KR20130123411A - Quantum-yield measurement device - Google Patents

Quantum-yield measurement device Download PDF

Info

Publication number
KR20130123411A
KR20130123411A KR1020137016692A KR20137016692A KR20130123411A KR 20130123411 A KR20130123411 A KR 20130123411A KR 1020137016692 A KR1020137016692 A KR 1020137016692A KR 20137016692 A KR20137016692 A KR 20137016692A KR 20130123411 A KR20130123411 A KR 20130123411A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
sample
integrating sphere
opening
measured
Prior art date
Application number
KR1020137016692A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101790825B1 (en
Inventor
가즈야 이구치
Original Assignee
하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 filed Critical 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
Publication of KR20130123411A publication Critical patent/KR20130123411A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101790825B1 publication Critical patent/KR101790825B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06—Illumination; Optics
    • G01N2201/065—Integrating spheres

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Optical Measuring Cells (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Abstract

양자수율 측정장치(1)는 시료(S)를 수용하기 위한 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)에 여기광(L1)을 조사하고, 시료(S) 및 시료 수용부(3)의 적어도 한쪽으로부터 방출되는 피측정광(L2)을 검출하는 것에 의해, 시료(S)의 양자수율을 측정한다. 양자수율 측정장치(1)는 시료 수용부(3)가 내부에 배치되는 암상(5)과, 암상(5)에 접속된 광출사부(7)를 가지며, 여기광(L1)을 발생시키는 광발생부와, 암상(5)에 접속된 광입사부(11)를 가지며, 피측정광(L2)을 검출하는 광검출부와, 여기광(L1)을 입사시키는 광입사개구(15) 및 피측정광(L2)을 출사시키는 광출사개구(16)를 가지며, 암상(5) 내에 배치된 적분구(14)와, 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태 및 시료 수용부(3)가 적분구(14) 외에 위치하는 제2 상태의 각각 상태가 되도록, 암상(5) 내에서 적분구(14)를 이동시켜, 제1 상태에서는 광입사개구(15)를 광출사부(7)에 대향시키고, 또한 광출사개구(16)를 광입사부(11)에 대향시키는 이동기구(30)를 구비한다.The quantum yield measuring apparatus 1 irradiates the excitation light L1 to the sample accommodating part 3 of the sample cell 2 for accommodating the sample S, and thus, of the sample S and the sample accommodating part 3. The quantum yield of the sample S is measured by detecting the measurement target light L2 emitted from at least one side. The quantum yield measuring apparatus 1 has a dark image 5 in which the sample accommodating portion 3 is disposed therein and a light output portion 7 connected to the dark image 5 to generate excitation light L1. A light detecting portion for detecting the light to be measured L2, a light incidence opening 15 for injecting the excitation light L1, and the light to be measured; First state and sample having a light exit opening 16 for emitting light L2, the integrating sphere 14 disposed in the rock image 5, and the sample accommodating portion 3 located in the integrating sphere 14; The integrating sphere 14 is moved within the rock image 5 so that the receiving portion 3 is in each of the second states located outside the integrating sphere 14, and the light incidence opening 15 is lighted in the first state. The moving mechanism 30 which faces the output part 7 and opposes the light output opening 16 to the light entrance part 11 is provided.

Figure P1020137016692
Figure P1020137016692

Description

양자수율 측정장치 {QUANTUM-YIELD MEASUREMENT DEVICE}Quantum Yield Measuring Device {QUANTUM-YIELD MEASUREMENT DEVICE}

본 발명은 적분구(積分球)를 이용하여 발광재료 등의 양자수율을 측정하는 양자수율 측정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a quantum yield measuring apparatus for measuring quantum yield of light emitting materials and the like using an integrating sphere.

종래의 양자수율 측정장치로서, 발광재료 등의 시료에 여기광(勵起光)을 조사하고, 시료로부터 방출된 형광을 적분구 내에서 다중 반사시켜 검출하는 것에 의해, 시료의 양자수율(「발광재료에 흡수된 여기광의 포톤(photon) 수」에 대한 「발광재료로부터 방출된 형광의 포톤 수」의 비율)을 측정하는 기술이 알려져 있다(예를 들면 특허문헌 1 ~ 3 참조).In a conventional quantum yield measuring device, a quantum yield ("luminescence") of a sample is obtained by irradiating excitation light to a sample such as a light emitting material, and detecting the fluorescence emitted from the sample by reflecting it in the integrating sphere in a multiplexed manner. The technique of measuring "the ratio of the photon number of the fluorescence emitted from the light emitting material" with respect to the photon number of the excitation light absorbed by the material is known (for example, refer patent documents 1-3).

이와 같은 기술에서는, 시료가 형광 성분에 대해서 광흡수성을 가지고 있으면, 형광이 적분구 내에서 다중 반사하고 있을 때, 형광의 일부가 시료에 흡수되는 경우가 있다(이 현상을 이하 「재흡수」라고 함). 그와 같은 경우, 형광의 포톤 수가 진정한 값(즉, 발광재료로부터 실제로 방출된 형광의 포톤 수)보다도 낮게 검출되게 된다. 이 때문에, 별도로, 형광 광도계를 이용하여, 재흡수가 생기지 않는 상태에서 시료로부터 방출되는 형광의 강도를 측정하고, 그에 근거하여 앞의 형광의 포톤 수를 보정하여 양자수율을 구하는 방법이 제안되어 있다(예를 들면 비특허문헌 1 참조).In such a technique, if the sample has light absorbency with respect to the fluorescent component, a part of the fluorescence may be absorbed by the sample when the fluorescence is multiplely reflected in the integrating sphere (this phenomenon is hereinafter referred to as "resorption"). box). In such a case, the photon number of fluorescence is detected to be lower than the true value (i.e., the photon number of fluorescence actually emitted from the light emitting material). For this reason, a method of separately measuring the intensity of fluorescence emitted from a sample in a state in which no reabsorption occurs by using a fluorescence photometer and correcting the photon number of the preceding fluorescence has been proposed. (For example, refer nonpatent literature 1).

[특허문헌 1] 일본국 특개2007-086031호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-086031 [특허문헌 2] 일본국 특개2009-074866호 공보[Patent Document 2] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-074866 [특허문헌 3] 일본국 특개2010-151632호 공보[Patent Document 3] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-151632

[비특허문헌 1] CHRISTIANWURTH 외 7명, 「Evaluation of a Commercial Integrating Sphere Setup for the Determination of Absolute Photoluminescence Quantum Yields of Dilute Dye Solutions」, APPLIED SPECTROSCOPY, (미국), Volume 64, Number 7, 2010, p.733-741[Non-Patent Document 1] CHRISTIANWURTH et al., 7, `` Evaluation of a Commercial Integrating Sphere Setup for the Determination of Absolute Photoluminescence Quantum Yields of Dilute Dye Solutions '', APPLIED SPECTROSCOPY, (US), Volume 64, Number 7, 2010, p. 733-741

상술한 바와 같이, 적분구를 이용하여 시료의 양자수율을 정확하게 측정하기 위해서는, 적분구를 구비한 장치와는 별도로, 형광 광도계를 이용할 필요가 있는 등, 번잡한 작업을 필요로 한다.As described above, in order to accurately measure the quantum yield of a sample by using the integrating sphere, it is necessary to use a fluorescence photometer separately from the apparatus equipped with the integrating sphere, which requires complicated work.

그래서, 본 발명은 시료의 양자수율을 정확하고 또한 효율 좋게 측정할 수 있는 양자수율 측정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, an object of the present invention is to provide a quantum yield measuring apparatus capable of accurately and efficiently measuring the quantum yield of a sample.

본 발명의 일관점의 양자수율 측정장치는, 시료를 수용하기 위한 시료 셀의 시료 수용부에 여기광을 조사하고, 시료 및 시료 수용부의 적어도 한쪽으로부터 방출되는 피측정광을 검출하는 것에 의해, 시료의 양자수율을 측정하는 양자수율 측정장치로서, 시료 수용부가 내부에 배치되는 암상(暗箱)과, 암상에 접속된 광출사부를 가지며, 여기광을 발생시키는 광발생부와, 암상에 접속된 광입사부를 가지며, 피측정광을 검출하는 광검출부와, 여기광을 입사시키는 광입사개구 및 피측정광을 출사시키는 광출사개구를 가지며, 암상 내에 배치된 적분구(積分球)와, 시료 수용부가 적분구 내(內)에 위치하는 제1 상태 및 시료 수용부가 적분구 외(外)에 위치하는 제2 상태의 각각 상태가 되도록, 암상 내에서 적분구를 이동시켜, 제1 상태에서는 광입사개구를 광출사부에 대향시키고, 또한 광출사개구를 광입사부에 대향시키는 이동기구를 구비한다.In the quantum yield measuring apparatus of the present invention, the sample is provided by irradiating excitation light to a sample accommodating portion of a sample cell for accommodating a sample, and detecting a light to be measured emitted from at least one of the sample and the sample accommodating portion. A quantum yield measuring apparatus for measuring the quantum yield of a light source, comprising: a dark image having a sample accommodating portion therein, a light output portion connected to a dark phase, a light generating portion for generating excitation light, and a light incident light connected to the dark phase And a light detector for detecting the light to be measured, a light entrance opening for injecting excitation light, and a light exit opening for emitting the light to be measured, the integrating sphere disposed in the rock image, and the sample accommodating part. The integrating sphere is moved within the rock so that the first state located in the sphere and the sample receiving portion are in each of the second state located outside the integrating sphere. In the first state, the integrating sphere is moved.Opposite to the exit part and, further comprising a moving mechanism for opposing a light exit opening on the light entrance portion.

이 양자수율 측정장치에서는, 시료 셀의 시료 수용부가 적분구 내에 위치하는 제1 상태 및 시료 셀의 시료 수용부가 적분구 외에 위치하는 제2 상태의 각각 상태가 되도록, 암상 내에서 적분구가 이동기구에 의해서 이동하게 된다. 이것에 의해, 제2 상태에서 형광의 스펙트럼(형광 성분(이하, 동일함))을 직접(적분구 내에서의 다중 반사 없이) 검출하여, 제1 상태에서 검출된 형광의 스펙트럼을 제2 상태에서 검출된 형광의 스펙트럼에 근거하여 보정할 수 있다. 따라서, 이 양자수율 측정장치에 의하면, 시료의 양자수율을 정확하고 또한 효율 좋게 측정하는 것이 가능하게 된다.In this quantum yield measuring apparatus, the integrating sphere is moved in the dark so that the sample receiving portion of the sample cell is in a first state in which the sample receiving portion is located in the integrating sphere and in a second state in which the sample receiving portion of the sample cell is located outside the integrating sphere. Is moved by. Thereby, the spectrum of the fluorescence (fluorescence component (hereinafter identical)) in the second state is detected directly (without multiple reflections in the integrating sphere), so that the spectrum of the fluorescence detected in the first state is detected in the second state. Correction can be made based on the spectrum of the detected fluorescence. Therefore, according to this quantum yield measuring apparatus, it becomes possible to measure the quantum yield of a sample accurately and efficiently.

여기서, 이동기구는 적분구가 고정된 스테이지, 스테이지에 고정된 너트, 너트에 나사맞춤된 이송나사축 및 이송나사축을 회전시키는 구동원을 가져도 된다. 이것에 의하면, 암상 내에서 적분구를 원활히 이동시킬 수 있다.Here, the moving mechanism may have a stage on which the integrating sphere is fixed, a nut fixed to the stage, a feed screw shaft screwed to the nut, and a drive source for rotating the feed screw shaft. According to this, the integrating sphere can be smoothly moved in the rock.

이 때, 너트는 이송나사축의 축선방향에서 보았을 경우에, 스테이지에서 광입사개구로부터 광출사개구에 이르는 제1 영역 및 제2 영역 가운데, 광입사개구로부터 광출사개구에 이르는 거리가 짧은 제1 영역에 고정되어 있어도 된다. 이것에 의하면, 시료 셀의 시료 수용부가 적분구 내에 위치하는 제1 상태에 있어서, 광입사개구를 광출사부에, 또, 광출사개구를 광입사부에, 각각 정밀도 좋게 대향시킬 수 있다.At this time, when the nut is viewed in the axial direction of the feed screw shaft, the first region and the second region from the light incidence opening to the light output opening on the stage are shorter from the light incidence opening to the light output opening. It may be fixed to. According to this, in the 1st state in which the sample accommodating part of a sample cell is located in an integrating sphere, it can oppose a light entrance opening to a light output part, and a light output opening to a light entrance part, respectively, with high precision.

또, 이동기구는 스테이지에 고정된 슬리브 및 슬리브에 삽입 통과된 가이드축을 더 가져도 된다. 이것에 의하면, 암상 내에서 적분구를 보다 원활히 이동시킬 수 있다.The moving mechanism may further have a sleeve fixed to the stage and a guide shaft inserted into the sleeve. According to this, the integrating sphere can be moved more smoothly in the rock.

이 때, 적분구에는 다른 시료를 지지하기 위한 시료대가 착탈 가능하게 장착되어 있고, 슬리브는 가이드축의 축선방향에서 보았을 경우에, 광입사개구 또는 광출사개구를 사이에 두고 이송나사축과 대향하도록 제2 영역에 고정되어 있어도 된다. 이것에 의하면, 가이드축이 광입사개구를 사이에 두고 이송나사축과 대향하고 있는 경우에는 광입사개구와 반대 측으로부터, 또, 가이드축이 광출사개구를 사이에 두고 이송나사축과 대향하고 있는 경우에는 광출사개구와 반대 측으로부터, 각각 적분구에 액세스하기 쉬워져, 적분구에 대해서 시료대를 용이하게 착탈할 수 있다.At this time, the integrating sphere is detachably mounted with a sample stage for supporting other specimens, and the sleeve is disposed so as to face the feed screw shaft with the light incidence opening or the light output opening therebetween when viewed from the axial direction of the guide shaft. It may be fixed to two areas. According to this, when the guide shaft faces the feed screw shaft through the light inlet opening, the guide shaft faces the feed screw shaft from the side opposite to the light inlet opening. In this case, the integrating sphere can be easily accessed from the side opposite to the light exit opening, and the sample stage can be easily attached to and removed from the integrating sphere.

또, 제1 상태에서의 적분구의 제1 위치 및 제2 상태에서의 적분구의 제2 위치의 각각의 위치를 검출하는 위치검출기를 더 구비하고, 이동기구는 위치검출기에 의해서 제1 위치 또는 제2 위치가 검출되었을 때에 적분구를 정지시켜도 된다. 이것에 의하면, 시료 셀의 시료 수용부가 적분구 내에 위치하는 제1 상태 및 시료 셀의 시료 수용부가 적분구 외에 위치하는 제2 상태의 각각을 확실히 재현할 수 있다.Moreover, the position detector which detects each position of the 1st position of an integrating sphere in a 1st state, and the 2nd position of an integrating sphere in a 2nd state is further provided, The moving mechanism is a 1st position or a 2nd position by a position detector. When the position is detected, the integrating sphere may be stopped. According to this, each of the 1st state in which the sample accommodating part of a sample cell is located in an integrating sphere and the 2nd state in which the sample accommodating part of a sample cell is located out of an integrating sphere can be reliably reproduced.

또, 광출사개구에는 피측정광을 죄는 제1 조리개부재가 마련되어 있고, 광입사부에는 피측정광을 죄는 제2 조리개부재가 마련되어 있어도 된다. 이와 같이, 2단계로 조리개부재를 마련함으로써, 광검출부에 피측정광을 적정한 각도로 입사시켜, 광검출부 내에서 미광이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 적분구의 광출사개구에 제1 조리개부재를 마련함으로써, 광출사개구를 통하여 적분구 내에 이물이 침입하는 것을 방지할 수 있다.The light exit opening may be provided with a first aperture member for clamping the light to be measured, and the light incident portion may be provided with a second aperture member for clamping the light to be measured. In this manner, by providing the diaphragm member in two steps, the light to be measured is incident on the photodetector at an appropriate angle, whereby stray light can be suppressed from occurring in the photodetector. Further, by providing the first aperture member at the light exit opening of the integrating sphere, foreign matter can be prevented from entering the integrating sphere through the light exit opening.

본 발명에 의하면, 시료의 양자수율을 정확하고 또한 효율 좋게 측정할 수 있다.According to the present invention, the quantum yield of a sample can be measured accurately and efficiently.

도 1은 본 발명의 일실시형태의 양자수율 측정장치의 평면도이다.
도 2는 도 1의 암상의 내부 및 그 주변 부분의 확대도이다.
도 3은 도 2의 III-III선에 따른 단면도이다.
도 4는 다른 시료에 여기광이 조사되어 있는 상태에서의 단면도이다.
도 5는 도 2의 V-V선에 따른 단면도이다.
도 6은 도 1의 양자수율 측정장치를 이용하여 양자수율을 측정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 도 1의 양자수율 측정장치를 이용하여 양자수율을 측정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 도 1의 양자수율 측정장치를 이용하여 양자수율을 측정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 도 1의 양자수율 측정장치를 이용하여 양자수율을 측정하는 방법을 설명하기 위한 그래프이다.1 is a plan view of a quantum yield measuring apparatus of one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of the interior and peripheral portions of the rock image of FIG. 1. FIG.
3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in Fig.
It is sectional drawing in the state in which the excitation light was irradiated to the other sample.
5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 2.
6 is a view for explaining a method of measuring the quantum yield using the quantum yield measuring apparatus of FIG.
FIG. 7 is a diagram for describing a method of measuring quantum yield using the quantum yield measuring apparatus of FIG. 1.
FIG. 8 is a diagram for describing a method of measuring quantum yield using the quantum yield measuring apparatus of FIG. 1.
9 is a graph illustrating a method of measuring quantum yield using the quantum yield measuring apparatus of FIG. 1.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해서, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 또한, 각 도면에서 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 부여하고, 중복하는 설명을 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same or equivalent part in each drawing, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

도 1은 본 발명의 일실시형태의 양자수율 측정장치의 평면도이며, 도 2는 도 1의 암상의 내부 및 그 주변 부분의 확대도이다. 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 양자수율 측정장치(1)는 시료(S)를 수용하기 위한 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)에 여기광(L1)을 조사하고, 시료(S) 및 시료 수용부(3)의 적어도 한쪽으로부터 방출되는 피측정광(L2)을 검출하는 것에 의해, 시료(S)의 양자수율(발광 양자수율, 형광 양자수율, 인광 양자수율 등)을 측정하는 장치이다. 시료(S)는, 예를 들면 유기EL 등의 발광 디바이스에 이용되는 발광재료 등이 소정의 용매에 녹여진 것이다. 시료 셀(2)은, 예를 들면 합성 석영으로 이루어지며, 시료 수용부(3)는, 예를 들면 사각기둥 모양의 용기로 되어 있다.1 is a plan view of a quantum yield measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of an inner portion and a peripheral portion thereof of the rock image of FIG. 1. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the quantum yield measuring apparatus 1 irradiates the excitation light L1 to the sample accommodating portion 3 of the sample cell 2 for accommodating the sample S, The quantum yield (light emission quantum yield, fluorescence quantum yield, phosphorescence quantum yield, etc.) of the sample S is measured by detecting the light to be measured L2 emitted from at least one of S) and the sample accommodating portion 3. Device. In the sample S, for example, a light emitting material used for a light emitting device such as an organic EL is dissolved in a predetermined solvent. The sample cell 2 consists of synthetic quartz, for example, and the sample accommodating part 3 becomes a container of a square pillar shape, for example.

양자수율 측정장치(1)는 시료 수용부(3)가 내부에 배치되는 암상(5)을 구비하고 있다. 암상(5)은 금속으로 이루어지는 직방체(直方體) 모양의 상자체로서, 외부로부터의 광의 침입을 차단한다. 암상(5)의 내면(5a)에는 여기광(L1) 및 피측정광(L2)을 흡수하는 재료에 의한 도장(塗裝) 등이 시행되어 있다.The quantum yield measuring apparatus 1 is provided with the rock image 5 in which the sample accommodating part 3 is arrange | positioned inside. The dark image 5 is a rectangular parallelepiped box body made of metal, and blocks intrusion of light from the outside. The inner surface 5a of the rock image 5 is coated with a material that absorbs the excitation light L1 and the light to be measured L2.

암상(5)의 한쪽의 측벽에는 광발생부(6)의 광출사부(7)가 접속되어 있다. 광발생부(6)는, 예를 들면 크세논 램프(xenon lamp)나 분광기 등에 의해 구성된 여기광원으로서, 여기광(L1)을 발생시킨다. 여기광(L1)은 광출사부(7)에 마련된 렌즈(8)에 의해서 콜리메이트(collimate)되어, 암상(5) 내로 입사한다.The light output part 7 of the light generation part 6 is connected to one side wall of the arm image 5. The light generator 6 generates excitation light L1 as an excitation light source configured by, for example, a xenon lamp, a spectroscope, or the like. The excitation light L1 is collimated by the lens 8 provided in the light output unit 7 and enters into the dark image 5.

암상(5)의 후벽에는 광검출부(9)의 광입사부(11)가 접속되어 있다. 광검출부(9)는, 예를 들면 분광기나 CCD 센서 등에 의해 구성된 멀티채널 검출기로서, 피측정광(L2)을 검출한다. 피측정광(L2)은 광입사부(11)에 마련된 조리개부재(제2 조리개부재)(12)의 아퍼쳐(aperture)인 개구(12a)에서 좁혀져, 슬릿(13)을 통하여 광검출부(9) 내로 입사한다.The light incidence portion 11 of the light detection portion 9 is connected to the rear wall of the rock image 5. The photodetector 9 detects the light to be measured L2 as a multichannel detector configured by, for example, a spectroscope or a CCD sensor. The light to be measured L2 is narrowed in the opening 12a, which is an aperture of the aperture member (second aperture member) 12 provided in the light incident portion 11, and is light-detected through the slit 13. Enters into).

암상(5) 내에는 적분구(14)가 배치되어 있다. 적분구(14)는 그 내면(14a)에 황산 바륨 등의 고확산 반사제의 도포가 시행되거나, 혹은 PTFE나 스펙트라론(spectraron) 등의 재료로 형성되어 있다. 적분구(14)에는 여기광(L1)을 입사시키는 광입사개구(15) 및 피측정광(L2)을 출사시키는 광출사개구(16)가 형성되어 있다. 여기광(L1)은 암상(5) 내에서 렌즈(61)에 의해서 집광되어, 광입사개구(15)를 통하여 적분구(14) 내로 입사한다. 피측정광(L2)은 광출사개구(16)에 마련된 조리개부재(제1 조리개부재)(17)의 아퍼쳐인 개구(17a)에서 좁혀져, 적분구(14) 외로 출사한다.The integrating sphere 14 is arranged in the rock image 5. The integrating sphere 14 is coated with a high-diffusion reflector such as barium sulfate on its inner surface 14a, or formed of a material such as PTFE or spectraron. The integrating sphere 14 is formed with a light incidence opening 15 for injecting the excitation light L1 and a light emission opening 16 for emitting the light L2 to be measured. The excitation light L1 is collected by the lens 61 in the dark image 5 and enters the integrating sphere 14 through the light incidence opening 15. The light to be measured L2 is narrowed in the opening 17a, which is an aperture of the aperture member (first aperture member) 17 provided in the light exit opening 16, and exits out of the integration sphere 14.

이상의 암상(5), 광발생부(6) 및 광검출부(9)는 금속으로 이루어지는 케이스(10) 내에 수용되어 있다. 또한, 광발생부(6)의 광출사부(7)로부터 출사하게 하는 여기광(L1)의 광축과, 광검출부(9)의 광입사부(11)에 입사하게 되는 피측정광(L2)의 광축은 수평면 내에서 대략 직교하고 있다.The above dark image 5, the light generating portion 6 and the light detecting portion 9 are housed in a case 10 made of metal. In addition, the optical axis of the excitation light L1 to be emitted from the light output part 7 of the light generating part 6 and the light to be measured L2 to be incident on the light incident part 11 of the light detection part 9. The optical axes of are approximately orthogonal in the horizontal plane.

도 3은 도 2의 III-III선에 따른 단면도이다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 적분구(14)의 상부에는 시료 셀(2)을 삽입 통과시키는 셀 삽통(揷通)개구(18)가 형성되어 있고, 암상(5)의 상벽에는 셀 삽통개구(18)와 대향하도록 개구(21)가 형성되어 있다. 시료 셀(2)은 시료 수용부(3)로부터 연장하는 지관(枝管)(4)을 가지고 있고, 지관(4)은 개구(18, 21) 내에 일부가 배치되는 시료 홀더(19)에 의해서 유지되어 있다. 시료 홀더(19)의 플랜지부에는 한 쌍의 위치결정구멍(19a)이 형성되어 있으며, 각 위치결정구멍(19a)에는 개구(21)를 사이에 두도록 암상(5)의 상벽에 마련된 한 쌍의 위치결정핀(22)의 각각이 끼워 맞춤된다. 이것에 의해, 형태가 억제된 상태에서 시료 수용부(3)의 측면(3a)이 여기광(L1)의 광축에 대해 90° 이외의 소정의 각도로 경사지게 되어, 측면(3a)에서 반사된 여기광(L1)이 광출사부(7)로 돌아오는 것이 방지된다. 또한, 암상(5)의 상벽에는 시료 셀(2)의 지관(4), 시료 홀더(19) 및 개구(21)를 덮도록 차광(遮光)커버(23)가 재치(載置)되어 있다.3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 2. As shown in FIG. 3, a cell insertion opening 18 through which the sample cell 2 is inserted is formed in the upper part of the integrating port 14, and a cell insertion opening is formed in the upper wall of the arm image 5. The opening 21 is formed so as to face 18). The sample cell 2 has a branch tube 4 extending from the sample receiving section 3, and the branch tube 4 is provided by a sample holder 19 having a part disposed in the openings 18, 21. Maintained. A pair of positioning holes 19a are formed in the flange portion of the sample holder 19, and a pair of positioning holes 19a are provided in the upper wall of the arm image 5 so as to sandwich the opening 21 between each of the positioning holes 19a. Each of the positioning pins 22 is fitted. Thereby, the side surface 3a of the sample accommodating part 3 inclines at the predetermined angle other than 90 degrees with respect to the optical axis of the excitation light L1 in the state in which the form was suppressed, and the excitation reflected from the side surface 3a The return of the light L1 to the light exit portion 7 is prevented. In addition, a light shielding cover 23 is placed on the upper wall of the rock image 5 so as to cover the branch pipe 4, the sample holder 19, and the opening 21 of the sample cell 2.

양자수율 측정장치(1)는 암상(5) 내에서 적분구(14)를 이동시키는 이동기구(30)를 더 구비하고 있다. 이동기구(30)는 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태 및 시료 수용부(3)가 적분구(14) 외에 위치하는 제2 상태의 각각 상태가 되도록, 적분구(14)를 이동시킨다. 그리고, 이동기구(30)는 제1 상태에 있어서, 적분구(14)의 광입사개구(15)를 광발생부(6)의 광출사부(7)에 대향시키고, 또한 적분구(14)의 광출사개구(16)를 광검출부(9)의 광입사부(11)에 대향시킨다.The quantum yield measuring apparatus 1 further includes a moving mechanism 30 for moving the integrating sphere 14 in the rock image 5. The moving mechanism 30 integrates each of the first state in which the sample accommodating part 3 is located in the integrating sphere 14 and the second state in which the sample accommodating part 3 is located outside the integrating sphere 14. Move sphere (14). And the moving mechanism 30 opposes the light-incidence opening 15 of the integrating sphere 14 to the light-emitting portion 7 of the light generating section 6 in the first state, and further integrates the integrating sphere 14. The light exit opening 16 is opposed to the light incident part 11 of the light detection part 9.

이동기구(30)는 적분구(14)가 고정된 스테이지(31), 스테이지(31)에 고정된 너트(32), 너트(32)에 나사맞춤된 이송나사축(33) 및 이송나사축(33)을 회전시키는 모터(구동원)(34)를 가지고 있다. 이송나사축(33)은 암상(5) 내에서 연직방향으로 연장하고 있으며, 이송나사축(33)의 하단부는 암상(5)의 하벽에 회전 가능하게 지지되어 있다. 모터(34)는 이송나사축(33)의 상단부에 접속되며, 암상(5)에 고정되어 있다. 또한, 너트(32) 내에는 볼이 조립되어 있으며, 너트(32) 및 이송나사축(33)은 볼나사를 구성하고 있다.The moving mechanism 30 includes a stage 31 to which the integrating sphere 14 is fixed, a nut 32 fixed to the stage 31, a feed screw shaft 33 screwed to the nut 32, and a feed screw shaft ( It has a motor (drive source) 34 which rotates 33). The feed screw shaft 33 extends in the vertical direction in the arm image 5, and the lower end of the feed screw shaft 33 is rotatably supported by the lower wall of the arm image 5. The motor 34 is connected to the upper end of the feed screw shaft 33 and is fixed to the arm 5. In the nut 32, a ball is assembled, and the nut 32 and the feed screw shaft 33 constitute a ball screw.

이동기구(30)는 스테이지(31)에 고정된 슬리브(35) 및 슬리브(35)에 삽입 통과된 가이드축(36)을 더 가지고 있다. 가이드축(36)은 암상(5) 내에서 연직방향으로 연장하고 있고, 가이드축(36)의 상단부 및 하단부는 암상(5)에 고정되어 있다. 슬리브(35)는 가이드축(36)에 대해서 가이드축(36)의 축선방향으로 슬라이딩 가능하게 되어 있다.The moving mechanism 30 further has a sleeve 35 fixed to the stage 31 and a guide shaft 36 inserted through the sleeve 35. The guide shaft 36 extends vertically in the arm image 5, and the upper end portion and the lower end portion of the guide shaft 36 are fixed to the arm image 5. The sleeve 35 is slidable in the axial direction of the guide shaft 36 with respect to the guide shaft 36.

도 2에 나타내는 바와 같이, 너트(32)는 이송나사축(33)의 축선방향에서 보았을 경우에, 스테이지(31)에서 적분구(14)의 광입사개구(15)로부터 광출사개구(16)에 이르는 영역(제1 영역)(R1) 및 영역(제2 영역)(R2) 가운데, 광입사개구(15)로부터 광출사개구(16)에 이르는 거리가 짧은 영역(R1)에 고정되어 있다. 또, 슬리브(35)는 가이드축(36)의 축선방향에서 보았을 경우에, 적분구(14)의 광출사개구(16)를 사이에 두고 이송나사축(33)에 대향하도록 영역(R2)에 고정되어 있다.As shown in FIG. 2, when the nut 32 is viewed in the axial direction of the feed screw shaft 33, the light exit opening 16 is formed from the light entrance opening 15 of the integrating sphere 14 in the stage 31. The distance from the light incidence opening 15 to the light exit opening 16 is fixed to a region R1 having a short distance from the region (first region) R1 and the region (second region) R2 that extends to. When the sleeve 35 is viewed in the axial direction of the guide shaft 36, the sleeve 35 is disposed in the region R2 so as to face the feed screw shaft 33 with the light output opening 16 of the integrating sphere 14 therebetween. It is fixed.

도 3으로 돌아와, 양자수율 측정장치(1)는 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태에서의 적분구(14)의 제1 위치를 검출하는 위치검출기(51)와, 시료 수용부(3)가 적분구(14) 외에 위치하는 제2 상태에서의 적분구(14)의 제2 위치를 검출하는 위치검출기(52)를 더 구비하고 있다. 위치검출기(51, 52)는, 예를 들면 포토 인터럽터(photo interrupter)로서, 스테이지(31)에 고정된 차광판(53)이 포토 인터럽터의 발광부와 수광부와의 사이에 이르렀을 때에, 제1 위치 및 제2 위치를 각각 검출한다. 그리고, 이동기구(30)는 위치검출기(51, 52)에 의해서 제1 위치 또는 제2 위치가 검출되었을 때에 적분구(14)를 정지시킨다.Returning to FIG. 3, the quantum yield measuring apparatus 1 detects the position detector 51 for detecting the first position of the integrating sphere 14 in the first state in which the sample accommodating part 3 is located in the integrating sphere 14. And a position detector 52 for detecting the second position of the integrating sphere 14 in the second state in which the sample accommodating portion 3 is located outside the integrating sphere 14. The position detectors 51 and 52 are, for example, photo interrupters, and the first position when the light shielding plate 53 fixed to the stage 31 reaches between the light emitting portion and the light receiving portion of the photo interrupter And a second position, respectively. Then, the moving mechanism 30 stops the integrating sphere 14 when the first position or the second position is detected by the position detectors 51 and 52.

도 4는 다른 시료에 여기광이 조사되어 있는 상태에서의 단면도이다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 적분구(14)의 하부 및 스테이지(31)에는 개구(37)가 형성되어 있다. 개구(37)에는 스테이지(31)의 하측으로부터 스테이지(31)에 착탈 가능하게 장착된 시료대(40)의 일부가 배치되어 있다. 즉, 시료대(40)는 적분구(14)에 대해서 착탈 가능하게 장착되어 있다. 시료대(40)는 유리 등의 기판(41)에 박막 모양으로 형성된 분체(粉體)나 고체 등의 시료(다른 시료)(S')를 지지하기 위한 것이다. 또한, 시료(S')는 샬레(schale) 등의 용기에 수용된 상태에서 시료대(40)에 재치되는 경우도 있다.It is sectional drawing in the state in which the excitation light was irradiated to the other sample. As shown in FIG. 4, an opening 37 is formed in the lower part of the integrating sphere 14 and the stage 31. A part of the sample stage 40 detachably mounted to the stage 31 from the lower side of the stage 31 is disposed in the opening 37. In other words, the sample stage 40 is detachably attached to the integrating sphere 14. The sample stage 40 is for supporting a sample (other sample) S 'such as powder or solid formed in a thin film on a substrate 41 such as glass. In addition, the sample S 'may be placed on the sample table 40 in a state accommodated in a container such as a chalet.

시료(S')에 여기광(L1)이 조사되는 경우에는, 핸들(광로전환수단)(62)(도 2 참조)에 의해서 스테이지(63)가 이동하게 되어, 렌즈(61)로부터 렌즈(64)로 전환된다. 렌즈(64)에 의해서 집광된 여기광(L1)은 미러(65, 66)에서 차례차례 반사되어 시료(S')에 조사된다. 이 때, 여기광(L1)의 광축이 기판(41)의 표면에 대해서 90° 이외의 소정의 각도로 경사지게 되므로, 기판(41)의 표면에서 반사된 여기광(L1)이 광출사부(7)로 돌아오는 것이 방지된다. 또한, 적분구(14)의 광입사개구(15)는 시료(S) 및 시료(S') 중 어느 하나에 여기광(L1)이 조사되는 경우에도 여기광(L1)을 차단하지 않는 형상으로 형성되어 있다. 이와 같이, 적분구(14)의 광입사개구(15)는 적분구(14)의 내측의 개구보다도 적분구(14)의 외측의 개구가 커지도록 형성되어 있으므로, 핸들(광로전환수단)(62)에 의해서 광로가 전환되어도, 여기광(L1)이 차단되지 않는다.When the excitation light L1 is irradiated onto the sample S ', the stage 63 is moved by the handle (optical path switching means) 62 (see Fig. 2), and the lens 64 is removed from the lens 61. Is converted to). The excitation light L1 collected by the lens 64 is sequentially reflected by the mirrors 65 and 66 and irradiated onto the sample S '. At this time, since the optical axis of the excitation light L1 is inclined at a predetermined angle other than 90 ° with respect to the surface of the substrate 41, the excitation light L1 reflected from the surface of the substrate 41 is the light exit portion 7. Return to) is prevented. Further, the light incidence opening 15 of the integrating sphere 14 has a shape that does not block the excitation light L1 even when the excitation light L1 is irradiated to either the sample S or the sample S '. Formed. In this way, the light incidence opening 15 of the integrating sphere 14 is formed so that the opening on the outside of the integrating sphere 14 is larger than the opening on the inside of the integrating sphere 14. Even if the optical path is switched by the excitation light, the excitation light L1 is not blocked.

도 5는 도 2의 V-V선에 따른 단면도이다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 적분구(14) 내에서 광출사개구(16)에 대향하는 위치에는 배플(baffle)(24)이 배치되어 있다. 배플(24)은 적분구(14)의 내면(14a)에 세워진 지지기둥(25)에 의해서 지지되어 있다. 또, 적분구(14)의 내면(14a)에는 배플(26)이 일체적으로 형성되어 있다. 배플(24)은 시료(S) 및 시료 수용부(3)로부터 방출된 피측정광(L2)이 광검출부(9)의 광입사부(11)에 직접 입사하는 것을 방지하고, 배플(26)은 시료(S')로부터 방출된 피측정광(L2)이 광검출부(9)의 광입사부(11)에 직접 입사하는 것을 방지한다.5 is a cross-sectional view taken along line V-V of FIG. 2. As shown in FIG. 5, the baffle 24 is arrange | positioned in the integrating sphere 14 in the position which opposes the light output opening 16. As shown in FIG. The baffle 24 is supported by the support column 25 erected on the inner surface 14a of the integrating sphere 14. Moreover, the baffle 26 is integrally formed in the inner surface 14a of the integrating sphere 14. The baffle 24 prevents the sample S and the light to be measured L2 emitted from the sample accommodating part 3 from directly entering the light incident part 11 of the photodetector 9, and the baffle 26 is provided. The silver L2 emitted from the sample S 'is prevented from directly entering the light incident part 11 of the photodetector 9.

이상과 같이 구성된 양자수율 측정장치(1)을 이용하여 양자수율을 측정하는 방법에 대해서 설명한다. 또한, 도 6 ~ 도 8에서, (a)는 암상의 내부의 횡단면도이며, (b)는 암상의 내부의 종단면도이다.The method of measuring quantum yield using the quantum yield measuring apparatus 1 comprised as mentioned above is demonstrated. 6-8, (a) is a cross-sectional view of the inside of a rock, and (b) is a longitudinal cross-sectional view of the inside of a rock.

우선, 도 6에 나타내는 바와 같이, 시료(S)가 수용되어 있지 않은 빈 시료 셀(2)을 암상(5)에 세팅한다. 그리고, 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태에서 광발생부(6)로부터 여기광(L1)이 출사되어 시료 수용부(3)에 조사된다. 시료 수용부(3)에서 반사된 여기광(L1) 및 시료 수용부(3)를 투과한 여기광(L1)은 적분구(14) 내에서 다중 반사하여, 시료 수용부(3)로부터 방출된 피측정광(L2a)으로서 광검출부(9)에 의해서 검출된다.First, as shown in FIG. 6, the empty sample cell 2 in which the sample S is not accommodated is set to the dark image 5. In the first state in which the sample accommodating part 3 is located in the integrating sphere 14, the excitation light L1 is emitted from the light generating part 6 and irradiated to the sample accommodating part 3. The excitation light L1 reflected by the sample accommodating part 3 and the excitation light L1 transmitted through the sample accommodating part 3 are multi-reflected in the integrating sphere 14 to be emitted from the sample accommodating part 3. It is detected by the photodetector 9 as the light to be measured L2a.

이어서, 도 7에 나타내는 바와 같이, 시료 셀(2)에 시료(S)를 수용하고, 그 시료 셀(2)을 암상(5)에 세팅한다. 그리고, 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태에서 광발생부(6)로부터 여기광(L1)이 출사되어 시료 수용부(3)에 조사된다. 시료 수용부(3)에서 반사된 여기광(L1) 및 시료(S)로 발생한 형광은 적분구(14) 내에서 다중 반사하여, 시료(S) 및 시료 수용부(3)로부터 방출된 피측정광(L2b)으로서 광검출부(9)에 의해서 검출된다.Subsequently, as shown in FIG. 7, the sample S is accommodated in the sample cell 2, and the sample cell 2 is set in the dark image 5. As shown in FIG. In the first state in which the sample accommodating part 3 is located in the integrating sphere 14, the excitation light L1 is emitted from the light generating part 6 and irradiated to the sample accommodating part 3. The fluorescence generated by the excitation light L1 and the sample S reflected by the sample accommodating part 3 is reflected in the integrating sphere 14 in multiple times, and the measured object emitted from the sample S and the sample accommodating part 3 is measured. It is detected by the photodetector 9 as light L2b.

이어서, 도 8에 나타내는 바와 같이, 시료 수용부(3)가 적분구(14) 외에 위치하는 제2 상태가 되도록, 이동기구(30)에 의해서 적분구(14)가 이동(여기에서는, 하강)하게 된다. 이와 같이, 제1 상태에서부터 제2 상태로 변경함에 수반하여, 적분구(14)의 광입사개구(15) 및 광출사개구(16)는 각각 광발생부(6)의 광출사부(7) 및 광검출부(9)의 광입사부(11)에 대해서 상대적으로 이동한다. 그리고, 제2 상태에서, 광발생부(6)로부터 여기광(L1)이 출사되어 시료 수용부(3)에 조사된다. 시료(S)로 발생한 형광은 직접(적분구(14) 내에서의 다중 반사 없이), 시료(S)로부터 방출된 피측정광(L2c)으로서 광검출부(9)에 의해서 검출된다.Subsequently, as shown in FIG. 8, the integrating sphere 14 moves by the moving mechanism 30 so that the sample accommodating part 3 may be in the 2nd state located outside the integrating sphere 14 (here, it descends). Done. As described above, in response to the change from the first state to the second state, the light entrance opening 15 and the light exit opening 16 of the integrating sphere 14 are respectively the light exiting unit 7 of the light generating unit 6. And relative to the light incident part 11 of the photodetector 9. In the second state, the excitation light L1 is emitted from the light generating unit 6 and irradiated to the sample accommodating unit 3. The fluorescence generated in the sample S is detected by the photodetector 9 directly (without multiple reflections in the integrating sphere 14) as the measurement light L2c emitted from the sample S.

이상과 같이, 피측정광(L2a, L2b, L2c)의 데이터가 취득되면, 퍼스널 컴퓨터 등의 데이터 해석장치에 의해서, 피측정광(L2a, L2b)의 여기광 성분의 데이터에 근거하여, 시료(S)에 흡수된 여기광(L1)의 포톤 수(포톤 수에 비례하는 값 등의 포톤 수에 상당하는 값(이하, 동일함))이 산출된다. 시료(S)에 흡수된 여기광(L1)의 포톤 수는 도 9의 영역(A1)에 상당한다.As described above, when data of the light to be measured L2a, L2b, and L2c is acquired, a sample (based on the data of the excitation light components of the light to be measured L2a and L2b) is obtained by a data analysis device such as a personal computer. The number of photons (the value corresponding to the number of photons, such as a value proportional to the number of photons, hereinafter, the same) of the excitation light L1 absorbed in S) is calculated. The number of photons of the excitation light L1 absorbed in the sample S corresponds to the area A1 in FIG. 9.

그 한편으로, 데이터 해석장치에 의해서, 피측정광(L2c)의 데이터에 근거하여, 피측정광(L2b)의 형광 성분의 데이터가 보정된다(상세하게는 비특허문헌 1 참조). 이것에 의해, 시료(S)가 형광 성분에 대해서 광흡수성을 가지고 있어 재흡수가 생겼다고 해도 진정한 값(즉, 시료(S)로부터 실제로 방출된 형광의 포톤 수)이 되도록 보정된 형광의 포톤 수가 데이터 해석장치에 의해서 산출된다. 시료(S)로부터 방출된 형광의 포톤 수는 도 9의 영역(A2)에 상당한다.On the other hand, the data analysis device corrects the data of the fluorescent component of the light to be measured L2b based on the data of the light to be measured L2c (see Non-Patent Document 1 in detail). Thus, even if the sample S has light absorption to the fluorescent component and reabsorption occurs, the photon number of the fluorescence corrected to be a true value (that is, the photon number of the fluorescence actually emitted from the sample S) is measured. It is calculated by the analyzer. The photon number of fluorescence emitted from the sample S corresponds to the area A2 in FIG. 9.

그리고, 데이터 해석장치에 의해서, 「시료(S)에 흡수된 여기광(L1)의 포톤 수」에 대한 「시료(S)로부터 방출된 형광의 포톤 수」인 시료(S)의 양자수율이 산출된다. 또한, 시료(S)가 녹여지지 않은 용매를 시료 셀(2)에 수용하고, 그 시료 셀(2)을 암상(5)에 세팅하여, 제1 상태에서 피측정광(L2a)을 검출하는 경우도 있다.And the quantum yield of the sample S which is "the photon number of the fluorescence emitted from the sample S" with respect to the "photon number of the excitation light L1 absorbed by the sample S" is calculated by a data analyzer. do. In addition, when the solvent in which the sample S is not melt | dissolved is accommodated in the sample cell 2, the sample cell 2 is set in the dark image 5, and the light to be measured L2a is detected in a 1st state. There is also.

이상 설명한 바와 같이, 양자수율 측정장치(1)에서는 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태 및 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)가 적분구(14) 외에 위치하는 제2 상태의 각각 상태가 되도록, 암상(5) 내에서 적분구(14)가 이동기구(30)에 의해서 이동하게 된다. 이것에 의해, 제2 상태에서 형광의 포톤 수를 직접(적분구(14) 내에서의 다중 반사 없이) 검출하여, 제1 상태에서 검출된 형광의 포톤 수를 제2 상태에서 검출된 형광의 포톤 수에 근거하여 보정할 수 있다. 따라서, 양자수율 측정장치(1)에 의하면, 시료(S)의 양자수율을 정확하고 또한 효율 좋게 측정하는 것이 가능하게 된다.As described above, in the quantum yield measuring apparatus 1, the sample accommodating part 3 of the sample cell 2 and the first state in which the sample accommodating part 3 of the sample cell 2 is located in the integrating sphere 14 are provided. The integrating sphere 14 is moved by the moving mechanism 30 in the arm image 5 so that is the state of each of the second states located outside the integrating sphere 14. Thereby, the number of photons of fluorescence detected in the second state is detected directly (without multiple reflections in the integrating sphere 14) in the second state, and the photons of fluorescence detected in the second state are detected. Correction can be made based on numbers. Therefore, according to the quantum yield measuring apparatus 1, it becomes possible to measure the quantum yield of the sample S correctly and efficiently.

또, 이동기구(30)는 적분구(14)가 고정된 스테이지(31), 스테이지(31)에 고정된 너트(32), 너트(32)에 나사맞춤된 이송나사축(33) 및 이송나사축(33)을 회전시키는 모터(34)를 가지고 있다. 또한, 이동기구(30)는 스테이지(31)에 고정된 슬리브(35) 및 슬리브(35)에 삽입 통과된 가이드축(36)을 가지고 있다. 이들에 의해, 암상(5) 내에서 적분구(14)를 원활히 이동시킬 수 있다.The moving mechanism 30 also includes a stage 31 to which the integrating sphere 14 is fixed, a nut 32 fixed to the stage 31, a feed screw shaft 33 screwed onto the nut 32, and a feed screw. It has a motor 34 for rotating the shaft 33. In addition, the moving mechanism 30 has a sleeve 35 fixed to the stage 31 and a guide shaft 36 inserted through the sleeve 35. As a result, the integrating sphere 14 can be smoothly moved in the rock image 5.

또, 너트(32)는 이송나사축(33)의 축선방향에서 보았을 경우에, 스테이지(31)에서 광입사개구(15)로부터 광출사개구(16)에 이르는 영역(R1, R2) 가운데, 광입사개구(15)로부터 광출사개구(16)에 이르는 거리가 짧은 영역(R1)에 고정되어 있다. 이것에 의해, 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태에 있어서, 광입사개구(15)를 광발생부(6)의 광출사부(7)에, 또, 광출사개구(16)를 광검출부(9)의 광입사부(11)에, 각각 정밀도 좋게 대향시킬 수 있다.In addition, when the nut 32 is viewed from the axial direction of the feed screw shaft 33, the light 32 is formed in the regions R1 and R2 extending from the light incidence opening 15 to the light output opening 16 in the stage 31. The distance from the entrance opening 15 to the light exit opening 16 is fixed to the short region R1. As a result, in the first state in which the sample accommodating portion 3 of the sample cell 2 is located in the integrating sphere 14, the light incidence opening 15 is formed by the light emitting portion 7 of the light generating portion 6. In addition, the light output opening 16 can be opposed to the light incident part 11 of the photodetector 9 with high precision.

또, 슬리브(35)는 가이드축(36)의 축선방향에서 보았을 경우에, 광출사개구(16)를 사이에 두고 이송나사축(33)에 대향하도록 영역(R2)에 고정되어 있다. 이것에 의해, 광출사개구(16)와 반대 측(즉, 암상(5)의 전벽(前壁) 측)으로부터 적분구(14)에 액세스하기 쉬워져, 적분구(14)에 대해서 시료대(40)를 용이하게 착탈할 수 있다.When the sleeve 35 is viewed in the axial direction of the guide shaft 36, the sleeve 35 is fixed to the region R2 so as to face the feed screw shaft 33 with the light output opening 16 therebetween. As a result, the integrating sphere 14 is easily accessed from the side opposite to the light exit opening 16 (that is, the front wall side of the rock image 5), and the sample stage ( 40) can be easily attached or detached.

또, 이동기구(30)는 위치검출기(51, 52)에 의해서 제1 위치 또는 제2 위치가 검출되었을 때에 적분구(14)를 정지시킨다. 이것에 의해, 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태 및 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)가 적분구(14) 외에 위치하는 제2 상태의 각각을 확실히 재현할 수 있다.The moving mechanism 30 also stops the integrating sphere 14 when the first position or the second position is detected by the position detectors 51 and 52. As a result, the first state in which the sample accommodating part 3 of the sample cell 2 is located in the integrating sphere 14 and the sample accommodating part 3 of the sample cell 2 are located outside the integrating sphere 14 are provided. Each of the second states can be surely reproduced.

또, 적분구(14)의 광출사개구(16)에는 피측정광(L2)을 죄는 조리개부재(17)가 마련되어 있고, 광검출부(9)의 광입사부(11)에는 피측정광(L2)을 죄는 조리개부재(12)가 마련되어 있다. 이와 같이, 2단계로 조리개부재(17, 12)를 마련함으로써(게다가, 적분구(14)의 광출사개구(16)와 광검출부(9)의 광입사부(11)로 나누어 조리개부재(17, 12) 사이의 거리를 길게 취함으로써 조리개부재(12)의 개구(12a)를 비교적 작게 할 수 있어), 광검출부(9)에 피측정광(L2)을 적정한 각도로 입사시켜, 광검출부(9) 내에서 미광(迷光)이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 적분구(14)의 광출사개구(16)에 조리개부재(17)를 마련함으로써, 광출사개구(16)를 통하여 적분구(14) 내에 이물이 침입하는 것을 방지할 수 있다. 이 효과는 양자수율 측정장치(1)와 같이 적분구(14)를 이동시키는 경우, 암상(5)의 내면(5a)과 적분구(14)의 광출사개구(16)와의 사이에 틈새가 발생하기 때문에, 특히 유효하다. 또한, 조리개부재(17)의 개구(17a)의 크기가 조리개부재(12)의 개구(12a)의 크기보다도 작은 편이 바람직하다.In addition, an aperture member 17 for fastening the light L2 to be measured is provided at the light output opening 16 of the integrating sphere 14, and the light to be measured L2 is provided at the light incidence portion 11 of the light detector 9. A diaphragm member 12 is provided. Thus, by providing the aperture members 17 and 12 in two steps (in addition, the aperture member 17 is divided into the light exit opening 16 of the integrating sphere 14 and the light incidence portion 11 of the light detector 9). , The opening 12a of the diaphragm member 12 can be made relatively small by taking a long distance between the two and 12), and the light to be measured L2 is incident on the photodetector 9 at an appropriate angle. 9) It is possible to suppress the occurrence of stray light in the interior. In addition, by providing the diaphragm member 17 in the light exit opening 16 of the integrating sphere 14, foreign matter can be prevented from entering the integrating sphere 14 through the light exit opening 16. This effect causes a gap between the inner surface 5a of the rock image 5 and the light exit opening 16 of the integrating sphere 14 when the integrating sphere 14 is moved as in the quantum yield measuring device 1. In particular, it is effective. In addition, it is preferable that the size of the opening 17a of the aperture member 17 is smaller than the size of the opening 12a of the aperture member 12.

또, 시료 홀더(19)는 위치결정구멍(19a)에 위치결정핀(22)가 끼워 맞춤된 상태에서 암상(5)의 상벽에 재치되어 있을 뿐이고, 마찬가지로, 차광커버(23)도 암상(5)의 상벽에 재치되어 있을 뿐이다. 이것에 의해, 적분구(14)가 상승했을 때에, 시료 셀(2)에 어떠한 힘이 가해졌다고 해도, 그 힘이 해제되므로, 시료 셀(2) 등이 파손하는 것을 방지할 수 있다.Moreover, the sample holder 19 is only mounted on the upper wall of the arm image 5 in the state where the positioning pin 22 is fitted to the positioning hole 19a. Similarly, the light shielding cover 23 also has the arm image 5 It is just mounted on the upper wall of the). As a result, even when a force is applied to the sample cell 2 when the integrating sphere 14 is raised, the force is released, so that the sample cell 2 or the like can be prevented from being damaged.

이상, 본 발명의 일실시형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 슬리브(35)는 가이드축(36)의 축선방향에서 보았을 경우에, 적분구(14)의 광입사개구(15)를 사이에 두고 이송나사축(33)에 대향하도록 영역(R2)에 고정되어 있어도 된다. 이 경우, 광입사개구(15)와 반대 측(즉, 암상(5)의 다른 쪽의 측벽 측)으로부터 적분구(14)에 액세스하기 쉬워져, 적분구(14)에 대해서 시료대(40)를 용이하게 착탈할 수 있다.As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment. For example, when the sleeve 35 is viewed in the axial direction of the guide shaft 36, the region R2 is opposed to the feed screw shaft 33 with the light incidence opening 15 of the integrating sphere 14 therebetween. ) May be fixed. In this case, it is easy to access the integrating sphere 14 from the side opposite to the light incidence opening 15 (that is, the side wall on the other side of the rock image 5), and the sample stage 40 with respect to the integrating sphere 14. Can be easily removed.

또, 적분구(14)의 광출사개구(16)에 조리개부재(17)를 마련하지 않고, 광검출부(9)의 광입사부(11)에 복수의 조리개부재(12)를 마련해도 된다. 이 경우, 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)가 적분구(14) 내에 위치하는 제1 상태와, 시료 셀(2)의 시료 수용부(3)가 적분구(14) 외에 위치하는 제2 상태에 있어서, 대략 동일한 조건으로 광검출부(9) 내에 피측정광(L2)을 입사시킬 수 있다. 또한, 광발생부(6)와 암상(5)을, 또, 광검출부(9)와 암상(5)을, 각각 광파이버 등에 의해서 광학적으로 접속해도 된다. 또, 케이스(10)를 암상으로서 구성해도 된다.Moreover, you may provide the some aperture member 12 in the light incident part 11 of the light-detecting part 9, without providing the aperture member 17 in the light output opening 16 of the integrating sphere 14. As shown in FIG. In this case, the first state in which the sample accommodating part 3 of the sample cell 2 is located in the integrating sphere 14 and the sample accommodating part 3 of the sample cell 2 are located outside the integrating sphere 14 are provided. In the second state, the light to be measured L2 can be incident into the photodetector 9 under substantially the same conditions. In addition, you may optically connect the light generation part 6 and the dark image 5, and the optical detection part 9 and the dark image 5 with an optical fiber etc., respectively. Moreover, you may comprise the case 10 as a dark image.

[산업상의 이용 가능성][Industrial Availability]

본 발명에 의하면, 시료의 양자수율을 정확하고 또한 효율 좋게 측정할 수 있다.According to the present invention, the quantum yield of a sample can be measured accurately and efficiently.

1 … 양자수율 측정장치, 2 … 시료 셀,
3 … 시료 수용부, 5 … 암상,
6 … 광발생부, 7 … 광출사부,
9 … 광검출부, 11 … 광입사부,
12 … 조리개부재(제2 조리개부재), 14 … 적분구,
15 … 광입사개구, 16 … 광출사개구,
17 … 조리개부재(제1 조리개부재), 30 … 이동기구,
31 … 스테이지, 32 … 너트,
33 … 이송나사축, 34 … 모터(구동원),
35 … 슬리브, 36 … 가이드축,
40 … 시료대, 51, 52 … 위치검출기,
L1 … 여기광, L2, L2a, L2b, L2c … 피측정광,
R1 … 영역(제1 영역), R2 … 영역(제2 영역),
S … 시료, S' … 시료(다른 시료).One … Quantum yield measuring device, 2. Sample cell,
3…. 5. sheet,
6 ... Light generating section; Light Exit,
9 ... Photodetector 11. Light Incident,
12 ... Aperture member (second aperture member), 14. Integrating Sphere,
15 ... Light incident opening, 16. Light Exit,
17 ... Aperture member (first aperture member) 30. Moving Equipment,
31 ... 32, stage; nut,
33 ... Feed screw shaft, 34. Motor (drive),
35 ... Sleeve, 36... Guide Shaft,
40 ... Sample table 51, 52... Position Detector,
L1 ... Excitation light, L2, L2a, L2b, L2c... Light Beam,
R1... Region (first region), R2... Zone (second zone),
S ... Sample, S '... Sample (other sample).

Claims (7)

시료를 수용하기 위한 시료 셀의 시료 수용부에 여기광(勵起光)을 조사하고, 상기 시료 및 상기 시료 수용부의 적어도 한쪽으로부터 방출되는 피측정광을 검출하는 것에 의해, 상기 시료의 양자수율을 측정하는 양자수율 측정장치로서,
상기 시료 수용부가 내부에 배치되는 암상(暗箱)과,
상기 암상에 접속된 광출사부를 가지며, 상기 여기광을 발생시키는 광발생부와,
상기 암상에 접속된 광입사부를 가지며, 상기 피측정광을 검출하는 광검출부와,
상기 여기광을 입사시키는 광입사개구 및 상기 피측정광을 출사시키는 광출사개구를 가지며, 상기 암상 내에 배치된 적분구(積分球)와,
상기 시료 수용부가 상기 적분구 내(內)에 위치하는 제1 상태 및 상기 시료 수용부가 상기 적분구 외(外)에 위치하는 제2 상태의 각각 상태가 되도록, 상기 암상 내에서 상기 적분구를 이동시켜, 상기 제1 상태에서는 상기 광입사개구를 상기 광출사부에 대향시키고, 또한 상기 광출사개구를 상기 광입사부에 대향시키는 이동기구를 구비하는 양자수율 측정장치.The quantum yield of the sample is determined by irradiating excitation light to the sample accommodating portion of the sample cell for accommodating the sample, and detecting the measured light emitted from at least one of the sample and the sample accommodating portion. A quantum yield measuring device to measure,
A rock image in which the sample accommodating portion is disposed;
A light generating portion having a light output portion connected to the dark phase and generating the excitation light;
A light detecting unit having a light incidence unit connected to the dark phase, the light detecting unit detecting the light to be measured;
An integrating sphere having a light incidence opening for injecting the excitation light and a light emission opening for emitting the light to be measured, the integrating sphere disposed in the rock image;
The integrating sphere is moved within the rock so that the sample accommodating portion is in a first state in which the sample accommodating portion is located in the integrating sphere and in a second state in which the sample accommodating portion is located outside the integrating sphere. And a moving mechanism that opposes the light incidence opening to the light exit portion in the first state and opposes the light exit opening to the light incidence portion. 청구항 1에 있어서,
상기 이동기구는 상기 적분구가 고정된 스테이지, 상기 스테이지에 고정된 너트, 상기 너트에 나사맞춤된 이송나사축 및 상기 이송나사축을 회전시키는 구동원을 가지는 양자수율 측정장치.The method according to claim 1,
The moving mechanism has a stage in which the integrating sphere is fixed, a nut fixed to the stage, a feed screw shaft screwed to the nut, and a drive source for rotating the feed screw shaft. 청구항 2에 있어서,
상기 너트는 상기 이송나사축의 축선방향에서 보았을 경우에, 상기 스테이지에서 상기 광입사개구로부터 상기 광출사개구에 이르는 제1 영역 및 제2 영역 가운데, 상기 광입사개구로부터 상기 광출사개구에 이르는 거리가 짧은 상기 제1 영역에 고정되어 있는 양자수율 측정장치.The method according to claim 2,
When the nut is viewed in the axial direction of the feed screw shaft, the distance from the light incidence opening to the light outlet opening of the first region and the second region from the light incidence opening to the light output opening in the stage is A quantum yield measuring device fixed to said short first region. 청구항 2 또는 3에 있어서,
상기 이동기구는 상기 스테이지에 고정된 슬리브 및 상기 슬리브에 삽입 통과된 가이드축을 더 가지는 양자수율 측정장치.The method according to claim 2 or 3,
The moving mechanism further comprises a sleeve fixed to the stage and a guide shaft inserted through the sleeve. 청구항 4에 있어서,
상기 적분구에는 다른 시료를 지지하기 위한 시료대가 착탈 가능하게 장착되어 있고,
상기 슬리브는 상기 가이드축의 축선방향에서 보았을 경우에, 상기 광입사개구 또는 상기 광출사개구를 사이에 두고 상기 이송나사축과 대향하도록 상기 제2 영역에 고정되어 있는 양자수율 측정장치.The method of claim 4,
The integrating sphere is detachably mounted with a sample stand for supporting another sample,
And the sleeve is fixed to the second region so as to face the feed screw shaft with the light inlet opening or the light outlet opening therebetween when viewed in the axial direction of the guide shaft. 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 상태에서의 상기 적분구의 제1 위치 및 상기 제2 상태에서의 상기 적분구의 제2 위치의 각각의 위치를 검출하는 위치검출기를 더 구비하고,
상기 이동기구는 상기 위치검출기에 의해서 상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치가 검출되었을 때에 상기 적분구를 정지시키는 양자수율 측정장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And a position detector for detecting respective positions of the first position of the integrating sphere in the first state and the second position of the integrating sphere in the second state,
And the moving mechanism stops the integrating sphere when the first position or the second position is detected by the position detector. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광출사개구에는 상기 피측정광을 죄는 제1 조리개부재가 마련되어 있고, 상기 광입사부에는 상기 피측정광을 죄는 제2 조리개부재가 마련되어 있는 양자수율 측정장치.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The light output opening is provided with a first aperture member for clamping the light to be measured, and the light incident portion is provided with a second aperture member for clamping the light to be measured.
KR1020137016692A 2010-11-29 2011-08-31 Quantum-yield measurement device KR101790825B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-264831 2010-11-29
JP2010264831A JP5491368B2 (en) 2010-11-29 2010-11-29 Quantum yield measuring apparatus and quantum yield measuring method
PCT/JP2011/069836 WO2012073567A1 (en) 2010-11-29 2011-08-31 Quantum-yield measurement device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130123411A true KR20130123411A (en) 2013-11-12
KR101790825B1 KR101790825B1 (en) 2017-10-26

Family

ID=46171523

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020137016692A KR101790825B1 (en) 2010-11-29 2011-08-31 Quantum-yield measurement device

Country Status (8)

Country Link
US (2) US8592780B2 (en)
EP (1) EP2647980B1 (en)
JP (1) JP5491368B2 (en)
KR (1) KR101790825B1 (en)
CN (1) CN103229043B (en)
ES (1) ES2666295T3 (en)
TW (1) TWI528026B (en)
WO (1) WO2012073567A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190095723A (en) * 2018-02-07 2019-08-16 (주)유니버셜스탠다드테크놀러지 A apparatus for measuring lifetime and yield of quantum

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5491369B2 (en) 2010-11-29 2014-05-14 浜松ホトニクス株式会社 Quantum yield measuring device
JP5491368B2 (en) * 2010-11-29 2014-05-14 浜松ホトニクス株式会社 Quantum yield measuring apparatus and quantum yield measuring method
JP5529305B1 (en) * 2013-02-04 2014-06-25 浜松ホトニクス株式会社 Spectrometer and spectroscopic method
JP5944843B2 (en) * 2013-02-04 2016-07-05 浜松ホトニクス株式会社 Spectrometer and spectroscopic method
JP6279399B2 (en) * 2014-05-23 2018-02-14 浜松ホトニクス株式会社 Optical measuring device and optical measuring method
CN104677845B (en) * 2015-02-15 2017-04-05 浙江大学 Farm product tissue optical characteristics automatic detection device based on integrating sphere
JP6227067B1 (en) * 2016-07-25 2017-11-08 浜松ホトニクス株式会社 Optical measuring device
JP6227068B1 (en) * 2016-07-27 2017-11-08 浜松ホトニクス株式会社 Sample container holding member, optical measurement device, and sample container arrangement method
RU2698548C1 (en) * 2018-11-23 2019-08-28 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский национальный исследовательский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского" Device for determining absolute quantum luminescence output
KR102257204B1 (en) * 2019-07-26 2021-05-27 한국광기술원 Phosphor film and Method for Manufacturing the same, and Apparatus and Method for Measuring Optical Properties Using the same
JP7284457B2 (en) 2019-09-02 2023-05-31 株式会社日立ハイテクサイエンス Quantum efficiency distribution acquisition method, quantum efficiency distribution display method, quantum efficiency distribution acquisition program, quantum efficiency distribution display program, spectrofluorophotometer and display device
JP6751214B1 (en) * 2020-02-12 2020-09-02 デクセリアルズ株式会社 Measuring device and film forming device

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4645340A (en) * 1983-06-01 1987-02-24 Boston University Optically reflective sphere for efficient collection of Raman scattered light
JPH06105342B2 (en) * 1986-12-01 1994-12-21 富士写真フイルム株式会社 Silver halide light-sensitive material sensitized with a luminescent dye
JPH0783828A (en) * 1993-09-09 1995-03-31 Jasco Corp Variable-angle absolute reflectance measuring instrument
JPH07120323A (en) * 1993-10-25 1995-05-12 Nissan Motor Co Ltd Measuring apparatus for surface color of metal
JPH1073486A (en) * 1996-09-02 1998-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for measuring characteristic of phosphor
US6413786B1 (en) * 1997-01-23 2002-07-02 Union Biometrica Technology Holdings, Inc. Binding assays using optical resonance of colloidal particles
US6975891B2 (en) * 2001-12-21 2005-12-13 Nir Diagnostics Inc. Raman spectroscopic system with integrating cavity
JP3682528B2 (en) * 2002-01-24 2005-08-10 独立行政法人産業技術総合研究所 Method and apparatus for measuring absolute fluorescence quantum efficiency of solid sample
DE602004002571T2 (en) * 2003-02-24 2007-06-21 Gretagmacbeth, L.L.C. Spectrophotometer and its assemblies
JP4418731B2 (en) * 2004-10-27 2010-02-24 日本放送協会 Photoluminescence quantum yield measurement method and apparatus used therefor
JP4708139B2 (en) * 2005-09-26 2011-06-22 浜松ホトニクス株式会社 Photodetector
US8324561B2 (en) * 2007-03-01 2012-12-04 Hamamatsu Photonics K.K. Photodetector and jig for sample holder
JP2009008509A (en) * 2007-06-27 2009-01-15 Shinshu Univ Light emission quantum efficiency measuring device
JP5090837B2 (en) 2007-09-19 2012-12-05 浜松ホトニクス株式会社 Spectrometer, spectroscopic method, and spectroscopic program
CN101430278A (en) 2008-12-04 2009-05-13 中国计量学院 Apparatus for measuring luminous efficiency of photoluminescent body
JP5161755B2 (en) * 2008-12-25 2013-03-13 浜松ホトニクス株式会社 Spectrometer, spectroscopic method, and spectroscopic program
CN101666680B (en) * 2009-09-15 2011-06-01 西安交通大学 Integrating sphere type light-catalyzed reaction measuring system
JP5640257B2 (en) * 2010-03-18 2014-12-17 大塚電子株式会社 Quantum efficiency measurement method and quantum efficiency measurement device
JP5559643B2 (en) * 2010-08-31 2014-07-23 日本分光株式会社 Luminescence measurement method for powder samples
JP5491368B2 (en) * 2010-11-29 2014-05-14 浜松ホトニクス株式会社 Quantum yield measuring apparatus and quantum yield measuring method
JP5491369B2 (en) * 2010-11-29 2014-05-14 浜松ホトニクス株式会社 Quantum yield measuring device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190095723A (en) * 2018-02-07 2019-08-16 (주)유니버셜스탠다드테크놀러지 A apparatus for measuring lifetime and yield of quantum

Also Published As

Publication number Publication date
TW201224437A (en) 2012-06-16
US8592780B2 (en) 2013-11-26
JP5491368B2 (en) 2014-05-14
TWI528026B (en) 2016-04-01
CN103229043A (en) 2013-07-31
US8916836B2 (en) 2014-12-23
EP2647980B1 (en) 2018-02-28
JP2012117816A (en) 2012-06-21
US20130248737A1 (en) 2013-09-26
ES2666295T3 (en) 2018-05-03
US20140097357A1 (en) 2014-04-10
WO2012073567A1 (en) 2012-06-07
EP2647980A4 (en) 2017-04-12
CN103229043B (en) 2015-04-08
EP2647980A1 (en) 2013-10-09
KR101790825B1 (en) 2017-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101790825B1 (en) Quantum-yield measurement device
KR101739619B1 (en) Quantum-yield measurement device
KR101716902B1 (en) Spectrometer, spectrometry, and spectrometry program
US6654119B1 (en) Scanning spectrophotometer for high throughput fluroescence detection
JP4791625B2 (en) Spectrophotometric / turbidimetric detection unit
US7352459B2 (en) Scanning Spectrophotometer for high throughput fluorescence detection and fluorescence polarization
US20070037272A1 (en) System for optically analyzing a substance
US20070177149A1 (en) Instrumentation and method for optical measurement of samples
JP2022128521A (en) System for optically monitoring operating conditions in sample analyzer
CN101661000B (en) Novel ion detection system applied to single-ion microbeam device and based on spectroscope
US8759789B2 (en) Body module for an optical measurement instrument
US8541760B2 (en) Method for calibrating a deflection unit in a TIRF microscope, TIRF microscope, and method for operating the same
JP2019518206A (en) Method and system for optical based measurement with selectable excitation light path
US10928246B2 (en) Optical measuring device comprising light receiving regions of light guide members overlap with each other in an integrator
JP2020008374A (en) Spectroscopic analyzer

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant