KR20120105316A - Head of electro polishing apparatus - Google Patents

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KR20120105316A KR1020110023059A KR20110023059A KR20120105316A KR 20120105316 A KR20120105316 A KR 20120105316A KR 1020110023059 A KR1020110023059 A KR 1020110023059A KR 20110023059 A KR20110023059 A KR 20110023059A KR 20120105316 A KR20120105316 A KR 20120105316A
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삼성중공업 주식회사
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

PURPOSE: A head of an electro polishing apparatus is provided to obtain superior workability by changing the contact angle of a contact surface according to the curvature of an object when moving along the surface of the object. CONSTITUTION: A head of an electro polishing apparatus comprises a supporting unit(10), a hinge unit(20,30), and a polishing plate(40,50). The hinge unit is coupled to the supporting unit on one side and includes a hinge shaft(22) extended in a first direction. The polishing plate is coupled to the other side of the hinge unit and rotates around the hinge shaft. The hinge unit and the polishing plate are provided in pairs, separated from each other in a direction perpendicular to the first direction.

Description

전해연마장치의 헤드{HEAD OF ELECTRO POLISHING APPARATUS} HEAD OF ELECTRO POLISHING APPARATUS}

본 발명은 전해연마장치의 헤드에 관한 것이다.
The present invention relates to a head of an electropolishing apparatus.

전해연마장치는 연마대상물인 파이프 등의 용접 작업 후 용접부위의 노폐물을 제거하며, 파이프 표면을 매끄럽게 하는 장치이다. The electropolishing apparatus removes wastes from the welded part after welding work on the pipe, etc., to smooth the pipe surface.

기존의 전해연마장치의 헤드는 플레이트 형태로 구비되어 전해연마작업을 해왔다. The head of the conventional electrolytic polishing apparatus has been provided in the form of a plate has been electrolytic polishing.

하지만, 플레이트 형태의 헤드는 평판형태로 형성된 플레이트가 고정되어있는 구조로서, 연마대상물인 파이프 등의 지름에 따라 파이프에 접촉하는 플레이트의 접촉 각도를 변경할 수 없는 구조이다.However, the plate-shaped head is a structure in which a plate formed in a flat shape is fixed, and the contact angle of the plate in contact with the pipe cannot be changed according to the diameter of the pipe, etc., to be polished.

따라서, 파이프 등의 전해연마작업시 전해연마장치의 헤드와 파이프가 접촉되는 면적이 협소하고, 이로 인해 작업시간이 오래 소요되며, 작업성이 좋지 않은 문제가 있다.
Therefore, the area in which the head of the electrolytic polishing apparatus and the pipe contact each other when the electropolishing operation such as a pipe is narrow, and thus, the work time is long, and the workability is poor.

본 발명의 실시예는, 연마대상물의 곡률에 따라 헤드 접촉면의 접촉각도를 변경할 수 있는 전해연마장치의 헤드를 제공하고자 한다.
An embodiment of the present invention is to provide a head of an electropolishing apparatus that can change the contact angle of the head contact surface according to the curvature of the polishing object.

본 발명의 일측면에 따른 전해연마장치의 헤드는, 지지부와, 상기 지지부에 일측이 결합되며 제 1 방향으로 연장된 힌지축을 구비한 힌지부 및 상기 힌지부의 타측에 결합되어 상기 힌지축을 중심으로 회전가능한 연마판을 포함할 수 있다. The head of the electropolishing apparatus according to one aspect of the present invention is coupled to a hinge portion having a support portion and a hinge shaft coupled to the support portion and extending in a first direction, and coupled to the other side of the hinge portion to rotate about the hinge shaft. Possible abrasive plates may be included.

또한, 상기 힌지부 및 상기 연마판은 한 쌍으로 이루어지며, 상기 한 쌍의 힌지부 및 연마판은 상기 제 1 방향에 수직한 방향으로 상호 이격되게 위치될 수 있다.In addition, the hinge part and the abrasive plate may be formed in a pair, and the pair of hinge parts and the abrasive plate may be spaced apart from each other in a direction perpendicular to the first direction.

또한, 상기 한 쌍의 연마판은, 서로 반대 방향으로 회전되도록 형성될 수 있다.In addition, the pair of abrasive plates may be formed to rotate in opposite directions.

또한, 한 쌍의 상기 힌지부의 일 단부측은 상기 지지부의 하측면에 수직한 방향으로 결합되며, 한 쌍의 상기 힌지부의 타 단부측은 상기 지지부의 중심으로부터 상기 제 1 방향에 수직한 외측 방향으로는 각각 연장될 수 있다.In addition, one end side of the pair of hinge portions is coupled in a direction perpendicular to the lower side of the support portion, and the other end side of the pair of hinge portions is each in an outward direction perpendicular to the first direction from the center of the support portion. Can be extended.

또한, 상기 연마판에 전해액을 공급하는 전해액 공급부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include an electrolyte supply unit supplying an electrolyte solution to the polishing plate.

또한, 상기 전해액 공급부는, 외부로부터 상기 지지부 측으로 전해액을 공급하는 전해액 공급 케이블과, 상기 지지부의 내부에 형성되어 상기 전해액 공급 케이블로부터 공급된 전해액이 수용되는 전해액 수용부 및 상기 전해액 수용부와 연결되어 상기 연마판으로 상기 전해액을 공급하는 공급관을 포함하고, 상기 연마판에는 상기 공급관으로부터 공급된 전해액이 연마대상물의 표면으로 배출되는 배출홀이 형성될 수 있다.The electrolyte supply unit may be connected to an electrolyte supply cable for supplying an electrolyte solution from the outside to the support part, an electrolyte solution receiving part formed inside the support part to accommodate the electrolyte solution supplied from the electrolyte supply cable, and the electrolyte receiving part. And a supply pipe for supplying the electrolyte to the polishing plate, and the discharge plate may have a discharge hole through which the electrolyte supplied from the supply pipe is discharged to the surface of the object to be polished.

또한, 상기 공급관은 탄성 튜브로 이루어질 수 있다.In addition, the supply pipe may be made of an elastic tube.

또한, 상기 지지부의 일측부에 형성된 손잡이부를 더 포함할 수 있다.In addition, it may further include a handle formed on one side of the support.

또한, 상기 연마판에 전기를 공급하는 전극부를 더 포함할 수 있다.
In addition, the electrode plate for supplying electricity to the polishing plate may further include.

본 발명의 실시예는, 전해연마장치의 헤드가 연마대상물의 표면을 따라 이동시, 연마대상물의 곡률에 따라 헤드 접촉면의 접촉각도를 변경할 수 있어 작업성이 좋다.
According to the embodiment of the present invention, when the head of the electropolishing apparatus moves along the surface of the polishing object, the contact angle of the head contact surface can be changed according to the curvature of the polishing object, so that the workability is good.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 사용상태도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 측면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드에서 연마판 및 공급관의 결합관계를 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 저면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 분리사시도이다. 1 is a state diagram showing the use of the head of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a perspective view showing the head of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a side view showing a head of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a cross-sectional view showing a coupling relationship between the abrasive plate and the supply pipe in the head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a bottom view showing the head of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is an exploded perspective view showing a head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 사용상태도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 사시도이다. 1 is a state diagram showing the use of the head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a perspective view showing the head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드(100)는, 지지부(10)와, 지지부(10)에 일측이 결합된 힌지부(20, 30) 및 힌지부(20, 30)의 타측에 결합되어 소정의 연마대상물(P)과 접촉되는 연마판(40, 50)을 포함한다. 또한, 본 발명의 전해연마장치의 헤드(100)는 연마판(40, 50)에 전해액 및 전기를 공급하는 전해액 공급부 및 전극부(80)를 더 포함한다. 1 and 2, the head 100 of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the support portion 10, the hinge portion 20, 30 coupled to one side to the support portion 10 and It is coupled to the other side of the hinge portion 20, 30 includes a polishing plate (40, 50) in contact with a predetermined polishing object (P). In addition, the head 100 of the electrolytic polishing apparatus of the present invention further includes an electrolyte supply portion and an electrode portion 80 for supplying electrolyte and electricity to the polishing plates 40 and 50.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 측면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드에서 연마판 및 공급관의 결합관계를 나타낸 단면도이다.Figure 3 is a side view showing a head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view showing a coupling relationship between the abrasive plate and the supply pipe in the head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4를 참조하면, 지지부(10)는 연마판(40, 50)을 지지하고, 전해액 공급 케이블(120)과 연결되어 전해액을 연마판(40, 50)으로 공급한다. 3 and 4, the support 10 supports the polishing plates 40 and 50 and is connected to the electrolyte supply cable 120 to supply the electrolyte to the polishing plates 40 and 50.

또한, 지지부(10)는 하측부에 위치되는 지지부재(12)를 포함하고, 지지부재(12)는 양측 하부로 연장형성된 한 쌍의 장착부(12a, 12b)를 포함한다. 이때, 지지부재(12)는 디귿자("ㄷ") 형태로 굴곡되게 형성될 수 있다. In addition, the support 10 includes a support member 12 positioned on the lower portion, and the support member 12 includes a pair of mounting portions 12a and 12b extending downward from both sides. At this time, the support member 12 may be formed to be bent in the form of "d".

한편, 지지부(10)의 상측부에 손잡이부(90)가 형성되어, 본 발명의 전해연마장치의 헤드(100)의 파지가 용이하고, 이에 따라, 전해연마작업을 용이하게 할 수 있다. On the other hand, the handle portion 90 is formed on the upper portion of the support 10, the grip of the head 100 of the electrolytic polishing apparatus of the present invention is easy, thereby, electrolytic polishing can be facilitated.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 힌지부(20, 30)는 연마판(40, 50)을 회전가능하게 지지한다. 2 to 4, the hinge parts 20 and 30 rotatably support the abrasive plates 40 and 50.

여기서, 힌지부(20, 30)는 제1 판(21, 31)과, 제2 판(23, 33)과, 제1 판(21, 31) 및 제2 판(23, 33)이 회전가능하게 결합되는 힌지축(22, 32)을 포함한다. Here, the hinge parts 20 and 30 are rotatable to the first plates 21 and 31, the second plates 23 and 33, and the first plates 21 and 31 and the second plates 23 and 33. Hinge shafts 22, 32 coupled to each other.

이에 따라, 제2 판(23, 33)은 제1 판(21, 31)에 대하여 힌지축(22, 32)을 중심으로 회전할 수 있다. Accordingly, the second plates 23 and 33 may rotate about the hinge shafts 22 and 32 with respect to the first plates 21 and 31.

여기서, 도 2를 참조할 때, 힌지부(20, 30)의 일측은 제1판(21, 31)으로 이루어져 힌지축(22, 32)의 상측에 위치되고, 힌지부(20, 30)의 타측은 제2 판(23, 33)으로 이루어져 힌지축(22, 32)의 하측에 위치된다.Here, referring to FIG. 2, one side of the hinge parts 20 and 30 may be formed on the hinge shafts 22 and 32 and formed on the upper side of the hinge parts 20 and 30. The other side consists of the second plates 23 and 33 and is located below the hinge shafts 22 and 32.

그리고, 제1 판(21, 31)은 지지부재(12)의 하부에 장착된다. 이때, 제1 판(21, 31)은 지지부재(12)의 장착부(12a, 12b)에 장착될 수 있다. The first plates 21 and 31 are mounted below the support member 12. In this case, the first plates 21 and 31 may be mounted on the mounting portions 12a and 12b of the support member 12.

여기서, 제1 판(21, 31) 및 장착부(12a, 12b)는 수직으로 위치되어, 제1 판(21, 31)의 단부측이 장착부(12a, 12b)의 하측면에 수직한 방향으로 결합된다. 그리고, 제1 판(21, 31)은 장착부(12a, 12b)에 용접 또는 나사결합 등의 방법으로 결합될 수 있다. Here, the first plates 21 and 31 and the mounting portions 12a and 12b are vertically positioned so that the end sides of the first plates 21 and 31 are coupled in a direction perpendicular to the lower surfaces of the mounting portions 12a and 12b. do. In addition, the first plates 21 and 31 may be coupled to the mounting parts 12a and 12b by welding or screwing.

아울러, 힌지부(20, 30)는 한 쌍으로 이루어져 지지부(10)에 각각 결합된다. 이때, 한 쌍의 힌지부(20, 30)에 각각 구비된 한 쌍의 제2 판(23, 33)의 단부측은 지지부(10)의 중심으로부터 각각 제1방향에 수직한 외측 방향으로 연장된다. In addition, the hinge parts 20 and 30 are formed in a pair and are respectively coupled to the support part 10. At this time, end portions of the pair of second plates 23 and 33 provided in the pair of hinge portions 20 and 30 respectively extend from the center of the support portion 10 in the outward direction perpendicular to the first direction.

그리고, 한 쌍의 힌지부(20, 30)에 각각 구비된 한 쌍의 힌지축(22, 32)은 제1방향으로 연장되도록 형성된다. 여기서, 제1방향은 예를 들어 지지부(10)의 횡방향일 수 있고, 지지부(10)의 횡방향은 도 2를 참조할 때 y축 방향일 수 있다. In addition, the pair of hinge shafts 22 and 32 provided in the pair of hinge parts 20 and 30, respectively, are formed to extend in the first direction. Here, the first direction may be, for example, the transverse direction of the support 10, and the transverse direction of the support 10 may be the y-axis direction when referring to FIG. 2.

그리고, 한 쌍의 힌지부(20, 30)는 제1방향에 수직한 방향으로 소정거리 상호 이격되도록 위치된다. 여기서, 제1방향에 수직한 방향은 예를 들어 지지부(10)의 길이방향일 수 있고, 지지부(10)의 길이방향은 도 2를 참조할 때 x축 방향일 수 있다.The pair of hinge parts 20 and 30 are positioned to be spaced apart from each other by a predetermined distance in a direction perpendicular to the first direction. Here, the direction perpendicular to the first direction may be, for example, the longitudinal direction of the support 10, and the longitudinal direction of the support 10 may be the x-axis direction when referring to FIG. 2.

도 1 및 도 2를 참조하면, 연마판(40, 50)은 소정의 연마대상물(P)에 면접촉되도록 힌지부(20, 30)의 하측부에 위치된다. 여기서, 소정의 연마대상물(P)은 파이프일 수 있다. 1 and 2, the abrasive plates 40 and 50 are positioned at the lower side of the hinge parts 20 and 30 to be in surface contact with a predetermined polishing object P. As shown in FIG. Here, the predetermined polishing object P may be a pipe.

또한, 연마판(40, 50)은 제2 판(23, 33)에 결합되고, 연마판(40, 50)의 상측면이 제2 판(23, 33)의 하측면에 용접 또는 나사결합 등의 방법으로 결합될 수 있다. In addition, the abrasive plates 40 and 50 are coupled to the second plates 23 and 33, and upper surfaces of the abrasive plates 40 and 50 are welded or screwed to the lower surfaces of the second plates 23 and 33, and the like. It can be combined in the way.

아울러, 연마판(40, 50)은 직사각형 판 형태로 형성될 수 있고, 연마판(40, 50)의 길이방향이 지지부(10)의 길이방향으로 위치되도록 설치될 수 있다. 이때, 연마판(40, 50) 및 지지부(10)의 횡방향으로 힌지축(22, 32)이 위치된다. In addition, the abrasive plates 40 and 50 may be formed in a rectangular plate shape, and may be installed such that the longitudinal directions of the abrasive plates 40 and 50 are located in the longitudinal direction of the support part 10. At this time, the hinge shafts 22 and 32 are positioned in the transverse direction of the abrasive plates 40 and 50 and the support part 10.

또한, 연마판(40, 50)은 한 쌍으로 이루어지되, 한 쌍의 연마판(40, 50)이 제1방향에 수직한 방향으로 일정거리 상호 이격되도록 위치된다. In addition, the abrasive plates 40 and 50 are formed in a pair, and the pair of abrasive plates 40 and 50 are positioned to be spaced apart from each other by a predetermined distance in a direction perpendicular to the first direction.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 저면도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드를 나타낸 분리사시도이다. Figure 5 is a bottom view showing the head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is an exploded perspective view showing the head of the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 전해액 공급부는 연마판(40, 50)으로 전해액을 공급한다.4 to 6, the electrolyte supply unit supplies the electrolyte solution to the polishing plates 40 and 50.

여기서, 전해액 공급부는, 전해액을 공급하는 전해액 공급 케이블(120)과, 전해액 공급 케이블(120)과 연결되어 전해액을 지지부(10)의 내부에 수용하는 전해액 수용부(11) 및 전해액 수용부(11)와 연결되어 연마판(40, 50)으로 전해액을 공급하는 공급관(60, 70)을 포함한다. Here, the electrolyte supply unit is connected to the electrolyte supply cable 120 for supplying the electrolyte, and the electrolyte supply cable 120, the electrolyte receiving unit 11 and the electrolyte receiving unit 11 for receiving the electrolyte in the interior of the support unit 10 And supply pipes 60 and 70 connected to the polishing plates 40 to supply electrolyte to the polishing plates 40 and 50.

먼저, 전해액 공급 케이블(120)은 일측이 지지부(10)의 측면과 연결되어 외부로부터 지지부(10) 측으로 전해액을 공급한다. 이때, 전해액 공급 케이블(120)의 타측은 전해연마장치의 전해액 공급수단(미도시)과 연결되어 전해액을 공급받을 수 있다.First, one side of the electrolyte supply cable 120 is connected to the side of the support 10 to supply the electrolyte from the outside to the support 10 side. At this time, the other side of the electrolyte supply cable 120 may be connected to the electrolyte supply means (not shown) of the electrolytic polishing device to receive the electrolyte.

또한, 전해액 수용부(11)는 전해액 공급 케이블(120)과 연결된 통로를 형성하여 전해액 공급 케이블(120)을 통해 공급되는 전해액이 수용된다. 이때, 전해액 수용부(11)는 지지부(10)의 내부에 형성된다.In addition, the electrolyte receiving unit 11 forms a passage connected with the electrolyte supply cable 120 to accommodate the electrolyte supplied through the electrolyte supply cable 120. In this case, the electrolyte receiving part 11 is formed inside the support part 10.

그리고, 공급관(60, 70)은 전해액 수용부(11)와 연결된 통로를 형성하여 연마판(40, 50)으로 전해액을 공급한다. In addition, the supply pipes 60 and 70 form a passage connected to the electrolyte solution accommodating portion 11 to supply the electrolyte solution to the polishing plates 40 and 50.

이때, 지지부(10)의 지지부재(12) 하부로 제1연결부(12c, 12d)가 돌출되도록 형성되고, 연마판(40, 50)의 상부로 제2연결부(42, 52)가 돌출되도록 형성되어, 공급관(60, 70)의 양측이 제1연결부(12c, 12d) 및 제2연결부(42, 52)와 연결된다. In this case, the first connecting portions 12c and 12d are formed to protrude below the supporting member 12 of the supporting portion 10, and the second connecting portions 42 and 52 are formed to protrude above the polishing plates 40 and 50. Thus, both sides of the supply pipe (60, 70) is connected to the first connecting portion (12c, 12d) and the second connecting portion (42, 52).

여기서, 제1연결부(12c, 12d)는 상,하를 관통하는 유입홀(12e, 12f)이 내주면에 형성되어, 전해액 수용부(11) 및 공급관(60, 70)과 연결된 통로를 형성한다. Here, the first connecting portions 12c and 12d have upper and lower inflow holes 12e and 12f formed on the inner circumferential surface thereof to form a passage connected to the electrolyte receiving portion 11 and the supply pipes 60 and 70.

그리고, 제2연결부(42, 52)는 상,하를 관통하는 배출홀(41, 51)이 내주면에 형성되어, 공급관(60, 70)과 연결된 통로를 형성한다. 이때, 공급관(60, 70)을 통해 공급되는 전해액이 배출홀(41, 51)을 통해 연마대상물(P)의 표면으로 배출된다.In addition, the second connection parts 42 and 52 have discharge holes 41 and 51 penetrating up and down on the inner circumferential surface thereof to form a passage connected to the supply pipes 60 and 70. At this time, the electrolyte solution supplied through the supply pipes 60 and 70 is discharged to the surface of the polishing object P through the discharge holes 41 and 51.

또한, 제1연결부(12c, 12d)가 한 쌍으로 형성되고, 공급관(60, 70)이 한 쌍으로 이루어져, 한 쌍의 공급관(60, 70)이 한 쌍의 제1연결부(12c, 12d)와 한 쌍의 연마판(40, 50)에 형성된 한 쌍의 제2연결부(42, 52)에 각각 연결된다.In addition, the first connection portion 12c, 12d is formed in a pair, the supply pipe (60, 70) is made in a pair, a pair of supply pipe (60, 70) is a pair of first connection portion (12c, 12d) And a pair of second connectors 42 and 52 formed on the pair of abrasive plates 40 and 50, respectively.

한편, 공급관(60, 70)은 연마판(40, 50)의 회전에 따라 탄성적으로 길이 및 곡률이 변경될 수 있는 합성수지 또는 플라스틱 재질의 탄성 튜브로 이루어질 수 있다.On the other hand, the supply pipe (60, 70) may be made of an elastic tube of synthetic resin or plastic material that can be changed in length and curvature elastically in accordance with the rotation of the abrasive plate (40, 50).

도 3을 참조하면, 전극부(80)는 연마판(40, 50)에 전기를 공급한다. 또한, 전극부(80)는 전선(81, 82)으로 이루어지고, 전해액 공급 케이블(120)과 지지부(10)를 통해 연마판(40, 50)과 연결된다. 이때, 전선(81, 82)은 일측이 전해액 공급 케이블(120)의 내측부 및 지지부(10)의 전해액 수용부(11)에 위치되고, 타측이 연마판(40, 50)의 상측단에 고정될 수 있다.
Referring to FIG. 3, the electrode unit 80 supplies electricity to the polishing plates 40 and 50. In addition, the electrode unit 80 is composed of electric wires 81 and 82, and is connected to the polishing plates 40 and 50 through the electrolyte supply cable 120 and the support unit 10. At this time, one side of the wires (81, 82) is located in the inner portion of the electrolyte supply cable 120 and the electrolyte receiving portion 11 of the support portion 10, the other side is to be fixed to the upper end of the polishing plate (40, 50) Can be.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드의 작동을 설명하기로 한다. Hereinafter, the operation of the head of the electropolishing apparatus according to the embodiment of the present invention will be described.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드(100)를 통해 소정의 연마대상물(P)을 전해연마하기 위하여 헤드(100)에 장착된 연마판(40, 50)을 연마대상물(P)의 표면에 접촉시킨다. Referring to FIG. 1, polishing plates 40 and 50 mounted on the head 100 to electropolize a predetermined polishing object P through the head 100 of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention. Is brought into contact with the surface of the polishing object P.

그리고, 연마대상물(P)의 표면을 따라 연마판(40, 50)을 연마대상물(P)에 밀착시키면서 헤드(100)를 이동시키면, 연마판(40, 50)이 연마대상물(P)의 곡률에 따라 힌지부(20, 30)의 힌지축(22, 32)을 중심으로 회전된다. 이에 따라, 전해연마 작업시 연마대상물(P)의 곡률에 따라 헤드(100)의 접촉 각도를 조절하기 용이하여 작업성이 좋을 수 있다.Then, when the head 100 is moved while the abrasive plates 40 and 50 are in close contact with the abrasive object P along the surface of the abrasive object P, the abrasive plates 40 and 50 are curvature of the abrasive object P. It rotates about the hinge axis (22, 32) of the hinge portion (20, 30). Accordingly, in the electropolishing operation, the contact angle of the head 100 may be easily adjusted according to the curvature of the polishing object P, and thus workability may be good.

아울러, 도 3 및 도 4를 참조하면, 전해액 공급 케이블(120)을 통해 지지부(10)의 전해액 수용부(11)로 전해액이 유입되면, 공급관(60, 70)을 통해 전해액이 연마판(40, 50)으로 공급된다.3 and 4, when the electrolyte flows into the electrolyte receiving unit 11 of the supporter 10 through the electrolyte supply cable 120, the electrolyte flows through the supply pipes 60 and 70 to the abrasive plate 40. , 50).

이때, 도 1, 도 3 및 도 4를 참조하면, 전해액 수용부(11)에 수용된 전해액은 제1연결부(12c, 12d)의 유입홀(12e, 12f)을 통해 공급관(60, 70)으로 이동된다. 그리고, 공급관(60, 70)으로 이동되는 전해액이 제2연결부(42, 52)의 배출홀(41, 51)을 통해 연마판(40, 50)의 하부로 배출되면, 연마판(40, 50)과 연마대상물(P) 사이로 전해액이 위치된다.1, 3, and 4, the electrolyte solution contained in the electrolyte receiving part 11 moves to the supply pipes 60 and 70 through the inlet holes 12e and 12f of the first connection parts 12c and 12d. do. Then, when the electrolyte solution to be moved to the supply pipe (60, 70) is discharged to the lower portion of the polishing plate (40, 50) through the discharge hole (41, 51) of the second connecting portion (42, 52), polishing plate (40, 50) ) And the electrolyte is positioned between the polishing object P.

그리고, 연마판(40, 50)으로 전기를 공급하여 연마대상물(P)의 표면을 연마한다. 이때, 연마대상물(P)에 일극 전원이 연결되고, 연마판(40, 50)에 타극 전원 연결된다. 여기서, 예를 들어 일극 전원은 양극 전원일 수 있고, 타극 전원은 음극 전원일 수 있다.Then, electricity is supplied to the polishing plates 40 and 50 to polish the surface of the polishing object P. At this time, one pole power is connected to the polishing object P, and the other pole power is connected to the polishing plates 40 and 50. Here, for example, the one pole power source may be a positive electrode power source, and the other pole power source may be a negative electrode power source.

여기서, 연마판(40, 50)과 연마대상물(P)의 사이에 전해액을 공급하고, 연마판(40, 50)과 연마대상물(P)에 전원을 각각 연결하여, 연마대상물(P)의 표면을 연마하는 과정은 당업자에게 있어서 널리 공지된 내용이므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. Here, the electrolytic solution is supplied between the polishing plates 40 and 50 and the polishing object P, and power is connected to the polishing plates 40 and 50 and the polishing object P, respectively, and the surface of the polishing object P is Polishing process is well known to those skilled in the art, so a detailed description thereof will be omitted.

한편, 도 1 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드(100)에 연마판(40, 50) 및 힌지부(20, 30)가 한 쌍으로 위치되어 연마대상물(P)과 2면 접촉할 수 있다. 또한, 한 쌍의 공급관(60, 70) 및 한 쌍의 전선(81, 82)이 한 쌍의 연마판(40, 50)에 각각 연결되어, 한 쌍의 연마판(40, 50)으로 전해액 및 전기를 각각 공급할 수 있다.Meanwhile, referring to FIGS. 1 and 3, the polishing plates 40 and 50 and the hinge parts 20 and 30 are positioned in pairs in the head 100 of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention to polish them. Two-sided contact with the object P is possible. In addition, a pair of supply pipes 60 and 70 and a pair of wires 81 and 82 are connected to a pair of abrasive plates 40 and 50, respectively, to provide a pair of abrasive plates 40 and 50 for the electrolytic solution and Electricity can be supplied separately.

따라서, 본 발명의 전해연마장치의 헤드(100)가 연마대상물(P)과 2면 접촉하면서 전해연마작업을 할 수 있다. 이에 따라, 전해연마장치의 헤드(100)와 연마대상물(P)이 1면 접촉할 때에 비해 헤드(100)가 연마대상물(P)에 안정적으로 안착될 수 있고, 연마판(40, 50) 및 연마대상물(P)과의 접촉 면적이 증대되어 전해연마 작업시간이 단축될 수 있다.Therefore, the electrolytic polishing operation can be performed while the head 100 of the electrolytic polishing apparatus of the present invention makes two-side contact with the polishing object P. Accordingly, the head 100 can be stably seated on the polishing object P, compared to when the head 100 of the electropolishing apparatus is in contact with the polishing object P, and the polishing plates 40 and 50 and The contact area with the object to be polished (P) is increased to reduce the electropolishing work time.

아울러, 한 쌍의 연마판(40, 50)이 제1방향에 수직한 방향으로 일정거리 상호 이격되도록 위치된 본 발명의 전해연마장치의 헤드(100)를 파이프로 이루어진 연마대상물(P)의 표면을 따라 이동시키며 전해연마작업을 하면, 한 쌍의 연마판(40, 50)이 파이프의 곡률에 따라 제1방향으로 연장된 힌지축(22, 32)을 중심으로 서로 반대방향으로 회전한다.In addition, the surface of the polishing object (P) consisting of a pipe of the head 100 of the electropolishing apparatus of the present invention positioned so that the pair of abrasive plates 40, 50 are spaced apart from each other in a direction perpendicular to the first direction. When the electropolishing operation is carried out along the pair, the pair of abrasive plates 40 and 50 rotate in opposite directions about the hinge axes 22 and 32 extending in the first direction according to the curvature of the pipe.

이로 인해, 파이프의 중심축을 중심으로 파이프의 외주면을 따라 원을 이루며 이동되는 방향과 제1방향이 일치되도록 헤드(100)를 이동시키면, 파이프와 접촉되는 헤드(100) 접촉면의 접촉각도가 파이프의 지름 크기에 맞게 변경될 수 있다.For this reason, when the head 100 is moved to coincide with the first direction in a circle along the outer circumferential surface of the pipe around the central axis of the pipe, the contact angle of the contact surface of the head 100 in contact with the pipe may be It can be changed to fit the diameter size.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 전해연마장치의 헤드(100)가 연마대상물(P)의 곡률에 따라 접촉각도를 조절할 수 있어, 전해연마 작업속도를 향상시킬 수 있고, 다양한 직경의 파이프로 이루어진 연마대상물(P)의 전해연마작업이 가능할 수 있다.
Therefore, the head 100 of the electropolishing apparatus according to an embodiment of the present invention can adjust the contact angle according to the curvature of the polishing object P, thereby improving the electropolishing work speed, and as a pipe having various diameters. Electropolishing operation of the polishing object (P) made may be possible.

이상에서 본 발명의 다양한 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 사상은 본 명세서에 제시되는 실시예에 제한되지 아니하며, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 또 다른 실시예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 사상범위 내에 든다고 할 것이다.
Although various embodiments of the present invention have been described above, the spirit of the present invention is not limited to the embodiments set forth herein, and those skilled in the art who understand the spirit of the present invention may add components within the same scope. It will be possible to easily propose another embodiment by changing, deleting, adding, etc., but this will also fall within the spirit of the present invention.

10 : 지지부 11 : 전해액 수용부
12 : 지지부재 12a,12b: 장착부
12c,12d: 제1 연결부 12e,12f: 유입홀
20,30 : 힌지부 21,31 : 제1 판
22,32 : 힌지축 23,33 : 제2 판
40,50 : 연마판 41,51 : 배출홀
42,52 : 제2연결부 60,70 : 공급관
80 : 전극부 81,82 : 전선
90 : 손잡이부 100 : 헤드
120 : 전해액 공급 케이블 10: support portion 11: electrolyte solution receiving portion
12: support member 12a, 12b: mounting portion
12c, 12d: first connection portion 12e, 12f: inflow hole
20,30: hinge portion 21,31: first edition
22,32: hinge shaft 23,33: second edition
40,50: abrasive plate 41,51: discharge hole
42,52: second connection portion 60,70: supply pipe
80: electrode portion 81,82: electric wire
90: handle portion 100: head
120: electrolyte supply cable

Claims (9)

지지부;
상기 지지부에 일측이 결합되며 제 1 방향으로 연장된 힌지축을 구비한 힌지부; 및
상기 힌지부의 타측에 결합되어 상기 힌지축을 중심으로 회전가능한 연마판을 포함하는, 전해연마장치의 헤드.
A support;
A hinge portion having one side coupled to the support portion and having a hinge axis extending in a first direction; And
And a polishing plate coupled to the other side of the hinge portion and rotatable about the hinge axis.
제 1항에 있어서,
상기 힌지부 및 상기 연마판은 한 쌍으로 이루어지며,
상기 한 쌍의 힌지부 및 연마판은 상기 제 1 방향에 수직한 방향으로 상호 이격되게 위치되는, 전해연마장치의 헤드.
The method of claim 1,
The hinge portion and the abrasive plate is made of a pair,
The pair of hinge parts and the polishing plate are positioned to be spaced apart from each other in a direction perpendicular to the first direction.
제 2항에 있어서,
한 쌍의 상기 힌지부의 일 단부측은 상기 지지부의 하측면에 수직한 방향으로 결합되며,
한 쌍의 상기 힌지부의 타 단부측은 상기 지지부의 중심으로부터 상기 제 1 방향에 수직한 외측 방향으로는 각각 연장되는, 전해 연마 장치의 헤드.
The method of claim 2,
One end side of the pair of hinge portions is coupled in a direction perpendicular to the lower surface of the support portion,
The other end side of a pair of said hinge part extends from the center of the said support part in the outward direction perpendicular | vertical to a said 1st direction, respectively.
제 3항에 있어서,
상기 한 쌍의 연마판은, 서로 반대 방향으로 회전되도록 형성되는, 전해연마장치의 헤드.
The method of claim 3, wherein
The pair of abrasive plates are formed so as to rotate in opposite directions to each other, the head of the electropolishing apparatus.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연마판에 전해액을 공급하는 전해액 공급부를 더 포함하는, 전해연마장치의 헤드.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A head of an electrolytic polishing device, further comprising an electrolyte supply unit for supplying an electrolyte solution to the polishing plate.
제 5 항에 있어서,
상기 전해액 공급부는,
외부로부터 상기 지지부 측으로 전해액을 공급하는 전해액 공급 케이블;
상기 지지부의 내부에 형성되어 상기 전해액 공급 케이블로부터 공급된 전해액이 수용되는 전해액 수용부; 및
상기 전해액 수용부와 연결되어 상기 연마판으로 상기 전해액을 공급하는 공급관을 포함하고,
상기 연마판에는 상기 공급관으로부터 공급된 전해액이 연마대상물의 표면으로 배출되는 배출홀이 형성된, 전해연마장치의 헤드.
The method of claim 5, wherein
The electrolyte supply unit,
An electrolyte supply cable for supplying an electrolyte solution from the outside to the support part;
An electrolyte solution accommodating part formed in the support part to accommodate an electrolyte solution supplied from the electrolyte supply cable; And
A supply pipe connected to the electrolyte receiving part to supply the electrolyte to the polishing plate,
The polishing plate is provided with a discharge hole through which the electrolyte supplied from the supply pipe is discharged to the surface of the polishing object.
제 6항에 있어서,
상기 공급관은 탄성 튜브로 이루어지는, 전해연마장치의 헤드.
The method according to claim 6,
The supply pipe is made of an elastic tube, the head of the electropolishing apparatus.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 지지부의 일측에 형성되는 손잡이부를 더 포함하는, 전해연마장치의 헤드.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The head of the electropolishing apparatus further comprises a handle formed on one side of the support.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연마판에 전기를 공급하는 전극부를 더 포함하는, 전해연마장치의 헤드. The method according to any one of claims 1 to 4,
The electrode of the electropolishing apparatus further comprises an electrode unit for supplying electricity to the polishing plate.
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