KR20120139283A - 백라이트 유닛 어셈블리 - Google Patents

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KR20120139283A
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prism film
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이현수
홍창표
류득수
신진호
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코오롱인더스트리 주식회사
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Abstract

본 발명은 백라이트 유닛 어셈블리에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 제1 프리즘 필름, 확산 필름 및 제2 프리즘 필름이 순차적으로 형성되어 있으며, 상기 제1 프리즘 필름에 형성되어 있는 프리즘 입체구조가 상하 웨이브 및 좌우 웨이브 형상을 포함함으로써, 웨트-아웃 방지, 내스크래치성 개선, 모아레 회피 및 은폐력 개선의 효과를 가지는 백라이트 유닛 어셈블리에 관한 것이다.

Description

백라이트 유닛 어셈블리 {Backlight unit assembly}
본 발명은 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display)에 사용되는 백라이트 유닛 어셈블리(Liquid Crystal Display)에 관한 것이다.
산업 사회가 고도의 정보화 시대로 발전함에 따라 다양한 정보를 표시 및 전달하기 위한 매체로서 전자 디스플레이 장치의 중요성은 나날이 증대되고 있다. 종래에 널리 사용되어 오던 CRT(Cathod Ray Tube)는 설치 공간상의 제약이 커서 대형화가 힘들다는 한계 때문에, 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전계방사 디스플레이(FED) 및 유기 EL과 같은 다양한 평판 디스플레이 장치로 대치되고 있다. 이러한 평판 디스플레이 장치 중에서, 특히, 액정 디스플레이 장치(LCD)의 경우, 액정과 반도체 기술이 복합된 기술 집약적 장치로서 얇고, 가벼우며 소비 전력이 낮은 장점으로 인해, 그 구조 및 제조 기술이 연구 개발되어 왔고, 현재 노트북 컴퓨터, 데스크탑 컴퓨터의 모니터, 휴대용 개인 통신 장치(PDA 및 휴대폰) 등 기존에 액정 디스플레이가 널리 사용되었던 영역 뿐만 아니라, 대형화 기술도 점점 그 한계를 뛰어넘고 있어, HD(High Definition) TV급의 대형 TV에까지 응용되고 있는 등 디스플레이의 대명사였던 CRT를 대체 가능한 새로운 디스플레이 장치로 각광받고 있다.
이러한 액정 디스플레이(LCD) 장치는 액정 자체가 발광을 할 수 없기 때문에 장치의 후면에 별도의 광원을 설치하여, 각 화소(pixel)에 설치된 액정을 통해 통과광의 세기를 조절하여 계조(contrast)를 구현한다. 이를 보다 구체적으로 살펴보면, 액정 디스플레이 장치는 액정 물질의 전기적 특성을 이용하여 빛의 투과율을 조절하는 장치로, 장치 뒷면의 광원 램프에서 발광하여 각종 기능성 프리즘 필름 또는 시트를 통과하여 균일도와 방향성이 제어된 빛을 컬러 필터로 통과시켜 적, 청, 녹(R, G, B)의 색상을 구현하도록 하고, 전기적인 방법으로 각 회소의 계조(contrast)를 제어하여 화상을 구현하는 간접 발광 방식의 디스플레이 장치로서, 광원을 제공하는 발고아 장치는 액정 디스프레이 장치의 휘도 및 균일도 등 화질을 결정하는 중요한 부품이다.
상기 발광 장치로는 백라이트 유닛(BLU)이 널리 사용되고 있으며, 일반적인 백라이트유닛은 냉음극형광램프(CCFL: Cold Cathod Fluorescent Lamp) 등의 광원을 사용하여 방출되는 빛을 순차적으로 도광판, 광확산 시트 또는 광확산판과 같은 광확산 부재 및 프리즘 시트를 통과시켜 액정 패널에 도달하게 한다. 여기서, 도광판은 광원으로부터 방출되는 광이 평면 형태인 액정 패널의 전면에 분포되도록 전달하며, 광확산 부재는 화면 전면에 걸쳐 균일한 광세기를 얻을 수 있도록 하며, 프리즘 시트는 광확산 부재를 거친 다양한 방향의 광선을 관측자가 화상을 인식하기에 적합한 시야각 범위 내로 변환되도록 하는 광 경로 제어 기능을 수행한다. 또한, 도광판의 하부에는 액정 패널로 전달되지 못하고 경로를 벗어난 광을 다시 반사하여 이용될 수 있도록 함으로써 광원의 이용 효율을 증가시키기 위한 반사시트가 구비된다.
이와 같이 방출되는 빛을 효과적으로 액정 패널에 전달하기 위해서는 다양한 기능의 시트를 여러 장 장착하게 되는데, 시트를 복수 장 장착함으로 인하여 광간섭 현상이 야기되며, 시트 간의 물리적 접촉으로 인하여 필름이 손상되는 등 생산성 저하 및 단가의 인상과 같은 문제점이 있었다.
이에 최근에는 생산 공정을 보다 간단하게 하기 위하여 사용되는 광학 시트류의 적용을 줄이기 위한 시도가 이루어지고 있는데, 광확산 부재 위에 프리즘 필름을 접착하여 사용하거나, 광확산 부재 위에 프리즘 필름을 접착하여 사용하거나, 광확산 부재 위에 프리즘 패턴을 만들어 사용하는 경우가 있었다. 그러나, 종래 프리즘 필름 및 이러한 프리즘 필름이 적용된 백라이트 유닛 어셈블리는 웨트-아웃 발생, 내스크래치성 저하, 모아레 발생 등의 문제가 있었다.
본 발명은 도광판, 제1 프리즘 필름, 확산 필름 및 제2 프리즘 필름이 순차적으로 적층되어 있는 백라이트 유닛 어셈블리로서, 백라이트 유닛 어셈블리 내에 적층된 필름의 적층 순서를 변화시키고, 2매의 프리즘 필름 적층시 프리즘 입체구조가 평행하도록 하며, 기재층 및 프리즘층을 포함하는 프리즘 필름에 있어서, 프리즘 입체구조의 높이 및 피치(pitch)를 각각 가변시켜 형성된 형상인 상하 웨이브(wave) 및 좌우 웨이브(wave)를 동시에 프리즘층에 적용하여, 웨트-아웃(wet) 방지, 내스크래치성 개선, 모아레(Moire) 회피 및 은폐력 개선을 구현할 수 있는 백라이트 유닛 어셈블리를 제공하고자 한다.
본 발명은 제1 프리즘 필름, 확산필름 및 제2 프리즘 필름이 순차적으로 적층된 백라이트 유닛 어셈블리로서, 상기 제1 프리즘 필름의 프리즘층에 형성된 프리즘 입체구조가 상하 방향으로 형성된 상하 웨이브 형성 및 좌우 방향으로 형성된 좌우 웨이브 형상을 동시에 포함함으로써, 웨트-아웃(wet-out) 방지, 내스크래치성 개선, 모아레(Moire) 회피 및 은폐력 개선 효과를 나타낼 수 있는 백라이트 유닛 어셈블리를 제공하고자 한다.
이에 본 발명은 바람직한 일 구현예로서 제1 프리즘 필름; 상기 제1 프리즘 필름 상에 형성된 확산 필름; 및 상기 확산 필름 상에 형성된 제2 프리즘 필름을 포함하는 백라이트 유닛 어셈블리로서, 상기 제1 프리즘 필름은 기재층; 및 상기 기재층의 일면에 복수 개의 프리즘 입체구조가 형성된 프리즘층을 포함하는 프리즘 필름으로서, 상기 프리즘 입체구조는 프리즘 입체구조의 상하 방향으로 형성된 상하 웨이브 형상 및 상기 프리즘 입체구조의 좌우 방향으로 형성된 좌우 웨이브 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리를 제공한다.
상기 구현예에 의한 제1 프리즘 필름 및 제2 프리즘 필름에 각각 형성된 프리즘 입체구조는 서로 직교하는 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 상하 웨이브의 진폭(△Wh)은 1~10㎛인 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 좌우 웨이브의 진폭(△Ww)은 1~10㎛인 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 프리즘 입체구조는 그 골(valley) 부분이 샌딩(sanding)된 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 프리즘 입체구조는 그 골 부분이 입경 1~20㎛인 입자에 의해 샌딩된 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 프리즘 필름은 기재층의 이면에 입자 코팅층이 형성된 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 입자 코팅층은 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트 및 2-에틸헥실아크릴레이트 중 선택되는 아크릴계 중합체 입자; 스티렌, 치환된 스티렌 중합체, 이들의 공중합체 및 삼원 공중합체 중 선택되는 스티렌계 중합체 입자; 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 중 선택되는 올레핀계 중합체 입자; 아크릴계와 스티렌계의 공중합체 입자; 아크릴계와 올레핀계의 공중합체 입자; 및 스티렌계와 올레핀계의 공중합체 입자 중 선택되는 유기계 입자; 상기 유기계 입자의 단일중합체, 공중합체 또는 삼원공중합체 입자를 포함하는 다층 다성분계 입자; 실록산계 중합체 입자; 및 불소계 수지 입자로 구성된 군에서 선택되는 광확산 입자를 포함하는 것일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 백라이트 유닛 어셈블리에서 확산 필름과 프리즘 필름의 적층 순서를 나타낸 분해도이다.
도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 프리즘 필름을 나타낸 것이다.
도 3는 본 발명에 따른 제1 프리즘 필름의 상하 웨이브 형상을 나타낸 모식도이다.
도 4는 본 발명에 따른 제1 프리즘 필름의 좌우 웨이브 형상을 나타낸 모식도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 프리즘 필름의 분해도로서, 기재층의 이면에 입자코팅층이 형성되어 있는 프리즘 필름의 단면도이다.
<도면 부호의 간단한 설명>
10: 확산 필름
20: 제1 프리즘 필름
21: 기재층 22: 프리즘층
23: 입자코팅층
30: 제2 프리즘 필름
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명은 백라이트 유닛 어셈블리에 포함된 프리즘 필름 및 확산 필름의 적층 순서와 프리즘 필름에 형성되어 있는 프리즘 입체구조의 형상에 의해 웨트-아웃 방지, 내스크래치성 개선, 모아레(Moire) 회피 및 은폐력 개선을 구현하도록 한 것으로, 제1 프리즘 필름; 상기 제1 프리즘 필름 상에 형성된 확산 필름; 및 상기 확산 필름 상에 형성된 제2 프리즘 필름을 포함하되, 상기 제1 프리즘 필름은 기재층; 및 상기 기재층의 일면에 복수 개의 프리즘 입체구조가 형성된 프리즘층을 포함하는 프리즘 필름으로서, 상기 프리즘 입체구조는 프리즘 입체구조의 상하 방향으로 형성된 상하 웨이브 형상 및 상기 프리즘 입체구조의 좌우 방향으로 형성된 좌우 웨이브 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리에 관한 것이다.
일반적으로 백라이트 유닛 어셈블리는 확산 필름 및 프리즘 필름이 순차적으로 적층된 것으로, 광원으로부터 도광판을 통과하여 확산 필름으로 입사되는 광은 확산 필름을 통과하면서 산란되어 휘도 분포가 고르게 되도록 한다.
본 발명에 따른 백라이트 유닛 어셈블리는, 도 1에 나타난 바와 같이, 제1 프리즘 필름(20), 확산 필름(10) 및 제2 프리즘 필름(30)이 순차적으로 적층된 것으로, 광원으로부터 도광판을 통과하여 제1 프리즘 필름(20)으로 입사되는 광은 제1 프리즘 필름(20)을 통과하면서 집광된 후, 확산 필름을 통과(10)하면서 휘도 분포가 고르게 되며, 제2 프리즘 필름(30)을 통과하면서 다시 한번 집광되어, 휘도 상승 효과 및 휘도 균일도 개선 효과를 나타낸다.
예를 들어, 일반적인 백라이트 어셈블리 유닛 중 확산필름, 확산필름 및 프리즘필름이 순차적으로 적층되어 있는 구조의 백라이트 어셈블리 유닛의 휘도 및 휘도 균일도를 각각 100 및 100이라고 할 경우, 본 발명의 제1 프리즘 필름, 확산 필름 및 제2 프리즘 필름이 순차적으로 적층된 백라이트 유닛 어셈블리는 휘도 최대 110 이상 및 휘도 균일도 90 이하일 수 있다. 여기서 휘도는 높을수록, 휘도 균일도는 낮을수록 유리하다.
한편, 본 발명에서 제1 프리즘 필름은 기재층; 및 상기 기재층의 일면에 복수 개의 프리즘 입체구조가 형성된 프리즘층을 포함하는 구조로서, 상기 프리즘 입체구조는 프리즘 입체구조의 상하 방향으로 형성된 상하 웨이브 형상 및 상기 프리즘 입체구조의 좌우 방향으로 형성된 좌우 웨이브 형상을 포함하는 것일 수 있다 (도 2).
또한, 제2 프리즘 필름은 당업계에서 사용되는 통상적 형태의 프리즘 필름이나 상하 웨이브 및 좌우 웨이브 중 적어도 하나를 포함하는 형태의 프리즘 필름일 수 있다.
본 발명에 따른 백라이트 유닛 어셈블리에 있어서, 이와 같은 제1 프리즘 필름, 확산 필름 및 제2 프리즘 필름이 순차적으로 적층되어야 상기에 언급한 바와 같은 휘도값을 나타내어 휘도 상승 및 TCO 개선 효과를 나타낼 수 있다.
또한, 전술한 바와 같은 제1 프리즘 필름과 제2 프리즘 필름이 적층될 때 각 프리즘 필름에 형성되어 있는 프리즘 입체구조가 직교일 경우에는 평행할 경우보다 더 우수한 휘도상승 효과를 나타낼 수 있다. 여기서, '평행'이란 제1 프리즘 필름의 프리즘 입체구조 중심선을 기준으로 하여 제2 프리즘 필름의 입체구조 중심선이 교차하는 각도가 -10˚~10˚인 것을 의미하고, '직교'란 제1 프리즘 필름의 프리즘 입체구조 중심선을 기준으로 하여 제2 프리즘 필름의 입체구조 중심선이 교차하는 각도가 -80˚~100˚인 것을 의미한다.
이와 같은 프리즘 필름에 있어서, 상기에 언급한 상하 웨이브 및 좌우 웨이브를 가지는 제1 프리즘 필름은 아래 기술하는 바와 같은 특성을 가진다.
본원에서 사용된 용어 '상하 웨이브(wave)'는 프리즘 필름의 프리즘층에 형성된 프리즘 입체구조에서 프리즘 입체구조의 상하 방향으로 형성된 웨이브 형상을 의미한다. 예를 들어, 도 3에 나타난 바와 같이, 하나의 프리즘 입체구조에서 길이 방향으로 프리즘이 웨이브 형상을 나타내는 것일 수 있다.
본원에서 사용된 용어 '좌우 웨이브(wave)'는 프리즘 필름의 프리즘층에 형성된 프리즘 입체구조에서 프리즘 입체구조의 좌우방향으로 형성된 웨이브 형상을 의미하며, 도 4에 나타난 바와 같이, 좌우 방향으로 웨이브 형상이 형성되어 있는 것을 의미한다.
상기 상하 웨이브의 진폭(△Wh)은 웨트-아웃 방지 및 내스크래치성 개선의 효과를 고려하여 1~10㎛ 일 수 있다.
상하 웨이브의 진폭(△Wh)이 1㎛ 미만이면 웨이브 효과를 가질 수 없으므로 웨트-아웃 방지 및 내스크래치성 개선 효과를 기대할 수 없고, 10㎛ 초과이면 필름상에 웨이브 문양이 나타나는 문제점이 있다.
또한 상기 좌우 웨이브의 진폭(△Ww)은 모아레 회피 및 은폐력 개선 효과를 고려하여 1~10㎛일 수 있다.
프리즘 입체구조의 좌우 방향으로 형성된 웨이브 형상의 최대값과 최소값의 차를 의미한다.
좌우 웨이브의 진폭(△Ww)이 1㎛ 미만이면 웨이브 효과를 가질 수 없을 뿐만 아니라, 좌우웨이브의 프리즘패턴 불균일화로 인한 모아레 개선 효과를 볼 수 없고, 10㎛ 초과이면 필름상에 웨이브 문양이 나타나는 문제점이 있다.
본 발명의 프리즘 입체구조에 있어서, 그 골(valley) 부분은 샌딩 처리된 것일 수 있으며, 골 부분의 샌딩 처리로 인하여 추가적인 은폐력 개선 및 내스크래치성 개선 효과를 기대할 수 있다.
샌딩 처리는 그 입경이 1~20㎛인 입자를 이용할 수 있으며, 입자의 입경이 1㎛인 경우 은폐력 개선 및 내스크래치 개선 효과가 미미하고, 입자의 입경이 20㎛를 초과하면 프리즘 입자의 골 부분에 샌딩되는 면적이 커져 프리즘 입체구조에 의한 집광 효과가 저하되는 문제점이 있다.
여기서, 샌딩 처리는 입자를 분무하는 방식으로 수행될 수 있으며, 입자는 예를 들어, 글라스 비드일 수 있다.
본 발명의 제1 프리즘 필름에 있어서, 기재층의 일면에 전술한 바와 같은 프리즘층이 형성되고, 그 이면에는 입자 코팅층이 형성된 것일 수 있으며, 입자 코팅층의 형성으로 인하여 추가적인 은폐력 개선 효과를 기대할 수 있다.
입자 코팅층은 바인더 수지 및 광확산 입자를 포함할 수 있다.
상기 바인더 수지는 폴리비닐계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지, 스티렌계 수지, 알키드계 수지, 아미노계 수지, 폴리우레탄계 수지, 에폭시계 수지 등의 열경화형 또는 자외선 경화형 수지 등을 단독으로 또는 2종 이상을 포함할 수 있다.
상기 광확산 입자는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트 및 2-에틸헥실아크릴레이트 중 선택되는 아크릴계 중합체 입자; 스티렌, 치환된 스티렌 중합체, 이들의 공중합체 및 삼원 공중합체 중 선택되는 스티렌계 중합체 입자; 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 중 선택되는 올레핀계 중합체 입자; 아크릴계와 스티렌계의 공중합체 입자; 아크릴계와 올레핀계의 공중합체 입자; 및 스티렌계와 올레핀계의 공중합체 입자 중 선택되는 유기계 입자; 상기 유기계 입자의 단일중합체, 공중합체 또는 삼원공중합체 입자를 포함하는 다층 다성분계 입자; 실록산계 중합체 입자; 및 불소계 수지 입자로 구성된 군에서 선택되는 입자일 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 제1 프리즘 필름에 있어서, 기재층은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리스틸렌 필름 또는 폴리에폭시 필름일 수 있으며, 프리즘층을 구성하는 수지로는 경화성 수지로서 광투과성 재료이면 특별히 제한되지 않는다. 즉, 자외선 경화성 수지 혹은 열경화성 수지를 포함하는 고분자 수지이면 제한되지 않고 사용 가능하고, 이 때 기재층과의 굴절율을 고려하여 사용하는 고분자 수지 종류를 적절히 선택할 수 있다.
본 발명에 따른 제1 프리즘 필름은 프리즘 모양의 절삭공구를 이용하여 프리즘층에 상하웨이브 및 좌우웨이브 형상을 가지는 프리즘 입체구조를 형성함으로써 제조할 수 있다. 구체적으로는, 진동자에 끼운 절삭공구를 이용하여 롤을 인각하되, 절삭공구를 전후 및 좌우 방향으로 진동시켜 프리즘 필름에 형성하고자 하는 상하웨이브 및 좌우웨이브 형상의 역상을 가지는 롤을 인각할 수 있다. 이때, 상하웨이브 및 좌우웨이브의 진폭은 진동의 정도에 의해 조절할 수 있다.
상기 인각된 롤을 이용하여 기재층의 일면에 수지층을 코팅 및 경화하여, 상하웨이브 및 좌우웨이브 형상을 가지는 프리즘 입체구조를 포함하는 프리즘층을 형성함으로써 프리즘 필름을 제조할 수 있다.
이와 같이 제조된 프리즘 필름이 적용된, 제1 프리즘 필름, 확산 필름, 제2 프리즘 필름이 순차적으로 적층된 백라이트 유닛 어셈블리는 웨트-아웃 방지, 내스크래치성 개선, 모아레 회피, 은폐력 개선 및 휘도 균일도 개선 효과를 나타낼 수 있으며, 추가적으로 프리즘 입체구조 골 부분의 샌딩처리 및 입자 코팅층으로 인하여 은폐성을 더욱 개선시킬 수 있다.
이하 본 발명을 구체적인 실시예를 통해 설명하겠는바, 본 발명이 이들 실시예에 한정되지 않고 기술적 사상이 허용되는 범위 내에서 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가지 자에 의하여 다양하게 변경되어 실시될 수 있음은 물론이다.
제조예 1 내지 5
프리즘 모양의 절삭공구를 진동자에 끼워 주파수를 무작위로 하여 전후 및 좌우 방향으로 진동을 부여하였다. 상기 절삭공구를 인각하고자 하는 롤에 위치시킨 다음, 롤은 일정한 속도로 자전시키고, 진동자에 끼운 절삭공구를 사용하여 롤을 인각하였다. 이때, 무작위로 진동되는 절삭공구를 전후 방향으로 인각시킴으로써 프리즘 입체구조의 상하 웨이브 형상의 역상을 형성하고, 좌우 방향으로 인각시킴으로써 프리즘 입체구조의 좌우 웨이브 형상의 역상을 형성하였다.
인각된 롤을 이용하여 기재층인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름상에 메타크릴레이트 수지를 코팅한 다음, 자외선을 120Watt의 세기로 3초간 조사하여 메타크릴레이트 수지를 경화시켜, 표 1에 나타난 바와 같은 형상을 나타내도록 상하 웨이브 및 좌우 웨이브를 가지는 프리즘 입체구조를 포함하는 프리즘 필름을 제조하였다.
제조예 6
프리즘층의 프리즘 입체구조의 골 부분에 샌딩처리를 한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 프리즘 필름을 제조하였다. 이때, 입경이 10㎛인 글라스 비드를 분무하여 프리즘 입체구조의 골 부분을 샌딩처리하였다.
제조예 7
기재층의 이면에 입자 코팅층을 형성한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 프리즘 필름을 제조하였다. 이때, 입자 코팅층은 입경이 5㎛인 폴리메틸메타크릴레이트 입자를 우레탄 아크릴레이트 바인더 100 중량부 대비 15 중량부로 도포하여 형성하였다.
제조예 8
프리즘층의 프리즘 입체구조가 좌우웨이브 형상을 포함하지 않는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 프리즘 필름을 제조하였다.
제조예 9
프리즘층의 프리즘 입체구조가 상하웨이브 형상을 포함하지 않는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 프리즘 필름을 제조하였다.
실시예 1 내지 15, 비교예 1 내지 4
17인치 액정디스플레이 패널용 백라이트 유닛에, 표 2에 나타난 바와 같은 제1 프리즘 필름, 확산 필름 및 제2 프리즘 필름을 순서대로 적층시키되, 두 장의 프리즘 필름에 형성된 프리즘 입체구조가 이루는 각도는 역시 표 2에 기재된 각도도 하여 적층시켜 고정하였다.
실시예 1 내지 15 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 백라이트 유닛 어셈블리에 대하여 아래와 같이 웨트-아웃, Newton's Ring, 모아레, 휘도, 반치각, 시인성 및 휘도 균일도를 측정하여, 그 결과를 표 3에 나타내었다.
(1) 웨트-아웃
실시예 및 비교예에 따라 확산 필름과 2매의 프리즘 필름을 순서대로 적층하여 백라이트 유닛 어셈블리를 구성한 후, 각 필름에서 발생되는 과도한 밀착에 의한 광간섭 현상을 육안으로 관찰하여, 각 현상의 발생 정도에 따라 하기와 같이 상대 평가하였다.
Wet-out : 발생 ← ◎ - ○ - △ - × → 미발생
(2) 모아레
실시예 및 비교예에 따라 확산 필름과 2매의 프리즘 필름을 순서대로 적층하여 백라이트 유닛 어셈블리를 구성한 후, 제2 프리즘 필름 상에 규칙적이고 주기성을 갖는 직선 또는 물결무늬의 띠나 패턴이 보이면 모아레가 발생한다고 보고, 모아레의 발생 정도에 따라 하기와 같이 상대 평가하였다.
발생 ← ◎ - ○ - △ - × → 미발생
(3) 휘도평가(Cd/m2)
실시예 및 비교예의 백라이트 유닛 어셈블리에서, 휘도계(모델명 : BM-7, 일본 TOPCON사)를 사용하여 임의의 13지점의 휘도를 측정하여 그 평균값을 구하였다.
◎ : 휘도가 4500 cd/m2 이상인 경우
○ : 휘도가 3500 cd/m2 이상 4500 cd/m2 미만인 경우
△ : 휘도가 3000 cd/m2 이상 3500 cd/m2 미만인 경우
× : 휘도가 3000 미만인 경우
(4) 반치각
실시예 및 비교예의 백라이트 유닛 어셈블리에서, 휘도계(모델명 : BM-7, 일본 TOPCON사)를 사용하여 좌우 80도 각도의 휘도를 각 10도 간격으로 측정하고, 최대 휘도의 1/2 휘도를 나타내는 각도를 구하였다.
(5) 은폐성
실시예 및 비교예에서 제조된 백라이트 유닛 어셈블리에 대해서, 도광판 내에 인쇄된 dot 패턴이 보이는 정도를 육안으로 관찰하였으며, 그 정도를 하기와 같이 상대 평가하였다.
발생 ← ◎ - ○ - △ - × → 미발생
(6) 휘도 균일도
모아레가 발생하면 모아레 발생 지점과 미발생 지점의 휘도는 차이가 나타난다. 따라서 모아레가 발생하지 않을 경우 휘도의 최대치 Lmax.와 최소치 Lmin.의 차이를 측정하여 그 휘도의 균일도를 비교하였다.
프리즘 피치
(㎛)		 상하 웨이브 진폭(△Wh , ㎛) 좌우 웨이브 진폭(△Ww , ㎛)
제조예 1 35 4 4
제조예 2 35 6 4
제조예 3 35 4 6
제조예 4 35 6 6
제조예 5 35 8 6
제조예 6 35 4 6
제조예 7 35 4 6
제조예 8 35 4 0
제조예 9 35 0 6
제1 프리즘 필름 확산필름 제2 프리즘 필름 제1 프리즘 필름과 제2 프리즘 필름의 프리즘 입체구조가 이루는 각도
실시예1 제조예1의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예2 제조예2의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예3 제조예3의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예4 제조예4의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예5 제조예5의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예6 제조예6의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예7 제조예7의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예8 제조예8의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예9 제조예9의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 90˚
실시예10 제조예3의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 45˚
실시예11 제조예6의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 45˚
실시예12 제조예7의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 45˚
실시예13 제조예3의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 0˚
실시예14 제조예6의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 0˚
실시예15 제조예7의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 코오롱社, LC213 0˚
비교예1 코오롱社, LC213 코오롱社, LD602 제조예3의
프리즘 필름		 90˚
비교예2 제조예3의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 제조예1의
프리즘 필름		 90˚
비교예3 제조예6의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 제조예1의
프리즘 필름		 90˚
비교예4 제조예7의
프리즘 필름		 코오롱社, LD602 제조예1의
프리즘 필름		 90˚
웨트-아웃 모아레 휘도 반치각 은폐성 휘도균일도
실시예1 ○ × ◎ 35 ◎ 1.61
실시예2 ○ × ◎ 35 ◎ 1.6
실시예3 ○ × ◎ 34 ○ 1.61
실시예4 ○ × ◎ 35 ○ 1.62
실시예5 ○ × ◎ 35 ○ 1.63
실시예6 ○ × ○ 36 △ 1.59
실시예7 × × ○ 36 × 1.58
실시예8 ○ × ◎ 34 ◎ 1.61
실시예9 ○ × ◎ 35 ○ 1.61
실시예10 ○ × ◎ 38 ◎ 1.6
실시예11 ○ × ○ 38 ○ 1.61
실시예12 × × ○ 38 △ 1.61
실시예13 ○ × ○ 44 ○ 1.61
실시예14 ○ × △ 45 × 1.6
실시예15 × × △ 45 × 1.59
비교예1 ○ × ○ 36 ○ 1.6
비교예2 ○ × ○ 35 ○ 1.61
비교예3 ○ × △ 35 △ 1.62
비교예4 × × △ 36 × 1.61

Claims (8)

  1. 제1 프리즘 필름;
    상기 제1 프리즘 필름 상에 형성된 확산 필름; 및
    상기 확산 필름 상에 형성된 제2 프리즘 필름을 포함하는 백라이트 유닛 어셈블리로서,
    상기 제1 프리즘 필름은
    기재층; 및
    상기 기재층의 일면에 복수 개의 프리즘 입체구조가 형성된 프리즘층을 포함하는 프리즘 필름으로서,
    상기 프리즘 입체구조는 프리즘 입체구조의 상하 방향으로 형성된 상하 웨이브 형상 및 상기 프리즘 입체구조의 좌우 방향으로 형성된 좌우 웨이브 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 프리즘 필름 및 제2 프리즘 필름에 각각 형성된 프리즘 입체구조는 서로 직교하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 상하 웨이브의 진폭(△Wh)은 1~10㎛인 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 좌우 웨이브의 진폭(△Ww)은 1~10㎛인 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 프리즘 입체구조는 그 골(valley) 부분이 샌딩(sanding)된 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 프리즘 입체구조는 그 골 부분이 입경 1~20㎛인 입자에 의해 샌딩된 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 기재층의 이면에 입자 코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 입자 코팅층은
    메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트 및 2-에틸헥실아크릴레이트 중 선택되는 아크릴계 중합체 입자; 스티렌, 치환된 스티렌 중합체, 이들의 공중합체 및 삼원 공중합체 중 선택되는 스티렌계 중합체 입자; 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 중 선택되는 올레핀계 중합체 입자; 아크릴계와 스티렌계의 공중합체 입자; 아크릴계와 올레핀계의 공중합체 입자; 및 스티렌계와 올레핀계의 공중합체 입자 중 선택되는 유기계 입자;
    상기 유기계 입자의 단일중합체, 공중합체 또는 삼원공중합체 입자를 포함하는 다층 다성분계 입자;
    실록산계 중합체 입자; 및
    불소계 수지 입자로 구성된 군에서 선택되는 광확산 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛 어셈블리.
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