KR20130111785A - Touch device and manufacturing method - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A touch device and a manufacturing method are provided to form an electrode pattern which is embedded in a back side of a substrate and minimize the thickness of the whole touch panel, thereby implementing a slimming touch device. CONSTITUTION: An electrode pattern frame is formed on one side of a substrate. An electrode pattern is filled in the electrode pattern frame. When an insulating layer is formed on an intersection area of first and second axis electrode patterns (210,230), the electrode pattern frame receives the first axis electrode pattern including a first connection electrode (220) and the second axis electrode pattern excluding a second connection electrode (240). The electrode pattern frame includes the second connection electrode which connects the second axis electrode pattern.

Description

터치 장치 및 그 제조 방법 {Touch Device And Manufacturing Method}Touch device and manufacturing method thereof {Touch Device And Manufacturing Method}

본 발명은 터치 패널 및 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판 일면에 음각 형태로 매립된 전극 패턴을 형성함으로써 전극 패턴 형성의 신뢰성을 확보할 수 있으며, 전체 터치 패널의 두께를 최소화하여 슬림한 터치 패널 구현이 가능한 터치 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch panel and a manufacturing method, and more particularly, it is possible to ensure the reliability of electrode pattern formation by forming an electrode pattern embedded in a negative shape on one surface of the substrate, and to minimize the thickness of the entire touch panel slim The present invention relates to a touch device capable of implementing a touch panel and a method of manufacturing the same.

휴대전화, 자동차 내비게이션, 컴퓨터, 발권기, 은행의 단말 등의 전자기기에서는 최근 액정 장치 등의 표면에 타블렛형의 입력장치가 배치되고, 액정 장치의 화상 표시 영역에 표시된 지시 화상을 참조하면서, 지시화상이 표시되어 있는 위치에 손가락 등을 접촉함으로써 지시 화상에 대응하는 정보의 입력이 실행되는 것이 있다.In electronic devices such as mobile phones, car navigation systems, computers, ticket machines, bank terminals, and the like, a tablet-type input device is recently disposed on the surface of a liquid crystal device and the like, while referring to an indication image displayed in the image display area of the liquid crystal device, the indicated image is displayed. In some cases, input of information corresponding to the instruction image is performed by touching a finger or the like with the displayed position.

이러한 입력장치(터치패널)에는 저항막형, 정전용량형등이 있지만, 저항막형의 입력장치는 필름과 유리의 2층 구조이고, 위쪽의 필름을 눌러서 아래쪽의 유리에 접촉시키는 구조이기 때문에 외부에서의 충격에 노출이 많고, 시간경과 변화에 약한 결점을 가지고 있다. The input device (touch panel) has a resistive film type and a capacitive type film. However, the resistive film type input device has a two-layer structure of film and glass, and is formed by contacting the lower glass by pressing the upper film. It has many exposures to shocks and has a weak drawback over time.

이에 반하여 정전 용량형 입력장치는 1장의 기판에 투명도전막이 형성되어 내구성이 강한 이점을 가지고 있다. On the other hand, the capacitive input device has a strong durability because a transparent conductive film is formed on one substrate.

이러한, 정전 용량형의 입력장치로는 투명성의 도전막의 양단에 동상, 동전위의 교류를 인가하고, 손가락이 접촉 또는 근접해서 캐패시터가 형성될 때에 흐르는 미약 전류를 검지하여 입력위치를 검출하는 표면형 용량센서(Surface capacitive touch sense) 타입이 있다. In such a capacitive input device, a surface type for detecting an input position by applying an in-phase or coin-operated alternating current to both ends of a transparent conductive film and detecting a weak current flowing when a capacitor is formed in contact with or near a finger. There is a type of surface capacitive touch sense.

또한, 서로 교차하는 방향으로 전극패턴을 연장시켜서 손가락 등이 접촉했을 때 전극간의 정전 용량이 변화하는 것을 검지하여 입력 위치를 검출하는 투영형 용량센서(Projected capacitive touch sense)타입도 있다.There is also a projected capacitive touch sense type which extends the electrode pattern in a direction crossing each other and detects an input position by detecting a change in capacitance between electrodes when a finger or the like touches it.

그러나, 이러한 종래의 터치 구조는 기판 상에 X축 센서 패턴, 절연층, Y축 센서 패턴이 적층되어 형성되는 구조이므로 두께가 크게 증가하므로 기기의 슬림화가 어려운 문제가 있었다.However, since the conventional touch structure is a structure in which an X-axis sensor pattern, an insulating layer, and a Y-axis sensor pattern are stacked on a substrate, the thickness is greatly increased, thereby making it difficult to slim down the device.

또한, 전극 패턴은 미세 단위의 패턴이므로 전극 패턴을 양각 패턴으로 형성할 경우 제조 과정에서 오버 패턴 등으로 인해 불량이 발생하기 쉬우며 이로 인해 생산 수율이 저하되는 문제가 있었다.In addition, since the electrode pattern is a fine unit pattern, when the electrode pattern is formed as an embossed pattern, defects are likely to occur due to an over pattern, etc. in the manufacturing process, and thus there is a problem in that the production yield is lowered.

그리고 기판으로부터 돌출되는 전극의 높이가 증가하여 전극 패턴 경계에서 저항이 크게 상승하여 단락 등의 오동작이 발생하여 동작 안정성과 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다.
In addition, since the height of the electrode protruding from the substrate increases, the resistance is greatly increased at the electrode pattern boundary, thereby causing a malfunction such as a short circuit, thereby deteriorating operation stability and reliability.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서 본 발명의 목적은 플렉시블한 플라스틱 재질의 기판 배면에 음각 형태로 전극 패턴 틀을 형성하고, 상기 전극 패턴 틀에 투명 도전성막을 충진하여 전극 패턴을 형성함으로써 터치 패널의 두께를 최소화하고, 오동작 및 안정성 저하와 시인성 불량을 해소할 수 있는 터치 장치 및 그 방법을 제공하는 데 있다.
An object of the present invention as devised to solve the above problems is to form an electrode pattern frame in the intaglio form on the back of the flexible plastic substrate, and fill the electrode pattern frame with a transparent conductive film to form an electrode pattern touch The present invention provides a touch device and a method for minimizing the thickness of a panel, and eliminating malfunction, deterioration of stability, and poor visibility.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 터치 장치는 기판과 상기 기판 일면에 음각으로 형성된 전극 패턴 틀과 상기 전극 패턴 틀에 충진된 전극 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the touch device according to the present invention is characterized in that it comprises a substrate and an electrode pattern frame formed intaglio on one surface of the substrate and an electrode pattern filled in the electrode pattern frame.

그리고 상기 기판은 유리 재질 또는 합성 수지 재질 재료로 형성된 것을 특징으로 한다.The substrate may be formed of a glass material or a synthetic resin material.

또한, 상기 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴의 교차 영역에만 절연층이 형성되는 구성인 경우 상기 전극 패턴 틀은 제 1 연결 전극을 포함하는 제 1 축 전극 패턴과 제 2 연결전극을 제외한 제 2 축 전극 패턴을 수용하는 형상이며, 상기 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속을 충진하여 형성된 상기 제 1 연결 전극을 포함하는 제 1축 전극 패턴과 제 2 연결전극을 제외한 제 2 축 전극 패턴과 상기 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴의 교차 영역에 형성된 절연층과 상기 절연층 상에 형성되어 상기 제 2축 전극 패턴을 전기적으로 연결시키는 제 2 연결 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, when the insulating layer is formed only at an intersection area between the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern, the electrode pattern frame excludes the first axis electrode pattern and the second connection electrode including the first connection electrode. A second accommodating electrode pattern having a shape of accommodating a second axis electrode pattern, the first axis electrode pattern including the first connection electrode formed by filling a transparent conductive metal in the electrode pattern frame, and the second axis electrode pattern except the second connection electrode; And an insulating layer formed at an intersection area between the first axial electrode pattern and the second axial electrode pattern and a second connection electrode formed on the insulating layer to electrically connect the second axial electrode pattern.

그리고 상기 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴이 절연층으로 구분되어 형성되는 경우 상기 전극 패턴 틀은 제 1 연결 전극을 포함하는 제 1 축 전극 패턴을 수용하는 형상이며, 상기 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속을 충진하여 형성된 상기 제 1 축 전극 패턴과 상기 제 1 축 전극 패턴이 형성된 기판 상에 형성된 절연층과 상기 절연층 상에 형성된 제 2 연결전극을 포함하는 제 2축 전극 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, when the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern are formed by separating the insulating layer, the electrode pattern frame is shaped to accommodate the first axis electrode pattern including the first connection electrode. And a second axis electrode pattern including the first axis electrode pattern formed by filling the transparent conductive metal, an insulating layer formed on the substrate on which the first axis electrode pattern is formed, and a second connection electrode formed on the insulating layer. It is characterized by.

또한, 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴이 X축, Y축으로 구분되지 않는 단일 전극 패턴으로 형성되는 경우 상기 전극 패턴 틀은 상기 단일 전극 패턴을 수용하는 형상인 것을 특징으로 한다.In addition, when the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern is formed of a single electrode pattern that is not divided into X-axis, Y-axis, the electrode pattern frame is characterized in that the shape to accommodate the single electrode pattern.

그리고 상기 기판은 제 1 기판과 제 2 기판으로 분리 구성되고, 상기 제 1 기판 일면에 음각으로 형성된 제 1 축 전극 패턴 틀과 상기 제 2 기판 일면에 음각으로 형성된 제 2 축 전극 패턴 틀과 상기 제 1 축 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속이 충진되어 형성된 제 1 축 전극 패턴과 상기 제 2 축 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속이 충진되어 형성된 제 2 축 전극 패턴을 포함하고, 상기 제 1축 전극 패턴이 형성된 제 1 기판과 제 2 전극 패턴이 형성된 제 2 기판이 합지되어 형성된 것을 특징으로 한다.The substrate is divided into a first substrate and a second substrate, the first axis electrode pattern frame formed intaglio on one surface of the first substrate and the second axis electrode pattern frame formed intaglio on one surface of the second substrate and the second substrate. A first axis electrode pattern formed by filling a transparent conductive metal in the axial electrode pattern frame and a second axis electrode pattern formed by filling a transparent conductive metal in the second axial electrode pattern frame, wherein the first axis electrode pattern is The first substrate and the second substrate on which the second electrode pattern is formed are laminated to each other.

한편, 본 발명에 따른 터치 장치 제조 방법은 기판 일면에 음각 형태로 전극 패턴틀을 형성하는 단계와 상기 형성된 전극 패턴툴에 투명 도전성 금속을 충진하여 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the method for manufacturing a touch device according to the invention is characterized in that it comprises the step of forming an electrode pattern frame in the intaglio form on one surface of the substrate and forming an electrode pattern by filling a transparent conductive metal in the formed electrode pattern tool .

그리고 상기 전극 패턴틀을 형성하는 단계는 상기 기판이 합성 주지 재질인 경우 전극 패턴 형상이 양각으로 형성된 스탬퍼를 제조하고, 상기 스탬퍼를 상기 기판 일면에 열 압착시켜 상기 스탬퍼의 전극 패턴 형상을 전사시켜 전극 패턴틀을 형성하는 것을 특징으로 한다.The forming of the electrode pattern frame may include manufacturing a stamper having an embossed electrode pattern shape when the substrate is a synthetic main material, and transferring the stamper to one surface of the substrate by transferring the stamper to transfer the electrode pattern shape of the stamper. It is characterized by forming a pattern frame.

또한, 상기 전극 패턴틀을 형성하는 단계는 외주연에 상기 전극 패턴 형상이 양각으로 형성된 스탬퍼를 구비하는 제 1 롤러와 제 2롤러 사이에 상기 기판을 통과시키는 롤 스탬핑 방식에 의해 상기 전극 패턴틀을 형성하는 것을 특징으로 한다.The forming of the electrode pattern frame may include forming the electrode pattern frame by a roll stamping method for passing the substrate between a first roller and a second roller having a stamper having an embossed shape formed on the outer circumference thereof. It is characterized by forming.

그리고 상기 전극 패턴틀을 형성하는 단계는 상기 기판이 유리 재질인 경우 습식 에칭 또는 건식 에칭을 통해 상기 기판에 음각 형태의 전극 패턴틀을 형성하는 것을 특징으로 한다.The forming of the electrode pattern frame may include forming an intaglio electrode pattern frame on the substrate by wet etching or dry etching when the substrate is made of glass.

또한, 상기 전극 패턴을 형성하는 단계는 투명 도전성 금속이 충진될 상기 전극 패턴틀 영역에만 증착원을 투과시키고 나머지 영역은 증착원의 투과를 차단하도록 설계된 쉐도우 마스크를 이용하여 단일의 증착 공정으로 상기 전극 패턴틀에 상기 투명 도전성 금속을 충진시켜 전극 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the forming of the electrode pattern may include transmitting the deposition source only to the electrode pattern frame region to which the transparent conductive metal is to be filled, and rest of the electrode in a single deposition process using a shadow mask designed to block the transmission of the deposition source. An electrode pattern is formed by filling the transparent mold with the transparent conductive metal.

상기에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따른 터치 패널 및 그 제조 방법은 터치를 감지하는 전극 패턴을 기판 배면에 매입되는 형태로 형성하여 전체 터치 패널의 두께를 최소화하여 슬림한 터치 장치 구현이 가능한 탁월한 효과가 발생한다.As described above, the touch panel and the method of manufacturing the same according to the present invention form an electrode pattern for sensing a touch embedded in the back surface of the substrate, thereby minimizing the thickness of the entire touch panel, thereby achieving a slim touch device. Occurs.

또한, 미세 단위의 전극 패턴 형성과정에서 발생하는 불량을 최소화하여 생산 수율을 높이 수 있으며, 전극으로부터 돌출되는 전극 패턴의 높이를 최소화하여 저항이 상승하는 것을 최소화하여 오동작, 단락 문제 및 안정성 저하 문제를 해소할 수 있는 탁월한 효과가 발생한다.
In addition, it is possible to increase the production yield by minimizing the defects occurring in the process of forming the electrode pattern of the fine unit, and to minimize the rise of the resistance by minimizing the height of the electrode pattern protruding from the electrode, thereby preventing malfunction, short circuit problem and stability deterioration problem. Excellent effect that can be solved.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 장치의 평면도 및 단면도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전극 패턴틀을 형성하는 스탬퍼를 개략적으로 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 장치 제조 방법을 공정별로 도시한 공정도이다.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 장치의 평면도 및 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 장치의 단면도이다.
1 is a plan view and a cross-sectional view of a touch device according to a first embodiment of the present invention.
Figure 2 schematically shows a stamper for forming an electrode pattern frame according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a touch device according to a first embodiment of the present invention, step by step.
4 is a plan view and a cross-sectional view of a touch device according to a second embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a touch device according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본 발명의 제 1 실시예는 제 1 및 2 축 전극 패턴이 모두 기판 일면에 음각 형태로 매립되어 형성되는 구조에 관한 것이고, 제 2 실시예는 상기 제 1 및 2 축 전극 패턴 중 하나의 전극 패턴만 기판 일면에 음각 형태로 매립되어 형성되는 구조에 관한 것이다.The first embodiment of the present invention relates to a structure in which both the first and the biaxial electrode patterns are embedded in a negative shape on one surface of a substrate, and the second embodiment is the electrode pattern of one of the first and biaxial electrode patterns. However, the present invention relates to a structure that is formed by buried in an engraved shape on one surface of a substrate.

또한, 본 발명에 따른 실시예는 기판 배면에 제 1 및 2 축 전극 패턴이 일체로 형성되는 일체형 터치 윈도우 구조에 대한 것이지만, 제 1 및 2 축 전극 패턴이 별개의 필름에 형성되어 합지되는 구조에 적용될 수 있음은 자명한 것이다.
In addition, the embodiment according to the present invention relates to an integrated touch window structure in which the first and second axis electrode patterns are integrally formed on the back surface of the substrate, but the first and the second axis electrode patterns are formed on separate films to be laminated. Applicable is obvious.

<제 1 실시예> &Lt; Embodiment 1 >

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 터치 장치의 평면도 및 단면도이다.1 is a plan view and a cross-sectional view of a touch device according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 터치 패널은 기판(10)과, 상기 기판 일면에 음각 형태로 매립되어 형성된 제 1 연결 전극(220)을 구비한 제 1 전극 패턴(210), 제 2 전극 패턴(230)과 상기 제 1 연결 전극(220)상의 제 1 및 2 전극 패턴 교차 영역 상에 형성된 절연층(30)과 상기 절연층이 형성된 기판 상에 형성된 제 2 연결 전극(240)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 1, a touch panel according to the present invention includes a first electrode pattern 210 and a second electrode having a substrate 10 and a first connection electrode 220 formed by being buried in an engraved shape on one surface of the substrate. Including an insulating layer 30 formed on the pattern 230 and the first and second electrode pattern crossing regions on the first connecting electrode 220 and a second connecting electrode 240 formed on the substrate on which the insulating layer is formed. Can be configured.

보다 구체적인 제조 방법에 대해 살펴보면, 먼저 기판(10) 일면에 음각 형태의 전극 패턴틀(110)을 먼저 형성한다. Referring to a more specific manufacturing method, first, an intaglio-type electrode pattern frame 110 is first formed on one surface of the substrate 10.

여기서, 상기 전극 패턴틀은 기판의 일면에 음각 형태로 형성되어 전극 패턴이 충진되는 공간을 의미한다.Here, the electrode pattern frame is formed in a concave shape on one surface of the substrate means a space in which the electrode pattern is filled.

상기 전극 패턴틀의 형상은 형성될 전극 패턴의 설계에 따라 결정될 수 있으며, 윈도우 일체형 터치 장치인 경우에는 3가지 형상으로 구성될 수 있다.The shape of the electrode pattern frame may be determined according to the design of the electrode pattern to be formed, and in the case of a window integrated touch device, it may be configured in three shapes.

먼저, 본 발명의 제 1 실시예와 같이 층 구분 없이 제 1축 전극 패턴과 제 2 축 전극 패턴이 동시에 형성되는 경우 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴 사이의 제 2 연결 전극을 제외한 나머지 모든 전극 패턴의 형상으로 전극 패턴틀이 형성될 수 있다.First, when the first axial electrode pattern and the second axial electrode pattern are formed at the same time without layer division as in the first embodiment of the present invention, except for the second connection electrode between the first axial electrode pattern and the second axial electrode pattern The electrode pattern frame may be formed in the shape of all electrode patterns.

또한, 후술할 제 2 실시예와 같이 제 1 축 전극 패턴과 제 2 축 전극 패턴이 절연층을 경계로 구분되어 형성되는 경우 제 1 연결 전극을 포함하는 제 1 축 전극 패턴의 형상으로 전극 패턴틀이 형성될 수 있다.In addition, when the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern are formed by separating the insulating layer as a boundary as in the second embodiment to be described later, the electrode pattern frame has a shape of the first axis electrode pattern including the first connection electrode. This can be formed.

그리고 전극 패턴이 X축과 Y축의 구분없이 형성되는 방식인 경우에는 모든 전극 패턴의 형상으로 전극 패턴틀이 형성될 수 있다. In the case where the electrode pattern is formed without distinction between the X-axis and the Y-axis, the electrode pattern frame may be formed in the shape of all the electrode patterns.

상기 기판(10)은 터치 패널이 일체로 형성된 윈도우 기판일 수 있으며, 윈도우와 별개로 형성되는 터치 패널 기판일 수 있으며, 상기 기판이 윈도우 기판인 경우 기판 상이 디스플레이 이외 영역에는 장식 또는 각종 로고가 인쇄되고, 내부의 광을 차단하는 광차단층이 형성될 수 있다.The substrate 10 may be a window substrate in which a touch panel is integrally formed, or may be a touch panel substrate formed separately from a window. When the substrate is a window substrate, a decoration or various logos are printed on an area other than the display on the substrate. The light blocking layer may be formed to block light therein.

상기 기판(10)은 PC, PMMA, PI 등의 투명 플라스틱 재료로 형성될 수 있으며, 플렉시블한 특성을 가지므로 상기 기판 일면에 스탬퍼를 압착하여 전극 패턴틀을 형성할 수 있다. The substrate 10 may be formed of a transparent plastic material such as PC, PMMA, PI, etc., and has a flexible characteristic to form an electrode pattern frame by pressing a stamper on one surface of the substrate.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전극 패턴틀을 형성하는 스탬퍼를 개략적으로 도시한 것이다.Figure 2 schematically shows a stamper for forming an electrode pattern frame according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 상기 스탬퍼는 전극 패턴틀의 형상이 양각 형태로 형성되고, 상기 전극 패턴이 상기 기판에 열 압착 전사되어 전극 패턴틀이 형성된다.Referring to FIG. 2, the stamper has an embossed shape of an electrode pattern frame, and the electrode pattern is thermocompressed and transferred to the substrate to form an electrode pattern frame.

보다 구체적으로, 상기 기판을 스탬퍼를 구비한 금형에 삽입하고, 상기 기판을 열을 가하여 압착하면 상기 스탬퍼에 형성된 양각의 전극 패턴틀이 상기 기판의 일면을 가압하게 되고, 상기 기판의 일면에는 음각의 전극 패턴틀(110)이 형성된다.More specifically, when the substrate is inserted into a mold having a stamper, and the substrate is compressed by applying heat, an embossed electrode pattern frame formed on the stamper presses one surface of the substrate, and an intaglio is formed on one surface of the substrate. The electrode pattern frame 110 is formed.

여기서, 상기 기판(10)은 플라스틱 재질로 형성되므로 열을 가하면 연성으로 변하게 되고, 이 상태에서 표면을 압착하면 음각의 전극 패턴틀이 형성되고, 경화되어 전극 패턴틀이 음각으로 형성된 기판이 완성된다.Here, since the substrate 10 is formed of a plastic material, the substrate 10 becomes soft when heat is applied, and when the surface is compressed in this state, a negative electrode pattern frame is formed and cured to form a substrate having an negative electrode pattern frame. .

또한, 상기 스탬퍼는 롤 스탬퍼로 형성될 수 있으며, 상기 롤 스탬퍼는 제 1 롤러 외주연에 스탬퍼가 장착되고, 스탬퍼가 장착되지 않은 제 2 롤러 사이에 기판이 통과되면서 기판이 열 압착되어 패턴이 기판 상에 전사되어 전극 패턴틀이 형성될 수 있다. In addition, the stamper may be formed as a roll stamper, the roll stamper is a stamper is mounted on the outer periphery of the first roller, the substrate is thermally compressed while passing the substrate between the second roller that is not equipped with a stamper, the pattern is a substrate The electrode pattern frame may be transferred onto the substrate.

상기 전극 패턴틀(110)은 제 1 연결 전극(220)을 포함하는 제 1 전극 패턴(210)과 제 2 연결 전극(240)을 포함하지 않는 제 2 전극 패턴(230)의 형상으로 형성된다.The electrode pattern frame 110 is formed in the shape of a first electrode pattern 210 including the first connection electrode 220 and a second electrode pattern 230 not including the second connection electrode 240.

한편, 상기 기판이 유리 또는 강화 유리 재질인 경우에는 습식 또는 건식 에칭을 통해 전극 패턴틀(110)을 형성할 수 있다.Meanwhile, when the substrate is made of glass or tempered glass, the electrode pattern frame 110 may be formed by wet or dry etching.

보다 구체적으로, 건식 에칭의 경우 기판 표면에 전극 패턴틀 영역만 개방된 마스크를 정렬시킨 후 개방된 전극 패턴틀 영역을 레이저로 조사하여 전극 패턴틀 영역을 음각형태로 패터닝할 수 있다.More specifically, in the case of dry etching, after aligning a mask in which only the electrode pattern frame region is opened on the substrate surface, the open electrode pattern frame region may be irradiated with a laser to pattern the electrode pattern region in a negative shape.

그리고 습식 에칭의 경우 기판 상에 전극 패턴틀 영역만 개방된 PR피막을 형성한 후, HCl, HNO3, H3PO4, 그외 유기계면 활성제 등의 에칭액을 통해 상기 전극 패턴틀 영역만 음각 형태로 패터닝하여 전극 패턴틀을 음각 형태로 형성할 수 있다.In the case of wet etching, after forming a PR film having only an electrode pattern region open on a substrate, only the electrode pattern region is patterned in an intaglio form with an etchant such as HCl, HNO 3, H 3 PO 4, and other organic surfactants. The frame can be formed in an intaglio form.

여기서, 상기 기판 상에 전극 패턴틀 영역만 개방된 PR피막을 형성하는 과정은 포토레지스트를 사용하고 리소그라피 공정에 의해 형성될 수 있지만, 감광성 필름(Dry Film Photoresist, DFR)을 사용하여 피막을 형성할 수 있다.Here, the process of forming the PR film having only the electrode pattern frame area open on the substrate may be formed by using a photoresist and a lithography process, but the film may be formed using a dry film photoresist (DFR). Can be.

상기 패터닝되는 전극 패턴틀의 높이는 건식인 경우 레이저의 강도, 조사 시간 등을 조절하여 에칭되는 높이를 조절할 수 있으며, 습식의 경우 에칭시간과 에칭 속도를 조절하여 에칭되는 높이를 조절할 수 있다. When the height of the patterned electrode pattern frame is dry, the height of the laser may be controlled by adjusting the intensity and irradiation time of the laser. In the case of wet, the height of the electrode pattern frame may be controlled by adjusting the etching time and the etching rate.

본 실시예에서는 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴이 마름모형으로 이루어져 사선방향으로 서로 엇갈리면서 배치되도록 이차원 배열되지만, 다른 형태로 배치될 수 있음은 자명하고, 상기 제 1축 전극 패턴은 X축 또는 Y축 센서패턴으로 구성될 수 있으며, 상기 제 1축 전극 패턴이 X축 전극 패턴인 경우 상기 제 2축 전극 패턴은 Y축 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제 1축 전극 패턴이 Y축 센서 패턴인 경우 상기 제 2축 전극 패턴은 X축 전극 패턴으로 구성될 수 있다.In this embodiment, the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern are formed in a rhombus and are two-dimensionally arranged so as to alternate with each other in an oblique direction, but it is apparent that the first axis electrode pattern may be arranged in a different form. X-axis or Y-axis sensor pattern, the first axis electrode pattern is an X-axis electrode pattern, the second axis electrode pattern is composed of a Y-axis electrode pattern, the first axis electrode pattern is a Y-axis In the case of a sensor pattern, the second axis electrode pattern may be configured as an X axis electrode pattern.

상기와 같이 기판 일면에 전극 패턴틀(110)이 형성되면, 도 3a와 같이 상기 전극 패턴틀에 투명 도전성 금속을 충진하여 전극 패턴을 형성한다.When the electrode pattern frame 110 is formed on one surface of the substrate as described above, an electrode pattern is formed by filling a transparent conductive metal in the electrode pattern frame as shown in FIG. 3A.

상기 투명 도전성 금속을 ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oxide), Nano silver film, AgNW, CNT, 그래핀, 도전성 폴리머필름 등과 같은 도전성 소재로 이루어질 수 있다.The transparent conductive metal may be made of a conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), nano silver film, AgNW, CNT, graphene, or conductive polymer film.

상기 전극 패턴은 포토리소그라피 공정을 통해 형성될 수 있지만, 쉐도우 마스크를 이용하여 투명 도전성 금속을 증착하는 단일의 과정을 통해 전극 패턴틀 영역에 충진되어 형성될 수 있다.The electrode pattern may be formed through a photolithography process, but may be filled and formed in the electrode pattern frame region through a single process of depositing a transparent conductive metal using a shadow mask.

상기 쉐도우 마스크는 설계시 전극 패턴틀 영역이 투과부로 설계하고, 나머지 영역을 차단부로 설계하여 단일의 증착 만으로 전극 패턴틀에 전극 패턴을 충진시켜 전극 패턴을 형성할 수 있다.When the shadow mask is designed, the electrode pattern frame region may be designed as a transmissive portion, and the remaining region may be designed as a blocking portion to form an electrode pattern by filling an electrode pattern in the electrode pattern frame with only a single deposition.

상기와 같이 전극 패턴이 형성되면, 도 3b와 같이 상기 연결 전극의 제 1 축 전극 패턴과 제 2 축 전극 패턴의 교차부에 절연층(30)을 형성한다.When the electrode pattern is formed as described above, as illustrated in FIG. 3B, the insulating layer 30 is formed at the intersection of the first and second axis electrode patterns of the connection electrode.

상기 절연층(30)은 상기 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴을 전기적으로 절연시키는 역할을 담당하고, SiO2, SiNx, Al2O3, 유기절연막, SOG(Spin-On-Glass)와 같은 절연성 재질로 이루어질 수 있다.The insulating layer 30 serves to electrically insulate the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern, and includes SiO 2 , SiNx, Al 2 O 3 , an organic insulating layer, and spin-on-glass (SOG). It may be made of an insulating material such as.

상기 절연층 형성 역시 쉐도우 마스크를 이용하여 절연막을 증착시키는 단일 공정에 의해 제 1 및 2 축 전극 패턴의 교차 영역에 절연층을 형성할 수 있다. The insulating layer may also be formed in an intersecting region of the first and second axis electrode patterns by a single process of depositing an insulating layer using a shadow mask.

상기와 같이 절연층이 형성되면, 도 3c와 같이 상기 절연층 상에 상기 전극 패턴 형성시 형성되지 않은 제 2 축 전극 패턴(230)을 연결하는 제 2 연결 전극(240)을 형성하여 상기 제 2 축 전극 패턴을 전기적으로 연결한다.When the insulating layer is formed as described above, as shown in FIG. 3C, the second connection electrode 240 is formed on the insulating layer to connect the second axial electrode pattern 230 which is not formed when the electrode pattern is formed. The axial electrode pattern is electrically connected.

여기서, 상기 제 2 연결 전극(240)은 상기 전극 패턴과 동일한 금속으로 형성할 수 있으며, 쉐도우 마스크를 이용하여 절연층 상의 연결부위에만 투명 도전성 금속을 증착시켜 형성할 수 있다.The second connection electrode 240 may be formed of the same metal as the electrode pattern, and may be formed by depositing a transparent conductive metal only on the connection portion on the insulating layer using a shadow mask.

그리고 상기 제 1 축 전극 패턴과 제 2 축 전극 패턴에서 감지된 신호를 FPCB를 통해 터치 제어 장치로 전송하는 각 전극 배선을 형성하는 단계와 상기 전극 패턴을 보호하기 위해 패시베이션층을 형성하는 단계를 포함하여 터치 장치의 제조가 완성될 수 있다.And forming each electrode wiring for transmitting the signals sensed by the first and second axis electrode patterns to the touch control device through an FPCB, and forming a passivation layer to protect the electrode pattern. Thus, the manufacture of the touch device may be completed.

상기 전극 배선과 패시베이션층의 구성 및 형성은 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 당업자에게 자명한 사항이며, 본 발명의 핵심에서 벗어나는 부분이므로 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
The construction and formation of the electrode wiring and the passivation layer are obvious to those skilled in the art, and a detailed description thereof will be omitted since it is a part that deviates from the core of the present invention.

<제 2 실시예>&Lt; Embodiment 2 >

도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 장치를 개략적으로 도시한 평면도 및 단면도이다. 4 is a plan view and a cross-sectional view schematically illustrating a touch device according to a second embodiment of the present invention.

상기 제 1 실시예는 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴이 교차하는 영역에만 절연층이 형성된 구조에 관한 것이지만, 본 제 2 실시예는 제 1축 전극 패턴과 제 2 축 전극 패턴이 별도의 층으로 구분되고, 상기 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴 사이에 기판의 디스플레이 영역을 덮는 절연층이 형성되는 구조이다.The first embodiment relates to a structure in which an insulating layer is formed only in a region where the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern intersect, but the second embodiment separately separates the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern. And an insulating layer covering the display area of the substrate between the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern.

따라서, 제 1 연결 전극(220)을 포함한 제 1축 전극 패턴(210)이 기판 일면에 형성된 전극 패턴 틀에 매립되는 형태로 형성되고, 상기 제 1축 전극 패턴이 형성된 기판 상에 절연층(300이 형성되고, 상기 절연층 상에 제 2 연결 전극(240)을 포함한 제 2축 전극 패턴(230)이 형성된다.Accordingly, the first axial electrode pattern 210 including the first connection electrode 220 is formed to be embedded in an electrode pattern frame formed on one surface of the substrate, and the insulating layer 300 is formed on the substrate on which the first axial electrode pattern is formed. The second axis electrode pattern 230 including the second connection electrode 240 is formed on the insulating layer.

따라서, 본 발명에 따른 터치 패널은 제 1축 전극 패턴의 두께만큼 두께를 감소시킬 수 있다. Therefore, the touch panel according to the present invention can reduce the thickness by the thickness of the first axis electrode pattern.

상기 제 1 및 2 실시예는 플라스틱 재질의 터치 윈도우 배면에 전극이 일체로 형성되는 구조에 관한 것이지만, 터치 윈도우와 별도로 형성되어 합지되는 터치 패널의 구조는 물론, 2개의 기판에 전극 패턴이 각각 형성되어 합지되는 구조에도 적용될 수 있음은 자명한 것이다.The first and second embodiments relate to a structure in which electrodes are integrally formed on a rear surface of a plastic touch window, but the electrode patterns are formed on two substrates, as well as the structure of the touch panel formed separately from the touch window. It is obvious that it can also be applied to a structure that is laminated.

만일, 도 5와 같이 2개의 기판에 전극 패턴이 각각 형성되는 경우 각 전극 패턴은 기판 일면에 매립된 형태로 형성되므로 제1 및 2 전극 패턴의 두께만큼 두께를 감소시킬 수 있다.
If the electrode patterns are formed on each of the two substrates as shown in FIG. 5, each electrode pattern is formed in a form embedded in one surface of the substrate, thereby reducing the thickness by the thickness of the first and second electrode patterns.

110 : 기판 121 : 제 1 축 센서
122 : 제 2 축 센서 130 : 절연층
140 : 신호배선
110 substrate 121 first axis sensor
122: second axis sensor 130: insulating layer
140: signal wiring

Claims (11)

기판과;
상기 기판 일면에 음각으로 형성된 전극 패턴 틀과;
상기 전극 패턴 틀에 충진된 전극 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 장치.
Claims [1]
An electrode pattern frame formed in an intaglio on one surface of the substrate;
And an electrode pattern filled in the electrode pattern frame.
제 1항에 있어서,
상기 기판은
유리 재질 또는 합성 수지 재질 재료로 형성된 것을 특징으로 하는 터치 장치.
The method of claim 1,
The substrate
Touch device, characterized in that formed of glass material or synthetic resin material.
제 1항에 있어서,
제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴의 교차 영역에만 절연층이 형성되는 구성인 경우
상기 전극 패턴 틀은
제 1 연결 전극을 포함하는 제 1 축 전극 패턴과 제 2 연결전극을 제외한 제 2 축 전극 패턴을 수용하는 형상이며;
상기 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속을 충진하여 형성된 상기 제 1 연결 전극을 포함하는 제 1축 전극 패턴과 제 2 연결전극을 제외한 제 2 축 전극 패턴과;
상기 제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴의 교차 영역에 형성된 절연층과;
상기 절연층 상에 형성되어 상기 제 2축 전극 패턴을 전기적으로 연결시키는 제 2 연결 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 장치.
The method of claim 1,
When the insulating layer is formed only in the cross region of the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern
The electrode pattern frame is
A shape for accommodating the first axis electrode pattern including the first connection electrode and the second axis electrode pattern except the second connection electrode;
A first axis electrode pattern including the first connection electrode formed by filling the electrode pattern frame with a transparent conductive metal and a second axis electrode pattern except the second connection electrode;
An insulating layer formed at an intersection area between the first and second axis electrode patterns;
And a second connection electrode formed on the insulating layer to electrically connect the second axis electrode pattern.
제 1항에 있어서,
제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴이 절연층으로 구분되어 형성되는 경우
상기 전극 패턴 틀은
제 1 연결 전극을 포함하는 제 1 축 전극 패턴을 수용하는 형상이며;
상기 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속을 충진하여 형성된 상기 제 1 축 전극 패턴과;
상기 제 1 축 전극 패턴이 형성된 기판 상에 형성된 절연층과;
상기 절연층 상에 형성된 제 2 연결전극을 포함하는 제 2축 전극 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 장치.
The method of claim 1,
When the first and second axis electrode patterns are divided into insulating layers
The electrode pattern frame is
A shape for receiving a first axial electrode pattern including a first connecting electrode;
The first axis electrode pattern formed by filling a transparent conductive metal in the electrode pattern frame;
An insulating layer formed on the substrate on which the first axis electrode pattern is formed;
And a second axis electrode pattern including a second connection electrode formed on the insulating layer.
제 1항에 있어서,
제 1축 전극 패턴과 제 2축 전극 패턴이 X축, Y축으로 구분되지 않는 단일 전극 패턴으로 형성되는 경우
상기 전극 패턴 틀은
상기 단일 전극 패턴을 수용하는 형상인 것을 특징으로 하는 터치 장치.
The method of claim 1,
When the first axis electrode pattern and the second axis electrode pattern are formed as a single electrode pattern that is not divided into the X-axis, Y-axis
The electrode pattern frame is
And a shape for accommodating the single electrode pattern.
제 1항에 있어서,
상기 기판은
제 1 기판과 제 2 기판으로 분리 구성되고;
상기 제 1 기판 일면에 음각으로 형성된 제 1 축 전극 패턴 틀과;
상기 제 2 기판 일면에 음각으로 형성된 제 2 축 전극 패턴 틀과;
상기 제 1 축 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속이 충진되어 형성된 제 1 축 전극 패턴과;
상기 제 2 축 전극 패턴 틀에 투명 도전성 금속이 충진되어 형성된 제 2 축 전극 패턴을 포함하고;
상기 제 1축 전극 패턴이 형성된 제 1 기판과 제 2 전극 패턴이 형성된 제 2 기판이 합지되어 형성된 것을 특징으로 하는 터치 장치.
The method of claim 1,
The substrate
Separate the first substrate and the second substrate;
A first axial electrode pattern frame formed in an intaglio on one surface of the first substrate;
A second axial electrode pattern frame formed in an intaglio on one surface of the second substrate;
A first axis electrode pattern formed by filling a transparent conductive metal in the first axis electrode pattern frame;
A second axis electrode pattern formed by filling the second axis electrode pattern frame with a transparent conductive metal;
And a first substrate on which the first axis electrode pattern is formed and a second substrate on which the second electrode pattern is formed are laminated to each other.
기판 일면에 음각 형태로 전극 패턴틀을 형성하는 단계와;
상기 형성된 전극 패턴툴에 투명 도전성 금속을 충진하여 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 장치 제조 방법.
Forming an electrode pattern frame in an intaglio form on one surface of the substrate;
And forming an electrode pattern by filling a transparent conductive metal in the formed electrode pattern tool.
제 7항에 있어서,
상기 전극 패턴틀을 형성하는 단계는
상기 기판이 합성 주지 재질인 경우
전극 패턴 형상이 양각으로 형성된 스탬퍼를 제조하고, 상기 스탬퍼를 상기 기판 일면에 열 압착시켜 상기 스탬퍼의 전극 패턴 형상을 전사시켜 전극 패턴틀을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 장치 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Forming the electrode pattern frame is
When the substrate is a synthetic main material
A method of manufacturing a touch device, comprising: manufacturing a stamper having an embossed electrode pattern shape and transferring the stamper to one surface of the substrate to transfer the electrode pattern shape of the stamper to form an electrode pattern frame.
제 8항에 있어서,
상기 전극 패턴틀을 형성하는 단계는
외주연에 상기 전극 패턴 형상이 양각으로 형성된 스탬퍼를 구비하는 제 1 롤러와 제 2롤러 사이에 상기 기판을 통과시키는 롤 스탬핑 방식에 의해 상기 전극 패턴틀을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 장치 제조 방법.
The method of claim 8,
Forming the electrode pattern frame is
And forming the electrode pattern frame by a roll stamping method for passing the substrate between a first roller and a second roller having a stamper having an embossed shape of the electrode pattern formed on an outer circumference thereof.
제 7항에 있어서,
상기 전극 패턴틀을 형성하는 단계는
상기 기판이 유리 재질인 경우
습식 에칭 또는 건식 에칭을 통해 상기 기판에 음각 형태의 전극 패턴틀을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 장치 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Forming the electrode pattern frame is
When the substrate is made of glass
A method of manufacturing a touch device, comprising forming an electrode pattern frame having a negative shape on the substrate through wet etching or dry etching.
제 7항에 있어서,
상기 전극 패턴을 형성하는 단계는
투명 도전성 금속이 충진될 상기 전극 패턴틀 영역에만 증착원을 투과시키고 나머지 영역은 증착원의 투과를 차단하도록 설계된 쉐도우 마스크를 이용하여 단일의 증착 공정으로 상기 전극 패턴틀에 상기 투명 도전성 금속을 충진시켜 전극 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 장치 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Forming the electrode pattern is
The transparent conductive metal is filled into the electrode pattern frame in a single deposition process by using a shadow mask designed to transmit the deposition source only to the electrode pattern frame region to which the transparent conductive metal is to be filled and to block the transmission of the remaining source. A method of manufacturing a touch device, comprising forming an electrode pattern.
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