KR20130104080A - Electroless plating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 금속박(金屬箔)에 무전해 도금 방식으로 금속 피막을 코팅(coating)하는 무전해 도금 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an electroless plating apparatus for coating a metal film on a metal foil by an electroless plating method.
전자기기, 정보통신기기 등 많은 분야의 제품에서 금속 피막이 도금된 금속박(金屬箔)이 많이 사용되고 있다. 예컨대, 배터리(battery)에는 산화 방지를 위해 크롬(Cr)이 도금된 동박(銅箔)이 사용된다. 이와 같이 도금된 금속박을 얻기 위하여 일반적으로 전해 도금 방식이 선택된다. 그런데, 전해 도금 방식은 금속박 표면에 도금이 완료될 때까지 도금액에 금속박을 오랜 시간 침잠시켜야 하므로 작업 시간이 오래 걸리고, 도금 비용도 커진다. 또한, 권취된 롤러가 풀리면서 공급되는 금속 웹을 연속적으로 도금 작업하기 곤란하다. Metal foil coated with a metal coating is widely used in many fields such as electronic devices and information communication devices. For example, in a battery, a copper foil plated with chromium (Cr) is used to prevent oxidation. In order to obtain the metal foil plated in this way, an electrolytic plating method is generally selected. By the way, the electrolytic plating method takes a long time because the metal foil has to be submerged in the plating liquid until the plating on the surface of the metal foil is completed, and the cost of the plating becomes large. In addition, it is difficult to continuously plate the metal web supplied while the wound roller is unwound.
본 발명은 금속 웹(web)을 도금액을 통과시켜 빠르게 도금하는 무전해 도금 장치를 제공한다. The present invention provides an electroless plating apparatus for rapidly plating a metal web through a plating solution.
또한, 본 발명은 금속 웹(web)을 연속적으로 무전해 도금하는 무전해 도금 장치를 제공한다. The present invention also provides an electroless plating apparatus for continuously electroless plating a metal web.
본 발명은, 도금 물질을 포함하는 도금액이 담긴 도금 수조; 상기 도금액에 아래 측 외주부가 잠긴 딥핑 롤러(dipping roller); 상기 딥핑 롤러와의 사이에 상기 도금액의 수위보다 높은 위치에 스퀴징 닙(squeezing nip)이 형성되도록 상기 딥핑 롤러 측으로 가압되는 스퀴징 롤러(squeezing roller); 및, 상기 스퀴징 닙의 위에 마련된 건조 유닛;을 구비하고, 연속적으로 공급되는 금속 웹(web)이 상기 딥핑 롤러의 외주면을 따라 진행하여 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠긴 후 상기 도금액을 벗어나 상기 스퀴징 닙을 통과하고, 상기 건조 유닛을 통과하여 건조되도록 구성된 무전해 도금 장치를 제공한다. The present invention is a plating bath containing a plating solution containing a plating material; A dipping roller in which a lower outer peripheral part is immersed in the plating liquid; A squeezing roller pressed against the dipping roller side such that a squeezing nip is formed at a position higher than the level of the plating liquid between the dipping roller; And a drying unit provided on the squeegeeing nip, wherein the continuously supplied metal web proceeds along the outer circumferential surface of the dipping roller to be immersed in the plating liquid in the plating bath, and then out of the plating liquid. An electroless plating apparatus is provided that is configured to pass through a nip and pass through the drying unit.
상기 건조 유닛은 상기 금속 웹의 양 측면으로 공기를 불어내는, 상기 금속 웹의 폭 방향으로 연장된 에어 나이프(air knife)를 구비할 수 있다. The drying unit may have an air knife extending in the width direction of the metal web, for blowing air to both sides of the metal web.
본 발명의 무전해 도금 장치는 상기 금속 웹이 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠기기에 앞서, 상기 딥핑 롤러의 외주면에 접촉 대면하는 상기 금속 웹의 일 측면에 동종(同種)의 도금액을 분사하는 도금액 분사 유닛을 더 구비할 수 있다. The electroless plating apparatus of the present invention is a plating liquid injection unit for injecting a plating solution of the same type on one side of the metal web that is in contact with the outer peripheral surface of the dipping roller before the metal web is submerged in the plating liquid in the plating tank It may be further provided.
상기 스퀴징 롤러는 내측 파이프와, 상기 내측 파이프를 감싸는, 경도 30 내지 40의 고무로 이루어진 내층과, 상기 내층을 감싸는, 경도 50 내지 60의 고무로 이루어진 외층을 구비할 수 있고, 상기 내층과 외층의 두께는 각각 4.5 내지 5.5mm 일 수 있다. The squeegee roller may have an inner pipe, an inner layer made of rubber of hardness 30 to 40 surrounding the inner pipe, and an outer layer made of rubber of
상기 딥핑 롤러의 외주면은 경도 80 내지 100의 소재로 이루어질 수 있다. The outer circumferential surface of the dipping roller may be made of a material having a hardness of 80 to 100.
상기 금속 웹은 구리(Cu) 소재로 이루어지고, 상기 도금액은 크롬(Cr) 성분을 포함할 수 있다. The metal web may be formed of a copper (Cu) material, and the plating solution may include a chromium (Cr) component.
본 발명의 무전해 도금 장치는 상기 딥핑 롤러에 대한 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 조절하기 위한 스퀴징 닙 조절 유닛을 더 구비할 수 있다. The electroless plating apparatus of the present invention may further include a squeegee nip adjusting unit for adjusting the pressing force of the squeegeeing roller with respect to the dipping roller.
상기 스퀴징 닙 조절 유닛은, 시계 방향 및 반시계 방향으로 회전 가능한 스크류(screw); 상기 스퀴징 롤러의 샤프트(shaft)를 지지하는 것으로, 상기 스크류의 회전 방향에 따라 상기 딥핑 롤러의 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동 가능한 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재; 및, 조이면 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 이동하지 못하도록 고정하는 클램프(clamp);를 구비할 수 있다. The squeegee nip adjusting unit includes a screw rotatable in a clockwise and counterclockwise direction; A squeegee roller shaft support member which supports a shaft of the squeegee roller and is movable in a direction toward or opposite to the dipping roller according to a rotational direction of the screw; And, a clamp for fixing the squeegee roller shaft support member to prevent movement thereof when tightened.
상기 스퀴징 닙 조절 유닛은, 상기 스퀴징 롤러의 샤프트를 지지하는 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재; 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 상기 딥핑 롤러를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동시키는 액츄에이터(actuator); 상기 딥핑 롤러의 샤프트를 지지하는 딥핑 롤러 샤프트 지지부재; 상기 딥핑 롤러 샤프트 지지부재에 고정 탑재되고, 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재에 접촉 가압되면 그 가압력에 대응하는 전기 신호를 송신하는 로드 셀(load cell); 및, 상기 로드 셀의 전기 신호를 수신하여 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 추산(推算)하고, 상기 추산한 값과 미리 정해진 기준 값이 같아지는 방향으로 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재가 이동하도록 상기 액츄에이터를 구동 제어하는 액츄에이터 콘트롤러;를 구비할 수 있다. The squeegee nip adjustment unit, the squeegee roller shaft support member for supporting the shaft of the squeegee roller; An actuator for moving the squeegeeing roller shaft supporting member in a direction toward or opposite of the dipping roller; A dipping roller shaft support member for supporting a shaft of the dipping roller; A load cell fixedly mounted to the dipping roller shaft support member and transmitting an electrical signal corresponding to the pressing force when contacted and pressed by the squeezing roller shaft support member; And receiving the electrical signal of the load cell to estimate the pressing force of the squeegeeing roller, and to move the squeegeeing roller shaft support member in a direction in which the estimated value is equal to a predetermined reference value. It may be provided with; an actuator controller for controlling the drive.
본 발명의 무전해 도금 장치에 의하면, 금속 웹의 표면을 연속적으로 빠르게 다른 종류의 금속으로 도금할 수 있다. 또한, 무전해 도금 방식으로 도금할 수 있어 전해 도금 방식보다 비용을 절감할 수 있다. According to the electroless plating apparatus of the present invention, the surface of the metal web can be continuously and rapidly plated with another kind of metal. In addition, the electroless plating method can be used to reduce the cost than the electrolytic plating method.
한편, 딥핑 롤러와 스퀴징 롤러 사이의 닙(nip) 간격을 콘트롤러에 의해 제어하는 본 발명의 실시예에 따르면, 사용자의 작업 숙련도에 무관하게 양호한 도금 품질을 유지할 수 있어 작업 불량을 줄일 수 있다. On the other hand, according to the embodiment of the present invention to control the nip interval between the dipping roller and the squeegee roller by the controller, it is possible to maintain a good plating quality irrespective of the user's work proficiency can reduce the work failure.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 무전해 도금 장치를 도시한 구성도이다.
도 2는 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 일 예를 도시한 평면도이다.
도 3은 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 다른 일 예를 도시한 평면도이다. 1 is a block diagram showing an electroless plating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view illustrating an example of a squeezing nip adjusting unit of the electroless plating apparatus of FIG. 1.
3 is a plan view showing another example of the squeegee nip control unit of the electroless plating apparatus of FIG.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 무전해 도금 장치를 상세히 설명한다. 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자 또는 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the electroless plating apparatus according to an embodiment of the present invention. The terminology used herein is a term used to properly express the preferred embodiment of the present invention, which may vary depending on the intention of the user or operator or the custom of the field to which the present invention belongs. Therefore, the definitions of the terms should be made based on the contents throughout the specification.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 무전해 도금 장치를 도시한 구성도이다. 도 1을 참조하면, 무전해 도금 장치(10)는, 예컨대 구리(Cu)와 같은 금속으로 이루어진 금속 웹(web)(3)의 표면에, 예컨대 크롬(Cr)과 같은 다른 종류의 금속층(5)을 무전해 도금하는 장치로서, 도금 수조(15), 딥핑 롤러(dipping roller)(20), 스퀴징 롤러(squeezing roller)(25), 건조 유닛, 도금액 분사 유닛을 구비한다. 1 is a block diagram showing an electroless plating apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the
도금 수조(15)는 예컨대, 크롬(Cr)과 같은 도금 물질을 포함하는 도금액(4)이 담겨 있고, 상측이 개방된다. 딥핑 롤러(20)는 도금 수조(15)의 도금액(4)에 그 아래 측 외주부가 잠기게 마련된다. 스퀴징 롤러(25)는 딥핑 롤러(20) 측으로 가압되어 스퀴징 롤러(25)와 딥핑 롤러(20) 사이에 스퀴징 닙(squeezing nip)(35)이 형성된다. 상기 스퀴징 닙(35)은 도금 수조(15)에 담긴 도금액(4)의 수위보다 높은 위치에 형성된다. The
건조 유닛은 스퀴징 닙(35)의 위에 마련되고, 금속 웹(3)의 양 측면으로 고압의 공기를 불어내는 한 쌍의 에어 나이프(air knife)(18)를 구비한다. 상기 에어 나이프(18)는 금속 웹(3)의 폭 방향으로 연장된다. The drying unit is provided on the squeezing
한편, 도금액 분사 유닛은 금속 웹(3)의 폭 방향으로 일정 간격으로 복수 개 배열된 도금액 분사 노즐(16)을 구비할 수 있다. 상기 도금액 분사 노즐(16)은 금속 웹(3)이 도금 수조(15) 내의 도금액(4)에 잠기기에 앞서, 딥핑 롤러(20)의 외주면에 접촉 대면하는 금속 웹(3)의 일 측면에 동종(同種)의 도금액(4)을 분사한다. 이는 딥핑 롤러(20)에 금속 웹(3)이 감기면, 금속 웹(3)의 딥핑 롤러에 접촉하는 면은 도금 수조(15)의 도금액(4)에 충분히 함침되지 못할 가능성이 있다. 따라서 금속 웹(3)이 딥핑 롤러(20)에 감기기 전에, 도금액 분사 노즐(16)이 금속 웹(3)의 상기 딥핑 롤러(20)에 닿는 면에 충분히 도금액(4)을 공급한다. 상기 도금액 분사 노즐(16)은 스프링 쿨러 방식의 노즐이거나, 슬릿 방식의 노즐일 수도 있으며, 상기 도금 수조(15) 상부에 설치되어서, 금속 웹(3)에 묻지 않은 도금액은 도금 수조(15)로 들어가도록 할 수도 있다. Meanwhile, the plating liquid spraying unit may include a plurality of plating
무전해 도금 장치(10)는 또한, 딥핑 롤러(20)로 향하는 금속 웹(3)을 지지하는 공급 지지 롤러(11)와, 스퀴징 닙(35)을 통과하여 배출되는 금속 웹(3)을 지지하는 배출 지지 롤러(12)를 더 구비한다. The
도 1에 도시되진 않았으나 금속 웹(3)은 롤러에 감긴 상태로 준비되고, 이 롤러가 풀리면서 연속적으로 무전해 도금 장치(10)에 공급될 수 있다. 또한, 무전해 도금 장치(10)를 통과하여 도금층(5)이 형성된 금속 웹(3)을 다른 롤러에 감기면서 연속적으로 수거된다. 무전해 도금 장치(10)로 공급되는 금속 웹(3)은 공급 지지 롤러(11)에 지지되고 딥핑 롤러(20)로 향하는 도중에 도금액 분사 노즐(16)에 의해 일측면에 도금액(4)이 분사되어 그 일측면에 고르게 도포된다. Although not shown in FIG. 1, the
연속적으로 상기 금속 웹(3)은 딥핑 롤러(20)의 외주면을 따라 진행하여 도금 수조(15) 내의 도금액(4)에 잠긴다. 이에 따라 금속 웹(3)의 타측면에 도금액(4)이 고르게 도포된다. 상기 금속 웹(3)의 일측면은 딥핑 롤러(20)의 외주면에 접촉 대면하여 도금 수조(15)에 담긴 도금액(4)이 도포되기는 어렵지만, 상기 도금액 분사 노즐(16)에서 분사된 도금액(4)으로 충분히 도포되어 도금 품질에 영향을 미치지 않는다. The
도금 수조(15) 속의 도금액(4)에 잠긴 금속 웹(3)은 딥핑 롤러(20)의 외주면을 따라 이동하여 도금액(4)을 벗어나고, 연이어 스퀴징 닙(35)을 통과한다. 스퀴징 롤러(25)가 딥핑 롤러(20) 측으로 가압되므로 금속 웹(3)의 양 측면에 도포된 도금액(4)은 스퀴징 닙(35)을 통과하면서 금속 성분 이외의 성분이 배출되고, 금속 성분은 금속 웹(3)에 더욱 견고하게 밀착 결합된다. The
스퀴징 닙(35)을 통과한 금속 웹(3)은 서로 마주보고 있는 한 쌍의 에어 나이프(18) 사이를 통과하고, 그 도중에 상기 에어 나이프(18)로부터 고압의 공기가 불어져 도금액(4)이 건조되어 금속 웹(3)의 양 측면에 도금층(5)이 형성된다. 상기 도금층(5)이 형성된 금속 웹(3)은 배출 지지 롤러(12)에 의해 지지되고 다른 롤러(미도시)에 감기면서 수거되도록 무전해 도금 장치(10)에서 배출된다.The
도 2는 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 일 예를 도시한 평면도이다. 도 2를 참조하면, 스퀴징 롤러(25)는 내측 파이프(26)와, 상기 내측 파이프(26)를 감싸는 내층(27)과, 상기 내층(27)을 감싸는 외층(28)을 구비하고, 상기 외층(28)이 딥핑 롤러(20)의 외주면과 대면하여 스퀴징 닙(35)이 형성된다. 상기 내측 파이프(26)는 길이 방향 양 단부의 스퀴징 롤러 샤프트(29)와 연결되는 것으로, 통상적으로 강관이 사용된다. 상기 내층(27)은 스퀴징 닙(35)을 형성하며 스퀴징 롤러(25)와 딥핑 롤러(20)가 회전할 때의 충격을 완충하는 역할 및 스퀴징 롤러(25)를 통하여 충분히 스퀴징되도록 접촉력을 높여주는 역할을 한다. 상기 내층(27)는 쇼어경도(Shore hardness)가 30 내지 40의 고무로 이루어지고, 두께는 4.5 내지 5.5mm 이다. 더욱 바람직하게는 내산성이 강한 EPDM(ethylene propylene diene monomer (M-class) rubber) 소재로 이루어질 수 있다. FIG. 2 is a plan view illustrating an example of a squeezing nip adjusting unit of the electroless plating apparatus of FIG. 1. Referring to FIG. 2, the
상기 외층(28)은 스퀴징 닙(35)을 통과하는 금속 웹(3)에 강한 압력을 가하여 도금액(4)을 금속 웹(3)에 부착시키는 역할을 한다. 이와 같은 소위, 스퀴징 효과를 극대화할 수 있도록 상기 외층(28)은 쇼어경도가 50 내지 60의 고무로 이루어지고, 두께는 4.5 내지 5.5mm 이다. 외층(28)도 내산성이 강한 EPDM 소재로 이루어질 수 있다. 이로 인해 스퀴징 닙(35)을 통과하면 금속 웹(3) 양 측 표면의 도금층(5) 두께를 8 내지 10㎛ 로 얇게 형성시킴과 동시에, 전부분에 걸쳐서 균질하게 코팅 가능하다.The
즉, 본 발명에 따르면, 스퀴징 롤러(25)가 강관을 서로 다른 강도를 가지는 고무로 감싸는 구조를 한다. 즉, 강관 상에 상대적으로 경도가 낮은 내층(27)으로 감싸고, 상기 내층(27) 상을 경도가 높은 외층(28)으로 감싸도록 한다. 이에 따라서 내층(27)의 상대적으로 낮은 강도로 인하여 완충력이 향상되고, 외층(28)의 상대적으로 높은 강도로 인하여 면압을 극대화하여서 이상적인 도금액 코팅이 가능하도록 한다.That is, according to the present invention, the
상기한 바와 같이, 스퀴징 닙(35)을 통과하면 금속 웹(3) 양 측 표면의 도금층(5) 두께를 8 내지 10㎛ 정도로 얇게 형성시킬 수 있는데, 상기 도금층(5) 두께를 얇게 형성시킴으로써 에어 나이프에 의한 건조가 가능하게 된다. As described above, when the squeegeeing nip 35 is passed, the thickness of the
한편, 딥핑 롤러(20)의 외주면은 스퀴징 롤러의 내층 및 외층보다 경도가 높은, 예를 들어서 쇼어경도(Shore hardness)가 80 내지 100이고, 내산성이 강한 소재로 이루어질 수 있다. 상기 딥핑 롤러 외주면 소재의 일예로 에보나이트(ebonite) 소재일 수 있다. On the other hand, the outer circumferential surface of the dipping
무전해 도금 장치(10)는 딥핑 롤러(20)에 대한 스퀴징 롤러(25)의 가압력을 조절하기 위한 스퀴징 닙 조절 유닛을 더 구비한다. 스퀴징 닙 조절 유닛은 프레임(40)에 체결된, 시계 방향 및 반시계 방향으로 회전 가능한 스크류(screw)(45)와, 스퀴징 롤러 샤프트(29)를 지지하며, 스크류(45)의 회전 방향에 따라 딥핑 롤러(20)를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동 가능한 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)를 구비한다. The
스크류(45)가 회전할 때 프레임(40)에 대해 직선 이동하지 않고 상기 스크류(45)에 나사 체결된 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)가 직선 이동하도록 구성될 수도 있고, 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)와 스크류(45)가 연결되어 상기 스크류(45)가 회전하면 상기 스크류(45)와 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)가 동시에 프레임(40)에 대해 같은 방향으로 직선 이동하도록 구성될 수도 있다. 한편, 딥핑 롤러(20)의 샤프트(22)는 프레임(40)에 고정 체결된 딥핑 롤러 샤프트 지지부재(41)에 의해 직선 이동 불가능하게 지지된다.When the
스퀴징 닙 조절 유닛은 클램프(clamp)(47)를 더 구비한다. 사용자가 스크류(45)를 일정한 각도로 회전시켜 딥핑 롤러(20)에 대한 스퀴징 롤러(25)의 가압력을 조정하고 이 설정을 고정시키기 위해 클램프(47)를 조이면 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)가 이동하지 못하도록 고정된다. 따라서, 양품 생산에 적절한 가압력을 유지하며 무전해 도금 작업을 진행할 수 있다. 한편, 가압력 설정을 변경하거나 작업을 멈추고 장치를 수리할 경우에는 조였던 클램프(47)를 풀고 스크류(45)를 회전시켜 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)를 이동할 수 있다. The squeegee nip adjustment unit further includes a
도 3은 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 다른 일 예를 도시한 평면도이다. 도 3에서 도 1 및 도 2의 참조번호와 동일한 참조번호로 지시된 부재는 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 바 있으므로 중복된 설명은 생략한다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 스퀴징 닙 조절 유닛은, 딥핑 롤러 샤프트(22)를 지지하는 것으로, 프레임(50)에 고정 체결된 딥핑 롤러 샤프트 지지부재(51)와, 스퀴징 롤러 샤프트(29)를 지지하는 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)와, 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)를 딥핑 롤러(20)를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동시키는 액츄에이터(actuator)(63)를 구비한다. 상기 액츄에이터(63)는 에어 실린더(air cylinder)일 수 있고, 프레임(50)에 고정 결합된다. 3 is a plan view showing another example of the squeegee nip control unit of the electroless plating apparatus of FIG. In FIG. 3, the members denoted by the same reference numerals as those of FIGS. 1 and 2 have been described above with reference to FIGS. 1 and 2, and thus redundant descriptions thereof will be omitted. 3, the squeegee nip control unit according to another embodiment of the present invention, to support the dipping
상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)는 스퀴징 롤러(25)의 길이 방향으로 돌출된 돌기부(57)를 구비한다. 한편, 딥핑 롤러 샤프트 지지부재(51)의 내측면에는 로드셀 탑재부(53)가 마련되고, 여기에는 로드 셀(load cell)(60)이 탑재된다. 로드 셀(60)은 액츄에이터(63)의 구동에 의해 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)가 딥핑 롤러(20) 측으로 이동하면 상기 돌기부(57)에 의해 접촉 가압될 수 있다. 로드 셀(60)이 가압되면 그 가압력의 크기에 대응하는 전기 신호가 발생한다. The squeegee roller
한편, 스퀴징 닙 조절 유닛은 액츄에이터 콘트롤러(65)를 더 구비한다. 액츄에이터 콘트롤러(65)는 로드 셀(60)로부터 전기 신호를 수신할 수 있게 전기적으로 연결되고, 액츄에이터(63)에 제어 신호를 송신할 수 있게 전기적으로 연결된다. 로드 셀(60)의 가압된 때 그 가압력의 크기에 대응되게 발생하는 전기 신호는 액츄에이터 콘트롤러(65)에 수신되고, 이 전기 신호에 기초하여 스퀴징 롤러(25)가 딥핑 롤러(20)를 가압하는 가압력이 추산(推算)된다. 이 추산한 값과 미리 정해진 기준값, 소위 디폴트 값(default value)이 같아지는 방향으로 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)가 이동하도록 액츄에이터 콘트롤러(65)는 액츄에이터(63)에 제어 신호를 송신하며, 이 제어 신호에 따라 액츄에이터(63)가 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)를 이동시켜 스퀴징 롤러(25)가 이동하게 되므로, 스퀴징 롤러(25)의 가압력이 사용자의 개입 없이 자동적으로 적정한 수준으로 유지될 수 있다. On the other hand, the squeegee nip adjustment unit further includes an
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.
10: 무전해 도금 장치 15: 도금 수조
16: 도금액 분사 노즐 18: 에어 나이프
20: 딥핑 롤러 25: 스퀴징 롤러
27: 내층 28: 외층10: electroless plating device 15: plating bath
16: plating liquid injection nozzle 18: air knife
20: dipping roller 25: squeezing roller
27: inner layer 28: outer layer
Claims (10)
상기 도금액에 아래 측 외주부가 잠긴 딥핑 롤러(dipping roller);
상기 딥핑 롤러와의 사이에 상기 도금액의 수위보다 높은 위치에 스퀴징 닙(squeezing nip)이 형성되도록 상기 딥핑 롤러 측으로 가압되는 스퀴징 롤러(squeezing roller); 및,
상기 스퀴징 닙의 위에 마련된 건조 유닛;을 구비하고,
연속적으로 공급되는 금속 웹(web)이 상기 딥핑 롤러의 외주면을 따라 진행하여 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠긴 후 상기 도금액을 벗어나 상기 스퀴징 닙을 통과하고, 상기 건조 유닛을 통과하여 건조되도록 구성되며,
상기 스퀴징 롤러는, 내측 파이프와, 상기 내측 파이프를 감싸는 고무 소재의 내층과, 상기 내층을 감싸며 상기 내층보다 경도가 높은 고무로 이루어진 외층을 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. A plating bath containing a plating solution containing a plating material;
A dipping roller in which a lower outer peripheral part is immersed in the plating liquid;
A squeezing roller pressed against the dipping roller side such that a squeezing nip is formed at a position higher than the level of the plating liquid between the dipping roller; And
A drying unit provided on the squeegee nip;
A metal web continuously supplied along the outer circumferential surface of the dipping roller to be immersed in the plating liquid in the plating bath, then leave the plating liquid, pass through the squeegee nip, and dry through the drying unit;
The squeegee roller has an inner pipe, an inner layer of a rubber material surrounding the inner pipe, and an outer layer made of rubber that surrounds the inner layer and is higher in hardness than the inner layer.
상기 건조 유닛은 상기 금속 웹의 양 측면으로 공기를 불어내는, 상기 금속 웹의 폭 방향으로 연장된 에어 나이프(air knife)를 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. The method according to claim 1,
And the drying unit has an air knife extending in the width direction of the metal web to blow air to both sides of the metal web.
상기 금속 웹이 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠기기에 앞서, 상기 딥핑 롤러의 외주면에 접촉 대면하는 상기 금속 웹의 일 측면에 동종(同種)의 도금액을 분사하는 도금액 분사 유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. The method according to claim 1,
And a plating liquid spraying unit for spraying a plating liquid of the same type on one side of the metallic web which is in contact with the outer circumferential surface of the dipping roller before the metallic web is immersed in the plating liquid in the plating bath. Electroless plating device.
상기 내층은 쇼어경도(Shore hardness)가 30 내지 40의 고무로 이루어지고,
상기 외층은 쇼어경도가 50 내지 60의 고무로 이루어지는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.The method according to claim 1,
The inner layer is made of rubber of Shore hardness (Shore hardness) of 30 to 40,
The outer layer is electroless plating apparatus, characterized in that the Shore hardness made of rubber of 50 to 60.
상기 내층과 외층의 두께는 각각 4.5 내지 5.5mm 인 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. 5. The method of claim 4,
Electroless plating device, characterized in that the thickness of the inner layer and the outer layer is 4.5 to 5.5mm respectively.
상기 딥핑 롤러의 외주면은 쇼어경도가 80 내지 100의 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. The method according to claim 1,
The outer circumferential surface of the dipping roller is an electroless plating apparatus, characterized in that the Shore hardness made of a material of 80 to 100.
상기 금속 웹은 구리(Cu) 소재로 이루어지고, 상기 도금액은 크롬(Cr) 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. The method according to claim 1,
The metal web is made of a copper (Cu) material, and the plating solution comprises a chromium (Cr) component.
상기 딥핑 롤러에 대한 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 조절하기 위한 스퀴징 닙 조절 유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. The method according to claim 1,
And a squeegee nip adjusting unit for adjusting the pressing force of the squeegeeing roller with respect to the dipping roller.
시계 방향 및 반시계 방향으로 회전 가능한 스크류(screw);
상기 스퀴징 롤러의 샤프트(shaft)를 지지하는 것으로, 상기 스크류의 회전 방향에 따라 상기 딥핑 롤러의 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동 가능한 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재; 및,
조이면 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 이동하지 못하도록 고정하는 클램프(clamp);를 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. The method of claim 8, wherein the squeegee nip adjustment unit,
Screws rotatable clockwise and counterclockwise;
A squeegee roller shaft support member which supports a shaft of the squeegee roller and is movable in a direction toward or opposite to the dipping roller according to a rotational direction of the screw; And
And a clamp to secure the squeegeeing roller shaft support member from being moved when tightened.
상기 스퀴징 롤러의 샤프트를 지지하는 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재;
상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 상기 딥핑 롤러를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동시키는 액츄에이터(actuator);
상기 딥핑 롤러의 샤프트를 지지하는 딥핑 롤러 샤프트 지지부재;
상기 딥핑 롤러 샤프트 지지부재에 고정 탑재되고, 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재에 접촉 가압되면 그 가압력에 대응하는 전기 신호를 송신하는 로드 셀(load cell); 및,
상기 로드 셀의 전기 신호를 수신하여 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 추산(推算)하고, 상기 추산한 값과 미리 정해진 기준 값이 같아지는 방향으로 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재가 이동하도록 상기 액츄에이터를 구동 제어하는 액츄에이터 콘트롤러;를 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치. The method of claim 8, wherein the squeegee nip adjustment unit,
A squeegee roller shaft support member for supporting the shaft of the squeegee roller;
An actuator for moving the squeegeeing roller shaft supporting member in a direction toward or opposite of the dipping roller;
A dipping roller shaft support member for supporting a shaft of the dipping roller;
A load cell fixedly mounted to the dipping roller shaft support member and transmitting an electrical signal corresponding to the pressing force when contacted and pressed by the squeezing roller shaft support member; And
Receiving an electrical signal of the load cell to estimate the pressing force of the squeegee roller, and drives the actuator to move the squeegee roller shaft support member in a direction in which the estimated value is equal to a predetermined reference value. And an actuator controller for controlling the electroless plating apparatus.
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CN104561946A (en) * | 2013-10-16 | 2015-04-29 | 人科机械有限公司 | Squeezing roller gap pressure adjusting module for plating device and plating device |
KR20160048591A (en) * | 2014-10-24 | 2016-05-04 | (주)피엔티 | Apparatus for surface treatment of metal foil and apparatus for fabricating metal foil with the same |
CN106400040A (en) * | 2016-12-05 | 2017-02-15 | 江苏吉星光通讯科技有限公司 | Neon lamp filament silver plating, tin plating and drying automatic production line |
CN110592633A (en) * | 2019-10-18 | 2019-12-20 | 广东坤川实业有限公司 | Hydraulic roll device is cut to intelligence |
KR102333692B1 (en) * | 2020-06-08 | 2021-12-02 | (주)피엔티 | Apparatus for plating on surface of metal foil |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104561946A (en) * | 2013-10-16 | 2015-04-29 | 人科机械有限公司 | Squeezing roller gap pressure adjusting module for plating device and plating device |
CN104561946B (en) * | 2013-10-16 | 2017-09-22 | 人科机械有限公司 | The pressure adjusting module and plater of plater press nip |
KR20160048591A (en) * | 2014-10-24 | 2016-05-04 | (주)피엔티 | Apparatus for surface treatment of metal foil and apparatus for fabricating metal foil with the same |
CN106400040A (en) * | 2016-12-05 | 2017-02-15 | 江苏吉星光通讯科技有限公司 | Neon lamp filament silver plating, tin plating and drying automatic production line |
CN110592633A (en) * | 2019-10-18 | 2019-12-20 | 广东坤川实业有限公司 | Hydraulic roll device is cut to intelligence |
CN110592633B (en) * | 2019-10-18 | 2024-06-11 | 广东坤川实业有限公司 | Intelligent hydraulic roller cutting device |
KR102333692B1 (en) * | 2020-06-08 | 2021-12-02 | (주)피엔티 | Apparatus for plating on surface of metal foil |
KR102333691B1 (en) * | 2020-06-08 | 2021-12-02 | (주)피엔티 | Apparatus for plating on surface of metal foil |
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