KR20130108377A - Epoxy resin composition and cured substance - Google Patents

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Abstract

뛰어난 유동성 및 경화성을 나타내고, 비할로겐계에 있어서 뛰어난 난연성이 발휘되며, 반도체 봉지재, 성형 재료, 적층 재료, 분체 도료 및 접착 재료 등에 유용한 에폭시수지 조성물을 제공한다.
에폭시수지 성분이, 하기 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지와 150℃에서의 용융 점도가 0.001~0.05Pa·s인 2관능 결정성 에폭시수지를 함유하고, 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지의 함유량이 에폭시수지 전체에 대하여, 30중량%이상인 에폭시수지 조성물. 일반식(1)에 있어서, G는 글리시딜기, R1, R3은 수소 또는 탄화수소기, R2는 식(a)로 표시되는 치환기, n은 1~20, p는 0.1~2.5를 나타낸다.

Figure pct00014

Figure pct00015
The present invention provides an epoxy resin composition which exhibits excellent fluidity and curability, exhibits excellent flame retardancy in a non-halogen system, and is useful for semiconductor encapsulating materials, molding materials, laminated materials, powder coatings, and adhesive materials.
The epoxy resin component contains the epoxy resin represented by following General formula (1) and the bifunctional crystalline epoxy resin whose melt viscosity in 150 degreeC is 0.001-0.05 Pa.s, and is represented by General formula (1) Epoxy resin composition whose content of resin is 30 weight% or more with respect to the whole epoxy resin. In General formula (1), G is a glycidyl group, R <1> , R <3> is hydrogen or a hydrocarbon group, R <2> is a substituent represented by Formula (a), n is 1-20, p represents 0.1-2.5 .
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Figure pct00015

Description

에폭시수지 조성물 및 경화물{EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED SUBSTANCE}Epoxy resin composition and hardened | cured material {EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED SUBSTANCE}

본 발명은 난연성이 뛰어난 동시에, 성형시의 유동성, 경화성 등도 뛰어난 경화물을 부여하는 에폭시수지 조성물 및 그 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent flame retardancy and imparting a cured product excellent in fluidity, curability and the like during molding, and a cured product thereof.

최근, 특히 첨단 재료 분야의 진보에 따라, 보다 고성능의 베이스 수지의 개발이 요구되고 있다. 예를 들면, 반도체 봉지(封止)의 분야에 있어서는, 최근의 고밀도 실장화에 대응한 패키지의 박형화, 대면적화, 또한 표면 실장 방식의 보급에 의해, 패키지 크랙의 문제가 심각화하고 있어, 베이스 수지에는 내습성, 내열성, 금속 기재와의 접착성 등의 향상이 강력하게 요구되고 있다. 또한 환경 부하 저감의 관점에서, 할로겐계 난연제 배제의 움직임이 있어, 보다 난연성이 뛰어난 베이스 수지가 요구되고 있다.In recent years, especially with the advancement of the advanced material field, development of a higher performance base resin is calculated | required. For example, in the field of semiconductor encapsulation, the problem of a package crack is aggravated by the thinning of the package corresponding to the recent high density mounting, the large area, and the spread of the surface mounting method, and the base resin. There is a strong demand for improvement of moisture resistance, heat resistance, adhesiveness with a metal substrate, and the like. In addition, from the viewpoint of reducing the environmental load, there is a movement of eliminating halogen-based flame retardants, and a base resin excellent in flame retardancy is required.

그러나 종래의 에폭시수지계 재료에는, 이들 요구를 충분히 만족하는 것은 아직 알려져 있지 않다. 예를 들면, 주지의 비스페놀형 에폭시수지는 상온에서 액상이며, 작업성이 뛰어난 것이나, 경화제, 첨가제 등과의 혼합이 용이한 점에서 널리 사용되고 있는데, 내열성, 내습성 면에서 문제가 있다. 또한 내열성을 개량한 것으로서, 페놀노볼락형 에폭시수지가 알려져 있는데, 내습성이나 내충격성에 문제가 있다. 또한 일본국 공개특허공보 소63-238122호에는 내습성, 내충격성의 향상을 목적으로, 페놀아랄킬수지의 에폭시화합물이 제안되어 있는데 내열성이나 난연성 면에서 충분하지 않다.However, it is not yet known in the conventional epoxy resin material to satisfy these requirements sufficiently. For example, well-known bisphenol-type epoxy resins are liquid at normal temperature and excellent in workability, but are widely used in terms of easy mixing with a curing agent, additives, and the like, but have problems in terms of heat resistance and moisture resistance. Moreover, although the phenol novolak-type epoxy resin is known as what improved heat resistance, there exists a problem in moisture resistance and impact resistance. In addition, Japanese Patent Laid-Open No. 63-238122 proposes an epoxy compound of phenol aralkyl resin for the purpose of improving moisture resistance and impact resistance, but it is not sufficient in terms of heat resistance and flame resistance.

할로겐계 난연제를 사용하지 않고, 난연성을 향상시키기 위한 방책으로서, 일본국 공개특허공보 평9-235449호, 일본국 공개특허공보 평10-182792호 등에 인산에스테르계의 난연제를 첨가하는 방법이 개시되어 있다. 그러나 인산에스테르계의 난연제를 사용하는 방법으로는 내습성이 충분하지 않다. 또한 고온, 다습한 환경하에서는 인산에스테르가 가수 분해를 일으켜, 절연 재료로서의 신뢰성을 저하시키는 문제가 있었다.As a method for improving flame retardancy without using a halogen flame retardant, a method of adding a phosphate ester flame retardant to JP-A-9-235449 and JP-A-10-182792 is disclosed. have. However, the method of using a phosphate ester flame retardant does not have sufficient moisture resistance. In addition, under high temperature and high humidity conditions, phosphate esters cause hydrolysis to deteriorate reliability as an insulating material.

일본국 공개특허공보 평11-140166호Japanese Patent Laid-Open No. 11-140166 일본국 공개특허공보 2004-59792호JP 2004-59792 A 일본국 공개특허공보 평4-173831호Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-173831 일본국 공개특허공보 2000-129092호Japanese Patent Laid-Open No. 2000-129092 일본국 공개특허공보 평3-90075호Japanese Patent Laid-Open No. 3-90075 일본국 공개특허공보 평3-281623호Japanese Patent Laid-Open No. 3-281623 일본국 공개특허공보 평8-120039호Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 8-120039 일본국 공개특허공보 평5-140265호Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-140265

인 원자나 할로겐 원자를 포함하지 않고, 난연성을 향상시키는 것으로서, 특허문헌 1, 3, 4에는 비페닐 구조를 가지는 아랄킬형 에폭시수지를 반도체 봉지 재료에 응용한 예가 개시되어 있다. 특허문헌 2에는 나프탈렌 구조를 가지는 아랄킬형 에폭시수지를 사용하는 예가 개시되어 있다. 그러나 이들 에폭시수지는 난연성이나 내습성, 내열성의 어느 하나에 있어서 성능이 충분하지는 않다. 또한 특허문헌 5 및 6에는 나프톨계 아랄킬형 에폭시수지 및 이것을 함유하는 반도체 봉지 재료가 개시되어 있지만, 난연성에 착안한 것은 없다. 한편, 내열성, 내습성, 내크랙성의 향상에 착안한 예로서, 특허문헌 7에는 벤질화폴리페놀 및 그 에폭시수지가 개시되어 있는데, 이들은 난연성에 착안한 것은 아니다. 또한 벤질화된 폴리페놀형 에폭시수지는, 벤질화에 의한 분자량의 증대에 따라, 성형시의 유동성에 문제가 있었다. 또한 특허문헌 8에는 스티렌화페놀노볼락형 에폭시수지를 함유하는 에폭시수지 조성물이 개시되어 있고, 저흡수성, 저응력성이 뛰어나지만, 난연성에 착안한 것은 아니며, 성형시의 유동성에 있어서 성능이 충분하지 않다.Patent Documents 1, 3, and 4 disclose an example in which an aralkyl type epoxy resin having a biphenyl structure is applied to a semiconductor encapsulating material without containing a phosphorus atom or a halogen atom and improving flame retardancy. Patent Document 2 discloses an example of using an aralkyl type epoxy resin having a naphthalene structure. However, these epoxy resins are not sufficient in either flame retardancy, moisture resistance or heat resistance. Further, Patent Documents 5 and 6 disclose naphthol-based aralkyl type epoxy resins and semiconductor encapsulating materials containing the same, but do not focus on flame retardancy. On the other hand, as an example focusing on the improvement of heat resistance, moisture resistance, and crack resistance, Patent Document 7 discloses a benzylated polyphenol and its epoxy resin, but these are not focused on flame retardancy. In addition, the benzylated polyphenol type epoxy resin has a problem in fluidity during molding due to the increase in molecular weight by benzylation. In addition, Patent Document 8 discloses an epoxy resin composition containing a styrenated phenol novolak-type epoxy resin, and is excellent in low water absorption and low stress, but is not focused on flame retardancy, and has sufficient performance in fluidity during molding. Not.

따라서, 본 발명의 목적은 비할로겐에서의 난연성을 확보하는 동시에, 성형시의 유동성, 경화성 등에도 뛰어난 성능을 가지며, 적층, 성형, 주형, 접착 등의 용도에 유용한 에폭시수지 조성물 및 그 경화물을 제공하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to secure flame retardancy in non-halogen, and to have excellent performance in fluidity, curability, and the like at the time of molding, and to use an epoxy resin composition and a cured product thereof useful for applications such as lamination, molding, molding, and adhesion. It is to offer.

즉, 본 발명은 에폭시수지, 페놀계 경화제, 및 무기 충전재를 함유하는 에폭시수지 조성물에 있어서, 에폭시수지 성분이, 하기 일반식(1)로 표시되는 비결정성의 에폭시수지와 150℃에서의 용융 점도가 0.001~0.05Pa·s인 2관능 결정성 에폭시수지를 함유하고, 에폭시수지 전체에 대하여, 하기 일반식(1)로 표시되는 비결정성의 에폭시수지의 함유량이 30중량%이상이며, 2관능 결정성 에폭시수지의 함유량이 30중량%이상인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물에 관한 것이다.That is, this invention is an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a phenolic hardening | curing agent, and an inorganic filler, WHEREIN: The epoxy resin component is an amorphous epoxy resin represented by following General formula (1), and melt viscosity at 150 degreeC. Contains 0.001-0.05 Pa.s difunctional crystalline epoxy resin, and the content of the amorphous epoxy resin represented by the following general formula (1) is 30% by weight or more based on the whole epoxy resin, and is bifunctional crystal The epoxy resin composition is characterized in that the content of the epoxy resin is 30% by weight or more.

Figure pct00001
Figure pct00001

(일반식(1)에 있어서, G는 글리시딜기를 나타내고, R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내며, R2는 하기 식(a)로 표시되는 치환기를 나타내고, n은 1~20의 수를 나타낸다. 또한 p는 0.1~2.5의 수를 나타낸다. 식(a)에 있어서, R3은 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.)(In General Formula (1), G represents a glycidyl group, R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a substituent represented by the following formula (a), and n represents 1 to 1). And p represents a number of 0.1 to 2.5.In formula (a), R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.)

상기 2관능 결정성 에폭시수지 성분이 하기 일반식(2)로 표시되는 에폭시수지인 것이 좋다.It is good that the said bifunctional crystalline epoxy resin component is an epoxy resin represented by following General formula (2).

Figure pct00002
Figure pct00002

(여기서, R4~R11은 수소 원자 및 탄소수 1~6의 탄화수소기로부터 선택되고, 모두가 동일해도 달라도 된다. X는 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -CO-, -O-, -S- 또는 -SO2-를 나타낸다. G는 글리시딜기를 나타내고, m은 0~3의 수를 나타낸다.)(R 4 to R 11 may be selected from a hydrogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and both may be the same or different. X is a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2 -,- CO-, -O-, -S- or -SO 2- , G represents a glycidyl group, and m represents a number of 0-3.)

또한 상기 경화제 성분이 아랄킬형 페놀계 경화제 및 노볼락형 페놀계 경화제 중 적어도 1종을 함유하는 것이 좋다.Moreover, it is good that the said hardening | curing agent component contains at least 1 sort (s) of an aralkyl type phenol type hardening | curing agent and a novolak-type phenol type hardening | curing agent.

또한 본 발명은 무기 충전재의 함유율이 70~95중량%인 상기의 에폭시수지 조성물 및 이들 에폭시수지 조성물을 경화하여 이루어지는 에폭시수지 경화물에 관한 것이다.Moreover, this invention relates to the epoxy resin composition which hardens the said epoxy resin composition whose content rate of an inorganic filler is 70 to 95 weight%, and these epoxy resin compositions.

본 발명에 따르면, 뛰어난 유동성 및 경화성을 나타내고, 비할로겐계에 있어서 뛰어난 난연성이 발휘되며, 반도체 봉지재, 성형 재료, 적층 재료, 분체 도료 및 접착 재료 등에 유용한 에폭시수지 조성물을 제공한다.According to the present invention, there is provided an epoxy resin composition which exhibits excellent fluidity and curability, exhibits excellent flame retardancy in a non-halogen system, and is useful for semiconductor encapsulation materials, molding materials, lamination materials, powder coating materials and adhesive materials.

본 발명의 에폭시수지 조성물은 2종류의 에폭시수지 성분, 페놀계 경화제 성분 및 무기 충전재를 필수 성분으로 한다. 유리하게는 이들 필수 성분을 50중량%이상, 바람직하게는 80중량%이상, 보다 바람직하게는 95중량%이상 포함한다.The epoxy resin composition of this invention has two types of epoxy resin components, a phenolic hardening | curing agent component, and an inorganic filler as essential components. Advantageously, these essential ingredients comprise at least 50% by weight, preferably at least 80% by weight, more preferably at least 95% by weight.

우선, 본 발명의 에폭시수지 조성물 중에 있어서의 1종류째의 에폭시수지 성분인 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지에 대하여 설명한다. 이 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지는 비결정성의 에폭시수지이다. 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지는, 일반식(3)으로 표시되는 스티렌 부가 다가 히드록시수지를 에폭시화함으로써 얻어진다. 또한 일반식(3)으로 표시되는 스티렌 부가 다가 히드록시수지(StPN이라고도 칭함)는, 일반식(4)로 표시되는 다가 히드록시화합물(다가 히드록시화합물(4)이라고도 칭함)과 스티렌류를 부가 반응시킴으로써 얻을 수 있다.First, the epoxy resin represented by General formula (1) which is the 1st type of epoxy resin component in the epoxy resin composition of this invention is demonstrated. The epoxy resin represented by this general formula (1) is an amorphous epoxy resin. The epoxy resin represented by General formula (1) is obtained by epoxidizing the styrene addition polyhydric hydroxy resin represented by General formula (3). In addition, the styrene addition polyhydric hydroxy resin (also called StPN) represented by General formula (3) adds the polyhydric hydroxy compound (also called polyvalent hydroxy compound (4)) and styrene represented by General formula (4). It can obtain by making it react.

Figure pct00003
Figure pct00003

(R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, R2는 상기 식(a)로 표시되는 치환기를 나타내며, n은 0~20의 수를 나타낸다. 또한 p는 0.1~2.5의 수를 나타낸다.)(R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a substituent represented by the formula (a), n represents a number of 0 to 20. p represents a number of 0.1 to 2.5. .)

Figure pct00004
Figure pct00004

(여기서, R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내고, n은 1~20의 수를 나타낸다.)(Wherein R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms and n represents a number of 1 to 20).

일반식(3)으로 표시되는 스티렌 부가 다가 히드록시수지는, 우선 다가 히드록시화합물(4)의 기본 구조에 대하여, 스티렌류를 부가시킴으로써, 수산기 당량을 임의로 조정할 수 있다. 여기서, 스티렌류를 부가시킨다는 것은, 다가 히드록시화합물(4)의 벤젠환의 수소와 식(a)로 표시되는 치환기(스티레닐기라고도 칭함)를 치환시키는 것을 말한다. 즉, 에폭시수지 경화물에 있어서는, 에폭시기와 수산기의 반응에 의해 생성하는 히드록시프로필기가 불에 타기 쉽다고 여겨지고 있지만, 수산기 당량을 높게 함으로써, 에폭시기 유래의 불에 타기 쉬운 성분의 지방족 탄소율은 낮아져, 고도의 난연성을 발현시킬 수 있다. 또한 방향족성이 풍부한 스티렌을 부가시킴으로써, 방향족성은 보다 한층 향상하고, 난연성과 더불어 내습성의 향상에도 효과적이다.The styrene-added polyhydric hydroxy resin represented by the general formula (3) can arbitrarily adjust the hydroxyl equivalent by adding styrene to the basic structure of the polyvalent hydroxy compound (4). Here, adding styrene means replacing the hydrogen of the benzene ring of the polyhydric hydroxy compound (4) and the substituent represented by Formula (a) (also called a styrenyl group). That is, in the epoxy resin hardened | cured material, although the hydroxypropyl group produced | generated by reaction of an epoxy group and a hydroxyl group is considered to be easy to burn, by increasing a hydroxyl equivalent, the aliphatic carbon ratio of the easily burnable component derived from an epoxy group becomes low, It can express a high degree of flame retardancy. Moreover, by adding styrene rich in aromaticity, aromaticity is further improved, and it is effective in improving flame resistance and moisture resistance.

따라서, 이들을 사용하여 고난연성의 에폭시수지 조성물, 특히 반도체 봉지용 에폭시수지 조성물이 얻어진다. 즉, 그들 조성물에 있어서의 뛰어난 경화성과 함께, 고난연성, 내습성이나 저탄성이 뛰어난 물성이 발현되고, 이 재료를 사용하여 신뢰성이 높은 전기·전자 부품류의 봉지, 회로 기판 재료 등이 얻어진다.Therefore, using these, a highly flame-retardant epoxy resin composition, especially the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, is obtained. That is, the physical properties excellent in high flame retardance, moisture resistance, and low elasticity are expressed with the outstanding curability in these compositions, and the sealing of electrical and electronic components, circuit board material, etc. with high reliability are obtained using this material.

StPN은 일반식(4)로 표시되는 다가 히드록시화합물(4)과 스티렌류를 부가 반응시킴으로써 얻어진다. 이때, 다가 히드록시화합물(4)과 스티렌류의 비율로서는, 얻어지는 경화물의 난연성과 경화성의 밸런스를 고려하면, 다가 히드록시화합물 1몰에 대한 스티렌류의 사용 비율이 0.1~2.5몰의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1~1.0몰, 더욱 바람직하게는 0.3~0.8몰의 범위이다. 이 범위보다 적을 경우는, 원료의 다가 히드록시화합물의 성질이 개량되지 않은 그대로의 상태이며, 이 범위보다 많을 경우는 관능기 밀도가 너무 낮아져 경화성이 저하하는 경향이 있다.StPN is obtained by addition-reacting polyvalent hydroxy compound (4) and styrene represented by General formula (4). At this time, considering the balance between the flame retardance and the curability of the cured product obtained as the ratio of the polyhydric hydroxy compound (4) and styrene, the use ratio of styrene to 1 mol of the polyhydric hydroxy compound is preferably in the range of 0.1 to 2.5 moles. More preferably, it is 0.1-1.0 mol, More preferably, it is the range of 0.3-0.8 mol. When less than this range, the property of the polyhydric hydroxy compound of a raw material is the state as it is not improved, and when more than this range, functional group density becomes too low and there exists a tendency for sclerosis | hardenability to fall.

일반식(3) 및 일반식(1)에 있어서, 공통의 기호는 같은 의미를 가진다. R1은 상기 식(a)로 표시되는 스티레닐기를 나타낸다. p는 0.1~2.5의 수를 나타내는데, 이것은 1개의 페놀환으로 치환하는 스티레닐기의 평균의 수(수 평균)를 의미한다. p는 0.1~2몰, 0.1~1.0몰, 0.3~1몰, 0.3~0.8몰의 순서로 바람직하다. 또한 양 말단의 페놀환에는 최대 4개의 스티레닐기를 치환할 수 있고, 중간의 페놀환에는 최대 3개의 스티레닐기를 치환할 수 있으므로, n이 1인 경우는 최대 8개의 스티레닐기를 치환할 수 있다.In General formula (3) and General formula (1), common symbol has the same meaning. R 1 represents a styrenyl group represented by the formula (a). p represents the number of 0.1-2.5, and this means the number (average number) of the average of the styrenyl group substituted by one phenol ring. p is preferable in order of 0.1-2 mol, 0.1-1.0 mol, 0.3-1 mol, 0.3-0.8 mol. In addition, up to 4 styrenyl groups can be substituted for the phenol ring at both terminals, and up to 3 styrenyl groups can be substituted for the intermediate phenol ring, and thus, when n is 1, up to 8 styrenyl groups can be substituted. .

다른 관점에서는, 본 발명에 사용하는 StPN은, 1분자당의 스티레닐기의 치환수(수 평균)는 1 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 이상, 더욱 바람직하게는 2.6~4이다.From another viewpoint, it is preferable that the number of substitutions (number average) of the styrenyl group per molecule of StPN used for this invention is 1 or more, More preferably, it is 2 or more, More preferably, it is 2.6-4.

식(a)에 있어서, R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내는데, 바람직하게는 수소 또는 탄소수 1~3의 알킬기이며, 보다 바람직하게는 수소이다. 이 R3은 반응 원료로서 사용하는 스티렌류에 의해 정해진다.In formula (a), although R <3> represents hydrogen or a C1-C6 hydrocarbon group, Preferably it is hydrogen or a C1-C3 alkyl group, More preferably, it is hydrogen. This R 3 is determined by styrene used as a reaction raw material.

일반식(1)에 있어서, n은 1~20의 수를 나타내는데, 바람직하게는 평균으로서 1.5~5.0의 범위이다.In General formula (1), although n shows the number of 1-20, Preferably it is the range of 1.5-5.0 as an average.

다음으로 StPN의 제조방법에 대하여 설명한다. StCN의 제조방법은, 일반식(4)로 표시되는 다가 히드록시화합물의 히드록시기 1몰에 대하여, 스티렌류 0.1~2.5몰을 산 촉매의 존재하에 반응시킴으로써 행한다. 일반식(4)로 표시되는 다가 히드록시화합물로서는 페놀노볼락 또는 크레졸노볼락이 대표적이다. 스티렌류의 사용량은 히드록시기 1몰에 대하여 0.1~2.5인데, 0.1~1.0이 바람직하고, 0.3~0.8이 보다 바람직하다.Next, the manufacturing method of StPN is demonstrated. The manufacturing method of StCN is performed by making 0.1-2.5 mol of styrene react with presence of an acid catalyst with respect to 1 mol of hydroxy groups of the polyhydric hydroxy compound represented by General formula (4). As a polyhydric hydroxy compound represented by General formula (4), a phenol novolak or a cresol novolak is typical. Although the usage-amount of styrene is 0.1-2.5 with respect to 1 mol of hydroxyl groups, 0.1-1.0 are preferable and 0.3-0.8 are more preferable.

이 다가 히드록시화합물(4)을 얻기 위해 사용되는 페놀류는, 페놀 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기로 치환된 페놀류인데, 바람직하게는 페놀 또는 탄소수 1~4의 알킬기로 치환된 페놀류이며, 보다 바람직하게는 페놀이다. 페놀류로서 페놀을 사용할 경우, 소량의 다른 페놀 성분을 포함해도 된다. 예를 들면 o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 에틸페놀류, 이소프로필페놀류, 터셔리부틸페놀류, 알릴페놀류, 페닐페놀류, 2,6-크실레놀, 2,6-디에틸페놀, 하이드로퀴논, 레조르신, 카테콜, 1-나프톨, 2-나프톨, 1,5-나프탈렌디올, 1,6-나프탈렌디올, 1,7-나프탈렌디올, 2,6-나프탈렌디올, 2,7-나프탈렌디올 등을 들 수 있다. 이들 페놀류 또는 나프톨류는 2종 이상을 포함해도 된다.The phenols used for obtaining the polyvalent hydroxy compound (4) are phenols substituted with phenol or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, preferably phenols substituted with phenol or alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably. Is phenol. When phenol is used as phenols, a small amount of other phenol components may be included. For example, o-cresol, m-cresol, p-cresol, ethylphenols, isopropylphenols, tertiary butylphenols, allylphenols, phenylphenols, 2,6-xylenol, 2,6-diethylphenol, hydro Quinone, resorcin, catechol, 1-naphthol, 2-naphthol, 1,5-naphthalenediol, 1,6-naphthalenediol, 1,7-naphthalenediol, 2,6-naphthalenediol, 2,7-naphthalenediol Etc. can be mentioned. These phenols or naphthols may include two or more kinds.

다가 히드록시화합물과의 반응에 사용하는 스티렌류는 스티렌 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기가 치환된 스티렌인데, 바람직하게는 스티렌이다. 이 스티렌류는 소량의 다른 반응 성분을 포함해도 되고, 스티렌류로서 스티렌을 사용할 경우, 다른 반응 성분으로서 α-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 인덴, 쿠마론, 벤조티오펜, 인돌, 비닐나프탈렌 등의 불포화 결합 함유 성분을 포함할 수 있고, 이 경우, 얻어지는 다가 히드록시화합물에는 이들로부터 생기는 기가 방향환상에 치환된 화합물이 포함되게 된다.The styrenes used for the reaction with the polyvalent hydroxy compound are styrenes or styrenes substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, preferably styrene. These styrenes may contain a small amount of other reaction components. When styrene is used as the styrenes, these styrenes may be used as other reaction components, such as α-methylstyrene, divinylbenzene, indene, coumarone, benzothiophene, indole or vinyl naphthalene. An unsaturated bond containing component can be included, In this case, the polyhydric hydroxy compound obtained will contain the compound substituted by the aromatic ring in the group which arises from these.

다가 히드록시화합물과의 스티렌류와의 반응은 산 촉매의 존재하에 행할 수 있고, 그 촉매량은 10~1000ppm의 범위에서 사용되며, 바람직하게는 100~500ppm의 범위이다. 이보다 많으면 페놀노볼락의 메틸렌 가교 결합이 개열(開裂)하기 쉬워지고, 개열 반응에 의해 부생(副生)한 단가 페놀 성분에 의해, 경화성 및 내열성을 저하시킨다. 한편, 이보다 적으면 반응성이 저하하여, 미반응 스티렌 모노머를 많이 잔존시킨다.Reaction with styrene with a polyhydric hydroxy compound can be performed in presence of an acid catalyst, The catalyst amount is used in 10-1000 ppm, Preferably it is 100-500 ppm. When more than this, the methylene crosslinking of a phenol novolak becomes easy to cleave, and the curable and heat resistance fall by the monovalent phenol component byproduced by a cleavage reaction. On the other hand, when less than this, reactivity will fall and many unreacted styrene monomer will remain.

이 산 촉매로서는 주지의 무기산, 유기산으로부터 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면 염산, 황산, 인산 등의 광산(鑛酸)이나, 포름산, 옥살산, 트리플루오로아세트산, p-톨루엔술폰산, 디메틸황산, 디에틸황산 등의 유기산이나, 염화아연, 염화알루미늄, 염화철, 3불화붕소 등의 루이스산 혹은 이온 교환 수지, 활성 백토, 실리카-알루미나, 제올라이트 등의 고체산 등을 들 수 있다.As this acid catalyst, it can select from well-known inorganic acid and organic acid suitably. For example, mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, organic acids such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, dimethyl sulfuric acid, diethyl sulfuric acid, zinc chloride, aluminum chloride, iron chloride, Lewis acids, such as boron trifluoride, or solid acids, such as an ion exchange resin, activated clay, silica-alumina, and zeolite, etc. are mentioned.

또한 이 반응에 있어서의 반응 온도는 40~120℃의 범위에서 행해진다. 이보다 낮으면 반응성이 저하하여 반응 시간이 장시간이 된다. 또한 이보다 높으면 페놀노볼락의 메틸렌 가교 결합이 일부 개열하기 쉬워져, 개열 반응에 의해 부생한 단가 페놀 성분에 의해 경화성 및 내열성을 저하시킨다.In addition, reaction temperature in this reaction is performed in 40-120 degreeC. If lower than this, reactivity will fall and reaction time will be long. Moreover, when it is higher than this, the methylene crosslinking of a phenol novolak becomes easy to partly cleave, and hardenability and heat resistance fall by the monovalent phenol component byproduced by a cleavage reaction.

또한 이 반응은 통상 1~20시간 행해진다. 또한 반응시에는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 알코올류나, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 디메틸에테르, 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르류, 벤젠, 톨루엔, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 방향족 화합물 등을 용매로서 사용할 수 있다.In addition, this reaction is normally performed for 1 to 20 hours. In the reaction, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve and ethyl cellosolve, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, dimethyl ether, diethyl ether, Ethers, such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, aromatic compounds, such as benzene, toluene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, etc. can be used as a solvent.

이 반응을 실시하는 구체적 방법으로서는, 전 원료를 일괄 장입하여, 그대로 소정의 온도로 반응시키거나, 또는 다가 히드록시화합물과 촉매를 장입하여, 소정의 온도로 유지하면서, 스티렌류를 적하시키면서 반응시키는 방법이 일반적이다. 이때, 적하 시간은 5시간 이하가 바람직하고, 통상 1~10시간이다. 반응 후 용매를 사용했을 경우는 필요에 따라 촉매 성분을 제거한 후, 용매를 증류 제거시켜 본 발명에 사용하는 수지를 얻을 수 있고, 용매를 사용하지 않을 경우는, 직접 열시(熱時) 배출함으로써 목적물을 얻을 수 있다.As a specific method of carrying out this reaction, all the raw materials are charged in a batch and reacted as they are at a predetermined temperature, or a polyvalent hydroxy compound and a catalyst are charged and reacted while dropping styrene while maintaining at a predetermined temperature. The method is common. At this time, the dropping time is preferably 5 hours or less, and usually 1 to 10 hours. In the case of using a solvent after the reaction, the catalyst component is removed if necessary, and then the solvent is distilled off to obtain a resin for use in the present invention. Can be obtained.

본 발명에 사용하는 에폭시수지는, 상기 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지와 150℃에서의 용융 점도가 0.001~0.05Pa·s인 2관능 결정성 에폭시수지이다.The epoxy resin used for this invention is an epoxy resin represented by the said General formula (1), and bifunctional crystalline epoxy resin whose melt viscosity in 150 degreeC is 0.001-0.05 Pa.s.

이하, 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지를 StPNE로 약칭하고, 150℃에서의 용융 점도가 0.001~0.05Pa·s인 2관능 결정성 에폭시수지를 결정성 에폭시수지라 칭하는 경우가 있다. StPNE는 상기 StPN을 에폭시화함으로써 얻을 수 있다.Hereinafter, the epoxy resin represented by General formula (1) is abbreviated as StPNE, and the bifunctional crystalline epoxy resin whose melt viscosity in 150 degreeC is 0.001-0.05 Pa.s may be called crystalline epoxy resin. StPNE can be obtained by epoxidizing the StPN.

일반식(1)에 있어서, 일반식(3)과 공통인 기호는 같은 의미를 가지는데, G는 글리시딜기를 나타내고, 이것은 일반식(3)의 수산기가 반응하여 생긴다. R1은 스티레닐기이다.In General formula (1), the symbol common with General formula (3) has the same meaning, G represents a glycidyl group and this arises by reaction of the hydroxyl group of General formula (3). R 1 is a styrenyl group.

본 발명에 사용하는 StPNE는 상기 일반식(3)으로 표시되는 StPN과, 에피클로로히드린을 반응시킴으로써 제조하는 것이 유리한데, 이 반응에 한정되지 않는다.Although StPNE used for this invention is manufactured by making StPN represented by the said General formula (3), and epichlorohydrin react, it is not limited to this reaction.

StPN을 에피클로로히드린과 반응시키는 반응 외에, StPN과 할로겐화알릴을 반응시켜, 알릴에테르화합물로 한 후, 과산화물과 반응시키는 방법을 취할 수도 있다. 상기 StPN을 에피클로로히드린과 반응시키는 반응은 통상의 에폭시화 반응과 동일하게 행할 수 있다.In addition to the reaction of reacting StPN with epichlorohydrin, a method of reacting StPN with allyl halide to form an allyl ether compound and then reacting with a peroxide may be employed. Reaction which makes said StPN react with epichlorohydrin can be performed similarly to normal epoxidation reaction.

예를 들면, 상기 StPN을 과잉의 에피클로로히드린에 용해한 후, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물의 존재하에 20~150℃, 바람직하게는 30~80℃의 범위에서 1~10시간 반응시키는 방법을 들 수 있다. 이때의 알칼리 금속 수산화물의 사용량은, StPN의 수산기 1몰에 대하여 0.8~1.5몰, 바람직하게는 0.9~1.2몰의 범위이다. 또한 에피클로로히드린은 StPN 중의 수산기 1몰에 대하여 과잉하게 사용되는데, 통상 StPN 중의 수산기 1몰에 대하여 1.5~30몰, 바람직하게는 2~15몰의 범위이다. 반응 종료 후, 과잉의 에피클로로히드린을 증류 제거하고, 잔류물을 톨루엔, 메틸이소부틸케톤 등의 용제에 용해하여, 여과하고, 수세하여 무기염을 제거하고, 이어서 용제를 증류 제거함으로써 목적의 에폭시수지를 얻을 수 있다.For example, after dissolving the StPN in excess epichlorohydrin, in the presence of alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, the reaction is at 20 to 150 ° C, preferably at 30 to 80 ° C for 1 to 10 hours. The method of making it come is mentioned. The usage-amount of the alkali metal hydroxide at this time is 0.8-1.5 mol with respect to 1 mol of hydroxyl groups of StPN, Preferably it is the range of 0.9-1.2 mol. Epichlorohydrin is used in excess of 1 mol of hydroxyl groups in StPN, and is usually in the range of 1.5 to 30 mol, preferably 2 to 15 mol, per mol of hydroxyl group in StPN. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, and the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove the inorganic salt, and then the solvent is distilled off. Epoxy resin can be obtained.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지를, 전 에폭시수지 성분 중 30중량%이상, 바람직하게는 30~70중량%, 보다 바람직하게는 40~60중량% 함유한다.The epoxy resin composition of this invention contains 30 weight% or more, Preferably it is 30-70 weight%, More preferably, 40-60 weight% of the epoxy resin represented by the said General formula (1) in all the epoxy resin components. do.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 2종류째의 에폭시 성분으로서, 전 에폭시수지 성분 중, 150℃에서의 용융 점도가 0.001~0.05Pa·s인 2관능 결정성 에폭시수지를 30중량%이상, 바람직하게는 30~70중량%, 보다 바람직하게는 40~60중량% 함유한다. 이보다 많으면 난연성이 저하하고, 또한 이보다 적으면 본 발명의 목적으로 하는 성형시의 유동성이 충분히 발현되지 않는다.The epoxy resin composition of this invention is 30 weight% or more, Preferably, as a 2nd type epoxy component, bifunctional crystalline epoxy resin whose melt viscosity in 150 degreeC is 0.001-0.05 Pa.s in all the epoxy resin components. Is 30 to 70% by weight, more preferably 40 to 60% by weight. If more than this, flame retardancy will fall, and if it is less than this, the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding made into the objective of this invention will not fully express.

상기 2관능 결정성 에폭시수지의 150℃에 있어서의 용융 점도는 0.001~0.05Pa·s이며, 바람직하게는 0.005~0.03Pa·s이다. 용융 점도가 0.05Pa·s보다 높으면 무기 충전재의 고충전율화가 곤란해져, 난연성 등의 성능의 향상을 기대할 수 없다.The melt viscosity at 150 degreeC of the said bifunctional crystalline epoxy resin is 0.001-0.05 Pa * s, Preferably it is 0.005-0.03 Pa * s. When the melt viscosity is higher than 0.05 Pa · s, it is difficult to increase the high filling rate of the inorganic filler, and improvement in performance such as flame retardancy cannot be expected.

2관능 결정성 에폭시수지로서, 상기 일반식(2)로 나타내는 바와 같은 에폭시수지가 바람직하게 사용된다. 일반식(2)에 있어서, 여기서 R4~R11은 수소 원자 및 탄소수 1~6의 탄화수소기로부터 선택되는데, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기이다. 이들은 모두가 동일해도 달라도 된다. X는 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -CO-, -O-, -S- 또는 -SO2-를 나타낸다. G는 글리시딜기를 나타낸다. m은 0~3의 수를 나타내는데, m이 다른 복수의 성분으로 이루어지는 수지일 경우는 m은 그 수 평균값을 나타낸다.As a bifunctional crystalline epoxy resin, the epoxy resin shown by the said General formula (2) is used preferably. In General formula (2), R <4> -R <11> is chosen from a hydrogen atom and a C1-C6 hydrocarbon group, Preferably it is a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group. These may all be the same or different. X represents a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -CO-, -O-, -S- or -SO 2- . G represents a glycidyl group. Although m represents the number of 0-3, when m is resin which consists of several other components, m shows the number average value.

바람직하게는 하기 일반식(5)~(14)에 나타내는 바와 같은 에폭시수지가 사용된다. 식 중 R4~R11는 수소 원자 및 탄소수 1~6의 탄화수소기로부터 선택되고, 모두가 동일해도 달라도 된다. G는 글리시딜기를 나타내고, m은 0~3의 수를 나타낸다.Preferably, epoxy resins as shown in the following general formulas (5) to (14) are used. In formula, R <4> -R <11> is chosen from a hydrogen atom and a C1-C6 hydrocarbon group, and all may be same or different. G represents a glycidyl group, and m represents the number of 0-3.

Figure pct00005
Figure pct00005

Figure pct00006
Figure pct00006

2관능 결정성 에폭시수지는 단독으로 사용해도 2종류 이상 조합해도 된다. 이들 에폭시수지 중에서, 유동성과 난연성 양립의 관점에서는, 특히 비페닐형 에폭시수지, 비스페놀F형 에폭시수지 및 술피드형 에폭시수지를 사용하는 것이 바람직하다.The bifunctional crystalline epoxy resins may be used alone or in combination of two or more thereof. Among these epoxy resins, it is particularly preferable to use a biphenyl type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin and a sulfide type epoxy resin in view of both fluidity and flame retardancy.

상기와 같은 2관능 결정성 에폭시수지는, 비스페놀화합물로 대표되는 페놀성 수산기를 가지는 화합물과 에피클로로히드린을 반응시킴으로써 합성할 수 있다. 이 반응은 통상의 에폭시화 반응과 동일하게 행할 수 있다. 비스페놀화합물을 사용할 경우, 예를 들면 비스페놀화합물을 과잉의 에피클로로히드린에 용해한 후, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물의 존재하에 50~150℃, 바람직하게는 60~120℃에서 1~10시간 반응시키는 방법을 들 수 있다. 이때, 알칼리 금속 수산화물의 사용량은 비스페놀화합물의 수산기 1몰에 대하여 0.8~2몰, 바람직하게는 0.9~1.2몰이다. 반응 종료 후, 과잉의 에피클로로히드린을 증류 제거하고, 잔류물을 톨루엔, 메틸이소부틸케톤 등의 용제에 용해하여, 여과하고, 수세하여 무기염을 제거하고, 이어서 용제를 증류 제거함으로써 소망하는 에폭시수지로 할 수 있다.Said bifunctional crystalline epoxy resin can be synthesize | combined by making epichlorohydrin react with the compound which has a phenolic hydroxyl group represented by a bisphenol compound. This reaction can be performed similarly to a normal epoxidation reaction. In the case of using a bisphenol compound, for example, the bisphenol compound is dissolved in excess epichlorohydrin, and then, in the presence of alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, 50 to 150 ° C, preferably 60 to 120 ° C. The method of making it react for 10 hours is mentioned. At this time, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.8-2 mol, Preferably it is 0.9-1.2 mol with respect to 1 mol of hydroxyl groups of a bisphenol compound. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, and the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove the inorganic salt, and then the solvent is distilled off. Epoxy resin can be used.

본 발명에 사용하는 에폭시수지의 가수 분해성 염소량은, 봉지하는 전자부품의 신뢰성 향상의 관점에서 적은 것이 좋다. 특별히 한정하는 것은 아니지만, 1000ppm이하가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 500ppm이하이다. 또한 본 발명에서 말하는 가수 분해성 염소란, 이하의 방법에 의해 측정된 값을 말한다. 즉, 시료 0.5g을 디옥산 30ml에 용해 후, 1N-KOH를 10ml 첨가하여 30분간 자비(煮沸) 환류한 후, 실온까지 냉각하고, 또한 80% 아세톤수 100ml를 첨가하여, 0.002N-AgNO3 수용액으로 전위차 적정을 행하여 얻어지는 값이다.The amount of hydrolyzable chlorine of the epoxy resin used for this invention is good from a viewpoint of the reliability improvement of the electronic component to seal. Although it does not specifically limit, 1000 ppm or less is preferable, More preferably, it is 500 ppm or less. In addition, the hydrolysable chlorine used by this invention means the value measured by the following method. That is, 0.5 g of a sample was dissolved in 30 ml of dioxane, 10 ml of 1N-KOH was added thereto, and the mixture was refluxed for 30 minutes. After cooling to room temperature, 100 ml of 80% acetone water was added, followed by 0.002N-AgNO 3 It is the value obtained by performing potential difference titration with aqueous solution.

본 발명의 에폭시수지 조성물은, 에폭시수지 성분으로서 상기 일반식(1)로 표시되는 에폭시수지와, 2관능 결정성 에폭시수지를 필수의 에폭시수지로서 사용하는데, 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위에서 다른 에폭시수지를 병용할 수도 있다.Although the epoxy resin composition of this invention uses an epoxy resin represented by the said General formula (1) and a bifunctional crystalline epoxy resin as an essential epoxy resin as an epoxy resin component, in the range which does not impair the objective of this invention. Another epoxy resin can also be used together.

이러한 다른 에폭시수지로서는, 예를 들면 비스페놀A, 비스페놀F, 비스페놀S, 플루오렌비스페놀, 2,2'-비페놀, 레조르신, 나프탈렌디올류 등의 2가의 페놀류의 에폭시화물(결정성을 나타내는 것은 제외), 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 페놀노볼락, o-크레졸노볼락 등의 3가 이상의 페놀류의 에폭시화물, 디시클로펜타디엔과 페놀류의 공축합 수지의 에폭시화물, 페놀류와 파라크실릴렌디클로라이드 등으로부터 합성되는 페놀아랄킬수지류의 에폭시화물, 페놀류와 비스클로로메틸비페닐 등으로부터 합성되는 비페닐아랄킬형 페놀수지의 에폭시화물, 나프톨류와 파라크실릴렌디클로라이드 등으로부터 합성되는 나프톨아랄킬수지류의 에폭시화물 등을 들 수 있다. 이들 에폭시수지는 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 이들의 배합량은 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위이면 되는데, StPNE와 2관능 결정성 에폭시수지의 합계에 대하여 50중량%미만이다.Examples of such other epoxy resins include epoxides of dihydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 2,2'-biphenol, resorcin, and naphthalenediol. Epoxy of trivalent or more phenols such as tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak A biphenyl aralkyl type synthesize | combined from the cargo, the epoxide of the co-condensation resin of dicyclopentadiene, and phenols, the epoxide of phenol aralkyl resins synthesize | combined from phenols and paraxylylenedichloride, phenols, bischloromethyl biphenyl, etc. Epoxides of phenol resins, epoxides of naphthol aralkyl resins synthesized from naphthols and paraxylylenedichloride, and the like. These epoxy resins may be individual and may use 2 or more types together. Although these compounding quantities should just be a range which does not impair the objective of this invention, it is less than 50 weight% with respect to the total of StPNE and a bifunctional crystalline epoxy resin.

본 발명의 에폭시수지 조성물에 사용하는 페놀계 경화제를 구체적으로 예시하면, 비스페놀A, 비스페놀F, 비스페놀S, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 하이드로퀴논, 레조르신, 카테콜, 나프탈렌디올류 등의 2가의 페놀류, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 페놀노볼락, o-크레졸노볼락, 나프톨노볼락, 폴리비닐페놀 등으로 대표되는 3가 이상의 페놀류, 또한 페놀류, 나프톨류 또는 비스페놀A, 비스페놀F, 비스페놀S, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 하이드로퀴논, 레조르신, 카테콜, 나프탈렌디올류 등의 2가의 페놀류와 포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, p-히드록시벤즈알데히드, p-크실릴렌글리콜, p-크실릴렌글리콜디메틸에테르, 디비닐벤젠, 디이소프로페닐벤젠, 디메톡시메틸비페닐류, 디비닐비페닐, 디이소프로페닐비페닐류 등의 가교제와의 반응에 의해 합성되는 다가 페놀성 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the phenolic curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, Divalent phenols such as resorcin, catechol, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, o -Trihydric or higher phenols represented by cresol novolac, naphthol novolak, polyvinylphenol, or the like, and also phenols, naphthols or bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2, Divalent phenols such as 2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, naphthalenediol, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene glycol, p-xylylene Glycol dimethyl ether, divinylbenzene, diisopropenylbenzene, dimethoxymethylbiphenyl There may be mentioned divinyl biphenyl, diisopropenyl biphenyls polyhydric phenolic compound, which is synthesized by the reaction of the crosslinking agent and the like.

페놀계 경화제의 연화점 범위는 바람직하게는 40~150℃, 보다 바람직하게는 50~120℃이다. 이보다 낮으면 보존시의 블록킹의 문제가 있고, 이보다 높으면 에폭시수지 조성물 조제시의 혼합 반죽성과 성형성에 문제가 있다. 또한 바람직한 150℃에 있어서의 용융 점도는 1Pa·s이하이며, 보다 바람직하게는 0.5Pa·s이하이다. 이보다 높으면 에폭시수지 조성물의 조제시의 혼합 반죽성, 및 성형성에 문제가 있다.Preferably the softening point range of a phenolic hardening | curing agent is 40-150 degreeC, More preferably, it is 50-120 degreeC. If it is lower than this, there is a problem of blocking during storage, and if it is higher than this, there is a problem in mixing kneading property and moldability in preparing an epoxy resin composition. Moreover, melt viscosity in preferable 150 degreeC is 1 Pa * s or less, More preferably, it is 0.5 Pa * s or less. If it is higher than this, there is a problem in mixing kneading property and moldability in preparing the epoxy resin composition.

본 발명의 에폭시수지 조성물에서는, 에폭시수지와 경화제의 배합 비율은 에폭시기와 경화제 중의 관능기가 당량비로 0.8~1.5의 범위인 것이 바람직하다. 이 범위 외에서는 경화 후도 미반응의 에폭시기, 또는 경화제 중의 관능기가 잔류하여, 경화물로 했을 때의 신뢰성, 흡수율 등의 물성이 저하한다.In the epoxy resin composition of this invention, it is preferable that the compounding ratio of an epoxy resin and a hardening | curing agent is the range of 0.8-1.5 in an equivalence ratio of the functional group in an epoxy group and a hardening | curing agent. Outside this range, unreacted epoxy group or functional group in a hardening | curing agent remains after hardening, and physical properties, such as reliability, water absorption, etc. at the time of making hardened | cured material fall.

본 발명에 사용하는 무기 충전재로서는, 예를 들면 실리카, 알루미나, 지르콘, 규산칼슘, 탄산칼슘, 탄화규소, 질화규소, 질화붕소, 지르코니아, 포스테라이트, 스테아타이트, 스피넬, 뮬라이트, 티타니아 등이 있고, 이들의 1종 또는 2종 이상의 것을 조합해도 되는데, 용융 실리카를 주성분으로 하는 것이 바람직하고, 그 형태로서는 파쇄상, 또는 구형상의 것을 들 수 있다. 통상, 실리카는 몇 종류의 입경 분포를 가진 것을 조합하여 사용된다. 조합하는 실리카의 평균 입경의 범위는 0.5~100㎛가 좋다. 무기 충전재의 함유율은 70~95중량%의 범위가 좋지만, 바람직하게는 80~95중량%이며, 보다 바람직하게는 85~95중량%이다. 이보다 작으면 유기 성분의 함유율이 높아져 난연성이 충분히 발휘되지 않는다. 또한 반대로 이것보다 커지면, 성형물의 열전도율이 커짐으로써 유기 성분의 분해율이 높아지는 동시에, 단열성의 탄화층의 형성량이 적어져 난연성이 발휘되기 어려워진다.Examples of the inorganic filler used in the present invention include silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, forsterite, steatite, spinel, mullite, titania, and the like. Although these 1 type (s) or 2 or more types may be combined, it is preferable to have fused silica as a main component, and the crushed or spherical thing is mentioned as the form. Usually, silica is used combining what has several types of particle size distributions. As for the range of the average particle diameter of the silica to combine, 0.5-100 micrometers is good. Although the content rate of an inorganic filler is good in the range of 70 to 95 weight%, Preferably it is 80 to 95 weight%, More preferably, it is 85 to 95 weight%. When smaller than this, the content rate of an organic component becomes high and a flame retardance is not fully exhibited. On the contrary, when it becomes larger than this, the thermal conductivity of a molded article will become large, and the decomposition rate of an organic component will become high, and the formation amount of a heat insulation carbonization layer will become small, and it will become difficult to exhibit flame retardance.

또한 본 발명의 에폭시수지 조성물 중에는, 필요에 따라 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르, 폴리우레탄, 석유 수지, 인덴쿠마론 수지, 페녹시 수지 등의 올리고머나 고분자 화합물을 적절히 배합해도 되고, 안료, 난연제, 요변성(搖變性) 부여제, 커플링제, 유동성 향상제 등의 첨가제를 배합해도 된다. 안료로서는 유기계 또는 무기계의 체질 안료, 비늘 조각상 안료 등이 있다. 요변성 부여제로서는 실리콘계, 피마자유계, 지방족 아마이드 왁스, 산화폴리에틸렌 왁스, 유기 벤토나이트계 등을 들 수 있다. 또한 필요에 따라 아민류, 이미다졸류, 유기 포스핀류, 루이스산 등의 경화 촉진제를 배합해도 된다. 배합량으로서는 통상 에폭시수지 100중량부에 대하여 0.2~5중량부이다. 또한 필요에 따라, 본 발명의 수지 조성물에는 카르나우바 왁스, OP 왁스 등의 이형제, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 커플링제, 카본블랙 등의 착색제, 3산화안티몬 등의 난연제, 실리콘 오일 등의 저응력화제, 스테아린산칼슘 등의 활제(滑劑) 등을 배합할 수 있다.Moreover, in the epoxy resin composition of this invention, you may mix suitably oligomers and high molecular compounds, such as polyester, a polyamide, a polyimide, a polyether, a polyurethane, a petroleum resin, an indencoumarone resin, a phenoxy resin, as needed, You may mix | blend additives, such as a pigment, a flame retardant, a thixotropic agent, a coupling agent, and a fluidity improving agent. Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments and scale pigment pigments. Examples of the thixotropic agent include silicone type, castor oil type, aliphatic amide wax, polyethylene oxide wax, organic bentonite type and the like. Moreover, you may mix | blend hardening accelerators, such as amines, imidazole, organic phosphine, and Lewis acid, as needed. As a compounding quantity, it is 0.2-5 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins normally. Furthermore, if necessary, the resin composition of the present invention may be a release agent such as carnauba wax, OP wax, coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, colorant such as carbon black, flame retardant such as antimony trioxide, Low stress agents such as silicone oil, lubricants such as calcium stearate, and the like can be blended.

본 발명의 경화물은 상기 에폭시수지 조성물을 주형, 압축 성형, 트랜스퍼 성형 등의 성형방법으로 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 경화물이 생성할 때의 온도는 통상 120~220℃이다.The hardened | cured material of this invention can be obtained by hardening the said epoxy resin composition by shaping | molding methods, such as casting, compression molding, and transfer molding. The temperature at the time of hardened | cured material formation is 120-220 degreeC normally.

<실시예><Examples>

이하, 합성예, 실시예 및 비교예에 근거하여, 본 발명을 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated concretely based on a synthesis example, an Example, and a comparative example.

(다가 히드록시수지의 합성)(Synthesis of Polyhydroxy Resin)

(합성예 1)(Synthesis Example 1)

1L의 4구(口) 플라스크에, 다가 히드록시화합물 성분으로서 페놀노볼락(쇼와 고분자 제품; BRG-555, 수산기 당량 105g/eq., 연화점 67℃, 150℃에서의 용융 점도 0.08Pa·s)을 105g, 톨루엔 5.3g, 산 촉매로서 p-톨루엔술폰산 0.055g(300ppm)을 투입하여 100℃로 승온하였다. 다음으로 100℃로 교반하면서, 스티렌 73g(0.7몰)을 3시간 동안 적하하여 반응시켰다. 또한 100℃에서 2시간 반응 후, 30% Na2CO3 0.049g을 첨가하여 중화를 행하였다. 다음으로 MIBK 330g에 용해시켜 80℃에서 5회 수세를 행하였다. 이어서, MIBK를 감압 증류 제거한 후 다가 히드록시수지 170g을 얻었다. 그 수산기 당량은 178g/eq., 연화점은 78℃, 150℃에서의 용융 점도는 0.13Pa·s였다. 이 수지를 StPN-A라 칭한다.In a 1 L four-necked flask, a phenol novolak (Showa Polymer Products; BRG-555, hydroxyl equivalent 105 g / eq., Softening point 67 DEG C, 150 DEG C, melt viscosity 0.08 Pa.s) as a polyhydric hydroxy compound component ) Was charged with 105 g of toluene, 5.3 g of toluene, and 0.055 g (300 ppm) of p-toluenesulfonic acid as the acid catalyst, and the temperature was raised to 100 ° C. Next, while stirring at 100 degreeC, 73 g (0.7 mol) of styrene was dripped for 3 hours, and it was made to react. Furthermore, after 2 hours of reaction at 100 ° C, 0.049 g of 30% Na 2 CO 3 was added to neutralize. Next, it dissolved in 330 g of MIBK and washed with water five times at 80 degreeC. Subsequently, 170 g of polyhydric hydroxy resins were obtained after distilling off MIBK under reduced pressure. As for the hydroxyl equivalent, 178 g / eq., The softening point were 78 degreeC, and melt viscosity in 150 degreeC was 0.13 Pa.s. This resin is called StPN-A.

(합성예 2)(Synthesis Example 2)

(에폭시수지의 합성)(Synthesis of epoxy resin)

4구 분리 가능 플라스크에 합성예 1에서 얻은 StPN-A 150g, 에피클로로히드린 468g, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 70g을 넣어 교반 용해시켰다. 균일하게 용해 후 130mmHg의 감압하 65℃로 유지하고, 48% 수산화나트륨 수용액 70.3g을 4시간 동안 적하하여, 이 적하 중에 환류 유출한 물과 에피클로로히드린을 분리조(分離槽)로 분리하여 에피클로로히드린은 반응 용기에 되돌리고, 물은 계외로 제거하여 반응하였다. 반응 종료 후, 여과에 의해 생성한 염을 제거하고, 더 수세한 후 에피클로로히드린을 증류 제거하여, 에폭시수지 185g을 얻었다(StPNE-A). 얻어진 수지의 에폭시 당량은 246g/eq., 연화점은 56℃, 150℃에 있어서의 용융 점도는 0.10Pa·s였다.150 g of StPN-A obtained in Synthesis Example 1, 468 g of epichlorohydrin and 70 g of diethylene glycol dimethyl ether were added to a four-neck separable flask, and the mixture was stirred. After homogeneous dissolution, the mixture was maintained at 65 ° C. under reduced pressure of 130 mmHg, and 70.3 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise for 4 hours. Epichlorohydrin was returned to the reaction vessel, and water was removed to react with the system. After completion | finish of reaction, the salt produced | generated by filtration was removed, and after further washing with water, epichlorohydrin was distilled off and 185g of epoxy resins were obtained (StPNE-A). As for epoxy equivalent of obtained resin, melt viscosity in 56 degreeC and 150 degreeC of 246g / eq. And softening point was 0.10 Pa.s.

(실시예 1~4, 비교예 1~3)(Examples 1-4, Comparative Examples 1-3)

상기의 합성예 2에서 얻어진 에폭시수지(StPNE-A), 하기에 나타내는 에폭시수지, 경화제, 및 무기 충전재와 경화 촉진제로서의 트리페닐포스핀과, 그 밖의 첨가제를 표 1~2에 나타내는 배합 비율로 혼합 반죽하여 에폭시수지 조성물을 조제하였다. 표 중의 수치는 배합에 있어서의 중량부를 나타낸다.The epoxy resin (StPNE-A) obtained by the said synthesis example 2, the epoxy resin shown below, a hardening | curing agent, triphenylphosphine as an inorganic filler, and a hardening accelerator, and other additives are mixed by the compounding ratio shown to Tables 1-2. Kneading to prepare an epoxy resin composition. The numerical value in a table | surface shows a weight part in mix | blending.

2관능 결정성 에폭시수지로서, 에폭시수지A: 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시비페닐의 에폭시화물(YX4000H; 에폭시 당량 195, 융점 105℃, 150℃에서의 용융 점도 0.011Pa·s, 미츠비시 가가쿠 제품), 에폭시수지B: 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시디페닐메탄의 에폭시화물(YSLV-80XY; 에폭시 당량 193, 융점 78℃, 150℃에서의 용융 점도 0.008Pa·s, 신닛테츠가가쿠 제품)을 사용하였다. 또한 비교의 에폭시수지로서, 에폭시수지C: o-크레졸노볼락형 에폭시수지(에폭시 당량 200, 연화점 65℃, 신닛테츠가가쿠 제품)를 사용하였다.Epoxy resin A: 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl (YX4000H; epoxy equivalent 195, melting point 105 ° C, 150) as a bifunctional crystalline epoxy resin Melt viscosity at 1 ° C. 0.011 Pa · s, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epoxy Resin B: Epoxide of 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane (YSLV- 80XY: epoxy equivalent 193, melting point 78 ° C., melt viscosity 0.008 Pa · s at 150 ° C., manufactured by Shinnitetsu Chemical Co., Ltd.). Moreover, epoxy resin C: o-cresol novolak-type epoxy resin (epoxy equivalent 200, softening point 65 degreeC, the Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd. product) was used as a comparative epoxy resin.

경화제 성분으로서, 페놀아랄킬수지(PA; MEH-7800SS(메이와 카세이 제품), OH 당량 175, 연화점 67℃) 또는 페놀노볼락(PN; PSM-4261(군에이 가가쿠 제품), OH 당량 103, 연화점 82℃)을 사용하였다.Phenol aralkyl resin (PA; MEH-7800SS (made by Meiwa Kasei), OH equivalent 175, softening point 67 degreeC) or phenol novolak (PN; PSM-4261 (made by Gunei Chemical), OH equivalent 103 as a hardening | curing agent component , Softening point 82 ° C.) was used.

이 에폭시수지 조성물을 사용하여 175℃에서 성형하고, 또한 175℃에서 12시간 포스트 큐어를 행하여, 경화물 시험편을 얻은 후, 각종 물성 측정에 제공하였다. 결과를 표 3~4에 나타낸다.After molding at 175 ° C using this epoxy resin composition, and postcure at 175 ° C for 12 hours to obtain a cured product test piece, it was used for measuring various physical properties. The results are shown in Tables 3-4.

1)에폭시 당량의 측정1) Measurement of epoxy equivalent

전위차 적정(滴定)장치를 사용하여, 용매로서 메틸에틸케톤을 사용하고, 브롬화테트라에틸암모늄아세트산 용액을 첨가하여, 전위차 적정장치로 0.1mol/L 과염소산-아세트산 용액을 사용하여 측정하였다.Using a potentiometric titrator, methyl ethyl ketone was used as the solvent, tetraethylammonium bromide solution was added, and measured using a 0.1 mol / L perchloric acid-acetic acid solution with a potentiometric titrator.

2)연화점2) Softening point

자동 연화점 장치(메이호우샤 세이사쿠쇼 가부시키가이샤 제품, ASP-M4SP)를 사용하여, JIS-K-2207에 따라 환구법(環球法)으로 측정하였다.It measured by the circular ball method according to JIS-K-2207 using the automatic softening point apparatus (ASP-M4SP by Meihosha Seisakusho Co., Ltd.).

3)용융 점도3) Melt viscosity

BROOKFIELD 제품, CAP2000H형 회전 점도계를 사용하여, 150℃에서 측정하였다.It measured at 150 degreeC using the Brookfield-made CAP2000H type | mold rotational viscometer.

4)겔 타임4) gel time

175℃로 가열해 둔 겔화 시험기(닛신 가가쿠 가부시키사이샤 제품)의 플레이트상에 에폭시수지 조성물을 첨가하고, 불소 수지봉을 사용하여 1초간에 2회전의 속도로 교반하여, 에폭시수지 조성물이 경화할 때까지 요한 겔화 시간을 조사하였다.Epoxy resin composition was added to the plate of the gelling tester (made by Nisshin Chemical Co., Ltd.) heated at 175 degreeC, and it stirred at the speed of 2 rotations for 1 second using a fluororesin rod, and the epoxy resin composition The required gelation time was investigated until curing.

5)스파이럴 플로우5) spiral flow

스파이럴 플로우에 대해서는, 규격(EMMI-1-66)에 준거한 스파이럴 플로우 측정용 금형으로 에폭시수지 조성물을 스파이럴 플로우의 주입 압력(150Kgf/cm2), 경화 시간 3분의 조건으로 성형하여 유동 길이를 조사하였다.For spiral flow, the epoxy resin composition is molded under the conditions of injection pressure (150Kgf / cm 2 ) and curing time of 3 minutes using a spiral flow measuring mold according to the standard (EMMI-1-66), and the flow length is adjusted. Investigate.

6)선 팽창 계수(CTE), 유리 전이점(Tg)6) Line expansion coefficient (CTE), glass transition point (Tg)

세이코 인스트루먼트 제품 TMA120C형 열기계 측정장치에 의해, 승온 속도 10℃/분의 조건에서, Tg를 구하고, α1(Tg 이하의 CTE)은 30~50℃의 범위의 평균치를, 또한 α2(Tg 이상의 CTE)는 Tg 플러스 20℃~40℃의 범위의 평균치로부터 구하였다.With the Seiko Instruments TMA120C type thermomechanical measuring device, Tg is calculated | required on the conditions of a temperature increase rate of 10 degree-C / min, and (alpha) 1 (Tg or less CTE) is an average value of the range of 30-50 degreeC, and α2 (CTE more than Tg) ) Was obtained from an average value in the range of Tg plus 20 ° C to 40 ° C.

7)구부림 강도 및 구부림 탄성7) bending strength and bending elasticity

JISK 6911에 따라, 3점 구부림 시험법으로 상온에서 측정하였다.According to JISK 6911, it measured at normal temperature by the three-point bending test method.

8)접착 강도8) adhesive strength

동판(銅板) 2장 사이에 25mm×12.5mm×0.5mm의 성형물을 압축 성형기에 의해 175℃로 성형하고, 180℃에서 12시간 포스트 큐어를 행한 후, 인장 전단(剪斷) 강도를 구함으로써 평가하였다.The molded product of 25 mm x 12.5 mm x 0.5 mm was formed at 175 degreeC by the compression molding machine between two copper plates, and after performing postcure at 180 degreeC for 12 hours, it evaluated by obtaining the tensile shear strength. It was.

9)흡수율9) Absorption rate

25℃, 상대 습도 50%의 조건을 표준 상태로 하고, 85℃, 상대 습도 85%의 조건에서 100시간 흡습시킨 후의 중량 변화율로 하였다.The conditions of 25 degreeC and 50% of the relative humidity were made into the standard state, and it was set as the weight change rate after moisture-absorbing for 100 hours on 85 degreeC and the conditions of 85% of the relative humidity.

10)난연성10) Flame retardant

두께 1/16인치의 시험편을 성형하고, UL94V-0 규격에 의해 평가하여, 5개의 시험편에서의 합계의 연소 시간으로 나타내었다.A test piece having a thickness of 1/16 inch was molded, evaluated by the UL94V-0 standard, and represented by the total combustion time in the five test pieces.

Figure pct00007
Figure pct00007

Figure pct00008
Figure pct00008

Figure pct00009
Figure pct00009

Figure pct00010
Figure pct00010

본 발명의 에폭시수지 조성물은 유동성 및 경화성이 뛰어난 동시에, 난연성, 내습성 및 저탄성도 뛰어난 경화물을 부여하여, 전기·전자부품류의 봉지, 회로 기판 재료 등의 용도에 적합하게 사용하는 것이 가능하다. 특히, 유동성 및 난연성이 뛰어나고, 뛰어난 성형성을 확보하면서, 환경 부하가 있는 난연제의 사용을 불필요하게 하거나 또는 감소시킨다.The epoxy resin composition of the present invention provides a cured product excellent in fluidity and curability, and excellent in flame retardancy, moisture resistance and low elasticity, and can be suitably used for applications such as sealing of electrical and electronic components, circuit board materials and the like. In particular, while excellent in fluidity and flame retardancy, and ensuring excellent moldability, the use of environmentally loaded flame retardants is unnecessary or reduced.

Claims (5)

에폭시수지, 페놀계 경화제, 및 무기 충전재를 함유하는 에폭시수지 조성물에 있어서, 에폭시수지 성분이, 하기 일반식(1)로 표시되는 비결정성의 에폭시수지와 150℃에서의 용융 점도가 0.001~0.05Pa·s인 2관능 결정성 에폭시수지를 함유하고, 에폭시수지 전체에 대하여, 하기 일반식(1)로 표시되는 비결정성의 에폭시수지의 함유량이 30중량%이상이며, 2관능 결정성 에폭시수지의 함유량이 30중량%이상인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
Figure pct00011

여기서, G는 글리시딜기를 나타내고, R1은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타내며, R2는 하기 식(a)로 표시되는 치환기를 나타내고, n은 1~20의 수를 나타낸다. 또한 p는 0.1~2.5의 수를 나타낸다.
Figure pct00012

여기서, R3은 수소 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를 나타낸다.
Epoxy resin composition containing epoxy resin, a phenolic hardening | curing agent, and an inorganic filler WHEREIN: The epoxy resin component is 0.001-0.05 Pa of amorphous epoxy resin represented by following General formula (1), and melt viscosity in 150 degreeC. The content of the amorphous epoxy resin represented by the following general formula (1) is 30% by weight or more, and the content of the bifunctional crystalline epoxy resin is contained in the difunctional crystalline epoxy resin which is s. Epoxy resin composition, characterized in that more than 30% by weight.
Figure pct00011

Here, G represents a glycidyl group, R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a substituent represented by the following formula (a), and n represents a number of 1 to 20. In addition, p represents the number of 0.1-2.5.
Figure pct00012

Here, R <3> represents hydrogen or a C1-C6 hydrocarbon group.
제1항에 있어서,
2관능 결정성 에폭시수지 성분이 하기 일반식(2)로 표시되는 에폭시수지인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
Figure pct00013

여기서, R4~R11은 수소 및 탄소수 1~6의 탄화수소기로부터 선택되고, 모두가 동일해도 달라도 된다. X는 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -CO-, -O-, -S- 또는 -SO2-를 나타낸다. G는 글리시딜기를 나타내고, m은 0~3의 수를 나타낸다.
The method of claim 1,
An epoxy resin composition, wherein the bifunctional crystalline epoxy resin component is an epoxy resin represented by the following General Formula (2).
Figure pct00013

Here, R <4> -R <11> is chosen from hydrogen and a C1-C6 hydrocarbon group, and all may be same or different. X represents a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -CO-, -O-, -S- or -SO 2- . G represents a glycidyl group, and m represents the number of 0-3.
제1항에 있어서,
페놀계 경화제 성분이 아랄킬형 페놀계 경화제 및 노볼락형 페놀계 경화제로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것임을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
The method of claim 1,
Epoxy resin composition, characterized in that the phenolic curing agent component contains at least one selected from aralkyl type phenolic curing agent and novolak type phenolic curing agent.
제1항에 있어서,
무기 충전재의 함유율이 70~95중량%인 것을 특징으로 하는 에폭시수지 조성물.
The method of claim 1,
Epoxy resin composition, characterized in that the content of the inorganic filler is 70 to 95% by weight.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 에폭시수지 조성물을 경화하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시수지 경화물.Hardened | cured epoxy resin formed by hardening | curing the epoxy resin composition in any one of Claims 1-4.
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