KR20130129513A - Transparent conductive substrate and touch panel having the same - Google Patents

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KR20130129513A
KR20130129513A KR1020120053437A KR20120053437A KR20130129513A KR 20130129513 A KR20130129513 A KR 20130129513A KR 1020120053437 A KR1020120053437 A KR 1020120053437A KR 20120053437 A KR20120053437 A KR 20120053437A KR 20130129513 A KR20130129513 A KR 20130129513A
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transparent
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이재홍
안진수
오정홍
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삼성코닝정밀소재 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a transparent conductive substrate and a touch panel including the same. More particularly the present invention relates to the transparent conductive substrate and the touch panel including the same for preventing a patterned transparent conductive layer from being visually recognized from outside and improving overall transmittance. The present invention provides the transparent conductive substrate characterized in comprising a transparent substrate; first and second index matching layers (IMLs); a first transparent conductive layer having a first pattern part formed on the first IML layer and coated with transparent conductive material and a first non-patterned part exposing the first IML layer; a second transparent conductive layer having a second pattern part formed on the second IML layer and coated with the transparent conductive material and a second non-patterned part exposing the second IML layer and an optically transparent layer formed on the first and second conductive layers.

Description

투명 도전성 기재 및 이를 구비한 터치패널{TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE AND TOUCH PANEL HAVING THE SAME}Transparent conductive base material and touch panel provided with the same {TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE AND TOUCH PANEL HAVING THE SAME}

본 발명은 투명 도전성 기재 및 이를 구비한 터치패널에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 패터닝된 투명 도전층이 외부에서 시각적으로 인식되는 현상을 방지하고, 전체적인 투과율을 향상시킬 수 있는 투명 도전성 기재 및 이를 구비한 터치패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a transparent conductive substrate and a touch panel having the same, and more particularly, a transparent conductive substrate capable of preventing the patterned transparent conductive layer from being visually recognized from the outside and improving the overall transmittance, and having the same. It relates to a touch panel.

일반적으로, 터치패널은 CRT, LCD, PDP, EL(electroluminescence) 등과 같은 디스플레이 장치의 전면에 배치되어, 사용자가 디스플레이 장치를 보면서 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치로 이를 터치하면 신호를 출력할 수 있게 만든 장치이다. 이러한 터치패널은 최근 들어 개인 휴대 정보 단말기 (PDA: personal digital assistants), 노트북 컴퓨터, OA 기기, 의료기기 또는 카 네비게이션 등의 다양한 전자기기에 널리 이용되고 있다.2. Description of the Related Art Generally, a touch panel is disposed on a front surface of a display device such as a CRT, LCD, PDP, EL (Electroluminescence) or the like, and when a user touches the touch panel with an input device such as a finger or a stylus, It is a device made possible. Such a touch panel is widely used in various electronic devices such as personal digital assistants (PDA), notebook computers, OA devices, medical devices, and car navigation devices.

이러한 터치 패널을 구현하는 방식에는 위치 검출의 방법에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등이 있다.Such a method of implementing the touch panel includes a resistance film method, a capacitance method, an ultrasonic method, and an infrared method depending on the method of position detection.

여기서, 저항막 방식은 투명 전극층이 코팅되어 있는 두 장의 기판을 도트 스페이서(Dot Spacer)를 사이에 두고 투명 전극층이 서로 마주보게 합착시키는 구조로 이루어진다. 이 상태에서, 손가락이나 펜 등으로 상부 기판을 접촉하였을 때 위치 검출을 위한 신호가 인가되며, 더 가압하여 하부 기판의 투명 전극층과 접촉되었을 때 전기적 신호가 검출되어 접촉 위치가 결정된다. 이 방식은 응답속도와 경제성이 높은 반면에 내구성이 크지 않아 파손의 위험이 큰 단점이 있다.Here, in the resistive type, two substrates having a transparent electrode layer coated thereon are bonded together such that the transparent electrode layers face each other with a dot spacer interposed therebetween. In this state, a signal for position detection is applied when an upper substrate is contacted with a finger, a pen, or the like, and an electrical signal is detected when the substrate is contacted with the transparent electrode layer of the lower substrate. This method has a high response speed and economic efficiency, but has a disadvantage that it is not durable and has a high risk of breakage.

또한, 정전용량 방식은 터치 화면 센서를 구성하는 기재 필름의 일면에 전도성 금속 물질을 코팅 처리하여 투명 전극을 형성하고 일정량의 전류를 유리표면에 흐르게 한다. 이 상태에서, 사용자가 화면을 터치하였을 때 인체 내 정전용량을 이용하여 전류의 양이 변경된 부분을 인식하고 크기를 계산하여 위치를 결정한다. 이러한 정전용량 방식은 내구성과 투과율이 우수한 반면에 인체의 정전용량을 이용하므로 펜이나 장갑 등을 낀 손에 의해서는 동작이 어렵다는 단점이 있다.In the electrostatic capacity type, a conductive metal material is coated on one surface of a base film constituting a touch screen sensor to form a transparent electrode and a certain amount of current flows on the glass surface. In this state, when the user touches the screen, the portion in which the amount of current is changed is recognized by using the electrostatic capacity in the human body, and the size is calculated to determine the position. Such a capacitance method has a disadvantage in that it is difficult to operate by a hand with a pen or glove because it uses the electrostatic capacity of the human body while having excellent durability and transmittance.

그리고 초음파 방식은 압전 효과를 응용한 압전소자를 사용하여 터치패널 접촉 시에 발생되는 표면파를 X와 Y 방향으로 교대로 발생시켜 각각의 입력점까지 거리를 계산하여 위치를 결정한다. 이러한 초음파 방식은 해상도와 광 투과율이 높지만 센서의 오염과 액체에 취약하다는 단점이 있다.In the ultrasonic method, a piezoelectric element using a piezoelectric effect is used to alternately generate the surface waves generated in the touch panel contact in the X and Y directions, and the position is determined by calculating the distances to the respective input points. Such an ultrasonic method has high resolution and light transmittance but is disadvantageous in that it is susceptible to contamination and liquid of the sensor.

아울러, 적외선 방식은 발광소자와 수광소자를 패널 주위에 다수 배치하여 만들어진 매트릭스 구조로 이룬다. 이 상태에서, 사용자에 의해 광선을 차단하게 되면 그 차단된 부분에 대한 X, Y 좌표를 얻어 입력좌표를 판단하게 된다. 이러한 적외선 방식은 광 투과율이 높고 외부충격이나 긁힘에 대한 강한 내구성을 갖는 반면, 부피가 크고 부정확한 터치에 대한 식별성이 낮고 응답속도 또한 느린 단점이 있다.In addition, the infrared system has a matrix structure formed by arranging a plurality of light emitting elements and light receiving elements around the panel. In this state, when the light beam is blocked by the user, the X and Y coordinates of the blocked portion are obtained and the input coordinates are determined. Such infrared rays have a high light transmittance and a high durability against external impacts and scratches, but they are disadvantageous in that they are bulky, have poor discrimination for inaccurate touches, and have slow response times.

이 중에서, 정전용량 방식이 최근 가장 많이 사용되고 있고, 터치 위치의 검출을 위해 산화인듐주석(Indium Tin Oxide, ITO)과 같은 투명 도전성 박막이 주로 사용되고 있다.Among them, the capacitance type is the most widely used recently, and a transparent conductive thin film such as indium tin oxide (ITO) is mainly used for detecting the touch position.

여기서, 투명 도전성 박막은 터치 위치의 검출을 위해 패터닝(patterning)되는데, 이와 같은 패터닝에 의해 패턴부와 비패턴부의 반사율 차이가 발생하여 패턴의 형태가 외부에 시각적으로 드러나게 되고, 이에 의해 디스플레이 장치의 외관이 악화되는 문제가 있었다.
Here, the transparent conductive thin film is patterned to detect the touch position. The patterning and the non-pattern portion reflect a difference in reflectivity, thereby causing the form of the pattern to be visually revealed to the outside. There was a problem that the appearance deteriorated.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 패터닝된 투명 도전층이 외부에서 시각적으로 인식되는 현상을 방지하고, 전체적인 투과율을 향상시킬 수 있는 투명 도전성 기재 및 이를 구비한 터치패널을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, the object of the present invention is to prevent the phenomenon that the patterned transparent conductive layer is visually recognized from the outside, and transparent conductive which can improve the overall transmittance It is to provide a substrate and a touch panel having the same.

이를 위해, 본 발명은 투명 기재; 상기 투명 기재의 양면에 각각 형성되는 제1 및 제2 IML층(index matching layer); 상기 제1 IML층 상에 형성되고, 투명 도전성 물질이 코팅된 제1 패턴부 및 상기 제1 IML층을 노출시키는 제1 비패턴부를 갖는 제1 투명 도전층; 상기 제2 IML층 상에 형성되고, 상기 투명 도전성 물질이 코팅된 제2 패턴부와 상기 제2 IML층을 노출시키는 제2 비패턴부를 갖는 제2 투명 도전층; 및 상기 제1 투명 도전층 및 상기 제2 투명 도전층 상에 형성되는 광학 투명층을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재를 제공한다.To this end, the present invention is a transparent substrate; First and second IML layers (index matching layers) formed on both surfaces of the transparent substrate, respectively; A first transparent conductive layer formed on the first IML layer and having a first pattern portion coated with a transparent conductive material and a first non-pattern portion exposing the first IML layer; A second transparent conductive layer formed on the second IML layer and having a second pattern portion coated with the transparent conductive material and a second non-pattern portion exposing the second IML layer; And an optical transparent layer formed on the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer.

여기서, 상기 제1 및 제2 IML층은 각각 굴절률이 2.2 내지 2.3인 제1 박막층 및 굴절률이 1.4 내지 1.5인 제2 박막층의 적층으로 이루어질 수 있다.The first and second IML layers may be formed by stacking a first thin film layer having a refractive index of 2.2 to 2.3 and a second thin film layer having a refractive index of 1.4 to 1.5, respectively.

이때, 상기 제1 박막층은 Nb2O5로 이루어질 수 있고, 상기 제2 박막층은 SiO2로 이루어질 수 있다.In this case, the first thin film layer may be made of Nb 2 O 5 , the second thin film layer may be made of SiO 2 .

또한, 상기 제1 패턴부와 상기 제2 비패턴부 및 상기 제1 비패턴부와 상기 제2 패턴부는 상기 투명 기재의 법선 방향을 기준으로 서로 중첩될 수 있다.The first pattern portion, the second non-pattern portion, and the first non-pattern portion and the second pattern portion may overlap each other based on the normal direction of the transparent substrate.

그리고 상기 제1 패턴부 및 상기 제2 패턴부 각각의 단위 패턴들은 브릿지를 통해 서로 연결될 수 있다.The unit patterns of each of the first pattern portion and the second pattern portion may be connected to each other through a bridge.

아울러, 상기 제1 패턴부와 상기 제1 비패턴부 또는 상기 제2 패턴부와 상기 제2 비패턴부의 반사율 차이는 0.2% 이하일 수 있다.In addition, a difference in reflectance between the first pattern portion and the first non-pattern portion or the second pattern portion and the second non-pattern portion may be 0.2% or less.

또한, 380 내지 780㎚ 영역의 파장별 반사율 차이는 0.5% 미만일 수 있다.In addition, the difference in reflectance for each wavelength in the 380 to 780 nm region may be less than 0.5%.

그리고 상기 제1 및 제2 투명 도전층은 ITO로 이루어질 수 있다.The first and second transparent conductive layers may be made of ITO.

게다가, 상기 광학 투명층은 OCL(optical clear liquid)로 이루어져 상기 제1 및 제2 비패턴부에 충진되고, 상기 광학 투명층의 표면은 평탄면을 이룰 수 있다.In addition, the optical transparent layer may be formed of an optical clear liquid (OCL) and filled in the first and second non-pattern portions, and the surface of the optical transparent layer may form a flat surface.

한편, 본 발명은 상기와 같은 투명 도전성 기재; 및 상기 투명 전도성 기재의 일면에 접합되는 윈도우 커버 유리를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널을 제공한다.On the other hand, the present invention is a transparent conductive substrate as described above; And a window cover glass bonded to one surface of the transparent conductive substrate.

여기서, 상기 윈도우 커버 유리의 테두리에는 유효 화면 영역을 구획하는 블랙 매트릭스가 형성될 수 있다.
Here, a black matrix may be formed at an edge of the window cover glass to define an effective screen area.

본 발명에 따르면, 투명 기재와 투명 도전층 사이에 IML층(index matching layer)를 형성함으로써, 투명 도전층의 패턴부와 비패턴부 간의 반사율 차이를 최소화시켜 투명 도전층이 외부에서 시각적으로 인식되는 현상을 방지할 수 있다.According to the present invention, by forming an index matching layer (IML) between the transparent substrate and the transparent conductive layer, the difference in reflectance between the pattern portion and the non-pattern portion of the transparent conductive layer is minimized so that the transparent conductive layer is visually recognized from the outside. The phenomenon can be prevented.

또한, 본 발명에 따르면, 투명 도전층의 패턴부와 비패턴부를 OCL(optical clear liquid)로 이루어진 광학 투명층으로 마감해 줌으로써, 종래보다 전체적인 투과율을 향상시킬 수 있다.
In addition, according to the present invention, by finishing the pattern portion and the non-pattern portion of the transparent conductive layer with an optical transparent layer made of optical clear liquid (OCL), it is possible to improve the overall transmittance than conventional.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 투명 도전성 기재를 나타낸 부분 단면도.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 투명 도전성 기재의 전극 패턴 구조를 나타낸 사시도.
도 3은 도 2의 평면도.
도 4 및 도 5는 본 발명의 비교 예에 따른 투명 도전성 기재를 나타낸 부분 단면도.
도 6은 본 발명의 실시 예 및 비교 예에 따른 투명 도전성 기재의 파장별 반사율 변화를 나타낸 그래프.1 is a partial cross-sectional view showing a transparent conductive substrate according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing the electrode pattern structure of a transparent conductive substrate according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a plan view of Figure 2;
4 and 5 are partial cross-sectional views showing a transparent conductive substrate according to a comparative example of the present invention.
Figure 6 is a graph showing the change in reflectance for each wavelength of the transparent conductive substrate according to the embodiment and comparative example of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 투명 도전성 기재 및 이를 구비한 터치패널에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a transparent conductive substrate and a touch panel having the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

아울러, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단된 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 투명 도전성 기재(100)는 터치패널의 터치센서 역할을 하는 적층물로, 투명 기재(110), 제1 IML층(index matching layer)(120), 제2 IML층(130), 제1 투명 도전층(140), 제2 투명 도전층(150) 및 광학 투명층(160)을 포함하여 형성된다.
As shown in FIG. 1, the transparent conductive substrate 100 according to an embodiment of the present invention is a laminate serving as a touch sensor of a touch panel, and includes a transparent substrate 110 and a first IML layer (index matching layer) ( 120, a second IML layer 130, a first transparent conductive layer 140, a second transparent conductive layer 150, and an optical transparent layer 160.

투명 기재(110)는 베이스 기판의 기능을 하는 층으로, 유리 또는 PET(polyethylene terephthalate) 필름으로 이루어질 수 있다. 여기서, 유리는 통상 1㎜ 이하의 두께를 사용하며, 투과율이 높은 소다 석회(soda-lime) 또는 무알칼리 계통인 알루미노실리케이트(aluminosilicate) 재질을 사용할 수 있다. 이때, 유리를 투명 기재(110)로 사용하면, 플라스틱 소재가 가지는 투과도, 장기 내구성, 터치감 등의 문제점을 해결해 주는 물성을 가지지만, 충격에 약한 단점이 있다. 터치패널은 각종 기기의 디스플레이부에 부착되는데, 특히 크기가 작고 얇은 휴대폰 등에 부착될 때에는 외부 충격에 대한 내구성이 보장될 수 있는 강도를 가져야 한다. 이에, 소다 석회 유리는 일반적으로 무알칼리 계통의 유리보다 강도가 낮지만 성분 중에서 나트륨(Na)을 칼륨(K)으로 치환하는 화학 처리를 통해서 강도를 높일 수 있다. 이를 화학강화유리라고 하며, 터치패널용 베이스 기판으로 많이 사용된다. 아울러, PET 필름 이외에 이와 균등한 물성을 가진 다른 고분자 필름이 사용될 수도 있다.
The transparent substrate 110 is a layer that functions as a base substrate, and may be made of glass or polyethylene terephthalate (PET) film. Here, the glass is usually 1 mm or less in thickness, high soda lime (soda-lime) or alkali-based aluminosilicate (aluminosilicate) material can be used. In this case, when the glass is used as the transparent substrate 110, the plastic material has physical properties that solve problems such as permeability, long-term durability, and touch, but has a weak disadvantage in impact. The touch panel is attached to the display unit of various devices. In particular, the touch panel should have a strength capable of ensuring durability against external impact when it is attached to a small, thin cell phone or the like. Thus, soda lime glass generally has lower strength than alkali-free glass but it can be strengthened by chemical treatment of replacing sodium (Na) with potassium (K) in the components. This is called chemically tempered glass, and is widely used as a base substrate for touch panels. In addition, other polymer films having equivalent properties may be used in addition to the PET film.

제1 IML층(120)과 제2 IML층(130)은 패터닝되는 제1 투명 도전층(140) 및 제2 투명 도전층(150)이 외부에 드러나는 것을 방지하는 층이다. 이러한 제1 IML층(120)과 제2 IML층(130)은 투명 기재(110)의 양면에 각각 형성된다. 여기서, 제1 IML층(120)과 제2 IML층(130)은 제1 박막층(125) 및 제2 박막층(126)의 적층 구조로 이루어질 수 있다.The first IML layer 120 and the second IML layer 130 are layers that prevent the patterned first transparent conductive layer 140 and the second transparent conductive layer 150 from being exposed to the outside. The first IML layer 120 and the second IML layer 130 are formed on both surfaces of the transparent substrate 110, respectively. Here, the first IML layer 120 and the second IML layer 130 may have a stacked structure of the first thin film layer 125 and the second thin film layer 126.

이때, 제1 박막층(125)은 중굴절률, 예컨대, 굴절률이 2.2 내지 2.3인 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 박막층(125)은 중굴절률을 갖는 후보 물질 군 중 Nb2O5로 이루어질 수 있다. 그리고 본 발명의 실시 예에서, 이러한 제1 박막층(125)은 4.0 내지 5.0㎚, 바람직하게는 4.5㎚ 두께로 형성될 수 있다.In this case, the first thin film layer 125 may be formed of a material having a medium refractive index, for example, a refractive index of 2.2 to 2.3. For example, the first thin film layer 125 may be formed of Nb 2 O 5 of a candidate material group having a medium refractive index. In an embodiment of the present invention, the first thin film layer 125 may be formed to a thickness of 4.0 to 5.0 nm, preferably 4.5 nm.

또한, 제2 박막층(126)은 저굴절률, 예컨대, 굴절률이 1.4 내지 1.5인 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제2 박막층(126)은 저굴절률을 갖는 후보 물질 군 중 SiO2로 이루어질 수 있다. 그리고 본 발명의 실시 예에서, 제2 박막층(126)은 제1 박막층(125)보다 상대적으로 후막으로 형성될 수 있다. 즉, 제2 박막층(126)은 47.0 내지 48.0㎚, 바람직하게는 47.5㎚ 두께로 형성될 수 있다.
In addition, the second thin film layer 126 may be formed of a material having a low refractive index, for example, a refractive index of 1.4 to 1.5. For example, the second thin film layer 126 may be made of SiO 2 of a candidate material group having a low refractive index. In an embodiment of the present invention, the second thin film layer 126 may be formed as a thicker film than the first thin film layer 125. That is, the second thin film layer 126 may be formed to a thickness of 47.0 to 48.0nm, preferably 47.5nm.

제1 투명 도전층(140)은 터치패널 적용 시 예컨대, X축 좌표를 검출하는 전극 역할을 하게 되는 층으로, 제1 IML층(120) 상에 형성된다. 이때, 제1 투명 도전층(140)은 제1 IML층(120) 상에 패터닝되어 형성된다. 이에 따라, 제1 투명 도전층(140)은 투명 도전성 물질이 코팅된 제1 패턴부(141)와 투명 도전성 물질이 코팅되지 않아 제1 IML층(120)을 노출시키는 제1 비패턴부(142)를 갖는다. 이때, 제1 패턴부(141)와 제1 비패턴부(142)는 0.2% 이하의 반사율 차이를 갖게 된다.The first transparent conductive layer 140 is a layer that serves as an electrode for detecting X-axis coordinates when the touch panel is applied, for example, and is formed on the first IML layer 120. In this case, the first transparent conductive layer 140 is patterned and formed on the first IML layer 120. Accordingly, the first transparent conductive layer 140 has a first non-pattern portion 142 exposing the first IML layer 120 because the first pattern portion 141 coated with the transparent conductive material and the transparent conductive material are not coated. Has In this case, the first pattern portion 141 and the first non-pattern portion 142 have a reflectance difference of 0.2% or less.

한편, 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 제1 패턴부(141)의 단위패턴(141a)들은 브릿지(141b)를 통해 서로 연결될 수 있다. 그리고 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에서는 단위패턴(141a)의 형상을 다이아몬드 형태로 예시하였으나, 이외에 다양한 형태로 패터닝되어 다양한 형태의 단위패턴(141a)으로 형성될 수도 있다.2 and 3, the unit patterns 141a of the first pattern unit 141 may be connected to each other through the bridge 141b. And, as shown in the embodiment of the present invention, the shape of the unit pattern (141a) is illustrated in the form of diamond, but in addition to the patterned in various forms may be formed in a unit pattern of various forms (141a).

이러한 제1 투명 도전층(140), 보다 상세하게는 제1 패턴부(141)를 형성하는 투명 도전성 물질로는 ITO가 사용될 수 있다. 그리고 본 발명의 실시 예에서, 제1 투명 도전층(140)의 제1 패턴부(141)는 대략 20.0㎚ 두께로 형성될 수 있다.
ITO may be used as the transparent conductive material forming the first transparent conductive layer 140, and more particularly, the first pattern portion 141. In an embodiment of the present invention, the first pattern portion 141 of the first transparent conductive layer 140 may be formed to have a thickness of about 20.0 nm.

제2 투명 도전층(150)은 터치패널 적용 시 예컨대, Y축 좌표를 검출하는 전극 역할을 하게 되는 층으로, 제2 IML층(130) 상에 형성된다. 이때, 제2 투명 도전층(150)은 제1 투명 도전층(150)과 마찬가지로, 제2 IML층(130) 상에 패터닝되어 형성된다. 이에 따라, 제2 투명 도전층(150)은 투명 도전성 물질이 코팅된 제2 패턴부(151)와 투명 도전성 물질이 코팅되지 않아 제2 IML층(130)을 노출시키는 제2 비패턴부(152)를 갖는다. 이때, 제2 패턴부(151)와 제2 비패턴부(152)는 0.2% 이하의 반사율 차이를 갖게 된다.The second transparent conductive layer 150 serves as an electrode for detecting Y-axis coordinates when the touch panel is applied, for example, and is formed on the second IML layer 130. In this case, like the first transparent conductive layer 150, the second transparent conductive layer 150 is patterned and formed on the second IML layer 130. Accordingly, the second transparent conductive layer 150 may include the second pattern portion 151 coated with the transparent conductive material and the second non-pattern portion 152 exposing the second IML layer 130 because the transparent conductive material is not coated. Has In this case, the second pattern portion 151 and the second non-pattern portion 152 may have a reflectance difference of 0.2% or less.

도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 제2 패턴부(151)의 단위패턴(151a)들은 브릿지(151b)를 통해 서로 연결될 수 있다. 그리고 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에서는 단위패턴(151a)의 형상을 다이아몬드 형태로 예시하였으나, 이외에 다양한 형태로 패터닝되어 다양한 형태의 단위패턴(151a)으로 형성될 수도 있다. As illustrated in FIGS. 2 and 3, the unit patterns 151a of the second pattern unit 151 may be connected to each other through the bridge 151b. In addition, although the shape of the unit pattern 151a is exemplified in the form of diamond in the embodiment of the present invention, in addition, the unit pattern 151a may be formed in various forms by patterning the unit pattern 151a.

여기서, 도시한 바와 같이, 제1 투명 도전층(140)의 제1 패턴부(141)와 제2 투명 도전층(150)의 제2 패턴부(151)는 투명 기재(110)의 법선 방향을 기준으로 서로 중첩되게 형성될 수 있다. 또한, 제1 투명 도전층(140)의 제1 비패턴부(142)와 제2 투명 도전층(150)의 제2 비패턴부(152)는 투명 기재(110)의 법선 방향을 기준으로 서로 중첩되게 형성될 수 있다. 즉, 제1 투명 도전층(140)의 제1 패턴부(141)가 형성된 하부(도면기준)에는 제2 투명 도전층(150)의 제2 비패턴부(152)가 대응되게 배치될 수 있고, 제2 투명 도전층(150)의 제2 패턴부(151)가 형성된 상부(도면기준)에는 제1 투명 도전층(140)의 제1 비패턴부(142)가 대응되게 배치될 수 있다.Here, as shown in the drawing, the first pattern portion 141 of the first transparent conductive layer 140 and the second pattern portion 151 of the second transparent conductive layer 150 have a normal direction of the transparent substrate 110. It may be formed to overlap each other as a reference. In addition, the first non-pattern portion 142 of the first transparent conductive layer 140 and the second non-pattern portion 152 of the second transparent conductive layer 150 are mutually based on the normal direction of the transparent substrate 110. It may be formed to overlap. That is, the second non-pattern portion 152 of the second transparent conductive layer 150 may be disposed to correspond to the lower portion (the drawing reference) on which the first pattern portion 141 of the first transparent conductive layer 140 is formed. The first non-pattern portion 142 of the first transparent conductive layer 140 may be disposed to correspond to the upper portion of the second pattern portion 151 of the second transparent conductive layer 150.

한편, 이러한 제2 투명 도전층(150), 보다 상세하게는 제2 패턴부(151)를 형성하는 투명 도전성 물질로는 ITO가 사용될 수 있다. 그리고 본 발명의 실시 예에서, 제1 투명 도전층(150)의 제2 패턴부(151)는 대략 20.0㎚ 두께로 형성될 수 있다.
On the other hand, ITO may be used as the transparent conductive material for forming the second transparent conductive layer 150, more specifically, the second pattern portion 151. In an embodiment of the present disclosure, the second pattern portion 151 of the first transparent conductive layer 150 may be formed to have a thickness of about 20.0 nm.

광학 투명층(160)은 터치패널의 윈도우 커버 유리(10)와 제1 투명 도전층(140), 터치패널의 배면유리(미도시)와 제2 투명 도전층(150)을 접합시키는 층으로, 제1 투명 도전층(140) 및 제2 투명 도전층(150) 상에 형성된다. 이러한 광학 투명층은 액상 즉, OCL(optical clear liquid)로 이루어진다. 이에 따라, 광학 투명층(160)은 제1 비패턴부(142) 및 제2 비패턴부(142)에 충진되고, 윈도우 커버 유리(10) 및 배면유리(미도시)와 접하는 면은 평탄면을 이루게 된다. 이와 같이, 광학 투명층(160)이 제1 투명 도전층(140) 및 제2 투명 도전층(150) 모두에 형성됨으로써, 투명 도전성 기재(100)의 투과율은 향상될 수 있는데, 이에 대해서는 하기에서 보다 상세히 설명하기로 한다.
The optical transparent layer 160 is a layer which bonds the window cover glass 10 of the touch panel with the first transparent conductive layer 140, the back glass (not shown) of the touch panel, and the second transparent conductive layer 150. It is formed on the first transparent conductive layer 140 and the second transparent conductive layer 150. This optical transparent layer is made of liquid, that is, optical clear liquid (OCL). Accordingly, the optical transparent layer 160 is filled in the first non-pattern portion 142 and the second non-pattern portion 142, and the surface contacting the window cover glass 10 and the rear glass (not shown) may have a flat surface. Is achieved. As such, since the optical transparent layer 160 is formed on both the first transparent conductive layer 140 and the second transparent conductive layer 150, the transmittance of the transparent conductive substrate 100 may be improved. It will be described in detail.

상술한 바와 같이, 투명 기재(110), 제1 IML층(120), 제2 IML층(130), 제1 투명 도전층(140), 제2 투명 도전층(150) 및 광학 투명층(160)을 포함하는 투명 도전성 기재(100)는 상, 하부에 각각 윈도우 커버 유리(10)와 배면 유리(미도시)가 접합되어 터치패널을 형성한다. 즉, 터치패널에서 투명 도전성 기재(100)는 터치센서 역할을 하게 된다. 이때, 투명 도전성 기재(100)가 터치센서 역할을 하기 위해서는 연성인쇄회로기판(FPCB)(미도시)으로 위치 검출신호를 전달해야 한다. 이를 위해, 윈도우 커버 유리(10)의 테두리에는 제1 투명 도전층(140) 및 제2 투명 도전층(150)과 전기적으로 연결되는 금속 배선(미도시)이 형성되고, 이 배선이 외부에 드러나지 않도록 가리고, 터치패널의 유효 화면 영역을 구획하는 블랙 매트릭스(미도시)가 형성된다.
As described above, the transparent substrate 110, the first IML layer 120, the second IML layer 130, the first transparent conductive layer 140, the second transparent conductive layer 150, and the optical transparent layer 160. The transparent conductive base material 100 including a window cover glass 10 and a back glass (not shown) are bonded to upper and lower portions, respectively, to form a touch panel. That is, the transparent conductive substrate 100 in the touch panel serves as a touch sensor. In this case, in order for the transparent conductive substrate 100 to function as a touch sensor, the position detection signal must be transmitted to the flexible printed circuit board (FPCB) (not shown). To this end, metal wires (not shown) electrically connected to the first transparent conductive layer 140 and the second transparent conductive layer 150 are formed at the edge of the window cover glass 10, and the wires are not exposed to the outside. And a black matrix (not shown) for partitioning the effective screen area of the touch panel.

한편, 도 4 및 도 5는 본 발명의 비교 예에 따른 투명 도전성 기재를 나타낸 부분 단면도이다.4 and 5 are partial cross-sectional views showing a transparent conductive substrate according to a comparative example of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시 예와 비교하여 상부에만 광학 투명층(160)이 형성되어 있고, 하부에는 광학 투명층(160)이 형성되어 있지 않은 구조이고, 도 5는 상, 하부에 모두 광학 투명층(160)이 형성되어 있지 않은 구조이다.4 is a structure in which the optical transparent layer 160 is formed only in the upper portion and the optical transparent layer 160 is not formed in the lower portion, and FIG. 5 shows the optical transparent layer 160 in the upper and lower portions, as compared with the embodiment of the present invention. ) Is not formed.

도 4 및 도 5에 나타낸 본 발명의 비교 예와 본 발명의 실시 예를 통해, 광학 투명층(160)의 형성에 따른 투과율 및 반사율 효과에 대해 확인할 수 있다. 즉, 도 6는 본 발명의 실시 예 및 비교 예에 따른 투명 도전성 기재의 파장별 반사율 변화를 나타낸 그래프로, 도 6에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 투명 도전성 기재(5,6)는 본 발명의 비교 예에 따른 도전성 기재(3,4; 도 4) 및 본 발명의 다른 비교 예에 따른 도전성 기재(1,2; 도 5)보다 반사율이 상대적으로 낮은 것을 확인할 수 있다. 그리고 본 발명의 실시 예에 따른 투명 도전성 기재(5,6)는 파장 영역별 반사율 차이가 0.5% 이하임을 확인할 수 있다. 또한, 비교 예들을 비교해 보면, 광학 투명층(160)을 최소한 어느 한 쪽에라도 형성하는 것이 반사율 감소에 효과적인 것을 확인할 수 있다.Through the comparative example of the present invention shown in Figures 4 and 5 and the embodiment of the present invention, it can be confirmed for the transmittance and reflectance effect of the formation of the optical transparent layer 160. That is, FIG. 6 is a graph showing a change in reflectance for each wavelength of the transparent conductive substrate according to the embodiment and the comparative example of the present invention. As shown in FIG. 6, the transparent conductive substrate 5 and 6 according to the embodiment of the present invention. It can be seen that the reflectance is relatively lower than the conductive substrates 3 and 4 according to the comparative example of the present invention (FIG. 4) and the conductive substrates 1 and 2 according to another comparative example of the present invention. In addition, the transparent conductive substrates 5 and 6 according to the embodiment of the present invention may confirm that the difference in reflectance for each wavelength region is 0.5% or less. In addition, comparing the comparative examples, it can be seen that forming the optical transparent layer 160 on at least either side is effective to reduce the reflectance.

아울러, 본 발명의 실시 예에 따른 도전성 기재는 98% 이상의 투과율을 갖지만, 상부에만 광학 투명층(160)이 형성된 경우에는 96% 이하의 투과율, 상, 하부 모두 광학 투명층(160)이 형성되어 있지 않은 경우에는 93% 이하의 투과율을 갖는다.
In addition, the conductive substrate according to the embodiment of the present invention has a transmittance of 98% or more, but when the optical transparent layer 160 is formed only on the upper part, the transmittance of 96% or less, both the upper and lower optical transparent layer 160 is not formed In this case, the transmittance is 93% or less.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시 예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. This is possible.

그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited by the described embodiments, but should be determined by the scope of the appended claims as well as the appended claims.

100: 투명 도전성 기재 110: 투명 기재
120: 제1 IML층 125: 제1 박막층
126: 제2 박막층 130: 제2 IML층
140: 제1 패턴부 141: 제1 패턴부
141a, 151a: 단위패턴 141b, 151b: 브릿지
142: 제1 비패턴부 150: 제2 투명 도전층
151: 제2 패턴부 152: 제2 비패턴부
160: 광학 투명층 10: 윈도우 커버 유리100: transparent conductive substrate 110: transparent substrate
120: first IML layer 125: first thin film layer
126: second thin film layer 130: second IML layer
140: first pattern portion 141: first pattern portion
141a, 151a: unit pattern 141b, 151b: bridge
142: first non-pattern portion 150: second transparent conductive layer
151: second pattern portion 152: second non-pattern portion
160: optical transparent layer 10: window cover glass

Claims (12)

투명 기재;
상기 투명 기재의 양면에 각각 형성되는 제1 및 제2 IML층(index matching layer);
상기 제1 IML층 상에 형성되고, 투명 도전성 물질이 코팅된 제1 패턴부 및 상기 제1 IML층을 노출시키는 제1 비패턴부를 갖는 제1 투명 도전층;
상기 제2 IML층 상에 형성되고, 상기 투명 도전성 물질이 코팅된 제2 패턴부와 상기 제2 IML층을 노출시키는 제2 비패턴부를 갖는 제2 투명 도전층; 및
상기 제1 투명 도전층 및 상기 제2 투명 도전층 상에 형성되는 광학 투명층;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
Transparent substrate;
First and second IML layers (index matching layers) formed on both surfaces of the transparent substrate, respectively;
A first transparent conductive layer formed on the first IML layer and having a first pattern portion coated with a transparent conductive material and a first non-pattern portion exposing the first IML layer;
A second transparent conductive layer formed on the second IML layer and having a second pattern portion coated with the transparent conductive material and a second non-pattern portion exposing the second IML layer; And
An optical transparent layer formed on the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer;
Transparent conductive base material comprising a.
제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 IML층은 각각 굴절률이 2.2 내지 2.3인 제1 박막층 및 굴절률이 1.4 내지 1.5인 제2 박막층의 적층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
The method of claim 1,
The first and second IML layers each comprise a laminate of a first thin film layer having a refractive index of 2.2 to 2.3 and a second thin film layer having a refractive index of 1.4 to 1.5, respectively.
제2항에 있어서,
상기 제1 박막층은 Nb2O5로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
3. The method of claim 2,
The first thin film layer is made of Nb 2 O 5 Transparent conductive substrate, characterized in that.
제2항에 있어서,
상기 제2 박막층은 SiO2로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
3. The method of claim 2,
The second thin film layer is made of SiO 2 Transparent conductive substrate, characterized in that.
제1항에 있어서,
상기 제1 패턴부와 상기 제2 비패턴부 및 상기 제1 비패턴부와 상기 제2 패턴부는 상기 투명 기재의 법선 방향을 기준으로 서로 중첩되는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
The method of claim 1,
The first pattern portion, the second non-pattern portion, and the first non-pattern portion and the second pattern portion overlap each other with respect to the normal direction of the transparent substrate.
제1항에 있어서,
상기 제1 패턴부 및 상기 제2 패턴부 각각의 단위 패턴들은 브릿지를 통해 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
The method of claim 1,
The unit patterns of each of the first pattern portion and the second pattern portion are connected to each other through a bridge.
제1항에 있어서,
상기 제1 패턴부와 상기 제1 비패턴부 또는 상기 제2 패턴부와 상기 제2 비패턴부의 반사율 차이는 0.2% 이하인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
The method of claim 1,
The reflectivity difference between the first pattern portion and the first non-pattern portion or the second pattern portion and the second non-pattern portion is 0.2% or less.
제1항에 있어서,
380 내지 780㎚ 영역의 파장별 반사율 차이는 0.5% 미만인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
The method of claim 1,
The difference in reflectance for each wavelength in the 380 to 780 nm region is less than 0.5%.
제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 투명 도전층은 ITO로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
The method of claim 1,
The first and second transparent conductive layers are made of ITO, the transparent conductive substrate.
제1항에 있어서,
상기 광학 투명층은 OCL(optical clear liquid)로 이루어져 상기 제1 및 제2 비패턴부에 충진되고, 상기 광학 투명층의 표면은 평탄면을 이루는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 기재.
The method of claim 1,
The optical transparent layer is made of OCL (optical clear liquid) is filled in the first and second non-pattern portion, the transparent conductive substrate, characterized in that the surface of the optical transparent layer to form a flat surface.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 투명 도전성 기재; 및
상기 투명 전도성 기재의 일면에 접합되는 윈도우 커버 유리;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
The transparent conductive base material of any one of Claims 1-10; And
A window cover glass bonded to one surface of the transparent conductive substrate;
And a touch panel.
제11항에 있어서,
상기 윈도우 커버 유리의 테두리에는 유효 화면 영역을 구획하는 블랙 매트릭스가 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널.12. The method of claim 11,
And a black matrix defining an effective screen area on an edge of the window cover glass.
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