KR20130007915A - 터치패널 - Google Patents

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KR20130007915A
KR20130007915A KR1020110068577A KR20110068577A KR20130007915A KR 20130007915 A KR20130007915 A KR 20130007915A KR 1020110068577 A KR1020110068577 A KR 1020110068577A KR 20110068577 A KR20110068577 A KR 20110068577A KR 20130007915 A KR20130007915 A KR 20130007915A
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touch panel
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KR1020110068577A
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김재일
김상화
이종영
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명에 따른 터치패널은 베이스 부재, 베이스 부재에 형성되는 내열보강층 및 내열보강층에 전도성 고분자로 형성되는 투명전극을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 베이스 부재와 투명전극 사이에 내열보강층을 형성함으로써, 고온에서 터치패널의 구조적 안정성을 향상시킬 수 있으며, 투명전극의 전기전도도 저하를 방지할 수 있다.

Description

터치패널{Touch panel}
본 발명은 터치패널에 관한 것이다.
디지털 기술을 이용하는 컴퓨터가 발달함에 따라 컴퓨터의 보조 장치들도 함께 개발되고 있으며, 개인용 컴퓨터, 휴대용 전송장치, 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스와 같은 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.
하지만, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점점 확대되는 추세에 있는 바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐 아니라, 누구라도 쉽게 정보입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.
또한, 입력장치에 관한 기술은 일반적 기능을 충족시키는 수준을 넘어서 고신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해서 텍스트, 그래픽 등의 정보 입력이 가능한 입력장치로서 터치패널(Touch screen)이 개발되었다.
이러한 터치패널은 전자수첩, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), El(Electroluminescence) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathode Ray Tube)와 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되어, 사용자가 영상표시장치를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 도구이다.
터치패널의 종류는 저항막방식(Resistive Type), 정전용량방식(Capacitive Type), 전기자기장방식(Electro-Magnetic Type), 소오방식(SAW type; Surface Acoustic Wave Type) 및 인프라레드방식(Infrared Type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치패널은 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막방식 터치패널과 정전용량방식 터치패널이다.
저항막방식 터치패널의 경우 상/하부 투명전극막이 스페이서에 의해 이격되고 눌림에 의해 서로 접촉될 수 있도록 배치된 형태이다. 상부 투명전극막이 형성되어 있는 상부 터치패널이 손가락, 펜 등의 입력수단에 의해 눌릴 때 상/하부 투명전극막이 통전되고, 그 위치의 저항값 변화에 따른 전압변화를 제어부에서 인지하여 접촉좌표를 인식하는 방식으로 디지털 저항막방식과 아날로그 저항막방식이 있다.
정전용량방식 터치패널의 경우 제1 투명전극이 형성된 상부 기판과 제2 투명전극이 형성된 하부기판이 서로 이격되며, 제1 투명전극과 제2 투명전극이 접촉하지 못하게 절연재가 삽입된다. 또한, 상부기판과 하부기판에는 투명전극과 연결된 전극배선이 형성된다. 전극배선은 입력수단이 터치스크린에 접촉함에 따라 제1 투명전극과 제2 투명전극에서 발생하는 정전용량의 변화를 제어부에 전달한다.
한편, 투명전극은 ITO(Indium Tin Oxide; 인듐-주석 산화물)를 이용하여 형성하였으나, 그 원료인 인듐(Indium)이 희토류 금속으로 매우 고가이며, 향후 10년 내에 고갈이 예상되어 수급이 원활하지 못하다는 문제점이 발생하였다. 이에 따라 ITO를 대체하기 위한 물질로서 전도성 고분자에 대한 연구가 진행 중인 바, 전도성 고분자는 ITO에 비해 유연성이 뛰어나고 코팅 공정이 단순한 장점이 있다. 이러한 전도성 고분자는 터치패널 뿐만 아니라 차세대 기술인 플렉시블 디스플레이(Flexible display)의 핵심적인 요소라고 할 수 있다.
종래의 경우, 투명전극이 형성되는 베이스 부재는 PET와 같은 유기 고분자 물질을 이용하였다. 상기와 같은 유기 고분자 물질로 구성된 베이스 부재는 대량생산이 용이하며, 가볍고 투명도가 높다는 장점이 있다. 다만, 85℃ 이상의 고온, 고습환경에 터치패널이 놓여지는 경우, 베이스 부재에서 올리고머(Oligomer)가 방출됨으로써 전도성 고분자로 형성된 투명전극과 화학반응을 일으켜 전기전도도가 저하되는 문제점이 있었다. 또한, 고온에서 베이스 부재 표면의 강성이 낮아져 반고체 상태가 됨으로써 터치패널의 구조적 안정성이 저하되는 문제점이 발생하였다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로, 본 발명의 목적은 고온, 고습 하에서도 터치패널의 전기전도도가 우수하며, 구조적 안정성이 높은 터치패널을 제공하는데 있다.
본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 터치패널은 베이스 부재, 상기 베이스 부재에 형성되는 내열보강층 및 상기 내열보강층에 전도성 고분자로 형성되는 투명전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 본 발명은 상기 내열보강층은 상기 베이스 부재보다 유리전이온도가 높은 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 내열보강층은 유리, 알루미나, PEN, PC 또는 하드코팅층인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 내열보강층의 두께는 0.1㎛ 내지 50㎛ 인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 전도성 고분자는 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리페닐렌계, 폴리아닐린계 또는 폴리아세틸렌계 전도성 고분자 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 전도성 고분자는 폴리에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌술포네이트(PEDOT/PSS)인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 투명전극은 온도 85℃ 및 습도 85% 조건을 거친 후, 면저항 변화율이 -10% 내지 10%인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 터치패널은 베이스 부재, 상기 베이스 부재의 일면에 형성되는 제1 내열보강층, 상기 베이스 부재의 타면에 형성되는 제2 내열보강층, 상기 제1 내열보강층에 전도성 고분자로 형성되는 제1 투명전극 및 상기 제2 내열보강층에 전도성 고분자로 형성되는 제2 투명전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서 본 발명은 상기 제1 내열보강층 및 상기 제2 내열보강층은 상기 베이스 부재보다 유리전이온도가 높은 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 제1 내열보강층 및 상기 제2 내열보강층은 유리, 알루미나, PEN, PC 또는 하드코팅층인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 제1 내열보강층 및 상기 제2 내열보강층의 두께는 0.1㎛ 내지 50㎛ 인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 전도성 고분자는 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리페닐렌계, 폴리아닐린계 또는 폴리아세틸렌계 전도성 고분자 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 전도성 고분자는 폴리에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌술포네이트(PEDOT/PSS)인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 제1 투명전극 및 상기 제2 투명전극은 온도 85℃ 및 습도 85% 조건을 거친 후, 면저항 변화율이 -10% 내지 10%인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명에 따르면, 베이스 부재에 내열보강층을 형성함으로써 베이스 부재에서 방출하는 올리고머를 차단시켜 고온에서 투명전극의 전기전도도 저하를 방지할 수 있다. 또한, 베이스 부재의 열변형을 방지하여 터치패널의 구조적 안정성을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 터치패널의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 터치패널의 단면도이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 터치패널은 도 1에 도시된 바와 같이 베이스 부재(10), 베이스 부재(10)에 형성되는 내열보강층(20) 및 내열보강층(20)에 전도성 고분자로 형성되는 투명전극(30)을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 베이스 부재(10)와 투명전극(30) 사이에 내열보강층(20)을 형성함으로써, 고온에서의 터치패널의 구조적 안정성을 향상시킬 수 있으며, 투명전극(30)의 전기전도도 저하를 방지할 수 있다. 이하 본 발명의 구성요소별로 나누어 상세히 설명하기로 한다.
먼저, 본 발명의 베이스 부재(10)는 내열보강층(20) 및 투명전극(30)을 지지할 수 있는 지지력 및 디스플레이에서 제공하는 영상을 사용자가 인식할 수 있도록 투명성을 갖는 물질로 구성된다. 베이스 부재(10)는 유기 고분자인 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS) 등을 사용하거나, 유리 또는 강화유리를 사용할 수 있다. 바람직하게는 가볍고 내구성이 높은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)과 같은 유기 고분자 물질로 형성된 베이스 부재(10)를 사용할 수 있다.
다음으로, 본 발명의 내열보강층(20)은 베이스 부재(10)에 형성된다. 일반적으로 터치패널의 베이스 부재(10)는 투명성을 가지며, 내구성이 우수한 재질을 갖는 물질이어야 하는바, PET 등의 유기 고분자 물질을 주로 사용하였다. 그러나 유기 고분자 물질로 형성된 베이스 부재(10)는 고온환경에서 분자간의 결합이 깨져 분자량 1000 이하의 저분자 생성물인 올리고머를 방출하였다. 이로 인해 방출된 올리고머가 베이스 부재(10)에 형성된 투명전극(30)과 화학반응함으로써, 투명전극(30)의 전기전도도가 저하되는 문제점이 발생하였다. 또한, 유기 고분자 물질은 유리전이온도가 낮은 특성을 가져, 고온에서 쉽게 열변형됨으로써 터치패널의 구조적 안정성이 저하되었다.
본 발명은 내열보강층(20)을 베이스 부재(10)와 투명전극(30)사이에 형성함으로써, 고온에서 베이스 부재(10)가 방출하는 올리고머를 차단시킬 수 있다. 이에 따라, 투명전극(30)과 올리고머가 화학반응하여 투명전극(30)의 전기전도도가 저하되는 것을 방지할 수 있다. 더불어, 내열보강층(20)은 습기가 통과하지 못하도록 함으로써, 고습 조건하에서 전도성 고분자로 형성된 투명전극(30)이 수분과 반응하여 가수분해되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 여기서 내열보강층(20)은 베이스 부재(10)보다 유리전이온도가 높은 물질이다. 유기 고분자로 형성된 베이스 부재(10)의 유리전이온도는 일반적으로 60℃ ~ 80℃ 범위로써, 고온에서 쉽게 베이스 부재(10) 표면이 반고체화됨으로써 형태가 변형되어 터치패널의 내구성이 저하된다. 따라서, 내열보강층(20)은 베이스 부재(10)보다 유리전이온도가 높은 물질로 고온에서도 고체상태를 유지할 수 있다. 이러한 내열보강층(20)은 베이스 부재(10)의 일면에 접하도록 형성됨으로써 베이스 부재(10)를 고정시켜 베이스 부재(10)가 변형되는 것을 방지할 수 있다. 이때, 바람직하게는 사용자가 터치패널을 사용함에 있어 터치패널이 놓여질 수 있는 고온인 100℃ 이상에서도 터치패널의 구조적 안정성을 유지할 수 있도록, 내열보강층(20)은 유리전이온도가 100℃ 이상인 물질일 수 있다.
이러한 내열보강층(20)으로는 유리, 알루미나, PEN, PC 또는 하드코팅층을 사용할 수 있다. 상기 물질은 고온에서 화학적 안정성이 우수하며, 유리전이온도가 높다는 장점이 있다. 따라서, 고온에서 효과적으로 터치패널의 구조적 안정성을 유지시키며, 투명전극(30)과 화학반응하지 않고 베이스 부재(10)에서 방출하는 올리고머를 차단시켜 투명전극(30)의 전기전도도 저하를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 내열보강층(20)은 베이스 부재(10)에 복수개가 형성될 수도 있으며, 내열보강층(20)의 형성에 따른 굴절율 차이를 조절하기 위해 내열보강층(20)에 굴절율 조절층을 추가로 형성할 수도 있다.
여기서, 내열보강층(20)의 두께(Ta)는 0.1㎛ 내지 50㎛ 일 수 있다. 내열보강층(20)의 두께(Ta)가 0.1㎛ 미만인 경우, 고온에서 베이스 부재(10)가 변형되는 것을 효과적으로 방지할 수 없으며 50㎛를 초과하는 경우, 내열보강층(20)의 두께증가에 따라 터치패널의 시인성이 저하될 우려가 있다.
다음으로, 투명전극(30)은 내열보강층(20)에 형성되며, 사용자의 손이 터치스크린에 접촉하였을 때 캐패시턴스의 변화(정전용량방식) 또는 저항값 변화(저항막방식)가 감지되는 부분이다. 이때, 투명전극(30)은 전도성 고분자로 형성된다. 전도성 고분자는 유연성이 뛰어나고 코팅 공정이 단순한 장점이 있다. 전도성 고분자는 유기계 화합물로 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리페닐렌계, 폴리아닐린계 또는 폴리아세틸렌계 전도성 고분자 중 어느 하나일 수 있다.
이때, 전도성 고분자는 바람직하게는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS)일 수 있다. PEDOT/PSS는 투명도가 높으며, 전기전도도가 우수하다는 장점이 있다. 본 발명에 따른 투명전극(30)은 상기에 한정되는 것은 아니며, 인듐-주석 산화물(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 안티몬-주석 산화물(Antimony Tin Oxide; ATO) 등의 투명성을 갖는 모든 전도성 물질을 투명전극(30)으로 이용할 수 있다.
본 발명의 투명전극(30)은 내열보강층(20)이 베이스 부재(10)로부터의 올리고머 방출과 수분 유입을 차단시키며, 구조적 안정성을 유지시키므로, 투명전극(30)은 온도 85℃ 및 습도 85% 조건을 거친 후에도 면저항 변화율이 -10% 내지 10%로, 낮은 면저항 변화율을 구현할 수 있다.
한편, 투명전극(30)은 스퍼터링(Sputtering), 증착(Evaporation) 등의 건식 공정, 딥 코팅(Dip coating), 스핀 코팅(Spin coating), 롤 코팅(Roll coating), 스프레이 코팅(Spray coating) 등의 습식 공정 또는 스크린 인쇄법(Screen Printing), 그라비아 인쇄법(Gravure Printing), 잉크젯 인쇄법(Inkjet Printing) 등의 다이렉트(direct) 패터닝 공정을 이용하여 내열보강층(20) 상에 형성할 수 있다.
본 발명에 바람직한 제2 실시예에 따른 터치패널은 도 2에 도시된 바와 같이 베이스 부재(10), 베이스 부재(10)의 일면에 형성되는 제1 내열보강층(22), 베이스 부재(10)의 타면에 형성되는 제2 내열보강층(24), 제1 내열보강층(22)에 전도성 고분자로 형성되는 제1 투명전극(32) 및 제2 내열보강층(24)에 전도성 고분자로 형성되는 제2 투명전극(34)을 포함한다. 본 발명은 고온에서 터치패널의 구조적 안정성을 유지함과 동시에, 단일 베이스 부재(10)의 양면에 내열보강층(22, 24) 및 투명전극(32, 34)을 형성함으로써 터치패널의 박형화를 이룰 수 있다. 종래는 두개의 베이스 부재에 각각 투명전극(32, 34)을 형성하여 접합하는 구조였는 바, 본 발명은 베이스 부재(10)의 양면에 투명전극(32, 34)을 형성하여 베이스 부재(10)를 한개로 줄임으로써 터치패널을 소형화할 수 있다.
앞에서 설명한 부분과 중복되는 부분은 생략하거나 간략히 언급하도록 하겠다.
본 발명의 제1 내열보강층(22) 및 제2 내열보강층(24)은 베이스 부재(10)의 양면에 각각 형성된다. 본 발명은 내열보강층(22, 24)을 베이스 부재(10)와 투명전극(32, 34) 사이에 형성함으로써, 고온에서 베이스 부재(10)가 방출하는 올리고머를 내열보강층(22, 24)이 차단시켜 투명전극(32, 34)의 전기전도도가 저하되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 제1 내열보강층(22) 및 제2 내열보강층(24)은 베이스 부재(10)보다 유리전이온도가 높은 물질이다. 내열보강층(22, 24)은 베이스 부재(10)보다 유리전이온도가 높은 물질인 것으로 고온에서도 고체상태를 유지하므로, 베이스 부재(10)의 양면에 접하도록 형성됨으로써 베이스 부재(10)가 변형되는 것을 방지할 수 있다.
이러한 제1 내열보강층(22) 및 제2 내열보강층(24)으로는 유리, 알루미나, PEN, PC 또는 하드코팅층을 사용할 수 있다. 상기 물질은 고온에서 화학적 안정성이 우수하며, 유리전이온도가 높다는 장점이 있다.
또한, 제1 내열보강층(22) 및 제2 내열보강층(24)의 두께(Ta, Tb)는 0.1㎛ 내지 50㎛ 일 수 있다. 상기 내열보강층(22, 24)의 두께 범위내에서 터치패널의 시인성이 저하되지 않고, 터치패널의 구조적 안정성을 효과적으로 유지할 수 있다.
다음으로, 제1 투명전극(32) 및 제2 투명전극(34)은 제1 내열보강층(22)과 제2 내열보강층(24)에 각각 형성되며, 사용자의 손이 터치스크린에 접촉하였을 때 캐패시턴스의 변화(정전용량방식) 또는 저항값 변화(저항막방식)가 감지되는 부분이다. 이때, 투명전극(32, 34)은 유연성이 뛰어나며 가공이 용이한 전도성 고분자로 형성한다. 바람직하게는 전기전도도가 높은 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS)일 수 있다.
본 발명의 투명전극(32, 34)은 내열보강층(22, 24)이 베이스 부재(10)로부터의 올리고머 방출과 수분 유입을 차단시키며, 구조적 안정성을 유지시키므로, 온도 85℃ 및 습도 85% 조건을 거친 후에도 면저항 변화율이 -10% 내지 10%로, 낮은 면저항 변화율을 구현할 수 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 터치패널은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다. 본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서 명확해질 것이다.
10 : 베이스 부재 20 : 내열보강층
22 : 제1 내열보강층 24 : 제2 내열보강층
30 : 투명전극 32 : 제1 투명전극
34 : 제2 투명전극

Claims (14)

  1. 베이스 부재;
    상기 베이스 부재에 형성되는 내열보강층; 및
    상기 내열보강층에 전도성 고분자로 형성되는 투명전극;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 내열보강층은 상기 베이스 부재보다 유리전이온도가 높은 것을 특징으로 하는 터치패널.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 내열보강층은 유리, 알루미나, PEN, PC 또는 하드코팅층인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 내열보강층의 두께는 0.1㎛ 내지 50㎛ 인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 전도성 고분자는 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리페닐렌계, 폴리아닐린계 또는 폴리아세틸렌계 전도성 고분자 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 전도성 고분자는 폴리에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌술포네이트(PEDOT/PSS)인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 투명전극은 온도 85℃ 및 습도 85% 조건을 거친 후, 면저항 변화율이 -10% 내지 10%인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  8. 베이스 부재;
    상기 베이스 부재의 일면에 형성되는 제1 내열보강층;
    상기 베이스 부재의 타면에 형성되는 제2 내열보강층;
    상기 제1 내열보강층에 전도성 고분자로 형성되는 제1 투명전극; 및
    상기 제2 내열보강층에 전도성 고분자로 형성되는 제2 투명전극;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 내열보강층 및 상기 제2 내열보강층은 상기 베이스 부재보다 유리전이온도가 높은 것을 특징으로 하는 터치패널.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 내열보강층 및 상기 제2 내열보강층은 유리, 알루미나, PEN, PC 또는 하드코팅층인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  11. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 내열보강층 및 상기 제2 내열보강층의 두께는 0.1㎛ 내지 50㎛ 인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  12. 청구항 8에 있어서,
    상기 전도성 고분자는 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리페닐렌계, 폴리아닐린계 또는 폴리아세틸렌계 전도성 고분자 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  13. 청구항 8에 있어서,
    상기 전도성 고분자는 폴리에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌술포네이트(PEDOT/PSS)인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  14. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 투명전극 및 상기 제2 투명전극은 온도 85℃ 및 습도 85% 조건을 거친 후, 면저항 변화율이 -10% 내지 10%인 것을 특징으로 하는 터치패널.
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