KR20120134026A - Curable resin composition - Google Patents

Curable resin composition Download PDF

Info

Publication number
KR20120134026A
KR20120134026A KR1020120055533A KR20120055533A KR20120134026A KR 20120134026 A KR20120134026 A KR 20120134026A KR 1020120055533 A KR1020120055533 A KR 1020120055533A KR 20120055533 A KR20120055533 A KR 20120055533A KR 20120134026 A KR20120134026 A KR 20120134026A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
meth
copolymer
group
acrylic acid
Prior art date
Application number
KR1020120055533A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101928100B1 (en
Inventor
마사카즈 시라카와
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Publication of KR20120134026A publication Critical patent/KR20120134026A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101928100B1 publication Critical patent/KR101928100B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3445Five-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133519Overcoatings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PURPOSE: A curable resin composition is provided to form a conic protrusion with a small diameter formed on foreign substances even if a coating film is formed on a color filter with the foreign substances of several microns. CONSTITUTION: A curable resin composition comprises: an addition polymer which comprises a unit structure which is originated from at least one kind selected from an unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic anhydride, and a unit structure originated from an unsaturated compound with an oxyranyl group; at least one kind of selected from glycidyl ether type epoxy resins and glycidyl ester type epoxy resin; and a compound indicated in chemical formula 1.

Description

경화성 수지 조성물{CURABLE RESIN COMPOSITION}CURABLE RESIN COMPOSITION [0001]

본 발명은 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a curable resin composition.

액정 표시 장치 등에는 컬러 필터 보호막 등의 도포막이 부재로서 사용되고 있다. 컬러 필터 보호막은 하지 (下地) 인 컬러 필터나 블랙 매트릭스에서 생성되는 표면의 요철을 평탄화시키거나, 이들의 상층 부재를 형성하기 위해서 사용되는 약액으로부터 컬러 필터 등을 보호하거나 하기 위해서 사용되는 도포막이다. 컬러 필터 보호막을 형성하기 위해서 경화성 수지 조성물이 사용된다.Coating films, such as a color filter protective film, are used for a liquid crystal display device etc. as a member. The color filter protective film is a coating film used for flattening the unevenness of the surface formed by the underlying color filter or black matrix, or for protecting the color filter and the like from the chemicals used for forming the upper layer member. . In order to form a color filter protective film, curable resin composition is used.

이와 같은 경화성 수지 조성물로는, 예를 들어 수지 성분으로서, 불포화 카르복실산과 지방족 다고리형 에폭시 화합물의 공중합체만을 함유하는 경화성 수지 조성물이 알려져 있다 (특허문헌 1).As such a curable resin composition, the curable resin composition containing only the copolymer of unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polycyclic epoxy compound as a resin component is known (patent document 1).

일본 공개특허공보 2009-149854호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-149854

수 ㎛ 정도의 이물질이 존재하는 컬러 필터 상에 도포막을 형성하면, 그 도포막에는, 그 이물질 상에 원추상 돌기가 형성된다. 이 원추상 돌기는, 그 직경이 작은 경우에는 연마에 의해 돌기를 제거할 수 있지만, 직경이 큰 경우에는 연마에 의해 돌기를 제거해도 도포막을 충분히 평탄화시킬 수 없다. 충분히 평탄화되어 있지 않은 도포막을 액정 표시 장치에 사용하면, 표시 불량의 원인이 된다. 상기와 같은 종래부터 알려져 있는 경화성 수지 조성물로, 수 ㎛ 정도의 이물질이 존재하는 컬러 필터 상에 도포막을 형성하면, 그 이물질 상에 형성되는 원추상 돌기의 직경은 반드시 충분히 작은 것은 아니었다.When a coating film is formed on the color filter in which the foreign matter of about several micrometers exists, conical protrusions are formed in the foreign matter on the coating film. If the diameter is small, the conical projection can remove the projection by polishing. However, when the diameter is large, the coating film cannot be sufficiently flattened even if the projection is removed by polishing. If a coating film that is not sufficiently flattened is used for the liquid crystal display device, it causes a display defect. With the conventionally known curable resin composition, when a coating film is formed on a color filter in which foreign matters of several micrometers exist, the diameter of the conical protrusion formed on the foreign matter was not necessarily small enough.

본 발명은 이하의 [1] ? [6] 을 제공하는 것이다.The present invention is the following [1]? [6] to provide.

[1] 하기 (A), (B) 및 (C) 를 함유하는 경화성 수지 조성물 : [1] curable resin composition containing the following (A), (B) and (C):

(A) 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 구조 단위와, 옥시라닐기를 갖는 불포화 화합물에서 유래하는 구조 단위를 포함하는 부가 중합체(A) An addition polymer containing the structural unit derived from at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride, and the unsaturated compound which has an oxiranyl group.

(B) 글리시딜에테르형 에폭시 수지 및 글리시딜에스테르형 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 에폭시 수지(B) at least one epoxy resin selected from the group consisting of glycidyl ether type epoxy resins and glycidyl ester type epoxy resins

(C) 식 (1) 로 나타내는 화합물(C) Compound represented by formula (1)

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[식 (1) 중, R1 은 수소 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 탄소수 2 ? 5 의 시아노알킬기를 나타내고, [In formula (1), R <1> is a hydrogen atom and C1-C. An alkyl group, a phenyl group, a benzyl group or a carbon number of 20; 5 represents a cyanoalkyl group,

R2 ? R4 는 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기, 페닐기, 니트로기 또는 탄소수 1 ? 20 의 아실기를 나타내고, 그 알킬기 및 그 페닐기에 함유되는 수소 원자는 하이드록시기로 치환되어 있어도 된다].R 2 ? R 4 independently of one another is a hydrogen atom, a halogen atom, carbon atoms? 20 alkyl, phenyl, nitro or C 1? 20 acyl group, and the hydrogen atom contained in this alkyl group and this phenyl group may be substituted by the hydroxy group].

[2] (C) 의 함유량이 (A) 100 질량부에 대하여 1 질량부 이상 25 질량부 이하인 상기 [1] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[2] Curable resin composition as described in said [1] whose content of (C) is 1 mass part or more and 25 mass parts or less with respect to 100 mass parts of (A).

[3] (A) 의 함유량이 (A) 의 함유량과 (B) 의 함유량의 합계에 대하여, 50 질량% 이상 99 질량% 이하인 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 경화성 수지 조성물.[3] Curable resin composition as described in said [1] or [2] whose content of (A) is 50 mass% or more and 99 mass% or less with respect to the sum total of content of (A) and content of (B).

[4] 추가로, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 갖는 화합물을 함유하는 상기 [1] ? [3] 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물.[4] The above-mentioned [1] which further contains a compound having at least one group selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group. Curable resin composition in any one of [3].

[5] 상기 [1] ? [4] 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물에 의해 형성되는 도포막.[5] above [1]? Coating film formed with curable resin composition in any one of [4].

[6] 상기 [5] 에 기재된 도포막을 포함하는 표시 장치.[6] A display device comprising the coating film according to the above [5].

본 발명의 경화성 수지 조성물에 의하면, 수 ㎛ 정도의 이물질이 존재하는 컬러 필터 상에 도포막을 형성해도 이물질 상에 형성되는 원추상 돌기의 직경이 작다. 그 때문에, 본 발명의 경화성 수지 조성물로 형성된 도포막은, 연마에 의해 평탄화시킬 수 있기 때문에, 표시 불량이 적은 액정 표시 장치를 제조하는 것이 가능해진다.According to the curable resin composition of this invention, even if a coating film is formed on the color filter in which the foreign material of several micrometers exists, the diameter of the conical protrusion formed on a foreign material is small. Therefore, since the coating film formed from the curable resin composition of this invention can be planarized by grinding | polishing, it becomes possible to manufacture the liquid crystal display device with few display defects.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 구조 단위와, 옥시라닐기를 갖는 불포화 화합물에서 유래하는 구조 단위를 포함하는 부가 중합체 (이하 「중합체 (A)」라고 하는 경우가 있다) 를 함유한다.Curable resin composition of this invention is an addition polymer containing the structural unit derived from the at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride, and the unsaturated compound which has an oxiranyl group ( Hereinafter, the "polymer (A)" may be referred to).

중합체 (A) 로는, 예를 들어As the polymer (A), for example

중합체 [A1] : 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 (a) (이하, 「(a)」라고 하는 경우가 있다) 와, 옥시라닐기를 갖는 불포화 화합물 (b) (이하, 「(b)」라고 하는 경우가 있다) 를 중합하여 이루어지는 공중합체, 중합체 [A2] : (a) 와 (b) 와, (a) 와 (b) 와 공중합 가능한 단량체 (c) (단, (a) 및 (b) 는 상이한 단량체) (이하, 「(c)」라고 하는 경우가 있다) 를 중합하여 이루어지는 공중합체 등을 들 수 있다.Polymer [A1]: at least one selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride (hereinafter, may be referred to as "(a)") and an unsaturated compound having an oxiranyl group ( b) A copolymer formed by polymerizing (hereinafter sometimes referred to as "(b)"), a polymer [A2]: a monomer copolymerizable with (a) and (b) and (a) and (b) (c) ), But the copolymer etc. which superpose | polymerize (the following (a) and (b) are different monomers) (hereinafter may be called "(c)") are mentioned.

(a) 로는, 구체적으로는, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, o-비닐벤조산, m-비닐벤조산, p-비닐벤조산 등의 불포화 모노카르복실산류 ; Specific examples of (a) include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, o-vinylbenzoic acid, m-vinylbenzoic acid and p-vinylbenzoic acid;

말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산, 디메틸테트라하이드로프탈산, 1,4-시클로헥센디카르복실산 등의 불포화 디카르복실산류 ; Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, dimethyl Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexenedicarboxylic acid;

메틸-5-노르보르넨-2,3-디카르복실산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 카르복시기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물류 ; Methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hepto-2- N, 5-carboxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-carboxy-6-methyl ratio Bicyclo unsaturated compounds containing carboxyl groups, such as cyclo [2.2.1] hepto-2-ene and 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene;

무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 디메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 무수물 등의 불포화 디카르복실산류 무수물 ; Maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride Unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as dimethyl tetrahydrophthalic anhydride and 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene anhydride;

숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2 가 이상의 다가 카르복실산의 불포화 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르류 ; Unsaturated mono [(meth) acryloyloxyalkyl of bivalent or more polyvalent carboxylic acids, such as monosuccinate mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalate mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] ] Esters;

α-(하이드록시메틸)아크릴산과 같은, 동일 분자 중에 하이드록시기 및 카르복시기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류 등을 들 수 있다. and unsaturated acrylates containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule such as α- (hydroxymethyl) acrylic acid.

이들 중, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 공중합 반응성면이나 알칼리 용해성면에서 바람직하게 사용된다.Among these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferably used in terms of copolymerization reactivity or alkali solubility.

본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 나타낸다. 「(메트)아크릴로일」 및 「(메트)아크릴레이트」 등의 표기도 동일한 의미를 갖는다.In this specification, "(meth) acrylic acid" represents at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of acrylic acid and methacrylic acid. Quot ;, &quot; (meth) acryloyl &quot;, and &quot; (meth) acrylate &quot;

본 발명에 있어서, 옥시라닐기를 갖는 불포화 화합물 (b) 란, 옥시란 고리와 불포화 결합을 갖는 단량체를 말한다. (b) 로는, 예를 들어 사슬형 지방족 불포화 탄화수소가 에폭시화된 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b1) (이하 「(b1)」이라고 하는 경우가 있다) 이나, 지환식 불포화 탄화수소가 에폭시화된 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b2) (이하 「(b2)」라고 하는 경우가 있다) 를 들 수 있다.In this invention, the unsaturated compound (b) which has an oxiranyl group means the monomer which has an unsaturated bond with an oxirane ring. As (b), the monomer (b1) (Hereinafter, it may be called "(b1)") which has the structure and ethylenically unsaturated bond which the chain aliphatic unsaturated hydrocarbon epoxidized, for example, and an alicyclic unsaturated hydrocarbon are epoxy The monomer (b2) (Hereinafter, it may be called "(b2)") which has a structured structure and ethylenically unsaturated bond is mentioned.

본 발명에 있어서, (b) 는 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체인 것이 바람직하고, 옥시라닐기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체인 것이 보다 바람직하다. 또, (b) 는 (b2) 인 것이 바람직하다.In the present invention, (b) is preferably a monomer having an oxiranyl group and an ethylenically unsaturated bond, and more preferably a monomer having an oxiranyl group and a (meth) acryloyloxy group. Moreover, it is preferable that (b) is (b2).

(b1) 로는, 구체적으로는, 글리시딜(메트)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-o-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-m-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 일본 공개특허공보 평7-248625호에 기재되는 화합물 등을 들 수 있다. Specific examples of (b1) include glycidyl (meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) acrylate, β-ethylglycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether. Vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether, α-methyl-o-vinyl benzyl glycidyl ether, α-methyl-m-vinyl benzyl glycidyl ether , α-methyl-p-vinylbenzyl glycidyl ether, 2,3-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,5-bis (glycid) Dyloxymethyl) styrene, 2,6-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,4-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,5-tris (glycidyloxymethyl) Styrene, 2,3,6-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 3,4,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4,6-tris (glycidyloxymethyl) styrene, The compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 7-248625, etc. are mentioned.

(b2) 로는, 비닐시클로헥센모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산 (예를 들어, 셀록사이드 2000 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마 A400 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마 M100 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조), 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물, 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. Examples of (b2) include vinylcyclohexene monooxide and 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (for example, ceoxide 2000; manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethylacrylic Rate (for example, cycloma A400; manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (for example, cycloma M100; manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), The compound represented by Formula (I), the compound represented by Formula (II), etc. are mentioned.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

식 (Ⅰ) 및 식 (Ⅱ) 에 있어서, R1 및 R2 는 서로 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 ? 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 함유되는 수소 원자는, 하이드록시기로 치환되어 있어도 된다.In formula (I) and formula (II), R <1> and R <2> is a hydrogen atom or C1-C independently of each other. The alkyl group of 4 is represented, and the hydrogen atom contained in this alkyl group may be substituted by the hydroxy group.

X1 및 X2 는 서로 독립적으로 단결합, -R3-, *-R3-O-, *-R3-S-, *-R3-NH- 를 나타낸다.X 1 and X 2 independently represent a single bond, -R 3- , * -R 3 -O-, * -R 3 -S-, and * -R 3 -NH-.

R3 은 탄소수 1 ? 6 의 알칸디일기를 나타낸다.R 3 has 1? The alkanediyl group of 6 is shown.

* 는 O 와의 결합수를 나타낸다* Represents the number of bonds with O

탄소수 1 ? 4 의 알킬기로는, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있다.Carbon number 1? As an alkyl group of 4, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert- butyl group etc. are mentioned specifically ,.

하이드록시알킬기로는, 하이드록시메틸기, 1-하이드록시에틸기, 2-하이드록시에틸기, 1-하이드록시프로필기, 2-하이드록시프로필기, 3-하이드록시프로필기, 1-하이드록시-1-메틸에틸기, 2-하이드록시-1-메틸에틸기, 1-하이드록시부틸기, 2-하이드록시부틸기, 3-하이드록시부틸기, 4-하이드록시부틸기 등을 들 수 있다.As a hydroxyalkyl group, a hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 1-hydroxy-1- Methyl ethyl group, 2-hydroxy-1-methylethyl group, 1-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 4-hydroxybutyl group, etc. are mentioned.

R1 및 R2 로는, 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 하이드록시메틸기, 1-하이드록시에틸기, 2-하이드록시에틸기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기를 들 수 있다.As R <1> and R <2> , Preferably, a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, and 2-hydroxyethyl group are mentioned, More preferably, a hydrogen atom and a methyl group are mentioned.

알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등을 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group include a methylene group, an ethylene group, propane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, and hexane- 1, 6- diyl group etc. are mentioned.

X1 및 X2 로는, 바람직하게는 단결합, 메틸렌기, 에틸렌기, *-CH2-O- (* 는 O 와의 결합수를 나타낸다) 기, *-CH2CH2-O- 기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 단결합, *-CH2CH2-O- 기를 들 수 있다.Roneun X 1 and X 2, and preferably include a single bond, methylene group, ethylene group, * -CH 2 -O- (* indicates the number of engagement with the O) group, * -CH 2 CH 2 -O- group and, more preferably, there may be mentioned a single bond, * -CH 2 CH 2 -O- group.

식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물로는, 식 (Ⅰ-1) ? 식 (Ⅰ-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식 (Ⅰ-1), 식 (Ⅰ-3), 식 (Ⅰ-5), 식 (Ⅰ-7), 식 (Ⅰ-9), 식 (Ⅰ-11) ? 식 (Ⅰ-15) 를 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식 (Ⅰ-1), 식 (Ⅰ-7), 식 (Ⅰ-9), 식 (Ⅰ-15) 를 들 수 있다.As a compound represented by Formula (I), it is Formula (I-1)? The compound etc. which are represented by Formula (I-15) are mentioned. Preferably, formula (I-1), formula (I-3), formula (I-5), formula (I-7), formula (I-9) and formula (I-11)? Formula (I-15) is mentioned. More preferably, Formula (I-1), Formula (I-7), Formula (I-9), and Formula (I-15) are mentioned.

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로는, 식 (Ⅱ-1) ? 식 (Ⅱ-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식 (Ⅱ-1), 식 (Ⅱ-3), 식 (Ⅱ-5), 식 (Ⅱ-7), 식 (Ⅱ-9), 식 (Ⅱ-11) ? 식 (Ⅱ-15) 를 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식 (Ⅱ-1), 식 (Ⅱ-7), 식 (Ⅱ-9), 식 (Ⅱ-15) 를 들 수 있다.As a compound represented by Formula (II), it is a formula (II-1)? The compound etc. which are represented by Formula (II-15) are mentioned. Preferably formula (II-1), formula (II-3), formula (II-5), formula (II-7), formula (II-9), or formula (II-11)? Formula (II-15) is mentioned. More preferably, Formula (II-1), Formula (II-7), Formula (II-9), and Formula (II-15) are mentioned.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물은, 각각 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용할 수도 있다. 식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물과 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물을 병용하는 경우, 그 비율 [식 (Ⅰ) : 식 (Ⅱ)] (몰비) 는 임의이지만, 바람직하게는 5 : 95 ? 95 : 5, 보다 바람직하게는 10 : 90 ? 90 : 10, 특히 바람직하게는 20 : 80 ? 80 : 20 이다.The compound represented by Formula (I) and the compound represented by Formula (II) may respectively be used independently, and may use 2 or more types together. When using the compound represented by Formula (I) and the compound represented by Formula (II) together, the ratio [Formula (I): Formula (II)] (molar ratio) is arbitrary, Preferably it is 5:95? 95: 5, more preferably 10: 90? 90: 10, particularly preferably 20: 80? 80: 20.

(c) 로는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산알킬에스테르류 ; As (c), methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert- butyl (meth) acrylate, etc. are mentioned, for example. (Meth) acrylic-acid alkylester of;

시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트 (당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트라고 하고 있다), 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르류 ; Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate (in the art, dicyclopentanyl as conventional name) (Meth) acrylic acid cycloalkyl esters such as (meth) acrylate), dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, and isobornyl (meth) acrylate;

페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산아릴 또는 아르알킬에스테르류 ; Aryl (meth) acrylates or aralkyl esters such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate;

말레산디에틸, 푸마르산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 디카르복실산디에스테르 ; Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate and diethyl itaconate;

2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산하이드록시알킬에스테르류 ; (Meth) acrylic-acid hydroxyalkyl esters, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;

비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-(2'-하이드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디하이드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(하이드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(2'-하이드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류 ; Bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxybi Cyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxymethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5- (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hepto-2 -Ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2.1] hepto 2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-di (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hepto- 2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxy-5-methyl Bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] Hepto-2-ene, 5-tert-butoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-phenoxy Carbonylbicycle Ro [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-bis (tert-butoxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5,6-bis (cyclohexyloxycarbonyl ) Bicyclo unsaturated compounds such as bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene;

N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부틸레이트, N-숙신이미딜-6-말레이미드카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류 ; N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidebenzoate, N-succinimidyl-4-maleimide butyrate, N-succinimidyl Dicarbonylimide derivatives such as -6-maleimide caproate, N-succinimidyl-3-maleimide propionate and N- (9-acridinyl) maleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스티렌 등의 스티렌류 ; Styrene, such as styrene, (alpha) -methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, and p-methoxy styrene;

아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 아크릴로니트릴류 ; 염화비닐, 염화비닐리덴, 아세트산비닐 등의 비닐 화합물류 ; 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등의 디엔 화합물류 ; Acrylonitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Vinyl compounds such as vinyl chloride, vinylidene chloride and vinyl acetate; Acrylamides such as acrylamide and methacrylamide; Diene compounds such as 1,3-butadiene, isoprene and 2,3-dimethyl-1,3-butadiene;

3-메틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄 등의 옥세타닐기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 ; 3-methyl-3-methacryloyloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3- Acryloyloxymethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloyloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloyloxyethyl oxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxyethyl ox Oxetanyl group-containing (meth) acrylic acid esters such as cetane and 3-ethyl-3-acryloyloxyethyl oxetane;

테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트 (예를 들어, 비스코트 V#150, 오사카 유기 화학 공업 (주) 제조), 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트 등의 테트라하이드로푸릴기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 등을 들 수 있다.Tetrahydrofurfuryl group-containing (meth) acrylic acid esters such as tetrahydrofurfuryl acrylate (for example, biscoat V # 150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and tetrahydrofurfuryl methacrylate; Can be.

이들 중, 스티렌, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등이 공중합 반응성 및 알칼리 용해성면에서 바람직하다.Among them, styrene, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene and the like are preferable in terms of copolymerization reactivity and alkali solubility.

중합체 [A1] 에 있어서, 각 단량체에서 유래하는 구조 단위의 비율은, 중합체 [A1] 을 구성하는 구조 단위의 합계 몰수에 대하여, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.In polymer [A1], it is preferable that the ratio of the structural unit derived from each monomer exists in the following ranges with respect to the total number of moles of the structural unit which comprises polymer [A1].

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 5 ? 60 몰% (보다 바람직하게는 10 ? 50 몰%)structural unit derived from (a); 5? 60 mol% (more preferably 10-50 mol%)

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 40 ? 95 몰% (보다 바람직하게는 50 ? 90 몰%) structural unit derived from (b); 40? 95 mol% (more preferably 50-90 mol%)

중합체 [A1] 의 구조 단위의 비율이 상기의 범위에 있으면, 보존 안정성, 얻어지는 도포막의 내약품성, 내열성 및 기계 강도가 우수한 경향이 있다.When the ratio of the structural unit of polymer [A1] exists in the said range, it exists in the tendency which is excellent in storage stability, the chemical resistance, heat resistance, and mechanical strength of the coating film obtained.

중합체 [A1] 은 예를 들어 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오츠 타카유키 저 발행소 (주) 화학 동인 제 1 판 제 1 쇄 1972년 3월 1일 발행) 에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용 문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.The polymer [A1] is, for example, the method described in the document "Experimental Method of Polymer Synthesis" (Otsu Takayuki Kogyo Co., Ltd., Chemical Eng., First Edition, First Printing, March 1, 1972) and the cited documents described in this document. It can be prepared with reference to.

구체적으로는, (a) 및 (b) 의 소정량, 중합 개시제 및 용제 등을 반응 용기 중에 넣고 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 탈산소 분위기에서 교반, 가열, 보온하는 방법이 예시된다. 또한, 여기에서 사용되는 중합 개시제 및 용제 등은 특별히 한정되지 않으며, 당해 분야에서 통상 사용되고 있는 것 어느 것이나 사용할 수 있다. 예를 들어, 중합 개시제로는, 아조 화합물 (2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등) 이나 유기 과산화물 (벤조일퍼옥사이드 등) 을 들 수 있으며, 용제로는, 각 단량체를 용해시키는 것이면 되고, 본 발명의 경화성 수지 조성물의 용제 (E) 로서 후술하는 용제 등을 사용할 수 있다.Specifically, the method of stirring, heating, and keeping warm in a deoxygen atmosphere is illustrated by putting predetermined amounts of (a) and (b), a polymerization initiator, a solvent, and the like into a reaction vessel and replacing oxygen with nitrogen. In addition, the polymerization initiator, the solvent, etc. which are used here are not specifically limited, Any thing normally used in the said field | area can be used. For example, as a polymerization initiator, an azo compound (2,2'- azobisisobutyronitrile, 2,2'- azobis (2, 4- dimethylvaleronitrile), etc.) and an organic peroxide (benzoyl peroxide) Etc.) As a solvent, what is necessary is just to melt | dissolve each monomer, and the solvent etc. which are mentioned later as a solvent (E) of curable resin composition of this invention can be used.

또한, 얻어진 공중합체는, 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석시킨 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다. 특히, 이 중합시에 용제로서 후술하는 용제 (E) 와 동일한 용제를 사용함으로써, 반응 후의 용액을 경화성 수지 조성물의 조제에 그대로 사용할 수 있어 경화성 수지 조성물의 제조 공정을 간략화할 수 있다.In addition, the obtained copolymer may use the solution after reaction as it is, the solution concentrated or diluted may be used, and what was taken out as solid (powder) by methods, such as reprecipitation, may be used. In particular, the solution after reaction can be used as it is for preparation of curable resin composition by using the same solvent as the solvent (E) mentioned later as a solvent at the time of this superposition | polymerization, and the manufacturing process of curable resin composition can be simplified.

중합체 [A2] 에 있어서, 각 단량체에서 유래하는 구조 단위의 비율은, 중합체 [A2] 를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대하여, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.In polymer [A2], it is preferable that the ratio of the structural unit derived from each monomer exists in the following ranges with respect to the total mole number of all the structural units which comprise polymer [A2].

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 2 ? 40 몰% (보다 바람직하게는 5 ? 35 몰%)structural unit derived from (a); 2 ? 40 mol% (more preferably 5-35 mol%)

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 2 ? 95 몰% (보다 바람직하게는 5 ? 80 몰%)structural unit derived from (b); 2 ? 95 mol% (more preferably 5-80 mol%)

(c) 에서 유래하는 구조 단위 ; 1 ? 65 몰% (보다 바람직하게는 1 ? 60 몰%) structural unit derived from (c); One ? 65 mol% (more preferably 1-60 mol%)

또, (a) 에서 유래하는 구조 단위와 (b) 에서 유래하는 구조 단위의 합계는, 중합체 [A2] 를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대하여, 70 ? 99 몰% 가 바람직하고, 90 ? 99 몰% 가 보다 바람직하다.Moreover, the sum total of the structural unit derived from (a) and the structural unit derived from (b) is 70? With respect to the total mole number of all the structural units which comprise polymer [A2]. 99 mol% is preferable and 90? 99 mol% is more preferable.

중합체 [A2] 의 구조 단위의 비율이 상기의 범위에 있으면, 보존 안정성, 얻어지는 도포막의 내약품성, 내열성 및 기계 강도가 우수한 경향이 있다.When the ratio of the structural unit of polymer [A2] exists in the said range, it exists in the tendency which is excellent in storage stability, the chemical-resistance, heat resistance, and mechanical strength of the coating film obtained.

중합체 [A2] 는 중합체 [A1] 과 동일한 방법에 의해 제조할 수 있다.Polymer [A2] can be manufactured by the same method as Polymer [A1].

중합체 [A1] 의 구체예로는, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-2) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-3) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-4) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-5) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-6) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-7) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-8) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-9) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-10) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-11) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-12) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-13) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-14) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-15) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-2) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-3) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-4) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-5) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-6) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-7) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-8) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-9) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-10) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-11) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-12) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-13) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-14) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-15) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-2)/식 (Ⅱ-2) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-3)/식 (Ⅱ-3) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-4)/식 (Ⅱ-4) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-5)/식 (Ⅱ-5) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-6)/식 (Ⅱ-6) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-7)/식 (Ⅱ-7) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-8)/식 (Ⅱ-8) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-9)/식 (Ⅱ-9) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-10)/식 (Ⅱ-10) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-11)/식 (Ⅱ-11) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-12)/식 (Ⅱ-12) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-13)/식 (Ⅱ-13) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-14)/식 (Ⅱ-14) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-15)/식 (Ⅱ-15) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅰ-7) 의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-7) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-2) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-3) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-4) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-5) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-6) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-7) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-8) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-9) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-10) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-11) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-12) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-13) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-14) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-15) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-2) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-3) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-4) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-5) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-6) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-7) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-8) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-9) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-10) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-11) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-12) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-13) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-14) 의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-15) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-2) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-3) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-4) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-5) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-6) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-7) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-8) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-9) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-10) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-11) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-12) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-13) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-14) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-15) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-2) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-3) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-4) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-5) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-6) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-7) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-8) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-9) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-10) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-11) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-12) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-13) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-14) 의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-15) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-2) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-3) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-4) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-5) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-6) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-7) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-8) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-9) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-10) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-11) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-12) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-13) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-14) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-15) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-2) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-3) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-4) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-5) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-6) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-7) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-8) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-9) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-10) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-11) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-12) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-13) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-14) 의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-15) 의 공중합체 등을 들 수 있다.As a specific example of polymer [A1], the copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1), the copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-2), (meth) acrylic acid / formula (I-3) ), Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-4), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-5), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-6), (Meth) acrylic acid / copolymer of formula (I-7), (meth) acrylic acid / copolymer of formula (I-8), (meth) acrylic acid / copolymer of formula (I-9), (meth) acrylic acid / Copolymer of formula (I-10), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-11), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-12), (meth) acrylic acid / formula (I-13 ), Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-14), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-15), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-1), Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-2), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-3), and copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-4) Polymer, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-5), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-6), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-7), (meth) Copolymer of acrylic acid / formula (II-8), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-9), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-10), (meth) acrylic acid / formula (II -11) copolymer, (meth) acrylic acid / copolymer of formula (II-12), (meth) acrylic acid / copolymer of formula (II-13), (meth) acrylic acid / air of formula (II-14) Copolymer, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-15), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II-1), (meth) acrylic acid / formula (I-2) / Copolymer of formula (II-2), (meth) acrylic acid / formula (I-3) / copolymer of formula (II-3), (meth) acrylic acid / formula (I-4) / formula (II-4 Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-5) / formula (II-5), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-6) / formula (II-6) (Meth) acrylic acid / formula (I-7) / formula (II-7) Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-8) / formula (II-8), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-9) / formula (II-9), (meth ) Acrylic acid / copolymer of formula (I-10) / formula (II-10), (meth) acrylic acid / copolymer of formula (I-11) / formula (II-11), (meth) acrylic acid / formula (I -12) / copolymer of formula (II-12), (meth) acrylic acid / copolymer of formula (I-13) / formula (II-13), (meth) acrylic acid / formula (I-14) / formula ( Copolymer of (II-14), copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-15) / formula (II-15), and air of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (I-7) Copolymer, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II-7), copolymer of crotonic acid / formula (I-1), copolymer of crotonic acid / formula (I-2), Crotonic acid / copolymer of formula (I-3), crotonic acid / copolymer of formula (I-4), crotonic acid / copolymer of formula (I-5), air of crotonic acid / formula (I-6) Copolymer, copolymer of crotonic acid / formula (I-7), copolymerization of crotonic acid / formula (I-8) Sieve, copolymer of crotonic acid / formula (I-9), copolymer of crotonic acid / formula (I-10), copolymer of crotonic acid / formula (I-11), crotonic acid / formula (I-12) Copolymer of, crotonic acid / copolymer of formula (I-13), copolymer of crotonic acid / formula (I-14), copolymer of crotonic acid / formula (I-15), crotonic acid / formula (II- Copolymer of 1), copolymer of crotonic acid / formula (II-2), copolymer of crotonic acid / formula (II-3), copolymer of crotonic acid / formula (II-4), crotonic acid / formula ( II-5) copolymer, crotonic acid / copolymer of formula (II-6), crotonic acid / copolymer of formula (II-7), crotonic acid / copolymer of formula (II-8), crotonic acid / Copolymer of formula (II-9), copolymer of crotonic acid / formula (II-10), copolymer of crotonic acid / formula (II-11), copolymer of crotonic acid / formula (II-12), croton Copolymer of acid / formula (II-13), copolymer of crotonic acid / formula (II-14), copolymer of crotonic acid / formula (II-15), copolymerization of maleic acid / formula (I-1) , Copolymer of maleic acid / formula (I-2), copolymer of maleic acid / formula (I-3), copolymer of maleic acid / formula (I-4), maleic acid / formula (I-5) Copolymer, maleic acid / copolymer of formula (I-6), maleic acid / copolymer of formula (I-7), maleic acid / copolymer of formula (I-8), maleic acid / formula (I-9) ), Copolymer of maleic acid / formula (I-10), copolymer of maleic acid / formula (I-11), copolymer of maleic acid / formula (I-12), maleic acid / formula (I) -13) copolymer, maleic acid / copolymer of formula (I-14), maleic acid / copolymer of formula (I-15), maleic acid / copolymer of formula (II-1), maleic acid / formula Copolymer of (II-2), copolymer of maleic acid / formula (II-3), copolymer of maleic acid / formula (II-4), copolymer of maleic acid / formula (II-5), maleic acid / Copolymer of formula (II-6), maleic acid / copolymer of formula (II-7), maleic acid / copolymer of formula (II-8), maleic acid / copolymer of formula (II-9), Maleic acid / copolymer of formula (II-10), maleic acid / copolymer of formula (II-11) Polymer, maleic acid / copolymer of formula (II-12), maleic acid / copolymer of formula (II-13), maleic acid / copolymer of formula (II-14), maleic acid / formula (II-15) Copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-1), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-2), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / Copolymer of formula (I-3), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / copolymer of formula (I-4), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / copolymer of formula (I-5), ( Copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-6), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-7), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I- 8) copolymer, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / copolymer of formula (I-9), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / copolymer of formula (I-10), (meth) acrylic acid / male Acid anhydride / copolymer of formula (I-11), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / Copolymer of (I-12), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-13), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-14), (meth) Copolymer of acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-15), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-2) Copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-3), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-4), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / Copolymer of formula (II-5), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / copolymer of formula (II-6), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / copolymer of formula (II-7), ( Copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-8), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-9), (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II- 10) copolymer, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / Copolymer of (II-11), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-12), copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-13), (meth) The copolymer of acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-14), the copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-15), etc. are mentioned.

중합체 [A2] 의 구체예로는, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-2)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-3)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-4)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-5)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-6)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-7)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-8)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-9)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-10)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-11)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-12)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-13)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-14)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-15)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-2)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-3)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-4)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-5)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-6)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-7)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-8)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-9)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-10)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-11)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-12)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-13)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-14)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-15)/메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/페닐(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/말레산디에틸의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/말레산디에틸의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/말레산디에틸의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/말레산디에틸의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/말레산디에틸의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/말레산디에틸의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/말레산디에틸의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/말레산디에틸의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/말레산디에틸의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/말레산디에틸의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/말레산디에틸의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/비시클로[2.2.1]헵토-2-엔의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/스티렌의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/스티렌의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/스티렌의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, 말레산/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅰ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅰ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, 크로톤산/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, 말레산/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/말레산 무수물/식 (Ⅱ-1)/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체, (메트)아크릴산/식 (Ⅱ-1)/메틸(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/스티렌의 공중합체 등을 들 수 있다.As a specific example of polymer [A2], the copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-2) / methyl (meth) acrylate Copolymer of, (meth) acrylic acid / copolymer of formula (I-3) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-4) / methyl (meth) acrylate, (meth A copolymer of acrylic acid / formula (I-5) / methyl (meth) acrylate, a copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-6) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I) -7) / copolymer of methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-8) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-9) / methyl ( Copolymer of (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-10) / methyl (meth) acrylate, and air of (meth) acrylic acid / formula (I-11) / methyl (meth) acrylate Copolymer, (meth) acrylic acid / formula (I-12) / methyl (meth) Copolymer of methacrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-13) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-14) / methyl (meth) acrylate, Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-15) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-1) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula Copolymer of (II-2) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-3) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (II-4) / Copolymer of methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-5) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (II-6) / methyl (meth) acrylate Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-7) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-8) / methyl (meth) acrylate, (meth ) Acrylic acid / formula (II-9) / methyl (meth) Copolymer of methacrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-10) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-11) / methyl (meth) acrylate, Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-12) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-13) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula Copolymer of (II-14) / methyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-15) / methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / Copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-1) / dicyclopentanyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula ( Copolymer of II-1) / dicyclopentanyl (meth) acrylate, copolymer of crotonic acid / formula (I-1) / dicyclopentanyl (meth) acrylate, maleic acid / formula (I-1) / dish Clofentanil (meth) acrylic Copolymer of meth, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-1) / dicyclopentanyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylic Copolymer of rate / dicyclopentanyl (meth) acrylate, copolymer of crotonic acid / formula (II-1) / dicyclopentanyl (meth) acrylate, maleic acid / formula (II-1) / dicyclopentanyl ( Copolymer of (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1) / dicyclopentanyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (II-1) / methyl ( Copolymer of meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / phenyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (II-1) Copolymer of / phenyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II-1) / phenyl (meth) acrylate, crotonic acid / formula (I-1) / Phenyl (meth) ah Copolymer of malate, copolymer of maleic acid / formula (I-1) / phenyl (meth) acrylate, air of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-1) / phenyl (meth) acrylate Copolymer, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate, copolymer of crotonic acid / formula (II-1) / phenyl (meth) acrylate , Copolymer of maleic acid / formula (II-1) / phenyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1) / phenyl (meth) acrylate, (meth) Copolymer of acrylic acid / formula (II-1) / methyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / diethyl maleate, (meth) acrylic acid / Copolymer of formula (II-1) / diethyl maleate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II-1) / diethyl maleate, crotonic acid / formula (I-1) / Copolymer of diethyl maleate, maleic acid / formula (I-1) / maleic acid Copolymer of diethyl, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-1) / diethyl maleate, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylate / maleic acid Copolymer of ethyl, copolymer of crotonic acid / formula (II-1) / diethyl maleate, copolymer of maleic acid / formula (II-1) / diethyl maleate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula ( Copolymer of II-1) / diethyl maleate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-1) / methyl (meth) acrylate / diethyl maleate, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / Copolymer of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-1 ) / Copolymer of formula (II-1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, crotonic acid / copolymer of formula (I-1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, maleic acid / Formula (I-1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylic Copolymer of meth, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth Copolymer of acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, copolymer of crotonic acid / formula (II-1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, maleic acid / formula Copolymer of (2) -hydroxyethyl (meth) acrylate, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1) / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / Copolymer of formula (II-1) / methyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / bicyclo [2.2.1] hepto- Copolymer of 2-ene, (meth) acrylic acid / copolymer of formula (II-1) / bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II -1) / copolymer of bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, crotonic acid / formula (I-1) / bicycle Copolymer of rho [2.2.1] hepto-2-ene, maleic acid / copolymer of formula (I-1) / bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / Copolymer of formula (I-1) / bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylate / bicyclo [2.2.1] hepto Copolymer of 2-ene, crotonic acid / formula (II-1) / bicyclo [2.2.1] copolymer of hepto-2-ene, maleic acid / formula (II-1) / bicyclo [2.2.1 ] Copolymer of hepto-2-ene, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1) / bicyclo [2.2.1] copolymer of hepto-2-ene, (meth) acrylic acid / formula (II -1) / methyl (meth) acrylate / bicyclo [2.2.1] hepto-2-ene copolymer, (meth) acrylic acid / copolymer of formula (I-1) / N-cyclohexylmaleimide, ( Copolymer of (meth) acrylic acid / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide, Crotonic Acid / Formula (I-1) / N-cyclohexylmale Copolymer of mid, copolymer of maleic acid / formula (I-1) / N-cyclohexylmaleimide, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I-1) / N-cyclohexylmaleimide Copolymers of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide, copolymers of crotonic acid / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide, Copolymer of maleic acid / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide, (meth) acrylic acid Copolymer of / formula (II-1) / methyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / styrene, (meth) acrylic acid / formula (II -1) / copolymer of styrene, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II-1) / styrene, copolymer of crotonic acid / formula (I-1) / styrene, maleic acid / Copolymer of formula (I-1) / styrene, (meth) acrylic acid / horse Copolymer of leric anhydride / formula (I-1) / styrene, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylate / styrene, crotonic acid / formula (II-1) / styrene Copolymer of, copolymer of maleic acid / formula (II-1) / styrene, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1) / styrene, (meth) acrylic acid / formula (II-1) Copolymer of () / methyl (meth) acrylate / styrene, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / N-cyclohexylmaleimide / styrene, (meth) acrylic acid / formula (II-1) / Copolymer of N-cyclohexylmaleimide / styrene, copolymer of (meth) acrylic acid / formula (I-1) / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide / styrene, crotonic acid / formula (I- 1) / N-cyclohexyl maleimide / styrene copolymer, maleic acid / formula (I-1) / N-cyclohexyl maleimide / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (I- 1) / N-cyclohexylmaleimide / styrene copolymer, (meth A copolymer of acrylic acid / formula (I-1) / methyl (meth) acrylate / N-cyclohexyl maleimide / styrene, copolymer of crotonic acid / formula (II-1) / N-cyclohexyl maleimide / styrene , Copolymer of maleic acid / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide / styrene, copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / formula (II-1) / N-cyclohexylmaleimide / styrene And copolymers of (meth) acrylic acid / formula (II-1) / methyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / styrene.

중합체 (A) 의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3,000 ? 100,000 이며, 보다 바람직하게는 5,000 ? 50,000 이고, 더욱 바람직하게는 5,000 ? 25,000 이며, 특히 바람직하게는 5,000 ? 15,000 이다. 중합체 (A) 의 중량 평균 분자량이 상기의 범위에 있으면, 도포성이 양호해지는 경향이 있다.The weight average molecular weight of polystyrene conversion of a polymer (A) becomes like this. Preferably it is 3,000? 100,000, more preferably 5,000? 50,000, more preferably 5,000? 25,000, particularly preferably 5,000? 15,000. If the weight average molecular weight of a polymer (A) exists in the said range, there exists a tendency for applicability | paintability to become favorable.

중합체 (A) 의 분자량 분포 [중량 평균 분자량 (Mw)/수 평균 분자량 (Mn)] 은, 바람직하게는 1.1 ? 6.0 이며, 보다 바람직하게는 1.2 ? 4.0 이다. 분자량 분포가 상기의 범위에 있으면, 얻어지는 도포막은 내약품성이 우수한 경향이 있다.The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of the polymer (A) becomes like this. 6.0, more preferably 1.2? 4.0. When molecular weight distribution exists in the said range, the coating film obtained tends to be excellent in chemical resistance.

중합체 (A) 의 산가는 바람직하게는 30 ㎎-KOH/g 이상 180 ㎎-KOH/g 이하이며, 보다 바람직하게는 40 ㎎-KOH/g 이상 150 ㎎-KOH/g 이하, 특히 바람직하게는 50 ㎎-KOH/g 이상 135 ㎎-KOH/g 이하이다. 여기서 산가는 중합체 1 g 을 중화하기 위해서 필요한 수산화칼륨의 양 (㎎) 으로서 측정되는 값으로, 수산화칼륨 수용액을 이용하여 적정함으로써 구할 수 있다. 중합체 (A) 의 산가가 상기의 범위에 있으면, 얻어지는 도포막은 기판과의 밀착성이 우수한 경향이 있다.The acid value of the polymer (A) is preferably 30 mg-KOH / g or more and 180 mg-KOH / g or less, more preferably 40 mg-KOH / g or more and 150 mg-KOH / g or less, particularly preferably 50 It is more than mg-KOH / g and 135 mg-KOH / g or less. The acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the polymer, and can be obtained by titration using an aqueous potassium hydroxide solution. When the acid value of a polymer (A) exists in said range, the coating film obtained tends to be excellent in adhesiveness with a board | substrate.

중합체 (A) 의 함유량은 중합체 (A) 의 함유량과 에폭시 수지 (B) 의 함유량의 합계량에 대하여, 바람직하게는 50 ? 99 질량%, 보다 바람직하게는 60 ? 95 질량% 이다. 중합체 (A) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 얻어지는 도포막은 기판과의 밀착성 및 내약품성이 양호해지는 경향이 있다.The content of the polymer (A) is preferably 50? To the total amount of the content of the polymer (A) and the content of the epoxy resin (B). 99 mass%, More preferably, it is 60? 95 mass%. When content of a polymer (A) exists in said range, the coating film obtained tends to become favorable adhesiveness and chemical-resistance with a board | substrate.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 글리시딜에테르형 에폭시 수지 및 글리시딜에스테르형 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 에폭시 수지 (B) (이하, 「에폭시 수지 (B)」라고 하는 경우가 있다) 를 함유한다.Curable resin composition of this invention is a case where at least 1 sort (s) of epoxy resin (B) chosen from group which consists of glycidyl ether type epoxy resin and glycidyl ester type epoxy resin (hereinafter, "epoxy resin (B)"). There is).

글리시딜에테르형 에폭시 수지는, 글리시딜에테르 구조를 갖는 에폭시 수지로서, 페놀류나 다가 알코올 등과 에피클로르하이드린을 반응시킴으로써 합성할 수 있다.The glycidyl ether type epoxy resin is an epoxy resin having a glycidyl ether structure and can be synthesized by reacting epichlorohydrin with phenols, polyhydric alcohols, or the like.

글리시딜에테르형 에폭시 수지로는, 구체적으로는, 예를 들어 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 트리스하이드록시페닐메탄형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, and o-cresol novolac type epoxy resins. And trishydroxyphenylmethane type epoxy resins.

글리시딜에스테르형 에폭시 수지는 글리시딜에스테르 구조를 갖는 에폭시 수지로서, 프탈산 유도체나 지방산 등의 카르복시기와 에피클로르하이드린을 반응시킴으로써 합성된다.A glycidyl ester type epoxy resin is an epoxy resin which has a glycidyl ester structure, and is synthesize | combined by making carboxyl groups, such as a phthalic acid derivative and a fatty acid, react with epichlorohydrin.

글리시딜에스테르형 에폭시 수지로는, 예를 들어 p-옥시벤조산, m-옥시벤조산, 테레프탈산 등의 방향족 카르복실산으로부터 유도되는 글리시딜에스테르형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin derived from aromatic carboxylic acids, such as p-oxybenzoic acid, m-oxybenzoic acid, and terephthalic acid, etc. are mentioned, for example.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 사용하는 에폭시 수지 (B) 는, 방향족 에폭시 수지인 것이 바람직하고, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 폴리페놀형 에폭시 수지 등의 글리시딜에테르형 에폭시 수지인 것이 바람직하다. 그 중에서도, 비스페놀 A 형 에폭시 수지가 특히 바람직하다.It is preferable that the epoxy resin (B) used for curable resin composition of this invention is an aromatic epoxy resin, and bisphenol-A epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, phenol novolak-type epoxy resin, o-cresol novolak-type epoxy It is preferable that it is glycidyl ether type epoxy resins, such as resin and a polyphenol type epoxy resin. Especially, a bisphenol A epoxy resin is especially preferable.

상기와 같은 글리시딜에테르형 에폭시 수지는, 종래 공지된 방법을 이용하여, 대응하는 페놀류와 에피클로르하이드린을 강알칼리의 존재하에서 축합시킴으로써 합성할 수 있다. 이러한 반응은, 당업자에게 종래 공지된 방법에 의해 실시할 수 있다. 또, 시판품을 사용해도 된다. 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 시판품으로는, JER157S70, 에피코트 1001, 에피코트 1002, 에피코트 1003, 에피코트 1004, 에피코트 1007, 에피코트 1009, 에피코트 1010, 에피코트 828 (미츠비시 화학 (주) 제조) 등을 사용할 수 있다. 비스페놀 F 형 에폭시 수지의 시판품으로는, 에피코트 807 (미츠비시 화학 (주) 제조), YDF-170 (토토 화성 (주) 제조) 등을 사용할 수 있다. 페놀 노볼락형 에폭시 수지의 시판품으로는, 에피코트 152, 에피코트 154 (미츠비시 화학 (주) 제조), EPPN-201, PPN-202 (닛폰 가야쿠 (주) 제조), DEN-438 (다우 케미컬사 제조) 등을 사용할 수 있다. o-크레졸 노볼락형 에폭시 수지의 시판품으로는, EOCN-125S, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 (닛폰 가야쿠 (주) 제조) 등을 사용할 수 있다. 폴리페놀형 에폭시 수지의 시판품으로는, 에피코트 1032H60, 에피코트 YX-4000 (미츠비시 화학 (주) 제조) 등을 사용할 수 있다.Such glycidyl ether type epoxy resins can be synthesized by condensing the corresponding phenols and epichlorhydrin in the presence of strong alkalis using a conventionally known method. Such a reaction can be performed by a method conventionally known to those skilled in the art. Moreover, you may use a commercial item. For example, as a commercial item of a bisphenol-A epoxy resin, JER157S70, Epicoat 1001, Epicoat 1002, Epicoat 1003, Epicoat 1004, Epicoat 1007, Epicoat 1009, Epicoat 1010, Epicoat 828 (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) etc. can be used. As a commercial item of a bisphenol F-type epoxy resin, Epicoat 807 (made by Mitsubishi Chemical Corporation), YDF-170 (made by Toto Chemical Co., Ltd.), etc. can be used. As a commercial item of a phenol novolak-type epoxy resin, Epicoat 152, Epicoat 154 (made by Mitsubishi Chemical Corporation), EPPN-201, PPN-202 (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), DEN-438 (Dow Chemical Company) etc. can be used. As a commercial item of o-cresol novolak-type epoxy resin, EOCN-125S, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc. can be used. . As a commercial item of a polyphenol type epoxy resin, Epicoat 1032H60, Epicoat YX-4000 (made by Mitsubishi Chemical Corporation), etc. can be used.

에폭시 수지 (B) 의 에폭시 당량은, 바람직하게는 100 ? 500 g/eq 이며, 보다 바람직하게는 150 ? 400 g/eq 이다. 여기서 에폭시 당량은 에폭시기 1 개당 에폭시 수지의 분자량에 의해 정의된다. 에폭시 당량은, 예를 들어 JIS K7236 에 규정된 방법에 의해 측정할 수 있다.The epoxy equivalent of the epoxy resin (B) is preferably 100? 500 g / eq, More preferably, it is 150? 400 g / eq. The epoxy equivalent here is defined by the molecular weight of the epoxy resin per epoxy group. Epoxy equivalent can be measured, for example by the method prescribed | regulated to JISK7236.

에폭시 수지 (B) 의 산가는, 통상 30 ㎎-KOH/g 미만이며, 10 ㎎-KOH/g 이하인 것이 보다 바람직하다.The acid value of the epoxy resin (B) is usually less than 30 mg-KOH / g, and more preferably 10 mg-KOH / g or less.

또, 에폭시 수지 (B) 의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 300 ? 10,000, 보다 바람직하게는 400 ? 6,000, 더욱 바람직하게는 500 ? 4,800 이다.Moreover, the weight average molecular weight of an epoxy resin (B) becomes like this. 10,000, more preferably 400? 6,000, more preferably 500? 4,800.

에폭시 수지 (B) 의 함유량은 중합체 (A) 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 ? 100 질량부, 보다 바람직하게는 5 ? 67 질량부이다. 에폭시 수지 (B) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 도포막의 평탄성이 우수한 경향이 있다.The content of the epoxy resin (B) is preferably 1? To 100 parts by mass of the polymer (A). 100 parts by mass, more preferably 5? 67 parts by mass. When content of an epoxy resin (B) exists in said range, it exists in the tendency for the flatness of a coating film to be excellent.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 하기 식 (1) 로 나타내는 이미다졸 화합물 (이하 「이미다졸 화합물 (C) 라고 하는 경우가 있다) 을 함유하여 이루어진다.Curable resin composition of this invention contains the imidazole compound represented by following formula (1) (Hereinafter, it may be called "imidazole compound (C).).

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00007
Figure pat00007

[식 (1) 중, R1 은 수소 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 탄소수 2 ? 5 의 시아노알킬기를 나타낸다. [In formula (1), R <1> is a hydrogen atom and C1-C. An alkyl group, a phenyl group, a benzyl group or a carbon number of 20; The cyanoalkyl group of 5 is shown.

R2 ? R4 는 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기, 페닐기, 니트로기 또는 탄소수 1 ? 20 의 아실기를 나타내고, 그 알킬기 및 그 페닐기에 함유되는 수소 원자는 하이드록시기로 치환되어 있어도 된다]R 2 ? R 4 independently of one another is a hydrogen atom, a halogen atom, carbon atoms? 20 alkyl, phenyl, nitro or C 1? 20 acyl group, and the hydrogen atom contained in the alkyl group and the phenyl group may be substituted with a hydroxy group]

탄소수 1 ? 20 의 알킬기로는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소부틸기, 부틸기, tert-부틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 헵타데실기, 운데실기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1 ? 10, 보다 바람직하게는 탄소수 1 ? 6, 특히 바람직하게는 탄소수 1 ? 4 이다.Carbon number 1? Examples of the alkyl group of 20 include methyl group, ethyl group, propyl group, isobutyl group, butyl group, tert-butyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, heptadecyl group, undecyl group and the like. These are mentioned, Preferably it is C1-C? 10, More preferably, it is C1-C? 6, particularly preferably 1? 4

탄소수 2 ? 5 의 시아노알킬기로는, 시아노메틸기, 시아노에틸기, 시아노프로필기, 시아노부틸기, 시아노펜틸기 등을 들 수 있다.Carbon number 2? Examples of the cyanoalkyl group 5 include cyanomethyl group, cyanoethyl group, cyanopropyl group, cyanobutyl group, cyanopentyl group, and the like.

할로겐 원자로는, 예를 들어 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc. are mentioned, for example.

탄소수 1 ? 20 의 아실기로는, 예를 들어 포르밀기, 아세틸기, 프로피오닐기, 이소부티릴기, 발레릴기, 이소발레릴기, 피발로일기, 라우로일기, 미리스토일기 및 스테아로일기 등을 들 수 있다. Carbon number 1? Examples of the 20 acyl group include formyl group, acetyl group, propionyl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group and stearoyl group and the like. .

R1 은 바람직하게는 수소 원자, 벤질기 또는 탄소수 2 ? 5 의 시아노알킬기이고, 보다 바람직하게는 벤질기이다.R 1 is preferably a hydrogen atom, a benzyl group or C 2? It is a cyanoalkyl group of 5, More preferably, it is a benzyl group.

R2 는 바람직하게는 서로 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기 또는 페닐기이고, 그 알킬기 및 그 페닐기에 함유되는 수소 원자는 하이드록시기로 치환되어 있어도 되고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기 또는 페닐기이며, 특히 바람직하게는 탄소수 1 ? 20 의 알킬기 또는 페닐기이다.R 2 is preferably independently of each other a hydrogen atom, carbon 1? It is an alkyl group or a phenyl group of 20, and the hydrogen atom contained in this alkyl group and this phenyl group may be substituted by the hydroxy group, More preferably, it is a hydrogen atom and C1-C? It is an alkyl group or a phenyl group of 20, Especially preferably, it is C1-C? It is an alkyl group or a phenyl group of 20.

R3 및 R4 는 바람직하게는 서로 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기 또는 페닐기이고, 그 알킬기 및 그 페닐기에 함유되는 수소 원자는 하이드록시기로 치환되어 있어도 되고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기 또는 페닐기이고, 특히 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 ? 20 의 알킬기이다.R 3 and R 4 are preferably independently of each other a hydrogen atom, C 1? It is an alkyl group or a phenyl group of 20, and the hydrogen atom contained in this alkyl group and this phenyl group may be substituted by the hydroxy group, More preferably, it is a hydrogen atom and C1-C? It is an alkyl group or a phenyl group of 20, Especially preferably, it is a hydrogen atom or C1-C? It is an alkyl group of 20.

R2 ? R4 가 이들의 기이면, 수 ㎛ 정도의 이물질이 존재하는 컬러 필터상에 도포막을 형성하여도, 이물질 상에 형성되는 원추상 돌기의 직경이 작게 되고, 또한 얻어진 도포막의 내열성에도 우수한 경향이 있다.R 2 ? If R <4> is these groups, even if a coating film is formed on the color filter in which the foreign material of several micrometers exists, the diameter of the conical protrusion formed on this foreign material will become small, and also there exists a tendency which is excellent also in the heat resistance of the obtained coating film. .

이미다졸 화합물 (C) 로는, 예를 들어 1-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-하이드록시메틸이미다졸, 2-메틸-4-하이드록시메틸이미다졸, 5-하이드록시메틸-4-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 4-하이드록시메틸-2-페닐이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-2-하이드록시메틸이미다졸, 1-벤질-4-메틸이미다졸, 1-벤질-4-메틸이미다졸, 1-벤질-4-페닐이미다졸, 1-벤질-5-하이드록시메틸이미다졸, 2-(p-하이드록시페닐)이미다졸, 1-시아노메틸-2-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-하이드록시메틸이미다졸, 2,4-디페닐이미다졸, 1-시아노메틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노메틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노메틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도 1-벤질-4-페닐이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸이 바람직하다. 이들은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.As an imidazole compound (C), for example, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-hydroxymethylimidazole, 2-methyl-4-hydroxymethylimidazole, 5-hydroxy Oxymethyl-4-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methyldi Midazole, 4-hydroxymethyl-2-phenylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-2-hydroxymethylimidazole, 1-benzyl-4-methylimidazole, 1-benzyl 4-methylimidazole, 1-benzyl-4-phenylimidazole, 1-benzyl-5-hydroxymethylimidazole, 2- (p-hydroxyphenyl) imidazole, 1-cyanomethyl- 2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-hydroxymethylimidazole, 2,4-diphenylimidazole, 1-cyanomethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanomethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanomethyl-2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole Etc. can be mentioned. Among them, 1-benzyl-4-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole are preferable. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

이미다졸 화합물 (C) 의 함유량은 중합체 (A) 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 이상 25 질량부 이하, 보다 바람직하게는 3 질량부 이상 20 질량부 이하이다. 이미다졸 화합물 (C) 의 함유량이 상기 범위내에 있으면, 수 ㎛ 정도의 이물질이 존재하는 컬러 필터상에 도포막을 형성하여도, 이물질 상에 형성되는 원추상 돌기의 직경이 작게 되는 경향이 있다.Content of an imidazole compound (C) is 1 mass part or more and 25 mass parts or less with respect to 100 mass parts of polymers (A), More preferably, they are 3 mass parts or more and 20 mass parts or less. When content of an imidazole compound (C) exists in the said range, even if a coating film is formed on the color filter in which the foreign material about several micrometers exists, there exists a tendency for the diameter of the conical protrusion formed on a foreign material to become small.

이미다졸 화합물 (C) 의 함유량은 보다 바람직하게는 3 질량부 이상 15 질량부 이하이다. 이미다졸 화합물 (C) 의 함유량이 이 범위내에 있으면, 얻어지는 도포막의 내열성에도 우수한 경향이 있다.The content of the imidazole compound (C) is more preferably 3 parts by mass or more and 15 parts by mass or less. When content of an imidazole compound (C) exists in this range, there exists a tendency which is also excellent in the heat resistance of the coating film obtained.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 아크릴로일기 및 메타크릴로일기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기 (이하, 「(메트)아크릴로일기」라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 화합물 (D) (이하, 「(메트)아크릴 화합물 (D)」라고 하는 경우가 있다) 를 함유하는 것이 바람직하다. (메트)아크릴 화합물 (D) 를 함유함으로써, 얻어지는 도포막은 내약품성이 우수한 경향이 있다.The curable resin composition of this invention has compound (D) which has at least 1 sort (s) of groups chosen from the group which consists of acryloyl group and a methacryloyl group (Hereinafter, it may be called "(meth) acryloyl group.") Hereinafter, it is preferable to contain "(meth) acryl compound (D)". The coating film obtained by containing a (meth) acryl compound (D) tends to be excellent in chemical resistance.

(메트)아크릴로일기를 1 개 갖는 (메트)아크릴 화합물 (D) 로는, 상기 (a), (b) 및 (c) 로서 예시한 화합물과 동일한 것을 들 수 있으며, 그 중에서도 (메트)아크릴산에스테르류가 바람직하다.As a (meth) acryl compound (D) which has one (meth) acryloyl group, the thing similar to the compound illustrated as said (a), (b) and (c) is mentioned, Especially, (meth) acrylic acid ester Are preferred.

(메트)아크릴로일기를 2 개 갖는 (메트)아크릴 화합물 (D) 로는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 비스페놀 A 의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 에톡시화 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에톡시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a (meth) acryl compound (D) which has two (meth) acryloyl groups, 1, 3- butanediol di (meth) acrylate, 1, 3- butanediol (meth) acrylate, and 1, 6- hexanediol di (Meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di ( Meth) acrylate, polyethylene glycol diacrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated neopentylglycol di (meth) acrylate, ethoxylated Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, etc. are mentioned.

(메트)아크릴로일기를 3 개 이상 갖는 (메트)아크릴 화합물 (D) 로는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물, 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acryl compound (D) having three or more (meth) acryloyl groups include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and tris (2-hydroxyethyl) iso. Cyanurate tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, Half of tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and acid anhydride Water, reactant of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and acid anhydride, reactant of tripentaerythritolhepta (meth) acrylate and acid anhydride, caprolactone modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, caprolactone modified Pentaerythritol tri (meth) acrylate, caprolactone modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone modified dipenta Erythritol penta (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone modified tripentaerythritol penta (meth) acrylate , Caprolactone modified tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified tripentaery Litholhepta (meth) acrylate, caprolactone modified tripentaerythritol octa (meth) acrylate, caprolactone modified pentaerythritol tri (meth) acrylate and a reaction product of an acid anhydride, caprolactone modified dipentaerythritol penta (meth The reactant of an acrylate and an acid anhydride, the reactant of a caprolactone modified tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, and an acid anhydride, etc. are mentioned.

(메트)아크릴 화합물 (D) 로는, (메트)아크릴로일기를 3 개 이상 갖는 (메트)아크릴 화합물 (D) 가 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다.As a (meth) acryl compound (D), the (meth) acryl compound (D) which has three or more (meth) acryloyl groups is preferable, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate is more preferable.

(메트)아크릴 화합물 (D) 의 함유량은 중합체 (A) 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 ? 100 질량부, 보다 바람직하게는 25 ? 70 질량부이다. (메트)아크릴 화합물 (D) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 얻어지는 도포막의 평활성, 신뢰성 및 기계 강도가 양호해지는 경향이 있다.The content of the (meth) acryl compound (D) is preferably 20? To 100 parts by mass of the polymer (A). 100 parts by mass, more preferably 25? 70 parts by mass. When content of a (meth) acryl compound (D) exists in said range, there exists a tendency for the smoothness, reliability, and mechanical strength of the coating film obtained to become favorable.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 용제 (E) 를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that curable resin composition of this invention contains a solvent (E).

용제 (E) 는 특별히 한정되지 않으며, 당해 분야에서 통상 사용되는 용제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르 용제 (분자 내에 -COO- 를 포함하고, -O- 를 포함하지 않는 용제), 에테르 용제 (분자 내에 -O- 를 포함하고, -COO- 를 포함하지 않는 용제), 에테르에스테르 용제 (분자 내에 -COO- 와 -O- 를 포함하는 용제), 케톤 용제 (분자 내에 -CO- 를 포함하고, -COO- 를 포함하지 않는 용제), 알코올 용제 (분자 내에 OH 를 포함하고, -O-, -CO- 및 -COO- 를 포함하지 않는 용제), 방향족 탄화수소 용제, 아미드 용제, 디메틸술폭사이드 등 중에서 선택하여 사용할 수 있다.Solvent (E) is not specifically limited, The solvent normally used in the said field | area can be used. For example, an ester solvent (solvent containing -COO- in a molecule and not containing -O-), an ether solvent (solvent containing -O- in a molecule and not containing -COO-), ether ester Solvent (solvent containing -COO- and -O- in the molecule), ketone solvent (solvent containing -CO- in the molecule and not containing -COO-), alcohol solvent (containing OH in the molecule,- Solvents not containing O-, -CO- and -COO-), aromatic hydrocarbon solvents, amide solvents, dimethyl sulfoxide and the like.

에스테르 용제로는, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산부틸, 2-하이드록시이소부탄산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산부틸, 부티르산이소프로필, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 시클로헥사놀아세테이트, γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.Examples of the ester solvent include methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl formate, isopentyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate and ethyl butyrate Butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, cyclohexanol acetate, γ-butyrolactone, and the like.

에테르 용제로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 아니솔, 페네톨, 메틸아니솔 등을 들 수 있다.As an ether solvent, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, tetrahydrofuran, tetrahydropyran , 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, anisole, phentol, methyl an Or a brush.

에테르에스테르 용제로는, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.As an ether ester solvent, methyl methoxy acetate, ethyl methoxy acetate, methoxy acetate, methyl ethoxy acetate, ethyl ethoxy acetate, 3-methoxy propionate, ethyl 3-methoxy propionate, 3-ethoxy propionic acid Methyl, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-methoxy-2 -Methyl methyl propionate, 2-ethoxy-2-methyl ethyl propionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol Monopropyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate , Di, and the like ethylene glycol monobutyl ether acetate.

케톤 용제로는, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 아세톤, 2-부타논, 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 4-메틸-2-펜타논, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등을 들 수 있다.As a ketone solvent, 4-hydroxy-4-methyl- 2-pentanone, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2- pentanone, Cyclopentanone, cyclohexanone, isophorone, etc. are mentioned.

알코올 용제로는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린 등을 들 수 있다.Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol and glycerin.

방향족 탄화수소 용제로는, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene, and the like.

아미드 용제로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.Examples of the amide solvents include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and the like.

이들 용제는 단독이거나 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.You may use these solvents individually or in combination of 2 or more types.

상기 용제 중 도포성, 건조성면에서 1 atm 에 있어서의 비점이 120 ℃ 이상 180 ℃ 이하인 유기 용제가 바람직하다. 그 중에서도, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부탄올 및 이들을 함유하는 혼합 용제가 바람직하다.Among the solvents, an organic solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher and 180 ° C. or lower at 1 atm is preferable in view of applicability and drying properties. Among them, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, 3-methoxybutyl acetate, 3-methoxy-1-butanol and mixed solvents containing them are preferable.

경화성 수지 조성물에 있어서의 용제 (E) 의 함유량은, 경화성 수지 조성물에 대하여 바람직하게는 60 ? 95 질량% 이며, 보다 바람직하게는 70 ? 95 질량% 이다. 바꾸어 말하면, 경화성 수지 조성물의 고형분은, 바람직하게는 5 ? 40 질량% 이며, 보다 바람직하게는 5 ? 30 질량% 이다. 여기서, 고형분이란, 경화성 수지 조성물로부터 용제 (E) 를 제거한 양을 말한다. 용제 (E) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 경화성 수지 조성물을 도포한 막의 평탄성이 높은 경향이 있다.Content of the solvent (E) in curable resin composition becomes like this. 95 mass%, More preferably, it is 70? 95 mass%. In other words, solid content of curable resin composition becomes like this. 40 mass%, More preferably, it is 5? 30 mass%. Here, solid content means the quantity which removed the solvent (E) from curable resin composition. When content of a solvent (E) exists in the said range, there exists a tendency for the flatness of the film | membrane which applied curable resin composition to be high.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 산화 방지제 (F) 를 함유하는 것이 바람직하다. 산화 방지제 (F) 로는, 예를 들어 2-tert-부틸-6-(3-tert-부틸-2-하이드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐아크릴레이트, 2-[1-(2-하이드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트, 6-[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-tert-부틸디벤즈[d, f][1,3,2]디옥사포스페핀, 3,9-비스[2-{3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀), 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 디라우릴3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴3,3'-티오디프로피오네이트, 펜타에리트리틸테트라키스(3-라우릴티오프로피오네이트), 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 3,3',3",5,5',5"-헥사-tert-부틸-a,a',a"-(메시틸렌-2,4,6-트리일)트리-p-크레졸, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. IRGANOX (등록 상표) 3114 (BASF 재팬사 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다.It is preferable that curable resin composition of this invention contains antioxidant (F). As antioxidant (F), it is, for example, 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2- [1- (2- Hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenylacrylate, 6- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl Propoxy] -2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine, 3,9-bis [2- {3- (3) -tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 2,2'-methylene Bis (6-tert-butyl-4-methylphenol), 4,4'-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 4,4'-thiobis (2-tert-butyl- 5-methylphenol), 2,2'-thiobis (6-tert-butyl-4-methylphenol), dilauryl 3,3'-thiodipropionate, dimyristyl 3,3'-thiodiprop Cypionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol tetrakis (3-laurylthiopropionate), 1,3,5- Tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 3,3 ', 3 ", 5,5 ', 5" -hexa-tert-butyl-a, a', a "-(mesitylene-2,4,6-triyl) tri-p-cresol, pentaerythritol tetrakis [3 -(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, etc. IRGANOX (registered trademark) 3114 ( You may use a commercial item, such as the BASF Japan company make.

산화 방지제 (F) 의 함유량은 중합체 (A) 100 질량부에 대하여 0.1 질량부 이상 5 질량부 이하이며, 0.5 질량부 이상 3 질량부 이하가 바람직하다. 산화 방지제 (F) 의 함유량이 상기의 범위 내이면, 얻어지는 도포막은 내열성 및 연필 경도가 우수한 경향이 있다. 산화 방지제 (F) 의 함유량이 5 질량부를 초과하면, 연필 경도가 저하될 우려가 있다.Content of antioxidant (F) is 0.1 mass part or more and 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of polymers (A), and 0.5 mass part or more and 3 mass parts or less are preferable. When content of antioxidant (F) is in the said range, the coating film obtained tends to be excellent in heat resistance and pencil hardness. When content of antioxidant (F) exceeds 5 mass parts, there exists a possibility that pencil hardness may fall.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 계면 활성제 (G) 를 함유해도 된다. 계면 활성제로는, 예를 들어 실리콘계 계면 활성제, 불소계 계면 활성제, 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면 활성제 등을 들 수 있다.Curable resin composition of this invention may contain surfactant (G). As surfactant, silicone type surfactant, a fluorochemical surfactant, silicone type surfactant which has a fluorine atom, etc. are mentioned, for example.

실리콘계 계면 활성제로는, 실록산 결합을 갖는 계면 활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 토오레 실리콘 DC3PA, 동 SH7PA, 동 DC11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 SH8400 (상품명 : 토오레?다우코닝 (주) 제조), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (신에츠 화학 공업 (주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (모멘티브?퍼포먼스?머티리얼즈 재팬 합동 회사 제조) 등을 들 수 있다.As silicone type surfactant, surfactant which has a siloxane bond is mentioned. Specifically, Toray silicone DC3PA, copper SH7PA, copper DC11PA, copper SH21PA, copper SH28PA, copper SH29PA, copper SH30PA, polyether modified silicone oil SH8400 (trade name: manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP322 , KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 Production).

불소계 계면 활성제로는, 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면 활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 플루오리너트 (등록 상표) FC430, 동 FC431 (스미토모 3M (주) 제조), 메가팩 (등록 상표) F142D, 동 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F177, 동 F183, 동 F552, 동 F553, 동 F554, 동 F555, 동 F556, 동 F558, 동 F559, 동 R30 (DIC (주) 제조), 에프탑 (등록 상표) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352 (미츠비시 머티리얼 전자 화성 (주) 제조), 서프론 (등록 상표) S381, 동 S382, 동 SC101, 동 SC105 (아사히 가라스 (주) 제조), E5844 ((주) 다이킨 파인 케미컬 연구소 제조) 등을 들 수 있다.As a fluorine type surfactant, surfactant which has a fluorocarbon chain is mentioned. Specifically, fluorine nut (registered trademark) FC430, copper FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), mega pack (registered trademark) F142D, copper F171, copper F172, copper F173, copper F177, copper F183, copper F552, Copper F553, Copper F554, Copper F555, Copper F556, Copper F558, Copper F559, Copper R30 (manufactured by DIC Corporation), F-Top (registered trademark) EF301, Copper EF303, Copper EF351, Copper EF352 (Mitsubishi Material Electronic Chemicals ( Ltd.), Supron (registered trademark) S381, S382, SSC101, SSC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Research Institute), and the like.

불소 원자를 갖는 실리콘계 계면 활성제로는, 실록산 결합 및 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면 활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팩 (등록 상표) R08, 동 BL20, 동 F475, 동 F477, 동 F443 (DIC (주) 제조) 등을 들 수 있다. 바람직하게는 메가팩 (등록 상표) F475 를 들 수 있다.As silicone type surfactant which has a fluorine atom, surfactant which has a siloxane bond and a fluorocarbon chain is mentioned. Specifically, Megapack (registered trademark) R08, Copper BL20, Copper F475, Copper F477, Copper F443 (manufactured by DIC Corporation), etc. may be mentioned. Preferably Megapack (registered trademark) F475 is mentioned.

계면 활성제 (G) 는 경화성 수지 조성물에 대하여 0.001 질량% 이상 0.2 질량% 이하이며, 바람직하게는 0.002 질량% 이상 0.1 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상 0.05 질량% 이하이다. 계면 활성제를 이 범위로 함유함으로써 도포막의 평탄성을 양호하게 할 수 있다.Surfactant (G) is 0.001 mass% or more and 0.2 mass% or less with respect to curable resin composition, Preferably they are 0.002 mass% or more and 0.1 mass% or less, More preferably, they are 0.01 mass% or more and 0.05 mass% or less. By containing surfactant in this range, flatness of a coating film can be made favorable.

본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 필요에 따라 충전제, 그 밖의 고분자 화합물, 열 라디칼 발생제, 자외선 흡수제, 연쇄 이동제, 밀착 촉진제 등의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The curable resin composition of this invention may contain additives, such as a filler, another high molecular compound, a thermal radical generating agent, a ultraviolet absorber, a chain transfer agent, and an adhesion promoter, as needed.

충전제로서 유리, 실리카, 알루미나 등을 들 수 있다.Glass, silica, alumina, etc. are mentioned as a filler.

그 밖의 고분자 화합물로서 말레이미드 수지 등의 열경화성 수지나 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.As another high molecular compound, thermosetting resins, such as a maleimide resin, thermoplastic resins, such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethyleneglycol monoalkyl ether, polyfluoroalkylacrylate, polyester, and polyurethane, etc. are mentioned.

열 라디칼 발생제로서 구체적으로는, 2,2'-아조비스(2-메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등을 들 수 있다.Specific examples of the thermal radical generator include 2,2'-azobis (2-methylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and the like.

자외선 흡수제로서 구체적으로는, 2-(3-tert-부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone and the like.

연쇄 이동제로는, 도데실메르캅탄, 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐 등을 들 수 있다.Examples of the chain transfer agent include dodecyl mercaptan, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene, and the like.

밀착 촉진제로는, 예를 들어 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-술파닐프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of adhesion promoters include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl. Methyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimeth Methoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-sulfanylpropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltri Ethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3 -Aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-aminopropyltrimeth Sisilran, and 3-aminopropyl the silane, N- phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- phenyl-3-amino propyl silane in the tree.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 광 중합 개시제를 실질적으로 함유하지 않는다. 즉, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서, 조성물 전체에 대한 광 중합 개시제의 함유량은, 예를 들어 1 질량% 미만, 바람직하게는 0.5 질량% 미만이다. 광 중합 개시제로는, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물 및 옥심 화합물 등을 들 수 있다.Curable resin composition of this invention does not contain a photoinitiator substantially. That is, in curable resin composition of this invention, content of the photoinitiator with respect to the whole composition is less than 1 mass%, for example, Preferably it is less than 0.5 mass%. As a photoinitiator, an alkyl phenone compound, a triazine compound, an acyl phosphine oxide compound, an oxime compound, etc. are mentioned.

또, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 안료 및 염료 등의 착색제를 실질적으로 함유하지 않는다. 즉, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서, 조성물 전체에 대한 착색제의 함량은, 예를 들어 1 질량% 미만, 바람직하게는, 0.5 질량% 미만이다.Moreover, curable resin composition of this invention does not contain coloring agents, such as a pigment and dye, substantially. That is, in the curable resin composition of this invention, content of the coloring agent with respect to the whole composition is less than 1 mass%, for example, Preferably it is less than 0.5 mass%.

또, 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 광로 길이가 1 ㎝ 인 석영 셀에 충전하고, 분광 광도계를 사용하여 측정 파장 400 ? 700 ㎚ 의 조건하에서 투과율을 측정한 경우, 평균 투과율이 바람직하게는 70 % 이상이고, 보다 바람직하게는 80 % 이상이다. Moreover, the curable resin composition of this invention is filled into the quartz cell whose optical path length is 1 cm, and uses a spectrophotometer, and measures wavelength 400? When the transmittance is measured under the conditions of 700 nm, the average transmittance is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 도포막으로 했을 때에, 도포막의 평균 투과율이 바람직하게는 90 % 이상이고, 보다 바람직하게는 95 % 이상이다. 이 평균 투과율은, 가열 경화 (예를 들어, 100 ? 250 ℃, 5 분 ? 3 시간) 후의 두께가 3 ㎛ 인 도포막에 대하여, 분광 광도계를 사용하여 측정 파장 400 ? 700 ㎚ 의 조건하에서 측정한 경우의 평균치이다. 이로써, 가시광 영역에서의 투명성이 우수한 도포막을 제공할 수 있다. When the curable resin composition of this invention is used as a coating film, the average transmittance of a coating film becomes like this. Preferably it is 90% or more, More preferably, it is 95% or more. This average transmittance | permeability measures the wavelength 400-degree using a spectrophotometer with respect to the coating film whose thickness after heat-hardening (for example, 100-250 degreeC, 5 minutes-3 hours) is 3 micrometers. It is the average value when it measures on 700 nm conditions. Thereby, the coating film excellent in transparency in visible region can be provided.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 중합체 (A), 에폭시 수지 (B) 및 이미다졸 화합물 (C), 필요에 따라 (메트)아크릴 화합물 (D) 나 용매, 그 밖의 첨가제 등을 종래 공지된 방법에 의해 교반하면서 혼합함으로써 제조할 수 있다. 혼합 후에는 구멍 직경 0.05 ? 1.0 ㎛ 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.Curable resin composition of this invention is a polymer (A), an epoxy resin (B), and an imidazole compound (C), if necessary, a (meth) acryl compound (D), a solvent, other additives, etc. by a conventionally well-known method. It can manufacture by mixing, stirring. After mixing, the hole diameter is 0.05? It is preferable to filter by a filter of about 1.0 micrometer.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 의해 형성되는 도포막은, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기판 상에 도포하고, 열에 의해 경화시킴으로써 제작할 수 있다.The coating film formed by the curable resin composition of this invention can be produced by apply | coating curable resin composition of this invention on a board | substrate, and hardening by heat.

기판으로는, 유리, 금속, 플라스틱 등을 들 수 있으며, 기판 상에 컬러 필터, 각종 절연막 또는 도전막, 구동 회로 등이 형성되어 있어도 된다.Glass, metal, plastic, etc. are mentioned as a board | substrate, A color filter, various insulating films or an electrically conductive film, a drive circuit, etc. may be formed on the board | substrate.

스핀 코터, 슬릿 & 스핀 코터, 슬릿 코터, 잉크젯, 롤 코터, 딥 코터 등의 다양한 도포 장치를 이용하여, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기판 상에 도포할 수 있다.The curable resin composition of this invention can be apply | coated on a board | substrate using various coating apparatuses, such as a spin coater, a slit & spin coater, a slit coater, an inkjet, a roll coater, and a dip coater.

도포 후, 진공 건조나 프리베이크를 실시하여, 용제 등의 휘발 성분을 제거하는 것이 바람직하다.It is preferable to perform vacuum drying or prebaking after application | coating and to remove volatile components, such as a solvent.

휘발 성분을 제거한 도포막을 150 ? 240 ℃ 에서, 10 ? 120 분의 포스트베이크를 실시함으로써 도포막을 형성할 수 있다.The coating film from which the volatile component was removed 150? At 240 ° C., 10? A coating film can be formed by performing a 120 minute postbaking.

이와 같이 하여 얻어지는 도포막은, 예를 들어 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치나 전자 페이퍼에 사용되는 오버코트로서 유용하다. 또, 터치 패널 등의 표시 장치용 부재에도 사용할 수 있다. 이로써, 고품질의 도포막을 구비한 표시 장치를 높은 수율로 제조할 수 있다.The coating film obtained in this way is useful as an overcoat used for a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display, or an electronic paper, for example. Moreover, it can also be used for members for display devices, such as a touch panel. Thereby, the display apparatus provided with the high quality coating film can be manufactured with high yield.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 예 중의 「% 」및 「부」는 특별한 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부이다.Hereinafter, an Example demonstrates this invention in more detail. "%" And "part" in an example are the mass% and a mass part, unless there is particular notice.

(합성예 1)(Synthesis Example 1)

환류 냉각기, 적하 깔때기 및 교반기를 구비한 플라스크 내에 질소를 0.02 ℓ/분으로 흘려 질소 분위기로 하고, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 140 부를 넣고, 교반하면서 70 ℃ 까지 가열하였다. 이어서 메타크릴산 40 부 ; 그리고 단량체 (Ⅰ-1) 및 단량체 (Ⅱ-1) 의 혼합물 {혼합물 중의 단량체 (Ⅰ-1) : 단량체 (Ⅱ-1) 의 몰비 = 50 : 50} 360 부를, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 190 부에 용해시킨 용액을 조제하고, 이 용액을, 적하 깔때기를 사용하여 4 시간에 걸쳐, 70 ℃ 로 보온한 플라스크 내에 적하하였다. In a flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, nitrogen was flowed at 0.02 L / min to form a nitrogen atmosphere, and 140 parts of diethylene glycol ethylmethyl ether was added and heated to 70 ° C while stirring. Then 40 parts of methacrylic acid; And a mixture of monomer (I-1) and monomer (II-1) {molar ratio of monomer (I-1) to monomer (II-1) in the mixture = 50:50} 360 parts of diethylene glycol ethylmethyl ether 190 parts The solution melt | dissolved in was prepared, and this solution was dripped in the flask heated to 70 degreeC over 4 hours using the dropping funnel.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

한편, 중합 개시제 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 30 부를 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 240 부에 용해시킨 용액을, 다른 적하 펌프를 사용하여 5 시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하하였다. 중합 개시제 용액의 적하가 종료된 후, 70 ℃ 에서 4 시간 유지하고, 그 후 실온까지 냉각시켜, 고형분 42.3 % 의 공중합체 (수지 Aa) 의 용액을 얻었다. 얻어진 수지 Aa 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 8000, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.91, 산가는 60 ㎎-KOH/g (고형분 환산의 산가) 이었다. 수지 Aa 는 이하의 구조 단위를 갖는다.On the other hand, the solution which melt | dissolved 30 parts of polymerization initiators 2,2'- azobis (2, 4- dimethylvaleronitrile) in 240 parts of diethylene glycol ethyl methyl ether was dripped at the flask over 5 hours using another dropping pump. It was. After completion of the dropwise addition of the polymerization initiator solution, the mixture was held at 70 ° C for 4 hours, then cooled to room temperature, to obtain a solution of a copolymer (resin Aa) having a solid content of 42.3%. As for the weight average molecular weight (Mw) of obtained resin Aa, 8000 and molecular weight distribution (Mw / Mn) were 1.91, and the acid value was 60 mg-KOH / g (acid value in terms of solid content). Resin Aa has the following structural units.

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

(합성예 2)(Synthesis Example 2)

환류 냉각기, 적하 깔때기 및 교반기를 구비한 플라스크 내에 질소를 0.02 ℓ/분으로 흘려 질소 분위기로 하고, 3-메톡시-1-부탄올 200 질량부 및 3-메톡시부틸아세테이트 105 질량부를 넣고, 교반하면서 70 ℃ 까지 가열하였다. 이어서, 메타크릴산 60 부 ; 그리고 단량체 (Ⅰ-1) 및 단량체 (Ⅱ-1) 의 혼합물 {혼합물 중의 단량체 (Ⅰ-1) : 단량체 (Ⅱ-1) 의 몰비 = 50 : 50} 240 부를, 3-메톡시부틸아세테이트 140 부에 용해시켜 용액을 조제하고, 그 용액을, 적하 깔때기를 사용하여 4 시간에 걸쳐, 70 ℃ 로 보온한 플라스크 내에 적하하였다. Into a flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, nitrogen was flowed at 0.02 L / min to a nitrogen atmosphere, 200 parts by mass of 3-methoxy-1-butanol and 105 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate were added thereto, and stirred. Heated to 70 ° C. Subsequently, 60 parts methacrylic acid; And a mixture of monomer (I-1) and monomer (II-1) {molar ratio of monomer (I-1) to monomer (II-1) in the mixture = 50:50} = 240 parts of 140 parts of 3-methoxybutyl acetate It dissolved in the solution, the solution was prepared, and the solution was dripped in the flask heated to 70 degreeC over 4 hours using the dropping funnel.

한편, 중합 개시제 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 30 부를 3-메톡시부틸아세테이트 225 부에 용해시킨 용액을, 다른 적하 깔때기를 사용하여 4 시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하하였다. 중합 개시제 용액의 적하가 종료된 후, 70 ℃ 에서 4 시간 유지하고, 그 후 실온까지 냉각시켜, 고형분 32.6 % 의 공중합체 (수지 Ab) 의 용액을 얻었다. 얻어진 수지 Ab 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 13,400, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 2.50, 산가는 113.9 ㎎-KOH/g (고형분 환산의 산가) 이었다. 수지 Ab 는, 이하의 구조 단위를 갖는다.On the other hand, the solution which melt | dissolved 30 parts of polymerization initiators 2,2'- azobis (2, 4- dimethylvaleronitrile) in 225 parts of 3-methoxybutyl acetate was dripped at the flask over 4 hours using another dropping funnel. It was. After dripping of the polymerization initiator solution was complete | finished, it hold | maintained at 70 degreeC for 4 hours, it cooled to room temperature after that, and obtained the solution of the copolymer (resin Ab) of 32.6% of solid content. The weight average molecular weight (Mw) of obtained resin Ab was 13,400, molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.50, and the acid value was 113.9 mg-KOH / g (acid value in terms of solid content). Resin Ab has the following structural units.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00010
Figure pat00010

얻어진 수지 Aa 및 수지 Ab 의 중량 평균 분자량 (Mw) 및 수 평균 분자량 (Mn) 의 측정은, GPC 법을 이용하여, 이하의 조건으로 실시하였다.The measurement of the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of obtained resin Aa and resin Ab was performed on condition of the following using GPC method.

장치 ; K2479 ((주) 시마즈 제작소 제조) Device ; K2479 (manufactured by Shimadzu Corporation)

칼럼 ; SHIMADZU Shim-pack GPC-80M column ; SHIMADZU Shim-pack GPC-80M

칼럼 온도 ; 40 ℃ Column temperature; 40 ℃

용매 ; THF (테트라히드로푸란) Solvent; THF (tetrahydrofuran)

유속 ; 1.0 ㎖/minFlow rate; 1.0 ml / min

검출기 ; RIDetector; RI

교정용 표준 물질 ; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-288, A-2500, A-500 (토소 (주) 제조) Calibration standard; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-288, A-2500, A-500 (manufactured by Tosso Corporation)

상기에서 얻어진 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 및 수 평균 분자량의 비 (Mw/Mn) 를 분자량 분포로 하였다. The ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight and number average molecular weight of polystyrene conversion obtained above was made into molecular weight distribution.

(실시예 1 ? 8 및 비교예 1)(Examples 1 to 8 and Comparative Example 1)

표 1 의 성분을 혼합하여, 경화성 수지 조성물을 얻었다.The components of Table 1 were mixed and the curable resin composition was obtained.

Figure pat00011
Figure pat00011

표 1 중에서 특별한 언급이 없는 한, 단위는 「부」이다. 중합체 (A) 의 함유 부수는, 고형분 환산의 질량부를 나타낸다.Unless otherwise specified in Table 1, the unit is "part". The containing number of a polymer (A) shows the mass part of solid content conversion.

중합체 (A) ; Aa ; 합성예에서 얻어진 수지 Aa Polymer (A); Aa; Resin Aa Obtained in Synthesis Example

중합체 (A) ; Ab ; 합성예에서 얻어진 수지 AbPolymer (A); Ab; Resin Ab Obtained in Synthesis Example

에폭시 수지 (B) : Ba : 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (JER157S70 ; 미츠비시 화학 (주) 제조) (산가 : 0.1 ㎎KOH/g, 에폭시 당량 : 210 g/eq)Epoxy Resin (B): Ba: Bisphenol A type epoxy resin (JER157S70; manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) (acid value: 0.1 mgKOH / g, epoxy equivalent: 210 g / eq)

이미다졸 화합물 (C) : Ca : 1-벤질-2-페닐이미다졸 (큐어졸 1B2PZ ; 시코쿠 화성 공업 (주) 제조)Imidazole compound (C): Ca: 1-benzyl-2-phenylimidazole (curazole 1B2PZ; Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. product)

[화학식 11][Formula 11]

Figure pat00012
Figure pat00012

이미다졸 화합물 (C) : Cb : 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 (큐어졸 2E4MZ-CN ; 시코쿠 화성 공업 (주) 제조)Imidazole Compound (C): Cb: 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole (Curazole 2E4MZ-CN; manufactured by Shikoku Chemical Co., Ltd.)

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pat00013
Figure pat00013

이미다졸 화합물 (C) : Cc : 2-에틸-4-메틸이미다졸 (큐어졸 2E4MZ ; 시코쿠 화성 공업 (주) 제조)Imidazole compound (C): Cc: 2-ethyl-4-methylimidazole (curazole 2E4MZ; Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. product)

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pat00014
Figure pat00014

(메트)아크릴 화합물 (D) : Da : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (KAYARAD (등록 상표) DPHA ; 닛폰 가야쿠 (주) 제조) (Meth) acrylic compound (D): Da: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD (registered trademark) DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

산화 방지제 (F) ; Fa ; 1,3,5-트리스(4-하이드록시-3,5-디-tert-부틸벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 (IRGANOX (등록 상표) 3114 ; BASF 재팬 (주) 제조) Antioxidant (F); Fa; 1,3,5-tris (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione ( IRGANOX (registered trademark) 3114; manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)

용제 (E) ; Ea ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 Solvent (E); Ea; Propylene glycol monomethyl ether acetate

용제 (E) ; Eb ; 3-메톡시-1-부탄올 Solvent (E); Eb; 3-Methoxy-1-butanol

용제 (E) ; Ec ; 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 Solvent (E); Ec; Diethylene glycol ethyl methyl ether

용제 (E) ; Ed ; 3-에톡시에틸프로피오네이트 Solvent (E); Ed; 3-ethoxyethylpropionate

용제 (E) ; Ee ; 3-메톡시부틸아세테이트 Solvent (E); Ee; 3-methoxybutyl acetate

용제 (E) 는 경화성 수지 조성물의 고형분량이 표 1 의 「고형분량 (%)」이 되도록 혼합하고, 용제 (E) 중의 용제 성분 (Ea) ? (Ee) 의 값은 용제 (E) 중의 질량비를 나타낸다.The solvent (E) is mixed so that the solid content of the curable resin composition becomes the "solid content (%)" in Table 1, and the solvent component (Ea) in the solvent (E)? The value of (Ee) shows the mass ratio in a solvent (E).

<점도 측정><Viscosity measurement>

얻어진 경화성 수지 조성물에 대하여, 각각 점도계 (기종 ; TV-30 ; 토키 산업 (주) 제조) 를 사용하여 점도를 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.About the obtained curable resin composition, the viscosity was measured using the viscometer (model; TV-30; Toki Sangyo Co., Ltd. product), respectively. The results are shown in Table 2.

<경화성 수지 조성물의 투과율><Transmittance of Curable Resin Composition>

얻어진 경화성 수지 조성물에 대하여, 각각 자외 가시 근적외 분광 광도계 (V-650 ; 니혼 분광 (주) 제조) (석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝) 를 사용하여, 400 ? 700 ㎚ 에 있어서의 평균 투과율 (%) 을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다. About the obtained curable resin composition, it was 400? Using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (V-650; manufactured by Nihon Spectroscopy Co., Ltd.) (quartz cell, optical path length; 1 cm), respectively. The average transmittance (%) at 700 nm was measured. The results are shown in Table 2.

<도포막의 투과율><Transmittance of Coating Film>

가로세로 2 인치의 유리 기판 (#1737 ; 코닝사 제조) 을, 중성 세제, 물 및 이소프로필알코올로 순차 세정하고 나서 건조시켰다. 이 유리 기판 상에, 경화성 수지 조성물을 포스트베이크 후의 막두께가 2.0 ㎛ 가 되도록 스핀 코트하고, 이어서 클린 오븐 중, 90 ℃ 에서 10 분간 프리베이크하였다. 그 후, 230 ℃ 에서 40 분간 포스트베이크하여 도포막을 얻었다. 얻어진 도포막에 대해, 현미 분광 측광 장치 (OSP-SP200 ; OLYMPUS 사 제조) 를 사용하여, 400 ? 700 ㎚ 에 있어서의 평균 투과율 (%) 을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다. A glass substrate (# 1737; manufactured by Corning Corporation) having a width of 2 inches was washed sequentially with a neutral detergent, water, and isopropyl alcohol, and then dried. On this glass substrate, the curable resin composition was spin-coated so that the film thickness after postbaking might be set to 2.0 micrometers, and then prebaked for 10 minutes at 90 degreeC in a clean oven. Then, it post-baked for 40 minutes at 230 degreeC, and obtained the coating film. About the obtained coating film, it used 400 micrometers using a microscopic spectrophotometer (OSP-SP200; OLYMPUS Corporation). The average transmittance (%) at 700 nm was measured. The results are shown in Table 2.

<이물질 상의 원추상 돌기의 측정><Measurement of conical protrusions on foreign matter>

직경 8 ㎛ 의 아크릴 비즈 (상품명 : 에포스타 YS77 ; (주) 닛폰 촉매 제조) 를 톨루엔에 분산시켜 0.01 % 분산액을 제조하였다. 15 ㎝ 의 사각 유리 기판에 형성된 크롬 박막 상에, 스핀 코터로 그 분산액을 도포하여, 아크릴 비즈가 점재된 시험용 기판을 얻었다.Acrylic beads having a diameter of 8 µm (trade name: Eposta YS77; manufactured by Nippon Catalyst Co., Ltd.) were dispersed in toluene to prepare a 0.01% dispersion. The dispersion liquid was apply | coated with the spin coater on the chromium thin film formed on the 15 cm square glass substrate, and the test board | substrate with which acrylic beads were dotted was obtained.

그 시험용 기판에, 얻어진 경화성 수지 조성물을, 각각 슬릿 다이 코터 (탁자 다이-100 이토츄 산기 (주) 제조) 를 이용하여, 경화 후의 막두께가 1.5 ㎛ 가 되는 조건으로, 또한 도포 속도 70 ㎜/초로 도포하였다. 그 후, 감압 건조기 (VCD 마이크로테크 (주) 제조) 로, 감압도가 0.5 torr 에 도달할 때까지 건조시켰다. 핫 플레이트 상, 90 ℃ 에서 2 분간 프리베이크하여 추가로 건조시킨 후, 230 ℃ 에서 40 분간 포스트베이크를 실시하여 도포막을 형성하였다.Using the slit die coater (Table Die-100 Itochu Sanki Co., Ltd. product) in the obtained curable resin composition, respectively, on the test board | substrate, on the conditions that the film thickness after hardening will be 1.5 micrometer, and it is the application | coating speed of 70 mm / sec. Applied. Then, it dried in the pressure reduction dryer (made by VCD Microtech Co., Ltd.) until the pressure reduction degree reached 0.5 torr. After prebaking at 90 degreeC for 2 minutes on a hotplate, and further drying, it post-baked at 230 degreeC for 40 minutes, and formed the coating film.

얻어진 도포막에는, 하지의 시험용 기판 상에 점재되는 아크릴 비즈를 중심으로, 원추상 돌기가 형성되어 있었다. 그 돌기를 편광 현미경 (×100 배) 으로 관찰하고, 아크릴 비즈를 중심으로 한 동심원상으로 관찰되는 뉴턴 링의 최외주의 직경을 측정하였다. 최외주의 직경을 원추상 돌기의 직경으로 하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.In the obtained coating film, conical protrusions were formed centering on the acrylic beads scattered on the underlying test substrate. The protrusion was observed with a polarization microscope (× 100 times), and the diameter of the outermost circumference of the Newton ring observed in a concentric manner centered on the acrylic beads was measured. The diameter of the outermost circumference was made into the diameter of the conical protrusion. The results are shown in Table 2.

<내열성 평가><Heat resistance evaluation>

얻어진 경화성 수지 조성물을, 각각 슬릿 다이 코터 (탁자 다이-100 이토츄 산기 (주) 제조) 를 이용하여, 경화 후의 막두께가 2.0 ㎛ 가 되는 조건으로, 또한 도포 속도 120 ㎜/초로 도포하였다. 그 후, 감압 건조기 (VCD 마이크로테크 (주) 제조) 로, 감압도가 0.5 torr 에 도달할 때까지 건조시켰다. 핫 플레이트 상, 90 ℃ 에서 2 분간 프리베이크하여 추가로 건조시킨 후, 230 ℃ 에서 40 분간 포스트베이크를 실시하여 도포막을 제작하였다. 그 도포막을, 240 ℃ 의 클린 오븐 중에 4 시간 가열하여, 가열 전후의 투과율을 측정하였다. 얻어진 측정치로부터 다음 식에 따라 투과율 변화를 구하였다. 투과율 변화가 92 % 이상이면, 내열성은 양호하다고 판단할 수 있다. 결과를 표 2 에 나타낸다.The obtained curable resin composition was apply | coated at 120 mm / sec of application | coating speed also on the conditions which the film thickness after hardening becomes 2.0 micrometer using the slit die coater (made by Table Die-100 Itochu Sangyo Co., Ltd.), respectively. Then, it dried in the pressure reduction dryer (made by VCD Microtech Co., Ltd.) until the pressure reduction degree reached 0.5 torr. After prebaking at 90 degreeC for 2 minutes on a hotplate, and further drying, it post-baked at 230 degreeC for 40 minutes, and produced the coating film. The coating film was heated in a 240 degreeC clean oven for 4 hours, and the transmittance | permeability before and behind heating was measured. The transmittance change was calculated | required from the obtained measured value according to following Formula. If the transmittance change is 92% or more, it can be judged that heat resistance is good. The results are shown in Table 2.

투과율 변화 (%) = Tb/Ta × 100Permeability Change (%) = T b / T a × 100

[식 중, Tb 는 400 ㎚ 에 있어서의 가열 전의 투과율을 나타내고, Ta 는 400 ㎚ 에 있어서의 가열 후의 투과율을 나타낸다][Wherein, T b represents the transmittance before heating at 400 nm, and T a represents the transmittance after heating at 400 nm]

Figure pat00015
Figure pat00015

상기 결과로부터, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 의하면, 이물질이 존재하는 기판 상에 도포막을 형성해도 이물질 상에 형성되는 원추상 돌기의 직경은 작은 것이었다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 얻어진 도포막은, 내열성이 높은 것이 확인되었다. 이 점으로부터, 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 얻어진 도포막은, 표시 불량이 적은 액정 표시 장치의 제조에 유용함을 알 수 있다.From the said result, according to the curable resin composition of this invention, even if the coating film was formed on the board | substrate with a foreign material, the diameter of the conical protrusion formed on a foreign material was small. Moreover, it was confirmed that the coating film obtained from curable resin composition of this invention is high in heat resistance. This shows that the coating film obtained from the curable resin composition of this invention is useful for manufacture of the liquid crystal display device with few display defects.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 의하면, 수 ㎛ 정도의 이물질이 존재하는 컬러 필터 상에 도포막을 형성해도 이물질 상에 형성되는 원추상 돌기의 직경이 작다.According to the curable resin composition of this invention, even if a coating film is formed on the color filter in which the foreign material of several micrometers exists, the diameter of the conical protrusion formed on a foreign material is small.

Claims (6)

하기 (A), (B) 및 (C) 를 함유하는 경화성 수지 조성물 :
(A) 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 구조 단위와, 옥시라닐기를 갖는 불포화 화합물에서 유래하는 구조 단위를 포함하는 부가 중합체
(B) 글리시딜에테르형 에폭시 수지 및 글리시딜에스테르형 에폭시 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 에폭시 수지
(C) 식 (1) 로 나타내는 화합물
[화학식 14]
Figure pat00016

[식 (1) 중, R1 은 수소 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 탄소수 2 ? 5 의 시아노알킬기를 나타내고,
R2 ? R4 는 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ? 20 의 알킬기, 페닐기, 니트로기 또는 탄소수 1 ? 20 의 아실기를 나타내고, 그 알킬기 및 그 페닐기에 함유되는 수소 원자는 하이드록시기로 치환되어 있어도 된다].
Curable resin composition containing following (A), (B) and (C):
(A) An addition polymer containing the structural unit derived from at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride, and the unsaturated compound which has an oxiranyl group.
(B) at least one epoxy resin selected from the group consisting of glycidyl ether type epoxy resins and glycidyl ester type epoxy resins
(C) Compound represented by formula (1)
[Chemical Formula 14]
Figure pat00016

[In formula (1), R <1> is a hydrogen atom and C1-C. An alkyl group, a phenyl group, a benzyl group or a carbon number of 20; 5 represents a cyanoalkyl group,
R 2 ? R 4 independently of one another is a hydrogen atom, a halogen atom, carbon atoms? 20 alkyl, phenyl, nitro or C 1? 20 acyl group, and the hydrogen atom contained in this alkyl group and this phenyl group may be substituted by the hydroxy group].
제 1 항에 있어서,
(C) 의 함유량이 (A) 100 질량부에 대하여 1 질량부 이상 25 질량부 이하인 경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
Curable resin composition whose content of (C) is 1 mass part or more and 25 mass parts or less with respect to 100 mass parts of (A).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(A) 의 함유량이 (A) 의 함유량과 (B) 의 함유량의 합계에 대하여, 50 질량% 이상 99 질량% 이하인 경화성 수지 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Curable resin composition whose content of (A) is 50 mass% or more and 99 mass% or less with respect to the sum total of content of (A) and content of (B).
제 1 항에 있어서,
추가로, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 갖는 화합물을 함유하는 경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
Furthermore, curable resin composition containing the compound which has at least 1 sort (s) of group chosen from the group which consists of acryloyl group and methacryloyl group.
제 1 항에 기재된 경화성 수지 조성물에 의해 형성되는 도포막.The coating film formed of the curable resin composition of Claim 1. 제 5 항에 기재된 도포막을 포함하는 표시 장치.The display apparatus containing the coating film of Claim 5.
KR1020120055533A 2011-05-30 2012-05-24 Curable resin composition KR101928100B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2011-119911 2011-05-30
JP2011119911 2011-05-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120134026A true KR20120134026A (en) 2012-12-11
KR101928100B1 KR101928100B1 (en) 2018-12-11

Family

ID=47231654

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120055533A KR101928100B1 (en) 2011-05-30 2012-05-24 Curable resin composition

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6193542B2 (en)
KR (1) KR101928100B1 (en)
CN (1) CN102807778B (en)
TW (1) TWI538948B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110452601A (en) * 2019-08-24 2019-11-15 深圳市交通工程试验检测中心有限公司 A kind of road mark paint and preparation method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007182539A (en) * 2005-12-06 2007-07-19 Jsr Corp Resin composition, method for forming preventive film of color filter and preventive film of the color filter
JP2008266570A (en) * 2007-03-22 2008-11-06 Jsr Corp Thermosetting resin composition, protective film and method for forming protective film
KR20100016506A (en) * 2007-05-11 2010-02-12 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Photo- and/or thermo-curable copolymer, curable resin compositions, and cured articles

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05163331A (en) * 1991-12-13 1993-06-29 Sumitomo Chem Co Ltd Epoxy resin composition
JP2715792B2 (en) * 1992-02-13 1998-02-18 信越化学工業株式会社 Light transmitting epoxy resin composition and optical semiconductor device
TWI422601B (en) * 2007-11-29 2014-01-11 Sumitomo Chemical Co Thermosetting resin composition
KR101002736B1 (en) * 2008-08-13 2010-12-21 제일모직주식회사 Thermocurable composition for protective film of color filter, and color filter using same
TWI521300B (en) * 2008-11-18 2016-02-11 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition and display device
JP5620774B2 (en) * 2009-10-15 2014-11-05 住友化学株式会社 Resin composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007182539A (en) * 2005-12-06 2007-07-19 Jsr Corp Resin composition, method for forming preventive film of color filter and preventive film of the color filter
JP2008266570A (en) * 2007-03-22 2008-11-06 Jsr Corp Thermosetting resin composition, protective film and method for forming protective film
KR20100016506A (en) * 2007-05-11 2010-02-12 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Photo- and/or thermo-curable copolymer, curable resin compositions, and cured articles

Also Published As

Publication number Publication date
CN102807778B (en) 2017-11-07
CN102807778A (en) 2012-12-05
TWI538948B (en) 2016-06-21
KR101928100B1 (en) 2018-12-11
JP2013010939A (en) 2013-01-17
JP6193542B2 (en) 2017-09-06
TW201313816A (en) 2013-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6119167B2 (en) Curable resin composition
KR20120134024A (en) Curable resin composition
KR101779208B1 (en) Curable resin composition
KR101960832B1 (en) Curable resin composition
JP6212952B2 (en) Curable resin composition
KR101928100B1 (en) Curable resin composition
KR101811882B1 (en) Curable resin composition
KR20130050241A (en) Curable resin composition
KR102026056B1 (en) Curable resin composition
JP6819051B2 (en) Curable resin composition
KR101879456B1 (en) Curable resin composition
KR20110052977A (en) Heat curable resin composition for protective film of color filter, color filter and liquid crystal display device using thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant