KR20120113816A - Cylindrical sputtering cathode device - Google Patents

Cylindrical sputtering cathode device Download PDF

Info

Publication number
KR20120113816A
KR20120113816A KR1020110028344A KR20110028344A KR20120113816A KR 20120113816 A KR20120113816 A KR 20120113816A KR 1020110028344 A KR1020110028344 A KR 1020110028344A KR 20110028344 A KR20110028344 A KR 20110028344A KR 20120113816 A KR20120113816 A KR 20120113816A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnet
target
sample
shaft
sputtering
Prior art date
Application number
KR1020110028344A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101298768B1 (en
Inventor
안경준
정성훈
박강일
배정운
백주열
최상대
Original Assignee
(주)에스엔텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에스엔텍 filed Critical (주)에스엔텍
Priority to KR1020110028344A priority Critical patent/KR101298768B1/en
Publication of KR20120113816A publication Critical patent/KR20120113816A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101298768B1 publication Critical patent/KR101298768B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405—Magnetron sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414—Targets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/345—Magnet arrangements in particular for cathodic sputtering apparatus
    • H01J37/3455—Movable magnets

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

PURPOSE: A cylindrical sputtering cathode apparatus is provided to prevent increase in manufacturing costs for a sputtering system by minimizing target particles transferred to a specimen during a pre-sputtering process in a simple structure. CONSTITUTION: A cylindrical sputtering cathode apparatus comprises a cylindrical target(21) which is supported on a support and allowed to rotate forwardly and reversely, a magnet(31) which is installed in the target and allowed to move toward or opposite to a specimen, a driving unit which rotates the target forwardly and reversely and rotates or holds the magnet, and a magnet supporting shaft(33) which is inserted to shaft insertion holes at both ends and provided with torque from the driving unit.

Description

원통형 스퍼터링 캐소드 장치{Cylindrical sputtering cathode device}Cylindrical sputtering cathode device

본 발명은 원통형 스퍼터링 캐소드 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마그네트의 방향을 회동시킬 수 있는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a cylindrical sputtering cathode device, and more particularly to a cylindrical sputtering cathode device capable of rotating the direction of the magnet.

스퍼터링(Sputtering)은 진공상태에서 증착물질인 타겟에 전기에너지로 가속된 기체이온을 충돌시켜서 방출된 타겟 입자를 증착 대상물(이하 설명의 편의 상 "시료"라 함)에 증착시키는 박막 증착법 중 하나이다.Sputtering is one of thin film deposition methods for depositing target particles released by colliding gas ions accelerated by electrical energy with a target, which is a deposition material in a vacuum state, to a deposition target (hereinafter referred to as "sample" for convenience of description).

이 스퍼터링 증착법은 시료에 증착되는 박막의 품질(부착력, 밀도, 균일도 등)이 매우 우수하고 대면적 증착이 용이하기 때문에, 반도체나 디스플레이 및 맴스(Mems) 등과 같은 첨단 산업분야에서 널리 활용되고 있다.
This sputtering deposition method is widely used in high-tech industries such as semiconductors, displays, and memss because of the excellent quality (adhesion, density, uniformity, etc.) of the thin film deposited on the sample and easy deposition of large areas.

일반적인 스퍼터링 증착법을 실현하는 스퍼터링 캐소드 장치의 형태는 평면형 스퍼터링 캐소드 장치와 원통형 스퍼터링 캐소드 장치로 대별된다. The types of sputtering cathode devices for realizing the general sputtering deposition method are roughly classified into planar sputtering cathode devices and cylindrical sputtering cathode devices.

이 중 평면형 스퍼터링 캐소드 장치는 전기장과 자기장이 직교하는 영역을 중심으로 플라즈마가 형성되기 때문에, 타겟의 사용시간이 증가할수록 타겟의 다른 부분은 남아 있고 플라즈마 형성 영역에서만 타겟이 모두 침식되는 현상이 발생한다. 이에 의해, 타겟이 상당히 비효율적으로 사용되는 문제점을 가지고 있었다. In the planar sputtering cathode device, since plasma is formed around an area in which the electric and magnetic fields are orthogonal to each other, as the use time of the target increases, other parts of the target remain and erosion occurs only in the plasma formation region. . This has a problem that the target is used quite inefficiently.

반면에, 원통형 스퍼터링 캐소드 장치는 마그네트와 요크가 타겟 내부에 고정되어 있는 상태에서 구동수단의 구동에 의해 타겟이 회전됨으로써, 전술한 평면형 스퍼터링 캐소드 장치와 동일한 원리로 타겟 표면에 플라즈마가 발생하여 스퍼터링 증착이 이루어진다. 이때, 타겟의 일부 영역에서만 플라즈마가 발생하더라고 타겟이 회전하기 때문에, 타겟의 외주면이 전체적으로 침식되어 타겟을 비교적 효율적으로 사용할 수 있다. On the other hand, in the cylindrical sputtering cathode apparatus, the target is rotated by the driving means while the magnet and the yoke are fixed inside the target, so that plasma is generated on the target surface by the same principle as the planar sputtering cathode apparatus described above, thereby sputtering deposition. This is done. At this time, even if plasma is generated only in a part of the target, the target rotates, so that the outer circumferential surface of the target is eroded as a whole, so that the target can be used relatively efficiently.

그런데, 종래 원통형 스퍼터링 캐소드 장치는 타겟 내부에 배치된 마그네트의 방향이 항상 시료를 향하는 방향으로 고정되기 때문에, 스퍼터링 진행 과정에서 불안정한 스퍼터링이 이루어지는 초기 예비 스퍼터링 과정에서도 타겟 입자가 시료로 전달되어 증착 품질에 영향을 미치게 된다. However, in the conventional cylindrical sputtering cathode apparatus, since the direction of the magnet disposed inside the target is always fixed in the direction toward the sample, the target particles are delivered to the sample even in the initial preliminary sputtering process in which unstable sputtering is performed during the sputtering process, thereby improving the deposition quality. Will be affected.

이에 따라, 불안정한 초기 예비 스퍼터링 과정에서 타겟 입자가 시료에 전달되는 것을 차단하기 위해서 타겟과 시료 사이에 별도의 셔터장치를 마련하는 기술이 개발된 바 있으나, 이는 셔터 및 셔터의 구동장치 등을 추가로 설치해야 하므로 스퍼터링 설비의 구조가 복잡해지고 이에 따른 스퍼터링 설비의 제작비 상승을 초래하는 문제점이 있었다. Accordingly, in order to block the transfer of the target particles to the sample during the unstable initial preliminary sputtering, a technique for providing a separate shutter device between the target and the sample has been developed, which further includes a shutter and a driving device of the shutter. Since it has to be installed, the structure of the sputtering equipment becomes complicated, and thus there is a problem of causing an increase in the manufacturing cost of the sputtering equipment.

따라서, 본 발명의 목적은 간단한 구조로 예비 스퍼터링 과정에서 타겟 입자가 시료로 전달되는 것을 최소화 할 수 있고, 스퍼터링 설비의 제작비 상승을 방지할 수 있는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치를 제공하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a cylindrical sputtering cathode device that can minimize the transfer of the target particles to the sample in the preliminary sputtering process with a simple structure, and can prevent the rise of the manufacturing cost of the sputtering equipment.

상기 목적은 본 발명에 따라, 시료를 향해 스퍼터링 증착을 행하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치에 있어서, 지지체; 상기 지지체에 정역 회전 가능하게 지지되는 원통 형상의 타겟; 상기 타겟 내부에서 상기 시료 측 방향과 시료 반대 측 방향을 향하도록 회동 가능하게 설치되는 마그네트; 상기 타겟을 정역 회전시키며, 상기 마그네트를 회동 및 회동 상태 유지시키는 구동수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치에 의해 달성된다. According to the present invention, the above object is a cylindrical sputtering cathode apparatus for performing sputter deposition toward a sample, comprising: a support; A cylindrical target supported rotatably forward and backward on the support; A magnet rotatably installed in the target side toward the sample side direction and the opposite side of the sample; And a drive means for forward and reverse rotation of the target, the drive means for rotating and maintaining the magnet in a rotating state.

여기서, 타겟의 축선 방향 양측에 결합되어 구동수단으로부터 회전력을 전달받도록 지지체에 정역 회전 가능하게 지지되며, 중심에 축삽입공이 형성된 타겟회전체와; 상기 타겟 내부에서 마그네트를 지지하며, 양단부가 상기 축삽입공에 삽입되어 상기 구동수단으로부터 회동력을 전달받는 마그네트지지축을 더 포함하는 것이 바람직하다. Here, the target rotating body is coupled to both sides in the axial direction of the target is supported so that the forward and reverse rotation to receive the rotational force from the drive means, the shaft insertion hole is formed in the center; It is preferable that the magnet further supports a magnet support shaft inside the target, the both ends of which are inserted into the shaft insertion hole to receive the rotational force from the driving means.

그리고, 구동수단은 정역구동모터와, 상기 정역구동모터의 회전축에 결합되는 원동풀리와, 타겟회전체에 결합되는 피동풀리와, 상기 원동풀리와 상기 피동풀리를 연동 가능하게 연결하는 적어도 하나의 구동력전달부재와, 타겟회전체의 축삽입공 내주면과 이에 대응하는 마그네트지지축의 외주면 사이에 개재되어 타겟회전체의 회전력을 상기 마그네트지지축의 회동력으로 전달하는 회동력전달부재와, 마그네트의 회동이 시료 측 방향과 시료 반대 측 방향 범위 내에서 이루어지도록 상기 마그네트지지축의 회동범위를 제한하는 회동범위설정유닛을 포함하는 것이 효과적이다. The driving means includes at least one driving force coupled to the stationary drive motor, the driven pulley coupled to the rotational shaft of the stationary drive motor, the driven pulley coupled to the target rotating body, and the drive pulley and the driven pulley to be interoperable. A rotational force transmission member interposed between the transmission member, the inner peripheral surface of the shaft insertion hole of the target rotating body and the outer peripheral surface of the magnet supporting shaft corresponding to the rotational force transmitting member for transmitting the rotational force of the target rotating body to the rotating force of the magnet supporting shaft, and the rotation of the magnet It is effective to include a rotation range setting unit for limiting the rotation range of the magnet support shaft to be within the lateral direction and the side opposite to the sample.

또한, 회동범위설정유닛은 마그네트지지축에 결합되며, 판면에 반경방향으로 회동각제한홈이 형성되어 있는 원판형 회동디스크와, 상기 회동디스크에 인접한 영역에 고정되어 일영역이 상기 회동각제한홈에 대해 상대 이동 가능하게 삽입된 스토퍼를 갖는 것이 보다 바람직하다. In addition, the rotation range setting unit is coupled to the magnet support shaft, the disk-shaped rotating disk is formed in the rotational angle limiting groove in the radial direction on the plate surface, and fixed to the area adjacent to the rotating disk, one area is the rotational angle limiting groove It is more preferable to have a stopper inserted so as to be movable relative to.

이때, 회동각제한홈의 양측 끝단부는 마그네트가 시료 측을 향하는 위치와 마그네트가 시료 반대 방향을 향하는 위치에 대응하는 180도 위치에 형성되는 것이 보다 효과적이다. At this time, it is more effective that both end portions of the rotation angle limiting groove are formed at a 180 degree position corresponding to the position where the magnet faces the sample side and the magnet faces the sample opposite direction.

또한, 회동각제한홈은 반원 형상의 장공으로 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the rotation angle restriction groove is preferably formed of a semi-circular long hole.

한편, 구동수단은 스퍼터링 증착 초기의 예비 스퍼터링 과정에서 마그네트를 시료 반대측 방향으로 회동시키고, 상기 예비 스퍼터링 후 마그네트를 시료 측 방향으로 회동시키는 것이 바람직하다. On the other hand, it is preferable that the driving means rotates the magnet in the opposite direction to the sample during the preliminary sputtering process in the initial stage of sputter deposition, and rotates the magnet in the sample side direction after the preliminary sputtering.

그리고, 마그네트지지축의 일단부는 축삽입공을 관통하여 지지체 측으로 연장되고, 회동디스크는 상기 마그네트지지축의 일단부에 결합되며; 스토퍼는 지지체에 고정되는 것이 효과적이다. One end of the magnet support shaft extends to the support side through the shaft insertion hole, and the rotating disk is coupled to one end of the magnet support shaft; It is effective that the stopper is fixed to the support.

이때, 타겟회전체의 축삽입공 내주면에 대응하는 마그네트지지축의 외주면에는 원주방향을 따라 회동력전달부재가 결합되는 회동력전달부재결합부가 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다. At this time, it is more preferable that the rotational force transmission member engaging portion is formed on the outer circumference of the magnet support shaft corresponding to the inner circumferential surface of the shaft insertion hole of the target rotational body to which the rotational force transmission member is coupled along the circumferential direction.

그리고, 회동력전달부재는 외측 둘레면이 타겟회전체의 축삽입공 내주면에 밀착되며, 타겟회전체의 회전에 대한 내구성을 갖는 O링인 것이 보다 효과적이다. In addition, it is more effective that the rotational force transmission member is an O-ring having an outer circumferential surface in close contact with the inner circumferential surface of the shaft insertion hole of the target rotating body, and having durability against rotation of the target rotating body.

본 발명에 따르면, 간단한 구조로 예비 스퍼터링 과정에서 타겟 입자가 시료로 전달되는 것을 최소화 할 수 있고, 스퍼터링 설비의 제작비 상승을 방지할 수 있는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치가 제공된다. According to the present invention, it is possible to minimize the transfer of the target particles to the sample in the preliminary sputtering process with a simple structure, there is provided a cylindrical sputtering cathode device that can prevent the rise of the manufacturing cost of the sputtering equipment.

도 1은 본 발명에 따른 원통형 스퍼터링 캐소드 장치의 사시도,
도 2은 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선에 따른 원통형 스퍼터링 캐소드 장치의 측단면도,
도 3은 도 1의 원통형 스퍼터링 캐소드 장치 주요부분 절취 사시도,
도 4는 도 2 및 도 3의 "A"영역 확대 단면도,
도 5 내지 도 8은 도 1 내지 도 4의 원통형 스퍼터링 캐소드 장치 작동 상태를 나타낸 단면도. 1 is a perspective view of a cylindrical sputtering cathode device according to the present invention,
FIG. 2 is a side cross-sectional view of the cylindrical sputtering cathode apparatus according to line II-II of FIG. 1;
Figure 3 is a perspective view of the main portion of the cylindrical sputtering cathode device of Figure 1
4 is an enlarged cross-sectional view of region “A” of FIGS. 2 and 3;
5 to 8 are cross-sectional views showing an operation state of the cylindrical sputtering cathode device of Figs.

이하에서는 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 대해 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 원통형 스퍼터링 캐소드 장치(1)는 타겟(21)과 마그네트(31)를 갖는 스퍼터링 유닛(3)과, 스퍼터링 유닛(3)의 타겟(21)은 회전시키고 후술할 마그네트조립체(30)는 시료(2)를 향하는 방향과 그 반대 방향으로 회동시키는 구동수단(5)을 포함한다.
As shown in FIGS. 1 to 4, the cylindrical sputtering cathode apparatus 1 according to the present invention comprises a sputtering unit 3 having a target 21 and a magnet 31, and a target 21 of the sputtering unit 3. ) Rotates and the magnet assembly 30 to be described later includes a driving means (5) for rotating in the direction toward the sample (2) and vice versa.

스퍼터링 유닛(3)은 축선 방향 양측에 마련되는 지지체(10)와, 양 지지체(10)에 대해 회전 가능하게 지지된 상태에서 구동수단(5)으로부터 전달되는 구동력에 의해 회전하는 타겟조립체(20)와, 타겟조립체(20) 내부에 마련되어 구동수단(5)으로부터 전달되는 회동력에 의해 시료(2)를 향하는 스퍼터링 방향과 시료(2) 반대 방향을 향하는 예비 스퍼터링 ??향으로 회동하는 마그네트조립체(30)를 가지고 있다.The sputtering unit 3 is a support assembly 10 provided on both sides in the axial direction, and the target assembly 20 rotates by a driving force transmitted from the driving means 5 in a state rotatably supported with respect to both supports 10. And a magnet assembly provided inside the target assembly 20 and rotating in a sputtering direction toward the sample 2 and a preliminary sputtering ?? direction opposite to the sample 2 by the rotational force transmitted from the driving means 5 ( Have 30).

지지체(10)는 후술할 타겟조립체(20)의 타겟회전체(23)를 회전 가능하게 지지한다. 이를 위해 양 지지체(10)의 중심부에는 회전체결합부(11)가 형성되어 있다. 그리고, 양측 지지체(10) 중 구동수단(5)에 인접한 일측의 지지체(10)에는 후술할 구동수단(5)의 구동력전달부재(54)가 통과하는 구동력전달개구(13)가 형성될 수 있다.The support 10 rotatably supports the target rotating body 23 of the target assembly 20 to be described later. To this end, the rotating body coupling part 11 is formed at the center of both supports 10. In addition, the driving force transmission opening 13 through which the driving force transmission member 54 of the driving means 5 to be described later may be formed in the support 10 of one side adjacent to the driving means 5 of the two support bodies 10. .

타겟조립체(20)는 외표면에 증착물질을 가지고 있는 원통형상의 타겟(21)과, 타겟(21)의 길이방향 양측에 마련되어 지지체(10)에 대해 회전 가능하게 결합되는 타겟회전체(23)를 갖는다. 타겟(21)의 내부 공간은 마그네트조립체(30)를 수용하는 공간으로 형성되며, 타겟(21)의 내부에는 스퍼터링 과정에서 발생하는 고열을 냉각하기 위한 냉각수가 순환될 수 있다. 그리고, 타겟회전체(23)는 타겟(21)의 길이방향 양측에 결합되어 타겟(21) 내부를 외부와 기밀하게 차단하면서, 지지체(10)의 회전체결합부(11)에 베어링을 개재하여 회전 가능하게 결합되어 있다. 양측 타겟회전체(23)의 중심에는 후술할 마그네트지지축(33)이 삽입되는 축삽입공(25)이 형성되어 있다. The target assembly 20 includes a cylindrical target 21 having a deposition material on an outer surface thereof, and a target rotating body 23 provided on both sides in the longitudinal direction of the target 21 to be rotatably coupled to the support 10. Have The internal space of the target 21 is formed as a space accommodating the magnet assembly 30, and a coolant for circulating the high heat generated during the sputtering process may be circulated inside the target 21. The target rotating body 23 is coupled to both sides in the longitudinal direction of the target 21 to rotate inside the target 21 in an airtight manner while being rotated through a bearing in the rotating body coupling part 11 of the support 10. Possibly combined. A shaft insertion hole 25 into which the magnet support shaft 33 to be described later is inserted is formed at the center of both target rotating bodies 23.

한편, 마그네트조립체(30)는 타겟(21) 내부에 수용되어 자기장을 형성하는 마그네트(31)와, 마그네트(31)를 지지하며 마그네트(31)가 시료(2)를 향하는 방향과 시료(2) 반대 방향을 향하는 방향으로 회동하는 마그네트지지축(33)을 포함한다. On the other hand, the magnet assembly 30 is accommodated in the target 21 to form a magnetic field 31 and the magnet 31 to support the magnet 31, the direction in which the magnet 31 toward the sample 2 and the sample (2) It includes a magnet support shaft 33 that rotates in the direction facing the opposite direction.

마그네트(31)는 타겟(21) 내부에 위치하는 마그네트지지축(33)에 결합되는데, 마그네트(31)의 결합을 위한 구성으로서 마그네트지지축(33)에 결합된 지지부재(37)와, 지지부재(37) 상에 결합된 요크(39)를 포함하며, 요크(39) 상에 마그네트(31)가 결합되는 형태로 마그네트지지축(33)에 결합된다. The magnet 31 is coupled to the magnet support shaft 33 located inside the target 21, the support member 37 coupled to the magnet support shaft 33 as a configuration for coupling the magnet 31, and the support It includes a yoke 39 coupled to the member 37, the magnet 31 is coupled to the magnet support shaft 33 in the form that the magnet 31 is coupled to the yoke 39.

마그네트지지축(33)은 타겟(21) 내부에서 타겟(21)의 중심축선 상에 설치되며, 양단부가 양측 타겟회전체(23)의 축삽입공(25)에 삽입되어 있다. 이때, 구동수단(5) 측의 타겟회전체(23) 축삽입공(25)에 삽입된 마그네트지지축(33)은 그 단부가 축삽입공(25)을 관통하여 지지체(10) 측으로 연장되어 있으며, 축삽입공(25) 내에 위치하는 마그네트지지축(33)의 외주면에는 후술할 회동력전달부재(55)가 결합되는 적어도 하나의 회동력전달부재(55)결합부(35)가 원주방향을 따라 형성되어 있다.
The magnet support shaft 33 is provided on the center axis line of the target 21 in the target 21, and both ends are inserted into the shaft insertion hole 25 of both target rotating bodies 23. As shown in FIG. At this time, the magnet support shaft 33 inserted into the target insertion body 25 of the target rotating body 23 on the driving means 5 side thereof extends toward the support 10 by passing through the shaft insertion hole 25. The outer circumferential surface of the magnet support shaft 33 positioned in the shaft insertion hole 25 has at least one rotational force transmission member 55 engaging portion 35 to which the rotational force transmission member 55 to be described later is coupled in the circumferential direction. It is formed along.

한편, 구동수단(5)은 스퍼터링 유닛(3)의 상부 영역에 설치되는 정역구동모터(51)와, 정역구동모터(51)의 회전축에 결합되는 원동풀리(52)와, 정역구동모터(51) 측에 인접한 타겟회전체(23)의 단부 둘레 영역에 결합되는 피동풀리(53)와, 원동풀리(52)와 피동풀리(53)간을 연결하여 정역구동모터(51)의 회전력을 타겟회전체(23)로 전달하는 구동력전달부재(54)와, 타겟회전체(23)의 회전력을 마그네트지지축(33)의 회동력으로 전달하는 회동력전달부재(55)와, 마그네트지지축(33)의 회동을 허용 및 제한하는 회동범위설정유닛(56)을 포함한다.On the other hand, the drive means 5 is a forward and reverse drive motor 51 is installed in the upper region of the sputtering unit 3, a motive pulley 52 coupled to the rotating shaft of the forward and reverse drive motor 51, and the forward and reverse drive motor 51 The rotational force of the forward and backward driving motor 51 is connected by connecting the driven pulley 53 and the driven pulley 52 and the driven pulley 53 coupled to the end circumferential region of the target rotating body 23 adjacent to the side). The driving force transmission member 54 which transmits to the whole 23, the rotational force transmission member 55 which transmits the rotational force of the target rotating body 23 to the rotational force of the magnet support shaft 33, and the magnet support shaft 33 Rotation range setting unit 56 for allowing and restricting rotation of the "

이 중 구동력전달부재(54)는 원동풀리(52)와 피동풀리(53)를 연결하는 폐루프 형태의 벨트 등으로 마련될 수 있다. Among these, the driving force transmitting member 54 may be provided as a closed loop belt or the like for connecting the driving pulley 52 and the driven pulley 53.

그리고, 회동력전달부재(55)는 고무재질의 링 형태로 마련되어 마그네트지지축(33)의 회동력전달부재(55)결합부(35)에 결합되는 것이 바람직하다. 이 회동력전달부재(55)는 O링일 수 있으며, 그 외주면이 타겟회전체(23)의 축삽입공(25) 내주면에 밀착된다. 이 회동력전달부재(55)는 후술할 회동범위설정유닛(56)의 작용에 의해 마그네트지지축(33)의 회동이 허용될 경우 타겟회전체(23)와 함께 마그네트지지축(33)이 회동할 수 있는 정도의 밀착력으로 타겟회전체(23)의 축삽입공(25) 내주면에 밀착된다. 또한, 이 회동력전달부재(55)는 회동범위설정유닛(56)의 작용에 의해 마그네트지지축(33)의 회동이 제한될 경우 타겟회전체(23)의 회전을 방해하지 않으면서 타겟회전체(23)의 축삽입공(25) 내주면에 밀착된 상태에서 회전력에 의한 파손이 발생하지 않을 정도의 내구성을 갖는다. In addition, the rotational force transmission member 55 is preferably provided in the form of a ring of rubber material and coupled to the rotational force transmission member 55 engaging portion 35 of the magnet support shaft 33. The rotational force transmission member 55 may be an O-ring, and its outer circumferential surface is in close contact with the inner circumferential surface of the shaft insertion hole 25 of the target rotating body 23. When the rotational force transmission member 55 is allowed to rotate the magnet support shaft 33 by the action of the rotation range setting unit 56 to be described later, the magnet support shaft 33 rotates together with the target rotating body 23. It is in close contact with the inner circumferential surface of the shaft insertion hole 25 of the target rotating body 23 with a close enough contact force. In addition, when the rotation of the magnet support shaft 33 is limited by the action of the rotation range setting unit 56, the rotational force transmission member 55 does not interfere with the rotation of the target rotational body 23 without causing the rotation of the target rotational body. In the state in close contact with the inner circumferential surface of the shaft insertion hole 25 of (23), it has durability to such a degree that damage due to rotational force does not occur.

그리고, 회동범위설정유닛(56)은 마그네트지지축(33)의 회동 범위를 형성하는 회동디스크(57)와, 회동디스크(57)의 회동을 제한하는 스토퍼(59)로 구성된다. The rotation range setting unit 56 is composed of a rotation disk 57 which forms a rotation range of the magnet support shaft 33 and a stopper 59 which restricts rotation of the rotation disk 57.

회동디스크(57)는 원형 플레이트 형상으로 가지고 있으며, 그 중앙부가 볼트 등에 의해 구동수단(5) 측에 인접한 마그네트지지축(33)의 단부에 체결된다. 그리고, 회동디스크(57)의 판면에는 반원 형상의 회동각제한홈(58)이 형성되어 있다. 이 회동각제한홈(58)은 마그네트지지축(33)의 죽선을 중심으로 반경 방향 180도 범위의 반원 형상 장공으로 형성되거나, 반원 형상의 홈으로 형성될 수 있다. The rotating disk 57 has a circular plate shape, the center portion of which is fastened to the end of the magnet support shaft 33 adjacent to the driving means 5 side by a bolt or the like. A semicircular rotating angle limiting groove 58 is formed on the plate surface of the rotating disk 57. The rotation angle limiting groove 58 may be formed as a semi-circular long hole in a radius of 180 degrees around the bamboo line of the magnet support shaft 33 or may be formed as a semi-circular groove.

스토퍼(59)는 회동디스크(57)의 회동각제한홈(58)에 일부영역이 삽입되도록 구동수단(5) 측에 인접한 지지체(10)에 고정 결합되어 있다. 이 스토퍼(59)는 회동디스크(57)의 회동시 회동각제한홈(58)의 양끝단에 걸림으로서 마그네트지지축(33)의 회동각을 180도 범위로 제한한다. The stopper 59 is fixedly coupled to the support 10 adjacent to the driving means 5 side so that a partial region is inserted into the rotation angle limiting groove 58 of the rotation disk 57. The stopper 59 is locked at both ends of the rotation angle limiting groove 58 when the rotation disk 57 is rotated to limit the rotation angle of the magnet support shaft 33 to the 180 degree range.

이때, 회동각제한홈(58)의 양측 끝단부에 스토퍼(59)가 걸리는 위치는 마그네트(31)가 시료(2) 반대 방향을 향하는 위치와, 마그네트(31)가 시료(2)를 향하는 위치에 대응한다.
At this time, the position where the stopper 59 is caught at both ends of the turning angle limiting groove 58 is the position where the magnet 31 faces the sample 2 and the position where the magnet 31 faces the sample 2. Corresponds to.

이러한 구성을 갖는 본 발명에 따른 원통형 스퍼터링 캐소드 장치(1)는 구동수단(5)의 정역회전에 따라 타겟(21)이 회전하여 스퍼터링을 진행하게 되는데, 스퍼터링 과정은 마그네트(31)가 시료(2) 반대측을 향해 위치한 상태에서 진행되는 예비 스퍼터링 과정과, 마그네트(31)가 시료(2)를 향해 위치한 상태에서 진행되는 스퍼터링 과정으로 나누어 실행할 수 있다. Cylindrical sputtering cathode device 1 according to the present invention having such a configuration is a target 21 is rotated in accordance with the forward and reverse rotation of the drive means 5 to proceed sputtering, the sputtering process is the magnet 31 is a sample (2) ) Can be divided into a preliminary sputtering process that proceeds in a state located toward the opposite side, and a sputtering process that proceeds in a state where the magnet 31 is located toward the sample 2.

먼저, 예비 스퍼터링 과정에서는 구동수단(5)의 정역구동모터(51)가 일방향으로 회전하여 마그네트(31)를 시료(2) 반대측을 향하는 방향으로 회동시킴과 동시에, 타겟(21)을 회전시켜서 예비 스퍼터링이 진행되도록 하는데, 이 과정을 도 5 및 도 6을 참고하여 자세히 살펴보면 다음과 같다. First, in the preliminary sputtering process, the forward and reverse drive motor 51 of the driving means 5 rotates in one direction, rotates the magnet 31 in the direction toward the opposite side to the sample 2, and simultaneously rotates the target 21 to preliminarily. Sputtering is performed, which will be described in detail with reference to FIGS. 5 and 6 as follows.

정역구동모터(51)가 일방향으로 회전하기 시작하면, 그 회전력이 원동풀리(52)와 구동력전달부재(54) 및 피동풀리(53)를 통해 타겟회전체(23)에 전달된다. 그러면, 타겟회전체(23)의 회전에 따라서 타겟(21)이 일방향으로 회전하기 시작함과 동시에, 회동력전달부재(55)의 밀착력에 의해 타겟회전체(23)에 밀착되어 있는 마그네트지지축(33) 역시 일방향으로 회동을 시작한다. When the forward and reverse drive motor 51 starts to rotate in one direction, the rotational force is transmitted to the target rotating body 23 through the motive pulley 52, the driving force transmitting member 54, and the driven pulley 53. Then, as the target 21 starts to rotate in one direction in accordance with the rotation of the target rotor 23, the magnet support shaft which is in close contact with the target rotor 23 by the adhesion of the rotational force transmission member 55. (33) It also starts to rotate in one direction.

이 과정에서 도 5에 도시된 바와 같이, 마그네트지지축(33)의 단부에 결합되어 있는 회동디스크(57) 역시 일방향으로 회동하게 되는데, 회동디스크(57)가 회동하는 과정에서 회동각제한홈(58)의 일측 끝단에 스토퍼(59)에 걸리게 되면 그 회동을 정지하면서 마그네트지지축(33)의 회동을 정지시킨다. 이에 의해, 마그네트(31)는 도 6에 도시된 바와 같이, 시료(2) 반대측을 향하는 방향으로 회동된 상태를 유지한다. In this process, as shown in FIG. 5, the rotating disk 57 coupled to the end of the magnet support shaft 33 also rotates in one direction, and the rotating angle limiting groove in the rotating disk 57 rotates ( When the stopper 59 is caught by one end of the end 58, the rotation of the magnet support shaft 33 is stopped while stopping the rotation thereof. Thereby, the magnet 31 maintains the state rotated in the direction toward the opposite side to the sample 2, as shown in FIG.

그리고, 타겟(21)은 지속적으로 일방향으로 회전하여 마그네트조립체(30)로부터 전달되는 전기장과 자기장에 의해 예비 스퍼터링을 진행한다. In addition, the target 21 continuously rotates in one direction and performs preliminary sputtering by an electric field and a magnetic field transmitted from the magnet assembly 30.

이와 같이, 마그네트(31)가 시료(2) 반대측을 향하는 상태에서 진행되는 예비 스퍼터링 과정은 불안정한 초기 스퍼터링 과정에서 타겟(21) 입자가 시료(2)를 향해 직접적으로 전달되지 못 함으로써, 증착 품질에 영향을 미치지 않는다.
As described above, the preliminary sputtering process in which the magnet 31 faces the opposite side of the sample 2 may not directly transfer the target 21 particles toward the sample 2 during the unstable initial sputtering process. Does not affect

한편, 예비 스퍼터링이 소정 시간동안 진행된 다음 초기 스퍼터링 과정에서 발생되는 불안정적인 요소들이 사라지면, 본격적인 스퍼터링 과정이 진행된다. Meanwhile, if preliminary sputtering is performed for a predetermined time and then unstable elements generated in the initial sputtering process disappear, a full-scale sputtering process is performed.

스퍼터링 과정에서는 구동수단(5)의 정역구동모터(51)가 타방향으로 회전하여 마그네트(31)를 시료(2) 측을 향하는 방향으로 회동시킴과 동시에, 타겟(21)을 회전시켜서 스퍼터링이 진행되도록 하는데, 이 과정을 도 7 및 도 8을 참고하여 자세히 살펴보면 다음과 같다. In the sputtering process, the forward and reverse drive motor 51 of the driving means 5 rotates in the other direction, rotates the magnet 31 in the direction toward the sample 2 side, and rotates the target 21 to sputtering. This process will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8 as follows.

정역구동모터(51)가 타방향으로 회전하기 시작하면, 그 회전력이 원동풀리(52)와 구동력전달부재(54) 및 피동풀리(53)를 통해 타겟회전체(23)에 전달된다. 그러면, 타겟회전체(23)의 회전에 따라서 타겟(21)이 타방향으로 회전하기 시작함과 동시에, 회동력전달부재(55)의 밀착력에 의해 타겟회전체(23)에 밀착되어 있는 마그네트지지축(33) 역시 타방향으로 회동을 시작한다. When the forward and reverse drive motor 51 starts to rotate in the other direction, the rotational force is transmitted to the target rotating body 23 through the motive pulley 52, the driving force transmitting member 54, and the driven pulley 53. Then, as the target 21 starts to rotate in the other direction in accordance with the rotation of the target rotating body 23, the magnet is held in close contact with the target rotating body 23 by the adhesive force of the rotational force transmitting member 55. The shaft 33 also starts to rotate in the other direction.

이 과정에서 마그네트지지축(33)의 단부에 결합되어 있는 회동디스크(57) 역시 타방향으로 회동하게 되는데, 도 7과 같이, 회동디스크(57)가 회동하는 과정에서 회동각제한홈(58)의 타측 끝단이 스토퍼(59)에 걸리게 되면 그 회동을 정지하면서 마그네트지지축(33)의 회동을 정지시킨다. 이에 의해, 마그네트(31)는 도 8과 같이, 시료(2) 측을 향하는 방향으로 회동된 상태를 유지한다. In this process, the rotating disk 57 coupled to the end of the magnet support shaft 33 is also rotated in the other direction. As shown in FIG. 7, the rotating angle limiting groove 58 is rotated in the process of rotating the rotating disk 57. When the other end of the stopper 59 is caught by the stopper 59, the rotation of the magnet support shaft 33 is stopped while stopping the rotation thereof. Thereby, the magnet 31 maintains the state rotated in the direction toward the sample 2 side like FIG.

그리고, 타겟(21)은 지속적으로 타방향으로 회전하여 마그네트조립체(30)로부터 전달되는 전기장과 자기장에 의해 스퍼터링을 진행한다. In addition, the target 21 continuously rotates in the other direction and proceeds to sputtering by an electric field and a magnetic field transmitted from the magnet assembly 30.

이와 같이, 마그네트(31)가 시료(2) 측을 향하는 상태에서 진행되는 스퍼터링 과정은 불안정한 초기 예비 스퍼터링 과정 후에 이루어지는 것으로서 안정적인 스퍼터링 상태에서 타겟 입자가 시료(2)로 전달됨으로써, 우수한 증착 품질을 얻을 수 있다.
As such, the sputtering process performed in the state in which the magnet 31 faces the sample 2 is performed after an unstable initial preliminary sputtering process, and the target particles are transferred to the sample 2 in a stable sputtering state, thereby obtaining excellent deposition quality. Can be.

이와 같이, 본 발명에 따른 원통형 스퍼터링 캐소드 장치는 불안정한 초기 예비 스퍼터링 과정에서는 마그네트가 시료 반대측을 향하도록 회동되고, 안정적인 스퍼터링 과정에서는 마그네트가 시료 측을 향하도록 회동됨으로써, 우수한 증착 품질을 얻을 수 있다. As described above, in the cylindrical sputtering cathode device according to the present invention, the magnet is rotated to face the sample side in an unstable initial preliminary sputtering process, and the magnet is rotated to face the sample side in a stable sputtering process, thereby obtaining excellent deposition quality.

또한, 불안정한 초기 예비 스퍼터링 과정에서 타겟입자가 시료에 전달되는 것을 차단하기 위해 별도의 셔터장치를 마련하지 않아도 되기 때문에, 스퍼터링 설비의 구조가 간단해지고 이에 따른 스퍼터링 설비의 제작비 절감을 도모할 수 있다. In addition, since it is not necessary to provide a separate shutter device in order to block the transfer of the target particles to the sample in the unstable initial pre-sputtering process, the structure of the sputtering equipment is simplified, thereby reducing the manufacturing cost of the sputtering equipment.

10 : 지지체 21 : 타겟
23 : 타겟회전체 31 : 마그네트
33 : 마그네트지지축 51 : 정역구동모터
52 : 원동풀리 53 : 피동풀리
54 : 구동력전달부재 55 : 회동력전달부재
56 : 회동범위설정유닛 57 : 회동디스크
58 : 회동각제한홈 59 : 스토퍼10: support 21: target
23: target rotating body 31: magnet
33: magnet support shaft 51: forward and reverse drive motor
52: driven pulley 53: driven pulley
54: driving force transmission member 55: rotational force transmission member
56: rotation range setting unit 57: rotation disk
58: angle of rotation limited groove 59: stopper

Claims (10)

시료를 향해 스퍼터링 증착을 행하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치에 있어서,
지지체;
상기 지지체에 정역 회전 가능하게 지지되는 원통 형상의 타겟;
상기 타겟 내부에서 상기 시료 측 방향과 시료 반대 측 방향을 향하도록 회동 가능하게 설치되는 마그네트;
상기 타겟을 정역 회전시키며, 상기 마그네트를 회동 및 회동 상태 유지시키는 구동수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치.In the cylindrical sputtering cathode apparatus which performs sputter deposition toward a sample,
A support;
A cylindrical target supported rotatably forward and backward on the support;
A magnet rotatably installed in the target side toward the sample side direction and the opposite side of the sample;
And spherical cathode sputtering cathodes, said drive means for rotating said target forward and backward and maintaining said magnet in a pivoting and rotating state. 제1항에 있어서,
타겟의 축선 방향 양측에 결합되어 구동수단으로부터 회전력을 전달받도록 지지체에 정역 회전 가능하게 지지되며, 중심에 축삽입공이 형성된 타겟회전체와;
상기 타겟 내부에서 마그네트를 지지하며, 양단부가 상기 축삽입공에 삽입되어 상기 구동수단으로부터 회동력을 전달받는 마그네트지지축을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치. The method of claim 1,
A target rotating body coupled to both sides in the axial direction of the target so as to be rotated forward and backward on the support so as to receive rotational force from the driving means, the shaft inserting hole being formed at the center thereof;
And a magnet support shaft supporting the magnet in the target and having both ends inserted into the shaft insertion hole to receive the rotational force from the driving means. 제2항에 있어서,
구동수단은
정역구동모터와,
상기 정역구동모터의 회전축에 결합되는 원동풀리와,
타겟회전체에 결합되는 피동풀리와,
상기 원동풀리와 상기 피동풀리를 연동 가능하게 연결하는 적어도 하나의 구동력전달부재와,
타겟회전체의 축삽입공 내주면과 이에 대응하는 마그네트지지축의 외주면 사이에 개재되어 타겟회전체의 회전력을 상기 마그네트지지축의 회동력으로 전달하는 회동력전달부재와,
마그네트의 회동이 시료 측 방향과 시료 반대 측 방향 범위 내에서 이루어지도록 상기 마그네트지지축의 회동범위를 제한하는 회동범위설정유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치. The method of claim 2,
Driving means
Stationary motor,
A driving pulley coupled to a rotating shaft of the forward and reverse driving motor,
A driven pulley coupled to the target rotating body,
At least one driving force transmitting member for cooperating to connect the driven pulley and the driven pulley;
A rotational force transmission member interposed between the inner circumferential surface of the shaft insertion hole of the target rotating body and the outer peripheral surface of the magnet supporting shaft corresponding to the rotating force of the target rotating body,
And a rotation range setting unit for limiting the rotation range of the magnet support shaft so that the rotation of the magnet is within the range of the sample side direction and the opposite side of the sample. 제3항에 있어서,
회동범위설정유닛은
마그네트지지축에 결합되며, 판면에 반경방향으로 회동각제한홈이 형성되어 있는 원판형 회동디스크와,
상기 회동디스크에 인접한 영역에 고정되어 일영역이 상기 회동각제한홈에 대해 상대 이동 가능하게 삽입된 스토퍼를 갖는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치.The method of claim 3,
Rotation range setting unit
A disk-type rotating disk coupled to the magnet support shaft and having a rotational angle limiting groove formed on the plate surface in a radial direction;
And a stopper fixed to an area adjacent to the rotating disk, the stopper of which one region is inserted so as to be movable relative to the rotating angle limiting groove. 제4항에 있어서,
회동각제한홈의 양측 끝단부는 마그네트가 시료 측을 향하는 위치와 마그네트가 시료 반대 방향을 향하는 위치에 대응하는 180도 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치. The method of claim 4, wherein
Both end portions of the rotation angle limiting groove is formed in a cylindrical sputtering cathode device, characterized in that 180 degrees corresponding to the position of the magnet toward the sample side and the magnet toward the sample direction. 제5항에 있어서,
회동각제한홈은 반원 형상의 장공으로 형성되는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치. The method of claim 5,
The rotating angle limiting groove is a cylindrical sputtering cathode device, characterized in that formed by a semi-circular long hole. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
구동수단은 스퍼터링 증착 초기의 예비 스퍼터링 과정에서 마그네트를 시료 반대측 방향으로 회동시키고, 상기 예비 스퍼터링 후 마그네트를 시료 측 방향으로 회동시키는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The driving means is a cylindrical sputtering cathode device, characterized in that to rotate the magnet in the opposite direction to the sample during the preliminary sputtering process of sputtering deposition, and to rotate the magnet in the sample side direction after the preliminary sputtering. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
마그네트지지축의 일단부는 축삽입공을 관통하여 지지체 측으로 연장되고, 회동디스크는 상기 마그네트지지축의 일단부에 결합되며;
스토퍼는 지지체에 고정되는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치. 7. The method according to any one of claims 4 to 6,
One end of the magnet support shaft extends to the support side through the shaft insertion hole, and the rotating disk is coupled to one end of the magnet support shaft;
A cylindrical sputtering cathode device, characterized in that the stopper is fixed to the support. 제3항에 있어서,
타겟회전체의 축삽입공 내주면에 대응하는 마그네트지지축의 외주면에는 원주방향을 따라 회동력전달부재가 결합되는 회동력전달부재결합부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치. The method of claim 3,
Cylindrical sputtering cathode apparatus, characterized in that the rotational force transmission member engaging portion is formed on the outer peripheral surface of the magnet support shaft corresponding to the inner peripheral surface of the shaft insertion hole of the target rotating body is coupled to the rotational force transmission member in the circumferential direction. 제9항에 있어서,
회동력전달부재는 외측 둘레면이 타겟회전체의 축삽입공 내주면에 밀착되며, 타겟회전체의 회전에 대한 내구성을 갖는 O링인 것을 특징으로 하는 원통형 스퍼터링 캐소드 장치.
10. The method of claim 9,
The rotational force transmission member is a cylindrical sputtering cathode device, characterized in that the outer peripheral surface is in close contact with the inner circumferential surface of the shaft insertion hole of the target rotating body, and has an durability against the rotation of the target rotating body.
KR1020110028344A 2011-03-29 2011-03-29 Cylindrical sputtering cathode device KR101298768B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110028344A KR101298768B1 (en) 2011-03-29 2011-03-29 Cylindrical sputtering cathode device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110028344A KR101298768B1 (en) 2011-03-29 2011-03-29 Cylindrical sputtering cathode device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120113816A true KR20120113816A (en) 2012-10-16
KR101298768B1 KR101298768B1 (en) 2013-08-21

Family

ID=47283206

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110028344A KR101298768B1 (en) 2011-03-29 2011-03-29 Cylindrical sputtering cathode device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101298768B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111719123A (en) * 2019-03-21 2020-09-29 广东太微加速器有限公司 Combined target

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102672810B1 (en) 2022-06-08 2024-06-25 (주)템스코 End block for supporting an end of object

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6488824B1 (en) 1998-11-06 2002-12-03 Raycom Technologies, Inc. Sputtering apparatus and process for high rate coatings
CN101297059A (en) 2005-10-24 2008-10-29 索莱拉斯有限公司 Cathode incorporating fixed or rotating target in combination with a moving magnet assembly and applications thereof
KR100880018B1 (en) 2007-07-19 2009-01-22 코오롱글로텍주식회사 Tenter device
KR101062890B1 (en) * 2009-04-17 2011-09-07 (주)에스엔텍 Cylindrical sputtering cathode

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111719123A (en) * 2019-03-21 2020-09-29 广东太微加速器有限公司 Combined target

Also Published As

Publication number Publication date
KR101298768B1 (en) 2013-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102364799B1 (en) Rotary cathode unit for magnetron sputtering apparatuses
WO2018210120A1 (en) Magnetron driving mechanism, magnetron assembly, and reaction chamber
KR101298768B1 (en) Cylindrical sputtering cathode device
KR20190066534A (en) Sputtering apparatus and control method thereof
WO2012081168A1 (en) Sputtering apparatus
JPH01309965A (en) Magnetron sputtering device
CN108823537B (en) Magnetic material vacuum coating equipment
TWI765937B (en) A universally mountable end-block
EP0801416A1 (en) Plasma processing chamber with epicyclic magnet source assembly
CN211227319U (en) Steel ball plasma coating clamp
KR20160018641A (en) Cylindrical sputtering target and manufacturing method of thin film using the same
KR101778602B1 (en) driving means of electrode case for plasma deposition apparatus
US9558921B2 (en) Magnetron sputtering apparatus
JP6469432B2 (en) Rotary cathode and sputtering equipment
KR20150081726A (en) Cylindrical sputtering target and manufacturing method of thin film using the same
CN210176945U (en) Vacuum magnetic control rotary double-sided film coating clamp
JP2017002350A (en) Rotation type cathode unit for magnetron sputtering apparatus
WO2018173531A1 (en) Magnet gear pump and method for manufacturing same
JP2011026652A (en) Apparatus for forming film on both surfaces
JP7158065B2 (en) Deposition equipment
JP4960851B2 (en) Magnet device, magnetron sputtering device
JP2020145833A (en) Magnetic coupling
JPH01283370A (en) Target holder, ion beam sputtering device and method of using the same holder and device
JP2012136780A (en) Magnet system, magnetron sputtering apparatus
CN118007071B (en) Vacuum coating equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160615

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170207

Year of fee payment: 5