KR20130046728A - 투명 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투명 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 투명 패널은, 투명 기판, 상기 투명 기판 상의 전면에 형성되는 전도성 고분자 층, 및 상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역에 마련되는 굴절률 보상 층을 포함하고, 상기 굴절률 보상 층이 형성되는 상기 일부 영역은, 상기 전도성 고분자 층에서 전기 전도성이 비활성화된 영역에 대응한다. 본 발명에 따르면, 투명 기판의 적어도 일면에 전도성 고분자 층을 형성하고 그 일부 영역의 전기 전도성을 비활성화시킴으로써 소정 패턴으로 감지 전극을 형성하며, 전기 전도성이 비활성화된 일부 영역 위에 굴절률 보상 층을 추가한다. 따라서, 단차없이 동일한 높이로 전극을 형성함과 동시에 패턴 보임 현상을 최소화할 수 있다.

Description

투명 패널 및 그 제조 방법{TRANSPARENT PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 투명 기판의 일면에 형성되는 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화시켜서 소정의 패턴으로 전극을 형성하고, 전기 전도성이 비활성화된 영역에 굴절률 보상 층을 마련하여 패턴 보임 현상을 방지하고, 단차없이 전극을 형성할 수 있는 투명 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
투명 패널은 빛 투과율이 우수한 투명 기판 상에 역시 빛 투과율이 우수한 투명 전도성 물질로 소정 패턴의 전극을 형성함으로써 제조되는 장치로서, 액정 표시 장치(LCD), 유기전계발광표시장치(OLED) 등과 같은 평판 디스플레이 장치(FPD)나, 터치스크린과 같은 입력 장치 등에 널리 이용된다. 특히 최근 가정용 텔레비전의 대부분이 평판 디스플레이 장치로 보급되고, 터치스크린을 입력 장치로 구비한 스마트폰, 네비게이션 등의 사용자가 증가하면서 투명 패널에 대한 수요 역시 증가하고 있다.
전자 기기에 적용되는 터치스크린은 접촉 입력을 감지하는 방법에 따라 크게 저항막 방식과 정전용량 방식으로 구분할 수 있으며, 이 중 정전용량 방식은 상대적으로 수명이 길고 다양한 입력 방법과 제스처를 손쉽게 구현할 수 있는 장점으로 인해 그 적용 비율이 갈수록 높아지고 있다. 특히 정전용량 방식은 저항막 방식에 비해 멀티 터치 인터페이스를 구현하기가 용이하여 스마트폰 등의 기기에 폭넓게 적용된다.
저항막 방식과 정전용량 방식의 터치스크린은 모두 투명 기판과 그 일면에 마련되는 투명 전극을 포함한다. 투명 전극은 통상적으로 ITO(Induim-Tin Oxide), ZnO(Zinc Oxide), IZO(Indium-Zinc Oxide) 등과 같은 투명 전도성 물질을 투명 기판의 일면에 스퍼터링 등의 방식으로 증착시킨 후, 증착된 투명 전도성 물질을 원하는 패턴으로 에칭함으로써 형성될 수 있다. 그러나 이 경우 투명 기판의 일면에 투명 전도성 물질이 형성된 영역과 투명 전도성 물질이 제거된 영역이 존재함으로써, 투명 전극과 투명 기판의 빛 투과율 및 굴절률 차이로 인한 패턴 보임 현상이 발생할 수 있다.
본 발명의 과제는 상기한 종래 기술의 문제점을 보완하기 위한 것으로서, 투명 기판의 일면에 전도성 고분자 층을 형성하고, 투명 전극을 패터닝하기 위해 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화시킨 후, 전기 전도성이 비활성화된 전도성 고분자 층의 일부 영역 상에 굴절률 보상 층을 마련함으로써 단차없이 투명 전극을 형성함과 동시에 패턴 보임 현상을 최소화할 수 있는 투명 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 제1 기술적인 측면에 따르면, 투명 기판, 상기 투명 기판 상의 전면에 형성되는 전도성 고분자 층, 및 상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역에 마련되는 굴절률 보상 층을 포함하고, 상기 굴절률 보상 층이 형성되는 상기 일부 영역은, 상기 전도성 고분자 층에서 전기 전도성이 비활성화된 영역에 대응하는 투명 패널을 제안한다.
또한, 상기 전도성 고분자 층은 전기 전도성을 갖는 제1 영역과, 전기 전도성이 비활성화된 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 동일한 두께로 마련되는 투명 패널을 제안한다.
또한, 상기 전도성 고분자 층의 상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 서로 다른 면저항 값을 갖는 투명 패널을 제안한다.
또한, 상기 전도성 고분자 층의 상기 제1 영역의 빛 흡수율과 상기 제2 영역의 빛 흡수율 사이의 비율은 80% 내지 120%인 투명 패널을 제안한다.
또한, 상기 굴절률 보상 층은, UV(Ultra Violet) 잉크를 포함하는 투명 패널을 제안한다.
또한, 상기 전도성 고분자 층은, 폴리티오펜, PEDOT(폴리(3,4-에틸렌 디옥시티오펜)), 폴리아닐린, 폴리피롤, 및 폴리아세틸렌 중 적어도 하나를 포함하는 투명 패널을 제안한다.
한편, 본 발명의 제2 기술적인 측면에 따르면, 투명 기판을 마련하는 단계, 상기 투명 기판의 적어도 일면에 전도성 고분자 층을 형성하는 단계, 상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화시키는 단계, 및 상기 전기 전도성이 비활성화된 일부 영역에 굴절률 보상 층을 형성하는 단계를 포함하는 투명 패널의 제조 방법을 제안한다.
또한, 상기 전도성 고분자 층 형성 단계는, 상기 투명 기판의 적어도 일면 전체에 상기 전도성 고분자 층을 형성하는 투명 패널의 제조 방법을 제안한다.
또한, 상기 비활성화 단계는, 상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역을 산화제로 처리하여 전기 전도성을 비활성화시키는 투명 패널의 제조 방법을 제안한다.
또한, 상기 산화제는, 차아염소산나트륨(NaOCl), 과망간산칼륨(KMnO4), 중크롬산칼륨(K2Cr2O7), 및 아미노산 중 적어도 하나를 포함하는 투명 패널의 제조 방법을 제안한다.
또한, 상기 비활성화 단계는, 상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역을 열처리하여 전기 전도성을 비활성화시키는 투명 패널의 제조 방법을 제안한다.
또한, 상기 비활성화 단계는, 상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역을 50 내지 150℃의 온도에서 5 초 내지 60 분 동안 열처리하는 투명 패널의 제조 방법을 제안한다.
본 발명에 따르면, 투명 기판의 일면에 전도성 고분자 층을 형성하고, 그 적어도 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화시킨 후, 전기 전도성이 비활성화된 영역 상에 굴절률 보상 층을 마련한다. 따라서 단차없이 투명 전극을 형성함과 동시에 투명 전극의 패턴 보임 현상을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널을 구비한 전자 기기의 외관을 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널을 포함하는 터치스크린을 도시한 도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 단면을 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 제조 방법을 설명하기 위해 제공되는 도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 제조 방법을 설명하기 위해 제공되는 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 특성을 설명하기 위해 제공되는 그래프이다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.
이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널이 적용될 수 있는 전자 기기를 나타낸 도이다. 도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 전자 기기(100)는 화면을 출력하기 위한 디스플레이 장치(110), 입력부(120), 음성 출력을 위한 오디오부(130) 등을 포함하며, 디스플레이 장치(110)와 일체화되어 접촉 감지 장치를 구비할 수 있다. 이 경우, 본 발명에서 제안하는 투명 패널은 디스플레이 장치(110)는 물론 터치스크린으로 제공되는 접촉 감지 장치에도 적용가능하다.
도 1에 도시된 바와 같이, 모바일 기기 같은 경우 접촉 감지 장치가 디스플레이 장치에 일체화되어 구비되는 것이 일반적이며, 접촉 감지 장치는 디스플레이 장치가 표시하는 화면이 투과할 수 있을 정도로 높은 빛 투과율을 가져야 한다. 따라서 접촉 감지 장치에 포함되는 투명 패널은 PET(Polyethylene terephthalate), PC(polycarbonate), PES(polyethersulfone), PI(polyimide), 강화 유리(tempered glass)등과 같이 빛 투과율이 우수한 투명 기판에 전기 전도성을 갖는 전도성 고분자(Conductive Polymer)로 투명 전극을 형성함으로써 구현될 수 있다. 디스플레이 장치의 베젤 영역(115)에는 투명 전도성 물질로 형성된 감지 전극과 연결되는 배선 패턴이 배치되며, 배선 패턴은 베젤 영역(115)에 의해 시각적으로 차폐되므로 은(Ag), 구리(Cu) 등과 같은 금속 물질로도 형성이 가능하다.
본 실시예에서 투명 전극을 형성하는 데에 이용되는 전도성 고분자는 폴리티오펜, PEDOT(폴리(3,4-에틸렌 디옥시티오펜)), 폴리아닐린, 폴리피롤, 및 폴리아세틸렌 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 전도성 고분자는 수백 Ω/sq의 면 저항을 가지며, 투명 기판의 일면에 형성될 수 있다. 일례로, 투명 기판의 일면 전체에 전도성 고분자 층을 형성하고, 원하는 패턴으로 전극을 형성하기 위해 전도성 고분자 층의 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화시킬 수 있다.
이하, 설명의 편의를 위해 본 실시예에 따른 투명 패널이 터치스크린에 적용되는 것을 가정하여 설명하나, 터치스크린 이외의 다양한 장치에 본 발명에 따른 투명 패널이 적용될 수 있음에 유념해야 할 것이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널을 포함하는 터치스크린을 도시한 도이다. 도 2에 도시된 터치스크린(200)은, 투명 기판(210), 투명 기판(210) 상에 마련되는 복수의 감지 전극(220, 230)을 포함한다. 복수의 감지 전극(220, 230)은 접촉 입력의 Y축 방향 위치를 감지하기 위한 제1 전극(220)과, 접촉 입력의 X축 방향 위치를 감지하기 위한 제2 전극(230)을 포함할 수 있으며, 도 2에서는 제1 전극(220)과 제2 전극(230)이 각각 8개씩 구비되고, 제1 전극(220)과 제2 전극(230) 각각이 접촉 입력을 판단하는 컨트롤러 칩의 센싱 채널 X1~X8 과 Y1~Y8에 연결되는 것을 가정한다.
도 2에서 편의상 제1 전극(220)과 제2 전극(230)은 투명 기판(210)의 동일한 면에 형성되는 것으로 도시되었으나, 투명 기판(210)의 상하면에 각각 분리되어 형성되거나, 또는 복수의 투명 기판(210)에 각각 형성될 수도 있다. 즉, 도 2에 도시된 터치스크린의 평면도는 단순히 본 발명에 따른 투명 패널을 설명하기 위한 하나의 실시예에 해당할 뿐이며, 도 2에 도시된 것과 다른 구조의 터치스크린에 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널이 포함될 수 있음은 물론이다.
도 2를 참조하면, 투명 기판(210) 위에 복수의 감지 전극(220, 230)이 형성되며, 감지 전극(220, 230)은 특정 형상이 반복적으로 나타나도록 패터닝된다. 도 2에서는 다이아몬드 또는 마름모 꼴 형태의 단위 전극이 X축 또는 Y축 방향으로 서로 연결되어 연속적으로 배치되도록 감지 전극(220, 230)이 패터닝된다. 본 실시예에서는 투명 기판(210)의 일면에 전도성 고분자(Conductive Polymer) 층을 형성하고, 전도성 고분자 층의 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화시켜서 도 2에 도시된 바와 같은 패턴을 갖는 감지 전극(220, 230)을 형성할 수 있다.
Y축 위치를 감지하기 위한 제1 전극(220)과 X축 위치를 감지하기 위한 제2 전극(230)은, 도 2에 도시된 바와 같이 복수의 제1 전극(220) 사이의 빈 영역을 복수의 제2 전극(230)이 채우고, 복수의 제2 전극(230) 사이의 빈 영역을 복수의 제1 전극(220)이 채우도록 형성될 수 있다. 따라서, 복수의 제1 전극(220)을 형성하는 데에 이용되는 제1 전도성 고분자 층은 복수의 제2 전극(230)이 마련되는 영역에서 그 전기 전도성이 비활성화되며, 복수의 제2 전극(230)을 형성하는 데에 이용되는 제2 전도성 고분자 층은 복수의 제1 전극(220)이 마련되는 영역에서 그 전기 전도성이 비활성화될 수 있다.
한편 제1, 제2 전도성 고분자 층의 전기 전도성이 비활성화된 영역에는 소정의 굴절률 보상 층이 마련될 수 있다. 굴절률 보상 층(index matching layer)은 전기 전도성이 비활성화된 영역과 활성화된 영역 사이의 굴절률 차이로 인한 감지 전극(220, 230)의 패턴 보임 현상을 방지하기 위해 마련될 수 있으며, 자외선(Ultra Violet, UV) 잉크에 염료 또는 안료 등을 혼합한 물질을 포함할 수 있다. 이와 같이 전도성 고분자 층에서 전기 전도성이 비활성화된 영역에 굴절률 보상 층을 마련함으로써, 전기 전도성이 활성화된 영역과 비활성화된 영역 사이의 빛 흡수율 비율을 80% 내지 120%로 한정하여 감지 전극(220, 230)의 패턴 보임 현상을 최소화할 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 단면을 도시한 단면도이다. 도 3을 참조하면 본 실시예에 따른 투명 패널(300)은 제1 기판(310-1), 제2 기판(310-2), 제1 기판(310-1) 상에 마련되는 제1 전도성 고분자층(320), 제2 기판(310-2) 상에 마련되는 제2 전도성 고분자층(330) 등을 포함할 수 있다. 이하, 도 2와 마찬가지로 설명의 편의를 위해 본 실시예에 따른 투명 패널(300)이 터치스크린 장치에 적용되는 것을 가정한다.
투명 패널(300)의 하부에는 가스켓(370)에 의해 에어 갭(airgap, 360)을 두고 디스플레이 장치(350)가 부착될 수 있으며, 투명 패널(300)의 상부에는 강화 글라스 또는 PMMA와 같은 아크릴 재질의 커버 렌즈(Cover Lens, 340)가 마련될 수 있다. 투명 패널(300)과 디스플레이 장치(350) 사이에 마련되는 에어 갭은 디스플레이 장치(350)에서 발생하여 투명 패널(300)로 전달되는 전기적 잡음(noise)을 줄일 수 있다.
제1 기판(310-1) 상에는 접촉 입력의 Y축 방향 위치를 감지하기 위한 제1 전극을 형성하기 위한 제1 전도성 고분자 층(320)이 마련되며, 제2 기판(310-2) 상에는 접촉 입력의 X축 방향 위치를 감지하기 위한 제2 전극을 형성하기 위한 제2 전도성 고분자 층(330)이 마련될 수 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 제1, 제2 전도성 고분자 층(320, 330) 각각은 전기 전도성이 그대로 유지되어 감지 전극으로 이용되는 제1 영역(322, 332)과, 전기 전도성이 비활성화된 제2 영역(324, 334)을 포함할 수 있다. 제1 전도성 고분자 층(320)의 제1 영역(322)과, 제2 전도성 고분자 층(330)의 제1 영역(332)은 서로 엇갈리도록 배치되어 도 2에 도시된 바와 같이 제1 전극(220) 사이의 빈 영역을 제2 전극(230)이 채우는 형태로 형성될 수 있다.
제1 기판(310-1)과 제2 기판(310-2)은 앞서 설명한 바와 같이 PET(Polyethylene terephthalate), PC(polycarbonate), PES(polyethersulfone), PI(polyimide), 강화 유리(tempered glass)등과 같이 빛 투과율이 우수한 재질로 마련될 수 있다. 제1 전도성 고분자 층(320)과 제2 전도성 고분자 층(330)이 각각 형성되고 일부 영역(324, 334)의 전기 전도성이 비활성화되어 각각 제1 전극과 제2 전극이 형성되면, OCA(Optical Clear Adhesive)와 같은 투명 접착층으로 제1 기판(310-1)과 제2 기판(310-2)을 부착한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 제1, 제2 전도성 고분자 층(320, 330)은 제1, 제2 기판(310-1, 310-2) 각각의 일면 전체에 형성되고 그 일부 영역의 전기 전도성이 비활성화됨으로써 제1, 제2 전극을 형성하는 데에 이용될 수 있다. 또한, 전기 전도성이 비활성화된 제2 영역(324, 334)이 물리적으로 전도성 고분자 물질을 제거하는 식각 공정 없이 화학적 처리만으로 형성될 수 있으므로, 제1, 제2 기판(310-1, 310-2)에 손상을 가하는 일 없이 제2 영역(324, 334)의 전기 전도성을 비활성화할 수 있다. 또한 물리적 식각 공정이 포함되지 않으므로, 제1 영역(322, 332)과 제2 영역(324, 334)이 동일한 두께를 갖도록 형성할 수 있다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 제조 방법을 설명하기 위해 제공되는 도이며, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 제조 방법을 설명하기 위해 제공되는 흐름도이다. 이하, 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널 및 그 제조 방법을 도 4와 도 5를 동시에 참조하여 설명한다.
도 5의 흐름도를 참조하면, 본 실시예에 따른 투명 패널의 제조 방법은 투명 기판(410)을 마련하는 것으로 시작된다(S500). 투명 기판(410)은 PET(Polyethylene terephthalate), PC(polycarbonate), PES(polyethersulfone), PI(polyimide), 강화 유리(tempered glass)등과 같이 빛 투과율이 우수한 재질의 기판으로 마련될 수 있다.
투명 기판(410)이 마련되면, 투명 기판(410)의 적어도 일면에 전도성 고분자 층을 마련한다(S510). 도 4를 참조하면, 전도성 고분자 층(420)이 투명 기판(410)의 일면에 마련되며, 특히 전도성 고분자 층(420)이 투명 기판(410)의 일면 전체를 덮도록 마련될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이, 전도성 고분자 층(420)은 폴리티오펜, PEDOT(폴리(3,4-에틸렌 디옥시티오펜)), 폴리아닐린, 폴리피롤, 및 폴리아세틸렌 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
전도성 고분자 층(420)을 마련하고 나면, 전도성 고분자 층(420)의 적어도 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화한다(S520). 도 4에 도시한 바와 같이, 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화하기 위해, 전도성 고분자 층(420)의 일부 영역에 에칭 처리를 한다. 즉, 전도성 고분자 층(420)의 일부 영역에 에천트(etchant, 430)로 산화처리를 하고, 그로부터 전도성 고분자 층(420)의 일부 영역의 전기 전도성을 비활성화할 수 있다.
전도성 고분자 층(420)의 전기 전도성을 비활성화시키기 위한 S520 단계는 전도성 고분자 층(420)의 일부 영역을 산화제(430)로 처리하는 공정을 포함할 수 있으며, 상기 산화제는 차아염소산나트륨(NaOCl), 과망간산칼륨(KMnO4), 중크롬산칼륨(K2Cr2O7), 및 아미노산 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 전도성 고분자 층(420)이 PEDOT(폴리(3,4-에틸렌 디옥시티오펜))를 포함하고, 차아염소산나트륨(NaOCl)을 산화제(430)로 이용하는 경우를 가정하면, 아래 화학식 1과 같은 과정을 통해 전기 전도성이 비활성화된다.
Figure pat00001
화학식 1을 참고하면, PEDOT의 화학 구조에는 사이오핀 링(thiophene ring)이 포함되며, 차아염소산나트륨과 물을 이용한 산화 처리로부터 사이오핀 링의 결합이 일부 깨지게 되고 그로부터 전기 전도성이 비활성화된다. 따라서, 도 4에 도시된 전도성 고분자 층(420)은 전기 전도성을 갖는 제1 영역(440)과, 산화 처리에 의해 전기 전도성이 비활성화된 제2 영역(445)을 포함하게 된다. 일례로 S520 단계의 비활성화 공정은 상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역을 50 내지 150℃의 온도에서 5 초 내지 60 분 동안 열처리하는 공정을 추가로 포함할 수 있다.
전기 전도성을 갖는 제1 영역(440)과, 전기 전도성이 비활성화된 제2 영역(445)은 서로 다른 빛 투과율 및 굴절률을 가지며, 따라서 제1 영역(440)과 제2 영역(445) 사이의 경계가 사용자의 눈에 인식됨으로써 패턴 보임 현상이 발생할 수 있으며, 이를 최소화 또는 방지하기 위해 제2 영역(445) 위에 굴절률 보상 층(450)을 마련할 수 있다(S530). 굴절률 보상 층(450)은 UV 잉크와 염료의 혼합물 등을 포함할 수 있다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 투명 패널의 특성을 설명하기 위해 제공되는 그래프이다. 도 6을 참조하면 굴절률 보상 층(450)이 마련된 전기 전도성이 비활성화된 제2 영역(445, 점선)과, 전기 전도성을 갖는 제1 영역(440, 실선)의 빛 흡수율이 빛의 파장에 따라 도시되어 있다.
사람이 눈으로 볼 수 있는 가시광선의 파장은 약 380~780㎚이다. 따라서, 도 6에 도시한 바와 같이 가시광선에 포함되는 파장 내에서는 빛 흡수율이 거의 동일하게 나타나며, 빛 흡수율이 가장 큰 차이를 보이는 적외선에 가까운 파장 - 약 700~800㎚ - 에서의 빛 흡수율 차이 역시 최대값이 바람직한 경우 10% 이내로 제한된다. 따라서, 제1 영역(440)과 제2 영역(445) 사이의 빛 흡수율 차이로 인한 패턴 보임 현상을 최소화할 수 있다.
이상에서 본 발명이 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형을 꾀할 수 있다.
따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등하게 또는 등가적으로 변형된 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
200, 310-1, 310-2, 410 : 투명 기판
320, 330, 420 : 전도성 고분자 층
450 : 굴절률 보상 층

Claims (12)

  1. 투명 기판;
    상기 투명 기판 상에 형성되는 전도성 고분자 층; 및
    상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역에 마련되는 굴절률 보상 층; 을 포함하고,
    상기 굴절률 보상 층이 형성되는 상기 일부 영역은, 상기 전도성 고분자 층에서 전기 전도성이 비활성화된 영역에 대응하는 투명 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 전도성 고분자 층은 전기 전도성을 갖는 제1 영역과, 전기 전도성이 비활성화된 제2 영역을 포함하고,
    상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 동일한 두께로 마련되는 투명 패널.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 전도성 고분자 층의 상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 서로 다른 면저항 값을 갖는 투명 패널.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 전도성 고분자 층의 상기 제1 영역의 빛 흡수율과 상기 제2 영역의 빛 흡수율 사이의 비율은 80% 내지 120%인 투명 패널.
  5. 제1항에 있어서, 상기 굴절률 보상 층은,
    UV(Ultra Violet) 잉크를 포함하는 투명 패널.
  6. 제1항에 있어서, 상기 전도성 고분자 층은,
    폴리티오펜, PEDOT(폴리(3,4-에틸렌 디옥시티오펜)), 폴리아닐린, 폴리피롤, 및 폴리아세틸렌 중 적어도 하나를 포함하는 투명 패널.
  7. 투명 기판을 마련하는 단계;
    상기 투명 기판의 적어도 일면에 전도성 고분자 층을 형성하는 단계;
    상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역에서 전기 전도성을 비활성화시키는 단계; 및
    상기 전기 전도성이 비활성화된 일부 영역에 굴절률 보상 층을 형성하는 단계; 를 포함하는 투명 패널의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 전도성 고분자 층 형성 단계는,
    상기 투명 기판의 적어도 일면 전체에 상기 전도성 고분자 층을 형성하는 투명 패널의 제조 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 비활성화 단계는,
    상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역을 산화제로 처리하여 전기 전도성을 비활성화시키는 투명 패널의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 산화제는,
    차아염소산나트륨(NaOCl), 과망간산칼륨(KMnO4), 중크롬산칼륨(K2Cr2O7), 및 아미노산 중 적어도 하나를 포함하는 투명 패널의 제조 방법.
  11. 제7항에 있어서, 상기 비활성화 단계는,
    상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역을 열처리하여 전기 전도성을 비활성화시키는 투명 패널의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 비활성화 단계는,
    상기 전도성 고분자 층의 적어도 일부 영역을 50 내지 150℃의 온도에서 5 초 내지 60 분 동안 열처리하는 투명 패널의 제조 방법.
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