KR20130114302A - Light emitting device, light emitting device package, and light unit - Google Patents

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KR20130114302A KR1020120036514A KR20120036514A KR20130114302A KR 20130114302 A KR20130114302 A KR 20130114302A KR 1020120036514 A KR1020120036514 A KR 1020120036514A KR 20120036514 A KR20120036514 A KR 20120036514A KR 20130114302 A KR20130114302 A KR 20130114302A
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Abstract

PURPOSE: A light emitting device, a light emitting device package, and a light unit are provided to increase the intensity of light by controlling a light output direction and a viewing angle. CONSTITUTION: A reflective electrode (17) is arranged under a light emitting structure. The light emitting structure includes a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer. A support unit (30) is arranged around the light emitting structure. A reflecting layer (40) is arranged on the support unit. A part of the support unit is arranged on the side of the light emitting structure.

Description

발광소자, 발광소자 패키지 및 라이트 유닛{LIGHT EMITTING DEVICE, LIGHT EMITTING DEVICE PACKAGE, AND LIGHT UNIT}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a light emitting device, a light emitting device package,

실시 예는 발광소자, 발광소자 패키지 및 라이트 유닛에 관한 것이다.Embodiments relate to a light emitting device, a light emitting device package, and a light unit.

발광소자의 하나로서 발광 다이오드(LED: Light Emitting Diode)가 많이 사용되고 있다. 발광 다이오드는 화합물 반도체의 특성을 이용해 전기 신호를 적외선, 가시광선, 자외선과 같은 빛의 형태로 변환한다.Light emitting diodes (LEDs) are widely used as light emitting devices. Light emitting diodes convert electrical signals into light, such as infrared, visible, and ultraviolet, using the properties of compound semiconductors.

발광소자의 광 효율이 증가됨에 따라 표시장치, 조명기기를 비롯한 다양한 분야에 발광소자가 적용되고 있다.As the light efficiency of a light emitting device is increased, a light emitting device is applied to various fields including a display device and a lighting device.

실시 예는 지향각을 조정하고 광 출력 방향을 조정할 수 있는 발광소자, 발광소자 패키지, 라이트 유닛을 제공한다.The embodiment provides a light emitting device, a light emitting device package, and a light unit capable of adjusting a directing angle and adjusting a light output direction.

실시 예에 따른 발광소자는, 제1 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층 아래에 활성층, 상기 활성층 아래에 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광구조물; 상기 발광구조물 아래에 배치된 반사전극; 상기 발광구조물 위의 외곽부 둘레에 배치된 지지부; 상기 지지부 위에 배치된 반사층; 을 포함한다.The light emitting device according to the embodiment may include a light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer under the first conductive semiconductor layer, and a second conductive semiconductor layer under the active layer; A reflective electrode disposed under the light emitting structure; A support disposed around an outer portion of the light emitting structure; A reflective layer disposed on the support; .

실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 몸체; 상기 몸체 위에 배치된 발광소자; 상기 발광소자에 전기적으로 연결된 제1 리드 전극 및 제2 리드 전극; 을 포함하고, 상기 발광소자는, 제1 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층 아래에 활성층, 상기 활성층 아래에 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광구조물; 상기 발광구조물 아래에 배치된 반사전극; 상기 발광구조물 위의 외곽부 둘레에 배치된 지지부; 상기 지지부 위에 배치된 반사층; 을 포함한다.A light emitting device package according to an embodiment includes a body; A light emitting element disposed on the body; A first lead electrode and a second lead electrode electrically connected to the light emitting element; A light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer below the first conductivity type semiconductor layer, and a second conductivity type semiconductor layer below the active layer; A reflective electrode disposed under the light emitting structure; A support disposed around an outer portion of the light emitting structure; A reflective layer disposed on the support; .

실시 예에 따른 라이트 유닛은, 기판; 상기 기판 위에 배치된 발광소자; 상기 발광소자로부터 제공되는 빛이 지나가는 광학 부재; 를 포함하고, 상기 발광소자는, 제1 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층 아래에 활성층, 상기 활성층 아래에 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광구조물; 상기 발광구조물 아래에 배치된 반사전극; 상기 발광구조물 위의 외곽부 둘레에 배치된 지지부; 상기 지지부 위에 배치된 반사층; 을 포함한다.A light unit according to an embodiment includes a substrate; A light emitting element disposed on the substrate; An optical member through which the light provided from the light emitting element passes; A light emitting structure including a first conductive type semiconductor layer, an active layer below the first conductive type semiconductor layer, and a second conductive type semiconductor layer below the active layer; A reflective electrode disposed under the light emitting structure; A support disposed around an outer portion of the light emitting structure; A reflective layer disposed on the support; .

실시 예에 따른 발광소자, 발광소자 패키지, 라이트 유닛은 지향각을 조정하고 광 출력 방향을 조정할 수 있는 장점이 있다.The light emitting device, the light emitting device package, and the light unit according to the embodiment have an advantage of adjusting the directivity angle and the light output direction.

도 1은 실시 예에 따른 발광소자를 나타낸 도면이다.
도 2 내지 도 6은 실시 예에 따른 발광소자 제조방법을 나타낸 도면이다.
도 7 및 도 8은 실시 예에 따른 발광소자의 전극 및 패드부를 설명하는 도면이다.
도 9 내지 도 11은 실시 예에 따른 발광소자의 변형 예를 나타낸 도면이다.
도 12는 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 나타낸 도면이다.
도 13은 실시 예에 따른 표시장치를 나타낸 도면이다.
도 14는 실시 예에 따른 표시장치의 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 15 내지 도 17은 실시 예에 따른 조명장치를 나타낸 도면이다.
도 18 및 도 19는 실시 예에 따른 조명장치의 다른 예를 나타낸 도면이다.
1 is a view illustrating a light emitting device according to an embodiment.
2 to 6 illustrate a method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment.
7 and 8 are views illustrating an electrode and a pad unit of a light emitting device according to the embodiment.
9 to 11 are diagrams showing modified examples of the light emitting device according to the embodiment.
12 is a view showing a light emitting device package according to an embodiment.
13 is a diagram illustrating a display device according to an exemplary embodiment.
14 is a diagram illustrating another example of a display device according to an exemplary embodiment.
15 to 17 are views illustrating a lighting apparatus according to an embodiment.
18 and 19 are diagrams illustrating another example of the lighting apparatus according to the embodiment.

실시 예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on)"에 또는 "하/아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on)"와 "하/아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), region, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under" a substrate, each layer It is to be understood that the terms " on "and " under" include both " directly "or" indirectly " do. In addition, the criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.

도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시될 수 있다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.The thickness and size of each layer in the drawings may be exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of explanation. In addition, the size of each component does not necessarily reflect the actual size.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예들에 따른 발광소자, 발광소자 패키지, 라이트 유닛 및 발광소자 제조방법에 대해 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, a light emitting device, a light emitting device package, a light unit, and a method of manufacturing a light emitting device according to embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 실시 예에 따른 발광소자를 나타낸 도면이다.1 is a view illustrating a light emitting device according to an embodiment.

실시 예에 따른 발광소자는, 도 1에 도시된 바와 같이, 발광구조물(10), 반사전극(17), 지지부(30), 반사층(40)을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 1, the light emitting device according to the embodiment may include a light emitting structure 10, a reflective electrode 17, a support 30, and a reflective layer 40.

상기 발광구조물(10)은 제1 도전형 반도체층(11), 활성층(12), 제2 도전형 반도체층(13)을 포함할 수 있다. 상기 활성층(12)은 상기 제1 도전형 반도체층(11)과 상기 제2 도전형 반도체층(13) 사이에 배치될 수 있다. 상기 활성층(12)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 아래에 배치될 수 있으며, 상기 제2 도전형 반도체층(13)은 상기 활성층(12) 아래에 배치될 수 있다.The light emitting structure 10 may include a first conductivity type semiconductor layer 11, an active layer 12, and a second conductivity type semiconductor layer 13. The active layer 12 may be disposed between the first conductive semiconductor layer 11 and the second conductive semiconductor layer 13. The active layer 12 may be disposed under the first conductive semiconductor layer 11 and the second conductive semiconductor layer 13 may be disposed under the active layer 12.

예로써, 상기 제1 도전형 반도체층(11)이 제1 도전형 도펀트로서 n형 도펀트가 첨가된 n형 반도체층으로 형성되고, 상기 제2 도전형 반도체층(13)이 제2 도전형 도펀트로서 p형 도펀트가 첨가된 p형 반도체층으로 형성될 수 있다. 또한 상기 제1 도전형 반도체층(11)이 p형 반도체층으로 형성되고, 상기 제2 도전형 반도체층(13)이 n형 반도체층으로 형성될 수도 있다.For example, the first conductivity type semiconductor layer 11 is formed of an n-type semiconductor layer doped with an n-type dopant as a first conductivity type dopant, and the second conductivity type semiconductor layer 13 is formed of an n- Type semiconductor layer to which a p-type dopant is added. The first conductivity type semiconductor layer 11 may be formed of a p-type semiconductor layer, and the second conductivity type semiconductor layer 13 may be formed of an n-type semiconductor layer.

상기 제1 도전형 반도체층(11)은 예를 들어, n형 반도체층을 포함할 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(11)은 화합물 반도체로 구현될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(11)은 예로서 II족-VI족 화합물 반도체 또는 III족-V족 화합물 반도체로 구현될 수 있다. The first conductive semiconductor layer 11 may include, for example, an n-type semiconductor layer. The first conductive semiconductor layer 11 may be formed of a compound semiconductor. The first conductive semiconductor layer 11 may be formed of, for example, a Group II-VI compound semiconductor or a Group III-V compound semiconductor.

예컨대, 상기 제1 도전형 반도체층(11)은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 구현될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(11)은, 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 등에서 선택될 수 있으며, Si, Ge, Sn, Se, Te 등의 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.For example, the first conductivity type semiconductor layer 11 may be a semiconductor having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + Material. The first conductive semiconductor layer 11 may be selected from among GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, An n-type dopant such as Se or Te can be doped.

상기 활성층(12)은 상기 제1 도전형 반도체층(11)을 통해서 주입되는 전자(또는 정공)와 상기 제2 도전형 반도체층(13)을 통해서 주입되는 정공(또는 전자)이 서로 만나서, 상기 활성층(12)의 형성 물질에 따른 에너지 밴드(Energy Band)의 밴드갭(Band Gap) 차이에 의해서 빛을 방출하는 층이다. 상기 활성층(12)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The active layer 12 is formed in such a manner that electrons (or holes) injected through the first conductive type semiconductor layer 11 and holes (or electrons) injected through the second conductive type semiconductor layer 13 meet with each other, And is a layer that emits light due to a band gap difference of an energy band according to a material of the active layer 12. [ The active layer 12 may be formed of any one of a single well structure, a multi-well structure, a quantum dot structure and a quantum wire structure, but is not limited thereto.

상기 활성층(12)은 화합물 반도체로 구현될 수 있다. 상기 활성층(12)은 예로서 II족-VI족 또는 III족-V족 화합물 반도체로 구현될 수 있다.상기 활성층(12)은 예로서 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 구현될 수 있다. 상기 활성층(12)이 상기 다중 우물 구조로 구현된 경우, 상기 활성층(12)은 복수의 우물층과 복수의 장벽층이 적층되어 구현될 수 있으며, 예를 들어, InGaN 우물층/GaN 장벽층의 주기로 구현될 수 있다.The active layer 12 may be formed of a compound semiconductor. The active layer 12 may be implemented by way of example to the Group II -VI group or a group III -V compound semiconductor. The active layer 12 is an example of a In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤x 1, 0? Y? 1, 0? X + y? 1). When the active layer 12 is implemented in the multi-well structure, the active layer 12 may be formed by stacking a plurality of well layers and a plurality of barrier layers. For example, the InGaN well layer / GaN barrier layer . ≪ / RTI >

상기 제2 도전형 반도체층(13)은 예를 들어, p형 반도체층으로 구현될 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층(13)은 화합물 반도체로 구현될 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층(13)은 예로서 II족-VI족 화합물 반도체 또는 III족-V족 화합물 반도체로 구현될 수 있다. The second conductive semiconductor layer 13 may be formed of, for example, a p-type semiconductor layer. The second conductive semiconductor layer 13 may be formed of a compound semiconductor. The second conductivity-type semiconductor layer 13 may be implemented by, for example, a group II-VI compound semiconductor or a group III-V compound semiconductor.

예컨대, 상기 제2 도전형 반도체층(13)은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 구현될 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층(13)은, 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 등에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.For example, the second conductivity type semiconductor layer 13 may be a semiconductor having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + Material. The second conductive semiconductor layer 13 may be selected from GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, A p-type dopant such as Sr, Ba or the like may be doped.

한편, 상기 제1 도전형 반도체층(11)이 p형 반도체층을 포함하고 상기 제2 도전형 반도체층(13)이 n형 반도체층을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제2 도전형 반도체층(13) 아래에는 n형 또는 p형 반도체층을 포함하는 반도체층이 더 형성될 수도 있다. 이에 따라, 상기 발광구조물(10)은 np, pn, npn, pnp 접합 구조 중 적어도 어느 하나를 가질 수 있다. 또한, 상기 제1 도전형 반도체층(11) 및 상기 제2 도전형 반도체층(13) 내의 불순물의 도핑 농도는 균일 또는 불균일하게 형성될 수 있다. 즉, 상기 발광구조물(10)의 구조는 다양하게 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.Meanwhile, the first conductive semiconductor layer 11 may include a p-type semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer 13 may include an n-type semiconductor layer. Also, a semiconductor layer including an n-type or p-type semiconductor layer may be further formed under the second conductivity type semiconductor layer 13. Accordingly, the light emitting structure 10 may have at least one of np, pn, npn, and pnp junction structures. The doping concentration of impurities in the first conductivity type semiconductor layer 11 and the second conductivity type semiconductor layer 13 may be uniform or non-uniform. That is, the structure of the light emitting structure 10 may be variously formed, but the present invention is not limited thereto.

또한, 상기 제1 도전형 반도체층(11)과 상기 활성층(12) 사이에는 제1 도전형 InGaN/GaN 슈퍼래티스 구조 또는 InGaN/InGaN 슈퍼래티스 구조가 형성될 수도 있다. 또한, 상기 제2 도전형 반도체층(13)과 상기 활성층(12) 사이에는 제2 도전형의 AlGaN층이 형성될 수도 있다.Also, a first conductive InGaN / GaN superlattice structure or an InGaN / InGaN superlattice structure may be formed between the first conductive semiconductor layer 11 and the active layer 12. In addition, a second conductive type AlGaN layer may be formed between the second conductive type semiconductor layer 13 and the active layer 12.

상기 발광구조물(10) 아래에 상기 반사전극(17)이 배치될 수 있다. 상기 발광구조물(10)과 상기 반사전극(17) 사이에 오믹접촉층(15)이 더 배치될 수 있다. 상기 발광구조물(10) 아래 및 상기 오믹접촉층(15) 둘레에 금속층(50)이 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)은 상기 발광구조물(10)의 하부 둘레에 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)은 상기 반사전극(17)의 둘레에 배치될 수 있다. The reflective electrode 17 may be disposed under the light emitting structure 10. An ohmic contact layer 15 may be further disposed between the light emitting structure 10 and the reflective electrode 17. The metal layer 50 may be disposed under the light emitting structure 10 and around the ohmic contact layer 15. The metal layer 50 may be disposed around the bottom of the light emitting structure 10. The metal layer 50 may be disposed around the reflective electrode 17.

상기 금속층(50)의 제1 영역은 상기 발광구조물(10)의 하부에 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제1 영역은 상기 발광구조물(10)의 하부에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제2 영역은 상기 제1 영역으로부터 바깥 방향으로 연장되어 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제2 영역은 상기 제1 영역으로부터 수평 방향으로 연장되어 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제2 영역은 상기 발광구조물(10)의 하부 둘레 외곽으로 노출될 수 있다. The first region of the metal layer 50 may be disposed under the light emitting structure 10. The first region of the metal layer 50 may be in contact with the lower portion of the light emitting structure 10. The second region of the metal layer 50 may extend in an outward direction from the first region. The second region of the metal layer 50 may extend in a horizontal direction from the first region. The second region of the metal layer 50 may be exposed to the outer periphery of the lower portion of the light emitting structure 10.

상기 오믹접촉층(15)은 예컨대 투명 전도성 산화막층으로 형성될 수 있다. 상기 오믹접촉층(15)은 예로서 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), AZO(Aluminum Zinc Oxide), AGZO(Aluminum Gallium Zinc Oxide), IZTO(Indium Zinc Tin Oxide), IAZO(Indium Aluminum Zinc Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), IGTO(Indium Gallium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide), GZO(Gallium Zinc Oxide), IZON(IZO Nitride), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, Pt, Ag 중에서 선택된 적어도 하나의 물질로 형성될 수 있다.The ohmic contact layer 15 may be formed of, for example, a transparent conductive oxide layer. The ohmic contact layer 15 may include, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), aluminum zinc oxide (AZO), aluminum gallium zinc oxide (AGZO), indium zinc tin oxide (IZTO), and inaz Aluminum Zinc Oxide (IGZO), Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO), Indium Gallium Tin Oxide (IGTO), Antimony Tin Oxide (ATO), Gallium Zinc Oxide (GZO), IZON (IZO Nitride), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, Pt It may be formed of at least one material selected from Ag.

상기 반사전극(17)은 고 반사율을 갖는 금속 재질로 형성될 수 있다. 예컨대 상기 반사전극(17)은 Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Cu, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하는 금속 또는 합금으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 반사전극(17)은 상기 금속 또는 합금과 ITO(Indium-Tin-Oxide), IZO(Indium-Zinc-Oxide), IZTO(Indium-Zinc-Tin-Oxide), IAZO(Indium-Aluminum-Zinc-Oxide), IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide), IGTO(Indium-Gallium-Tin-Oxide), AZO(Aluminum-Zinc-Oxide), ATO(Antimony-Tin-Oxide) 등의 투광성 전도성 물질을 이용하여 다층으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서 상기 반사전극(17)은 Ag, Al, Ag-Pd-Cu 합금, 또는 Ag-Cu 합금 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The reflective electrode 17 may be formed of a metal material having a high reflectance. For example, the reflective electrode 17 may be formed of a metal or an alloy including at least one of Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Cu, Au, and Hf. In addition, the reflective electrode 17 may be formed of indium-tin-oxide (ITO), indium-zinc-oxide (IZO), indium-zinc-tin-oxide (IZTO), and indium-aluminum-zinc (AZO). Transmissive conductive materials such as -Oxide, IGZO (Indium-Gallium-Zinc-Oxide), IGTO (Indium-Gallium-Tin-Oxide), AZO (Aluminum-Zinc-Oxide) and ATO (Antimony-Tin-Oxide) It can be formed in a multi-layer. For example, the reflective electrode 17 may include at least one of Ag, Al, Ag-Pd-Cu alloy, or Ag-Cu alloy.

상기 오믹접촉층(15)은 상기 발광구조물(10)과 오믹 접촉이 되도록 형성될 수 있다. 또한 상기 반사전극(17)은 상기 발광구조물(10)로부터 입사되는 빛을 반사시켜 외부로 추출되는 광량을 증가시키는 기능을 수행할 수 있다.The ohmic contact layer 15 may be formed in ohmic contact with the light emitting structure 10. In addition, the reflective electrode 17 may function to increase the amount of light extracted to the outside by reflecting light incident from the light emitting structure 10.

상기 금속층(50)은 Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, Mo 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 금속층(50)은 확산장벽층의 기능을 수행할 수도 있다. 상기 금속층(50) 아래에 본딩층(60), 지지부재(70)가 배치될 수 있다. The metal layer 50 may include at least one of Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, and Mo materials. The metal layer 50 may function as a diffusion barrier layer. The bonding layer 60 and the support member 70 may be disposed below the metal layer 50.

상기 금속층(50)은 상기 본딩층(60)이 제공되는 공정에서 상기 본딩층(60)에 포함된 물질이 상기 반사전극(17) 방향으로 확산되는 것을 방지하는 기능을 수행할 수 있다. 상기 금속층(50)은 상기 본딩층(60)에 포함된 주석(Sn) 등의 물질이 상기 반사전극(17)에 영향을 미치는 것을 방지할 수 있다. The metal layer 50 may perform a function of preventing a material included in the bonding layer 60 from diffusing toward the reflective electrode 17 in a process in which the bonding layer 60 is provided. The metal layer 50 may prevent a material such as tin (Sn) included in the bonding layer 60 from affecting the reflective electrode 17.

상기 본딩층(60)은 베리어 금속 또는 본딩 금속 등을 포함하며, 예를 들어, Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd 또는 Ta 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 지지부재(70)는 실시 예에 따른 발광구조물(10)을 지지하며 방열 기능을 수행할 수 있다. 상기 본딩층(60)은 시드층으로 구현될 수도 있다.The bonding layer 60 may include at least one of Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd, . The support member 70 supports the light emitting structure 10 according to the embodiment and can perform a heat dissipation function. The bonding layer 60 may be implemented as a seed layer.

상기 지지부재(70)는 예를 들어, Ti, Cr, Ni, Al, Pt, Au, W, Cu, Mo, Cu-W 또는 불순물이 주입된 반도체 기판(예: Si, Ge, GaN, GaAs, ZnO, SiC, SiGe 등) 중에서 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 상기 지지부재(70)는 예로서 절연물질로 구현될 수도 있다.The supporting member 70 may be a semiconductor substrate (for example, Si, Ge, GaN, GaAs, or the like) into which Ti, Cr, Ni, Al, Pt, Au, W, Cu, Mo, Cu- ZnO, SiC, SiGe, and the like). The support member 70 may be implemented by an insulating material, for example.

한편, 상기 제1 도전형 반도체층(11)에 전기적으로 연결된 전극(80)이 배치될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(11) 위에 상기 전극(80)이 배치될 수 있다. 상기 전극(80)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 상부면에 접촉될 수 있다. 실시 예에 의하면, 상기 반사전극(17) 및 상기 전극(80)을 통하여 상기 발광구조물(10)에 전원이 인가될 수 있게 된다.Meanwhile, an electrode 80 electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer 11 may be disposed. The electrode 80 may be disposed on the first conductivity type semiconductor layer 11. The electrode 80 may be in contact with an upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 11. According to an embodiment, power may be applied to the light emitting structure 10 through the reflective electrode 17 and the electrode 80.

실시 예에 의하면, 상기 전극(80)은 다층 구조로 구현될 수도 있다. 상기 전극(80)은 오믹층, 중간층, 상부층으로 구현될 수 있다. 상기 오믹층은 Cr, V, W, Ti, Zn 등에서 선택된 물질을 포함하여 오믹 접촉을 구현할 수 있다. 상기 중간층은 Ni, Cu, Al 등에서 선택된 물질로 구현될 수 있다. 상기 상부층은 예컨대 Au를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the electrode 80 may be implemented in a multilayer structure. The electrode 80 may be implemented as an ohmic layer, an intermediate layer, and an upper layer. The ohmic layer may include a material selected from the group consisting of Cr, V, W, Ti, and Zn to realize ohmic contact. The intermediate layer may be formed of a material selected from Ni, Cu, Al, and the like. The upper layer may comprise, for example, Au.

상기 발광구조물(10)의 상부면에 광 추출 패턴이 제공될 수 있다. 상기 발광구조물(10)의 상부면에 요철 패턴이 제공될 수 있다. 상기 발광구조물(10)에 제공되는 광 추출 패턴은 하나의 예로서 PEC (Photo Electro Chemical) 식각 공정에 의하여 형성될 수 있다. 이에 따라 실시 예에 의하면 외부 광 추출 효과를 상승시킬 수 있게 된다.A light extraction pattern may be provided on an upper surface of the light emitting structure 10. An uneven pattern may be provided on an upper surface of the light emitting structure 10. The light extracting pattern provided in the light emitting structure 10 may be formed by a PEC (Photo Electro Chemical) etching process as an example. Accordingly, according to the embodiment, the effect of extracting external light can be increased.

실시 예에 의하면, 상기 발광구조물(10) 위에 상기 지지부(30)가 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10) 위에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 예로서 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 제1 도전형 반도체층(11)에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)에 제공된 광추출 구조 위에 배치될 수 있다. 예컨대, 상기 지지부(30)는 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)의 상부 면으로부터 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다.According to an embodiment, the support part 30 may be disposed on the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be disposed around an outer portion of the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the first conductivity type semiconductor layer 11. The support part 30 may be disposed on the light extraction structure provided in the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers. The support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers from an upper surface of the light emitting structure 10.

예로서, 상기 지지부(30)는 무기 절연물 또는 유기 절연물을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 금속을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 Al2O3, SiO2, 포토 레지스트, 레진, 금속, 산화물, 질화물 등에서 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다. 상기 레진은 실리콘 또는 에폭시를 포함할 수 있다.For example, the support part 30 may include an inorganic insulator or an organic insulator. The support part 30 may include a metal. The support part 30 may include at least one material from Al 2 O 3 , SiO 2 , photoresist, resin, metal, oxide, nitride, and the like. The resin may comprise silicone or epoxy.

상기 지지부(30)의 측면은 경사면을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면은 예로서 상기 발광구조물(10)의 수평면으로부터 70도 내지 85도의 경사로 형성될 수 있다.The side surface of the support part 30 may include an inclined surface. Side surfaces of the support part 30 may be formed at an inclination of 70 degrees to 85 degrees from a horizontal plane of the light emitting structure 10, for example.

상기 지지부(30) 위에 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면에 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 측면에 배치될 수 있다. 상기 반사부(40)는 금속 물질을 포함할 수 있다. 예컨대 상기 반사부(40)는 Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au 등에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.The reflective layer 40 may be disposed on the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on an upper surface of the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on the side surface of the support part 30. The reflector 40 may include a metal material. For example, the reflector 40 may include at least one material selected from Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au, and the like.

상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)에 의하여 상기 발광구조물(10)로부터 발광되는 빛이 상기 반사층(40)에 반사됨으로써 외부로 추출되는 빛의 광출사 방향이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)에 의하여 지향각이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면 및 측면에 균일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면이 경사면으로 형성됨에 따라, 상기 반사층(40)이 수평면에 대해 경사면으로 배치될 수 있으며 외부로 추출되는 빛의 출사 방향을 조정할 수 있게 된다. 예컨대, 상기 지지부(30)의 높이는 상기 발광구조물(10)의 폭에 비하여 0.3 내지 1.0 배의 높이로 구현될 수 있다. 또한 상기 지지부(30)의 측면은 수평면에 대하여 예로서 70도 내지 85도의 각도로 구현될 수 있다.As the light emitted from the light emitting structure 10 is reflected by the support part 30 and the reflective layer 40, the light exit direction of light extracted to the outside may be adjusted. The orientation angle can be adjusted by the reflective layer 40. The reflective layer 40 may be formed to have a uniform thickness on the upper and side surfaces of the support part 30. As the side surface of the support part 30 is formed as an inclined surface, the reflective layer 40 may be disposed as an inclined surface with respect to the horizontal surface, and the emission direction of light extracted to the outside may be adjusted. For example, the height of the support part 30 may be implemented as 0.3 to 1.0 times the height of the width of the light emitting structure 10. In addition, the side surface of the support 30 may be implemented at an angle of 70 to 85 degrees with respect to the horizontal plane as an example.

한편, 상기 전극(80)에는 외부로부터 전원이 제공될 수 있다. 상기 전극(80)의 형상은 다양하게 배치될 수 있는데, 하나의 예로서 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 상기 전극(80)이 배치될 수 있다. 도 7은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 및 패드부(83) 배치를 나타낸 평면도이고, 도 8은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 형상을 나타낸 도면이다.On the other hand, the electrode 80 may be provided with power from the outside. The electrode 80 may have various shapes, and as an example, the electrode 80 may be disposed as illustrated in FIGS. 7 and 8. 7 is a plan view showing the arrangement of the electrode 80 and the pad portion 83 of the light emitting device according to the embodiment, Figure 8 is a view showing the shape of the electrode 80 of the light emitting device according to the embodiment.

실시 예에 따른 상기 전극(80)은 예로서 십자 형상으로 배치될 수 있다. 상기 전극(80)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 위에 십자 형상으로 배치될 수 있다. 또한 외곽부에 상기 금속층(50)이 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)과 상기 제1 도전형 반도체층(11) 사이에 상기 지지부(30)와 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 전극(80)의 일부 영역은 상기 지지부(30) 아래에 배치될 수 있으며, 상기 전극(80)은 패드부(83)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 패드부(83)는 상기 지지부(30) 외곽으로 노출될 수 있게 된다. 이에 따라 상기 패드부(83)는 와이어 본딩 등의 연결 수단을 통하여 외부 전원과 전기적으로 용이하게 연결될 수 있게 된다. 상기 패드부(83)는 복수로 형성될 수 있으며, 상기 전극(80)의 형상도 다양하게 변형될 수 있다.The electrode 80 according to the embodiment may be arranged in a cross shape, for example. The electrode 80 may be arranged in a cross shape on the first conductivity type semiconductor layer 11. In addition, the metal layer 50 may be disposed at an outer portion. The support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed between the metal layer 50 and the first conductive semiconductor layer 11. Some regions of the electrode 80 may be disposed under the support part 30, and the electrode 80 may be electrically connected to the pad part 83. The pad portion 83 may be exposed to the outside of the support portion 30. Accordingly, the pad portion 83 may be easily connected to an external power source through a connection means such as wire bonding. The pad part 83 may be formed in plural, and the shape of the electrode 80 may also be variously modified.

또한, 실시 예에서는 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)이 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치된 경우를 기준으로 설명되었으나, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 상기 발광구조물(10)의 가장자리뿐만 아니라 중심 영역에 배치될 수도 있다. 예컨대, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 도 7에 도시된 십자형의 상기 전극(80) 위에 배치될 수도 있다. 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)의 배치 구조는 다양하게 변형될 수 있다. 또한, 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 안쪽 측면에 형성될 수도 있으며, 상기 지지부(30)의 바깥쪽 측면에 배치될 수도 있다. 상기 지지부(30)의 바깥쪽 측면도 경사면을 갖도록 형성될 수 있다. In addition, in the exemplary embodiment, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described on the basis of being disposed around the outer periphery of the light emitting structure 10. However, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described above. In addition to the edge of the light emitting structure 10 may be disposed in the center area. For example, the support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed on the cross-shaped electrode 80 shown in FIG. 7. The arrangement structure of the support part 30 and the reflective layer 40 may be variously modified. In addition, the reflective layer 40 may be formed on the inner side of the support 30, or may be disposed on the outer side of the support 30. The outer side surface of the support part 30 may also be formed to have an inclined surface.

그러면 도 2 내지 도 6을 참조하여 실시 예에 따른 발광소자 제조방법을 설명하기로 한다.A method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment will now be described with reference to FIGS. 2 to 6. FIG.

실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하면, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(5) 위에 제1 도전형 반도체층(11), 활성층(12), 제2 도전형 반도체층(13)을 형성한다. 상기 제1 도전형 반도체층(11), 상기 활성층(12), 상기 제2 도전형 반도체층(13)은 발광구조물(10)로 정의될 수 있다.According to the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment, as shown in FIG. 2, the first conductive semiconductor layer 11, the active layer 12, and the second conductive semiconductor layer 13 are formed on the substrate 5. do. The first conductive semiconductor layer 11, the active layer 12, and the second conductive semiconductor layer 13 may be defined as a light emitting structure 10.

상기 기판(5)은 예를 들어, 사파이어 기판(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge 중 적어도 하나로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 제1 도전형 반도체층(11)과 상기 기판(5) 사이에는 버퍼층이 더 형성될 수 있다. The substrate 5 may be formed of at least one of, for example, a sapphire substrate (Al 2 O 3 ), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP and Ge. A buffer layer may be further formed between the first conductivity type semiconductor layer 11 and the substrate 5.

예로써, 상기 제1 도전형 반도체층(11)이 제1 도전형 도펀트로서 n형 도펀트가 첨가된 n형 반도체층으로 형성되고, 상기 제2 도전형 반도체층(13)이 제2 도전형 도펀트로서 p형 도펀트가 첨가된 p형 반도체층으로 형성될 수 있다. 또한 상기 제1 도전형 반도체층(11)이 p형 반도체층으로 형성되고, 상기 제2 도전형 반도체층(13)이 n형 반도체층으로 형성될 수도 있다.For example, the first conductivity type semiconductor layer 11 is formed of an n-type semiconductor layer doped with an n-type dopant as a first conductivity type dopant, and the second conductivity type semiconductor layer 13 is formed of an n- Type semiconductor layer to which a p-type dopant is added. The first conductivity type semiconductor layer 11 may be formed of a p-type semiconductor layer, and the second conductivity type semiconductor layer 13 may be formed of an n-type semiconductor layer.

상기 제1 도전형 반도체층(11)은 예를 들어, n형 반도체층을 포함할 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(11)은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(11)은, 예를 들어 InAlGaN, GaN, AlGaN, AlInN, InGaN, AlN, InN 등에서 선택될 수 있으며, Si, Ge, Sn, Se, Te 등의 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.The first conductive semiconductor layer 11 may include, for example, an n-type semiconductor layer. The first conductive semiconductor layer 11 is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + . The first conductivity type semiconductor layer 11 may be selected from InAlGaN, GaN, AlGaN, AlInN, InGaN, AlN, InN and the like, and an n-type dopant such as Si, Ge, Sn, .

상기 활성층(12)은 상기 제1 도전형 반도체층(11)을 통해서 주입되는 전자(또는 정공)와 상기 제2 도전형 반도체층(13a)을 통해서 주입되는 정공(또는 전자)이 서로 만나서, 상기 활성층(12a)의 형성 물질에 따른 에너지 밴드(Energy Band)의 밴드갭(Band Gap) 차이에 의해서 빛을 방출하는 층이다. 상기 활성층(12)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the active layer 12, electrons (or holes) injected through the first conductive semiconductor layer 11 and holes (or electrons) injected through the second conductive semiconductor layer 13a meet each other. It is a layer that emits light due to a band gap difference of an energy band according to a material forming the active layer 12a. The active layer 12 may be formed of any one of a single well structure, a multi-well structure, a quantum dot structure and a quantum wire structure, but is not limited thereto.

상기 활성층(12)은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 활성층(12)이 상기 다중 우물 구조로 형성된 경우, 상기 활성층(12)은 복수의 우물층과 복수의 장벽층이 적층되어 형성될 수 있으며, 예를 들어, InGaN 우물층/GaN 장벽층의 주기로 형성될 수 있다.The active layer 12 may be formed of a semiconductor material having a compositional formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x + y≤1). When the active layer 12 is formed in the multi-well structure, the active layer 12 may be formed by stacking a plurality of well layers and a plurality of barrier layers, for example, at intervals of an InGaN well layer / GaN barrier layer. Can be formed.

상기 제2 도전형 반도체층(13)은 예를 들어, p형 반도체층으로 구현될 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층(13)은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층(13)은, 예를 들어 InAlGaN, GaN, AlGaN, InGaN, AlInN, AlN, InN 등에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.The second conductive semiconductor layer 13 may be formed of, for example, a p-type semiconductor layer. The second conductivity type semiconductor layer 13 is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + . The second conductivity type semiconductor layer 13 may be selected from among InAlGaN, GaN, AlGaN, InGaN, AlInN, AlN and InN. The p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, .

한편, 상기 제1 도전형 반도체층(11)이 p형 반도체층을 포함하고 상기 제2 도전형 반도체층(13)이 n형 반도체층을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제2 도전형 반도체층(13) 위에는 n형 또는 p형 반도체층을 포함하는 반도체층이 더 형성될 수도 있으며, 이에 따라, 상기 발광구조물(10)은 np, pn, npn, pnp 접합 구조 중 적어도 어느 하나를 가질 수 있다. 또한, 상기 제1 도전형 반도체층(11) 및 상기 제2 도전형 반도체층(13) 내의 불순물의 도핑 농도는 균일 또는 불균일하게 형성될 수 있다. 즉, 상기 발광구조물(10)의 구조는 다양하게 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.Meanwhile, the first conductive semiconductor layer 11 may include a p-type semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer 13 may include an n-type semiconductor layer. In addition, a semiconductor layer including an n-type or p-type semiconductor layer may be further formed on the second conductive type semiconductor layer 13. Thus, the light emitting structure 10 may include np, pn, npn, Or a structure thereof. The doping concentration of impurities in the first conductivity type semiconductor layer 11 and the second conductivity type semiconductor layer 13 may be uniform or non-uniform. That is, the structure of the light emitting structure 10 may be variously formed, but the present invention is not limited thereto.

또한, 상기 제1 도전형 반도체층(11)과 상기 활성층(12) 사이에는 제1 도전형 InGaN/GaN 슈퍼래티스 구조 또는 InGaN/InGaN 슈퍼래티스 구조가 형성될 수도 있다. 또한, 상기 제2 도전형 반도체층(13)과 상기 활성층(12) 사이에는 제2 도전형의 AlGaN층이 형성될 수도 있다.Also, a first conductive InGaN / GaN superlattice structure or an InGaN / InGaN superlattice structure may be formed between the first conductive semiconductor layer 11 and the active layer 12. In addition, a second conductive type AlGaN layer may be formed between the second conductive type semiconductor layer 13 and the active layer 12.

다음으로, 도 3에 나타낸 바와 같이, 상기 발광구조물(10) 위에 오믹접촉층(15)과 반사전극(17)이 형성될 수 있다. Next, as shown in FIG. 3, an ohmic contact layer 15 and a reflective electrode 17 may be formed on the light emitting structure 10.

상기 오믹접촉층(15)은 예컨대 투명 전도성 산화막층으로 형성될 수 있다. 상기 오믹접촉층(15)은 예로서 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), AZO(Aluminum Zinc Oxide), AGZO(Aluminum Gallium Zinc Oxide), IZTO(Indium Zinc Tin Oxide), IAZO(Indium Aluminum Zinc Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), IGTO(Indium Gallium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide), GZO(Gallium Zinc Oxide), IZON(IZO Nitride), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, Pt, Ag 중에서 선택된 적어도 하나의 물질로 형성될 수 있다.The ohmic contact layer 15 may be formed of, for example, a transparent conductive oxide layer. The ohmic contact layer 15 may include, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), aluminum zinc oxide (AZO), aluminum gallium zinc oxide (AGZO), indium zinc tin oxide (IZTO), and inaz Aluminum Zinc Oxide (IGZO), Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO), Indium Gallium Tin Oxide (IGTO), Antimony Tin Oxide (ATO), Gallium Zinc Oxide (GZO), IZON (IZO Nitride), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, Pt It may be formed of at least one material selected from Ag.

상기 반사전극(17)은 고 반사율을 갖는 금속 재질로 형성될 수 있다. 예컨대 상기 반사전극(17)은 Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Cu, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하는 금속 또는 합금으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 반사전극(17)은 상기 금속 또는 합금과 ITO(Indium-Tin-Oxide), IZO(Indium-Zinc-Oxide), IZTO(Indium-Zinc-Tin-Oxide), IAZO(Indium-Aluminum-Zinc-Oxide), IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide), IGTO(Indium-Gallium-Tin-Oxide), AZO(Aluminum-Zinc-Oxide), ATO(Antimony-Tin-Oxide) 등의 투광성 전도성 물질을 이용하여 다층으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서 상기 반사전극(17)은 Ag, Al, Ag-Pd-Cu 합금, 또는 Ag-Cu 합금 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The reflective electrode 17 may be formed of a metal material having a high reflectance. For example, the reflective electrode 17 may be formed of a metal or an alloy including at least one of Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Cu, Au, and Hf. In addition, the reflective electrode 17 may be formed of indium-tin-oxide (ITO), indium-zinc-oxide (IZO), indium-zinc-tin-oxide (IZTO), and indium-aluminum-zinc (AZO). Transmissive conductive materials such as -Oxide, IGZO (Indium-Gallium-Zinc-Oxide), IGTO (Indium-Gallium-Tin-Oxide), AZO (Aluminum-Zinc-Oxide) and ATO (Antimony-Tin-Oxide) It can be formed in a multi-layer. For example, the reflective electrode 17 may include at least one of Ag, Al, Ag-Pd-Cu alloy, or Ag-Cu alloy.

또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 반사전극(17) 위에 금속층(50)이 형성될 수 있다. 상기 금속층(50)은 상기 오믹접촉층(15) 둘레 및 상기 반사전극(17) 위에 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)은 Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, Mo 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 금속층(50)은 확산장벽층의 기능을 수행할 수도 있다.In addition, as illustrated in FIG. 3, a metal layer 50 may be formed on the reflective electrode 17. The metal layer 50 may be disposed around the ohmic contact layer 15 and on the reflective electrode 17. The metal layer 50 may include at least one of Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, and Mo materials. The metal layer 50 may function as a diffusion barrier layer.

한편, 위에서 설명된 각 층의 형성 공정은 하나의 예시이며, 그 공정 순서는 다양하게 변형될 수 있다.On the other hand, the forming process of each layer described above is one example, and the process sequence can be variously modified.

다음으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 금속층(50) 위에 본딩층(60), 지지부재(70)가 형성될 수 있다. 상기 금속층(50)은 상기 본딩층(60)이 제공되는 공정에서 상기 본딩층(60)에 포함된 물질이 상기 반사전극(17) 방향으로 확산되는 것을 방지하는 기능을 수행할 수 있다. 상기 금속층(50)은 상기 본딩층(60)에 포함된 주석(Sn) 등의 물질이 상기 반사전극(17)에 영향을 미치는 것을 방지할 수 있다. Next, as shown in FIG. 4, a bonding layer 60 and a support member 70 may be formed on the metal layer 50. The metal layer 50 may perform a function of preventing a material included in the bonding layer 60 from diffusing toward the reflective electrode 17 in a process in which the bonding layer 60 is provided. The metal layer 50 may prevent a material such as tin (Sn) included in the bonding layer 60 from affecting the reflective electrode 17.

상기 본딩층(60)은 베리어 금속 또는 본딩 금속 등을 포함하며, 예를 들어, Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd 또는 Ta 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 지지부재(70)는 실시 예에 따른 발광구조물(10)을 지지하며 방열 기능을 수행할 수 있다. 상기 본딩층(60)은 시드층으로 구현될 수도 있다.The bonding layer 60 may include at least one of Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd, . The support member 70 supports the light emitting structure 10 according to the embodiment and can perform a heat dissipation function. The bonding layer 60 may be implemented as a seed layer.

상기 지지부재(70)는 예를 들어, Ti, Cr, Ni, Al, Pt, Au, W, Cu, Mo, Cu-W 또는 불순물이 주입된 반도체 기판(예: Si, Ge, GaN, GaAs, ZnO, SiC, SiGe 등) 중에서 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.The supporting member 70 may be a semiconductor substrate (for example, Si, Ge, GaN, GaAs, or the like) into which Ti, Cr, Ni, Al, Pt, Au, W, Cu, Mo, Cu- ZnO, SiC, SiGe, and the like).

다음으로 상기 제1 도전형 반도체층(11)으로부터 상기 기판(5)을 제거한다. 하나의 예로서, 상기 기판(5)은 레이저 리프트 오프(LLO: Laser Lift Off) 공정에 의해 제거될 수 있다. 레이저 리프트 오프 공정(LLO)은 상기 기판(5)의 하면에 레이저를 조사하여, 상기 기판(5)과 상기 제1 도전형 반도체층(11)을 서로 박리시키는 공정이다.Next, the substrate 5 is removed from the first conductivity type semiconductor layer 11. As one example, the substrate 5 may be removed by a laser lift off (LLO) process. The laser lift-off process LLO is a process of irradiating a lower surface of the substrate 5 to peel the substrate 5 and the first conductive semiconductor layer 11 from each other.

그리고, 도 5에 도시된 바와 같이, 아이솔레이션 에칭을 수행하여 상기 발광구조물(10)의 측면을 식각하고 상기 금속층(50)의 일부 영역이 노출될 수 있게 된다. 상기 아이솔레이션 에칭은 예를 들어, ICP(Inductively Coupled Plasma)와 같은 건식 식각에 의해 실시될 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. As shown in FIG. 5, the side surface of the light emitting structure 10 may be etched by isolating etching, and a portion of the metal layer 50 may be exposed. The isolation etching can be performed by, for example, dry etching such as ICP (Inductively Coupled Plasma), but is not limited thereto.

상기 금속층(50)의 제1 영역은 상기 발광구조물(10)의 하부에 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제1 영역은 상기 발광구조물(10)의 하부에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제2 영역은 상기 제1 영역으로부터 바깥 방향으로 연장되어 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제2 영역은 상기 제1 영역으로부터 수평 방향으로 연장되어 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)의 제2 영역은 상기 발광구조물(10)의 하부 둘레 외곽으로 노출될 수 있다. The first region of the metal layer 50 may be disposed under the light emitting structure 10. The first region of the metal layer 50 may be in contact with the lower portion of the light emitting structure 10. The second region of the metal layer 50 may extend in an outward direction from the first region. The second region of the metal layer 50 may extend in a horizontal direction from the first region. The second region of the metal layer 50 may be exposed to the outer periphery of the lower portion of the light emitting structure 10.

또한, 상기 발광구조물(10)의 상부면에 광 추출 패턴이 제공될 수 있다. 상기 발광구조물(10)의 상부면에 요철 패턴이 제공될 수 있다. 예로서 상기 광 추출 패턴은 PEC 식각 공정에 의하여 형성될 수 있다. 이에 따라 실시 예에 의하면 외부 광 추출 효과를 상승시킬 수 있게 된다. 실시 예에 의하면, 상기 발광구조물(10)의 상부면이 N 면으로 형성될 수 있으며, Ga 면으로 형성되는 경우에 비하여 표면 거칠기가 크므로 광 추출 효율이 더 향상될 수 있게 된다.In addition, a light extraction pattern may be provided on an upper surface of the light emitting structure 10. An uneven pattern may be provided on an upper surface of the light emitting structure 10. For example, the light extraction pattern may be formed by a PEC etching process. Accordingly, according to the embodiment, the effect of extracting external light can be increased. According to the embodiment, the upper surface of the light emitting structure 10 may be formed in the N plane, the surface roughness is larger than the case where the Ga surface is formed in the light extraction efficiency can be further improved.

또한, 도 5에 나타낸 바와 같이, 상기 제1 도전형 반도체층(11)에 전기적으로 연결된 전극(80)이 배치될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(11) 위에 상기 전극(80)이 배치될 수 있다. 상기 전극(80)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 상부면에 접촉될 수 있다. 실시 예에 의하면, 상기 반사전극(17) 및 상기 전극(80)을 통하여 상기 발광구조물(10)에 전원이 인가될 수 있게 된다. In addition, as illustrated in FIG. 5, an electrode 80 electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer 11 may be disposed. The electrode 80 may be disposed on the first conductivity type semiconductor layer 11. The electrode 80 may be in contact with an upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 11. According to an embodiment, power may be applied to the light emitting structure 10 through the reflective electrode 17 and the electrode 80.

실시 예에 의하면, 상기 전극(80)은 다층 구조로 구현될 수도 있다. 상기 전극(80)은 오믹층, 중간층, 상부층으로 구현될 수 있다. 상기 오믹층은 Cr, V, W, Ti, Zn 등에서 선택된 물질을 포함하여 오믹 접촉을 구현할 수 있다. 상기 중간층은 Ni, Cu, Al 등에서 선택된 물질로 구현될 수 있다. 상기 상부층은 예컨대 Au를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the electrode 80 may be implemented in a multilayer structure. The electrode 80 may be implemented as an ohmic layer, an intermediate layer, and an upper layer. The ohmic layer may include a material selected from the group consisting of Cr, V, W, Ti, and Zn to realize ohmic contact. The intermediate layer may be formed of a material selected from Ni, Cu, Al, and the like. The upper layer may comprise, for example, Au.

다음으로, 도 6에 나타낸 바와 같이, 상기 발광구조물(10) 위에 지지부(30)와 반사층(40)이 형성될 수 있다. Next, as shown in FIG. 6, the support part 30 and the reflective layer 40 may be formed on the light emitting structure 10.

실시 예에 의하면, 상기 발광구조물(10) 위에 상기 지지부(30)가 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10) 위에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 예로서 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 제1 도전형 반도체층(11)에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)에 제공된 광추출 구조 위에 배치될 수 있다. 예컨대, 상기 지지부(30)는 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)의 상부 면으로부터 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다.According to an embodiment, the support part 30 may be disposed on the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be disposed around an outer portion of the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the first conductivity type semiconductor layer 11. The support part 30 may be disposed on the light extraction structure provided in the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers. The support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers from an upper surface of the light emitting structure 10.

예로서, 상기 지지부(30)는 무기 절연물 또는 유기 절연물을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 금속을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 Al2O3, SiO2, 포토 레지스트, 레진, 금속, 산화물, 질화물 등에서 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.For example, the support part 30 may include an inorganic insulator or an organic insulator. The support part 30 may include a metal. The support part 30 may include at least one material from Al 2 O 3, SiO 2, photoresist, resin, metal, oxide, nitride, and the like.

상기 지지부(30)의 측면은 경사면을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면은 예로서 상기 발광구조물(10)의 수평면으로부터 70도 내지 85도의 경사로 형성될 수 있다.The side surface of the support part 30 may include an inclined surface. Side surfaces of the support part 30 may be formed at an inclination of 70 degrees to 85 degrees from a horizontal plane of the light emitting structure 10, for example.

상기 지지부(30) 위에 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면에 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 측면에 배치될 수 있다. 상기 반사부(40)는 금속 물질을 포함할 수 있다. 예컨대 상기 반사부(40)는 Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au 등에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.The reflective layer 40 may be disposed on the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on an upper surface of the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on the side surface of the support part 30. The reflector 40 may include a metal material. For example, the reflector 40 may include at least one material selected from Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au, and the like.

상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)에 의하여 상기 발광구조물(10)로부터 발광되는 빛이 상기 반사층(40)에 반사됨으로써 외부로 추출되는 빛의 광출사 방향이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)에 의하여 지향각이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면 및 측면에 균일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면이 경사면으로 형성됨에 따라, 상기 반사층(40)이 수평면에 대해 경사면으로 배치될 수 있으며 외부로 추출되는 빛의 출사 방향을 조정할 수 있게 된다. 예컨대, 상기 지지부(30)의 높이는 상기 발광구조물(10)의 폭에 비하여 0.3 내지 1.0 배의 높이로 구현될 수 있다. 또한 상기 지지부(30)의 측면은 수평면에 대하여 예로서 70도 내지 85도의 각도로 구현될 수 있다.As the light emitted from the light emitting structure 10 is reflected by the support part 30 and the reflective layer 40, the light exit direction of light extracted to the outside may be adjusted. The orientation angle can be adjusted by the reflective layer 40. The reflective layer 40 may be formed to have a uniform thickness on the upper and side surfaces of the support part 30. As the side surface of the support part 30 is formed as an inclined surface, the reflective layer 40 may be disposed as an inclined surface with respect to the horizontal surface, and the emission direction of light extracted to the outside may be adjusted. For example, the height of the support part 30 may be implemented as 0.3 to 1.0 times the height of the width of the light emitting structure 10. In addition, the side surface of the support 30 may be implemented at an angle of 70 to 85 degrees with respect to the horizontal plane as an example.

한편, 상기 전극(80)에는 외부로부터 전원이 제공될 수 있다. 상기 전극(80)의 형상은 다양하게 배치될 수 있는데, 하나의 예로서 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 상기 전극(80)이 배치될 수 있다. 도 7은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 및 패드부(83) 배치를 나타낸 평면도이고, 도 8은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 형상을 나타낸 도면이다.On the other hand, the electrode 80 may be provided with power from the outside. The electrode 80 may have various shapes, and as an example, the electrode 80 may be disposed as illustrated in FIGS. 7 and 8. 7 is a plan view showing the arrangement of the electrode 80 and the pad portion 83 of the light emitting device according to the embodiment, Figure 8 is a view showing the shape of the electrode 80 of the light emitting device according to the embodiment.

실시 예에 따른 상기 전극(80)은 예로서 십자 형상으로 배치될 수 있다. 상기 전극(80)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 위에 십자 형상으로 배치될 수 있다. 또한 외곽부에 상기 금속층(50)이 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)과 상기 제1 도전형 반도체층(11) 사이에 상기 지지부(30)와 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 전극(80)의 일부 영역은 상기 지지부(30) 아래에 배치될 수 있으며, 상기 전극(80)은 패드부(83)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 패드부(83)는 상기 지지부(30) 외곽으로 노출될 수 있게 된다. 이에 따라 상기 패드부(83)는 와이어 본딩 등의 연결 수단을 통하여 외부 전원과 전기적으로 용이하게 연결될 수 있게 된다. The electrode 80 according to the embodiment may be arranged in a cross shape, for example. The electrode 80 may be arranged in a cross shape on the first conductivity type semiconductor layer 11. In addition, the metal layer 50 may be disposed at an outer portion. The support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed between the metal layer 50 and the first conductive semiconductor layer 11. Some regions of the electrode 80 may be disposed under the support part 30, and the electrode 80 may be electrically connected to the pad part 83. The pad portion 83 may be exposed to the outside of the support portion 30. Accordingly, the pad portion 83 may be easily connected to an external power source through a connection means such as wire bonding.

또한, 실시 예에서는 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)이 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치된 경우를 기준으로 설명되었으나, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 상기 발광구조물(10)의 가장자리뿐만 아니라 중심 영역에 배치될 수도 있다. 예컨대, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 도 7에 도시된 십자형의 상기 전극(80) 위에 배치될 수도 있다. 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)의 배치 구조는 다양하게 변형될 수 있다.In addition, in the exemplary embodiment, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described on the basis of being disposed around the outer periphery of the light emitting structure 10. However, the support part 30 and the reflective layer 40 In addition to the edge of the light emitting structure 10 may be disposed in the center area. For example, the support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed on the cross-shaped electrode 80 shown in FIG. 7. The arrangement structure of the support part 30 and the reflective layer 40 may be variously modified.

도 9는 실시 예에 따른 발광소자의 다른 예를 나타낸 도면이다. 도 9에 도시된 실시 예에 따른 발광소자를 설명함에 있어, 도 1을 참조하여 설명된 부분과 중복되는 부분에 대해서는 설명을 생략하기로 한다.9 is a view showing another example of a light emitting device according to the embodiment. In the description of the light emitting device according to the exemplary embodiment illustrated in FIG. 9, the description of parts overlapping with those described with reference to FIG. 1 will be omitted.

실시 예에 의하면, 상기 발광구조물(10) 위에 상기 지지부(30)가 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10) 위에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 예로서 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 제1 도전형 반도체층(11)에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)에 제공된 광추출 구조 위에 배치될 수 있다. According to an embodiment, the support part 30 may be disposed on the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be disposed around an outer portion of the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the first conductivity type semiconductor layer 11. The support part 30 may be disposed on the light extraction structure provided in the light emitting structure 10.

상기 지지부(30)의 일부 영역은 상기 발광구조물(10)의 측면에 배치될 수 있다. 상기 발광구조물(10) 하부 둘레에 금속층(50)이 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)의 일부 영역은 상기 금속층(50) 위에 접촉되어 배치될 수 있다. Some regions of the support part 30 may be disposed on side surfaces of the light emitting structure 10. The metal layer 50 may be disposed around the lower portion of the light emitting structure 10. Some regions of the support part 30 may be disposed in contact with the metal layer 50.

한편, 실시 예에서는 상기 지지부(30)가 상기 발광구조물(10) 위의 외곽부 둘레 및 상기 발광구조물(10)의 측면에 배치된 경우를 기준으로 설명하였으나, 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)의 측면에만 배치될 수도 있다. Meanwhile, in the embodiment, the support part 30 has been described based on a case where the support part 30 is disposed on the periphery of the light emitting structure 10 and on the side surface of the light emitting structure 10. However, the support part 30 is the light emitting structure. It may be arranged only on the side of (10).

예컨대, 상기 지지부(30)는 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)의 상부 면으로부터 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다.For example, the support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers. The support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers from an upper surface of the light emitting structure 10.

예로서, 상기 지지부(30)는 무기 절연물 또는 유기 절연물을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 Al2O3, SiO2, 포토 레지스트, 레진, 산화물, 질화물 등에서 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.For example, the support part 30 may include an inorganic insulator or an organic insulator. The support part 30 may include at least one material from Al 2 O 3 , SiO 2 , photoresist, resin, oxide, nitride, and the like.

상기 지지부(30)의 측면은 경사면을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면은 예로서 상기 발광구조물(10)의 수평면으로부터 70도 내지 85도의 경사로 형성될 수 있다.The side surface of the support part 30 may include an inclined surface. Side surfaces of the support part 30 may be formed at an inclination of 70 degrees to 85 degrees from a horizontal plane of the light emitting structure 10, for example.

상기 지지부(30) 위에 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면에 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 측면에 배치될 수 있다. 상기 반사부(40)는 금속 물질을 포함할 수 있다. 예컨대 상기 반사부(40)는 Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au 등에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.The reflective layer 40 may be disposed on the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on an upper surface of the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on the side surface of the support part 30. The reflector 40 may include a metal material. For example, the reflector 40 may include at least one material selected from Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au, and the like.

상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)에 의하여 상기 발광구조물(10)로부터 발광되는 빛이 상기 반사층(40)에 반사됨으로써 외부로 추출되는 빛의 광출사 방향이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)에 의하여 지향각이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면 및 측면에 균일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면이 경사면으로 형성됨에 따라, 상기 반사층(40)이 수평면에 대해 경사면으로 배치될 수 있으며 외부로 추출되는 빛의 출사 방향을 조정할 수 있게 된다. 예컨대, 상기 지지부(30)의 높이는 상기 발광구조물(10)의 폭에 비하여 0.3 내지 1.0 배의 높이로 구현될 수 있다. 또한 상기 지지부(30)의 측면은 수평면에 대하여 예로서 70도 내지 85도의 각도로 구현될 수 있다.As the light emitted from the light emitting structure 10 is reflected by the support part 30 and the reflective layer 40, the light exit direction of light extracted to the outside may be adjusted. The orientation angle can be adjusted by the reflective layer 40. The reflective layer 40 may be formed to have a uniform thickness on the upper and side surfaces of the support part 30. As the side surface of the support part 30 is formed as an inclined surface, the reflective layer 40 may be disposed as an inclined surface with respect to the horizontal surface, and the emission direction of light extracted to the outside may be adjusted. For example, the height of the support part 30 may be implemented as 0.3 to 1.0 times the height of the width of the light emitting structure 10. In addition, the side surface of the support 30 may be implemented at an angle of 70 to 85 degrees with respect to the horizontal plane as an example.

한편, 상기 전극(80)에는 외부로부터 전원이 제공될 수 있다. 상기 전극(80)의 형상은 다양하게 배치될 수 있는데, 하나의 예로서 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 상기 전극(80) 및 패드부(83)가 배치될 수 있다. 도 7은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 및 패드부(83) 배치를 나타낸 평면도이고, 도 8은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 형상을 나타낸 도면이다.On the other hand, the electrode 80 may be provided with power from the outside. The electrode 80 may have various shapes, and as an example, the electrode 80 and the pad portion 83 may be disposed as illustrated in FIGS. 7 and 8. 7 is a plan view showing the arrangement of the electrode 80 and the pad portion 83 of the light emitting device according to the embodiment, Figure 8 is a view showing the shape of the electrode 80 of the light emitting device according to the embodiment.

실시 예에 따른 상기 전극(80)은 예로서 십자 형상으로 배치될 수 있다. 상기 전극(80)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 위에 십자 형상으로 배치될 수 있다. 또한 외곽부에 상기 금속층(50)이 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)과 상기 제1 도전형 반도체층(11) 사이에 상기 지지부(30)와 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 전극(80)의 일부 영역은 상기 지지부(30) 아래에 배치될 수 있으며, 상기 전극(80)은 패드부(83)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 패드부(83)는 상기 지지부(30) 외곽으로 노출될 수 있게 된다. 이에 따라 상기 패드부(83)는 와이어 본딩 등의 연결 수단을 통하여 외부 전원과 전기적으로 용이하게 연결될 수 있게 된다. The electrode 80 according to the embodiment may be arranged in a cross shape, for example. The electrode 80 may be arranged in a cross shape on the first conductivity type semiconductor layer 11. In addition, the metal layer 50 may be disposed at an outer portion. The support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed between the metal layer 50 and the first conductive semiconductor layer 11. Some regions of the electrode 80 may be disposed under the support part 30, and the electrode 80 may be electrically connected to the pad part 83. The pad portion 83 may be exposed to the outside of the support portion 30. Accordingly, the pad portion 83 may be easily connected to an external power source through a connection means such as wire bonding.

또한, 실시 예에서는 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)이 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치된 경우를 기준으로 설명되었으나, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 상기 발광구조물(10)의 가장자리뿐만 아니라 중심 영역에 배치될 수도 있다. 예컨대, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 도 7에 도시된 십자형의 상기 전극(80) 위에 배치될 수도 있다. 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)의 배치 구조는 다양하게 변형될 수 있다.In addition, in the exemplary embodiment, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described on the basis of being disposed around the outer periphery of the light emitting structure 10. However, the support part 30 and the reflective layer 40 In addition to the edge of the light emitting structure 10 may be disposed in the center area. For example, the support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed on the cross-shaped electrode 80 shown in FIG. 7. The arrangement structure of the support part 30 and the reflective layer 40 may be variously modified.

도 11은 실시 예에 따른 발광소자의 다른 예를 나타낸 도면이다. 도 11에 도시된 실시 예에 따른 발광소자를 설명함에 있어, 도 1을 참조하여 설명된 부분과 중복되는 부분에 대해서는 설명을 생략하기로 한다.11 is a view showing another example of the light emitting device according to the embodiment. In the description of the light emitting device according to the exemplary embodiment illustrated in FIG. 11, the description of parts overlapping with those described with reference to FIG. 1 will be omitted.

실시 예에 의하면, 상기 발광구조물(10) 위에 상기 지지부(30)가 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10) 위에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 예로서 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 제1 도전형 반도체층(11)에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)에 제공된 광추출 구조 위에 배치될 수 있다. 예컨대, 상기 지지부(30)는 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)의 상부 면으로부터 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다.According to an embodiment, the support part 30 may be disposed on the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be disposed around an outer portion of the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the first conductivity type semiconductor layer 11. The support part 30 may be disposed on the light extraction structure provided in the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers. The support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers from an upper surface of the light emitting structure 10.

예로서, 상기 지지부(30)는 무기 절연물 또는 유기 절연물을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 금속을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 Al2O3, SiO2, 포토 레지스트, 레진, 금속, 산화물, 질화물 등에서 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.For example, the support part 30 may include an inorganic insulator or an organic insulator. The support part 30 may include a metal. The support part 30 may include at least one material from Al 2 O 3, SiO 2, photoresist, resin, metal, oxide, nitride, and the like.

상기 지지부(30)의 측면은 경사면을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면은 예로서 상기 발광구조물(10)의 수평면으로부터 70도 내지 85도의 경사로 형성될 수 있다.The side surface of the support part 30 may include an inclined surface. Side surfaces of the support part 30 may be formed at an inclination of 70 degrees to 85 degrees from a horizontal plane of the light emitting structure 10, for example.

상기 지지부(30) 위에 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면에 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 측면에 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 안쪽 측면에 배치될 수도 있으며, 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 바깥쪽 측면에 배치될 수도 있다. 상기 반사부(40)는 금속 물질을 포함할 수 있다. 예컨대 상기 반사부(40)는 Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au 등에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.The reflective layer 40 may be disposed on the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on an upper surface of the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on the side surface of the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on an inner side surface of the support part 30, and the reflective layer 40 may be disposed on an outer side surface of the support part 30. The reflector 40 may include a metal material. For example, the reflector 40 may include at least one material selected from Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au, and the like.

상기 발광구조물(10) 하부 둘레에 채널층(45)이 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)의 일부 영역은 상기 발광구조물(10) 아래에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)은 금속층(50) 위에 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)은 반사전극(17)과 상기 발광구조물(10) 사이에 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)은 오믹접촉층(15)과 상기 발광구조물(10) 사이에 배치될 수 있다. 예로서 상기 지지부(30)는 상기 채널층(45) 위에 배치될 수 있다. 상기 반사부(40)는 상기 채널층(45) 위에 배치될 수 있다.The channel layer 45 may be disposed around the lower portion of the light emitting structure 10. Some regions of the channel layer 45 may be disposed under the light emitting structure 10. The channel layer 45 may be disposed on the metal layer 50. The channel layer 45 may be disposed between the reflective electrode 17 and the light emitting structure 10. The channel layer 45 may be disposed between the ohmic contact layer 15 and the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be disposed on the channel layer 45. The reflector 40 may be disposed on the channel layer 45.

상기 채널층(45)은 예를 들어, 전기 절연성을 갖는 재질 또는 상기 발광구조물(10)에 비해 낮은 전기 전도성을 갖는 재질로 형성될 수 있다. 상기 채널층(45)은 예컨대 산화물 또는 질화물로 구현될 수 있다. 예를 들어, 상기 채널층(45)은 Si02, SixOy, Si3N4, SixNy, SiOxNy, Al2O3, TiO2, ITO, AZO, ZnO 등으로 이루어진 군에서 적어도 하나가 선택되어 형성될 수 있다. 상기 채널층(45)은 아이솔레이션층으로 지칭될 수도 있다.The channel layer 45 may be formed of, for example, a material having electrical insulation or a material having low electrical conductivity compared to the light emitting structure 10. The channel layer 45 may be formed of, for example, oxide or nitride. For example, the channel layer 45 is made of Si0 2 , Si x O y , Si 3 N 4 , Si x N y , SiO x N y , Al 2 O 3 , TiO 2 , ITO, AZO, ZnO, and the like. At least one selected from the group may be formed. The channel layer 45 may also be referred to as an isolation layer.

상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)에 의하여 상기 발광구조물(10)로부터 발광되는 빛이 상기 반사층(40)에 반사됨으로써 외부로 추출되는 빛의 광출사 방향이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)에 의하여 지향각이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면 및 측면에 균일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면이 경사면으로 형성됨에 따라, 상기 반사층(40)이 수평면에 대해 경사면으로 배치될 수 있으며 외부로 추출되는 빛의 출사 방향을 조정할 수 있게 된다. 예컨대, 상기 지지부(30)의 높이는 상기 발광구조물(10)의 폭에 비하여 0.3 내지 1.0 배의 높이로 구현될 수 있다. 또한 상기 지지부(30)의 측면은 수평면에 대하여 예로서 70도 내지 85도의 각도로 구현될 수 있다.As the light emitted from the light emitting structure 10 is reflected by the support part 30 and the reflective layer 40, the light exit direction of light extracted to the outside may be adjusted. The orientation angle can be adjusted by the reflective layer 40. The reflective layer 40 may be formed to have a uniform thickness on the upper and side surfaces of the support part 30. As the side surface of the support part 30 is formed as an inclined surface, the reflective layer 40 may be disposed as an inclined surface with respect to the horizontal surface, and the emission direction of light extracted to the outside may be adjusted. For example, the height of the support part 30 may be implemented as 0.3 to 1.0 times the height of the width of the light emitting structure 10. In addition, the side surface of the support 30 may be implemented at an angle of 70 to 85 degrees with respect to the horizontal plane as an example.

한편, 상기 전극(80)에는 외부로부터 전원이 제공될 수 있다. 상기 전극(80)의 형상은 다양하게 배치될 수 있는데, 하나의 예로서 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 상기 전극(80) 및 패드부(83)가 배치될 수 있다. 도 7은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 및 패드부(83) 배치를 나타낸 평면도이고, 도 8은 실시 예에 따른 발광소자의 전극(80) 형상을 나타낸 도면이다.On the other hand, the electrode 80 may be provided with power from the outside. The electrode 80 may have various shapes, and as an example, the electrode 80 and the pad portion 83 may be disposed as illustrated in FIGS. 7 and 8. 7 is a plan view showing the arrangement of the electrode 80 and the pad portion 83 of the light emitting device according to the embodiment, Figure 8 is a view showing the shape of the electrode 80 of the light emitting device according to the embodiment.

실시 예에 따른 상기 전극(80)은 예로서 십자 형상으로 배치될 수 있다. 상기 전극(80)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 위에 십자 형상으로 배치될 수 있다. 또한 외곽부에 상기 금속층(50)이 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)과 상기 제1 도전형 반도체층(11) 사이에 상기 지지부(30)와 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 전극(80)의 일부 영역은 상기 지지부(30) 아래에 배치될 수 있으며, 상기 전극(80)은 패드부(83)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 패드부(83)는 상기 지지부(30) 외곽으로 노출될 수 있게 된다. 이에 따라 상기 패드부(83)는 와이어 본딩 등의 연결 수단을 통하여 외부 전원과 전기적으로 용이하게 연결될 수 있게 된다. The electrode 80 according to the embodiment may be arranged in a cross shape, for example. The electrode 80 may be arranged in a cross shape on the first conductivity type semiconductor layer 11. In addition, the metal layer 50 may be disposed at an outer portion. The support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed between the metal layer 50 and the first conductive semiconductor layer 11. Some regions of the electrode 80 may be disposed under the support part 30, and the electrode 80 may be electrically connected to the pad part 83. The pad portion 83 may be exposed to the outside of the support portion 30. Accordingly, the pad portion 83 may be easily connected to an external power source through a connection means such as wire bonding.

또한, 실시 예에서는 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)이 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치된 경우를 기준으로 설명되었으나, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 상기 발광구조물(10)의 가장자리뿐만 아니라 중심 영역에 배치될 수도 있다. 예컨대, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 도 7에 도시된 십자형의 상기 전극(80) 위에 배치될 수도 있다. 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)의 배치 구조는 다양하게 변형될 수 있다.In addition, in the exemplary embodiment, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described on the basis of being disposed around the outer periphery of the light emitting structure 10. However, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described above. In addition to the edge of the light emitting structure 10 may be disposed in the center area. For example, the support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed on the cross-shaped electrode 80 shown in FIG. 7. The arrangement structure of the support part 30 and the reflective layer 40 may be variously modified.

도 10은 실시 예에 따른 발광소자의 다른 예를 나타낸 도면이다. 도 10에 도시된 실시 예에 따른 발광소자를 설명함에 있어, 도 1을 참조하여 설명된 부분과 중복되는 부분에 대해서는 설명을 생략하기로 한다.10 is a view showing another example of a light emitting device according to the embodiment. In the description of the light emitting device according to the exemplary embodiment illustrated in FIG. 10, the description of parts overlapping with those described with reference to FIG. 1 will be omitted.

실시 예에 의하면, 상기 발광구조물(10) 위에 상기 지지부(30)가 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10) 위에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 예로서 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 제1 도전형 반도체층(11)에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)에 제공된 광추출 구조 위에 배치될 수 있다. According to an embodiment, the support part 30 may be disposed on the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be disposed around an outer portion of the light emitting structure 10. The support part 30 may be disposed in contact with the first conductivity type semiconductor layer 11. The support part 30 may be disposed on the light extraction structure provided in the light emitting structure 10.

상기 지지부(30)의 일부 영역은 상기 발광구조물(10)의 측면에 배치될 수 있다. 상기 발광구조물(10) 하부 둘레에 채널층(45)이 배치될 수 있다. 상기 지지부(30)의 일부 영역은 상기 채널층(45) 위에 접촉되어 배치될 수 있다. Some regions of the support part 30 may be disposed on side surfaces of the light emitting structure 10. The channel layer 45 may be disposed around the lower portion of the light emitting structure 10. Some regions of the support part 30 may be disposed in contact with the channel layer 45.

한편, 실시 예에서는 상기 지지부(30)가 상기 발광구조물(10) 위의 외곽부 둘레 및 상기 발광구조물(10)의 측면에 배치된 경우를 기준으로 설명하였으나, 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)의 측면에만 배치될 수도 있다. Meanwhile, in the embodiment, the support part 30 has been described based on a case where the support part 30 is disposed on the periphery of the light emitting structure 10 and on the side surface of the light emitting structure 10. However, the support part 30 is the light emitting structure. It may be arranged only on the side of (10).

예컨대, 상기 지지부(30)는 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)는 상기 발광구조물(10)의 상부 면으로부터 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성될 수 있다.For example, the support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers. The support part 30 may be formed at a height of 10 micrometers to 500 micrometers from an upper surface of the light emitting structure 10.

예로서, 상기 지지부(30)는 무기 절연물 또는 유기 절연물을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)는 Al2O3, SiO2, 포토 레지스트, 레진, 산화물, 질화물 등에서 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.For example, the support part 30 may include an inorganic insulator or an organic insulator. The support part 30 may include at least one material from Al 2 O 3, SiO 2, photoresist, resin, oxide, nitride, and the like.

상기 지지부(30)의 측면은 경사면을 포함할 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면은 예로서 상기 발광구조물(10)의 수평면으로부터 70도 내지 85도의 경사로 형성될 수 있다.The side surface of the support part 30 may include an inclined surface. Side surfaces of the support part 30 may be formed at an inclination of 70 degrees to 85 degrees from a horizontal plane of the light emitting structure 10, for example.

상기 지지부(30) 위에 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면에 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 측면에 배치될 수 있다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 안쪽 측면에 배치될 수도 있으며, 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 바깥쪽 측면에 배치될 수도 있다. 상기 반사부(40)는 금속 물질을 포함할 수 있다. 예컨대 상기 반사부(40)는 Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au 등에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.The reflective layer 40 may be disposed on the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on an upper surface of the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on the side surface of the support part 30. The reflective layer 40 may be disposed on an inner side surface of the support part 30, and the reflective layer 40 may be disposed on an outer side surface of the support part 30. The reflector 40 may include a metal material. For example, the reflector 40 may include at least one material selected from Ag, Al, Pt, Rh, Ir, Au, and the like.

상기 발광구조물(10) 하부 둘레에 상기 채널층(45)이 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)의 일부 영역은 상기 발광구조물(10) 아래에 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)은 금속층(50) 위에 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)은 반사전극(17)과 상기 발광구조물(10) 사이에 배치될 수 있다. 상기 채널층(45)은 오믹접촉층(15)과 상기 발광구조물(10) 사이에 배치될 수 있다. 예로서 상기 지지부(30)는 상기 채널층(45) 위에 배치될 수 있다. 상기 반사부(40)는 상기 채널층(45) 위에 배치될 수 있다.The channel layer 45 may be disposed around the lower portion of the light emitting structure 10. Some regions of the channel layer 45 may be disposed under the light emitting structure 10. The channel layer 45 may be disposed on the metal layer 50. The channel layer 45 may be disposed between the reflective electrode 17 and the light emitting structure 10. The channel layer 45 may be disposed between the ohmic contact layer 15 and the light emitting structure 10. For example, the support part 30 may be disposed on the channel layer 45. The reflector 40 may be disposed on the channel layer 45.

상기 채널층(45)은 예를 들어, 전기 절연성을 갖는 재질 또는 상기 발광구조물(10)에 비해 낮은 전기 전도성을 갖는 재질로 형성될 수 있다. 상기 채널층(45)은 예컨대 산화물 또는 질화물로 구현될 수 있다. 예를 들어, 상기 채널층(45)은 Si02, SixOy, Si3N4, SixNy, SiOxNy, Al2O3, TiO2, ITO, AZO, ZnO 등으로 이루어진 군에서 적어도 하나가 선택되어 형성될 수 있다. 상기 채널층(45)은 아이솔레이션층으로 지칭될 수도 있다.The channel layer 45 may be formed of, for example, a material having electrical insulation or a material having low electrical conductivity compared to the light emitting structure 10. The channel layer 45 may be formed of, for example, oxide or nitride. For example, the channel layer 45 is made of Si0 2 , Si x O y , Si 3 N 4 , Si x N y , SiO x N y , Al 2 O 3 , TiO 2 , ITO, AZO, ZnO, and the like. At least one selected from the group may be formed. The channel layer 45 may also be referred to as an isolation layer.

상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)에 의하여 상기 발광구조물(10)로부터 발광되는 빛이 상기 반사층(40)에 반사됨으로써 외부로 추출되는 빛의 광출사 방향이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)에 의하여 지향각이 조정될 수 있게 된다. 상기 반사층(40)은 상기 지지부(30)의 상부면 및 측면에 균일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 지지부(30)의 측면이 경사면으로 형성됨에 따라, 상기 반사층(40)이 수평면에 대해 경사면으로 배치될 수 있으며 외부로 추출되는 빛의 출사 방향을 조정할 수 있게 된다. As the light emitted from the light emitting structure 10 is reflected by the support part 30 and the reflective layer 40, the light exit direction of light extracted to the outside may be adjusted. The orientation angle can be adjusted by the reflective layer 40. The reflective layer 40 may be formed to have a uniform thickness on the upper and side surfaces of the support part 30. As the side surface of the support part 30 is formed as an inclined surface, the reflective layer 40 may be disposed as an inclined surface with respect to the horizontal surface, and the emission direction of light extracted to the outside may be adjusted.

예컨대, 상기 지지부(30)의 높이는 상기 발광구조물(10)의 폭에 비하여 0.3 내지 1.0 배의 높이로 구현될 수 있다. 또한 상기 지지부(30)의 측면은 수평면에 대하여 예로서 70도 내지 85도의 각도로 구현될 수 있다.For example, the height of the support part 30 may be implemented as 0.3 to 1.0 times the height of the width of the light emitting structure 10. In addition, the side surface of the support 30 may be implemented at an angle of 70 to 85 degrees with respect to the horizontal plane as an example.

한편, 상기 전극(80)에는 외부로부터 전원이 제공될 수 있다. 상기 전극(80)의 형상은 다양하게 배치될 수 있는데, 하나의 예로서 도 7에 도시된 바와 같이 상기 전극(80)이 배치될 수 있다. 도 7은 실시 예에 따른 발광소자에 배치된 전극(80) 형상을 나타낸 평면도이다.On the other hand, the electrode 80 may be provided with power from the outside. The electrode 80 may have various shapes, and as an example, the electrode 80 may be disposed as shown in FIG. 7. 7 is a plan view showing the shape of the electrode 80 disposed in the light emitting device according to the embodiment.

실시 예에 따른 상기 전극(80)은 예로서 십자 형상으로 배치될 수 있다. 상기 전극(80)은 상기 제1 도전형 반도체층(11) 위에 십자 형상으로 배치될 수 있다. 또한 외곽부에 상기 금속층(50)이 배치될 수 있다. 상기 금속층(50)과 상기 제1 도전형 반도체층(11) 사이에 상기 지지부(30)와 상기 반사층(40)이 배치될 수 있다. 상기 전극(80)의 일부 영역은 상기 지지부(30) 아래에 배치될 수 있으며, 상기 전극(80)은 패드부(83)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 패드부(83)는 상기 지지부(30) 외곽으로 노출될 수 있게 된다. 이에 따라 상기 패드부(83)는 와이어 본딩 등의 연결 수단을 통하여 외부 전원과 전기적으로 용이하게 연결될 수 있게 된다. The electrode 80 according to the embodiment may be arranged in a cross shape, for example. The electrode 80 may be arranged in a cross shape on the first conductivity type semiconductor layer 11. In addition, the metal layer 50 may be disposed at an outer portion. The support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed between the metal layer 50 and the first conductive semiconductor layer 11. Some regions of the electrode 80 may be disposed under the support part 30, and the electrode 80 may be electrically connected to the pad part 83. The pad portion 83 may be exposed to the outside of the support portion 30. Accordingly, the pad portion 83 may be easily connected to an external power source through a connection means such as wire bonding.

또한, 실시 예에서는 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)이 상기 발광구조물(10)의 외곽부 둘레에 배치된 경우를 기준으로 설명되었으나, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 상기 발광구조물(10)의 가장자리뿐만 아니라 중심 영역에 배치될 수도 있다. 예컨대, 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)은 도 7에 도시된 십자형의 상기 전극(80) 위에 배치될 수도 있다. 상기 지지부(30) 및 상기 반사층(40)의 배치 구조는 다양하게 변형될 수 있다.In addition, in the exemplary embodiment, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described on the basis of being disposed around the outer periphery of the light emitting structure 10. However, the support part 30 and the reflective layer 40 have been described above. In addition to the edge of the light emitting structure 10 may be disposed in the center area. For example, the support part 30 and the reflective layer 40 may be disposed on the cross-shaped electrode 80 shown in FIG. 7. The arrangement structure of the support part 30 and the reflective layer 40 may be variously modified.

도 12는 실시 예에 따른 발광소자가 적용된 발광소자 패키지를 나타낸 도면이다.12 is a view showing a light emitting device package to which the light emitting device according to the embodiment is applied.

도 12를 참조하면, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는 몸체(120)와, 상기 몸체(120)에 배치된 제1 리드전극(131) 및 제2 리드전극(132)과, 상기 몸체(120)에 제공되어 상기 제1 리드전극(131) 및 제2 리드전극(132)과 전기적으로 연결되는 실시 예에 따른 발광소자(100)와, 상기 발광소자(100)를 포위하는 몰딩부재(140)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 12, the light emitting device package according to the embodiment may include a body 120, a first lead electrode 131 and a second lead electrode 132 disposed on the body 120, and the body 120. The light emitting device 100 according to the embodiment, which is provided to and electrically connected to the first lead electrode 131 and the second lead electrode 132, and the molding member 140 surrounding the light emitting device 100. It may include.

상기 몸체(120)는 실리콘 재질, 합성수지 재질, 또는 금속 재질을 포함하여 형성될 수 있으며, 상기 발광소자(100)의 주위에 경사면이 형성될 수 있다.The body 120 may be formed of a silicon material, a synthetic resin material, or a metal material, and the inclined surface may be formed around the light emitting device 100.

상기 제1 리드전극(131) 및 제2 리드전극(132)은 서로 전기적으로 분리되며, 상기 발광소자(100)에 전원을 제공한다. 또한, 상기 제1 리드전극(131) 및 제2 리드전극(132)은 상기 발광소자(100)에서 발생된 빛을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있으며, 상기 발광소자(100)에서 발생된 열을 외부로 배출시키는 역할을 할 수도 있다.The first lead electrode 131 and the second lead electrode 132 are electrically separated from each other to provide power to the light emitting device 100. The first lead electrode 131 and the second lead electrode 132 may increase the light efficiency by reflecting the light generated from the light emitting device 100 and the heat generated from the light emitting device 100 To the outside.

상기 발광소자(100)는 상기 몸체(120) 위에 배치되거나 상기 제1 리드전극(131) 또는 제2 리드전극(132) 위에 배치될 수 있다.The light emitting device 100 may be disposed on the body 120 or may be disposed on the first lead electrode 131 or the second lead electrode 132.

상기 발광소자(100)는 상기 제1 리드전극(131) 및 제2 리드전극(132)과 와이어 방식, 플립칩 방식 또는 다이 본딩 방식 중 어느 하나에 의해 전기적으로 연결될 수도 있다. The light emitting device 100 may be electrically connected to the first lead electrode 131 and the second lead electrode 132 by a wire, flip chip or die bonding method.

상기 몰딩부재(140)는 상기 발광소자(100)를 포위하여 상기 발광소자(100)를 보호할 수 있다. 또한, 상기 몰딩부재(140)에는 형광체가 포함되어 상기 발광소자(100)에서 방출된 광의 파장을 변화시킬 수 있다.The molding member 140 may surround the light emitting device 100 to protect the light emitting device 100. In addition, the molding member 140 may include a phosphor to change the wavelength of light emitted from the light emitting device 100.

실시 예에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지는 복수 개가 기판 위에 어레이될 수 있으며, 상기 발광소자 패키지의 광 경로 상에 광학 부재인 렌즈, 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광소자 패키지, 기판, 광학 부재는 라이트 유닛으로 기능할 수 있다. 상기 라이트 유닛은 탑뷰 또는 사이드 뷰 타입으로 구현되어, 휴대 단말기 및 노트북 컴퓨터 등의 표시 장치에 제공되거나, 조명장치 및 지시 장치 등에 다양하게 적용될 수 있다. 또 다른 실시 예는 상술한 실시 예들에 기재된 발광소자 또는 발광소자 패키지를 포함하는 조명 장치로 구현될 수 있다. 예를 들어, 조명 장치는 램프, 가로등, 전광판, 전조등을 포함할 수 있다.A plurality of light emitting devices or light emitting device packages according to the embodiments may be arrayed on a substrate, and a lens, a light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, etc., which are optical members, may be disposed on the light path of the light emitting device package. Such a light emitting device package, a substrate, and an optical member can function as a light unit. The light unit may be implemented as a top view or a side view type and may be provided in a display device such as a portable terminal and a notebook computer, or may be variously applied to a lighting device and a pointing device. Still another embodiment may be embodied as a lighting device including the light emitting device or the light emitting device package described in the above embodiments. For example, the lighting device may include a lamp, a streetlight, an electric signboard, and a headlight.

실시 예에 따른 발광소자는 라이트 유닛에 적용될 수 있다. 상기 라이트 유닛은 복수의 발광소자가 어레이된 구조를 포함하며, 도 13 및 도 14에 도시된 표시 장치, 도 15 내지 도 19에 도시된 조명 장치를 포함할 수 있다. The light emitting device according to the embodiment can be applied to a light unit. The light unit may include a structure in which a plurality of light emitting elements are arranged, and may include a display device shown in FIGS. 13 and 14 and a lighting device shown in FIGS. 15 to 19.

도 13을 참조하면, 실시 예에 따른 표시 장치(1000)는 도광판(1041)과, 상기 도광판(1041)에 빛을 제공하는 발광 모듈(1031)과, 상기 도광판(1041) 아래에 반사 부재(1022)와, 상기 도광판(1041) 위에 광학 시트(1051)와, 상기 광학 시트(1051) 위에 표시 패널(1061)과, 상기 도광판(1041), 발광 모듈(1031) 및 반사 부재(1022)를 수납하는 바텀 커버(1011)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.Referring to FIG. 13, the display device 1000 according to the embodiment includes a light guide plate 1041, a light emitting module 1031 providing light to the light guide plate 1041, and a reflective member 1022 under the light guide plate 1041. ), An optical sheet 1051 on the light guide plate 1041, a display panel 1061, a light guide plate 1041, a light emitting module 1031, and a reflective member 1022 on the optical sheet 1051. The bottom cover 1011 may be included, but is not limited thereto.

상기 바텀 커버(1011), 반사시트(1022), 도광판(1041), 광학 시트(1051)는 라이트 유닛(1050)으로 정의될 수 있다.The bottom cover 1011, the reflective sheet 1022, the light guide plate 1041, and the optical sheet 1051 can be defined as a light unit 1050.

상기 도광판(1041)은 빛을 확산시켜 면광원화 시키는 역할을 한다. 상기 도광판(1041)은 투명한 재질로 이루어지며, 예를 들어, PMMA(polymethyl metaacrylate)와 같은 아크릴 수지 계열, PET(polyethylene terephthlate), PC(poly carbonate), COC(cycloolefin copolymer) 및 PEN(polyethylene naphthalate) 수지 중 하나를 포함할 수 있다. The light guide plate 1041 serves to diffuse light into a surface light source. The light guide plate 1041 is made of a transparent material, for example, acrylic resin-based such as polymethyl metaacrylate (PMMA), polyethylene terephthlate (PET), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymer (COC), and polyethylene naphthalate (PEN). It may include one of the resins.

상기 발광모듈(1031)은 상기 도광판(1041)의 적어도 일 측면에 빛을 제공하며, 궁극적으로는 표시 장치의 광원으로써 작용하게 된다.The light emitting module 1031 provides light to at least one side of the light guide plate 1041, and ultimately acts as a light source of the display device.

상기 발광모듈(1031)은 적어도 하나가 제공될 수 있으며, 상기 도광판(1041)의 일 측면에서 직접 또는 간접적으로 광을 제공할 수 있다. 상기 발광 모듈(1031)은 기판(1033)과 위에서 설명된 실시 예에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지(200)를 포함할 수 있다. 상기 발광소자 패키지(200)는 상기 기판(1033) 위에 소정 간격으로 어레이될 수 있다. At least one light emitting module 1031 may be provided, and light may be provided directly or indirectly from one side of the light guide plate 1041. The light emitting module 1031 may include a substrate 1033 and a light emitting device or a light emitting device package 200 according to the embodiment described above. The light emitting device package 200 may be arrayed on the substrate 1033 at predetermined intervals.

상기 기판(1033)은 회로패턴을 포함하는 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board)일 수 있다. 다만, 상기 기판(1033)은 일반 PCB 뿐 아니라, 메탈 코어 PCB(MCPCB, Metal Core PCB), 연성 PCB(FPCB, Flexible PCB) 등을 포함할 수도 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 발광소자 패키지(200)는 상기 바텀 커버(1011)의 측면 또는 방열 플레이트 위에 제공될 경우, 상기 기판(1033)은 제거될 수 있다. 여기서, 상기 방열 플레이트의 일부는 상기 바텀 커버(1011)의 상면에 접촉될 수 있다.The substrate 1033 may be a printed circuit board (PCB) including a circuit pattern. However, the substrate 1033 may include not only a general PCB but also a metal core PCB (MCPCB, Metal Core PCB), a flexible PCB (FPCB, Flexible PCB) and the like, but is not limited thereto. When the light emitting device package 200 is provided on the side surface of the bottom cover 1011 or on the heat dissipation plate, the substrate 1033 may be removed. Here, a part of the heat radiating plate may be in contact with the upper surface of the bottom cover 1011.

그리고, 상기 다수의 발광소자 패키지(200)는 빛이 방출되는 출사면이 상기 도광판(1041)과 소정 거리 이격되도록 탑재될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 발광소자 패키지(200)는 상기 도광판(1041)의 일측면인 입광부에 광을 직접 또는 간접적으로 제공할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The plurality of light emitting device packages 200 may be mounted such that the light emitting surface of the light emitting device package 200 is spaced apart from the light guiding plate 1041 by a predetermined distance, but the present invention is not limited thereto. The light emitting device package 200 may directly or indirectly provide light to the light-incident portion, which is one side of the light guide plate 1041, but is not limited thereto.

상기 도광판(1041) 아래에는 상기 반사 부재(1022)가 배치될 수 있다. 상기 반사 부재(1022)는 상기 도광판(1041)의 하면으로 입사된 빛을 반사시켜 위로 향하게 함으로써, 상기 라이트 유닛(1050)의 휘도를 향상시킬 수 있다. 상기 반사 부재(1022)는 예를 들어, PET, PC, PVC 레진 등으로 형성될 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 반사 부재(1022)는 상기 바텀 커버(1011)의 상면일 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The reflective member 1022 may be disposed under the light guide plate 1041. The reflection member 1022 reflects the light incident on the lower surface of the light guide plate 1041 so as to face upward, thereby improving the brightness of the light unit 1050. The reflective member 1022 may be formed of, for example, PET, PC, or PVC resin, but is not limited thereto. The reflective member 1022 may be an upper surface of the bottom cover 1011, but is not limited thereto.

상기 바텀 커버(1011)는 상기 도광판(1041), 발광모듈(1031) 및 반사 부재(1022) 등을 수납할 수 있다. 이를 위해, 상기 바텀 커버(1011)는 상면이 개구된 박스(box) 형상을 갖는 수납부(1012)가 구비될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 바텀 커버(1011)는 탑 커버와 결합될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The bottom cover 1011 may house the light guide plate 1041, the light emitting module 1031, the reflective member 1022, and the like. To this end, the bottom cover 1011 may be provided with a housing portion 1012 having a box-like shape with an opened upper surface, but the present invention is not limited thereto. The bottom cover 1011 may be coupled to the top cover, but is not limited thereto.

상기 바텀 커버(1011)는 금속 재질 또는 수지 재질로 형성될 수 있으며, 프레스 성형 또는 압출 성형 등의 공정을 이용하여 제조될 수 있다. 또한 상기 바텀 커버(1011)는 열 전도성이 좋은 금속 또는 비 금속 재료를 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The bottom cover 1011 may be formed of a metal material or a resin material, and may be manufactured using a process such as press molding or extrusion molding. In addition, the bottom cover 1011 may include a metal or a non-metal material having good thermal conductivity, but the present invention is not limited thereto.

상기 표시 패널(1061)은 예컨대, LCD 패널로서, 서로 대향되는 투명한 재질의 제1 및 제2 기판, 그리고 제1 및 제2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함한다. 상기 표시 패널(1061)의 적어도 일면에는 편광판이 부착될 수 있으며, 이러한 편광판의 부착 구조로 한정하지는 않는다. 상기 표시 패널(1061)은 광학 시트(1051)를 통과한 광에 의해 정보를 표시하게 된다. 이러한 표시 장치(1000)는 각 종 휴대 단말기, 노트북 컴퓨터의 모니터, 랩탑 컴퓨터의 모니터, 텔레비젼 등에 적용될 수 있다. The display panel 1061 is, for example, an LCD panel, including first and second transparent substrates facing each other, and a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates. A polarizing plate may be attached to at least one surface of the display panel 1061, but the present invention is not limited thereto. The display panel 1061 displays information by light passing through the optical sheet 1051. Such a display device 1000 can be applied to various types of portable terminals, monitors of notebook computers, monitors of laptop computers, televisions, and the like.

상기 광학 시트(1051)는 상기 표시 패널(1061)과 상기 도광판(1041) 사이에 배치되며, 적어도 한 장의 투광성 시트를 포함한다. 상기 광학 시트(1051)는 예컨대 확산 시트, 수평 및 수직 프리즘 시트, 및 휘도 강화 시트 등과 같은 시트 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 확산 시트는 입사되는 광을 확산시켜 주고, 상기 수평 또는/및 수직 프리즘 시트는 입사되는 광을 표시 영역으로 집광시켜 주며, 상기 휘도 강화 시트는 손실되는 광을 재사용하여 휘도를 향상시켜 준다. 또한 상기 표시 패널(1061) 위에는 보호 시트가 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The optical sheet 1051 is disposed between the display panel 1061 and the light guide plate 1041 and includes at least one light-transmitting sheet. The optical sheet 1051 may include at least one of a sheet such as a diffusion sheet, a horizontal and vertical prism sheet, and a brightness enhancement sheet. The diffusion sheet diffuses incident light, and the horizontal and / or vertical prism sheet condenses incident light into a display area. The brightness enhancing sheet improves the brightness by reusing the lost light. A protective sheet may be disposed on the display panel 1061, but the present invention is not limited thereto.

여기서, 상기 발광 모듈(1031)의 광 경로 상에는 광학 부재로서, 상기 도광판(1041) 및 광학 시트(1051)를 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.Here, the optical path of the light emitting module 1031 may include the light guide plate 1041 and the optical sheet 1051 as an optical member, but the present invention is not limited thereto.

도 14는 실시 예에 따른 표시 장치의 다른 예를 나타낸 도면이다. 14 is a diagram illustrating another example of a display device according to an exemplary embodiment.

도 14를 참조하면, 표시 장치(1100)는 바텀 커버(1152), 상기에 개시된 발광소자(100)가 어레이된 기판(1020), 광학 부재(1154), 및 표시 패널(1155)을 포함한다. Referring to FIG. 14, the display device 1100 includes a bottom cover 1152, a substrate 1020 on which the light emitting device 100 disclosed above is arranged, an optical member 1154, and a display panel 1155.

상기 기판(1020)과 상기 발광소자 패키지(200)는 발광 모듈(1060)로 정의될 수 있다. 상기 바텀 커버(1152), 적어도 하나의 발광 모듈(1060), 광학 부재(1154)는 라이트 유닛으로 정의될 수 있다. The substrate 1020 and the light emitting device package 200 may be defined as a light emitting module 1060. The bottom cover 1152, at least one light emitting module 1060, and the optical member 1154 may be defined as a light unit.

상기 바텀 커버(1152)에는 수납부(1153)를 구비할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The bottom cover 1152 may include a receiving portion 1153, but the present invention is not limited thereto.

여기서, 상기 광학 부재(1154)는 렌즈, 도광판, 확산 시트, 수평 및 수직 프리즘 시트, 및 휘도 강화 시트 등에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 도광판은 PC 재질 또는 PMMA(Poly methy methacrylate) 재질로 이루어질 수 있으며, 이러한 도광판은 제거될 수 있다. 상기 확산 시트는 입사되는 광을 확산시켜 주고, 상기 수평 및 수직 프리즘 시트는 입사되는 광을 표시 영역으로 집광시켜 주며, 상기 휘도 강화 시트는 손실되는 광을 재사용하여 휘도를 향상시켜 준다. Here, the optical member 1154 may include at least one of a lens, a light guide plate, a diffusion sheet, a horizontal and vertical prism sheet, and a brightness enhancement sheet. The light guide plate may be made of a PC material or a PMMA (poly methy methacrylate) material, and such a light guide plate may be removed. The diffusion sheet diffuses incident light, and the horizontal and vertical prism sheets condense incident light into a display area. The brightness enhancing sheet enhances brightness by reusing the lost light.

상기 광학 부재(1154)는 상기 발광 모듈(1060) 위에 배치되며, 상기 발광 모듈(1060)로부터 방출된 광을 면 광원하거나, 확산, 집광 등을 수행하게 된다.The optical member 1154 is disposed on the light emitting module 1060, and performs surface light source, diffusion, and light condensation of the light emitted from the light emitting module 1060.

도 15 내지 도 17은 실시 예에 따른 조명장치를 나타낸 도면이다.15 to 17 are views illustrating a lighting apparatus according to an embodiment.

도 15는 실시 예에 따른 조명 장치를 위에서 바라본 사시도이고, 도 16은 도 15에 도시된 조명 장치를 아래에서 바라본 사시도이고, 도 17은 도 15에 도시된 조명 장치의 분해 사시도이다.FIG. 15 is a perspective view from above of the lighting apparatus according to the embodiment, FIG. 16 is a perspective view from below of the lighting apparatus illustrated in FIG. 15, and FIG. 17 is an exploded perspective view of the lighting apparatus illustrated in FIG. 15.

도 15 내지 도 17을 참조하면, 실시 예에 따른 조명 장치는 커버(2100), 광원 모듈(2200), 방열체(2400), 전원 제공부(2600), 내부 케이스(2700), 소켓(2800)을 포함할 수 있다. 또한, 실시 예에 따른 조명 장치는 부재(2300)와 홀더(2500) 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 상기 광원 모듈(2200)은 실시 예에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지를 포함할 수 있다.15 to 17, the lighting apparatus according to the embodiment may include a cover 2100, a light source module 2200, a heat radiator 2400, a power supply unit 2600, an inner case 2700, and a socket 2800. It may include. Further, the illumination device according to the embodiment may further include at least one of the member 2300 and the holder 2500. The light source module 2200 may include a light emitting device or a light emitting device package according to the embodiment.

예컨대, 상기 커버(2100)는 벌브(bulb) 또는 반구의 형상을 가지며, 속이 비어 있고, 일 부분이 개구된 형상으로 제공될 수 있다. 상기 커버(2100)는 상기 광원 모듈(2200)과 광학적으로 결합될 수 있다. 예를 들어, 상기 커버(2100)는 상기 광원 모듈(2200)로부터 제공되는 빛을 확산, 산란 또는 여기 시킬 수 있다. 상기 커버(2100)는 일종의 광학 부재일 수 있다. 상기 커버(2100)는 상기 방열체(2400)와 결합될 수 있다. 상기 커버(2100)는 상기 방열체(2400)와 결합하는 결합부를 가질 수 있다.For example, the cover 2100 may have a shape of a bulb or a hemisphere, and may be provided in a shape in which the hollow is hollow and a part is opened. The cover 2100 may be optically coupled to the light source module 2200. For example, the cover 2100 may diffuse, scatter, or excite light provided from the light source module 2200. The cover 2100 may be a kind of optical member. The cover 2100 may be coupled to the heat discharging body 2400. The cover 2100 may have an engaging portion that engages with the heat discharging body 2400.

상기 커버(2100)의 내면에는 유백색 도료가 코팅될 수 있다. 유백색의 도료는 빛을 확산시키는 확산재를 포함할 수 있다. 상기 커버(2100)의 내면의 표면 거칠기는 상기 커버(2100)의 외면의 표면 거칠기보다 크게 형성될 수 있다. 이는 상기 광원 모듈(2200)로부터의 빛이 충분히 산란 및 확산되어 외부로 방출시키기 위함이다. The inner surface of the cover 2100 may be coated with a milky white paint. Milky white paints may contain a diffusing agent to diffuse light. The surface roughness of the inner surface of the cover 2100 may be larger than the surface roughness of the outer surface of the cover 2100. This is for sufficiently diffusing and diffusing the light from the light source module 2200 and emitting it to the outside.

상기 커버(2100)의 재질은 유리(glass), 플라스틱, 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC) 등일 수 있다. 여기서, 폴리카보네이트는 내광성, 내열성, 강도가 뛰어나다. 상기 커버(2100)는 외부에서 상기 광원 모듈(2200)이 보이도록 투명할 수 있고, 불투명할 수 있다. 상기 커버(2100)는 블로우(blow) 성형을 통해 형성될 수 있다.The cover 2100 may be made of glass, plastic, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polycarbonate (PC), or the like. Here, polycarbonate is excellent in light resistance, heat resistance and strength. The cover 2100 may be transparent so that the light source module 2200 is visible from the outside, and may be opaque. The cover 2100 may be formed by blow molding.

상기 광원 모듈(2200)은 상기 방열체(2400)의 일 면에 배치될 수 있다. 따라서, 상기 광원 모듈(2200)로부터의 열은 상기 방열체(2400)로 전도된다. 상기 광원 모듈(2200)은 광원부(2210), 연결 플레이트(2230), 커넥터(2250)를 포함할 수 있다.The light source module 2200 may be disposed on one side of the heat discharging body 2400. Accordingly, heat from the light source module 2200 is conducted to the heat discharger 2400. The light source module 2200 may include a light source unit 2210, a connection plate 2230, and a connector 2250.

상기 부재(2300)는 상기 방열체(2400)의 상면 위에 배치되고, 복수의 광원부(2210)들과 커넥터(2250)이 삽입되는 가이드홈(2310)들을 갖는다. 상기 가이드홈(2310)은 상기 광원부(2210)의 기판 및 커넥터(2250)와 대응된다.The member 2300 is disposed on the upper surface of the heat discharging body 2400 and has guide grooves 2310 through which the plurality of light source portions 2210 and the connector 2250 are inserted. The guide groove 2310 corresponds to the substrate of the light source unit 2210 and the connector 2250.

상기 부재(2300)의 표면은 빛 반사 물질로 도포 또는 코팅된 것일 수 있다. 예를 들면, 상기 부재(2300)의 표면은 백색의 도료로 도포 또는 코팅된 것일 수 있다. 이러한 상기 부재(2300)는 상기 커버(2100)의 내면에 반사되어 상기 광원 모듈(2200)측 방향으로 되돌아오는 빛을 다시 상기 커버(2100) 방향으로 반사한다. 따라서, 실시 예에 따른 조명 장치의 광 효율을 향상시킬 수 있다.The surface of the member 2300 may be coated or coated with a light reflecting material. For example, the surface of the member 2300 may be coated or coated with a white paint. The member 2300 is reflected on the inner surface of the cover 2100 to reflect the light returned to the light source module 2200 side again toward the cover 2100. Therefore, the light efficiency of the illumination device according to the embodiment can be improved.

상기 부재(2300)는 예로서 절연 물질로 이루어질 수 있다. 상기 광원 모듈(2200)의 연결 플레이트(2230)는 전기 전도성의 물질을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 방열체(2400)와 상기 연결 플레이트(2230) 사이에 전기적인 접촉이 이루어질 수 있다. 상기 부재(2300)는 절연 물질로 구성되어 상기 연결 플레이트(2230)와 상기 방열체(2400)의 전기적 단락을 차단할 수 있다. 상기 방열체(2400)는 상기 광원 모듈(2200)로부터의 열과 상기 전원 제공부(2600)로부터의 열을 전달받아 방열한다.The member 2300 may be made of an insulating material, for example. The connection plate 2230 of the light source module 2200 may include an electrically conductive material. Therefore, electrical contact can be made between the heat discharging body 2400 and the connecting plate 2230. The member 2300 may be formed of an insulating material to prevent an electrical short circuit between the connection plate 2230 and the heat discharging body 2400. The heat discharger 2400 receives heat from the light source module 2200 and heat from the power supply unit 2600 to dissipate heat.

상기 홀더(2500)는 내부 케이스(2700)의 절연부(2710)의 수납홈(2719)를 막는다. 따라서, 상기 내부 케이스(2700)의 상기 절연부(2710)에 수납되는 상기 전원 제공부(2600)는 밀폐된다. 상기 홀더(2500)는 가이드 돌출부(2510)를 갖는다. 상기 가이드 돌출부(2510)는 상기 전원 제공부(2600)의 돌출부(2610)가 관통하는 홀(2511)을 갖는다. The holder 2500 blocks the receiving groove 2719 of the insulating portion 2710 of the inner case 2700. Therefore, the power supply unit 2600 housed in the insulating portion 2710 of the inner case 2700 is sealed. The holder 2500 has a guide protrusion 2510. The guide protrusion 2510 has a hole 2511 through which the protrusion 2610 of the power supply unit 2600 passes.

상기 전원 제공부(2600)는 외부로부터 제공받은 전기적 신호를 처리 또는 변환하여 상기 광원 모듈(2200)로 제공한다. 상기 전원 제공부(2600)는 상기 내부 케이스(2700)의 수납홈(2719)에 수납되고, 상기 홀더(2500)에 의해 상기 내부 케이스(2700)의 내부에 밀폐된다.The power supply unit 2600 processes or converts an electrical signal provided from the outside to provide the light source module 2200. The power supply unit 2600 is housed in the receiving groove 2719 of the inner case 2700 and is sealed inside the inner case 2700 by the holder 2500.

상기 전원 제공부(2600)는 돌출부(2610), 가이드부(2630), 베이스(2650), 연장부(2670)를 포함할 수 있다.The power supply unit 2600 may include a protrusion 2610, a guide 2630, a base 2650, and an extension 2670.

상기 가이드부(2630)는 상기 베이스(2650)의 일 측에서 외부로 돌출된 형상을 갖는다. 상기 가이드부(2630)는 상기 홀더(2500)에 삽입될 수 있다. 상기 베이스(2650)의 일 면 위에 다수의 부품이 배치될 수 있다. 다수의 부품은 예를 들어, 외부 전원으로부터 제공되는 교류 전원을 직류 전원으로 변환하는 직류변환장치, 상기 광원 모듈(2200)의 구동을 제어하는 구동칩, 상기 광원 모듈(2200)을 보호하기 위한 ESD(ElectroStatic discharge) 보호 소자 등을 포함할 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.The guide portion 2630 has a shape protruding outward from one side of the base 2650. The guide portion 2630 may be inserted into the holder 2500. A plurality of components may be disposed on one side of the base 2650. The plurality of components include, for example, a DC converter for converting AC power supplied from an external power source into DC power, a driving chip for controlling driving of the light source module 2200, an ESD (ElectroStatic discharge) protective device, and the like, but the present invention is not limited thereto.

상기 연장부(2670)는 상기 베이스(2650)의 다른 일 측에서 외부로 돌출된 형상을 갖는다. 상기 연장부(2670)는 상기 내부 케이스(2700)의 연결부(2750) 내부에 삽입되고, 외부로부터의 전기적 신호를 제공받는다. 예컨대, 상기 연장부(2670)는 상기 내부 케이스(2700)의 연결부(2750)의 폭과 같거나 작게 제공될 수 있다. 상기 연장부(2670)에는 "+ 전선"과 "- 전선"의 각 일 단이 전기적으로 연결되고, "+ 전선"과 "- 전선"의 다른 일 단은 소켓(2800)에 전기적으로 연결될 수 있다.The extension portion 2670 has a shape protruding outward from the other side of the base 2650. The extension part 2670 is inserted into the connection part 2750 of the inner case 2700 and receives an electrical signal from the outside. For example, the extension portion 2670 may be provided to be equal to or smaller than the width of the connection portion 2750 of the inner case 2700. One end of each of the positive wire and the negative wire is electrically connected to the extension portion 2670 and the other end of the positive wire and the negative wire are electrically connected to the socket 2800 .

상기 내부 케이스(2700)는 내부에 상기 전원 제공부(2600)와 함께 몰딩부를 포함할 수 있다. 몰딩부는 몰딩 액체가 굳어진 부분으로서, 상기 전원 제공부(2600)가 상기 내부 케이스(2700) 내부에 고정될 수 있도록 한다.The inner case 2700 may include a molding part together with the power supply part 2600. The molding part is a hardened portion of the molding liquid so that the power supply unit 2600 can be fixed inside the inner case 2700.

도 18 및 도 19는 실시 예에 따른 조명장치의 다른 예를 나타낸 도면이다.18 and 19 are diagrams illustrating another example of the lighting apparatus according to the embodiment.

도 18은 실시 예에 따른 조명 장치의 사시도이고, 도 19는 도 18에 도시된 조명 장치의 분해 사시도이다.18 is a perspective view of a lighting apparatus according to an embodiment, and FIG. 19 is an exploded perspective view of the lighting apparatus illustrated in FIG. 18.

도 18 및 도 19를 참조하면, 실시 예에 따른 조명 장치는 커버(3100), 광원부(3200), 방열체(3300), 회로부(3400), 내부 케이스(3500), 소켓(3600)을 포함할 수 있다. 상기 광원부(3200)는 실시 예에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지를 포함할 수 있다. 18 and 19, the lighting apparatus according to the embodiment may include a cover 3100, a light source unit 3200, a radiator 3300, a circuit unit 3400, an inner case 3500, and a socket 3600. Can be. The light source unit 3200 may include a light emitting device or a light emitting device package according to the embodiment.

상기 커버(3100)는 벌브(bulb) 형상을 가지며, 속이 비어 있다. 상기 커버(3100)는 개구(3110)를 갖는다. 상기 개구(3110)를 통해 상기 광원부(3200)와 부재(3350)가 삽입될 수 있다. The cover 3100 has a bulb shape and is hollow. The cover 3100 has an opening 3110. The light source unit 3200 and the member 3350 can be inserted through the opening 3110. [

상기 커버(3100)는 상기 방열체(3300)와 결합하고, 상기 광원부(3200)와 상기 부재(3350)를 둘러쌀 수 있다. 상기 커버(3100)와 상기 방열체(3300)의 결합에 의해, 상기 광원부(3200)와 상기 부재(3350)는 외부와 차단될 수 있다. 상기 커버(3100)와 상기 방열체(3300)의 결합은 접착제를 통해 결합할 수도 있고, 회전 결합 방식 및 후크 결합 방식 등 다양한 방식으로 결합할 수 있다. 회전 결합 방식은 상기 방열체(3300)의 나사홈에 상기 커버(3100)의 나사산이 결합하는 방식으로서 상기 커버(3100)의 회전에 의해 상기 커버(3100)와 상기 방열체(3300)가 결합하는 방식이고, 후크 결합 방식은 상기 커버(3100)의 턱이 상기 방열체(3300)의 홈에 끼워져 상기 커버(3100)와 상기 방열체(3300)가 결합하는 방식이다.The cover 3100 may be coupled to the heat discharging body 3300 and surround the light source unit 3200 and the member 3350. The light source part 3200 and the member 3350 may be shielded from the outside by the combination of the cover 3100 and the heat discharging body 3300. The coupling between the cover 3100 and the heat discharging body 3300 may be combined through an adhesive, or may be combined by various methods such as a rotational coupling method and a hook coupling method. The rotation coupling method is a method in which the cover 3100 is coupled with the heat discharging body 3300 by the rotation of the cover 3100 in such a manner that the thread of the cover 3100 is engaged with the thread groove of the heat discharging body 3300 In the hook coupling method, the protrusion of the cover 3100 is inserted into the groove of the heat discharging body 3300, and the cover 3100 and the heat discharging body 3300 are coupled.

상기 커버(3100)는 상기 광원부(3200)와 광학적으로 결합한다. 구체적으로 상기 커버(3100)는 상기 광원부(3200)의 발광 소자(3230)로부터의 광을 확산, 산란 또는 여기시킬 수 있다. 상기 커버(3100)는 일종의 광학 부재일 수 있다. 여기서, 상기 커버(3100)는 상기 광원부(3200)로부터의 광을 여기시키기 위해, 내/외면 또는 내부에 형광체를 가질 수 있다. The cover 3100 is optically coupled to the light source unit 3200. Specifically, the cover 3100 may diffuse, scatter, or excite light from the light emitting device 3230 of the light source unit 3200. The cover 3100 may be a kind of optical member. Here, the cover 3100 may have a phosphor on the inside / outside or inside to excite the light from the light source unit 3200.

상기 커버(3100)의 내면에는 유백색 도료가 코팅될 수 있다. 여기서, 유백색 도료는 빛을 확산시키는 확산재를 포함할 수 있다. 상기 커버(3100)의 내면의 표면 거칠기는 상기 커버(3100)의 외면의 표면 거칠기보다 클 수 있다. 이는 상기 광원부(3200)로부터의 광을 충분히 산란 및 확산시키기 위함이다.The inner surface of the cover 3100 may be coated with a milky white paint. Here, the milky white paint may include a diffusing agent for diffusing light. The surface roughness of the inner surface of the cover 3100 may be larger than the surface roughness of the outer surface of the cover 3100. This is for sufficiently scattering and diffusing light from the light source part 3200.

상기 커버(3100)의 재질은 유리(glass), 플라스틱, 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC) 등일 수 있다. 여기서, 폴리카보네이트는 내광성, 내열성, 강도가 뛰어나다. 상기 커버(3100)는 외부에서 상기 광원부(3200)와 상기 부재(3350)가 보일 수 있는 투명한 재질일 수 있고, 보이지 않는 불투명한 재질일 수 있다. 상기 커버(3100)는 예컨대 블로우(blow) 성형을 통해 형성될 수 있다.The cover 3100 may be made of glass, plastic, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polycarbonate (PC), or the like. Here, polycarbonate is excellent in light resistance, heat resistance and strength. The cover 3100 may be a transparent material that can be seen from the outside of the light source unit 3200 and the member 3350, and may be an invisible and opaque material. The cover 3100 may be formed, for example, by blow molding.

상기 광원부(3200)는 상기 방열체(3300)의 부재(3350)에 배치되고, 복수로 배치될 수 있다. 구체적으로, 상기 광원부(3200)는 상기 부재(3350)의 복수의 측면들 중 하나 이상의 측면에 배치될 수 있다. 그리고, 상기 광원부(3200)는 상기 부재(3350)의 측면에서도 상단부에 배치될 수 있다.The light source unit 3200 is disposed on the member 3350 of the heat sink 3300 and may be disposed in a plurality of units. Specifically, the light source portion 3200 may be disposed on at least one of the plurality of side surfaces of the member 3350. In addition, the light source 3200 may be disposed at an upper end of the side of the member 3350.

도 19에서, 상기 광원부(3200)는 상기 부재(3350)의 6 개의 측면들 중 3 개의 측면들에 배치될 수 있다. 그러나 이에 한정하는 것은 아니고, 상기 광원부(3200)는 상기 부재(3350)의 모든 측면들에 배치될 수 있다. 상기 광원부(3200)는 기판(3210)과 발광 소자(3230)를 포함할 수 있다. 상기 발광 소자(3230)는 기판(3210)의 일 면 상에 배치될 수 있다. In FIG. 19, the light source unit 3200 may be disposed on three side surfaces of the six side surfaces of the member 3350. However, the present invention is not limited thereto, and the light source portion 3200 may be disposed on all the sides of the member 3350. The light source unit 3200 may include a substrate 3210 and a light emitting device 3230. The light emitting device 3230 may be disposed on one side of the substrate 3210.

상기 기판(3210)은 사각형의 판 형상을 갖지만, 이에 한정되지 않고 다양한 형태를 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(3210)은 원형 또는 다각형의 판 형상일 수 있다. 상기 기판(3210)은 절연체에 회로 패턴이 인쇄된 것일 수 있으며, 예를 들어, 일반 인쇄회로기판(PCB: Printed Circuit Board), 메탈 코아(Metal Core) PCB, 연성(Flexible) PCB, 세라믹 PCB 등을 포함할 수 있다. 또한, 인쇄회로기판 위에 패키지 하지 않은 LED 칩을 직접 본딩할 수 있는 COB(Chips On Board) 타입을 사용할 수 있다. 또한, 상기 기판(3210)은 광을 효율적으로 반사하는 재질로 형성되거나, 표면이 광을 효율적으로 반사하는 컬러, 예를 들어 백색, 은색 등으로 형성될 수 있다. 상기 기판(3210)은 상기 방열체(3300)에 수납되는 상기 회로부(3400)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 기판(3210)과 상기 회로부(3400)는 예로서 와이어(wire)를 통해 연결될 수 있다. 와이어는 상기 방열체(3300)를 관통하여 상기 기판(3210)과 상기 회로부(3400)를 연결시킬 수 있다.The substrate 3210 has a rectangular plate shape, but is not limited thereto and may have various shapes. For example, the substrate 3210 may have a circular or polygonal plate shape. The substrate 3210 may be a printed circuit pattern on an insulator. For example, the substrate 3210 may be a printed circuit board (PCB), a metal core PCB, a flexible PCB, a ceramic PCB . ≪ / RTI > In addition, it is possible to use a Chips On Board (COB) type that can directly bond the LED chip unpacked on the printed circuit board. In addition, the substrate 3210 may be formed of a material that efficiently reflects light, or may be formed of a color whose surface efficiently reflects light, for example, white, silver, or the like. The substrate 3210 may be electrically connected to the circuit unit 3400 housed in the heat discharging body 3300. The substrate 3210 and the circuit portion 3400 may be connected, for example, via a wire. The wire may pass through the heat discharging body 3300 to connect the substrate 3210 and the circuit unit 3400.

상기 발광 소자(3230)는 적색, 녹색, 청색의 광을 방출하는 발광 다이오드 칩이거나 UV를 방출하는 발광 다이오드 칩일 수 있다. 여기서, 발광 다이오드 칩은 수평형(Lateral Type) 또는 수직형(Vertical Type)일 수 있고, 발광 다이오드 칩은 청색(Blue), 적색(Red), 황색(Yellow), 또는 녹색(Green)을 발산할 수 있다.The light emitting device 3230 may be a light emitting diode chip that emits red, green, or blue light, or a light emitting diode chip that emits UV light. Here, the light emitting diode chip may be a lateral type or a vertical type, and the light emitting diode chip may emit blue, red, yellow, or green light. .

상기 발광 소자(3230)는 형광체를 가질 수 있다. 형광체는 가넷(Garnet)계(YAG, TAG), 실리케이드(Silicate)계, 나이트라이드(Nitride)계 및 옥시나이트라이드(Oxynitride)계 중 어느 하나 이상일 수 있다. 또는 형광체는 황색 형광체, 녹색 형광체 및 적색 형광체 중 어느 하나 이상일 수 있다.The light emitting device 3230 may have a phosphor. The phosphor may be at least one of a garnet system (YAG, TAG), a silicate system, a nitride system, and an oxynitride system. Alternatively, the fluorescent material may be at least one of a yellow fluorescent material, a green fluorescent material, and a red fluorescent material.

상기 방열체(3300)는 상기 커버(3100)와 결합하고, 상기 광원부(3200)로부터의 열을 방열할 수 있다. 상기 방열체(3300)는 소정의 체적을 가지며, 상면(3310), 측면(3330)을 포함한다. 상기 방열체(3300)의 상면(3310)에는 부재(3350)가 배치될 수 있다. 상기 방열체(3300)의 상면(3310)은 상기 커버(3100)와 결합할 수 있다. 상기 방열체(3300)의 상면(3310)은 상기 커버(3100)의 개구(3110)와 대응되는 형상을 가질 수 있다.The heat discharging body 3300 may be coupled to the cover 3100 to dissipate heat from the light source unit 3200. The heat discharging body 3300 has a predetermined volume and includes an upper surface 3310 and a side surface 3330. A member 3350 may be disposed on the upper surface 3310 of the heat discharging body 3300. An upper surface 3310 of the heat discharging body 3300 can be engaged with the cover 3100. The upper surface 3310 of the heat discharging body 3300 may have a shape corresponding to the opening 3110 of the cover 3100.

상기 방열체(3300)의 측면(3330)에는 복수의 방열핀(3370)이 배치될 수 있다. 상기 방열핀(3370)은 상기 방열체(3300)의 측면(3330)에서 외측으로 연장된 것이거나 측면(3330)에 연결된 것일 수 있다. 상기 방열핀(3370)은 상기 방열체(3300)의 방열 면적을 넓혀 방열 효율을 향상시킬 수 있다. 여기서, 측면(3330)은 상기 방열핀(3370)을 포함하지 않을 수도 있다.A plurality of radiating fins 3370 may be disposed on the side surface 3330 of the heat discharging body 3300. The radiating fin 3370 may extend outward from the side surface 3330 of the heat discharging body 3300 or may be connected to the side surface 3330. The heat dissipation fin 3370 may increase the heat dissipation area of the heat dissipator 3300 to improve heat dissipation efficiency. Here, the side surface 3330 may not include the radiating fin 3370.

상기 부재(3350)는 상기 방열체(3300)의 상면(3310)에 배치될 수 있다. 상기 부재(3350)는 상면(3310)과 일체일 수도 있고, 상면(3310)에 결합된 것일 수 있다. 상기 부재(3350)는 다각 기둥일 수 있다. 구체적으로, 상기 부재(3350)는 육각 기둥일 수 있다. 육각 기둥의 부재(3350)는 윗면과 밑면 그리고 6 개의 측면들을 갖는다. 여기서, 상기 부재(3350)는 다각 기둥뿐만 아니라 원 기둥 또는 타원 기둥일 수 있다. 상기 부재(3350)가 원 기둥 또는 타원 기둥일 경우, 상기 광원부(3200)의 상기 기판(3210)은 연성 기판일 수 있다.The member 3350 may be disposed on the upper surface 3310 of the heat discharging body 3300. The member 3350 may be integral with the top surface 3310 or may be coupled to the top surface 3310. The member 3350 may be a polygonal pillar. Specifically, the member 3350 may be a hexagonal column. The hexagonal column member 3350 has an upper surface, a lower surface, and six sides. Here, the member 3350 may be a circular column or an elliptic column as well as a polygonal column. When the member 3350 is a circular column or an elliptic column, the substrate 3210 of the light source portion 3200 may be a flexible substrate.

상기 부재(3350)의 6 개의 측면에는 상기 광원부(3200)가 배치될 수 있다. 6 개의 측면 모두에 상기 광원부(3200)가 배치될 수도 있고, 6 개의 측면들 중 몇 개의 측면들에 상기 광원부(3200)가 배치될 수도 있다. 도 15에서는 6 개의 측면들 중 3 개의 측면들에 상기 광원부(3200)가 배치되어 있다. The light source unit 3200 may be disposed on six sides of the member 3350. The light source unit 3200 may be disposed on all six side surfaces, or the light source unit 3200 may be disposed on some of the six side surfaces. In FIG. 15, the light source unit 3200 is disposed on three side surfaces of the six side surfaces.

상기 부재(3350)의 측면에는 상기 기판(3210)이 배치된다. 상기 부재(3350)의 측면은 상기 방열체(3300)의 상면(3310)과 실질적으로 수직을 이룰 수 있다. 따라서, 상기 기판(3210)과 상기 방열체(3300)의 상면(310)은 실질적으로 수직을 이룰 수 있다. The substrate 3210 is disposed on a side surface of the member 3350. The side surface of the member 3350 may be substantially perpendicular to the upper surface 3310 of the heat discharging body 3300. Therefore, the substrate 3210 and the top surface 310 of the heat sink 3300 may be substantially perpendicular to each other.

상기 부재(3350)의 재질은 열 전도성을 갖는 재질일 수 있다. 이는 상기 광원부(3200)로부터 발생되는 열을 빠르게 전달받기 위함이다. 상기 부재(3350)의 재질로서는 예를 들면, 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 마그네슘(Mg), 은(Ag), 주석(Sn) 등과 상기 금속들의 합금일 수 있다. 또는 상기 부재(3350)는 열 전도성을 갖는 열 전도성 플라스틱으로 형성될 수 있다. 열 전도성 플라스틱은 금속보다 무게가 가볍고, 단방향성의 열 전도성을 갖는 이점이 있다.The material of the member 3350 may be a material having thermal conductivity. This is to receive the heat generated from the light source 3200 quickly. The material of the member 3350 may be, for example, aluminum (Al), nickel (Ni), copper (Cu), magnesium (Mg), silver (Ag), tin (Sn) Or the member 3350 may be formed of a thermally conductive plastic having thermal conductivity. Thermally conductive plastics are lighter than metals and have the advantage of having unidirectional thermal conductivity.

상기 회로부(3400)는 외부로부터 전원을 제공받고, 제공받은 전원을 상기 광원부(3200)에 맞게 변환한다. 상기 회로부(3400)는 변환된 전원을 상기 광원부(3200)로 공급한다. 상기 회로부(3400)는 상기 방열체(3300)에 배치될 수 있다. 구체적으로, 상기 회로부(3400)는 상기 내부 케이스(3500)에 수납되고, 상기 내부 케이스(3500)와 함께 상기 방열체(3300)에 수납될 수 있다. 상기 회로부(3400)는 회로 기판(3410)과 상기 회로 기판(3410) 상에 탑재되는 다수의 부품(3430)을 포함할 수 있다. The circuit unit 3400 receives power from the outside and converts the supplied power to the light source unit 3200. The circuit unit 3400 supplies the converted power to the light source unit 3200. The circuit unit 3400 may be disposed on the heat discharging body 3300. Specifically, the circuit unit 3400 may be housed in the inner case 3500 and stored in the heat discharging body 3300 together with the inner case 3500. The circuit unit 3400 may include a circuit board 3410 and a plurality of components 3430 mounted on the circuit board 3410.

상기 회로 기판(3410)은 원형의 판 형상을 갖지만, 이에 한정되지 않고 다양한 형태를 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 회로 기판(3410)은 타원형 또는 다각형의 판 형상일 수 있다. 이러한 회로 기판(3410)은 절연체에 회로 패턴이 인쇄된 것일 수 있다. 상기 회로 기판(3410)은 상기 광원부(3200)의 기판(3210)과 전기적으로 연결된다. 상기 회로 기판(3410)과 상기 기판(3210)의 전기적 연결은 예로서 와이어(wire)를 통해 연결될 수 있다. 와이어는 상기 방열체(3300)의 내부에 배치되어 상기 회로 기판(3410)과 상기 기판(3210)을 연결할 수 있다. 다수의 부품(3430)은 예를 들어, 외부 전원으로부터 제공되는 교류 전원을 직류 전원으로 변환하는 직류변환장치, 상기 광원부(3200)의 구동을 제어하는 구동칩, 상기 광원부(3200)를 보호하기 위한 ESD(ElectroStatic discharge) 보호 소자 등을 포함할 수 있다.The circuit board 3410 has a circular plate shape, but is not limited thereto and may have various shapes. For example, the circuit board 3410 may be in the shape of an oval or polygonal plate. Such a circuit board 3410 may be one in which a circuit pattern is printed on an insulator. The circuit board 3410 is electrically connected to the substrate 3210 of the light source unit 3200. The electrical connection between the circuit board 3410 and the substrate 3210 may be connected by wire, for example. The wires may be disposed inside the heat discharging body 3300 to connect the circuit board 3410 and the substrate 3210. The plurality of components 3430 include, for example, a DC converter for converting AC power supplied from an external power source to DC power, a driving chip for controlling the driving of the light source 3200, An electrostatic discharge (ESD) protection device, and the like.

상기 내부 케이스(3500)는 내부에 상기 회로부(3400)를 수납한다. 상기 내부 케이스(3500)는 상기 회로부(3400)를 수납하기 위해 수납부(510)를 가질 수 있다. 상기 수납부(3510)는 예로서 원통 형상을 가질 수 있다. 상기 수납부(3510)의 형상은 상기 방열체(3300)의 형상에 따라 달라질 수 있다. 상기 내부 케이스(3500)는 상기 방열체(3300)에 수납될 수 있다. 상기 내부 케이스(3500)의 수납부(3510)는 상기 방열체(3300)의 하면에 형성된 수납부에 수납될 수 있다. The inner case 3500 houses the circuit portion 3400 therein. The inner case 3500 may have an accommodating part 510 for accommodating the circuit part 3400. The receiving portion 3510 may have a cylindrical shape as an example. The shape of the accommodating portion 3510 may vary depending on the shape of the heat discharging body 3300. The inner case 3500 may be housed in the heat discharging body 3300. The receiving portion 3510 of the inner case 3500 may be received in a receiving portion formed on the lower surface of the heat discharging body 3300.

상기 내부 케이스(3500)는 상기 소켓(3600)과 결합될 수 있다. 상기 내부 케이스(3500)는 상기 소켓(3600)과 결합하는 연결부(3530)를 가질 수 있다. 상기 연결부(3530)는 상기 소켓(3600)의 나사홈 구조와 대응되는 나사산 구조를 가질 수 있다. 상기 내부 케이스(3500)는 부도체이다. 따라서, 상기 회로부(3400)와 상기 방열체(3300) 사이의 전기적 단락을 막는다. 예로서 상기 내부 케이스(3500)는 플라스틱 또는 수지 재질로 형성될 수 있다.The inner case 3500 may be coupled to the socket 3600. The inner case 3500 may have a connection portion 3530 that engages with the socket 3600. The connection portion 3530 may have a threaded structure corresponding to the thread groove structure of the socket 3600. The inner case 3500 is an insulator. Therefore, electrical short circuit between the circuit portion 3400 and the heat discharging body 3300 is prevented. For example, the inner case 3500 may be formed of plastic or resin.

상기 소켓(600)은 상기 내부 케이스(500)와 결합될 수 있다. 구체적으로, 상기 소켓(3600)은 상기 내부 케이스(3500)의 연결부(3530)와 결합될 수 있다. 상기 소켓(3600)은 종래 재래식 백열 전구와 같은 구조를 가질 수 있다. 상기 회로부(3400)와 상기 소켓(3600)은 전기적으로 연결된다. 상기 회로부(3400)와 상기 소켓(3600)의 전기적 연결은 와이어(wire)를 통해 연결될 수 있다. 따라서, 상기 소켓(3600)에 외부 전원이 인가되면, 외부 전원은 상기 회로부(3400)로 전달될 수 있다. 상기 소켓(3600)은 상기 연결부(3550)의 나사산 구조과 대응되는 나사홈 구조를 가질 수 있다.The socket 600 may be coupled to the inner case 500. Specifically, the socket 3600 may be engaged with the connection portion 3530 of the inner case 3500. The socket 3600 may have a structure such as a conventional conventional incandescent bulb. The circuit portion 3400 and the socket 3600 are electrically connected. The electrical connection between the circuit part 3400 and the socket 3600 may be connected via a wire. Accordingly, when external power is applied to the socket 3600, the external power may be transmitted to the circuit unit 3400. The socket 3600 may have a screw groove structure corresponding to the screw thread structure of the connection part 3550.

이상에서 실시 예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, and the like described in the above embodiments are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to only one embodiment. Further, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons having ordinary skill in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시 예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of illustration, It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. It is to be understood that all changes and modifications that come within the meaning and range of equivalency of the claims are therefore intended to be embraced therein.

10: 발광구조물 11: 제1 도전형 반도체층
12: 활성층 13: 제2 도전형 반도체층
15: 오믹접촉층 17: 반사전극
30: 지지부 40: 반사층
45: 채널층 50: 금속층
60: 본딩층 70: 지지부재
80: 전극 83: 패드부
10: light emitting structure 11: first conductive semiconductor layer
12: active layer 13: second conductive semiconductor layer
15: ohmic contact layer 17: reflective electrode
30: support 40: reflective layer
45: channel layer 50: metal layer
60: bonding layer 70: support member
80: electrode 83: pad portion

Claims (12)

제1 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층 아래에 활성층, 상기 활성층 아래에 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광구조물;
상기 발광구조물 아래에 배치된 반사전극;
상기 발광구조물 위의 외곽부 둘레에 배치된 지지부;
상기 지지부 위에 배치된 반사층;
을 포함하는 발광소자.
A light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer under the first conductive semiconductor layer, and a second conductive semiconductor layer under the active layer;
A reflective electrode disposed under the light emitting structure;
A support disposed around an outer portion of the light emitting structure;
A reflective layer disposed on the support;
.
제1항에 있어서,
상기 지지부의 일부 영역은 상기 발광구조물의 측면에 배치된 발광소자.
The method of claim 1,
Part of the support portion is a light emitting device disposed on the side of the light emitting structure.
제1항에 있어서,
상기 지지부는 무기 절연물 또는 유기 절연물을 포함하는 발광소자.
The method of claim 1,
The support unit includes an inorganic insulator or an organic insulator.
제1항에 있어서,
상기 지지부는 금속을 포함하는 발광소자.
The method of claim 1,
The support unit comprises a metal light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 지지부는 10 마이크로 미터 내지 500 마이크로 미터의 높이로 형성된 발광소자.
The method of claim 1,
The support portion is a light emitting device formed to a height of 10 micrometers to 500 micrometers.
제1항에 있어서,
상기 지지부의 측면은 경사면을 포함하는 발광소자.
The method of claim 1,
The side surface of the support portion includes a light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 반사층은 상기 지지부의 상부면 및 측면에 배치된 발광소자.
The method of claim 1,
The reflective layer is disposed on the upper surface and the side of the support.
제1항에 있어서,
상기 발광구조물 하부 둘레에 배치된 금속층을 포함하고, 상기 지지부의 일부 영역은 상기 금속층 위에 접촉되어 배치된 발광소자.
The method of claim 1,
And a metal layer disposed around a lower portion of the light emitting structure, wherein a portion of the support portion is in contact with the metal layer.
제1항에 있어서,
상기 발광구조물 하부 둘레에 배치된 채널층을 포함하고, 상기 지지부의 일부 영역은 상기 채널층 위에 접촉되어 배치된 발광소자.
The method of claim 1,
And a channel layer disposed around a lower portion of the light emitting structure, wherein a portion of the support portion is in contact with the channel layer.
제1항에 있어서,
상기 제1 도전형 반도체층에 전기적으로 연결된 전극을 더 포함하는 발광소자.
The method of claim 1,
The light emitting device further comprises an electrode electrically connected to the first conductive semiconductor layer.
몸체;
상기 몸체 위에 배치되며, 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 의한 발광소자;
상기 발광소자에 전기적으로 연결된 제1 리드 전극 및 제2 리드 전극;
을 포함하는 발광소자 패키지.
Body;
A light emitting element according to any one of claims 1 to 10 arranged on the body;
A first lead electrode and a second lead electrode electrically connected to the light emitting element;
Emitting device package.
기판;
상기 기판 위에 배치되며, 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 의한 발광소자;
상기 발광소자로부터 제공되는 빛이 지나가는 광학 부재;
를 포함하는 라이트 유닛.
Board;
A light emitting element according to any one of claims 1 to 10 arranged on the substrate;
An optical member through which the light provided from the light emitting element passes;
.
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