KR20130002839A - Etching device of coating layer - Google Patents

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KR20130002839A
KR20130002839A KR1020110064040A KR20110064040A KR20130002839A KR 20130002839 A KR20130002839 A KR 20130002839A KR 1020110064040 A KR1020110064040 A KR 1020110064040A KR 20110064040 A KR20110064040 A KR 20110064040A KR 20130002839 A KR20130002839 A KR 20130002839A
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laser
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김경수
김선응
임득빈
김태용
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(주) 에스엔에프
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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a liquid crystal display is provided to remove a BM and a Cr film coated on the align part of a bare glass without damage and to improve the efficiency of an exposure process. CONSTITUTION: A stage(10) transfers a glass substrate(100) in a glass substrate mounting state. A laser beam generation module(20) is prepared on the stage. The laser beam generation module generates laser beam. A scanner(30) scans the align mark part of the glass substrate on the stage by using the laser beam of the laser beam generation module.

Description

코팅막 식각 장치 {Etching device of Coating layer} Etching device of Coating layer

본 발명은 베어 글라스의 얼라인 마크 부분에 코팅된 막을 레이저 스캔으로 식각하는 장치에 관한 것으로, 특히 베어 글라스에 BM(black matrix) 또는 Cr막이 코팅된 상태에서 얼라인 마크인 얼라인 키(Align Key) 부분을 레이저 스캔으로 식각하는 코팅막 식각 장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for etching a film coated on an alignment mark portion of a bare glass by laser scanning, and in particular, an alignment key that is an alignment mark in a state in which a black matrix or a Cr film is coated on the bare glass. The present invention relates to a coating film etching apparatus for etching a portion by laser scanning.

최근 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 여러 가지 다양한 평판표시장치가 개발되어 각광받고 있다. 이 같은 평판표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device : LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device : PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device : FED), 전기발광표시장치(Electroluminescence Display device : ELD) 등을 들 수 있는데, 이들 평판표시장치는 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 보여 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다. Recently, the display field for processing and displaying a large amount of information has been rapidly developed, and various various flat panel display devices have been developed and are in the spotlight. Specific examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) And electroluminescence display device (ELD). These flat panel display devices are excellent in performance of thinning, light weight, and low power consumption, and are rapidly replacing existing cathode ray tubes (CRTs).

특히 액정표시장치는 콘트라스트 비(contrast ratio)가 크고 동화상 표시에 적합하며 소비전력이 적다는 특징을 보여 노트북, 모니터, TV 등의 다양한 분야에서 활용되고 있다.In particular, liquid crystal displays have high contrast ratios, are suitable for moving image display, and have low power consumption, and thus are used in various fields such as notebooks, monitors, and TVs.

이러한 액정표시장치는 액정구동을 위한 어레이 층(array layer)과 컬러구현을 위한 컬러필터 층(color-filter layer)이 각각 갖추어진 어레이 기판 및 컬러필터기판 사이로 액정층을 개재해서 합착시킨 액정패널을 필수구성요소로 한다.Such a liquid crystal display device includes a liquid crystal panel in which an array layer and a color filter substrate, each of which has an array layer for driving a liquid crystal and a color filter layer for color realization, are bonded to each other through a liquid crystal layer. It is an essential component.

한편, 액정표시장치 제조공정은 어레이 기판 및 컬러필터 기판을 얻기 위한 기판제조공정, 액정패널을 완성하는 셀(cell)공정 및 액정패널과 백라이트를 일체화시키는 모듈(module)공정으로 구분될 수 있다. Meanwhile, the LCD manufacturing process may be divided into a substrate manufacturing process for obtaining an array substrate and a color filter substrate, a cell process for completing the liquid crystal panel, and a module process for integrating the liquid crystal panel and the backlight.

이중 기판제조공정에서는 박막증착(thin film deposition), 포토리소그라피(photo-lithography), 식각(etching) 등의 과정을 수차례 반복해서 각 기판에 어레이 층과 컬러필터 층을 구현하고, 셀 공정에서는 어레이 기판 또는 컬러필터 기판 중 어느 하나에 합착을 위한 씰패턴(seal pattern)을 형성한 후 액정 층을 사이에 두고 양 기판을 대면 합착시켜 액정패널을 완성하며, 이렇게 완성된 액정패널은 모듈공정에서 편광판과 구동회로 등이 부착된 후 백라이트와 일체화되어 액정표시장치를 이룬다. In the dual substrate manufacturing process, an array layer and a color filter layer are implemented on each substrate by repeating a process of thin film deposition, photo-lithography, and etching. After forming a seal pattern for bonding to either the substrate or the color filter substrate, the two substrates are bonded to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween to complete the liquid crystal panel. The completed liquid crystal panel is a polarizing plate in the module process. After the driver circuit and the like are attached, the LCD is integrated with the backlight to form a liquid crystal display device.

이때 양 기판 합착 공정은 어레이 기판 및 컬러필터 기판의 얼라인 키를 기준으로 정렬한 후 합착시키는데, 이때, 어레이기판 및 컬러필터기판을 정확하게 정렬하는 것은 완제품의 신뢰성을 좌우하는 중요한 요인이 된다.At this time, the two substrate bonding processes are aligned based on the alignment keys of the array substrate and the color filter substrate, and then bonded together. In this case, precisely aligning the array substrate and the color filter substrate is an important factor that determines the reliability of the finished product.

최근에는 한 장의 글라스에 TFT(thin film transistor) 공정을 거친 후, CF(color-filter) 공정으로 진행하는 도중 BM 및 Cr 막을 형성한다. Recently, after a thin film transistor (TFT) process on a single glass, BM and Cr films are formed during the process of a color-filter (CF) process.

이러한 형성 과정에서 글라스 전체에 막을 입히면, TFT 공정에서 노광기 얼라인을 하기 위해 형성한 얼라인 키가 BM 및 Cr 막에 가려져 얼라인 키를 인식할 수 없다. When the film is coated on the entire glass in this forming process, the alignment key formed to align the exposure machine in the TFT process is covered by the BM and Cr films, so that the alignment key cannot be recognized.

즉 TFT 패턴에 있는 얼라인 키를 BM 및 Cr 막이 코팅되어 있어 노광기가 노광을 할 때 얼라인을 맞출 수 없기 때문에 노광하는데 어려움이 있었다.
In other words, since the alignment key in the TFT pattern is coated with the BM and Cr films, it is difficult to expose the alignment key when the exposure machine does not expose the alignment.

본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 자외선, 그린, 적외선 영역 대 파장의 레이저와 광학기구를 사용하여 TFT 패턴 노광용 얼라인 키 부분을 데미지 없이 레이저 빔으로 조사(스캔)하여 BM 및 Cr 막을 제거하는 코팅막 식각 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems described above, and irradiates an alignment key portion for TFT pattern exposure with a laser beam without damage using a laser and an optical device in the ultraviolet, green, and infrared wavelength bands (scan). It is to provide a coating film etching apparatus to remove the BM and Cr film.

본 발명의 다른 목적은 얼라인 키 부분에 레이저를 조사하여 글라스 상에 있는 BM 및 Cr 막을 깨끗하게 식각하여 다음 공정인 노광부에서 노광기가 얼라인을 정밀하게 맞출 수 있는 코팅막 식각 장치를 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide a coating film etching apparatus capable of precisely aligning the aligner in the exposure unit which is the next step by cleanly etching the BM and Cr films on the glass by irradiating a laser to the alignment key portion.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 얼라인 키 식각 장치는 글라스 기판의 얼라인 마크에 코팅된 BM 및 Cr 막을 식각하는 장치로서, 상기 글라스 기판을 탑재한 채로 이송하는 스테이지, 상기 스테이지 상에 마련되고, 소정 파장의 레이저빔을 발생시키는 레이저 빔 발생 모듈, 상기 레이저 빔 발생 모듈에서 생성된 레이저 빔을 스테이지 상에 마련된 글라스 기판의 얼라인 마크 부분으로 스캔하는 스캐너를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an alignment key etching apparatus according to the present invention is an apparatus for etching a BM and Cr film coated on an alignment mark of a glass substrate, the stage for transferring the glass substrate mounted thereon, provided on the stage. And a laser beam generating module for generating a laser beam having a predetermined wavelength, and a scanner scanning the laser beam generated by the laser beam generating module with an alignment mark portion of a glass substrate provided on a stage.

또 본 발명에 따른 코팅막 식각장치에 있어서, 상기 BM 및 Cr 막의 식각은 레이저빔의 스캔에 의해 실행되며, 상기 스캔은 가로 스캔 및 세로 스캔으로 실행되는 특징으로 한다.In addition, in the coating film etching apparatus according to the present invention, the etching of the BM and Cr film is performed by scanning a laser beam, the scan is characterized in that the scanning is performed by the horizontal scan and vertical scan.

또 본 발명에 따른 코팅막 식각장치에 있어서, 상기 레이저빔 발생 모듈은 In the coating film etching apparatus according to the present invention, the laser beam generating module

레이저빔 발생기, 상기 레이저 발생기에서 발사된 레이저빔을 P파로 변경시켜 주는 편광판, 편광판에서 편광된 P파의 레이저빔을 반사하여 정렬하는 적어도 하나 이상의 미러, 각각의 미러를 2축 제어하는 적어도 하나 이상의 제어모터, UV 미러를 통해 정렬된 레이저빔을 각각 프론트 식각부, S패턴 형성부로 분기시키는 빔 스플리터를 포함하고, 상기 스캐너는 UV 미러와 2축 갈바노 모터로 구성된 스캐닝 헤드 및 스캐닝 헤드를 거쳐 출력되는 레이저 빔에 대해 원하는 최종 빔폭을 만들어 주는 폭 블레이드 및 각각의 프론트 식각부를 이동할 수 있는 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 한다.A laser beam generator, a polarizing plate for converting the laser beam emitted from the laser generator into a P wave, at least one mirror reflecting and aligning the laser beam of the P wave polarized by the polarizing plate, at least one or more biaxial control of each mirror And a beam splitter for splitting the laser beam aligned through the control motor and the UV mirror into the front etching part and the S pattern forming part, respectively. The scanner outputs through a scanning head and a scanning head composed of a UV mirror and a biaxial galvano motor. It characterized in that it comprises a stage that can move the width blade and each front etching portion to make the desired final beam width for the laser beam to be.

또 본 발명에 따른 코팅막 식각장치에 있어서, 상기 레이저빔 발생기는 266㎚~355㎚의 파장을 갖는 자외선 레이저, 633㎚~422㎚의 파장을 갖는 가시광 레이저, 1064㎚~1053㎚의 파장을 갖는 적외선 레이저 중의 어느 하나인 것을 특징으로 한다.In the coating film etching apparatus according to the present invention, the laser beam generator is an ultraviolet laser having a wavelength of 266nm ~ 355nm, a visible light laser having a wavelength of 633nm ~ 422nm, an infrared ray having a wavelength of 1064nm ~ 1053nm It is characterized by any one of a laser.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 코팅막 식각 장치에 의하면, 베어 글라스의 얼라인 부분에 코팅된 BM 및 Cr 막을 데미지 없이 제거하므로, 연속하는 노광 공정의 효율성을 증대시킬 수 있는 효과가 얻어진다.
As described above, according to the coating film etching apparatus according to the present invention, since the BM and Cr film coated on the alignment portion of the bare glass is removed without damage, the effect of increasing the efficiency of the continuous exposure process is obtained.

도 1은 어레이 마크가 마련된 어레이 기판의 모기판의 일 예로 나타낸 도면,
도 2는 본 발명에 따른 코팅막 식각장치의 구성을 나타내는 도면.1 is a diagram illustrating an example of a mother substrate of an array substrate on which an array mark is provided;
2 is a view showing the configuration of a coating film etching apparatus according to the present invention.

본 발명의 상기 및 그 밖의 목적과 새로운 특징은 본 명세서의 기술 및 첨부 도면에 의해 더욱 명확하게 될 것이다.These and other objects and novel features of the present invention will become more apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

먼저 본 발명이 적용되는 액정패널의 제조공정에 대해 설명한다.First, the manufacturing process of the liquid crystal panel to which the present invention is applied will be described.

먼저 단위 어레이 기판이 정의된 어레이 모기판과 단위 컬러필터기판이 정의된 컬러필터 모기판을 각각 마련한다. 어레이 모기판에는 게이트 전극, 반도체층, 소스 및 드레인 전극으로 이루어진 박막트랜지스터가 각각 정의된 단위 어레이기판 별로 구성되며, 전극역할을 하는 화소 전극이 형성되어 있다. 그리고 컬러필터 모기판에는 단위 어레이 기판의 화소 전극과 대응되는 위치에 특정 파장대의 빛만을 투과시키는 컬러필터층이 형성되어 있고, 컬러필터층의 컬러별 경계부에는 빛샘을 방지하기 위한 블랙매트릭스(BM)가 형성되어 있다. 또한, 컬러필터층 및 블랙매트릭스의 상부에는 액정에 전압을 인가하기 위한 공통전극이 형성되어 있다. First, an array mother substrate in which a unit array substrate is defined and a color filter mother substrate in which a unit color filter substrate is defined are prepared. In the array mother substrate, a thin film transistor including a gate electrode, a semiconductor layer, a source, and a drain electrode is configured for each unit array substrate, and pixel electrodes serving as electrodes are formed. A color filter layer is formed on the color filter mother substrate to transmit only light of a specific wavelength band at a position corresponding to the pixel electrode of the unit array substrate, and a black matrix (BM) is formed at each color boundary of the color filter layer to prevent light leakage. It is. In addition, a common electrode for applying a voltage to the liquid crystal is formed on the color filter layer and the black matrix.

다음에 단위 어레이 기판 및 단위 컬러필터 기판상에 배향막을 형성한다. 이 단계는 단위 어레이 기판 및 단위 컬러필터 기판의 전극부 상에 각각 배향막을 형성하는 단계로서, 배향막의 도포 및 경화 그리고, 러빙(rubbing) 공정이 포함된다. Next, an alignment film is formed on the unit array substrate and the unit color filter substrate. This step is to form an alignment film on the electrode portions of the unit array substrate and the unit color filter substrate, respectively, and includes coating, curing, and rubbing of the alignment film.

다음 단계에서는 단위 어레이 기판 및 단위 컬러필터 기판 중 하나에 씰 패턴을 형성한다. 이때, 씰패턴은 정의되어 있는 다수의 단위 어레이 기판 및 단위 컬러필터기판 각각의 가장자리를 두르도록 형성한다. 씰패턴은 디스펜서(dispenser)나 스크린(screen) 인쇄방법으로 열경화성 또는 자외선경화성 수지의 씰런트(sealant)를 사용하여 형성한다. In the next step, a seal pattern is formed on one of the unit array substrate and the unit color filter substrate. At this time, the seal pattern is formed to surround the edge of each of the plurality of unit array substrate and the unit color filter substrate defined. The seal pattern is formed using a sealant of a thermosetting or ultraviolet curing resin by a dispenser or screen printing method.

그 다음 단계는 스페이서(spacer)를 형성한다. 스페이서는 차후 진행되는 어레이 모기판과 컬러필터 모기판 합착 후 이들 사이의 셀갭(cell gap)을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서가 사용된다. The next step is to form a spacer. Spacers of a constant size are used to maintain precise and uniform cell gaps between the array mother substrate and the color filter mother substrate after the bonding.

씰패턴이 형성된 단위 어레이기판 또는 단위 컬러필터기판 상에 액정을 적하하고, 어레이 모기판과 컬러필터 모기판의 합착 공정을 통해 액정 모패널을 형성한다. 이때 어레이 모기판과 컬러필터 모기판이 정확하게 얼라인되어 있는지를 확인하는 얼라인 검사 단계를 거친다. 얼라인 검사 공정을 거친 후 제작된 액정 모패널을 단위 액정패널로 절단하고, 단위 액정패널에 구동회로를 연결한 다음, 편광판 및 다수의 모듈을 구성하면 액정표시장치가 완성된다. The liquid crystal is dropped on the unit array substrate or the unit color filter substrate on which the seal pattern is formed, and the liquid crystal mother panel is formed through the bonding process of the array mother substrate and the color filter mother substrate. At this time, an alignment inspection step is performed to check whether the array mother substrate and the color filter mother substrate are correctly aligned. After the alignment inspection process, the manufactured liquid crystal mother panel is cut into a unit liquid crystal panel, a driving circuit is connected to the unit liquid crystal panel, and a polarizing plate and a plurality of modules are configured to complete the liquid crystal display device.

도 1은 어레이 기판의 모기판(100)의 일 예를 나타낸 것으로서, 어레이 모기판(100)은 단위 액정패널을 형성하는 복수의 단위 어레이 기판(110)을 포함한다. 각각의 단위 어레이 기판(110) 상에는 다수의 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하여 화소(pixel)가 정의되고, 각각의 교차점마다 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)가 구비되어 각 화소에 형성된 투명 화소전극과 일대일 대응 연결되어 있다. 이 어레이 모기판(100)의 사각의 모서리 중 대각 위치로 양 모서리영역에는 얼라인 키(120)가 형성되어 있으며, 얼라인 키(120)는 예를 들어 컬러필터 모기판과 얼라인을 확인하기 위한 마크이다. 또한, 단위 어레이 기판(110)의 주변부에는 버니어 키(vernier key : 130)가 형성되어 있으며, 버니어 키(130)는 단위 액정패널을 형성하는 단위 어레이 기판(110)과 단위 컬러필터기판의 얼라인을 확인하기 위한 마크이다.1 illustrates an example of a mother substrate 100 of an array substrate, and the array mother substrate 100 includes a plurality of unit array substrates 110 forming a unit liquid crystal panel. A pixel is defined by crossing a plurality of gate lines and data lines on each unit array substrate 110, and a thin film transistor (TFT) is provided at each intersection to form a transparent pixel electrode formed in each pixel. And one-to-one correspondence is connected. Alignment keys 120 are formed at two corner regions at diagonal positions among the square corners of the array mother substrate 100, and the alignment keys 120 are for example to check the alignment with the color filter mother substrate. Is for mark. In addition, a vernier key 130 is formed at a periphery of the unit array substrate 110, and the vernier key 130 is aligned between the unit array substrate 110 and the unit color filter substrate forming the unit liquid crystal panel. Mark to check.

본 발명에서는 상술한 바와 같이, TFT 공정을 거친 후 CF 공정으로 진행하는 도중 BM 및 Cr 막이 형성되며, 이 BM 및 Cr 막이 얼라인 마크인 얼라인 키(120) 및 버니어 키(130)에 코팅되어 얼라인 마크를 식별할 수 없게 되는 문제점을 해결하기 위한 것이다. 즉 얼라인 키(120) 및 버니어 키(130)에 코팅된 BM 및 Cr 막을 레이저 스캔으로 제거하여 노광기에서 글라스 얼라인을 할 수 있게 한다. 이러한 레이조 스캔으로 식각 후에 얼라인 키 부분에 데미지가 없어 노광기에 마련된 카메라가 인식을 정확하게 하게 된다.
In the present invention, as described above, the BM and Cr films are formed during the CF process after the TFT process, and the BM and Cr films are coated on the alignment key 120 and the vernier key 130, which are alignment marks, and freeze. This is to solve the problem that the mark cannot be identified. That is, the BM and Cr films coated on the alignment key 120 and the vernier key 130 may be removed by laser scanning, thereby enabling glass alignment in the exposure machine. The laser scanning does not damage the alignment key portion after etching, so that the camera provided in the exposure machine correctly recognizes the image.

이하, 본 발명의 구성을 도면에 따라서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the structure of this invention is demonstrated according to drawing.

도 2는 본 발명에 따른 코팅막 식각장치의 구성을 나타내는 도면이다.2 is a view showing the configuration of a coating film etching apparatus according to the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 코팅막 식각장치는 글라스 기판(100)의 얼라인 마크에 코팅된 BM 및 Cr 막(101)을 식각하는 장치로서, 글라스 기판(100)을 탑재한 채로 이송하는 스테이지(10), 상기 스테이지(10) 상에 마련되고, 소정 파장의 레이저빔을 발생시키는 레이저 빔 발생 모듈(20), 상기 레이저 빔 발생 모듈(20)에서 생성된 레이저 빔을 스테이지(10) 상에 마련된 글라스 기판(100)의 얼라인 마크 부분으로 스캔하는 스캐너(30)를 포함한다.As shown in FIG. 2, the coating film etching apparatus according to the present invention is a device for etching the BM and Cr film 101 coated on the alignment mark of the glass substrate 100, with the glass substrate 100 mounted thereon. The stage 10 to be transferred, the laser beam generating module 20 provided on the stage 10 to generate a laser beam having a predetermined wavelength, and the laser beam generated by the laser beam generating module 20 to the stage 10. It includes a scanner 30 for scanning to the alignment mark portion of the glass substrate 100 provided on the ().

또한 상기 레이저 빔 발생 모듈(20)은 레이저빔 발생기, 상기 레이저 발생기에서 발사된 레이저빔을 P파로 변경시켜 주는 편광판, 편광판에서 편광된 P파의 레이저빔을 반사하여 정렬하는 적어도 하나 이상의 미러, 각각의 미러를 2축 제어하는 적어도 하나 이상의 제어모터, UV 미러를 통해 정렬된 레이저빔을 각각 프론트 식각부, S패턴 형성부로 분기시키는 빔 스플리터를 포함한다.In addition, the laser beam generating module 20 is a laser beam generator, a polarizing plate for converting the laser beam emitted from the laser generator into a P wave, at least one mirror reflecting and aligning the laser beam of the P wave polarized by the polarizing plate, respectively At least one control motor for biaxially controlling the mirror, and a beam splitter for branching the laser beam aligned through the UV mirror to each of the front etching portion, the S pattern forming portion.

한편 상기 스캐너(30)는 UV 미러와 2축 갈바노 모터로 구성된 스캐닝 헤드 및 스캐닝 헤드를 거쳐 출력되는 레이저 빔에 대해 원하는 최종 빔폭을 만들어 주는 폭 블레이드 및 각각의 프론트 식각부를 이동할 수 있는 스테이지를 포함한다.
Meanwhile, the scanner 30 includes a scanning head composed of a UV mirror and a biaxial galvano motor, and a width blade for creating a desired final beam width for the laser beam output through the scanning head, and a stage for moving each front etching part. do.

본 발명에 따른 코팅막의 식각방법은 다음과 같이 진행된다.The etching method of the coating film according to the present invention proceeds as follows.

먼저 스테이지 상에 얼라인 마크 부분에 BM 및 Cr 막이 코팅된 글라스 투입 가 투입되면, 글라스 블로워를 레이져 스캔될 부분을 세정한다. 이후 제어 수단(미도시)에 의해 레이저빔 발생 모듈이 장착된 부분까지 글라스 기판이 이송된 것으로 판단되면, 레이저빔 발생 모듈이 작동된다.First, when the glass input coated with the BM and Cr film is input to the alignment mark portion on the stage, the glass blower cleans the portion to be laser scanned. Then, if it is determined by the control means (not shown) that the glass substrate is transferred to the portion where the laser beam generating module is mounted, the laser beam generating module is operated.

즉, 레이저 발진부에서 레이저를 발진하면 미러를 통해 파장판(Waveplate) 및 편광기(Polarizer)를 거쳐 빔을 확대시키는 확장기(Expander)를 통과하여 레이저 빔의 최종 위치를 제어해 주는 갈바로미터(Galvanometer)를 거쳐 원하는 위치에서 식각을 한다. That is, when the laser oscillates in the laser oscillator, a galvanometer that controls the final position of the laser beam is passed through an expander that enlarges the beam through a waveplate and a polarizer through a mirror. Etch it at the desired location.

상술한 바와 같은 식각은 글라스 기판(100)의 얼라인 마크에 코팅된 BM 및 Cr 막(101)의 두께 또는 폭에 따라 다양한 치수로 하며, 빔 간격도 다양하게 바꿀 수 있다. 스캔 순서는 가로 스캔 후 세로 스캔을 하는 것이 바람직하며, 스캔 횟수도 얼라인 마크의 인식 여부에 따라 변경 가능하다.Etching as described above may have various dimensions according to the thickness or width of the BM and Cr film 101 coated on the alignment mark of the glass substrate 100, and the beam spacing may be variously changed. The scan order is preferably a horizontal scan and then a vertical scan, and the number of scans can also be changed depending on whether the alignment mark is recognized.

상술한 바와 같은 레이저 스캔에 의해 얼라인 마크 부분의 이미지가 확인되며, 글리스 기판은 반송되어 후속 공정으로 진입한다.An image of the alignment mark portion is confirmed by the laser scan as described above, and the glys substrate is conveyed to enter the subsequent process.

이상 본 발명자에 의해서 이루어진 발명을 상기 실시 예에 따라 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 예에 한정되는 것은 아니고 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러 가지로 변경 가능한 것은 물론이다.
Although the present invention has been described in detail with reference to the above embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명에 따른 액정표시장치의 제조 공정에 적용된다.
It is applied to the manufacturing process of the liquid crystal display device according to the present invention.

Claims (4)

글라스 기판의 얼라인 마크에 코팅된 BM 및 Cr 막을 식각하는 장치로서,
상기 글라스 기판을 탑재한 채로 이송하는 스테이지,
상기 스테이지 상에 마련되고, 소정 파장의 레이저빔을 발생시키는 레이저 빔 발생 모듈,
상기 레이저 빔 발생 모듈에서 생성된 레이저 빔을 스테이지 상에 마련된 글라스 기판의 얼라인 마크 부분으로 스캔하는 스캐너를 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅막 식각장치.An apparatus for etching a BM and Cr film coated on the alignment mark of the glass substrate,
A stage for transferring while mounting the glass substrate,
A laser beam generation module provided on the stage and configured to generate a laser beam having a predetermined wavelength;
And a scanner for scanning the laser beam generated by the laser beam generating module to an alignment mark portion of the glass substrate provided on the stage. 제1항에 있어서,
상기 BM 및 Cr 막의 식각은 레이저빔의 스캔에 의해 실행되며,
상기 스캔은 가로 스캔 및 세로 스캔으로 실행되는 특징으로 하는 코팅막 식각장치.The method of claim 1,
The etching of the BM and Cr films is performed by scanning a laser beam,
The scanning film etching apparatus characterized in that the scan is performed by the horizontal scan and vertical scan. 제1항에 있어서,
상기 레이저빔 발생 모듈은
레이저빔 발생기,
상기 레이저 발생기에서 발사된 레이저빔을 P파로 변경시켜 주는 편광판,
편광판에서 편광된 P파의 레이저빔을 반사하여 정렬하는 적어도 하나 이상의 미러,
각각의 미러를 2축 제어하는 적어도 하나 이상의 제어모터,
UV 미러를 통해 정렬된 레이저빔을 각각 프론트 식각부, S패턴 형성부로 분기시키는 빔 스플리터를 포함하고,
상기 스캐너는
UV 미러와 2축 갈바노 모터로 구성된 스캐닝 헤드 및
스캐닝 헤드를 거쳐 출력되는 레이저 빔에 대해 원하는 최종 빔폭을 만들어 주는 폭 블레이드 및 각각의 프론트 식각부를 이동할 수 있는 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅막 식각장치.The method of claim 1,
The laser beam generation module
Laser beam generator,
Polarizing plate for converting the laser beam emitted from the laser generator into a P wave,
At least one mirror that reflects and aligns a laser beam of polarized P waves in the polarizer,
At least one control motor which biaxially controls each mirror,
And a beam splitter for branching the laser beams aligned through the UV mirrors to the front etching part and the S pattern forming part, respectively.
The scanner
Scanning head consisting of UV mirror and 2-axis galvano motor
A coating film etching apparatus comprising: a width blade for creating a desired final beam width for the laser beam output through the scanning head, and a stage for moving each front etching portion. 제1항에 있어서,
상기 레이저빔 발생기는 266㎚~355㎚의 파장을 갖는 자외선 레이저, 633㎚~422㎚의 파장을 갖는 가시광 레이저, 1064㎚~1053㎚의 파장을 갖는 적외선 레이저 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 코팅막 식각장치.The method of claim 1,
The laser beam generator may be any one of an ultraviolet laser having a wavelength of 266 nm to 355 nm, a visible light laser having a wavelength of 633 nm to 422 nm, and an infrared laser having a wavelength of 1064 nm to 1053 nm. Device.
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