KR20120121219A - Manufacturing method of printed circuit board using laser - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a printed circuit board using laser is provided to form a circuit pattern with a fine line width by forming a seed pattern using laser having a pulse width less than 1 micro second. CONSTITUTION: A substrate(100) is manufactured. The substrate includes a base material and a metal compound. The metal compound is dispersed in the base material. A seed pattern is formed by emitting laser to the substrate. The seed pattern is processed by oxygen plasma. A circuit pattern is formed by electroless-planting the seed pattern. [Reference numerals] (AA) O2 plasma processing

Description

레이저를 이용한 인쇄 회로 기판의 제조 방법{MANUFACTURING METHOD OF PRINTED CIRCUIT BOARD USING LASER}Manufacturing method of a printed circuit board using a laser {MANUFACTURING METHOD OF PRINTED CIRCUIT BOARD USING LASER}

본 발명은 인쇄 회로 기판의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 레이저를 이용한 인쇄 회로 기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a printed circuit board, and more particularly, to a method of manufacturing a printed circuit board using a laser.

정보 통신 기술과 반도체 기술의 발전에 따라 인쇄 회로 기판(Printed Circuit Board, PCB)의 수요는 꾸준히 증가하고 있다. 최종 제품의 특성에 따라 PCB의 제조 기술 또한 특화되어 가고 있는 실정이다. 또한, 최근에는 전자 기기의 고성능화 및 소형화 요구에 부응하여 전자 제품이 고밀도화 및 고성능화되고 있다.With the development of information and communication technology and semiconductor technology, the demand for printed circuit boards (PCB) is steadily increasing. PCB manufacturing technology is also becoming more specialized according to the characteristics of the final product. In addition, in recent years, in order to meet the demand for high performance and miniaturization of electronic devices, electronic products have become high density and high performance.

이와 같은 인쇄 회로 기판을 제조하기 위하여 종래에는 식각 방식(Subtractive Process)을 적용하였다. 식각 방식의 인쇄 회로 기판의 회로 패턴 형성 공정은 포토 레지스트(photoresist, PR) 적층, 노광, 현상, 에칭 및 포토 레지스트 제거의 여러 공정으로 이루어져 있어 복잡한 과정을 거쳐 수행되었다. In order to manufacture such a printed circuit board, a conventional etching method (Subtractive Process) is applied. The circuit pattern formation process of an etched printed circuit board is performed through a complex process, which consists of several processes of photoresist (PR) lamination, exposure, development, etching, and photoresist removal.

또한 식각 방식의 인쇄 회로 기판의 회로 패턴 형성 공정에 있어서, 노광을 위하여 사용되는 고정밀 마스크의 경우 고가이며, 장시간 사용시 휨 현상이 발생하는 등의 문제점이 있는 바, 고정밀 소형화 되어가는 회로 패턴을 제작하기 위하여 종래의 방법에 따라 회로 패턴을 형성하는 것은 회로 패턴의 제조 공정이 복잡할 뿐 아니라 제조 비용을 증가시키는 문제점이 있다.In addition, in the process of forming a circuit pattern of an etched printed circuit board, a high-precision mask used for exposure is expensive, and there is a problem such as a warpage that occurs when used for a long time. In order to form the circuit pattern according to the conventional method, the manufacturing process of the circuit pattern is complicated and there is a problem of increasing the manufacturing cost.

본 발명은 상술한 배경기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 레이저를 이용하여 간단하게 기판 상에 회로 패턴을 형성하는 인쇄 회로 기판의 제조 방법을 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems of the background art described above, and to provide a method of manufacturing a printed circuit board which simply forms a circuit pattern on a substrate using a laser.

또한, 레이저와 기판의 모재의 선정에 제한이 없어 제조 비용을 절감하고 제조 공정을 단순화할 수 있는 인쇄 회로 기판의 제조 방법을 제공하고자 한다.In addition, there is no limitation on the selection of the base material of the laser and the substrate to provide a method of manufacturing a printed circuit board that can reduce the manufacturing cost and simplify the manufacturing process.

본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판의 제조 방법은 모재, 상기 모재 내에 분산되어 있는 금속 화합물을 포함하는 기판을 제조하는 단계, 상기 기판 위에 레이저를 조사하여 시드 패턴을 형성하는 단계, 상기 시드 패턴에 산소 플라즈마 처리를 진행하는 단계, 상기 시드 패턴을 무전해 도금하여 회로 패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. The method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention includes the steps of manufacturing a substrate, a substrate including a metal compound dispersed in the substrate, irradiating a laser on the substrate to form a seed pattern, the seed Performing an oxygen plasma treatment on the pattern, and electroless plating the seed pattern to form a circuit pattern.

상기 레이저는 상기 기판의 모재와 상기 금속 화합물 모두에 흡수되는 파장을 가질 수 있다.The laser may have a wavelength absorbed by both the substrate and the metal compound of the substrate.

상기 레이저는 자외선 영역의 파장을 가질 수 있다.The laser may have a wavelength in the ultraviolet region.

상기 레이저는 1 펨토 초 이상의 펄스 폭 내지 1 마이크로 초 이하의 펄스 폭을 가질 수 있다.The laser may have a pulse width of 1 femtosecond or more and a pulse width of 1 microsecond or less.

상기 금속 화합물은 티탄(Ti), 철(Fe), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 망간(Mn), 스트론튬(Sr), 크롬(Cr), 구리(Cu), 코발트(Co) 중에서 선택된 어느 하나 또는 그들의 조합을 포함하는 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 탄화물일 수 있다. The metal compound is titanium (Ti), iron (Fe), zinc (Zn), antimony (Sb), nickel (Ni), aluminum (Al), manganese (Mn), strontium (Sr), chromium (Cr), copper (Cu), cobalt (Co) may be a metal oxide, metal nitride or metal carbide containing any one or a combination thereof.

상기 시드 패턴을 무전해 도금한 이후에, 상기 시드 패턴을 전해 도금하는 단계를 더 포함할 수 있다. After electroless plating the seed pattern, the method may further include electroplating the seed pattern.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 유채색 계열의 금속 화합물을 포함하는 기판 위에 형성된 시드 패턴에 산소 플라즈마 처리를 진행함으로써 유채색 계열의 금속 화합물을 포함하는 기판 위에 형성된 시드 패턴에 무전해 도금을 용이하게 진행할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the electroless plating may be easily performed on the seed pattern formed on the substrate including the chromatic metal compound by performing oxygen plasma treatment on the seed pattern formed on the substrate including the chromatic metal compound. Can be.

또한, 자외선 영역의 파장을 가지는 레이저를 사용할 수 있어 기판에 미치는 열적 영향을 최소화할 수 있다. In addition, the laser having a wavelength in the ultraviolet region can be used to minimize the thermal effect on the substrate.

또한, 1 마이크로 초 이하의 펄스 폭을 가지는 레이저를 사용하여 시드 패턴을 형성할 수 있어 미세 선폭의 회로 패턴을 형성할 수 있다. In addition, a seed pattern may be formed using a laser having a pulse width of 1 microsecond or less, thereby forming a circuit pattern having a fine line width.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판의 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 2는 기판에 설계한 레이저 조사 패턴을 도시한 사시도이다.
도 3은 기판에 레이저를 조사하는 단계를 도시한 단면도이다.
도 4는 기판에 레이저를 조사하여 형성한 시드 패턴을 도시한 사시도이다.
도 5는 기판에 레이저를 조사하여 형성한 금속 시드와 부산물을 도시한 단면도이다.
도 6은 기판에 산소 플라즈마 처리를 진행하는 단계를 도시한 단면도이다.
도 7은 기판에 무전해 도금을 진행하여 회로 패턴을 형성하는 단계를 도시한 단면도이다.
도 8은 기판에 무전해 도금을 진행하여 형성한 회로 패턴을 도시한 사시도이다.
1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing a laser irradiation pattern designed on a substrate.
3 is a cross-sectional view illustrating a step of irradiating a laser onto a substrate.
4 is a perspective view illustrating a seed pattern formed by irradiating a laser onto a substrate.
5 is a cross-sectional view showing a metal seed and a by-product formed by irradiating a laser on a substrate.
6 is a cross-sectional view showing a step of performing an oxygen plasma treatment on a substrate.
7 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a circuit pattern by performing electroless plating on a substrate.
8 is a perspective view illustrating a circuit pattern formed by performing electroless plating on a substrate.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명한다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 도면에서 나타낸 각 구성의 크기 등은 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. Parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and the size and the like of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of description and the present invention is not necessarily limited to the illustrated.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판의 제조 방법을 나타낸 순서도이고, 도 2는 기판에 설계한 레이저 조사 패턴을 도시한 사시도이고, 도 3은 기판에 레이저를 조사하는 단계를 도시한 단면도이고, 도 4는 기판에 레이저를 조사하여 형성한 시드 패턴을 도시한 사시도이고, 도 5는 기판에 레이저를 조사하여 형성한 금속 시드와 부산물을 도시한 단면도이고, 도 6은 기판에 산소 플라즈마 처리를 진행하는 단계를 도시한 단면도이고, 도 7은 기판에 무전해 도금을 진행하여 회로 패턴을 형성하는 단계를 도시한 단면도이고, 도 8은 기판에 무전해 도금을 진행하여 형성한 회로 패턴을 도시한 사시도이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view illustrating a laser irradiation pattern designed on a substrate, and FIG. 3 illustrates a step of irradiating a laser onto a substrate. 4 is a perspective view illustrating a seed pattern formed by irradiating a laser onto a substrate, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing metal seeds and by-products formed by irradiating a laser onto a substrate, and FIG. 7 is a cross-sectional view showing a step of performing a plasma treatment, Figure 7 is a cross-sectional view showing a step of forming a circuit pattern by performing an electroless plating on a substrate, Figure 8 is a circuit pattern formed by performing an electroless plating on a substrate It is a perspective view showing.

우선, 도 1 및 도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판의 제조 방법은 금속 화합물(Metalic Complex)(120)을 포함하는 기판(100)을 제조한다(S10). 기판(100)은 모재(母材)(110), 모재 내에 분산되어 있는 금속 화합물(120)을 포함한다. First, as shown in FIGS. 1 and 3, the method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention manufactures a substrate 100 including a metal complex 120 (S10). . The substrate 100 includes a base material 110 and a metal compound 120 dispersed in the base material.

모재(110)는 칩(chip)과 같은 전자 소자들이 납접될 수 있도록 열적 안정성이 우수한 물질을 사용할 수 있다. 이러한 모재(110)로는 FR-4(Flame Retardant composition 4)의 유리 에폭시(Glass Epoxy, GE), 비스말레이미드 트리아진(Bismaleimide Triazine, BT), 폴레에스테르이미드(Polyesterimide), 테프론(Teflon), 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리아미드(Polyamide, PA), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(Polybutylene Terephthalate, PBT) 및 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC)를 사용할 수 있고, 이들을 조합하여 사용할 수도 있다. The base material 110 may use a material having excellent thermal stability so that electronic devices such as a chip may be soldered. The base material 110 may include glass epoxy (GE), bismaleimide triazine (BT), polyesteresterimide, teflon, and polyimide of FR-4 (Flame Retardant composition 4). Polyimide (PI), Polyamide (PA), Polyethylene Terephthalate (PET), Polybutylene Terephthalate (PBT) and Polycarbonate (PC) can be used. It can also be used in combination.

금속 화합물(120)은 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 탄화물로서, 레이저(10)가 금속 화합물(120)에 조사될 경우 금속 시드(seed)(111)를 발생시킨다. 금속 화합물(120)은 티탄(Ti), 철(Fe), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 망간(Mn), 스트론튬(Sr), 크롬(Cr), 구리(Cu), 코발트(Co) 중에서 선택된 어느 하나 또는 그들의 조합을 포함하는 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 탄화물일 수 있다. 금속 화합물(120)의 구체적인 예로서 무채색 계열의 CuCr2O4, (CuFe)(CrFe)2O4, (NiMn)(CrFe)2O4, NiCr2O4, CuCO3 등과 유채색 계열의 Al2O3, AlN 등과 같은 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 탄화물이 대표적이나, 본 발명이 이들 금속 화합물(120)의 종류에 한정되는 것은 아니다. 유채색 계열의 금속 화합물로는 노란색의 (Ti,Sb,Ni)O2, (Ti,Sb,Ni,Co)O2, (Ti,Nb,Ni)O2, (Ti,Nb,Ni,Co)O2, (Ti,Ni,W)O2, (Ti,Fe,W)O2, 2NiO,3BaO,17TiO2, (Zn,Fe)Fe2O4, 갈색의 (Ti,Sb,Cr)O2, (Zn,Fe)(Fe,Cr)2O4, 파란색의 CoAl2O4, Co2SiO4, CoAl2O4:TiO2:Li2O, Co(Al,Cr) 2O4, (Co,Zn) 2SiO4, C32H16CuN8, 녹색의 Co2TiO4:NiO:Li2O, (Co,Ni,Zn) 2TiO4, Cr2O3:Fe2O2, C55H72O5N4Mg, C55H70O6N4Mg, 보라색의 CoLiPO4 등이 있다. The metal compound 120 is a metal oxide, metal nitride, or metal carbide, and generates a metal seed 111 when the laser 10 is irradiated onto the metal compound 120. The metal compound 120 includes titanium (Ti), iron (Fe), zinc (Zn), antimony (Sb), nickel (Ni), aluminum (Al), manganese (Mn), strontium (Sr), and chromium (Cr). It may be a metal oxide, a metal nitride or a metal carbide containing any one selected from among (Cu), cobalt (Co), or a combination thereof. As a specific example of the metal compound 120, achromatic color-based CuCr 2 O 4 , (CuFe) (CrFe) 2 O 4 , (NiMn) (CrFe) 2 O 4 , NiCr 2 O 4 , CuCO 3 and the like are colored Al 2 Metal oxides, metal nitrides, or metal carbides such as O 3 , AlN, and the like are typical, but the present invention is not limited to these kinds of metal compounds 120. Colored metal compounds include yellow (Ti, Sb, Ni) O 2 , (Ti, Sb, Ni, Co) O 2 , (Ti, Nb, Ni) O 2 , (Ti, Nb, Ni, Co) O 2 , (Ti, Ni, W) O 2 , (Ti, Fe, W) O 2 , 2NiO, 3BaO, 17TiO 2 , (Zn, Fe) Fe 2 O 4 , brown (Ti, Sb, Cr) O 2 , (Zn, Fe) (Fe, Cr) 2O 4 , blue CoAl 2 O 4 , Co 2 SiO 4 , CoAl 2 O 4 : TiO 2 : Li 2 O, Co (Al, Cr) 2 O 4 , ( Co, Zn) 2 SiO 4 , C 32 H 16 CuN 8 , green Co 2 TiO 4 : NiO: Li 2 O, (Co, Ni, Zn) 2 TiO 4 , Cr 2 O 3 : Fe 2 O 2 , C 55 H 72 O 5 N 4 Mg, C 55 H 70 O 6 N 4 Mg, purple CoLiPO 4 and the like.

금속 화합물(120)은 금속유기 파우더로 형성할 수 있으며, 금속유기 파우더는 화학적 및 열적으로 안정적이며, 폴리머 등으로 이루어진 모재(110)와 결합될 경우 혼합이 잘 된다. 또한, 본 실시예에서의 금속유기 파우더는 도전성이 없고, 레이저(10)를 조사하는 경우 금속 시드(111)가 발생하여 비로소 도전성이 생기게 된다.The metal compound 120 may be formed of a metal organic powder, and the metal organic powder is chemically and thermally stable and is mixed well when combined with the base material 110 made of a polymer or the like. In addition, the metal organic powder in the present embodiment is not conductive, and when irradiating the laser 10, the metal seed 111 is generated, and the conductivity is finally generated.

다음으로, 도 2 내지 도 4에 도시한 바와 같이, 기판(100) 위에 레이저(10)를 조사하여 기판(100) 위에 시드 패턴(12)을 형성한다(S20).Next, as shown in FIGS. 2 to 4, the seed pattern 12 is formed on the substrate 100 by irradiating the laser 10 onto the substrate 100 (S20).

이하에서 도 2 내지 도 4를 참조하여 기판(100) 상에 시드 패턴을 형성하는 단계를 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the step of forming the seed pattern on the substrate 100 will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 4.

도 2에 도시한 바와 같이, 기판(100) 상에 형성할 회로 패턴에 따라 레이저 조사 패턴(11)를 미리 설계한다. 도 2에서는 기판(100) 상의 4 지점(A, B, C 및 D)을 연결하기 위하여 대략 H 형상의 선을 따라 레이저 조사 패턴(11)을 형성하는 경우를 예시하고 있다. 레이저 발생 장치의 제어부에 레이저 조사 패턴(11)에 관한 정보를 입력하여 레이저 조사 시 설계된 레이저 조사 패턴(11)대로 회로 패턴(13)을 형성할 수 있다. As shown in FIG. 2, the laser irradiation pattern 11 is designed in advance according to a circuit pattern to be formed on the substrate 100. 2 illustrates a case in which the laser irradiation pattern 11 is formed along a substantially H-shaped line to connect four points A, B, C, and D on the substrate 100. The circuit pattern 13 may be formed according to the laser irradiation pattern 11 designed at the time of laser irradiation by inputting information about the laser irradiation pattern 11 to the controller of the laser generator.

다음으로, 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 레이저 조사 패턴(11)을 따라 레이저(10)를 조사하여 기판(100) 위에 시드 패턴(12)를 형성한다. 3 and 4, the seed pattern 12 is formed on the substrate 100 by irradiating the laser 10 along the laser irradiation pattern 11.

기판(100)에 레이저(10)를 조사하는 경우, 기판(100)에 함유된 금속 화합물(120)은 레이저(10)를 흡수하여 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 알루미늄(Al) 등의 금속 시드(111)를 발생시킨다. 따라서, 기판(100)의 시드 패턴(12)은 회로 패턴(13)을 형성할 수 있도록 무전해 도금이 가능한 상태가 된다.When the laser beam 10 is irradiated onto the substrate 100, the metal compound 120 contained in the substrate 100 absorbs the laser 10 so that copper (Cu), chromium (Cr), nickel (Ni), and aluminum are absorbed. Metal seeds 111 such as (Al) are generated. Therefore, the seed pattern 12 of the substrate 100 is in a state capable of electroless plating so as to form the circuit pattern 13.

이 때, 레이저(10)는 기판(100) 상에 시드 패턴(12)을 형성하기 위하여 조사하는 것으로서, 기판(100)의 모재(110)와 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 탄화물로 이루어진 금속 화합물(120) 모두에 흡수되는 파장을 가질 수 있다. 즉, 레이저(10)는 10nm 내지 400nm의 자외선 영역의 파장을 가질 수 있다. 레이저(10)가 자외선 영역의 파장보다 큰 파장을 가지는 경우, 레이저(10)가 모재(110)와 금속 화합물(120) 모두에 흡수되기 어렵다.At this time, the laser 10 is irradiated to form the seed pattern 12 on the substrate 100, the metal compound consisting of the base material 110 and the metal oxide, metal nitride or metal carbide of the substrate 100 ( 120) may have a wavelength absorbed by all. That is, the laser 10 may have a wavelength in the ultraviolet region of 10 nm to 400 nm. When the laser 10 has a wavelength larger than the wavelength of the ultraviolet region, the laser 10 is hardly absorbed by both the base material 110 and the metal compound 120.

이와 같이, 열선인 적외선 영역의 파장을 가지는 레이저(10)에 비해 자외선 영역의 파장을 가지는 레이저(10)를 사용함으로써 기판(100)에 미치는 열적 영향을 최소화할 수 있다. As such, the thermal effect on the substrate 100 may be minimized by using the laser 10 having the wavelength in the ultraviolet region as compared to the laser 10 having the wavelength in the infrared region, which is a hot wire.

또한, 레이저(10)는 1 펨토 초(ps) 이상의 펄스 폭 내지 1 마이크로 초(μs) 이하의 펄스 폭을 가지며, 바람직하게는 100 나노 초(ns) 이하의 펄스 폭을 가진다.Further, the laser 10 has a pulse width of 1 femtosecond (ps) or more and a pulse width of 1 microsecond (μs) or less, and preferably has a pulse width of 100 nanoseconds (ns) or less.

1 펨토 초(ps)보다 작은 펄스 폭을 가지는 레이저(10)는 제작되기 어렵고, 1 마이크로 초(μs) 보다 큰 펄스 폭을 가지는 레이저(10)는 모재(110)와 금속 화합물(120) 모두에 광화학적 반응을 일으키기 어렵다.Laser 10 having a pulse width less than 1 femtosecond (ps) is difficult to fabricate, and laser 10 having a pulse width greater than 1 microsecond (μs) is applied to both the base material 110 and the metal compound 120. It is difficult to cause photochemical reactions.

이와 같이, 레이저(10)는 모재(110)와 금속 화합물(120) 모두에 광화학적 반응을 용이하게 일으킬 수 있는 1 마이크로 초(μs) 이하의 펄스폭을 가지므로, 미세 선폭의 회로 패턴(13)을 용이하게 형성할 수 있다.As such, since the laser 10 has a pulse width of 1 microsecond or less that can easily cause photochemical reactions to both the base material 110 and the metal compound 120, the circuit pattern 13 having a fine line width ) Can be easily formed.

본원 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판의 제조 방법은 모재(110)가 레이저(10)를 흡수하여 탄소(C)와 탄화수소(CnHm) 등의 부산물(112)이 시드 패턴(12)에 형성되는 경우에도 적용가능하므로, 근적외선 영역의 파장을 가지는 레이저(10)와 무채색 계열의 금속 화합물(120)을 포함하는 기판(100)에 적용하는 경우에만 한정되지 않는다. 즉, 기판(100)의 모재(110)에는 흡수되지 않아 탄소(C)와 탄화수소(CnHm)의 부산물(112)이 시드 패턴(12)에 형성되지 않으면서, 금속 화합물(120)만 선택적으로 가열할 수 있도록, 무채색 계열의 금속 화합물(120)과 이에 흡수가 잘 되는 근적외선 영역의 파장을 가지는 레이저(10)를 사용하였으나, 본원 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판의 제조 방법에는 시드 패턴(12)에 형성되는 탄소와 탄화수소를 후속 공정에서 산소 플라즈마 처리를 진행하여 제거하므로, 유채색 계열의 금속 화합물(120)을 포함하는 기판(100)과 자외선 영역의 파장 또는 녹색 영역의 파장을 가지는 레이저(10)도 사용할 수 있다. In the method of manufacturing a printed circuit board according to the exemplary embodiment of the present invention, the substrate 110 absorbs the laser 10 so that by-products 112 such as carbon (C) and hydrocarbons (CnHm) are formed in the seed pattern 12. The present invention is applicable to the substrate 100 including the laser 10 having the wavelength of the near infrared region and the achromatic-based metal compound 120, because the present invention is applicable. That is, only the metal compound 120 is selectively heated without being absorbed by the base material 110 of the substrate 100, so that by-products 112 of carbon (C) and hydrocarbons (CnHm) are not formed in the seed pattern 12. In order to do so, the achromatic-based metal compound 120 and the laser 10 having a wavelength of the near-infrared region which are well absorbed thereto were used, but the seed pattern (a method of manufacturing a printed circuit board) Since the carbon and the hydrocarbon formed in 12) are removed by performing an oxygen plasma treatment in a subsequent process, the substrate 100 including the chromatic metal compound 120 and the laser having a wavelength in the ultraviolet region or the wavelength in the green region ( 10) can also be used.

시드 패턴(12)는 소정의 깊이를 갖는 홈 형태로 형성된다. 홈의 깊이는 5㎛ 내지 1㎜ 정도로 형성할 수 있는데, 홈의 깊이는 기판(100) 상의 레이저 조사 패턴(11)을 따라 조사되는 레이저(10)의 강도를 제어함으로써 조절할 수 있다. The seed pattern 12 is formed in a groove shape having a predetermined depth. The depth of the groove may be formed to about 5㎛ to 1mm, the depth of the groove can be adjusted by controlling the intensity of the laser 10 irradiated along the laser irradiation pattern 11 on the substrate 100.

도 5에 도시한 바와 같이, 레이저(10)의 조사 시 금속 화합물(120)뿐만 아니라 모재(110)도 레이저(10)를 흡수하여 금속 화합물(120)과 폴리이미드 등으로 이루어진 모재(110)가 모두 분해되므로 도금을 위한 구리(Cu), 크롬(Cr) 등의 금속 시드(111)뿐만 아니라 탄소(C)와 탄화수소(CnHm)등의 부산물(112)이 시드 패턴(12)에 형성된다. 이러한 탄소와 탄화수소 등의 부산물(112)은 발수 특성이 있어 시드 패턴(12)에서 무전해 도금이 이루어지는 것을 방해하게 된다. As shown in FIG. 5, when the laser 10 is irradiated, not only the metal compound 120 but also the base material 110 absorbs the laser 10 so that the base material 110 made of the metal compound 120 and polyimide is formed. Since all are decomposed, not only metal seeds 111 such as copper (Cu) and chromium (Cr) but also by-products 112 such as carbon (C) and hydrocarbons (CnHm) are formed in the seed pattern 12. The by-products 112, such as carbon and hydrocarbons, have water repellent properties, thereby preventing the electroless plating from being performed on the seed pattern 12.

다음으로, 도 6에 도시한 바와 같이, 시드 패턴(12)에 산소(O2) 플라즈마 처리를 진행하여 상기의 탄소와 탄화수소 등의 부산물(112)을 제거한다(S30). 이와 같이, 기판(100)의 시드 패턴(12)에서 금속 시드(111)만 남기고 탄소와 탄화수소 등의 부산물(112)을 제거하므로 도금이 용이해진다. Next, as shown in FIG. 6, oxygen (O 2 ) plasma treatment is performed on the seed pattern 12 to remove the by-products 112 such as carbon and hydrocarbons (S30). As such, the by-products 112, such as carbon and hydrocarbons, are removed from the seed pattern 12 of the substrate 100, leaving only the metal seed 111.

다음으로, 도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이, 시드 패턴(12)을 무전해 도금하여 기판(100) 상에 회로 패턴(13)을 형성한다(S40). 이 때, 무전해 도금의 재료로는 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au) 및 은(Ag) 등을 사용할 수 있다. 이와 같이, 기판(100)이 금속 화합물(120)을 포함함으로써 레이저 조사할 때 금속 시드(111)를 발생시키고, 이를 도금하여 시드 패턴(12) 및 회로 패턴(13)을 형성함으로써, 노광 및 에칭 공정 등이 없이 간단한 방식으로 회로 패턴(13)을 형성할 수 있게 된다.Next, as shown in FIGS. 7 and 8, the seed pattern 12 is electroless plated to form a circuit pattern 13 on the substrate 100 (S40). At this time, copper (Cu), nickel (Ni), gold (Au), silver (Ag), or the like can be used as a material for electroless plating. As such, when the substrate 100 includes the metal compound 120, the metal seed 111 is generated when the laser is irradiated, and the metal 100 is plated to form the seed pattern 12 and the circuit pattern 13. The circuit pattern 13 can be formed in a simple manner without a process or the like.

한편, 무전해 도금을 수행한 후 필요에 따라 시드 패턴(12)를 무전해 도금한 후, 추가로 전해 도금할 수도 있다. 전해 도금은 도금층을 보다 두껍게 형성하여 회로 패턴(13)을 두껍게 형성하기 위한 것으로서, 이는 필요한 회로 패턴(13)의 두께에 따라 선택적으로 수행될 수 있다.Meanwhile, after the electroless plating is performed, the seed pattern 12 may be electroless plated as necessary, followed by further electroplating. Electrolytic plating is to form a thicker plating layer to form a thick circuit pattern 13, which can be selectively performed according to the thickness of the circuit pattern 13 required.

이상에서, 본 발명을 바람직한 실시예들을 통하여 설명하였지만, 본 발명이 이들 실시예들에 한정되지는 않는다. 이와 같이 본 발명의 범위는 다음에 기재하는 특허청구범위의 기재에 의하여 결정되는 것으로, 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.In the above, the present invention has been described through preferred embodiments, but the present invention is not limited to these embodiments. As described above, the scope of the present invention is determined by the description of the claims, and various modifications and variations are possible without departing from the concept and scope of the claims. Those will easily understand.

10: 레이저 11: 레이저 조사 패턴
12: 시드 패턴 13: 회로 패턴
100: 기판 110: 모재
111: 금속 시드 112: 부산물
120: 금속 유기 복합물
10: laser 11: laser irradiation pattern
12: seed pattern 13: circuit pattern
100: substrate 110: base material
111: metal seed 112: by-product
120: Metal Organic Complex

Claims (6)

모재, 상기 모재 내에 분산되어 있는 금속 화합물을 포함하는 기판을 제조하는 단계,
상기 기판 위에 레이저를 조사하여 시드 패턴을 형성하는 단계,
상기 시드 패턴에 산소 플라즈마 처리를 진행하는 단계,
상기 시드 패턴을 무전해 도금하여 회로 패턴을 형성하는 단계,
를 포함하는 인쇄 회로 기판의 제조 방법.
Preparing a substrate comprising a base material and a metal compound dispersed in the base material,
Irradiating a laser on the substrate to form a seed pattern;
Performing an oxygen plasma treatment on the seed pattern;
Electroless plating the seed pattern to form a circuit pattern;
Method of manufacturing a printed circuit board comprising a.
제1항에 있어서,
상기 레이저는 상기 기판의 모재와 상기 금속 화합물 모두에 흡수되는 파장을 가지는 인쇄 회로 기판의 제조 방법.
The method of claim 1,
And the laser has a wavelength absorbed by both the substrate and the metal compound of the substrate.
제2항에 있어서,
상기 레이저는 자외선 영역의 파장을 가지는 인쇄 회로 기판의 제조 방법.
The method of claim 2,
And the laser has a wavelength in the ultraviolet region.
제1항에 있어서,
상기 레이저는 1 펨토 초 이상의 펄스 폭 내지 1 마이크로 초 이하의 펄스 폭을 가지는 인쇄 회로 기판의 제조 방법.
The method of claim 1,
Wherein the laser has a pulse width of at least 1 femtosecond and a pulse width of at most 1 microsecond.
제1항에 있어서,
상기 금속 화합물은 티탄(Ti), 철(Fe), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 망간(Mn), 스트론튬(Sr), 크롬(Cr), 구리(Cu), 코발트(Co) 중에서 선택된 어느 하나 또는 그들의 조합을 포함하는 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 탄화물인 인쇄 회로 기판의 제조 방법.
The method of claim 1,
The metal compound is titanium (Ti), iron (Fe), zinc (Zn), antimony (Sb), nickel (Ni), aluminum (Al), manganese (Mn), strontium (Sr), chromium (Cr), copper The manufacturing method of the printed circuit board which is a metal oxide, metal nitride, or metal carbide containing any one or combination of (Cu) and cobalt (Co).
제1항에 있어서,
상기 시드 패턴을 무전해 도금한 이후에, 상기 시드 패턴을 전해 도금하는 단계를 더 포함하는 인쇄 회로 기판의 제조 방법.
The method of claim 1,
After electroless plating the seed pattern, electroplating the seed pattern.
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