KR20130125626A - Fluid purifier - Google Patents

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KR20130125626A KR1020120049294A KR20120049294A KR20130125626A KR 20130125626 A KR20130125626 A KR 20130125626A KR 1020120049294 A KR1020120049294 A KR 1020120049294A KR 20120049294 A KR20120049294 A KR 20120049294A KR 20130125626 A KR20130125626 A KR 20130125626A
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Abstract

Provided is a fluid purifier purifying fluid through a repetitive circulation of fluid. A purifier according to one embodiment of the present invention comprises a supply chamber formed with an inlet in which fluid with a high pressure is supplied; a stirring chamber equipped on the top of the supply chamber and filled with multiple ceramic balls in part; an injection nozzle spraying the high pressure fluid upward and supplying the fluid to the stirring chamber; and an outlet equipped on the top of the stirring chamber and discharging a part of the fluid passed through the stirring chamber, wherein the most of fluid passed through the stirring chamber moves downward and is re-supplied to the stirring chamber. Also, a purifier according to another embodiment of the present invention comprises a supply chamber formed with an inlet in which fluid with a high pressure is supplied; a catalyst chamber equipped on the top of the supply chamber and containing at least one kind of ore therein; an injection nozzle spraying the high pressure fluid upward and supplying the fluid to the catalyst chamber; and an outlet equipped on the top of the catalyst chamber and discharging a part of fluid passed through the catalyst chamber, wherein the most of fluid passed through the catalyst chamber moves downward and is re-supplied to the catalyst chamber.

Description

정화 장치{Fluid Purifier}Purifier Purifier

본 발명은 정화 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 천연 광물을 필터로 이용하여 필터의 중복 설계 없이도 정화 및 정수 효과를 높일 수 있는 정화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a purification device, and more particularly, to a purification device that can enhance the purification and water purification effect without redundant design of the filter by using natural mineral as a filter.

최근 수질오염으로 인해 깨끗한 물에 대한 요구가 증가하고 있으며, 이를 충족시키기 위해 다양한 정화 장치가 개발되고 있다. 이러한 정화 장치는 물의 용도와 정수 방식에 따라 다양한 종류로 구분되며, 그 중에서는 토르말린(tourmaline, 전기석) 또는 흑요석(obsidian)과 같은 천연 광물을 이용한 정화 장치도 개발되어 왔다.Recently, the demand for clean water is increasing due to water pollution, and various purification devices have been developed to satisfy this. Such purification apparatuses are classified into various types according to water use and water purification methods. Among them, purification apparatuses using natural minerals such as tourmaline (tourmaline) or obsidian have been developed.

토르말린(전기석)은 육방정계에 속하는 광물로서, 화학 성분은 철, 마그네슘, 알카리금속 등과 알루미늄의 복잡한 붕규산염이다. 대개는 6각 또는 9각, 때로는 3각의 주상을 이루며, 마찰에 의해서 전기를 생성하고, 가열하면 양 끝이 양이온 및 음이온으로 대전한다. 이러한 토르말린을 이용하는 정화 장치는 오염수가 필터 역할을 하는 토르말린을 통과 시 전기적 성질을 가진 토르말린이 전류를 발생시켜 물을 순간적으로 전기 분해하여 오염수를 알카리 이온화 시킴으로써 정화 및 정수한다. Tourmaline (tourmaline) is a mineral belonging to the hexagonal system, the chemical component is a complex borosilicate of iron, magnesium, alkali metals and aluminum. It is usually hexagonal or hexagonal, sometimes triangular, with a major column, which generates electricity by friction, and when heated, both ends are charged with cations and anions. The purifier using the tourmaline purifies and purifies the contaminated water by electrolyzing the water instantaneously by electrolyzing water by generating a current through the tourmaline having electrical properties as the contaminated water passes through the tourmaline serving as a filter.

또한, 흑요석은 규산이 풍부한 유리질 화산암으로, 일반적으로 치밀하고 유리질 광택을 가지며 흑색, 회색, 적색 또는 갈색을 띈다. 이러한 흑요석을 이용하는 정화 장치는 오염수가 필터역할을 하는 흑요석을 통과하면서 흑요석이 유기물이나 중금속과 같은 유해물질을 흡착함으로써 오염수의 정화 및 정수한다.Obsidian is also a siliceous rich volcanic volcanic rock that is generally dense, glassy, and black, grey, red or brown. The purifier using such obsidian purifies and purifies the contaminated water by adsorbing harmful substances such as organic matter and heavy metal while the contaminated water passes through the obsidian serving as a filter.

그러나, 이러한 천연 광물을 필터로 이용하는 정화 장치라도 보다 양질의 정수효과를 기대하기 위해서는 여러 번의 여과단계를 거쳐야 하고, 그렇게 하기 위해서는 장치가 중복으로 구성되기 때문에 그에 따라 설비가 복잡해지고 비용이 커지는 문제점을 갖는다. 따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해 정화 장치의 필터의 중복 설계로 인한 단점을 개선하면서도, 정화 및 정수 효과를 높이는 정화 장치의 개발이 요구된다.However, even in the case of a purification device using a natural mineral as a filter, it is necessary to go through several filtration steps in order to expect a better water purification effect, and in order to do so, the equipment is complicated and costs are increased accordingly. Have Therefore, in order to solve the above problems, while improving the disadvantages due to the redundant design of the filter of the purification device, it is required to develop a purification device that enhances the purification and water purification effect.

일본등록실용신안 3047384Utility Model Japanese Registered

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 토르말린과 흑요석과 같은 천연 광물을 필터로 하여, 오염수를 인체에 해가 없고 향균 및 살균작용을 거친 양질의 물로 정화 및 정수하는 정화 장치를 제공하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention is to provide a purifying apparatus for purifying and purifying contaminated water with high-quality water that has undergone antibacterial and sterilization without harming the human body by using natural minerals such as tourmaline and obsidian as a filter.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는 필터를 통과하는 물을 반복적으로 순환시켜 자동 반복 정수함으로써, 필터의 중복 설계를 회피하고 정화활성작용이 뛰어난 물로 정화 및 정수할 수 있는 정화 장치를 제공하는 것이다.Another technical problem to be solved by the present invention is to repeatedly circulate the water passing through the filter to automatically repeat the purification, to provide a purification device that can avoid the redundant design of the filter and purified and purified water with excellent purification activity will be.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해 될 수 있을 것이다.The technical objects of the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems, and other technical subjects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 언급 된 본 발명의 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 정화 장치는 고압의 유체가 공급되는 유입구가 형성된 공급 챔버, 상기 공급 챔버 상부에 구비되고, 일부에 복수의 세라믹 볼이 채워진 교반 챔버, 상기 고압의 유체를 상부로 분사하여 상기 교반 챔버에 공급하는 분사 노즐, 및 상기 교반 챔버 상부에 구비되어, 상기 교반 챔버를 통과한 유체의 일부를 배출하는 토출구를 포함하되, 상기 교반 챔버를 통과한 유체의 대부분은 하방으로 이동하여 상기 교반 챔버에 재 공급된다.Purification apparatus according to an embodiment of the present invention for solving the above-mentioned technical problem of the present invention is provided in the supply chamber, the supply chamber is formed with an inlet for supplying a high-pressure fluid, the plurality of ceramic balls in a portion It includes a filled stirring chamber, a spray nozzle for injecting the high-pressure fluid to the upper supply to the stirring chamber, and a discharge port provided on the stirring chamber, to discharge a portion of the fluid passing through the stirring chamber, the stirring Most of the fluid that has passed through the chamber moves downward and is fed back to the stirring chamber.

상기 언급 된 본 발명의 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 정화 장치는 고압의 유체가 공급되는 유입구가 형성된 공급 챔버, 상기 공급 챔버 상부에 구비되고, 내부에 적어도 한 종류의 광석을 포함하는 촉매 챔버, 상기 고압의 유체를 상부로 분사하여 상기 촉매 챔버에 공급하는 분사 노즐 및 상기 촉매 챔버 상부에 구비되어, 상기 촉매 챔버를 통과한 유체의 일부를 배출하는 토출구를 포함하되, 상기 촉매 챔버를 통과한 유체의 대부분은 하방으로 이동하여 상기 촉매 챔버에 재 공급된다.Purification apparatus according to another embodiment of the present invention for solving the above-described technical problem of the present invention is provided with a supply chamber formed with an inlet for supplying a high-pressure fluid, the supply chamber is provided, at least one kind of inside A catalyst chamber including an ore, an injection nozzle for injecting the high pressure fluid to the catalyst chamber and supplying the catalyst to the catalyst chamber, and a discharge port provided at an upper portion of the catalyst chamber to discharge a portion of the fluid that has passed through the catalyst chamber, Most of the fluid that has passed through the catalyst chamber moves downward and is fed back to the catalyst chamber.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 본 발명의 정화 장치는 상향식 정수시스템에서 정수탱크 내의 물을 교반작용을 통해 순환시킴으로써 필터의 중복 설계 없이 오염수가 천연 광물로 이루어진 필터를 반복적으로 통과하게 하여, 오염수를 양질의 물로 효과적으로 정화 및 정수할 수 있다. 특히, 상향식 정수시스템의 하방에서 고압의 물을 유로 홀이 형성된 발산 노즐을 통해 상방으로 분사함으로써, 필터 통과 후 다시 하방으로 이동한 물을 새로 공급되는 물과 함께 효과적으로 다시 상방으로 이동하게 하여 물의 효율적인 순환을 도모할 수 있다.According to the present invention as described above, the purification apparatus of the present invention by circulating the water in the purified water tank through the stirring action in the bottom-up water purification system to allow the contaminated water to repeatedly pass through the filter made of natural minerals without redundant design of the filter, contaminated water Can be effectively purified and purified with high quality water. In particular, by spraying the high pressure water upward from the bottom of the bottom-up water purification system through the diverging nozzle formed with the flow path hole, the water moved downward again after passing through the filter effectively moves upward again with the newly supplied water to effectively Circulation can be achieved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 정화 장치를 나타내는 절단 사시도이다.
도 2는 도 1의 실시예에 따른 정화 장치를 나타낸 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 정화 장치가 포함하는 분사 노즐을 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 정화 장치를 나타내는 절단 사시도이다.
도 5는 도 4의 실시예에 따른 정화 장치를 나타낸 단면도이다.1 is a cut perspective view showing a purification apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a purification apparatus according to the embodiment of FIG. 1.
3 is a cross-sectional view showing a spray nozzle included in the purification apparatus according to the embodiment of the present invention.
4 is a cutaway perspective view of a purification apparatus according to still another embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of the purifier according to the embodiment of FIG.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used in a sense that can be commonly understood by those skilled in the art. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 정화 장치를 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명하도록 한다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 본 발명의 정화 장치는 공급 챔버(100), 교반 챔버(300), 분사 노즐(200) 및 토출구를 포함한다.Hereinafter, a purification apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. 1 and 2, the purification apparatus of the present invention according to the present embodiment includes a supply chamber 100, a stirring chamber 300, an injection nozzle 200, and a discharge port.

공급 챔버(100)에는 유입구(110)가 형성되어 있으며, 상기 유입구(110)를 통해 고압의 유체가 공급된다. 정화되기 전의 오염된 유체는 펌프 또는 압축기 등의 별도의 장치를 통해, 또는 간단하게는 거대한 유체 저장부의 일면에 형성된 밸브를 통과하여 토출됨으로써 고압이 될 수 있으며, 공급되는 상기 고압의 유체는 유입구(110)를 통해 공급 챔버(100)에 유입된다. 공급 챔버(100)에 고압 유체가 채워지면, 상기 유체의 압력에 의해 상기 유체는 공급 챔버(100)에 연결된 분사 노즐(200)로 유입되어 상기 분사 노즐(200)을 통과하여 공급 챔버(100) 바깥으로 분사된다. 상기 분사 노즐(200)의 구조는 후술하도록 한다.An inlet 110 is formed in the supply chamber 100, and a high pressure fluid is supplied through the inlet 110. The contaminated fluid before purification may be high pressure by being discharged through a separate device such as a pump or a compressor, or simply through a valve formed on one side of a huge fluid reservoir, and the high pressure fluid supplied is supplied with an inlet ( It is introduced into the supply chamber 100 through the 110. When the high pressure fluid is filled in the supply chamber 100, the fluid flows into the injection nozzle 200 connected to the supply chamber 100 by the pressure of the fluid and passes through the injection nozzle 200 to supply the supply chamber 100. Sprayed outward. The structure of the injection nozzle 200 will be described later.

이 때, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 본 실시예의 정화 장치에서는 고압의 유체를 유입구(110)를 통해 분사 노즐(200)에 직접 유입시키지 않고 공급 챔버(100)를 통과시킨 후 분사 노즐(200)에 유입시킨다. 그에 따라 공급 챔버(100)가 유입구(110)와 분사 노즐(200) 사이의 통로의 역할을 하고, 상기 고압 유체가 유입구(110)로부터 유입되어 상방으로 분사되기 전 공급 챔버(100)에 머물면서 고압 유체에 균등화가 발생한다. 즉, 시시 각각 달라질 수 있는 고압 유체의 압력이 상기 공급 챔버(100) 내에서 균등화되며, 그에 따라 분사 노즐(200)을 향해 유입되는 정화 대상 유체의 압력이 자체적으로 균등하게 조정될 수 있다.At this time, as shown in Figures 1 and 2 in the purifying apparatus of the present embodiment through the supply chamber 100 without passing the high-pressure fluid directly to the injection nozzle 200 through the inlet 110, the injection nozzle Inflow to (200). Accordingly, the supply chamber 100 serves as a passage between the inlet 110 and the injection nozzle 200, and stays in the supply chamber 100 before the high pressure fluid is introduced from the inlet 110 and sprayed upward. Equalization occurs in the high pressure fluid. That is, the pressure of the high pressure fluid, which may vary from time to time, is equalized in the supply chamber 100, and accordingly, the pressure of the purifying fluid flowing into the injection nozzle 200 may be equally adjusted by itself.

또한, 본 실시예에 따르면 상기 공급 챔버(100)는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 정화 장치의 최하부에 위치할 수 있다. 이 경우, 상기 고압 유체는 공급 챔버(100)의 상부에 연결된 분사 노즐(200)로 유입된 후 상기 분사 노즐(200)을 통과하여 상방향으로 분사된다. 상기와 같이 본 발명의 정화 장치에서는 최하부에 위치한 공급 챔버(100)에 고압의 오염된 유체를 공급하고, 상기 유체 자체의 압력에 의해 오염된 유체가 분사 노즐(200)을 통해 상방향으로 분사되도록 함으로써, 간단하고 효과적으로 상향식 정화장치의 필터로 정화 대상 유체를 공급할 수 있다.In addition, according to the present embodiment, the supply chamber 100 may be located at the bottom of the purification apparatus as shown in FIGS. 1 and 2. In this case, the high pressure fluid is injected into the injection nozzle 200 connected to the upper portion of the supply chamber 100 and then injected upward through the injection nozzle 200. As described above, in the purification apparatus of the present invention, the high pressure contaminated fluid is supplied to the supply chamber 100 located at the lowermost portion, and the contaminated fluid is injected upward through the injection nozzle 200 by the pressure of the fluid itself. Thus, the fluid to be purified can be supplied to the filter of the bottom-up purification device simply and effectively.

전술된 바와 같이, 분사 노즐(200)은 공급 챔버(100)에 공급된 고압 유체를 상부로 분사하여 상기 정화 대상 유체를 교반 챔버(300)에 공급한다. 일 실시예에 따른 상기 분사 노즐(200)의 구조는 도 3에 도시된 바와 같다. 본 실시예에 따르면, 분사 노즐(200)은 분사 노즐(200)의 상부에서 단면적의 넓이가 증가하는 유체 통로(220) 및 상기 분사 노즐(200)의 하부를 평행으로, 즉 평행으로 관통하여 상기 유체 통로(220)와 연통되는 복수의 유로 홀(230)을 포함할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 본 발명의 정화 장치는 하나 이상의 분사 노즐(200)을 포함할 수 있다.As described above, the injection nozzle 200 injects the high pressure fluid supplied to the supply chamber 100 to the upper part to supply the purifying fluid to the stirring chamber 300. The structure of the spray nozzle 200 according to one embodiment is as shown in FIG. 3. According to the present embodiment, the injection nozzle 200 penetrates the fluid passage 220 and the lower portion of the injection nozzle 200 in which the area of the cross-sectional area increases at the upper part of the injection nozzle 200 in parallel, i. It may include a plurality of flow path holes 230 in communication with the fluid passage 220. According to one embodiment, the purifying apparatus of the present invention may include one or more spray nozzles 200.

도 3에 도시된 바와 같이, 분사 노즐(200)의 유체 통로(220)는 상부(221)에서 단면적의 넓이가 증가한다. 이에 따라, 유체 통로(220)는 벤튜리(venturi) 효과를 통해 그 하부(223)에서 공급 챔버(100)로부터 유입되어 상기 유체 통로(220)를 통과하는 고압 유체(10)의 양보다 더 많은 양(약 4배)의 주위 유체(20)를 유로 홀(230)을 통해 유체 통로(220) 내로 흡인(suction)한다. 그 결과, 분사 노즐(200)로부터 배출되는 총유량은 공급 챔버(100)로부터 유입되는 고압 유체(10)의 양과 유로 홀(230)을 통해 흡인되는 유량(20)의 합으로, 공급 챔버(100)로부터 유입된 고압 유체(10)의 유량의 약 5배가 된다.As shown in FIG. 3, the fluid passage 220 of the spray nozzle 200 has an increased cross-sectional area at the upper portion 221. Accordingly, the fluid passage 220 is more than the amount of high pressure fluid 10 flowing from the supply chamber 100 at the bottom 223 through the fluid passage 220 through a venturi effect. A positive (approximately four times) ambient fluid 20 is drawn into the fluid passageway 220 through the flow path hole 230. As a result, the total flow rate discharged from the injection nozzle 200 is the sum of the amount of the high pressure fluid 10 flowing from the supply chamber 100 and the flow rate 20 sucked through the flow path hole 230. It is about five times the flow rate of the high pressure fluid 10 introduced from

이 때, 후술될 바와 같이, 상기 분사 노즐(200) 내부로 흡인되는 분사 노즐(200) 주위의 유체는 교반 챔버(300)를 지나 1차적으로 정화된 후 다시 정화 장치의 하부(223)로 이동한 유체일 수 있다. 이 경우 상기 분사 노즐(200)은 이미 정화를 거친 후 정화 장치의 하부(223)로 이동한 유체를 상부(221)로 재 분사시켜 정화 대상 유체를 정화 장치 내에서 끊임 없이 순환시킬 수 있으며, 상기 유체의 순환을 위해 별도의 동력 장치를 필요로 하지 않는다.At this time, as will be described later, the fluid around the injection nozzle 200 sucked into the injection nozzle 200 is first purified after passing through the stirring chamber 300 and then moved back to the lower portion 223 of the purification device. It can be one fluid. In this case, the injection nozzle 200 may be continuously circulated in the purification device by re-injecting the fluid moved to the lower part 223 of the purification device to the upper part 221 after purification. There is no need for a separate power unit to circulate the fluid.

뿐만 아니라, 상기 분사 노즐(200)의 유체 통로(220)를 통과하여 상기 분사 노즐(200)의 상부에서 분사된 고속 유체는 서로 마찰을 일으키는데, 상기 마찰 에너지에 의해 유체로부터 정전기가 생성되어 미약한 전류가 발생된다. 또한, 상기 분사 노즐(200)의 상부에서 분사된 고속 유체의 유동에 의해 상기 고속 유체 내에 공간이 생겨 기포가 발생하는 캐비테이션(cavitation)이 발생할 수 있으며, 이 경우 상기 캐비테이션은 초음파를 발생시킨다. 상기 마찰 에너지에 의해 발생한 미약한 전류 또는 캐비테이션에 의해 발생한 초음파는 상기 유체의 성질 또는 상태를 변화시키는데, 특히 초음파는 토르말린 등 전기적 성질을 가진 광석에 추가적으로 전기를 발생시키기도 하고 그 세정 및 살균 효과를 통해 정화 장치의 용기 및 부품들을 항상 깨끗하게 유지시킨다.In addition, the high-speed fluids injected through the fluid passage 220 of the injection nozzle 200 to the upper portion of the injection nozzle 200 causes friction with each other, the static electricity is generated from the fluid by the friction energy is weak Current is generated. In addition, cavitation may occur due to the flow of the high velocity fluid injected from the upper part of the injection nozzle 200 to generate a bubble in the high velocity fluid, in which case the cavitation generates ultrasonic waves. Ultrasonic waves generated by weak currents or cavitations generated by the friction energy change the properties or state of the fluid.In particular, ultrasonic waves generate electricity in addition to ore having electrical properties such as tourmaline, Keep the vessel and parts of the purification unit clean at all times.

다시 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 정화 장치가 포함하는 교반 챔버(300)는 공급 챔버(100)의 상부에 구비되며, 내부에 자유롭게 움직이는 복수의 세라믹 볼(310)을 구비할 수 있다. 이를 위해, 미세한 구 형상의 세라믹 볼(310)이 상기 교반 챔버(300)의 일부에만 채워질 수 있다. 상기 교반 챔버(300)는 그 하단으로 정화 대상 유체가 유입되고 상단으로 상기 유체가 빠져나가게 함과 동시에 그 내부에 복수의 세라믹 볼(310)을 담을 수 있도록 형성된다. 이를 위해, 일 실시예에 따르면, 도 1에 도시된 바와 같이 교반 챔버(300)의 상단 및 하단 각각의 적어도 일부가 메시(310, 320)로 이루어질 수 있다. Referring back to FIGS. 1 and 2, the stirring chamber 300 included in the purification apparatus according to the embodiment of the present invention is provided on the supply chamber 100 and has a plurality of freely moving ceramic balls 310. ) May be provided. To this end, a fine spherical ceramic ball 310 may be filled in only part of the stirring chamber 300. The stirring chamber 300 is formed to contain a plurality of ceramic balls 310 therein while allowing the fluid to be purified to flow into the lower end thereof and the fluid to flow out to the upper end thereof. To this end, according to one embodiment, at least a portion of each of the top and bottom of the stirring chamber 300, as shown in Figure 1 may be made of a mesh (310, 320).

전술한 바와 같이, 상기 세라믹 볼(310)은 교반 챔버(300) 내에서 자유롭게 움직일 수 있는 상태로 상기 교반 챔버(300) 내에 구비된다. 분사 노즐(200)에 의해 상방으로 분사된 고속 유체가 교반 챔버(300)의 하단에서 상단으로 상기 교반 챔버(300)를 통과함에 따라 상기 교반 챔버(300) 내에서 유체의 강제 대류가 발생하며, 상기 교반 챔버(300) 내에 구비된 세라믹 볼(310)은 교반 챔버(300) 내에서 상기 유체와 함께 대류한다. 상기와 같이 교반 챔버(300) 내에서 세라믹 볼(310)이 정화 대상 유체와 함께 대류함으로써, 정화 대상 유체와 복수의 세라믹 볼(310)은 효과적으로 교반될 수 있다.As described above, the ceramic ball 310 is provided in the stirring chamber 300 in a state capable of freely moving in the stirring chamber 300. Forced convection of the fluid occurs in the stirring chamber 300 as the high-speed fluid injected upward by the injection nozzle 200 passes through the stirring chamber 300 from the lower end to the upper end of the stirring chamber 300, The ceramic ball 310 provided in the stirring chamber 300 convections with the fluid in the stirring chamber 300. As described above, the ceramic ball 310 convections with the fluid to be purified in the stirring chamber 300, such that the fluid to be purified and the plurality of ceramic balls 310 may be effectively agitated.

일 실시예에 따르면, 상기 세라믹 볼(310)은 토르말린(tourmaline, 전기석)으로 구성될 수 있다. 또 다른 실시예에 따르면, 상기 세라믹 볼(310)은 각각 복수의 물질 중 하나로 구성됨으로써 전체 세라믹 볼(310)이 서로 다른 두 개 이상의 물질로 각각 이루어진 세라믹 볼(310)이 전체 세라믹 볼(310)로 이루어질 수 있다. 이 때, 상기 복수의 물질 중 하나는 토르말린일 수 있다.According to one embodiment, the ceramic ball 310 may be made of tourmaline (tourmaline). According to another embodiment, the ceramic ball 310 is composed of one of a plurality of materials, so that the ceramic ball 310 is made of two or more different materials, respectively, the total ceramic ball 310 is a total ceramic ball 310 It may be made of. At this time, one of the plurality of substances may be tourmaline.

정화 대상 유체가 교반 챔버(300)를 통과 하면서 상기 세라믹 볼(310)과 교반되는 바, 상기 세라믹 볼(310)이 토르말린으로 이루어진 경우에는 상기 교반 챔버(300)가 일종의 토르말린 필터로서 기능할 수 있다. 토르말린으로 이루어진 상기 세라믹 볼(310)은 정화 대상 유체와 끊임 없이 충돌하고, 상기 유체와의 마찰 에너지(충돌 에너지)에 의해 토르말린에서 순간적으로 전류가 발생한다. 상기 전류는 정화 대상 유체를 순간적으로 전기 분해하여 알칼리 이온화 시켜 정화 대상 유체를 정화 및 정수한다. 이 때, 전술된 또 다른 실시예에 따라 세라믹 볼(310)이 각각 복수의 물질 중 하나로 구성되는 경우, 전술된 토르말린에 의한 정화 작용뿐만 아니라 다른 물질에 의한 정화 작용도 동시에 발생할 수 있다.When the fluid to be purified is stirred with the ceramic ball 310 while passing through the stirring chamber 300, when the ceramic ball 310 is made of tourmaline, the stirring chamber 300 may function as a kind of tourmaline filter. . The ceramic ball 310 made of tourmaline constantly collides with the fluid to be purified, and instantaneous current is generated in the tourmaline by friction energy (collision energy) with the fluid. The current instantly electrolyzes the fluid to be purified and alkali ionizes it to purify and purify the fluid to be purified. At this time, when the ceramic ball 310 is made of one of a plurality of materials, according to another embodiment described above, not only the purifying action by the tourmaline described above but also the purifying action by another material may occur at the same time.

일 실시예에 따르면, 도 2에 도시된 바와 같이 상기 교반 챔버(300)는 그 평행 단면, 즉 평행 단면의 크기가 하부로 갈수록 감소하는 원추형 형상으로 이루어질 수 있다. 상기와 같이 교반 챔버(300)가 원추형으로 이루어진 경우, 상방으로 분사되는 고속 유체에 의한 교반 챔버(300) 내에서의 대류가 더 효과적으로 발생할 수 있으며, 그 결과 상기 유체와 세라믹 볼(310) 사이의 교반 작용 또한 더 효과적으로 발생할 수 있다. 결과적으로, 세라믹 볼(310)과의 충돌에 의한 정화 작용이 더 효과적으로 발생할 수 있다.According to an embodiment, as shown in FIG. 2, the stirring chamber 300 may have a conical shape in which the parallel cross section, that is, the size of the parallel cross section decreases downward. When the stirring chamber 300 has a conical shape as described above, convection in the stirring chamber 300 by the high-speed fluid injected upwards may occur more effectively, and as a result, between the fluid and the ceramic ball 310 may occur. Agitation may also occur more effectively. As a result, the purging action due to the collision with the ceramic ball 310 can occur more effectively.

또 다른 실시예에 따르면, 도 1 또는 도 2에 도시된 것과는 달리, 본 발명의 정화 장치는 복수의 분사 노즐(200) 또는 복수의 교반 챔버(300)를 포함할 수 있다. 이 때, 하나의 교반 챔버(300) 하부에 복수의 분사 노즐(200)이 구비될 수도 있으며, 또는 복수의 교반 챔버(300) 하부에 하나의 분사 노즐(200)이 구비될 수도 있다. 또는, 하부에 각각 하나의 분사 노즐(200)이 구비된 교반 챔버(300)가 복수개 구비될 수도 있다.According to another embodiment, unlike the one shown in FIG. 1 or FIG. 2, the purifying apparatus of the present invention may include a plurality of spray nozzles 200 or a plurality of stirring chambers 300. In this case, a plurality of spray nozzles 200 may be provided under one stirring chamber 300, or one spray nozzle 200 may be provided below the plurality of stirring chambers 300. Alternatively, a plurality of stirring chambers 300 having one spray nozzle 200 at the bottom may be provided.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 정화 장치에 포함된 교반 챔버(300)의 상부에는 토출구가 구비된다. 상기 토출구는 교반 챔버(300)를 통과한 유체의 일부를 배출하고, 상기 토출구를 통해 배출되지 않은 나머지 유체는 하방으로 이동하여 교반 챔버(300)에 재 공급된다. 이 때, 상기 토출구에 별도의 장치를 통해 부압을 가함으로써 정화 대상 유체의 일부가 상기 토출구를 통해 배출될 수 있으며, 상기 하방으로 이동한 나머지 유체는 전술된 바와 같이 도 3에 도시된 바와 같은 분사 노즐(200)의 유로 홀(230)로 흡인되어 분사 노즐(200)의 상부로 재 분사될 수 있다.As shown in Figure 1 and 2, the discharge port is provided in the upper portion of the stirring chamber 300 included in the purification apparatus according to an embodiment of the present invention. The discharge port discharges a part of the fluid that has passed through the stirring chamber 300, and the remaining fluid which is not discharged through the discharge port moves downward and is resupplyed to the stirring chamber 300. At this time, a part of the fluid to be purified may be discharged through the discharge port by applying a negative pressure to the discharge port through a separate device, and the remaining fluid moved downward is injected as shown in FIG. 3 as described above. It may be sucked into the flow path hole 230 of the nozzle 200 and re-injected to the upper portion of the injection nozzle 200.

그 결과, 상기 하방으로 이동한 나머지 유체는 다시 교반 챔버(300)를 통과하며, 상기 교반 챔버(300)에 채워진 세라믹 볼(310)과의 교반 작용을 통해 다시 한번 정화된다. 그에 따라 본 발명의 정화 장치는 복수의 교반 챔버(300)를 직렬로 설치하지 않고 반복적인 정화 작업을 수행할 수 있으며, 간단한 구조의 컴팩트한 구조의 정화 장치를 통해 오염된 유체를 효과적으로 정수 또는 정화할 수 있다.As a result, the remaining fluid moved downward again passes through the stirring chamber 300, and once again purified through the stirring action with the ceramic ball 310 filled in the stirring chamber 300. Accordingly, the purification apparatus of the present invention can perform repetitive purification operations without installing a plurality of stirring chambers 300 in series, and effectively purifies or purifies contaminated fluid through a compact structure purification apparatus. can do.

일 실시예에 따르면, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 정화 장치가 포함하는 교반 챔버(300)의 상단과 토출구의 하단은 일정 거리 이상 이격될 수 있다. 토출구가 교반 챔버(300) 바로 위에 형성되지 않고, 교반 챔버(300)의 상단으로부터 일정 거리 이상 이격되어 형성됨으로써 교반 챔버(300)의 상단과 토출구의 하단 사이에는 일정 공간(이하, 밸런스 챔버(500))이 형성될 수 있다.According to one embodiment, as shown in Figure 1 and 2, the upper end of the stirring chamber 300 and the lower end of the discharge port included in the purifying apparatus of the present invention may be spaced more than a predetermined distance. The discharge port is not formed directly on the stirring chamber 300, and is formed to be spaced apart from the upper end of the stirring chamber 300 by a predetermined distance or more, so that a predetermined space (hereinafter, the balance chamber 500 is disposed between the upper end of the stirring chamber 300 and the lower end of the discharge opening). )) Can be formed.

상기 밸런스 챔버(500)에서는 교반 챔버(300)를 통과한 고속 유체가 와류현상을 일으킴으로써 교반을 반복하여 활성화 되며, 상기 작용에 의해 분사 노즐(200)을 통과 후 유체 내에 발생한 미약한 전류가 정류(rectification)될 수 있다. 상기와 같이 교반 챔버(300)를 통과한 유체는 밸런스 챔버(500)에서 다시 한번 교반 되고, 밸런스 챔버(500)에서 교반된 상기 유체 중 일부는 토출구를 통해 정화 장치 외부로 배출되며, 나머지는 다시 정화 장치의 하방으로 이동하여 재 순환될 수 있다. 유체 내의 미약한 전류가 정화 장치의 하방으로 이동하기 전에 밸런스 챔버(500)에서 정류되기 때문에, 분사 노즐(200)에 의해 재 분사되더라도 충돌 및 마찰 에너지에 의해 미약한 전류가 또 다시 효과적으로 생성될 수 있다.In the balance chamber 500, the high speed fluid passing through the stirring chamber 300 causes vortexing to be repeatedly activated, and a weak current generated in the fluid is rectified after passing through the injection nozzle 200 by the above action. can be rectified. As described above, the fluid passing through the stirring chamber 300 is stirred once again in the balance chamber 500, and some of the fluid stirred in the balance chamber 500 is discharged to the outside of the purification apparatus through the discharge port, and the rest is again It may be recirculated by moving downward of the purification device. Since the weak current in the fluid is rectified in the balance chamber 500 before moving downward of the purifying device, even if re-injected by the spray nozzle 200, the weak current can be effectively produced again by collision and friction energy. have.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 정화 장치를 도 4 및 도 5를 참조하여 설명하도록 한다. 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 본 발명의 정화 장치는 공급 챔버(100), 촉매 챔버(600), 분사 노즐(200) 및 토출구를 포함한다. 이 중 공급 챔버(100), 촉매 챔버(600) 및 토출구의 구조 및 기능은 전술된 바와 같은 바, 아래에서는 촉매 챔버(600)에 대해서만 설명하도록 한다.Hereinafter, a purification apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5. 4 and 5, the purification apparatus of the present invention according to the present embodiment includes a supply chamber 100, a catalyst chamber 600, an injection nozzle 200, and a discharge port. The structure and function of the supply chamber 100, the catalyst chamber 600, and the discharge port are as described above, and only the catalyst chamber 600 will be described below.

촉매 챔버(600)는 내부에 적어도 한 종류의 광석(610)을 포함한다. 일 실시예에 따르면, 상기 광석(610)은 흑요석(obsidian)일 수 있다. 본 실시예에서는, 분사 노즐(200)의 상단에서 분사된 고속 유체가 촉매 챔버(600)를 통과하면서 상기 광석(610)과 마찰한다. 이 때 흑요석은 오염된 유체로부터 유기물이나 중금속과 같은 유해물질을 흡착하며, 흑요석의 상기 흡착 작용에 의해 유체가 정화된다. 전술된 바와 같은 분사 노즐(200)에 의해 토출된 후의 유체의 유동에 의한 마찰 에너지 또는 캐비테이션에 의한 충돌 에너지에 의해 상기 유체에 생성되는 미약한 전류를 통한 정화 작용은 본 실시예에서도 동일하게 발생할 수 있으며, 상기 흑요석의 흡착 작용에 의한 정화는 상기 미약한 전류에 의한 정화 작용에 대해 추가적으로 작용한다.The catalyst chamber 600 includes at least one kind of ore 610 therein. According to one embodiment, the ore 610 may be obsidian. In this embodiment, the high-speed fluid injected from the upper end of the injection nozzle 200 rubs with the ore 610 while passing through the catalyst chamber 600. At this time, obsidian adsorbs harmful substances such as organic matter and heavy metals from the contaminated fluid, and the fluid is purified by the adsorption action of obsidian. The purifying action through the weak current generated in the fluid by the frictional energy of the flow of the fluid after being discharged by the injection nozzle 200 as described above or the collision energy of the cavitation can occur in this embodiment as well. Purification by the adsorption action of the obsidian additionally acts on the purification action by the weak current.

뿐만 아니라, 고속 유체가 촉매 챔버(600)를 통과하면서 상기 광석(610)과의 마찰에 의해 광석(610) 내에 녹아 있는 미네랄이 유체로 녹아 나올 수 있다. 이 경우, 본 발명의 정화 장치를 통과한 유체는 정화됨과 동시에 풍부한 미네랄을 함유할 수 있다. 또한, 일 실시예에 따라 본 발명의 정화 장치의 촉매 챔버(600) 내에 두 종류 이상의 광석(610)이 포함된 경우, 각 광석(610)의 종류에 따른 서로 다른 미네랄을 함유할 수 있다.In addition, minerals dissolved in the ore 610 may be melted into the fluid by friction with the ore 610 while the high-speed fluid passes through the catalyst chamber 600. In this case, the fluid that has passed through the purifying device of the present invention can be purified and contain abundant minerals. In addition, when two or more types of ores 610 are included in the catalyst chamber 600 of the purifying apparatus of the present invention, the minerals may be different according to the type of each ore 610.

전술된 교반 챔버(300)와는 달리 촉매 챔버(600) 내에서는 유체의 대류 작용이 수반되지 않기 때문에, 촉매 챔버(600)의 형상에는 제한이 없다. 단, 분사 노즐(200)로부터 분사된 고속 유체를 통과하게 함과 동시에 상기 광석(610)들을 받치기 위해서, 상기 촉매 챔버(600)의 하단의 적어도 일부는 메시(620)로 이루어질 수 있다. 이와 함께, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 촉매 챔버(600)의 상부는 개방되어 있을 수 있다. Unlike the stirring chamber 300 described above, since the convection action of the fluid is not accompanied in the catalyst chamber 600, the shape of the catalyst chamber 600 is not limited. However, at least a portion of the lower end of the catalyst chamber 600 may be formed of a mesh 620 so as to pass through the high-speed fluid injected from the injection nozzle 200 and support the ore 610. 4 and 5, the upper portion of the catalyst chamber 600 may be open.

또한, 또 다른 실시예에 따르면, 촉매 챔버(600)를 통과한 유체가 교반되어 상기 유체 내의 미약한 전류가 정류될 수 있는 밸런스 챔버(500)를 형성하도록 상기 촉매 챔버(600)의 상단과 상기 토출구의 하단은 일정 거리 이상 이격될 수 있다.Further, according to another embodiment, the top of the catalyst chamber 600 and the upper portion of the catalyst chamber 600 to form a balance chamber 500 through which the fluid passing through the catalyst chamber 600 is agitated to rectify the weak current in the fluid. The lower end of the discharge port may be spaced more than a predetermined distance.

또 다른 실시예에 따르면, 본 발명의 정화 장치가 교반 챔버(300)를 구비한 경우에 따른 일 실시예에서와 마찬가지로 본 실시예에 따른 정화 장치는 복수의 분사 노즐(200) 또는 복수의 촉매 챔버(600)를 포함할 수 있다. 이 때, 하나의 촉매 챔버(600) 하부에 복수의 분사 노즐(200)이 구비될 수도 있으며, 또는 복수의 촉매 챔버(600) 하부에 하나의 분사 노즐(200)이 구비될 수도 있다. 또는, 하부에 각각 하나의 분사 노즐(200)이 구비된 촉매 챔버(600)가 복수개 구비될 수도 있다.According to another embodiment, the purifying apparatus according to the present embodiment may include a plurality of injection nozzles 200 or a plurality of catalyst chambers, as in the exemplary embodiment in which the purifying apparatus of the present invention includes the stirring chamber 300. 600 may be included. In this case, a plurality of injection nozzles 200 may be provided under one catalyst chamber 600, or one injection nozzle 200 may be provided under a plurality of catalyst chambers 600. Alternatively, a plurality of catalyst chambers 600 having one injection nozzle 200 at the bottom may be provided.

상기 촉매 챔버(600) 및 밸런스 챔버(500)를 통과한 고속 유체 중 일부는 토출구를 통해 외부로 배출되고, 나머지는 흐름에 의해 하방으로 이동 후 다시 분사 노즐(200)에 의해 상방으로 분사됨으로써, 정화 장치 내에서 필터의 중복 설계를 피하면서 정수 및 정화 효과를 제고할 수 있다.Some of the high-speed fluid passing through the catalyst chamber 600 and the balance chamber 500 is discharged to the outside through the discharge port, the rest is moved downward by the flow and then injected upward by the injection nozzle 200 again, The purification and purification effect can be improved while avoiding redundant design of the filter in the purification device.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

100: 공급 챔버 110: 유입구
200: 분사 노즐 220: 유체 통로
230: 유로 홀
300: 교반 챔버 310: 세라믹 볼
400: 토출구
500: 밸런스 챔버
600: 촉매 챔버 610: 광석100: supply chamber 110: inlet
200: injection nozzle 220: fluid passage
230: Euro hole
300: stirring chamber 310: ceramic ball
400: discharge port
500: balance chamber
600: catalyst chamber 610: ore

Claims (13)

고압의 유체가 공급되는 유입구가 형성된 공급 챔버;
상기 공급 챔버 상부에 구비되고, 일부에 복수의 세라믹 볼이 채워진 교반 챔버;
상기 고압의 유체를 상부로 분사하여 상기 교반 챔버에 공급하는 분사 노즐; 및
상기 교반 챔버 상부에 구비되어, 상기 교반 챔버를 통과한 유체의 일부를 배출하는 토출구를 포함하되,
상기 교반 챔버를 통과한 유체의 대부분은 하방으로 이동하여 상기 교반 챔버에 재 공급되는 정화 장치.A supply chamber in which an inlet for supplying a high pressure fluid is formed;
A stirring chamber provided on the supply chamber and filled with a plurality of ceramic balls;
An injection nozzle for supplying the high pressure fluid to the stirring chamber; And
It is provided on the stirring chamber, including a discharge port for discharging a portion of the fluid passing through the stirring chamber,
Most of the fluid passing through the stirring chamber is moved downward to be supplied back to the stirring chamber. 제1 항에 있어서,
상기 교반 챔버의 평행 단면의 크기는 상기 교반 챔버의 하부에서 감소하는 정화 장치.The method according to claim 1,
Purification apparatus, wherein the size of the parallel cross section of the stir chamber decreases at the bottom of the stir chamber. 제 1 항에 있어서,
상기 복수의 세라믹 볼은 토르말린으로 구성된 정화 장치.The method of claim 1,
The plurality of ceramic balls are tourmaline purification device. 제 1 항에 있어서,
상기 복수의 세라믹 볼은 각각 복수의 물질 중 하나로 구성된 정화 장치.The method of claim 1,
And the plurality of ceramic balls are each made of one of a plurality of materials. 제 1 항에 있어서,
상기 교반 챔버의 상단과 상기 토출구의 하단은 일정 거리 이상 이격된 정화 장치.The method of claim 1,
The upper end of the stirring chamber and the lower end of the discharge port is a purification device spaced more than a predetermined distance. 제 1 항에 있어서,
상기 교반 챔버의 상단 및 하단 각각의 적어도 일부는 메시로 이루어지는 정화 장치.The method of claim 1,
At least a portion of each of the top and bottom of the stirring chamber is made of a mesh. 고압의 유체가 공급되는 유입구가 형성된 공급 챔버;
상기 공급 챔버 상부에 구비되고, 내부에 적어도 한 종류의 광석을 포함하는 촉매 챔버;
상기 고압의 유체를 상부로 분사하여 상기 촉매 챔버에 공급하는 분사 노즐; 및
상기 촉매 챔버 상부에 구비되어, 상기 촉매 챔버를 통과한 유체의 일부를 배출하는 토출구를 포함하되,
상기 촉매 챔버를 통과한 유체의 대부분은 하방으로 이동하여 상기 촉매 챔버에 재 공급되는 정화 장치.A supply chamber in which an inlet for supplying a high pressure fluid is formed;
A catalyst chamber provided above the supply chamber and including at least one kind of ore therein;
An injection nozzle for supplying the high pressure fluid to the catalyst chamber; And
Is provided above the catalyst chamber, including a discharge port for discharging a portion of the fluid passing through the catalyst chamber,
Most of the fluid that has passed through the catalyst chamber is moved downward and re-supplied to the catalyst chamber. 제 7 항에 있어서,
상기 광석은 흑요석을 포함하는 정화 장치.The method of claim 7, wherein
The ore is a purification device comprising obsidian. 제 7 항에 있어서,
상기 촉매 챔버의 상단과 상기 토출구의 하단은 일정 거리 이상 이격된 정화 장치.The method of claim 7, wherein
The upper end of the catalyst chamber and the lower end of the discharge port is a purification device spaced at least a predetermined distance. 제 7 항에 있어서,
상기 촉매 챔버의 하단의 적어도 일부는 메시로 이루어진 정화 장치.The method of claim 7, wherein
At least a portion of the bottom of the catalyst chamber is made of a mesh. 제 1 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 하방으로 이동한 유체는 상기 분사 노즐을 통과하여 상부로 재 분사되는 정화 장치.8. The method of claim 1 or 7,
The downwardly moving fluid is re-injected upward through the injection nozzle. 제 1 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 분사 노즐은
상기 분사 노즐의 상부에서 단면적의 넓이가 증가하는 유체 통로, 및
상기 분사 노즐의 하부를 평행으로 관통하여 상기 유체 통로와 연결되는 복수의 유로 홀을 포함하는 정화 장치.8. The method of claim 1 or 7,
The injection nozzle
A fluid passage in which an area of the cross-sectional area increases in the upper portion of the injection nozzle, and
And a plurality of flow path holes penetrating the lower portion of the injection nozzle in parallel and connected to the fluid passage. 제 12 항에 있어서,
상기 하방으로 이동한 유체는 상기 유로 홀을 통과하여 상기 유체 통로의 상단부로 분사되는 정화 장치.13. The method of claim 12,
And the fluid moved downwardly is injected into the upper end of the fluid passage through the passage hole.
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