라서, 질량비 (MgO+CaO)/SrO의 바람직한 상한 범위는 10 이하, 8 이하, 5 이하, 3 이하, 2 이하, 특히 1 이하이다.The mass ratio (MgO + CaO) / SrO is preferably 0 to 20. When the mass ratio (MgO + CaO) / SrO is increased, it is possible to lower the glass density or lower the high-temperature viscosity while maintaining a high refractive index nd, but the liquidus temperature tends to be high and it is difficult to maintain a high liquidus viscosity. Therefore, a preferable upper limit range of the mass ratio (MgO + CaO) / SrO is 10 or less, 8 or less, 5 or less, 3 or less, 2 or less,

ZnO의 함유량은 0∼12%가 바람직하다. ZnO의 함유량이 많아지면 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아지거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되거나, 고온 점성이 지나치게 저하되어서 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, ZnO의 바람직한 상한 범위는 8% 이하, 4% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 0.1% 이하, 특히 0.01% 이하이다.The content of ZnO is preferably 0 to 12%. If the content of ZnO is increased, the density and the thermal expansion coefficient become excessively high, the component balance of the glass composition is lost, and the resistance to devitrification tends to deteriorate, and the high-temperature viscosity tends to be too low. Therefore, a preferable upper limit range of ZnO is 8% or less, 4% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, 0.1% or less, particularly 0.01% or less.

La2O3+Nb2O5+Gd2O3의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. La2O3+Nb2O5+Gd2O3의 함유량이 많아지면 굴절률 nd는 높아지기 쉽지만, 그 함유량이 10%보다 많아지면 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되거나, 원료 비용이 상승하여 유리의 제조 비용이 앙등할 우려가 있다. 특히, 조명 등의 용도에서는 저렴한 유리가 요구되기 때문에 원료 비용의 상승은 바람직하지 못하다. 따라서, La2O3+Nb2O5+Gd2O3의 바람직한 하한 범위는 9% 이하, 8% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 특히 0.1% 이하이다.The content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 is preferably 0 to 10%. When the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 is large, the refractive index nd tends to be high. However, if the content of the La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 exceeds 10%, the component balance of the glass composition becomes poor, So that the manufacturing cost of the glass may increase. Particularly, inexpensive glass is required in applications such as lighting, so that an increase in raw material costs is not preferable. Therefore, the lower limit range of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 is preferably 9% or less, 8% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, 0.1% or less.

Gd2O3의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. Gd2O3은 굴절률을 높이는 성분이지만, Gd2O3의 함유량이 많아지면 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아지거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되거나, 고온 점성이 지나치게 저하되어서 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, Gd2O3의 바람직한 상한 범위는 8% 이하, 4% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 0.1% 이하, 특히 0.01% 이하이다.The content of Gd 2 O 3 is preferably 0 to 10%. Gd 2 O 3 is a component for increasing the refractive index. However, if the content of Gd 2 O 3 is increased, the density or the thermal expansion coefficient becomes excessively high, the component balance of the glass composition is lacked and the resistance to devitrification lowers, It becomes difficult to secure the viscosity. Therefore, the upper limit of the preferable range of Gd 2 O 3 is 8% or less, 4% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, 0.1% or less, particularly 0.01% or less.

Li2O+Na2O+K2O의 함유량은 0∼15%가 바람직하다. Li2O+Na2O+K2O는 유리의 점성을 저하시키는 성분이며, 또한 열팽창계수를 조정하는 성분이지만, Li2O+Na2O+K2O를 다량으로 첨가하면 유리의 점성이 지나치게 저하되어서 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, Li2O+Na2O+K2O의 바람직한 상한 범위는 10% 이하, 5% 이하, 2% 이하, 1.5% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 특히 0.1% 이하이다.The content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 0 to 15%. Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is a component that lowers the viscosity of the glass and is also a component that adjusts the thermal expansion coefficient. However, when a large amount of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is added, It is excessively deteriorated and it becomes difficult to secure a high liquid-phase viscosity. Therefore, the upper limit of the preferable range of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 10% or less, 5% or less, 2% or less, 1.5% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1% or less.

청징제(淸澄劑)로서 As2O3, Sb2O3, CeO2, SnO2, F, Cl, SO3의 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상을 0∼3% 첨가할 수 있다. 단, As2O3, Sb2O3, 및 F, 특히 As2O3과 Sb2O3은 환경적 관점으로부터 그 사용을 최대한 삼가하는 것이 바람직하고, 각각의 함유량은 0.1% 미만이 바람직하다. 이상의 점을 고려하면, 청징제로서 SnO2, SO3, 및 Cl이 바람직하다. 특히, SnO2의 함유량은 0∼1%, 0.01∼0.5%, 특히 0.05∼0.4%가 바람직하다. 또한, SnO2+SO3+Cl의 함유량은 0∼1%, 0.001∼1%, 0.01∼0.5%, 특히 0.01∼0.3%가 바람직하다. 여기에서, 「SnO2+SO3+Cl」은 SnO2, SO3, 및 Cl의 합량을 가리킨다.As the clarifying agent, 0 to 3% of one or more selected from the group consisting of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , F, Cl and SO 3 may be added. However, As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , and F, especially As 2 O 3 and Sb 2 O 3, are preferably avoided from the environmental viewpoint, and their content is preferably less than 0.1% . Considering the above points, SnO 2 , SO 3 , and Cl are preferable as the fining agent. In particular, the content of SnO 2 is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly 0.05 to 0.4%. The content of SnO 2 + SO 3 + Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.01 to 0.3%. Here, &quot; SnO 2 + SO 3 + Cl &quot; refers to the sum of SnO 2 , SO 3 , and Cl.

PbO는 고온 점성을 저하시키는 성분이지만, 환경적 관점으로부터 그 사용을 최대한 삼가하는 것이 바람직하고, 그 함유량은 0.5% 이하가 바람직하고, 1000ppm(질량) 미만이 보다 바람직하다.PbO is a component that lowers the high-temperature viscosity, but it is preferable to minimize its use from the viewpoint of environment, and its content is preferably 0.5% or less, more preferably 1000 ppm (mass) or less.

Bi2O3은 고온 점성을 저하시키는 성분이지만, 환경적 관점으로부터 그 사용을 최대한 삼가하는 것이 바람직하고, 그 함유량은 0.5% 이하가 바람직하고, 1000ppm(질량) 미만이 보다 바람직하다.Bi 2 O 3 is a component that lowers the high-temperature viscosity, but from the environmental point of view, its use is preferably avoided to the utmost, and its content is preferably 0.5% or less, more preferably 1000 ppm (mass) or less.

각 성분의 바람직한 함유 범위를 조합시켜서 바람직한 유리 조성 범위를 구축하는 것은 당연히 가능하지만, 그 중에서도 굴절률 nd, 내실투성, 제조 비용 등의 관점으로부터 특히 바람직한 유리 조성 범위는 이하와 같다.It is naturally possible to construct a preferable glass composition range by combining the preferable ranges of the respective components. Among them, particularly preferable glass composition ranges from the viewpoints of refractive index nd, resistance to devitrification, production cost and the like are as follows.

(1) 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 20∼50%, B2O3 0∼8%, CaO 0∼10%, SrO 0.01∼35%, BaO 0∼30%, ZnO 0∼4%, ZrO2+TiO2 0.001∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼3%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼20, 질량비 SiO2/SrO가 1∼15, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼10.(1) SiO 2 20~50% in mass% as a glass composition, B 2 O 3 0~8%, CaO 0~10%, SrO 0.01~35%, BaO 0~30%, ZnO 0~4%, ZrO 2 + TiO 2 0.001 to 20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 3%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 1%, and a mass ratio BaO / SrO of 0 to 20 , A mass ratio SiO 2 / SrO of 1 to 15, and a mass ratio (MgO + CaO) / SrO of 0 to 10.

(2) 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼50%, B2O3 0∼5%, CaO 0∼9%, SrO 1∼35%, BaO 0∼29%, ZnO 0∼3%, ZrO2+TiO2 1∼15%, La2O3+Nb2O5 0∼0.1%, Li2O+Na2O+K2O 0∼0.1%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼10, 질량비 SiO2/SrO가 1∼10, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼5. (2) SiO 2 35~50% in mass% as a glass composition, B 2 O 3 0~5%, CaO 0~9%, SrO 1~35%, BaO 0~29%, ZnO 0~3%, ZrO 2 + TiO 2 1 to 15%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 0.1%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 0.1%, and a mass ratio BaO / SrO of 0 to 10 , A mass ratio SiO 2 / SrO of 1 to 10, and a mass ratio (MgO + CaO) / SrO of 0 to 5.

(3) 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼50%, B2O3 0∼3%, CaO 0∼9%, SrO 2∼20%, BaO 0∼28%, ZnO 0∼1%, ZrO2+TiO2 3∼15%, La2O3+Nb2O5 0∼0.1%, Li2O+Na2O+K2O 0∼0.1%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼8, 질량비 SiO2/SrO가 2∼10, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼3.(3) SiO 2 35~50% in mass% as a glass composition, B 2 O 3 0~3%, CaO 0~9%, SrO 2~20%, BaO 0~28%, ZnO 0~1%, ZrO 2 + TiO 2 3 to 15%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 0.1%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 0.1%, and a mass ratio BaO / SrO of 0 to 8 , A mass ratio SiO 2 / SrO of 2 to 10, and a mass ratio (MgO + CaO) / SrO of 0 to 3.

(4) 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼50%, B2O3 0∼1%, CaO 0∼8.5%, SrO 4∼15%, BaO 0∼28%, ZnO 0∼0.1%, ZrO2+TiO2 6∼15%, La2O3+Nb2O5 0∼0.1%, Li2O+Na2O+K2O 0∼0.1%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼8, 질량비 SiO2/SrO가 2∼10, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼3.(4) SiO 2 35~50% in mass% as a glass composition, B 2 O 3 0~1%, CaO 0~8.5%, SrO 4~15%, BaO 0~28%, ZnO 0~0.1%, ZrO 2 + TiO 2 6 to 15%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 0.1%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 0.1%, and a mass ratio BaO / SrO of 0 to 8 , A mass ratio SiO 2 / SrO of 2 to 10, and a mass ratio (MgO + CaO) / SrO of 0 to 3.

(5) SiO2 35∼55%, B2O3 0∼8%, SrO 0.001∼35%, ZnO 0∼12%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼5%, Li2O+Na2O+K2O 0∼10%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO가 0∼20, 질량비 SiO2/SrO가 0.1∼20, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼20. (5) SiO 2 35~55%, B 2 O 3 0~8%, SrO 0.001~35%, ZnO 0~12%, ZrO 2 + TiO 2 0.001~30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0~5%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O containing 0 - 10%, and the mass ratio BaO / SrO is 0 to 20, the weight ratio SiO 2 / SrO is from 0.1 to 20, the mass ratio (CaO + MgO) / SrO is 0-20.

(6) 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼55%, B2O3 0∼5, MgO 0∼5%, ZrO2 0∼10%, Li2O+Na2O+K2O 0∼2%, SrO 0.1∼20%, BaO 0∼30%, TiO2 0.001∼15%, La2O3+Nb2O5+Gd2O3 0∼9%를 함유하고, 질량비 (La2O3+Nb2O5)/(ZrO2+TiO2)가 0∼5, 질량비 BaO/SrO가 0∼10.(6) SiO 2 35~55% in mass% as a glass composition, B 2 O 3 0~5, MgO 0~5%, ZrO 2 0~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~ , BaO 0 to 30%, TiO 2 0.001 to 15%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 0 to 9%, and a mass ratio (La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) / (ZrO 2 + TiO 2 ) is 0 to 5, and the mass ratio of BaO / SrO is 0 to 10.

(7) 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼55%, B2O3 0∼5%, MgO 0∼5%, ZrO2 0∼10%, Li2O+Na2O+K2O 0∼2%, SrO 0.1∼20%, BaO 0∼30%, TiO2 0.001∼15%, La2O3+Nb2O5+Gd2O3 0∼9%를 함유하고, 질량비 (La2O3+Nb2O5)/(ZrO2+TiO2)가 0∼5, 질량비 BaO/SrO가 0∼10, 질량비 SiO2/SrO가 0.1∼10, 질량비 (MgO+CaO)/SrO가 0∼2.(7) A glass composition comprising 35 to 55% SiO 2 , 0 to 5% B 2 O 3, 0 to 5% MgO, 0 to 10% ZrO 2 , Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 ~2%, SrO 0.1~20%, BaO 0~30%, TiO 2 0.001~15%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd contain 2 O 3 0~9%, the mass ratio (La 2 O 3 + Nb 2 O 5) / (ZrO 2 + TiO 2) is 0 to 5, weight ratio of BaO / SrO is 0 to 10, a weight ratio SiO 2 / SrO 0.1~10, the mass ratio (CaO + MgO) / SrO is 0 to 2.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 굴절률 nd는 1.55 이상이며, 바람직하게는 1.58 이상, 1.6 이상, 1.63 이상, 1.65 이상, 특히 1.66 이상이다. 굴절률 nd가 1.55 미만이 되면 ITO-유리 계면에서의 반사율이 높아져서 광을 효율적으로 인출할 수 없게 된다. 한편, 굴절률 nd가 2.3 초과가 되면 공기-유리 계면에서의 반사율이 높아져서 유리 표면에 조면화 처리를 실시해도 광의 인출 효율을 높이는 것이 곤란해진다. 따라서, 굴절률 nd는 2.3 이하, 2.2 이하, 2.1 이하, 2.0 이하, 1.9 이하, 특히 1.75 이하가 바람직하다.In the high refractive index glass of the first embodiment, the refractive index nd is 1.55 or more, preferably 1.58 or more, 1.6 or more, 1.63 or more, 1.65 or more, particularly 1.66 or more. When the refractive index nd is less than 1.55, the reflectance at the ITO-glass interface becomes high and the light can not be drawn efficiently. On the other hand, if the refractive index nd exceeds 2.3, the reflectance at the air-glass interface becomes high, so that even if the surface of the glass is roughened, it becomes difficult to increase the light extraction efficiency. Therefore, the refractive index nd is preferably 2.3 or less, 2.2 or less, 2.1 or less, 2.0 or less, 1.9 or less, particularly 1.75 or less.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 액상 온도는 1200℃ 이하, 1150℃ 이하, 1130℃ 이하, 1110℃ 이하, 1090℃ 이하, 1070℃ 이하, 특히 1050℃ 이하가 바람직하다. 또한, 액상점도는 103.0dPa·s 이상, 103.5dPa·s 이상, 103.8dPa·s 이상, 104.0dPa·s 이상, 104.1dPa·s 이상, 104.2dPa·s 이상, 특히 104.3dPa·s 이상이 바람직하다. 이렇게 하면, 성형시에 유리가 실투하기 어려워져서 플로트법으로 유리판을 성형하기 쉬워진다.In the high refractive index glass of 1st Embodiment, liquidus temperature is 1200 degrees C or less, 1150 degrees C or less, 1130 degrees C or less, 1110 degrees C or less, 1090 degrees C or less, 1070 degrees C or less, especially 1050 degrees C or less is preferable. Further, the liquidus viscosity is 10 3.0 dPa · s or more, 10 3.5 dPa · s or more, 10 3.8 dPa · s or more, 10 4.0 dPa · s or more, 10 4.1 dPa · s or more, 10 4.2 dPa · s or more, in particular 10 4.3 dPa s or more is preferable. This makes it difficult for the glass to devitrify at the time of molding, and the glass sheet can be easily formed by the float method.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리는 판 형상인 것이 바람직하다. 또한, 두께는 1.5㎜ 이하, 1.3㎜ 이하, 1.1㎜ 이하, 0.8㎜ 이하, 0.6㎜ 이하, 0.5㎜ 이하, 0.3㎜ 이하, 특히 0.2㎜ 이하가 바람직하다. 판 두께가 작을수록 가요성이 높아지고, 조명 디바이스의 디자인성을 높이기 쉬워지지만, 판 두께가 극단적으로 작아지면 유리판이 파손되기 쉬워진다. 따라서, 판 두께는 10㎛ 이상, 특히 30㎛ 이상이 바람직하다.The high-refractive-index glass of the first embodiment is preferably in the form of a plate. The thickness is preferably 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 0.8 mm or less, 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.3 mm or less, and particularly 0.2 mm or less. The smaller the plate thickness, the higher the flexibility and easier the design of the lighting device. However, if the plate thickness is extremely small, the glass plate is liable to be damaged. Therefore, the plate thickness is preferably 10 占 퐉 or more, particularly preferably 30 占 퐉 or more.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리는 플로트법으로 성형되어서 이루어지는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 미연마로 표면 품위가 양호한 유리판을 저렴하며, 또한 대량으로 제조할 수 있다.The high refractive index glass of the first embodiment is preferably formed by a float method. By doing so, a glass plate having good surface quality with unburned metal is inexpensive and can be mass-produced.

플로트법 이외에도 유리판의 성형 방법으로서, 예를 들면 다운드로우법(오버플로우 다운드로우법, 슬롯 다운드로우법, 리드로우법 등), 롤아웃법 등을 채용할 수도 있다.As a method of forming a glass plate in addition to the float method, for example, a down-draw method (overflow down-draw method, slot-down draw method, lead-down method, etc.), roll-

제 1 실시형태의 고굴절률 유리는 HF 에칭, 샌드블라스트 등에 의해, 한쪽 면에 조면화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 조면화 처리면의 표면 조도 Ra는 10Å 이상, 20Å 이상, 30Å 이상, 특히 50Å 이상이 바람직하다. 조면화 처리면을 유기 EL 조명 등의 공기와 접촉하는 측으로 하면 조면화 처리면이 무반사 구조로 되기 때문에 유기 발광층에서 발생한 광이 유기 발광층 내로 돌아오기 어려워지고, 결과적으로 광의 인출 효율을 높일 수 있다. 또한, 리프레스 등의 열가공에 의해 유리 표면에 요철 형상을 부여해도 좋다. 이렇게 하면, 유리 표면에 정확한 반사 구조를 형성할 수 있다. 요철 형상은 굴절률 nd를 고려하면서 그 간격과 깊이를 조정하면 좋다. 또한, 요철 형상을 갖는 수지 필름을 유리 표면에 부착해도 좋다.The high refractive index glass of the first embodiment is preferably subjected to a roughening treatment on one side by HF etching, sandblasting or the like. The surface roughness Ra of the roughened surface is preferably 10 angstroms or more, 20 angstroms or more, 30 angstroms or more, particularly preferably 50 angstroms or more. If the roughened surface is made to be in contact with air such as organic EL lighting, the roughened surface becomes a non-reflective structure, so that light generated in the organic luminescent layer is difficult to return to the organic luminescent layer. In addition, a concavo-convex shape may be imparted to the glass surface by thermal processing such as repressing. In this way, an accurate reflection structure can be formed on the glass surface. The irregular shape may be adjusted by adjusting the interval and the depth while taking the refractive index nd into account. Further, a resin film having a concavo-convex shape may be attached to the glass surface.

대기압 플라즈마 프로세스를 채용하면, 한쪽 표면의 표면 상태를 유지한 상태에서 다른쪽 표면에 대하여 균일하게 조면화 처리를 행할 수 있다. 또한, 대기압 플라즈마 프로세스의 소스로서 F를 함유하는 가스(예를 들면 SF6, CF4)를 사용하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, HF계 가스를 포함하는 플라즈마가 발생하기 때문에 조면화 처리의 효율이 향상된다.When the atmospheric pressure plasma process is employed, it is possible to uniformly perform the roughening treatment on the other surface while maintaining the surface state of one surface. It is also preferable to use a gas containing F (for example, SF 6 , CF 4 ) as a source of the atmospheric pressure plasma process. In this way, the plasma containing the HF-based gas is generated, thereby improving the efficiency of the roughening treatment.

또한, 성형시에 유리 표면에 무반사 구조를 형성할 경우, 조면화 처리하지 않아도 마찬가지의 효과를 향수할 수 있다.Further, in the case of forming an anti-reflection structure on the glass surface at the time of molding, the same effect can be enjoyed without roughening treatment.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 밀도는 5.0g/㎤ 이하, 4.8g/㎤ 이하, 4.5g/㎤ 이하, 4.3g/㎤ 이하, 3.7g/㎤ 이하, 특히 3.5g/㎤ 이하가 바람직하다. 이렇게 하면, 유리가 경량화되고, 디바이스를 경량화할 수 있다. 또한, 「밀도」는 주지의 아르키메데스법으로 측정 가능하다.In the high refractive index glass of the first embodiment, the density is 5.0 g / cm 3 or less, 4.8 g / cm 3 or less, 4.5 g / cm 3 or less, 4.3 g / cm 3 or less, 3.7 g / desirable. By doing so, the weight of the glass can be reduced and the device can be made lighter. The &quot; density &quot; can be measured by the well-known Archimedes method.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 열팽창계수는 30×10-7∼100×10-7/℃, 40×10-7∼90×10-7/℃, 60×10-7∼85×10-7/℃, 65×10-7∼80×10-7/℃, 68×10-7∼78×10-7/℃, 특히 70×10-7∼78×10-7/℃가 바람직하다. 최근, 유기 EL 조명, 유기 EL 디바이스, 색소 증감 태양 전지에 있어서 디자인적 요소를 향상시키는 관점으로부터 가요성을 갖는 유리판이 요구되고 있다. 유리판의 가요성을 높이기 위해서는 유리판의 판 두께를 작게 할 필요가 있지만, 이 경우에 유리판과 ITO, FTO 등의 투명 도전막의 열팽창계수가 부정합이면 유리판이 휘기 쉬워진다. 또한, 산화물 TFT를 사용한 유기 EL 디스플레이를 제작할 경우에 있어서, 산화물 TFT와 유리판의 열팽창계수가 부정합이면 유리판에 휨이 발생하거나, 산화물 TFT의 막에 균열이 발생할 우려가 있다. 그래서, 열팽창계수를 상기 범위로 하면 이러한 사태를 방지하기 쉬워진다. 여기에서, 「열팽창계수」는 30∼380℃의 온도 범위에 있어서의 평균값을 가리키고 있고, 예를 들면 딜라토미터(dilatometer) 등으로 측정 가능하다.The high refractive index in the glass of the first embodiment, the thermal expansion coefficient is 30 × 10 -7 ~100 × 10 -7 / ℃, 40 × 10 -7 ~90 × 10 -7 / ℃, 60 × 10 -7 ~85 × the 10 -7 / ℃, 65 × 10 -7 ~80 × 10 -7 / ℃, 68 × 10 -7 ~78 × 10 -7 / ℃, especially 70 × 10 -7 ~78 × 10 -7 / ℃ preferably Do. In recent years, a flexible glass plate has been required from the viewpoint of improving design elements in organic EL lighting, organic EL devices, and dye-sensitized solar cells. In order to increase the flexibility of the glass plate, it is necessary to reduce the thickness of the glass plate. However, in this case, if the thermal expansion coefficient of the glass plate and the transparent conductive film such as ITO or FTO is incompatible, Further, when the organic EL display using the oxide TFT is manufactured, if the thermal expansion coefficient of the oxide TFT and the glass plate is inconsistent, warpage may occur in the glass plate or cracks may occur in the oxide TFT film. Therefore, if the coefficient of thermal expansion is set within the above range, such a situation can be easily prevented. Here, the &quot; thermal expansion coefficient &quot; refers to an average value in a temperature range of 30 to 380 DEG C, and can be measured by, for example, a dilatometer or the like.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 왜점은 630℃ 이상, 650℃ 이상, 670℃ 이상, 690℃ 이상, 특히 700℃ 이상이 바람직하다. 이렇게 하면, 디바이스의 제조 공정에 있어서의 고온의 열처리에 의해 유리가 열수축하기 어려워진다. 특히, 산화물 TFT 등을 이용하여 유기 EL 디스플레이를 제작할 경우, 산화물 TFT의 품위를 안정화시키기 위해서 600℃ 정도의 열처리가 필요하게 되지만, 상기한 바와 같이 왜점을 규제하면 이 열처리에 있어서 유리의 열수축을 저감시키는 것이 가능하게 된다.In the high refractive index glass of the first embodiment, the distortion point is preferably 630 DEG C or higher, 650 DEG C or higher, 670 DEG C or higher, 690 DEG C or higher, particularly 700 DEG C or higher. This makes it difficult for the glass to shrink by heat treatment at a high temperature in the manufacturing process of the device. Particularly, when an organic EL display is manufactured using an oxide TFT or the like, a heat treatment at about 600 ° C is required to stabilize the quality of the oxide TFT. However, as described above, the heat shrinkage of the glass in the heat treatment is reduced .

제 1 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 102.5dPa·s에 있어서의 온도는 1400℃ 이하, 1350℃ 이하, 1300℃ 이하, 1250℃ 이하, 특히 1200℃ 이하가 바람직하다. 이렇게 하면, 용융성이 향상되기 때문에 거품 품위가 뛰어난 유리가 얻어지기 쉽고, 유리판의 제조 효율이 향상된다.In the high refractive index glass of the first embodiment, the temperature at 10 2.5 dPa 는 is preferably 1400 캜 or lower, 1350 캜 or lower, 1300 캜 or lower, 1250 캜 or lower, particularly 1200 캜 or lower. This improves the melting property, so that it is easy to obtain a glass having an excellent foam quality and the production efficiency of the glass plate is improved.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 104.0dPa·s에 있어서의 온도는 1250℃ 이하, 1200℃ 이하, 1150℃ 이하, 1110℃ 이하, 특히 1060℃ 이하이다. 이렇게 하면, 플로트법에 의한 성형에 있어서 성형 온도를 저하시키는 것이 가능하게 된다. 결과적으로, 저온 조업이 가능하게 되어 성형부에 사용되고 있는 내화물이 장수명화하고, 유리판의 제조 비용이 저하되기 쉬워진다.In the high refractive index glass of the first embodiment, the temperature at 10 4.0 dPa · s is 1250 ° C or lower, 1200 ° C or lower, 1150 ° C or lower, 1110 ° C or lower, particularly 1060 ° C or lower. By doing so, it becomes possible to lower the molding temperature in the molding by the float method. As a result, low-temperature operation becomes possible, the refractory used in the molding part becomes long, and the manufacturing cost of the glass plate tends to be lowered.

제 1 실시형태의 고굴절률 유리의 제조 방법을 예시하면, 우선 원하는 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합하여 유리 배치(glass batch)를 제작한다. 이어서, 이 유리 배치를 용융, 청징한 후 얻어진 용융 유리를 원하는 형상으로 성형한다. 그 후에 필요에 따라서 어닐 처리를 행하고, 원하는 형상으로 가공한다.[0041] As an example of the manufacturing method of the high-refractive-index glass of the first embodiment, a glass batch is produced by combining glass raw materials so as to have a desired glass composition. Subsequently, the glass batch is melted and refined, and the obtained molten glass is molded into a desired shape. Thereafter, annealing is carried out according to necessity, and a desired shape is formed.

또한, 제 1 발명의 실시형태에 의한 조명 디바이스용 유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다. 또한, 제 1 발명의 실시형태에 의한 유기 EL 조명용 유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다. 또한, 제 1 발명의 실시형태에 의한 유기 EL 디스플레이용 유리판은 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd가 1.55∼2.3인 것을 특징으로 한다. 상기 조명 디바이스용 유리판, 유기 EL 조명용 유리판, 및 유기 EL 디스플레이용 유리판의 기술적 특징은 대강 상기 제 1 실시형태에서 설명한 고굴절률 유리와 마찬가지로 되기 때문에, 자세한 설명을 생략한다.The glass plate for an illumination device according to the first aspect of the present invention is characterized in that the glass composition contains 0.1 to 60% of SiO 2 , 0 to 10% of B 2 O 3 , 0.001 to 35% of SrO, 0 to 40% of BaO, 2 + TiO 2 0.001 to 30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. Further, the glass plate for organic EL lighting according to the first aspect of the invention is characterized in that the glass composition contains 0.1 to 60% of SiO 2 , 0 to 10% of B 2 O 3 , 0.001 to 35% of SrO, 0 to 40% of BaO, 2 + TiO 2 0.001 to 30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. The glass plate for an organic EL display according to the first aspect of the invention has a composition of 0.1 to 60% of SiO 2 , 0 to 10% of B 2 O 3 , 0.001 to 35% of SrO, 0 to 40% of BaO, 0.001 to 30% of ZrO 2 + TiO 2 , 0 to 10% of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. The technical features of the glass plate for an illumination device, the glass plate for an organic EL lighting, and the glass plate for an organic EL display are substantially the same as those of the high refractive index glass described in the first embodiment, and therefore a detailed description thereof will be omitted.

[실시예 1]Example 1

이하, 제 1 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 실시예는 단순한 예시이다. 제 1 발명은 이하의 실시예에 조금도 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the first invention will be described in detail. In addition, the following embodiment is a mere illustration. The first invention is not limited to the following embodiments.

표 1∼표 4는 제 1 발명의 실시예(시료 No.1∼19)를 나타내고 있다.Tables 1 to 4 show Examples (Sample Nos. 1 to 19) of the first invention.

Figure pct00001
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Figure pct00002
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Figure pct00003
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Figure pct00004
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우선, 표 1∼표 4에 기재된 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 얻어진 유리 배치를 유리 용융로에 공급해서 1500∼1600℃로 4시간 용융했다. 이어서, 얻어진 용융 유리를 카본판 상에 유출시켜 판 형상으로 성형한 후, 소정의 어닐 처리를 행했다. 최후에, 얻어진 유리판에 대해서 여러 가지 특성을 평가했다.First, the glass raw materials were combined so as to obtain the glass compositions shown in Tables 1 to 4, and the obtained glass batches were supplied to a glass melting furnace and melted at 1500 to 1600 占 폚 for 4 hours. Subsequently, the obtained molten glass was flowed out onto a carbon plate, molded into a plate shape, and then subjected to predetermined annealing. Finally, various properties of the obtained glass plate were evaluated.

밀도는 주지의 아르키메데스법에 의해 측정한 값이다.The density is a value measured by the well-known Archimedes method.

열팽창계수는 딜라토미터를 이용하여 30∼380℃에 있어서의 평균 열팽창계수를 측정한 값이다. 측정 시료로서 φ5㎜×20㎜의 원기둥 형상 시료(끝면은 R 가공되어 있음)를 사용했다.The coefficient of thermal expansion is a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C using a dilatometer. As a measurement sample, a cylindrical sample of φ5 mm × 20 mm (R end surface was processed) was used.

왜점 Ps는 ASTM C336-71에 기재된 방법으로 측정한 값이다. 또한, 왜점 Ps가 높을수록 내열성이 높아진다.The point Ps is a value measured by the method described in ASTM C336-71. Further, the higher the Ps point, the higher the heat resistance.

서랭점 Ta·연화점 Ts는 ASTM C338-93에 기재된 방법으로 측정한 값이다.The standing point Ta and the softening point Ts are values measured by the method described in ASTM C338-93.

고온점도 104.0dPa·s, 103.0dPa·s, 및 102.5dPa·s에 있어서의 온도는 백금구 인상법으로 측정한 값이다. 또한, 이들 온도가 낮을수록 용융성이 뛰어나다.The temperatures at high temperature viscosities of 10 4.0 dPa 揃 s, 10 3.0 dPa 揃 s, and 10 2.5 dPa 揃 s are values measured by a platinum spherical impression method. Further, the lower the temperature, the better the melting property.

액상 온도 TL은 표준체 30메쉬(500㎛)를 통과하고, 50메쉬(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣어 온도 구배로 중에 24시간 유지하여 결정이 석출되는 온도를 측정한 값이다. 또한, 액상점도 log10ηTL은 액상 온도에 있어서의 유리의 점도를 백금구 인상법으로 측정한 값을 가리킨다. 또한, 액상점도가 높고, 액상 온도가 낮을수록 내실투성, 성형성이 뛰어나다.The liquidus temperature TL is a value obtained by passing glass powder passing through a standard 30 mesh (500 mu m) and remaining in 50 mesh (300 mu m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient for 24 hours to measure the temperature at which crystals are precipitated. The logarithmic viscosity log 10 ηTL indicates a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquidus temperature by the platinum spherical impression method. Further, the higher the liquid phase viscosity and the lower the liquid phase temperature, the better the resistance to devitrification and moldability.

굴절률 nd는 우선 25㎜×25㎜×약 3㎜의 직육면체 시료를 제작한 후, (서랭점 Ta+30℃)∼(왜점 Ps-50℃)의 온도 영역을 0.1℃/min의 냉각 속도로 어닐 처리하고, 계속해서 굴절률 nd가 정합하는 침액을 유리 사이에 침투시키면서 시마즈 세이사쿠쇼제의 굴절률 측정기 KPR-2000로 측정한 값이다.The refractive index nd was prepared by first preparing a rectangular parallelepiped sample having a size of 25 mm x 25 mm x approximately 3 mm and then annealing the glass substrate at a cooling rate of 0.1 deg. C / min at a temperature range of (Ta point + 30 deg. C) And then measured with a refractive index measuring instrument KPR-2000 of Shimadzu Seisakusho Co., Ltd., while infiltrating the submerged solution with the refractive index nd into the glass.

[실시예 2][Example 2]

시료 No.3에 기재된 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 얻어진 유리 배치를 연속 가마에 투입하여 1500∼1600℃의 온도로 용융했다. 계속해서, 얻어진 용융 유리에 대하여 플로트법에 의한 성형을 행하여 두께 0.5㎜의 유리판을 얻었다.After the glass raw materials were combined so as to obtain the glass composition described in Sample No. 3, the obtained glass batches were put into a continuous kiln and melted at a temperature of 1500 to 1600 ° C. Subsequently, the obtained molten glass was molded by the float method to obtain a glass plate having a thickness of 0.5 mm.

시료 No.4에 기재된 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 얻어진 유리 배치를 연속 가마에 투입하여 1500∼1600℃의 온도로 용융했다. 계속해서, 얻어진 용융 유리에 대하여 플로트법에 의한 성형을 행하여 두께 0.5㎜의 유리판을 얻었다.After the glass raw materials were combined so as to obtain the glass composition described in sample No. 4, the obtained glass batches were put into a continuous kiln and melted at a temperature of 1500 to 1600 ° C. Subsequently, the obtained molten glass was molded by the float method to obtain a glass plate having a thickness of 0.5 mm.

시료 No.6에 기재된 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 얻어진 유리 배치를 연속 가마에 투입하여 1500∼1600℃의 온도로 용융했다. 계속해서, 얻어진 용융 유리에 대하여 플로트법에 의한 성형을 행하여 두께 0.5㎜의 유리판을 얻었다.After the glass raw materials were combined to obtain the glass composition described in Sample No. 6, the obtained glass batches were put into a continuous kiln and melted at a temperature of 1500 to 1600 ° C. Subsequently, the obtained molten glass was molded by the float method to obtain a glass plate having a thickness of 0.5 mm.

<제 2 실시형태>&Lt; Second Embodiment >

제 2 발명의 실시형태(이하, 제 2 실시형태라고 함)에 의한 고굴절률 유리는 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 30∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼10%, Na2O 0∼10%, K2O 0∼10%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼60%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유한다. 상기한 바와 같이 각 성분의 함유 범위를 한정한 이유를 이하에 설명한다. 또한, 각 성분의 함유 범위의 설명에 있어서 특별한 언급이 있을 경우를 제외하고 %는 질량%를 나타낸다.The high-by (hereinafter referred to as second embodiment), the embodiment of the second aspect of the present invention the refractive index of glass is SiO 2, 30~60% in mass% as a glass composition, B 2 O 3 0~15%, Al 2 O 3 0~ 15%, Li 2 O 0~10% , Na 2 O 0~10%, K 2 O 0~10%, MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO 20~60%, TiO 2 0.0001~20%, ZrO 2 0 to 20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%. The reasons for limiting the content range of each component as described above will be explained below. In addition, unless otherwise stated in the description of the content range of each component,% represents mass%.

SiO2의 함유량은 30∼60%이다. SiO2의 함유량이 많아지면 용융성, 성형성이 저하되기 쉬워지고, 또한 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, SiO2의 함유량의 상한은 60% 이하이며, 바람직하게는 50% 이하, 48% 이하, 45% 이하, 특히 43% 이하이다. 한편, SiO2의 함유량이 적어지면 유리 그물코 구조를 형성하기 어려워져서 유리화가 곤란해진다. 또한, 유리의 점성이 지나치게 저하되어서 높은 액상점도를 확보하기 어려워지는 것에 추가해서 내산성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SiO2의 함유량의 하한은 30% 이상이며, 바람직하게는 35% 이상, 38% 이상, 특히 40% 이상이다.The content of SiO 2 is 30 to 60%. When the content of SiO 2 is increased, the meltability and moldability are likely to be lowered, and the refractive index nd is likely to be lowered. Therefore, the upper limit of the content of SiO 2 is 60% or less, preferably 50% or less, 48% or less, 45% or less, particularly 43% or less. On the other hand, if the content of SiO 2 is decreased, it becomes difficult to form a glass network structure, and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, so that it becomes difficult to secure a high liquid-phase viscosity, and the acid resistance tends to be lowered. Therefore, the lower limit of the content of SiO 2 is at least 30%, preferably at least 35%, at least 38%, especially more than 40%.

B2O3의 함유량은 0∼15%이다. B2O3의 함유량이 많아지면 영률이 저하되기 쉬워지고, 또한 왜점이 저하되기 쉬워진다. 또한, 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워지는 것에 추가해서 내산성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, B2O3의 함유량의 상한은 15% 이하이며, 바람직하게는 10% 이하, 8% 이하, 특히 6% 이하이다. 한편, B2O3의 함유량이 적어지면 유리 액상점도가 저하되기 쉬워진다. 따라서, B2O3의 바람직한 하한 함유량은 0.1% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 1.5% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 특히 4% 이상이다.The content of B 2 O 3 is 0 to 15%. As the content of B 2 O 3 increases, the Young's modulus tends to be lowered, and the point of the cause is likely to be lowered. Further, the balance of components in the glass composition is impaired, and resistance to insolubility tends to be lowered, and the acid resistance tends to be lowered. Therefore, the upper limit of the content of B 2 O 3 is 15% or less, preferably 10% or less, 8% or less, particularly 6% or less. On the other hand, when the content of B 2 O 3 is decreased, the glass liquid phase viscosity tends to decrease. Therefore, the lower limit content of B 2 O 3 is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, 1.5% or more, 2% or more, 3% or more, and especially 4% or more.

질량비 B2O3/SiO2는 0∼1이 바람직하다. 질량비 B2O3/SiO2가 커지면 높은 액상점도를 확보하기 어려워지고, 또한 내약품성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, 질량비 B2O3/SiO2의 바람직한 상한 범위는 1 이하, 0.5 이하, 0.2 이하, 0.15 이하, 특히 0.13 이하이다. 한편, 질량비 B2O3/SiO2가 작아지면 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, 질량비 B2O3/SiO2의 바람직한 하한 범위는 0.01 이상, 0.02 이상, 0.03 이상, 0.04 이상, 0.05 이상, 특히 0.10 이상이다.The mass ratio B 2 O 3 / SiO 2 is preferably 0 to 1. When the mass ratio B 2 O 3 / SiO 2 is increased, it becomes difficult to ensure a high liquid-phase viscosity and the chemical resistance tends to be deteriorated. Therefore, the upper limit of the preferable range of the mass ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 1 or less, 0.5 or less, 0.2 or less, 0.15 or less, particularly 0.13 or less. On the other hand, when the mass ratio B 2 O 3 / SiO 2 becomes smaller, the balance of components of the glass composition is impaired and the resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the preferred lower limit of the mass ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0.01 or more, 0.02 or more, 0.03 or more, 0.04 or more, 0.05 or more, and especially 0.10 or more.

Al2O3의 함유량은 0∼15%이다. Al2O3의 함유량이 지나치게 많으면 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 내산성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, Al2O3의 함유량의 상한은 15% 이하이며, 바람직하게는 10% 이하, 8% 이하, 특히 6% 이하이다. 한편, Al2O3의 함유량이 적어지면 유리의 점성이 지나치게 저하되어서 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, Al2O3의 바람직한 하한 함유량은 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 특히 4% 이상이다.The content of Al 2 O 3 is 0 to 15%. If the content of Al 2 O 3 is excessively large, the balance of components of the glass composition is impaired and the resistance to devitrification tends to be reduced. In addition, the acid resistance tends to decrease. Therefore, the upper limit of the content of Al 2 O 3 is 15% or less, preferably 10% or less, 8% or less, particularly 6% or less. On the other hand, when the content of Al 2 O 3 is decreased, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to secure a high liquid viscosity. Therefore, the lower limit content of Al 2 O 3 is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, particularly 4% or more.

Li2O의 함유량은 0∼10%이다. Li2O의 함유량이 많아지면 액상점도가 저하되기 쉬워지고, 또한 왜점이 저하되기 쉬워진다. 또한, 산에 의한 에칭 공정에 있어서 알칼리 성분의 용출에 의해 유리가 백탁하기 쉬워진다. 따라서, Li2O의 함유량의 상한은 10% 이하이며, 바람직하게는 8% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 미만, 1% 이하, 특히 1% 미만이며, 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기에서, 「실질적으로 Li2O를 함유하지 않는다」란 유리 조성 중의 Li2O의 함유량이 1000ppm(질량) 미만인 경우를 가리킨다.The content of Li 2 O is 0 to 10%. When the content of Li 2 O is increased, the liquid phase viscosity tends to be lowered, and the point of the cause is easily lowered. In addition, in the etching step with an acid, the glass is liable to be clouded by the elution of the alkali component. Therefore, the upper limit of the content of Li 2 O is 10% or less, preferably 8% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, especially 1% or less, It is preferable that it is not contained. Here, "substantially not containing Li 2 O" refers to a case where the content of Li 2 O in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).

Na2O의 함유량은 0∼10%이다. Na2O의 함유량이 많아지면 액상점도가 저하되기 쉬워지고, 또한 왜점이 저하되기 쉬워진다. 또한, 산에 의한 에칭 공정에 있어서 알칼리 성분의 용출에 의해 유리가 백탁하기 쉬워진다. 따라서, Na2O의 함유량의 상한은 10% 이하이며, 바람직하게는 8% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 미만, 1% 이하, 특히 1% 미만이며, 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기에서, 「실질적으로 Na2O를 함유하지 않는다」란 유리 조성 중의 Na2O의 함유량이 1000ppm(질량) 미만인 경우를 가리킨다.The content of Na 2 O is 0 to 10%. If the content of Na 2 O is increased, the liquid phase viscosity tends to be lowered, and the point of the cause is likely to be lowered. In addition, in the etching step with an acid, the glass is liable to be clouded by the elution of the alkali component. Therefore, the upper limit of the content of Na 2 O is 10% or less, preferably 8% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, It is preferable that it is not contained. Here, &quot; substantially not containing Na 2 O &quot; indicates a case where the content of Na 2 O in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).

K2O의 함유량은 0∼10%이다. K2O의 함유량이 많아지면 액상점도가 저하되기 쉬워지고, 또한 왜점이 저하되기 쉬워진다. 또한, 산에 의한 에칭 공정에 있어서 알칼리 성분의 용출에 의해 유리가 백탁하기 쉬워진다. 따라서, K2O의 함유량의 상한은 10% 이하이며, 바람직하게는 8% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 미만, 1% 이하, 특히 1% 미만이며, 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기에서, 「실질적으로 K2O를 함유하지 않는다」란 유리 조성 중의 K2O의 함유량이 1000ppm(질량) 미만인 경우를 가리킨다.The content of K 2 O is 0 to 10%. When the content of K 2 O is increased, the liquid phase viscosity tends to be lowered, and the point of the cause is likely to be lowered. In addition, in the etching step with an acid, the glass is liable to be clouded by the elution of the alkali component. Therefore, the upper limit of the content of K 2 O is 10% or less, preferably 8% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, especially 1% or less, It is preferable that it is not contained. Here, "substantially free of K 2 O" refers to a case where the content of K 2 O in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).

Li2O+Na2O+K2O의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. Li2O+Na2O+K2O의 함유량이 많아지면 액상점도가 저하되기 쉬워지고, 또한 왜점이 저하되기 쉬워진다. 또한, 산에 의한 에칭 공정에 있어서 알칼리 성분의 용출에 의해 유리가 백탁하기 쉬워진다. 따라서, Li2O+Na2O+K2O의 함유량의 상한은 10% 이하, 8% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 특히 1% 미만이며, 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기에서, 「실질적으로 Li2O+Na2O+K2O를 함유하지 않는다」란 유리 조성 중의 Li2O+Na2O+K2O의 함유량이 1000ppm(질량) 미만인 경우를 가리킨다.The content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 0 to 10%. When the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is increased, the liquid phase viscosity tends to be lowered and the point of the cause is easily lowered. In addition, in the etching step with an acid, the glass is liable to be clouded by the elution of the alkali component. Therefore, the upper limit of the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 10% or less, 8% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, And it is preferable that it is substantially not contained. Herein, it refers to a "substantially Li 2 O + Na 2 O + K 2 O does not contain" means the glass composition of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O content of the 1000ppm (by weight) of less than.

MgO의 함유량은 0∼20%가 바람직하다. MgO는 굴절률 nd, 영률, 왜점을 높이는 성분임과 아울러 고온점도를 저하시키는 성분이지만, MgO를 다량으로 함유시키면 액상 온도가 상승하여 내실투성이 저하되거나, 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 따라서, MgO의 바람직한 상한 함유량은 20% 이하, 10% 이하, 특히 6% 이하이다. 한편, MgO의 함유량이 적어지면 용융성이 저하되거나, 영률이 저하되거나, 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, MgO의 바람직한 하한 함유량은 0.1% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 1.5% 이상, 2% 이상, 특히 3% 이상이다.The content of MgO is preferably 0 to 20%. MgO is a component that increases refractive index nd, Young's modulus, and fulcrum, and lowers the high-temperature viscosity. However, when MgO is contained in a large amount, there is a fear that the liquidus temperature rises and the resistance to devitrification lowers or the density and thermal expansion coefficient become too high. Therefore, the upper limit content of MgO is preferably 20% or less, 10% or less, particularly 6% or less. On the other hand, when the content of MgO is decreased, the meltability is lowered, the Young's modulus is lowered, and the refractive index nd is likely to be lowered. Therefore, the lower limit of the content of MgO is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, 1.5% or more, 2% or more, and particularly 3% or more.

CaO의 함유량은 0∼15%가 바람직하다. CaO의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 바람직한 상한 함유량은 15% 이하, 13% 이하, 11% 이하, 9.5% 이하, 특히 8% 이하이다. 한편, CaO의 함유량이 적어지면 용융성이 저하되거나, 영률이 저하되거나, 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, CaO의 바람직한 하한 함유량은 0.5% 이상, 1% 이상, 특히 2% 이상이다.The content of CaO is preferably 0 to 15%. When the content of CaO is increased, the density and the thermal expansion coefficient are liable to be high, and the balance of components of the glass composition is impaired, and the resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit content of CaO is preferably 15% or less, 13% or less, 11% or less, 9.5% or less, particularly 8% or less. On the other hand, when the content of CaO is decreased, the meltability is lowered, the Young's modulus is lowered, and the refractive index nd is easily lowered. Therefore, the lower limit content of CaO is preferably 0.5% or more, 1% or more, and especially 2% or more.

SrO의 함유량은 0∼25%가 바람직하다. SrO의 함유량이 많아지면 굴절률 nd, 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, SrO의 바람직한 상한 함유량은 25% 이하, 18% 이하, 14% 이하, 특히 12% 이하이다. 한편, SrO의 함유량이 적어지면 용융성이 저하되기 쉬워지고, 또한 굴절률 nd가 저하되기 쉬워진다. 따라서, SrO의 바람직한 하한 함유량은 0.1% 이상, 0.5% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 5% 이상, 7% 이상, 특히 9% 이상이다.As for content of SrO, 0-25% is preferable. When the content of SrO is increased, the refractive index nd, the density and the thermal expansion coefficient are liable to be high, and the balance of components of the glass composition is impaired, and the resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit content of SrO is preferably 25% or less, 18% or less, 14% or less, particularly 12% or less. On the other hand, if the content of SrO is small, the meltability tends to be lowered, and the refractive index nd tends to be lowered. Therefore, the lower limit of the content of SrO is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 5% or more, 7% or more, and especially 9% or more.

BaO는 알칼리토류 금속 산화물 중에서는 유리의 점성을 극단적으로 저하시키지 않고 굴절률 nd를 높이는 성분이며, 그 함유량은 0.1∼60%가 바람직하다. BaO의 함유량이 많아지면 굴절률 nd, 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, BaO의 바람직한 상한 함유량은 60% 이하, 53% 이하, 48% 이하, 44% 이하, 40% 이하, 39% 이하, 36% 이하, 35% 이하, 34% 이하, 특히 33% 이하이다. 한편, BaO의 함유량이 적어지면 원하는 굴절률 nd를 얻기 어려워지는 동시에 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, BaO의 바람직한 상한 함유량은 0.1% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 5% 이상, 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 23% 이상, 특히 25% 이상이다.Among alkaline earth metal oxides, BaO is a component that increases the refractive index nd without extremely lowering the viscosity of the glass, and its content is preferably 0.1 to 60%. When the content of BaO is increased, the refractive index nd, the density and the thermal expansion coefficient are liable to be high, and the balance of components of the glass composition is impaired, and the resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit of the content of BaO is preferably 60% or less, 53% or less, 48% or less, 44% or less, 40% or less, 39% or less, 36% or less, 35% or less, 34% or less, On the other hand, when the content of BaO is decreased, it becomes difficult to obtain a desired refractive index nd and it becomes difficult to secure a high liquid viscosity. Accordingly, the upper limit of the content of BaO is preferably 0.1% or more, 1% or more, 2% or more, 5% or more, 10% or more, 15% or more, 20% or more, 23% or more, and particularly 25% or more.

ZnO의 함유량은 0∼20%가 바람직하다. ZnO는 굴절률 nd, 왜점을 높이는 성분임과 아울러 고온점도를 저하시키는 성분이지만, ZnO를 다량으로 첨가하면 액상 온도가 상승하여 내실투성이 저하되거나, 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아질 우려가 있다. 따라서, ZnO의 바람직한 상한 함유량은 20% 이하, 10% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 특히 1% 이하이다.The content of ZnO is preferably 0 to 20%. ZnO is a component that increases the refractive index nd and the dull point, and lowers the high temperature viscosity. However, when a large amount of ZnO is added, the liquid phase temperature rises and the resistance to devitrification tends to decrease, and the density and the thermal expansion coefficient may become too high. Therefore, the upper limit content of ZnO is preferably 20% or less, 10% or less, 5% or less, 3% or less, particularly 1% or less.

MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO의 함유량은 20∼60%이다. MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO의 함유량의 상한은 60% 이하이며, 바람직하게는 55% 이하, 50% 이하, 48% 이하, 특히 45% 이하이다. 한편, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO의 함유량이 적어지면 유리가 불안정해진다. 따라서, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO의 함유량의 하한은 20% 이상이며, 바람직하게는 30% 이상, 35% 이상, 특히 40% 이상이다.The content of MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO is 20 to 60%. When the content of MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO is increased, the density and the thermal expansion coefficient are liable to increase, and the balance of components of the glass composition is impaired, and resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit of the content of MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO is 60% or less, preferably 55% or less, 50% or less, 48% or less, particularly 45% or less. On the other hand, when the content of MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO is decreased, the glass becomes unstable. Therefore, the lower limit of the content of MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO is 20% or more, preferably 30% or more, 35% or more, particularly 40% or more.

TiO2는 굴절률 nd를 높이는 성분이다. TiO2의 함유량은 0.0001∼20%이다. 그러나, TiO2의 함유량이 많아지면 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 투과율이 감소하고, 유기 EL 디스플레이에 적용할 경우 발광 효율이 저하될 우려가 있다. 따라서, TiO2의 함유량의 상한은 20% 이하이며, 바람직하게는 10% 이하, 7% 이하, 특히 5% 이하이다. 한편, TiO2의 함유량이 적어지면 원하는 굴절률 nd를 얻기 어려워진다. 따라서, TiO2의 함유량의 하한은 0.0001% 이상이며, 바람직하게는 0.001% 이상, 0.01% 이상, 0.02% 이상, 0.05% 이상, 0.1% 이상, 1% 이상, 특히 2% 이상이다.TiO 2 is a component that increases the refractive index nd. The content of TiO 2 is 0.0001 to 20%. However, when the content of TiO 2 is increased, the balance of the components of the glass composition is impaired and the resistance to devitrification tends to be lowered. In addition, the transmittance is decreased, and when applied to an organic EL display, the luminous efficiency may be lowered. Therefore, the upper limit of the content of TiO 2 is 20% or less, preferably 10% or less, 7% or less, particularly 5% or less. On the other hand, if the content of TiO 2 is decreased, it becomes difficult to obtain a desired refractive index nd. Therefore, the lower limit of the content of TiO 2 is 0.0001% or more, preferably 0.001% or more, 0.01% or more, 0.02% or more, 0.05% or more, 0.1% or more, 1% or more, and particularly 2% or more.

ZrO2는 굴절률 nd를 높이는 성분이다. ZrO2의 함유량은 0∼20%이다. 그러나, ZrO2의 함유량이 많아지면 유리 조성의 성분 밸런스가 손상되어서 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, ZrO2의 함유량의 상한은 20% 이하이며, 바람직하게는 10% 이하, 7% 이하, 특히 5% 이하이다. 한편, ZrO2의 함유량이 적어지면 원하는 굴절률 nd를 얻기 어려워진다. 따라서, ZrO2의 바람직한 하한 함유량은 0.0001% 이상이며, 바람직하게는 0.001% 이상, 0.01% 이상, 0.02% 이상, 0.05% 이상, 0.1% 이상, 1% 이상, 특히 2% 이상이다.ZrO 2 is a component that increases the refractive index nd. The content of ZrO 2 is 0 to 20%. However, when the content of ZrO 2 is increased, the balance of components of the glass composition is impaired and the resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit of the content of ZrO 2 is 20% or less, preferably 10% or less, 7% or less, particularly 5% or less. On the other hand, if the content of ZrO 2 is decreased, it becomes difficult to obtain a desired refractive index nd. Therefore, the lower limit of the content of ZrO 2 is preferably 0.0001% or more, more preferably 0.001% or more, 0.01% or more, 0.02% or more, 0.05% or more, 0.1% or more, 1% or more and especially 2% or more.

La2O3은 굴절률 nd를 높이는 성분이다. La2O3의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. La2O3의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 내실투성이나 내산성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 원료 비용이 상승하여 유리판의 제조 비용이 앙등하기 쉬워진다. 따라서, La2O3의 바람직한 상한 함유량은 10% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 2.5% 이하, 특히 1% 이하이다.La 2 O 3 is a component that increases the refractive index nd. The content of La 2 O 3 is preferably 0 to 10%. When the content of La 2 O 3 is increased, the density and thermal expansion coefficient are liable to be increased, and resistance to devitrification and acid resistance are likely to be lowered. Further, the cost of the raw material is increased, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to increase. Therefore, the upper limit content of La 2 O 3 is preferably 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2.5% or less, particularly 1% or less.

Nb2O5는 굴절률 nd를 높이는 성분이다. Nb2O5의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. Nb2O5의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 원료 비용이 상승하여 유리판의 제조 비용이 앙등하기 쉬워진다. 따라서, Nb2O5의 바람직한 상한 함유량은 10% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 특히 1% 이하이다.Nb 2 O 5 is a component that increases the refractive index nd. The content of Nb 2 O 5 is preferably 0 to 10%. When the content of Nb 2 O 5 is increased, the density and the thermal expansion coefficient are liable to be increased, and the resistance to devitrification tends to decrease. Further, the cost of the raw material is increased, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to increase. Therefore, the upper limit content of Nb 2 O 5 is preferably 10% or less, 5% or less, 3% or less, particularly 1% or less.

Gd2O3의 함유량은 0∼10%가 바람직하다. Gd2O3은 굴절률 nd를 높이는 성분이다. 그러나, Gd2O3의 함유량이 많아지면 밀도나 열팽창계수가 지나치게 높아지거나, 유리 조성의 성분 밸런스가 결여되어 내실투성이 저하되거나, 고온 점성이 지나치게 저하되어서 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 따라서, Gd2O3의 바람직한 상한 함유량은 10% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 특히 1% 이하이다.The content of Gd 2 O 3 is preferably 0 to 10%. Gd 2 O 3 is a component that increases the refractive index nd. However, if the content of Gd 2 O 3 is increased, the density and the thermal expansion coefficient become excessively high, the component balance of the glass composition is lost, and the resistance to devitrification tends to deteriorate, and the high-temperature viscosity tends to be too low. Therefore, the upper limit content of Gd 2 O 3 is preferably 10% or less, 5% or less, 3% or less, particularly 1% or less.

La2O3+Nb2O5의 함유량은 0∼10%이다. La2O3+Nb2O5의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 내실투성이 저하되기 쉬워지고, 또한 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 또한, 원료 비용이 상승하여 유리판의 제조 비용이 앙등하기 쉬워진다. 따라서, La2O3+Nb2O5의 함유량의 상한은 10% 이하이며, 바람직하게는 8% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 1% 이하, 0.5% 이하, 특히 0.1% 이하이다.The content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is 0 to 10%. When the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is increased, the density and thermal expansion coefficient are liable to be increased, the resistance to devitrification tends to be lowered, and it is difficult to secure a high liquid viscosity. Further, the cost of the raw material is increased, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to increase. Therefore, the upper limit of the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is 10% or less, preferably 8% or less, 5% or less, 3% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1% or less.

레어 메탈 산화물의 함유량은 합량으로 0∼10%가 바람직하다. 레어 메탈 산화물의 함유량이 많아지면 밀도, 열팽창계수가 높아지기 쉽고, 또한 내실투성이나 내산성이 저하되기 쉬워지며, 높은 액상점도를 확보하기 어려워진다. 또한, 원료 비용이 상승하여 유리판의 제조 비용이 앙등하기 쉬워진다. 따라서, 레어 메탈 산화물의 바람직한 상한 함유량은 10% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 특히 1% 이하이다.The content of the rare metal oxide is preferably 0 to 10% by mass. If the content of the rare metal oxide is large, the density and the thermal expansion coefficient are likely to be high, and resistance to devitrification and acid resistance tends to be deteriorated, and it becomes difficult to secure a high liquid viscosity. Further, the cost of the raw material is increased, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to increase. Therefore, the upper limit content of the rare metal oxide is preferably 10% or less, 5% or less, 3% or less, particularly 1% or less.

상기 성분 이외에도 이하의 성분을 첨가해도 좋다.In addition to the above components, the following components may be added.

청징제로서 As2O3, Sb2O3, CeO2, SnO2, F, Cl, SO3의 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상을 0∼3% 첨가할 수 있다. 단, As2O3, Sb2O3, 및 F는 환경적 관점으로부터 그 사용을 최대한 삼가하는 것이 바람직하고, 각각의 함유량은 0.1% 미만이 바람직하다. 이상의 점을 고려하면, 청징제로서 SnO2, SO3, Cl, 및 CeO2가 바람직하다.As the clarifying agent, 0 to 3% of one or more selected from the group consisting of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , F, Cl and SO 3 may be added. However, As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and F are preferably avoided from the viewpoint of environment, and the content of each is preferably less than 0.1%. In view of the above, SnO 2 , SO 3 , Cl, and CeO 2 are preferable as the fining agent.

SnO2의 함유량은 바람직하게는 0∼1%, 0.001∼1%, 특히 0.01∼0.5%이다.The content of SnO 2 is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, particularly 0.01 to 0.5%.

SO3의 함유량은 바람직하게는 0∼1%, 0∼0.5%, 0.001∼0.1%, 0.005∼0.1%, 0.01∼0.1%, 특히 0.01∼0.05%이다. SO3의 도입 원료로서 황산 나트륨을 사용해도 좋다. 또한, 황산을 포함하는 원료를 사용해도 좋다.The content of SO 3 is preferably 0 to 1%, 0 to 0.5%, 0.001 to 0.1%, 0.005 to 0.1%, 0.01 to 0.1%, particularly 0.01 to 0.05%. Sodium sulfate may be used as a raw material for introducing SO 3 . Further, a raw material containing sulfuric acid may be used.

Cl의 함유량은 바람직하게는 0∼1%, 0.001∼0.5%, 특히 0.01∼0.4%이다.The content of Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 0.5%, particularly 0.01 to 0.4%.

SnO2+SO3+Cl의 함유량은 바람직하게는 0∼1%, 0.001∼1%, 0.01∼0.5%, 특히 0.01∼0.3%이다. 여기에서, 「SnO2+SO3+Cl」은 SnO2, SO3, 및 Cl의 합량을 가리킨다.The content of SnO 2 + SO 3 + Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly 0.01 to 0.3%. Here, &quot; SnO 2 + SO 3 + Cl &quot; refers to the sum of SnO 2 , SO 3 , and Cl.

CeO2의 함유량은 0∼6%가 바람직하다. CeO2의 함유량이 많아지면 내실투성이 저하되기 쉬워진다. 따라서, CeO2의 바람직한 상한 함유량은 6% 이하, 5% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 특히 1% 이하이다. 한편, CeO2가 적어지면 청징제로서 효과가 부족해진다. 따라서, CeO2의 바람직한 하한 함유량은 0.001% 이상, 0.005% 이상, 0.01% 이상, 0.05% 이상, 특히 0.1% 이상이다.The content of CeO 2 is preferably 0 to 6%. When the content of CeO 2 is increased, resistance to devitrification tends to decrease. Therefore, the upper limit content of CeO 2 is preferably 6% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, particularly 1% or less. On the other hand, if CeO 2 is less, the effect as a refining agent becomes insufficient. Therefore, the lower limit content of CeO 2 is preferably 0.001% or more, 0.005% or more, 0.01% or more, 0.05% or more, particularly 0.1% or more.

PbO는 고온 점성을 저하시키는 성분이지만, 환경적 관점으로부터 그 사용을 최대한 삼가하는 것이 바람직하다. PbO의 함유량은 0.5% 이하가 바람직하고, 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기에서, 「실질적으로 PbO를 함유하지 않는다」란 유리 조성 중의 PbO의 함유량이 1000ppm(질량) 미만인 경우를 가리킨다.PbO is a component that lowers the high-temperature viscosity, but it is preferable to avoid its use from the environmental viewpoint as much as possible. The content of PbO is preferably 0.5% or less, and is preferably substantially free of PbO. Here, &quot; substantially free of PbO &quot; means a case where the content of PbO in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).

각 성분의 바람직한 함유 범위를 조합시켜서 바람직한 유리 조성 범위를 구축하는 것이 가능하다. 그 중에서도 바람직한 유리 조성 범위는 이하와 같다.It is possible to construct a preferable glass composition range by combining the preferable content ranges of the respective components. Among them, preferable glass composition ranges are as follows.

(1) 질량%로 SiO2 30∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼10%, Na2O 0∼10%, K2O 0∼10%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼60%, TiO2 0.1∼20%, ZrO2 0∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유,(1) 30 to 60% of SiO 2 , 0 to 15% of B 2 O 3, 0 to 15% of Al 2 O 3, 0 to 10% of Li 2 O, 0 to 10% of Na 2 O, K 2 O containing 0~10%, MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO 20~60%, TiO 2 0.1~20%, ZrO 2 0~20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0~10%,

(2) 질량%로 SiO2 35∼45%, B2O3 2∼8%, Al2O3 4∼8%, Li2O 1∼8%, Na2O 0∼5%, K2O 0∼8%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 30∼48%, TiO2 1∼7%, ZrO2 0.1∼5%, La2O3+Nb2O5 0∼5%를 함유.(2) in mass% SiO 2 35~45%, B 2 O 3 2~8%, Al 2 O 3 4~8%, Li 2 O 1~8%, Na 2 O 0~5%, K 2 O 0 to 8%, MgO + CaO + SrO + BaO + 30 to 48% ZnO, 1 to 7% TiO 2 , 0.1 to 5% ZrO 2 and 0 to 5% La 2 O 3 + Nb 2 O 5 .

제 2 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 굴절률 nd는 1.55 이상이며, 바람직하게는 1.58 이상, 1.60 이상, 특히 1.63 이상이다. 굴절률 nd가 1.55 미만이 되면 투명 도전막-유리판 계면의 반사에 의해 광을 효율적으로 인출할 수 없게 된다. 한편, 굴절률 nd가 2.3보다 높아지면 공기-유리판 계면에서의 반사율이 높아져서 유리 표면에 조면화 처리를 실시해도 광을 외부로 인출하기 어려워진다. 따라서, 굴절률 nd는 2.3 이하이며, 바람직하게는 2.2 이하, 2.1 이하, 2.0 이하, 1.9 이하, 특히 1.75 이하이다.In the high refractive index glass of the second embodiment, the refractive index nd is 1.55 or more, preferably 1.58 or more, 1.60 or more, particularly 1.63 or more. If the refractive index nd is less than 1.55, light can not be efficiently drawn out due to reflection at the interface between the transparent conductive film and the glass plate. On the other hand, if the refractive index nd is higher than 2.3, the reflectance at the air-glass plate interface becomes high, so that even if the surface of the glass is roughened, it becomes difficult to draw out the light to the outside. Therefore, the refractive index nd is 2.3 or less, preferably 2.2 or less, 2.1 or less, 2.0 or less, 1.9 or less, particularly 1.75 or less.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 밀도는 바람직하게는 5.0g/㎤ 이하, 4.8g/㎤ 이하, 4.5g/㎤ 이하, 4.3g/㎤ 이하, 3.7g/㎤ 이하, 3.5g/㎤ 이하, 특히 3.4g/㎤ 이하이다. 이렇게 하면, 디바이스를 경량화시킬 수 있다.In the high refractive index glass of the second embodiment, the density is preferably 5.0 g / cm 3 or less, 4.8 g / cm 3 or less, 4.5 g / cm 3 or less, 4.3 g / cm 3 or less, 3.7 g / Or less, particularly 3.4 g / cm 3 or less. In this way, the device can be made lighter.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 30∼380℃에 있어서의 열팽창계수는 바람직하게는 45×10-7∼110×10-7/℃, 50×10-7∼100×10-7/℃, 60×10-7∼95×10-7/℃, 65×10-7∼90×10-7/℃, 65×10-7∼85×10-7/℃, 특히 67×10-7∼80×10-7/℃이다. 최근, 유기 EL 디바이스 등에 있어서 디자인적 요소를 향상시키는 관점으로부터 유리판에 가요성을 부여하는 경우가 있다. 유리판의 가요성을 높이기 위해서는 유리판의 두께를 작게 할 필요가 있지만, 이 경우에 유리판과 투명 도전막의 열팽창계수가 부정합이면 유리판이 휘기 쉬워진다. 그래서, 30∼380℃에 있어서의 열팽창계수를 상기 범위로 하면 이러한 사태를 방지하기 쉬워진다.In the high refractive index glass of the second embodiment, the coefficient of thermal expansion at 30 to 380 ° C is preferably 45 × 10 -7 to 110 × 10 -7 / ° C., 50 × 10 -7 to 100 × 10 -7 / ℃, 60 × 10 -7 ~95 × 10 -7 / ℃, 65 × 10 -7 ~90 × 10 -7 / ℃, 65 × 10 -7 ~85 × 10 -7 / ℃, especially 67 × 10 -7 To 80 x 10 &lt; -7 &gt; / [deg.] C. In recent years, flexibility is imparted to a glass plate from the viewpoint of improving the design factor in organic EL devices and the like. In order to increase the flexibility of the glass plate, it is necessary to reduce the thickness of the glass plate. In this case, if the thermal expansion coefficient of the glass plate and the transparent conductive film are incompatible, the glass plate is liable to bend. Therefore, if the coefficient of thermal expansion at 30 to 380 ° C falls within the above range, such a situation can be easily prevented.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 왜점은 바람직하게는 600℃ 이상, 특히 630℃ 이상이다. 유기 박막 태양 전지 등의 디바이스에 있어서, 투명 도전막을 형성할 때 고온에서 처리할수록 투명성이 높고, 또한 저전기저항의 막을 형성할 수 있다. 그러나, 종래의 고굴절률 유리는 내열성이 불충분하기 때문에 투명성과 저전기저항을 양립시키는 것이 곤란했다. 그래서, 왜점을 상기 범위로 하면 유기 박막 태양 전지 등의 디바이스에 있어서 투명성과 저전기저항의 양립이 가능하게 됨과 아울러 디바이스의 제조 공정에 있어서의 열처리에 의해 유리가 열수축하기 어려워진다.In the high refractive index glass of the second embodiment, the distortion point is preferably 600 占 폚 or higher, particularly 630 占 폚 or higher. In a device such as an organic thin-film solar cell, when the transparent conductive film is formed, the film can be formed with a high transparency and a low electrical resistance as the film is processed at a high temperature. However, the conventional high refractive index glass is insufficient in heat resistance, so that it is difficult to achieve both transparency and low electrical resistance. Therefore, when the point of the defect is within the above-mentioned range, both transparency and low electrical resistance can be achieved in a device such as an organic thin film solar cell, and the heat shrinkage of the glass becomes difficult due to the heat treatment in the device manufacturing process.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 102.5dPa·s에 있어서의 온도는 바람직하게는 1450℃ 이하, 1400℃ 이하, 1350℃ 이하, 1300℃ 이하, 1250℃ 이하, 특히 1200℃ 이하이다. 이렇게 하면, 용융성이 향상되기 때문에 유리의 제조 효율이 향상된다.In the high refractive index glass of the second embodiment, the temperature at 10 2.5 dPa s is preferably 1450 캜 or lower, 1400 캜 or lower, 1350 캜 or lower, 1300 캜 or lower, 1250 캜 or lower, particularly 1200 캜 or lower. This improves the melting efficiency, thus improving the production efficiency of the glass.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 액상 온도는 바람직하게는 1200℃ 이하, 1150℃ 이하, 1130℃ 이하, 1110℃ 이하, 1090℃ 이하, 1070℃ 이하, 1050℃ 이하, 1040℃ 이하, 1000℃ 이하, 특히 980℃ 이하이다. 또한, 액상점도는 바람직하게는 103.5dPa·s 이상, 103.8dPa·s 이상, 104.0dPa·s 이상, 104.2dPa·s 이상, 104.4dPa·s 이상, 104.6dPa·s 이상, 104.8dPa·s 이상, 특히 105.0dPa·s 이상이다. 이렇게 하면, 성형시에 유리가 실투하기 어려워져서 플로트법 또는 오버플로우 다운드로우법으로 유리판을 성형하기 쉬워진다.In the high refractive index glass of the second embodiment, the liquidus temperature is preferably 1200 占 폚 or lower, 1150 占 폚 or lower, 1130 占 폚 or lower, 1110 占 폚 or lower, 1090 占 폚 or lower, 1070 占 폚 or lower, 1050 占 폚 or lower, Lt; 0 &gt; C or less, particularly 980 &lt; 0 &gt; The liquid viscosity is preferably at least 10 3.5 dPa · s, at least 10 3.8 dPa · s, at least 10 4.0 dPa · s, at least 10 4.2 dPa · s, at least 10 4.4 dPa · s, at least 10 4.6 dPa · s, 10 4.8 dPa · s or more, particularly 10 5.0 dPa · s or more. This makes it difficult for the glass to devitrify at the time of molding, and the glass sheet can be easily formed by the float method or the overflow down-draw method.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리는 판 형상인 것이 바람직하다. 또한, 두께(판 형상인 경우에는 판 두께)는 바람직하게는 1.5㎜ 이하, 1.3㎜ 이하, 1.1㎜ 이하, 0.8㎜ 이하, 0.6㎜ 이하, 0.5㎜ 이하, 0.3㎜ 이하, 0.2㎜ 이하, 특히 0.1㎜ 이하이다. 두께가 작을수록 가요성이 높아지고, 디자인성이 뛰어난 조명 디바이스를 제작하기 쉬워지지만, 두께가 극단적으로 작아지면 유리가 파손되기 쉬워진다. 따라서, 두께는 바람직하게는 10㎛ 이상, 특히 30㎛ 이상이다.The high refractive index glass of the second embodiment is preferably in the form of a plate. The thickness (plate thickness in the case of a plate shape) is preferably 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 0.8 mm or less, 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.3 mm or less, Mm or less. The smaller the thickness, the higher the flexibility and the easier the production of an illumination device with excellent design. However, if the thickness is extremely small, the glass tends to be broken. Therefore, the thickness is preferably 10 占 퐉 or more, particularly 30 占 퐉 or more.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리는 판 형상의 경우, 적어도 한쪽 면에 미연마의 표면을 갖는 것(특히, 적어도 한쪽 면의 유효면 전체가 미연마인 것)이 바람직하다. 유리의 이론 강도는 본래 매우 높지만, 이론 강도보다 훨씬 낮은 응력으로도 파괴에 이르는 경우가 많다. 이것은 유리 표면에 그리피스플로(Griffith's flaw)라고 불리는 작은 결함이 성형 후의 공정, 예를 들면 연마 공정 등에서 발생하기 때문이다. 따라서, 유리 표면을 미연마로 하면 본래의 유리의 기계적 강도를 손상시키기 어려워지기 때문에 유리가 파괴되기 어려워진다. 또한, 연마 공정을 간략화 또는 생략할 수 있기 때문에 유리판의 제조 비용을 저렴화할 수 있다.In the case of the plate-shaped high-refractive-index glass of the second embodiment, it is preferable that at least one surface has a surface that is not polished (in particular, the entire effective surface of at least one surface is unmelted). Although the theoretical strength of the glass is very high in the beginning, it is often the case that even with a stress much lower than the theoretical strength, the glass is destroyed. This is because a small defect called Griffith's flaw on the glass surface occurs in a post-molding process, for example, a polishing process. Therefore, if the glass surface is not smoothened, it is difficult to impair the mechanical strength of the original glass, so that the glass is hardly destroyed. In addition, since the polishing step can be simplified or omitted, the manufacturing cost of the glass plate can be reduced.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리에 있어서, 미연마의 표면의 표면 조도 Ra는 바람직하게는 10Å 이하, 5Å 이하, 3Å 이하, 특히 2Å 이하이다. 표면 조도 Ra가 10Å보다 크면 그 면에 형성되는 투명 도전막의 품위가 저하되어서 균일한 발광을 얻기 어려워진다.In the high refractive index glass of the second embodiment, the surface roughness Ra of the surface of the unpolished surface is preferably 10 angstroms or less, 5 angstroms or less, 3 angstroms or less, particularly 2 angstroms or less. When the surface roughness Ra is larger than 10 angstroms, the quality of the transparent conductive film formed on the surface is lowered, and it becomes difficult to obtain uniform light emission.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리는 다운드로우법, 특히 오버플로우 다운드로우법으로 성형되어서 이루어지는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 미연마로 표면 품위가 양호한 유리판을 제조할 수 있다. 그 이유는 오버플로우 다운드로우법의 경우, 표면이 되어야 할 면은 홈통 형상 내화물에 접촉하지 않고, 자유 표면의 상태에서 성형되기 때문이다. 홈통 형상 구조물의 구조나 재질은 원하는 치수나 표면정밀도를 실현할 수 있는 한 특별하게 한정되지 않는다. 또한, 하방으로의 연신 성형을 행하기 위해서 용융 유리에 대하여 힘을 인가하는 방법도 특별하게 한정되지 않는다. 예를 들면, 충분히 큰 폭을 갖는 내열성 롤을 용융 유리에 접촉시킨 상태에서 회전시켜서 연신하는 방법을 채용해도 좋고, 복수의 쌍으로 된 내열성 롤을 용융 유리의 끝면 근방에만 접촉시켜서 연신하는 방법을 채용해도 좋다. 또한, 오버플로우 다운드로우법 이외에도 다운드로우법으로서 슬롯 다운드로우법을 채용할 수 있다. 이렇게 하면, 판 두께가 작은 유리판을 제작하기 쉬워진다. 여기에서, 「슬롯 다운드로우법」은 대략 직사각형 형상의 간극으로부터 용융 유리를 유출시키면서 하방으로 연신 성형하여 유리판을 성형하는 방법이다.It is preferable that the high-refractive-index glass of the second embodiment is formed by a down-draw method, particularly an over-flow down-draw method. In this way, a glass plate with favorable surface quality can be manufactured by unpolishing. This is because, in the case of the overflow down-draw method, the surface to be the surface does not contact the gutter-type refractory, but is formed in the state of the free surface. The structure and material of the trough-shaped structure are not particularly limited as long as the desired dimensions and surface precision can be realized. There is also no particular limitation on a method of applying a force to the molten glass in order to perform downward stretch molding. For example, a method in which a heat resistant roll having a sufficiently large width is rotated while being in contact with the molten glass may be adopted, or a method in which a plurality of pairs of heat resistant rolls are drawn in contact with only the vicinity of the end face of the molten glass Maybe. In addition to the overflow down-draw method, the slot-down draw method can be employed as the down-draw method. This makes it easier to produce a glass sheet having a small sheet thickness. Here, the &quot; slot-down draw method &quot; is a method of forming a glass sheet by drawing down the molten glass from a substantially rectangular gap while downwardly forming the molten glass.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리는 플로트법으로 성형되어서 이루어지는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 대형의 유리판을 저렴하며, 또한 대량으로 제작할 수 있다.The high refractive index glass of the second embodiment is preferably formed by a float method. In this way, a large-sized glass plate can be manufactured at a low cost and in a large quantity.

상기 성형 방법 이외에도, 예를 들면 리드로우법, 플로트법, 롤아웃법 등을 채용할 수 있다.In addition to the above-described forming method, for example, a reedrow method, a float method, a roll-out method, or the like can be employed.

제 2 실시형태의 고굴절률 유리는 HF 에칭, 샌드블라스트 등에 의해 한쪽 면에 조면화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 조면화 처리면의 표면 조도 Ra는 바람직하게는 10Å 이상, 20Å 이상, 30Å 이상, 특히 50Å 이상이다. 조면화 처리면을 유기 EL 조명 등의 공기와 접촉하는 측으로 하면 조면화 처리면이 무반사 구조로 되기 때문에 유기 발광층에서 발생한 광이 유기 발광층 내로 돌아오기 어려워지고, 결과적으로 광의 인출 효율을 높일 수 있다. 또한, 유리 표면에 요철 형상을 부여(예를 들면, 리프레스 등의 열가공)해도 좋다. 이렇게 하면, 유리 표면에 정확한 반사 구조를 형성할 수 있다. 요철 형상은 굴절률 nd를 고려하면서 그 간격과 깊이를 조정하면 좋다. 또한, 요철 형상을 갖는 수지 필름을 유리 표면에 부착해도 좋다.The high refractive index glass of the second embodiment is preferably subjected to a roughening treatment on one side by HF etching, sandblasting or the like. The surface roughness Ra of the roughened surface is preferably 10 angstroms or more, 20 angstroms or more, 30 angstroms or more, particularly 50 angstroms or more. If the roughened surface is made to be in contact with air such as organic EL lighting, the roughened surface becomes a non-reflective structure, so that light generated in the organic luminescent layer is difficult to return to the organic luminescent layer. It is also possible to impart a concavo-convex shape to the glass surface (for example, thermal processing such as repressing). In this way, an accurate reflection structure can be formed on the glass surface. The irregular shape may be adjusted by adjusting the interval and the depth while taking the refractive index nd into account. Further, a resin film having a concavo-convex shape may be attached to the glass surface.

또한, 대기압 플라즈마 프로세스에 의해 조면화 처리하면 한쪽 면의 표면 상태를 유지하면서 다른쪽 면에 대하여 균일하게 조면화 처리를 행할 수 있다. 또한, 대기압 플라즈마 프로세스의 소스로서 F를 함유하는 가스(예를 들면 SF6, CF4)를 사용하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, HF계 가스를 함유한 플라즈마가 발생하기 때문에 조면화 처리의 효율이 향상된다.In addition, when the roughening treatment is performed by the atmospheric pressure plasma process, roughening treatment can be uniformly performed on the other surface while maintaining the surface condition of one surface. It is also preferable to use a gas containing F (for example, SF 6 , CF 4 ) as a source of the atmospheric pressure plasma process. In this case, the plasma containing the HF-based gas is generated, thereby improving the efficiency of the roughening treatment.

또한, 성형시에 한쪽 면에 요철 형상을 형성하는 방법도 바람직하다. 이 경우, 별도 독립된 조면화 처리가 불필요해져서 조면화 처리의 효율이 향상된다.It is also preferable to form a concavo-convex shape on one side at the time of molding. In this case, the separate surface roughening process is not required, and the efficiency of the surface roughening process is improved.

이어서, 제 2 실시형태의 고굴절률 유리를 제조하는 방법을 예시한다. 우선, 원하는 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합하여 유리 배치를 제작한다. 이어서, 이 유리 배치를 용융, 청징한 후 원하는 형상으로 성형한다. 그 후에 원하는 형상으로 가공한다.Next, a method of manufacturing the high refractive index glass of the second embodiment will be illustrated. First, a glass batch is produced by combining glass raw materials so as to have a desired glass composition. Then, the glass batch is melted and refined, and then molded into a desired shape. After that, it is processed into a desired shape.

[실시예 3][Example 3]

이하, 제 2 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 실시예는 단순한 예시이다. 제 2 발명은 이하의 실시예에 조금도 한정되지 않는다.Hereinafter, an embodiment of the second invention will be described in detail. In addition, the following embodiment is a mere illustration. The second invention is not limited to the following embodiments.

표 5∼표 12는 제 2 발명의 실시예(시료 No.20∼55) 및 비교예(시료 No.56)를 나타내고 있다.Tables 5 to 12 show Examples (Sample Nos. 20 to 55) and Comparative Examples (Sample No. 56) of the second invention.

Figure pct00005
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Figure pct00006
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Figure pct00007
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Figure pct00010
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Figure pct00011
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우선, 표 5∼표 12에 기재된 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한 후, 얻어진 유리 배치를 유리 용융로에 공급해서 1500℃로 4시간 용융했다. 이어서, 얻어진 용융 유리를 카본판 상에 유출시켜 판 형상으로 성형한 후, 소정의 어닐 처리를 행했다. 최후에, 얻어진 유리판에 대하여 여러 가지 특성을 평가했다.First, the glass raw materials were combined so as to obtain the glass compositions shown in Tables 5 to 12, and the obtained glass batches were supplied to a glass melting furnace and melted at 1500 占 폚 for 4 hours. Subsequently, the obtained molten glass was flowed out onto a carbon plate, molded into a plate shape, and then subjected to predetermined annealing. Finally, various properties of the obtained glass plate were evaluated.

굴절률 nd는 우선 25㎜×25㎜×약 3㎜의 직육면체 시료를 제작한 후, (서랭점 Ta+30℃)∼(왜점 Ps-50℃)의 온도 영역을 0.1℃/min의 냉각 속도로 어닐 처리하고, 계속해서 굴절률 nd가 정합하는 침액을 유리 사이에 침투시키면서 시마즈 세이사쿠쇼제의 굴절률 측정기 KPR-2000에 의해 측정한 값이다.The refractive index nd was prepared by first preparing a rectangular parallelepiped sample having a size of 25 mm x 25 mm x approximately 3 mm and then annealing the glass substrate at a cooling rate of 0.1 deg. C / min at a temperature range of (Ta point + 30 deg. C) And then measured by a refractive index meter KPR-2000 manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Ltd., while infiltrating the submerged solution with the refractive index nd into the glass.

밀도는 주지의 아르키메데스법으로 측정한 값이다.The density is measured by the Archimedes method.

열팽창계수는 딜라토미터를 이용하여 30∼380℃에 있어서의 평균 열팽창계수를 측정한 값이다. 측정 시료로서 φ5㎜×20㎜의 원기둥 형상 시료(끝면은 R 가공되어 있음)를 사용했다.The coefficient of thermal expansion is a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C using a dilatometer. As a measurement sample, a cylindrical sample of φ5 mm × 20 mm (R end surface was processed) was used.

왜점 Ps는 ASTM C336-71에 기재된 방법으로 측정한 값이다. 또한, 왜점 Ps가 높을수록 내열성이 높아진다.The point Ps is a value measured by the method described in ASTM C336-71. Further, the higher the Ps point, the higher the heat resistance.

서랭점 Ta·연화점 Ts는 ASTM C338-93에 기재된 방법으로 측정한 값이다.The standing point Ta and the softening point Ts are values measured by the method described in ASTM C338-93.

고온점도 104.0dPa·s, 103.0dPa·s, 102.5dPa·s, 및 102.0dPa·s에 있어서의 온도는 백금구 인상법으로 측정한 값이다. 또한, 이들의 온도가 낮을수록 용융성이 뛰어나다.The temperatures at high temperature viscosities of 10 4.0 dPa 揃 s, 10 3.0 dPa 揃 s, 10 2.5 dPa 揃 s, and 10 2.0 dPa 揃 s are values measured by a platinum spherical impression method. Further, the lower the temperature, the better the melting property.

액상 온도 TL은 표준체 30메쉬(500㎛)를 통과하고, 50메쉬(300㎛)에 남는 유리 분말을 백금 보트에 넣어 온도 구배로 중에 24시간 유지하여 결정이 석출되는 온도를 측정한 값이다. 또한, 액상점도 log10ηTL은 액상 온도에 있어서의 유리의 점도를 백금구 인상법으로 측정한 값이다. 또한, 액상점도가 높고 액상 온도가 낮을수록 내실투성, 성형성이 뛰어나다.The liquidus temperature TL is a value obtained by passing glass powder passing through a standard 30 mesh (500 mu m) and remaining in 50 mesh (300 mu m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient for 24 hours to measure the temperature at which crystals are precipitated. The logarithmic viscosity log 10 ηTL is a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquidus temperature by the platinum sphere pulling method. Further, the higher the liquid phase viscosity and the lower the liquid phase temperature, the more excellent resistance to devitrification and moldability.

내HCl성은 이하의 방법으로 평가했다. 우선, 각 유리 시료의 양면을 광학 연마한 후, 일부를 마스킹하고나서 이하의 조건으로 약액 처리를 행했다. 약액 처리 후 마스크를 떼고, 마스크 부분과 침식 부분의 단차를 표면 조도계로 측정하여 그 값을 침식량이라고 했다. 내HCl성(침식량)은 침식량이 20㎛ 초과이면 「×」, 20㎛ 이하이면 「○」로 해서 평가한 것이다. 내HCl성(외관)은 각 유리 시료의 양면을 광학 연마한 후, 이하의 조건으로 약액 처리한 후 유리 시료의 표면을 육안으로 관찰하여 백탁하거나, 거칠어지거나, 크랙이 발생한 것을 「×」, 변화가 없는 것을 「○」로 해서 평가한 것이다.The HCl resistance was evaluated by the following method. First, both surfaces of each glass sample were optically polished, and after masking a part of them, chemical treatment was performed under the following conditions. After the chemical liquid treatment, the mask was removed, and the step difference between the mask part and the erosion part was measured by a surface roughness meter, and the value was referred to as an etching amount. The HCl resistance (erosion amount) was evaluated as &quot; X &quot; when the erosion amount was more than 20 mu m and &quot; O &quot; The HCl resistance (appearance) was evaluated by optically polishing both surfaces of each glass sample and then treating the surface of the glass sample after chemical treatment under the following conditions, observing the surface of the glass sample with naked eyes to see whether it was opaque, rough, Was evaluated as &quot;? &Quot;.

내HCl성(침식량)의 처리 조건은 80℃의 10질량% HCl 수용액 중에 24시간 침지, 내HCl성(외관)의 처리 조건은 80℃의 10질량% HCl 수용액 중에 24시간 침지이다.The treatment conditions of HCl resistance (immersed amount) were immersed in a 10 mass% aqueous solution of HCl at 80 ° C for 24 hours, and the treatment conditions of HCl resistance (external appearance) were immersed in a 10 mass% aqueous solution of HCl at 80 ° C for 24 hours.

표로부터 분명하게 나타내는 바와 같이, 시료 No.20∼55는 실질적으로 알칼리 성분 및 레어 메탈 산화물을 함유하지 않고, 굴절률 nd가 1.623 이상이며, 내산성이 양호했다. 또한, 시료 No.20, 24, 27∼37, 39, 43∼45, 47∼55는 액상점도가 103.4dPa·s 이상이었다. 또한, 시료 No.20∼31은 굴절률 nd가 높음에도 불구하고, 밀도가 낮기 때문에 디바이스의 경량화를 도모할 수 있다. 또한, 투명 도전막의 열팽창계수에 근사하기 때문에 유리판의 휨을 억제할 수 있을 것으로 기대된다. 또한, 시료 No.20∼25, 27∼55는 왜점이 높기 때문에 디바이스의 제조 공정에 있어서의 유리의 열수축을 억제할 수 있을 것으로 생각된다. 한편, 시료 No.56은 유리 조성 중에 레어 메탈 산화물을 다량으로 포함하기 때문에 밀도가 높고, 내산성이 낮았다.As clearly shown in the table, the sample Nos. 20 to 55 contained substantially no alkali component and no rare-earth metal oxide, had a refractive index nd of 1.623 or more, and good acid resistance. The sample No. 20, 24, 27 to 37, 39, 43 to 45, and 47 to 55 had a liquid viscosity of 10 3.4 dPa · s or more. In addition, the sample Nos. 20 to 31 have a low refractive index nd and are low in density, so that the weight of the device can be reduced. Further, since it is close to the coefficient of thermal expansion of the transparent conductive film, it is expected that warping of the glass sheet can be suppressed. In addition, it is believed that since Sample Nos. 20 to 25 and 27 to 55 have high points, heat shrinkage of the glass in the manufacturing process of the device can be suppressed. On the other hand, Sample No. 56 had high density and low acid resistance because it contained a large amount of rare metal oxide in the glass composition.

(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)

본 발명의 고굴절률 유리는 굴절률 nd가 1.55 이상이며, 또한 액상점도가 높다. 그리고, 원료 비용의 관점으로부터 유리 조성 중으로부터 레어 메탈 산화물을 제거하는 것이 가능하고, 환경적 관점으로부터 유리 조성 중으로부터 As2O3, Sb2O3 등을 제거하는 것도 가능하다. 따라서, 본 발명의 고굴절률 유리는 유기 EL 디바이스용 기판, 특히 유기 EL 조명용 기판에 바람직하다. 또한, 본 발명의 고굴절률 유리는 액정 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이용 기판, 전하 결합소자(CCD), 등배 근접형 고체촬상소자(CIS) 등의 이미지 센서의 커버 유리, 태양 전지용 기판 등으로서 사용할 수도 있다.The high refractive index glass of the present invention has a refractive index nd of 1.55 or more and a high liquid viscosity. From the viewpoint of the raw material cost, it is possible to remove the rare metal oxide from the glass composition, and from the environmental viewpoint, it is also possible to remove As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and the like from the glass composition. Therefore, the high-refractive-index glass of the present invention is preferable for substrates for organic EL devices, particularly substrates for organic EL lighting. The high-refractive-index glass of the present invention can also be used as a substrate for a flat panel display such as a liquid crystal display, a cover glass of an image sensor such as a charge-coupled device (CCD), a proximity proximity solid-state image sensor (CIS) have.

Claims (32)

유리 조성으로서 질량%로 B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO는 0∼40, 질량비 SiO2/SrO는 0.1∼40이며, 또한 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.B 2 O 3 0 - 10% in mass% as a glass composition, SrO 0.001~35%, ZrO 2 + TiO 2 0.001~30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 - 10% and containing, by mass BaO / SrO is 0 to 40, the weight ratio SiO 2 / SrO is 0.1 to 40, and the refractive index nd is the high refractive index glass, characterized in that from 1.55 to 2.3. 제 1 항에 있어서,
액상점도는 103.0dPa·s 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
The method of claim 1,
And a liquid viscosity of 10 3.0 dPa s or more.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
판 형상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
3. The method according to claim 1 or 2,
Refractive index glass.
제 3 항에 있어서,
플로트법으로 성형되어서 이루어지는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
The method of claim 3, wherein
The high refractive index glass formed by the float method.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
104dPa·s에 있어서의 온도는 1250℃ 이하인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
The method according to claim 3 or 4,
The temperature in 10 4 dPa · s is 1250 ° C. or less, High refractive index glass.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
왜점은 650℃ 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Strain point is 650 degreeC or more, High refractive index glass characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
조명 디바이스에 사용하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
High refractive index glass, used for an illumination device.
제 7 항에 있어서,
유기 EL 조명에 사용하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
The method of claim 7, wherein
It is used for organic electroluminescent illumination, The high refractive index glass characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
유기 EL 디스플레이에 사용하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
It is used for organic electroluminescent display, The high refractive index glass characterized by the above-mentioned.
유리 조성으로서 질량%로 B2O3 0∼8%, SrO 0.001∼35%, ZnO 0∼12%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼5%, Li2O+Na2O+K2O 0∼10%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO는 0∼20, 질량비 SiO2/SrO는 0.1∼20, 질량비 (MgO+CaO)/SrO는 0∼20이며, 굴절률 nd는 1.58 이상, 액상점도는 103.5dPa·s 이상, 왜점은 670℃ 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.B 2 O 3 0~8% in mass% as a glass composition, SrO 0.001~35%, ZnO 0~12% , ZrO 2 + TiO 2 0.001~30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0~5% , Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 10%, mass ratio BaO / SrO is 0 to 20, mass ratio SiO 2 / SrO is 0.1 to 20, and mass ratio (MgO + CaO) / SrO is 0 to The refractive index nd is 1.58 or more, the liquid viscosity is 10 3.5 dPa * s or more, and the distortion point is 670 degreeC or more, The high refractive index glass characterized by the above-mentioned. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 10∼50%, B2O3 0∼8%, CaO 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼30%, ZnO 0∼4%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼5%, Li2O+Na2O+K2O 0∼2%를 함유하고, 질량비 BaO/SrO는 0∼20, 질량비 SiO2/SrO는 1∼15, 질량비 (MgO+CaO)/SrO는 0∼20이며, 굴절률 nd는 1.6 이상, 액상점도는104 .0dPa·s 이상, 왜점은 670℃ 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.10 to 50% of SiO 2 , 0 to 8% of B 2 O 3, 0 to 10% of CaO, 0.001 to 35% of SrO, 0 to 30% of BaO, 0 to 4% of ZnO, ZrO 2 + TiO 2 2 to 30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 5%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 2 %, a mass ratio BaO / SrO of 0 to 20, 2 / SrO is 1 to 15, the mass ratio (MgO + CaO) / SrO is 0 to 20, the refractive index nd is 1.6 or more, the liquidus viscosity is 10 4 .0 dPa · s or more, Refractive index glass. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 조명 디바이스용 유리판.In mass% as the glass composition of SiO 2 0.1~60%, B 2 O 3 0~10%, SrO 0.001~35%, BaO 0~40%, ZrO 2 + TiO 2 0.001~30%, La 2 O 3 + Nb containing 2 O 5 0~10%, and further the refractive index nd is a glass sheet for lighting device, characterized in that from 1.55 to 2.3. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 유기 EL 조명용 유리판.In mass% as the glass composition of SiO 2 0.1~60%, B 2 O 3 0~10%, SrO 0.001~35%, BaO 0~40%, ZrO 2 + TiO 2 0.001~30%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0-10%, and refractive index nd is 1.55-2.3, The glass plate for organic electroluminescent illumination characterized by the above-mentioned. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 0.1∼60%, B2O3 0∼10%, SrO 0.001∼35%, BaO 0∼40%, ZrO2+TiO2 0.001∼30%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 또한 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 유기 EL 디스플레이용 유리판.In mass% as the glass composition of SiO 2 0.1~60%, B 2 O 3 0~10%, SrO 0.001~35%, BaO 0~40%, ZrO 2 + TiO 2 0.001~30%, La 2 O 3 + Nb containing 2 O 5 0~10%, and further the refractive index nd is a glass plate for an organic EL display, characterized in that from 1.55 to 2.3. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1.5%, SrO 0.1∼35%, BaO 0∼35%, TiO2 0.001∼25%, La2O3+Nb2O5+Gd2O3 0∼9%를 함유하고, 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.SiO 2 35~60% in mass% as a glass composition, 0~1.5% Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, SrO 0.1~35%, BaO 0~35%, TiO 2 0.001~25%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + 0 to 9% of Gd 2 O 3 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1.5%, SrO 0.1∼20%, BaO 17∼35%, TiO2 0.01∼20%, La2O3+Nb2O5+Gd2O3 0∼9%를 함유하고, 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.SiO 2 35~60% in mass% as a glass composition, 0~1.5% Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, SrO 0.1~20%, BaO 17~35%, TiO 2 0.01~20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + 0 to 9% of Gd 2 O 3 , and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
또한, B2O3의 함유량은 0∼3질량%인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
17. The method according to claim 15 or 16,
Further, the content of B 2 O 3 is 0 to 3% by mass.
제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
또한, MgO의 함유량은 0∼3질량%인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
18. The method according to any one of claims 15 to 17,
Further, the content of MgO is 0 to 3% by mass.
제 15 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
또한, ZrO2+TiO2의 함유량은 1∼20질량%인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
19. The method according to any one of claims 15 to 18,
Further, the content of ZrO 2 + TiO 2 is 1 to 20% by mass.
제 15 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
판 형상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
20. The method according to any one of claims 15 to 19,
Refractive index glass.
제 15 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서,
액상점도는 103.0dPa·s 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
21. The method according to any one of claims 15 to 20,
And a liquid viscosity of 10 3.0 dPa s or more.
제 15 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
플로트법 또는 다운드로우법으로 성형되어서 이루어지는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
22. The method according to any one of claims 15 to 21,
Wherein the high refractive index glass is formed by a float method or a down-draw method.
유리 조성으로서 질량%로 SiO2 30∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼10%, Na2O 0∼10%, K2O 0∼10%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼60%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.SiO 2 30~60% in mass% as a glass composition, B 2 O 3 0~15%, Al 2 O 3 0~15%, Li 2 O 0~10%, Na 2 O 0~10%, K 2 O 0-10%, MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO, 20-60%, TiO 2 0.0001-20%, ZrO 2 0-20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0-10%, The refractive index nd is 1.55-2.3, The high refractive index glass characterized by the above-mentioned. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼10%, Na2O 0∼10%, K2O 0∼10%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼60%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0.0001∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.As glass composition, in mass%, SiO 2 35-60%, B 2 O 3 0-15%, Al 2 O 3 0-15%, Li 2 O 0-10%, Na 2 O 0-10%, K 2 O 0-10%, MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO 20-60%, TiO 2 0.0001-20%, ZrO 2 0.0001-20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0-10%, The refractive index nd is 1.55-2.3, The high refractive index glass characterized by the above-mentioned. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼1%, Na2O 0∼1%, K2O 0∼1%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼50%, BaO 0.1∼35%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0.0001∼20%, La2O3+Nb2O5 0∼10%를 함유하고, 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.35 to 60% of SiO 2 , 0 to 15% of B 2 O 3, 0 to 15% of Al 2 O 3, 0 to 1% of Li 2 O, 0 to 1% of Na 2 O, K 2 O 0~1%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~1%, MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO 20~50%, BaO 0.1~35%, TiO 2 0.0001~20%, ZrO 2 0.0001 to 20%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 10%, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. 유리 조성으로서 질량%로 SiO2 35∼60%, B2O3 0∼15%, Al2O3 0∼15%, Li2O 0∼1%, Na2O 0∼1%, K2O 0∼1%, Li2O+Na2O+K2O 0∼1%, MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20∼50%, BaO 0.1∼35%, TiO2 0.0001∼20%, ZrO2 0.0001∼20%, La2O3 0∼2.5%, La2O3+Nb2O5 0∼8%를 함유하고, 굴절률 nd는 1.55∼2.3인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.35 to 60% of SiO 2 , 0 to 15% of B 2 O 3, 0 to 15% of Al 2 O 3, 0 to 1% of Li 2 O, 0 to 1% of Na 2 O, K 2 O 0~1%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~1%, MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO 20~50%, BaO 0.1~35%, TiO 2 0.0001~20%, ZrO 2 0.0001 to 20%, La 2 O 3 0 to 2.5%, La 2 O 3 + Nb 2 O 5 0 to 8%, and a refractive index nd of 1.55 to 2.3. 제 23 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,
B2O3을 1질량% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
27. The method according to any one of claims 23 to 26,
B 2 O 3 in an amount of 1% by mass or more.
제 23 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,
MgO를 1질량% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
28. The method according to any one of claims 23 to 27,
A high refractive index glass characterized by containing 1% by mass or more of MgO.
제 23 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,
판 형상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
29. The method according to any one of claims 23 to 28,
Refractive index glass.
제 23 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서,
액상점도는 103.0dPa·s 이상인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
The method according to any one of claims 23 to 29,
And a liquid viscosity of 10 3.0 dPa s or more.
제 23 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서,
플로트법 또는 다운드로우법으로 성형되어서 이루어지는 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
The method according to any one of claims 23 to 30,
Wherein the high refractive index glass is formed by a float method or a down-draw method.
제 23 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 한쪽 면에 미연마의 표면을 갖고, 그 표면의 표면 조도 Ra는 10Å 이하인 것을 특징으로 하는 고굴절률 유리.
32. The method according to any one of claims 23 to 31,
Wherein at least one surface has a surface that is not polished and the surface has a surface roughness Ra of 10 angstroms or less.
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