KR20120099424A - Anisotropic conductive film, connection structure and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자를 이방성 도전 접속하기 위한 이방성 도전 접착 필름에 있어서는, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 도전성 입자로서 4 ㎛ 이상의 입자 직경과, 4500 kgf/㎟ 이상의 압축 경도를 갖는 것을 사용한다. 게다가, 도전성 입자의 최대 직경을 a 로 하고, 최소 직경을 b 로 했을 때, a/b 로 나타내는 도전성 입자의 진구도는, 5 이하이다.In the anisotropic conductive adhesive film for anisotropic conductive connection between the terminal of the flexible board and the terminal of the rigid board, the particle diameter of the conductive particles after the anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of the flexible board and the terminal of the rigid board is B. When it is set as the electroconductive particle, what has a particle diameter of 4 micrometers or more and compressive hardness of 4500 kgf / mm <2> or more is used so that the indentation rate defined by 100 (AB) / A may be 40% or more. Moreover, when the maximum diameter of electroconductive particle is made a and the minimum diameter is b, the sphericity of the electroconductive particle represented by a / b is 5 or less.
Description
본 발명은 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자를 이방성 도전 접속하기 위한 이방성 도전 접착 필름, 그 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 플렉시블 기판 및 리지드 기판의 단자끼리가 이방성 도전 접속된 접속 구조체, 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention provides an anisotropic conductive adhesive film for anisotropic conductive connection between a terminal of a flexible substrate and a terminal of a rigid substrate, a bonded structure in which terminals of a flexible substrate and a rigid substrate are anisotropic conductively connected using the anisotropic conductive adhesive film, and the manufacture thereof It is about a method.
도전성 입자가 바인더 수지 조성물 중에 분산된 이방성 도전 접착 필름의 당해 도전성 입자로서, 이방성 도전 접속시의 가열 가압 처리에 의해, 도전성 입자 자체가 변형되어 단자와의 접촉 면적이 증대되도록, 수지 코어 입자의 표면에 무전해 니켈 박막을 형성하고, 또한 필요에 따라 무전해 금 플래시 도금 박막을 형성한 것을 사용하는 것이 널리 행해지고 있다 (특허문헌 1).As the said electroconductive particle of the anisotropic conductive adhesive film which electroconductive particle disperse | distributed in the binder resin composition, the surface of the resin core particle | grains so that electroconductive particle itself may deform | transform and the contact area with a terminal may increase by the heat press process at the time of anisotropic conductive connection. It is widely used to form an electroless nickel thin film and to use the electroless gold flash plating thin film as needed (patent document 1).
그런데, 이와 같은 도전성 입자를 함유하는 이방성 도전 접착 필름을 사용하여, 플렉시블 기판의 단자와 유리 기판 등의 리지드 기판의 단자를 이방성 도전 접속하여 얻은 접속 구조체에 대하여, 이방성 도전 접착 필름에 의한 접속 상태를 확인하기 위해, 이방성 도전 접착 필름 중의 도전성 입자에 의해 플렉시블 기판의 단자에 발생한 압흔을 플렉시블 기판측으로부터 현미경 등을 사용하여 관찰하는 것이 행해지고 있다 (특허문헌 2).By the way, using the anisotropic conductive adhesive film containing such electroconductive particle, about the connection structure obtained by carrying out the anisotropic conductive connection of the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate, such as a glass substrate, the connection state by an anisotropic conductive adhesive film In order to confirm, observing the indentation which generate | occur | produced in the terminal of a flexible substrate with the electroconductive particle in an anisotropic conductive adhesive film using a microscope etc. from the flexible substrate side is performed (patent document 2).
그러나, 특허문헌 1 에 기재된 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자를 이방성 도전 접속하여 얻은 접속 구조체에 대하여, 특허문헌 2 에 기재되어 있는 바와 같이 플렉시블 기판측으로부터 단자의 압흔을 관찰한 경우, 도전성 입자가 지나치게 유연하여, 플렉시블 기판의 단자에 도전성 입자가 충분히 파고들지 않아, 단자에 관찰할 수 있는 압흔을 발생시키지 않는다는 문제가 있었다. 또, 고온 고습 환경하에 보존한 경우에는 접속 저항이 증대되어, 접속 신뢰성이 저하되는 경우가 있다는 문제도 있었다.However, as described in
본 발명의 목적은, 이상의 종래 기술의 과제를 해결하고자 하는 것으로, 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자를 이방성 도전 접속하여 얻은 접속 구조체에 대하여, 플렉시블 기판측으로부터 단자의 압흔을 관찰할 수 있도록 하고, 게다가 고온 고습 환경하에 보존한 경우에도 양호한 접속 신뢰성을 확보할 수 있도록 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above problems of the prior art, and with respect to a connection structure obtained by anisotropic conductive connection between a terminal of a flexible substrate and a terminal of a rigid substrate using an anisotropic conductive adhesive film, It is possible to observe the indentation, and to ensure good connection reliability even when stored in a high temperature, high humidity environment.
본 발명자들은 도전성 입자의 크기와 압축 경도와 진구도 (眞球度) 를 소정의 범위로 조정함으로써, 이방성 도전 접착 필름의 도전성 입자를, 리지드 기판의 단자가 아니라 플렉시블 기판의 단자에 충분히 파고 들어가게 할 수 있고, 그로 인해 상기 서술한 목적이 달성될 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors adjust the magnitude | size of the electroconductive particle, compression hardness, and sphericity to a predetermined range, so that the electroconductive particle of an anisotropic electrically conductive adhesive film can fully be dug into the terminal of a flexible board instead of the terminal of a rigid board | substrate. It has been found that the above-described objects can be attained, thereby completing the present invention.
즉, 본 발명은, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자를 이방성 도전 접속하기 위한 이방성 도전 접착 필름으로서, 도전성 입자가 바인더 수지 조성물에 분산되어 이루어지는 이방성 도전 접착 필름에 있어서, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 도전성 입자가 4 ㎛ 이상의 입자 직경과, 4500 kgf/㎟ 이상의 압축 경도를 갖고, 또한 도전성 입자의 최대 직경을 a 로 하고, 최소 직경을 b 로 했을 때, a/b 로 나타내는 도전성 입자의 진구도가 5 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착 필름을 제공한다.That is, this invention is an anisotropic conductive adhesive film for anisotropic conductive connection of the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate, In an anisotropic conductive adhesive film in which electroconductive particle is disperse | distributed to a binder resin composition, electroconductive particle after anisotropic conductive connection When the particle diameter of A is made A and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is B, electroconductive particle is 4 micrometers or more so that the indentation rate defined by 100 (AB) / A will be 40% or more. The sphericity of the electroconductive particle represented by a / b is 5 or less, when it has a particle diameter and the compressive hardness of 4500 kgf / mm <2> or more, and the maximum diameter of electroconductive particle is a and the minimum diameter is b, It is characterized by the above-mentioned. An anisotropic conductive adhesive film is provided.
또, 본 발명은 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자가, 도전성 입자가 바인더 수지 조성물에 분산되어 이루어지는 이방성 도전 접착 필름을 개재하여 이방성 도전 접속된 접속 구조체에 있어서, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이에 협지되어야 하는 이방성 도전 접착 필름의 도전성 입자가, 4 ㎛ 이상의 입자 직경과, 4500 kgf/㎟ 이상의 압축 경도를 갖고, 또한 그 최대 직경을 a 로 하고, 최소 직경을 b 로 했을 때, a/b 로 나타내는 도전성 입자의 진구도가 5 이하이며, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 도전성 입자가 플렉시블 기판의 단자에 파고들어가 있는 것을 특징으로 하는 접속 구조체를 제공한다.Moreover, this invention is the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate, The connection structure of the terminal of a flexible board | substrate and a rigid board | substrate in the bonded structure which anisotropically conductively connected through the anisotropic conductive adhesive film in which electroconductive particle is disperse | distributed to a binder resin composition is When the electroconductive particle of the anisotropic conductive adhesive film which should be clamped between terminals has a particle diameter of 4 micrometers or more, the compressive hardness of 4500 kgf / mm <2> or more, and makes the maximum diameter a and the minimum diameter b, a The sphericity of the electroconductive particle represented by / b is 5 or less, when the particle diameter of the electroconductive particle after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is 100 (AB) Electroconductive particle penetrates into the terminal of a flexible substrate so that the indentation rate defined by / A may be 40% or more, The connection characterized by the above-mentioned. Provide a structure.
또한, 본 발명은, 상기 서술한 접속 구조체의 제조 방법으로서, 리지드 기판의 단자 상에 본 발명의 이방성 도전 접착 필름을 임시 부착하고, 그 이방성 도전 접착 필름을 끼워, 리지드 기판의 단자에 플렉시블 기판의 단자가 대응하도록, 플렉시블 기판을 배치하고, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 플렉시블 기판측으로부터, 가열 본더로 이방성 도전 접착 필름을 가열 가압함으로써 이방성 도전 접속을 실시하는 것을 특징으로 하는 제조 방법을 제공한다.Moreover, this invention is a manufacturing method of the above-mentioned connection structure WHEREIN: The anisotropic conductive adhesive film of this invention is temporarily attached on the terminal of a rigid board | substrate, the anisotropic conductive adhesive film is sandwiched, and the terminal of a rigid board | substrate of a flexible substrate is provided. When a flexible board | substrate is arrange | positioned so that a terminal may correspond, the particle diameter of the electroconductive particle after anisotropic conductive connection shall be set to A, and when the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate shall be B, it will be 100 (AB) / A. An anisotropic conductive connection is provided by heat-pressing an anisotropic conductive adhesive film with a heating bonder from the flexible substrate side so that the defined indentation rate is 40% or more.
본 발명의 이방성 도전 접착 필름에 있어서는, 도전성 입자의 입자 직경, 압축 경도, 진구도를 각각 특정한 범위로 한정하고 있다. 이 때문에, 이방성 도전 접속 후의 접속 구조체에 있어서의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률을 40 % 이상으로 할 수 있다. 따라서, 접속 구조체의 플렉시블 기판측으로부터 단자의 압흔을 관찰할 수 있고, 게다가 고온 고습 환경하에 보존한 경우에도 양호한 접속 신뢰성을 확보할 수 있다.In the anisotropic conductive adhesive film of this invention, the particle diameter, compressive hardness, and sphericity of electroconductive particle are respectively limited to the specific range. For this reason, when the particle diameter of the electroconductive particle in the bonded structure after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is set to B, it is press-in defined as 100 (AB) / A. The rate can be 40% or more. Therefore, the indentation of a terminal can be observed from the flexible board side of a bonded structure, and also favorable connection reliability can be ensured even when it preserve | stores in a high temperature, high humidity environment.
도 1 은 도전성 입자의 압입률의 설명도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Explanatory drawing of the indentation rate of electroconductive particle.
본 발명의 이방성 도전 접착 필름은, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리술폰 등의 수지 필름에, 구리 배선, 알루미늄 배선 등이 형성된 플렉시블 기판의 단자와, 유리 기판, 세라믹 기판, 유리 에폭시제의 프린트 배선 기판 등의 리지드 기판에, ITO 배선, 구리 배선, 알루미늄 배선 등이 형성된 리지드 기판의 단자를, 이방성 도전 접속하기 위한 이방성 도전 접착 필름으로서, 도전성 입자가 바인더 수지 조성물에 분산되어 이루어지는 것이다. 여기에서, 바람직한 리지드 기판으로서는, 투명성 면에서 유리 기판을 들 수 있다. 또한, 플렉시블 기판이나 리지드 기판에는, 반도체 칩 등이 실장 (實奬) 되어 있어도 된다. 또, 각각의 기판의 단자에는, 필요에 따라 금도금 등을 실시해 두어도 된다.The anisotropic conductive adhesive film of the present invention is made of a terminal of a flexible substrate on which copper wiring, aluminum wiring, or the like is formed on a resin film such as polyimide, polyester, polyamide, polysulfone, a glass substrate, a ceramic substrate, or a glass epoxy product. Electroconductive particle is disperse | distributed to a binder resin composition as an anisotropic conductive adhesive film for anisotropically conductively connecting the terminal of the rigid board | substrate with which ITO wiring, copper wiring, aluminum wiring, etc. were formed in rigid substrates, such as a printed wiring board. Here, as a preferable rigid substrate, a glass substrate is mentioned from a transparency point. In addition, a semiconductor chip or the like may be mounted on the flexible substrate or the rigid substrate. In addition, you may give gold plating etc. to the terminal of each board | substrate as needed.
본 발명에 있어서는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자 (1) 의 입자 직경을 A 로 하고, 리지드 기판 (2) 의 단자 (3) 와 플렉시블 기판 (4) 의 단자 (5) 사이의 갭을 B 로 했을 때, 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상, 바람직하게는 60 % 이상이 되도록 한다. 이로 인해, 플렉시블 기판측으로부터 단자의 압흔을 관찰할 수 있고, 게다가 열습 시험하에서 이방성 도전 접착 필름에 의한 이방성 도전 접속부의 접속 저항을 증대시키지 않도록 할 수 있다. 또한, 압입률이 0 % 인 경우 (A-B 가 0 인 경우), 도전성 입자가 단자에 박히지 않고 단자 사이에서 눌러 부서진 상태를 의미한다. 또, 압입률이 100 % 인 경우 (B 가 0 인 경우), 도전성 입자가 플렉시블 기판의 단자에 완전히 압입된 상태를 의미한다.In this invention, as shown in FIG. 1, the particle diameter of the electroconductive particle 1 after anisotropic conductive connection is set to A, the terminal 3 of the rigid board |
본 발명의 이방성 도전 접착 필름을 구성하는 도전성 입자의 입자 직경은, 지나치게 작으면 플렉시블 기판의 단자에 압흔을 발생시키기 어려워지므로, 4 ㎛ 이상, 바람직하게는 6 ㎛ 이상이다. 입자 직경의 상한에 대해서는, 접속해야 하는 단자의 피치나 두께 편차 등에 따라 적절히 결정할 수 있는데, 15 ㎛ 이하가 바람직하다. 보다 바람직한 입자 직경의 범위는, 6 ? 10 ㎛ 이다.Since the particle diameter of the electroconductive particle which comprises the anisotropic conductive adhesive film of this invention becomes hard to produce an indentation to the terminal of a flexible substrate, when it is too small, it is 4 micrometers or more, Preferably it is 6 micrometers or more. Although the upper limit of a particle diameter can be suitably determined according to the pitch, thickness variation, etc. of the terminal to be connected, 15 micrometers or less are preferable. The range of the more preferable particle diameter is 6? 10 μm.
본 발명에 있어서 사용하는 도전성 입자의 압축 경도는, 지나치게 낮으면 플렉시블 기판의 단자에 압흔을 발생시키기 어려워지므로, 4500 kgf/㎟ 이상, 바람직하게는 6000 kgf/㎟ 이상이다. 또, 지나치게 높으면 접속 신뢰성이 저하되는 경향이 있으므로, 7000 kgf/㎟ 이하가 바람직하다. 여기에서, 압축 경도는, 10 % 압축 변위시의 압축 강도와 동의 (同義) 이며, 일반적인 미소 압축 시험기를 사용하여 측정할 수 있다.Since the compressive hardness of the electroconductive particle used in this invention becomes difficult to produce indentation in the terminal of a flexible board | substrate when it is too low, it is 4500 kgf / mm <2> or more, Preferably it is 6000 kgf / mm <2> or more. Moreover, since it exists in the tendency for connection reliability to fall when too high, 7000 kgf / mm <2> or less is preferable. Here, a compressive hardness is synonymous with the compressive strength at the time of 10% compression displacement, and can be measured using a general micro compression tester.
또, 본 발명에 있어서 사용하는 도전성 입자는, 진구도를 금속 현미경 관찰에 의해 얻어지는 그 최대 직경을 a 로 하고, 최소 직경을 b 로 했을 때, a/b 라고 정의한 경우에, 5 이하의 진구도, 바람직하게는 3 이하의 진구도를 나타낸다. 이것은, 진구도가 5 를 초과하면 접속 신뢰성이 저하되는 경향이 있기 때문이다. 또한, 최대 직경 a 는, 지나치게 작으면 압흔이 발현되기 어려워지는 경향이 있고, 지나치게 크면 이방 도전성이 저하되는 경향이 있으므로, 바람직하게는 4 ? 15 ㎛, 보다 바람직하게는 6 ? 10 ㎛ 이다. 한편, 최소 직경 b 는, 지나치게 작으면 압흔이 발현되기 어려워지는 경향이 있고, 지나치게 크면 이방 도전성이 저하되는 경향이 있으므로, 바람직하게는 4 ? 15 ㎛, 보다 바람직하게는 6 ? 10 ㎛ 이다. 또한, 본 발명에 있어서 진구도는, 논리적으로 반드시 1 이상이 된다.Moreover, the electroconductive particle used in this invention has a sphericity degree of 5 or less, when defining the sphericity degree as a / b, when the maximum diameter obtained by metal microscopic observation makes a and the minimum diameter is b, Preferably, the sphericity of 3 or less is shown. This is because the connection reliability tends to be lowered when the sphericity exceeds 5. In addition, when the maximum diameter a is too small, the indentation tends to be less likely to be expressed, and when too large, the anisotropic conductivity tends to be lowered. 15 µm, more preferably 6? 10 μm. On the other hand, if the minimum diameter b is too small, the indentation tends to be less likely to be expressed, and if too large, the anisotropic conductivity tends to be lowered. 15 µm, more preferably 6? 10 μm. In addition, in this invention, a sphericity is necessarily 1 or more logically.
이상 설명한 성상을 갖는 도전성 입자로서는, 니켈, 코발트, 은, 동, 금, 팔라듐, 땜납 등의 금속 입자, 디비닐벤젠계 수지, 벤조구아나민 수지 등의 수지 입자의 표면에 무전해 니켈 도금막 등의 무전해 도금막을 형성한 것을 적용할 수 있다.Examples of the conductive particles having the properties described above include metal particles such as nickel, cobalt, silver, copper, gold, palladium and solder, electroless nickel plated films and the like on the surfaces of resin particles such as divinylbenzene resin and benzoguanamine resin. The electroless plating film of which is formed is applicable.
이와 같은 도전성 입자를 분산시키는 바인더 수지 조성물로서는, 공지된 이방성 도전 접착 필름에 사용되고 있는 바인더 수지 조성물을 채용할 수 있다. 예를 들어, 막형성 수지, 액상 에폭시 화합물 (경화 성분) 혹은 아크릴 모노머 (경화 성분), 경화제, 실란커플링제 등으로 구성할 수 있다.As a binder resin composition which disperses such electroconductive particle, the binder resin composition used for the well-known anisotropic conductive adhesive film can be employ | adopted. For example, it can comprise with a film forming resin, a liquid epoxy compound (hardening component) or an acrylic monomer (hardening component), a hardening | curing agent, a silane coupling agent, etc.
막형성 수지로서는, 페녹시 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 부타디엔 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리올레핀 수지 등을 들 수 있으며, 이들 2 종 이상을 병용할 수 있다. 이들 중에서도, 제막성, 가공성, 접속 신뢰성 면에서, 페녹시 수지를 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the film-forming resins include phenoxy resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, saturated polyester resins, urethane resins, butadiene resins, polyimide resins, polyamide resins, polyolefin resins, and the like. can do. Among these, phenoxy resin can be used preferably from a film forming property, workability, and connection reliability point.
액상 에폭시 화합물로서는, 비스페놀 A 형 에폭시 화합물, 비스페놀 F 형 에폭시 화합물, 노볼락형 에폭시 화합물, 그들의 변성 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있으며, 이들 2 종 이상을 병용할 수 있다. 이 경우, 경화제로서는, 폴리아민, 이미다졸 등의 아니온계 경화제나 술포늄염 등의 카티온계 경화제, 페놀계 경화제 등의 잠재성 경화제를 들 수 있다.As a liquid epoxy compound, a bisphenol-A epoxy compound, a bisphenol F-type epoxy compound, a novolak-type epoxy compound, those modified epoxy compounds, an alicyclic epoxy compound, etc. are mentioned, These 2 or more types can be used together. In this case, as a hardening | curing agent, latent hardening | curing agents, such as cationic hardening | curing agents, such as anionic hardening | curing agents, such as a polyamine and an imidazole, and a sulfonium salt, and a phenolic hardening | curing agent, are mentioned.
아크릴 모노머로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이 경우, 경화제 (라디칼 중합 개시제) 로서는, 유기 과산화물, 아조비스부티로니트릴 등을 들 수 있다.As an acryl monomer, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, ethylene glycol (meth) acrylate, and ethylene glycol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylol methane tetra (meth) acrylate, and the like. In this case, an organic peroxide, azobisbutyronitrile, etc. are mentioned as a hardening | curing agent (radical polymerization initiator).
실란커플링제로서는, 에폭시계 실란커플링제, 아크릴계 실란커플링제 등을 들 수 있다. 이들 실란커플링제는, 주로 알콕시실란 유도체이다.As a silane coupling agent, an epoxy silane coupling agent, an acryl-type silane coupling agent, etc. are mentioned. These silane coupling agents are mainly alkoxysilane derivatives.
바인더 수지 조성물에는, 필요에 따라 충전제, 연화제, 촉진제, 노화 방지제, 착색제 (안료, 염료), 유기 용제, 이온 캐처제 등을 배합할 수 있다.A filler, a softener, an accelerator, an anti-aging agent, a coloring agent (pigment, dye), an organic solvent, an ion catcher agent, etc. can be mix | blended with a binder resin composition as needed.
본 발명의 이방성 도전 접착 필름 중의 도전성 입자의 함유량은, 지나치게 적으면 접속 신뢰성이 저하되고, 지나치게 많으면 이방 도전성이 저하되므로, 바람직하게는 0.3 ? 30 질량%, 보다 바람직하게는 5 ? 10 질량% 이다.When content of the electroconductive particle in the anisotropic conductive adhesive film of this invention is too small, connection reliability will fall, and when too much, anisotropic conductivity will fall, Preferably it is 0.3? 30 mass%, More preferably, it is 5? 10 mass%.
본 발명의 이방성 도전 접착 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 10 ? 45 ㎛ 이다.Although the thickness of the anisotropic conductive adhesive film of this invention is not specifically limited, Usually, 10? 45 μm.
본 발명의 이방성 도전 접착제는, 교반 용기에, 바인더 수지 조성물 구성 성분과 도전성 입자를 투입하고, 통상적인 방법에 따라 혼합함으로써 조제할 수 있다.The anisotropic conductive adhesive of this invention can be prepared by putting a binder resin composition structural component and electroconductive particle into a stirring container, and mixing according to a conventional method.
다음으로, 본 발명의 이방성 도전 필름을 사용하여 제조된 본 발명의 접속 구조체에 대하여 설명한다.Next, the bonded structure of this invention manufactured using the anisotropic conductive film of this invention is demonstrated.
본 발명의 접속 구조체는, 이미 설명한 바와 같은 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자가, 도전성 입자가 바인더 수지 조성물에 분산되어 이루어지는 이방성 도전 접착 필름을 개재하여 이방성 도전 접속된 접속 구조체이고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이에 협지되어야 하는 이방성 도전 접착 필름으로서, 본 발명의 이방성 도전 필름을 사용하는 것을 특징으로 한다. 이 접속 구조체는, 본 발명의 이방성 도전 필름을 사용하고 있기 때문에, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상, 바람직하게는 60 % 이상이 되도록, 도전성 입자가 플렉시블 기판의 단자에 파고 들어가 있는 구조를 갖는다. 이 경우, 플렉시블 기판으로부터 도전성 입자의 압흔의 관찰을 용이하게 하기 위해, 리지드 기판의 단자에 도전성 입자가 파고들어가지 않는 편이 바람직하다.The connection structure of this invention is a connection structure with which the terminal of a flexible board and the terminal of a rigid board which were demonstrated previously are anisotropic electrically conductively connected via the anisotropic conductive adhesive film in which electroconductive particle is disperse | distributed to a binder resin composition, An anisotropic conductive film of the present invention is used as an anisotropic conductive adhesive film to be sandwiched between a terminal and a terminal of a rigid substrate. Since this bonded structure uses the anisotropic conductive film of this invention, when the particle diameter of the electroconductive particle after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is set to 100? It has a structure in which electroconductive particle penetrates into the terminal of a flexible substrate so that the indentation rate defined by (AB) / A may be 40% or more, Preferably it is 60% or more. In this case, in order to facilitate observation of the indentation of electroconductive particle from a flexible substrate, it is preferable that electroconductive particle does not penetrate into the terminal of a rigid substrate.
이와 같은 본 발명의 접속 구조체의 구체예로서는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 태양 전지 모듈, LED 조명 장치 등을 들 수 있다.As a specific example of such a bonded structure of this invention, a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display, a solar cell module, an LED illuminating device, etc. are mentioned.
본 발명의 접속 구조체는, 이하에 설명하는 바와 같이 제조할 수 있다.The bonded structure of this invention can be manufactured as demonstrated below.
먼저, 리지드 기판의 단자 상에 본 발명의 이방성 도전 접착 필름을 통상적인 방법에 따라 임시 부착한다. 그리고, 그 이방성 도전 접착 필름을 끼워, 리지드 기판의 단자에 플렉시블 기판의 단자가 대응하도록, 플렉시블 기판을 배치한다.First, the anisotropic conductive adhesive film of this invention is temporarily attached on the terminal of a rigid board | substrate according to a conventional method. Then, the flexible substrate is placed so that the terminals of the flexible substrate correspond to the terminals of the rigid substrate, sandwiching the anisotropic conductive adhesive film.
다음으로, 플렉시블 기판측으로부터, 가열 본더로 이방성 도전 접착 필름을 가열 가압함으로써 이방성 도전 접속을 실시한다. 이 경우, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 바인더 수지 조성물의 배합 조성이나, 도전성 입자의 재료, 단자의 표면 상태 등을 고려하면서, 이방성 도전 접속을 실시한다. 이로 인해, 본 발명의 접속 구조체를 얻을 수 있다.Next, anisotropic conductive connection is performed by heat-pressing an anisotropic conductive adhesive film with a heating bonder from the flexible substrate side. In this case, when the particle diameter of the electroconductive particle after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is B, the indentation rate defined by 100 (AB) / A is 40% or more. Anisotropic conductive connection is performed while considering the compounding composition of a binder resin composition, the material of electroconductive particle, the surface state of a terminal, etc. so that it may become. For this reason, the bonded structure of this invention can be obtained.
또한, 압입률의 컨트롤은, 이방성 도전 접속시의 가열 가압 조건 등을 조정함으로써 실시할 수 있다. 예를 들어, 가열 온도를 낮추거나, 가압 압력을 높이거나 함으로써, 압입률을 올릴 수 있다. 반대로, 가열 온도를 높게 하거나, 가압 압력을 낮추거나 함으로써, 압입률을 내릴 수 있다. 또, 플렉시블 기판, 리지드 기판, 그들의 단자, 도전 입자 등의 소재를 선택함으로써 조정할 수도 있다. 또, 그것들을 조합하여 조정할 수도 있다.In addition, control of a press-fit rate can be performed by adjusting the heating press conditions etc. at the time of anisotropic conductive connection. For example, the indentation rate can be raised by lowering heating temperature or raising pressurization pressure. In contrast, the indentation ratio can be lowered by increasing the heating temperature or lowering the pressurizing pressure. Moreover, it can also adjust by selecting raw materials, such as a flexible board | substrate, a rigid board | substrate, those terminals, and electroconductive particle. Moreover, it can also adjust in combination.
실시예Example
이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.
실시예 1 ? 13, 비교예 2 ? 5Example 1? 13, comparative example 2? 5
(도전성 입자의 조제)(Preparation of conductive particles)
표 1 의 평균 입자 직경의 니켈 입자 100 g 을, 염산 50 ㎖/ℓ 의 수용액 중에서 5 분간 교반하였다. 이것을 여과하여, 1 회 리펄프 수세를 실시한 니켈 입자를, EDTA-4Na (10 g/ℓ) 와 시트르산-2Na (10 g/ℓ) 를 포함하는 수용액 1 ℓ (pH 6, 온도 60 ℃) 가 들어 있는 반응 용기에 교반하면서 첨가하였다.100 g of nickel particles having an average particle diameter of Table 1 were stirred for 5 minutes in an aqueous solution of 50 ml / L hydrochloric acid. 1 L (pH 6, temperature 60 degreeC) of the aqueous solution containing EDTA-4Na (10 g / L) and citric acid-2Na (10 g / L) contains the nickel particle which filtered this and washed once with the pulp. It was added to the reaction vessel with stirring while stirring.
이어서, 반응 용기 중의 얻어진 혼합 수용액에, 시안화 금칼륨 (10 g/ℓ, Au로서 6.8 g/ℓ), EDTA-4Na (10 g/ℓ) 및 시트르산-2Na (10 g/ℓ) 를 함유하는 혼합 수용액 (A 액) 300 ㎖ 와, 수소화 붕소칼륨 (30 g/ℓ) 및 수산화 나트륨 (60 g/ℓ) 을 함유하는 혼합 수용액 (B 액) 300 ㎖ 를, 각각 상이한 도입구로부터 동시에 20 분간 첨가하고, 다시 10 분간 교반을 계속함으로써 무전해 금도금을 실시하였다.Subsequently, in the obtained mixed aqueous solution in the reaction vessel, a mixture containing gold potassium cyanide (10 g / L, 6.8 g / L as Au), EDTA-4Na (10 g / L) and citric acid-2Na (10 g / L) 300 ml of an aqueous solution (Liquid A) and 300 ml of a mixed aqueous solution (Liquid B) containing potassium borohydride (30 g / l) and sodium hydroxide (60 g / l) were simultaneously added from different inlets for 20 minutes Then, electroless gold plating was performed by continuing stirring for 10 minutes.
금도금 종료 후, 혼합액을 여과하여, 여과물을 3 회 리펄프 수세한 후, 100 ℃ 의 열풍을 이용하여 건조시켜, 니켈 분말 표면 상에 약 10 ? 20 ㎚ 두께의 무전해 금도금 박막이 형성된 도전성 입자를 얻었다. 이 도전성 입자의 평균 입자 직경은, 무전해 금도금 박막이 매우 얇기 때문에, 원료의 니켈 입자의 평균 입자 직경에 근사할 수 있다.After completion of the gold plating, the mixed solution was filtered, the filtrate was washed three times with pulp, dried using hot air at 100 ° C., and heated to about 10 ° C. on the surface of the nickel powder. Electroconductive particle in which the 20-nm-thick electroless gold plating thin film was formed was obtained. Since the electroless gold plating thin film is very thin, the average particle diameter of this electroconductive particle can be approximated to the average particle diameter of the nickel particle of a raw material.
또한, 니켈 입자의 평균 입자 직경은, 레이저 회절 산란법에 의해 입도 분포를 측정 (측정 장치 : 마이크로 트럭 MT3100, 닛키소 (주)) 하여, 누적 질량이 50 % 에 상당하는 점에서의 입자 직경이다.In addition, the average particle diameter of nickel particle is the particle diameter in the point which cumulative mass corresponds to 50% by measuring particle size distribution by a laser diffraction scattering method (measurement apparatus: micro truck MT3100, Nikkiso Co., Ltd.). .
또, 얻어진 도전성 입자의 10 % 압축 변위시의 압축 경도를 미소 압축 시험기 (PCT-200, 시마즈 제작소 (주)) 를 이용하여 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.Moreover, the compressive hardness at the time of 10% compression displacement of the obtained electroconductive particle was measured using the micro compression tester (PCT-200, Shimadzu Corporation). The obtained results are shown in Table 1.
도전성 입자의 진구도는, 도전성 입자를 금속 현미경 (MX51, 올림퍼스 (주)) 을 이용하여 촬영하고, 입자의 최대 직경 a 와 최소 직경 b 를 구하여, 진구도로서 a/b 를 산출하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.The sphericity of electroconductive particle image | photographed electroconductive particle using the metal microscope (MX51, Olympus Co., Ltd.), calculated | required the largest diameter a and the minimum diameter b of particle | grains, and computed a / b as a sphericity degree. The obtained results are shown in Table 1.
(이방성 도전 접착 필름의 제작)(Production of Anisotropic Conductive Adhesive Film)
도전성 입자 5 질량부에, 페녹시 수지 (YP-50, 신닛카 에폭시 제조 (주)) 22 질량부, 디시클로펜타디엔디메타크릴레이트 (DCP, 신나카무라 화학 공업 (주)) 5 질량부, 우레탄아크릴레이트 (M-1600, 토아 합성 (주)) 10 질량부, 아크릴 고무 (SG-80H, 나가세 켐텍스 (주)) 5 질량부, 인 함유 메타크릴레이트 (PM2, 닛폰 화약 (주)) 1 질량부, 디아실퍼옥사이드계 개시제 (나이퍼 BW, 니치유 (주)) 2 질량부, 및 톨루엔 50 질량부를 혼합하여, 얻어진 혼합물을 박리 시트에 건조 두께가 35 ㎛ 가 되도록 도포하고, 80 ℃ 에서 5 분간 건조시킴으로써 이방성 도전 접착 필름을 얻었다.22 parts by mass of phenoxy resin (YP-50, Shin-Nika Epoxy Co., Ltd.), 5 parts by mass of dicyclopentadiene dimethacrylate (DCP, Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), urethane Acrylate (M-1600, Toa Synthetic Co., Ltd.) 10 parts by mass, acrylic rubber (SG-80H, Nagase Chemtex Co., Ltd.) 5 parts by mass, phosphorus-containing methacrylate (PM2, Nippon Gunpowder Co., Ltd.) 1 Mass part, 2 mass parts of diacyl peroxide type initiators (niper BW, Nichi Oil Co., Ltd.), and 50 mass parts of toluene are mixed, and the obtained mixture is apply | coated to a peeling sheet so that dry thickness may be 35 micrometers, and it is 5 at 80 degreeC. The anisotropic conductive adhesive film was obtained by drying for minutes.
얻어진 이방성 도전 접착 필름을 사용하여, 폴리이미드 플렉시블 기판 (폴리이미드 두께 38 ㎛, 구리 배선 피치 200 ㎛, 배선 높이 8 ㎛) 과, 프린트 배선 기판 (FR-4 그레이드, 파나소닉 (주) : 구리 배선 피치 200 ㎛, 배선 높이 35 ㎛) 을, 170 ℃, 4 ㎫, 5 초라는 가열 가압 조건으로 이방성 도전 접속하여 접속 구조체를 제조하였다.Using the obtained anisotropic conductive adhesive film, a polyimide flexible substrate (polyimide thickness 38 micrometers, copper wiring pitch 200 micrometers, wiring height 8 micrometers), and a printed wiring board (FR-4 grade, Panasonic Corporation: copper wiring pitch 200 micrometers, wiring height 35 micrometers), and the anisotropic conductive connection was carried out on the heating pressurization conditions of 170 degreeC, 4 Mpa, and 5 second, and the bonded structure was produced.
얻어진 접속 구조체의 이방성 도전 접속부의 단면 (斷面) 을 연마하고, 금속 현미경으로 입자 직경 A 와 배선간 갭 B (도전성 입자가 협지되어 있는 단자 사이 갭) 을 측정하여, 도전성 입자의 압입률 (=100?(A-B)/A) 을 구하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.The end face of the anisotropic conductive connection of the obtained bonded structure was polished, the particle diameter A and the gap B between the wirings (gap between terminals on which the conductive particles were sandwiched) were measured with a metal microscope, and the indentation ratio of the conductive particles (= (AB) / A) was calculated | required. The obtained results are shown in Table 1.
또, 얻어진 접속 구조체에 대하여, 온도 85 ℃, 습도 85 % 의 고온 고습 환경하에 500 시간 보존한 경우의 접속 저항을 측정하여, 이하의 기준으로 접속 신뢰성을 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다. 실용상, 평가 결과가 A 또는 B 인 것이 바람직하다.Moreover, about the obtained bonded structure, the connection resistance at the time of storing for 500 hours in the high temperature, high humidity environment of 85 degreeC of temperature and 85% of humidity was measured, and connection reliability was evaluated by the following references | standards. The obtained results are shown in Table 1. In practical use, the evaluation result is preferably A or B.
랭크 평가 기준Rank evaluation criteria
A : 접속 저항값이 2.0 Ω 미만인 경우A: Connection resistance is less than 2.0 Ω
B : 접속 저항값이 2.0 Ω 이상 4.0 Ω 미만인 경우 B: Connection resistance value is 2.0 Ω or more and less than 4.0 Ω
C : 접속 저항값이 4.0 Ω 이상인 경우C: Connection resistance is 4.0 Ω or more
또, 일본 공개특허공보 2008-91843호의 도 1 ? 도 3 에 기재된 측정 장치와 동일한 구성 장치를 제조하고, 그것을 이용하여 접속 구조체의 접속부를 플렉시블 기판측으로부터 도전성 입자에 의한 배선 (단자) 의 압흔을 관찰하여, 이하의 기준으로 압흔 상태를 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다. 실용상, 평가 결과가 A 또는 B 인 것이 바람직하다. 또한, 압흔은 플렉시블 기판이 변형됨으로써 발생한 것이다.Moreover, FIG. 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-91843 is shown. The same structural apparatus as the measuring apparatus of FIG. 3 was manufactured, the indentation of the wiring (terminal) by electroconductive particle was observed from the flexible board side using the connection part of a bonded structure, and the indentation state was evaluated on the following references | standards. The obtained results are shown in Table 1. In practical use, the evaluation result is preferably A or B. Incidentally, the indentation is caused by deformation of the flexible substrate.
랭크 평가 기준Rank evaluation standard
A : 접속부의 관찰 지점 10 개 지점 중 8 개 지점 이상에서 압흔이 확인된 경우A: Indentation was confirmed at 8 or more points out of 10 observation points of the connection part.
B : 접속부의 관찰 지점 10 개 지점 중 1 ? 7 개 지점에서 압흔이 확인된 경우 B: 1? Indentation found at 7 points
C : 접속부의 관찰 지점 10 개 지점 중에 압흔이 확인되지 않는 경우C: Indentation is not confirmed among 10 observation points
비교예 1Comparative Example 1
평균 입자 직경 8 ㎛ 의 디비닐벤젠계 수지 입자 (5 g) 에, 팔라듐 촉매를 침지법에 의해 담지시켰다. 이어서, 이 수지 입자에 대해, 황산니켈 육수화물, 차아인산나트륨, 시트르산나트륨, 트리에탄올아민 및 질산탈륨으로부터 조제된 무전해 니켈 도금액 (pH 12, 도금액온 50 ℃) 을 이용하여 무전해 니켈 도금을 실시하여, 니켈 도금층 (10 ? 20 ㎚ 두께) 이 표면에 형성된 니켈 피복 수지 코어 입자를 도전성 입자로서 얻었다.The palladium catalyst was supported by the immersion method on the divinylbenzene-type resin particle (5g) of 8 micrometers of average particle diameters. The resin particles were then electroless nickel plated using an electroless nickel plating solution (pH 12, plating solution temperature 50 ° C.) prepared from nickel sulfate hexahydrate, sodium hypophosphite, sodium citrate, triethanolamine and thallium nitrate. And the nickel coating resin core particle in which the nickel plating layer (10-20 nm thickness) was formed in the surface was obtained as electroconductive particle.
얻어진 니켈 피복 수지 코어 입자를, 실시예 1 과 동일하게 무전해 금도금 처리를 실시함으로써, 도전성 입자로서 Ni-Au 피복 수지 코어 입자를 얻었다.Ni-Au coating resin core particles were obtained as electroconductive particles by performing the electroless gold plating treatment on the obtained nickel coating resin core particles in the same manner as in Example 1.
얻어진 도전성 입자에 대하여, 실시예 1 과 동일하게, 평균 입자 직경, 압축 경도, 진구도를 구하여, 얻어진 결과를 표 1 에 나타내었다. 또, 실시예 1 과 동일하게, 이방성 도전 접착 필름을 제조하여 도전성 입자의 압입률을 구하고, 또, 접속 신뢰성을 평가하고, 또한 압흔 상태를 평가하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.About the obtained electroconductive particle, the average particle diameter, compressive hardness, and sphericity degree were calculated | required similarly to Example 1, and the obtained result is shown in Table 1. Moreover, similarly to Example 1, the anisotropic conductive adhesive film was produced, the indentation rate of electroconductive particle was calculated | required, the connection reliability was evaluated, and the indentation state was further evaluated. The obtained results are shown in Table 1.
표 1 로부터, 실시예 1 ? 13 의 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 경우, 접속 신뢰성 및 압흔 상태의 평가 결과가 모두 A 또는 B 여서, 실용상 문제가 없는 것이었다.From Table 1, Example 1? In the case of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive adhesive film of 13, all the evaluation results of connection reliability and an indentation state were A or B, and there was no problem practically.
한편, 비교예 1 의 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 경우, 사용한 도전성 입자의 10 % 압축 변형시의 압축 경도가 700 kgf/㎟ 로 매우 낮고, 또, 도전성 입자의 압입률도 12 % 로 낮기 때문에, 압흔 상태의 평가가 C 였다.On the other hand, in the case of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive adhesive film of Comparative Example 1, the compressive hardness at the time of 10% compression deformation of the used conductive particles was very low at 700 kgf /
비교예 2 의 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 경우, 사용한 도전성 입자의 평균 입자 직경이 3 ㎛ 로 작기 때문에, 압흔 상태의 평가가 C 였다.In the case of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive adhesive film of the comparative example 2, since the average particle diameter of the used electroconductive particle was 3 micrometers small, evaluation of the indentation state was C.
비교예 3 의 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 경우, 진구도가 5.3 으로 크기 때문에 접속 신뢰성의 평가가 C 였다.In the case of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive adhesive film of the comparative example 3, since the sphericity was 5.3, the evaluation of connection reliability was C.
비교예 4 의 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 경우, 사용한 도전성 입자의 평균 입자 직경이 3 ㎛ 로 작기 때문에, 압흔 상태의 평가가 C 였다.In the case of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive adhesive film of the comparative example 4, since the average particle diameter of the used electroconductive particle was 3 micrometers small, evaluation of the indentation state was C.
비교예 5 의 이방성 도전 접착 필름을 사용하여 제조한 접속 구조체의 경우, 도전성 입자의 압입률이 35 % 로 낮기 때문에, 압흔 상태의 평가가 C 였다.In the case of the bonded structure manufactured using the anisotropic conductive adhesive film of the comparative example 5, since the indentation rate of electroconductive particle was 35%, evaluation of the indentation state was C.
산업상 이용가능성Industrial availability
본 발명의 이방성 도전 접착 필름은, 사용하는 도전성 입자의 입자 직경, 압축 경도, 진구도를 각각 특정한 범위로 한정하고 있다. 이 때문에, 이방성 도전 접속 후의 접속 구조체에 있어서의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률을 40 % 이상으로 할 수 있다. 따라서, 접속 구조체의 플렉시블 기판측으로부터 단자의 압흔을 관찰할 수 있고, 게다가 고온 고습 환경하에 보존한 경우에도 양호한 접속 신뢰성을 확보할 수 있다. 그러므로, 본 발명의 이방성 도전 접착 필름은, 플렉시블 기판과 리지드 기판를 이방성 도전 접속할 때에 유용하다.The anisotropic conductive adhesive film of this invention limits the particle diameter, compressive hardness, and sphericity degree of the electroconductive particle to be used to a specific range, respectively. For this reason, when the particle diameter of the electroconductive particle in the bonded structure after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is set to B, it is press-in defined as 100 (AB) / A. The rate can be 40% or more. Therefore, the indentation of a terminal can be observed from the flexible board side of a bonded structure, and also favorable connection reliability can be ensured even when it preserve | stores in a high temperature, high humidity environment. Therefore, the anisotropic conductive adhesive film of this invention is useful at the time of anisotropic conductive connection of a flexible substrate and a rigid substrate.
1 : 도전성 입자
2 : 리지드 기판
3 : 리지드 기판의 단자
4 : 플렉시블 기판
5 : 플렉시블 기판의 단자
A : 도전성 입자의 입자 직경
B : 단자 사이 갭1: electroconductive particle
2: rigid substrate
3: terminal of rigid board
4: flexible substrate
5: Terminal of Flexible Board
A: particle diameter of conductive particles
B: gap between terminals
Claims (6)
이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 도전성 입자가 4 ㎛ 이상의 입자 직경과, 4500 kgf/㎟ 이상의 압축 경도를 갖고, 또한 도전성 입자의 최대 직경을 a 로 하고, 최소 직경을 b 로 했을 때, a/b 로 나타내는 도전성 입자의 진구도 (眞球度) 가 5 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 접착 필름.In the anisotropic conductive adhesive film for anisotropic conductive connection of the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate, In an anisotropic conductive adhesive film in which electroconductive particle is disperse | distributed to a binder resin composition,
When the particle diameter of the electroconductive particle after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is B, so that the indentation rate defined by 100 (AB) / A may be 40% or more, The sphericity of the electroconductive particle represented by a / b when electroconductive particle has a particle diameter of 4 micrometers or more, the compressive hardness of 4500 kgf / mm <2> or more, and makes the maximum diameter of electroconductive particle into a, and the minimum diameter into b,眞 球 度) is 5 or less, The anisotropic conductive adhesive film characterized by the above-mentioned.
도전성 입자의 압축 경도가 7000 kgf/㎟ 이하이고, 입자 직경이 15 ㎛ 이하이며, 진구도가 5 이하인, 이방성 도전 접착 필름.The method of claim 1,
The anisotropic conductive adhesive film whose compressive hardness of electroconductive particle is 7000 kgf / mm <2> or less, particle diameter is 15 micrometers or less, and a sphericity degree is 5 or less.
플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이에 협지되어야 하는 이방성 도전 접착 필름의 도전성 입자가, 4 ㎛ 이상의 입자 직경과, 4500 kgf/㎟ 이상의 압축 경도를 갖고, 또한 그 최대 직경을 a 로 하고, 최소 직경을 b 로 했을 때, a/b 로 나타내는 도전성 입자의 진구도가 5 이하이며,
이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 도전성 입자가 플렉시블 기판의 단자에 파고들어가 있는 것을 특징으로 하는 접속 구조체.In the bonded structure in which the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate were anisotropic electrically conductively connected through the anisotropic conductive adhesive film in which electroconductive particle is disperse | distributed to a binder resin composition,
The electroconductive particle of the anisotropic conductive adhesive film which should be clamped between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate has a particle diameter of 4 micrometers or more, and a compressive hardness of 4500 kgf / mm <2> or more, and makes the maximum diameter a, and is the minimum When the diameter was b, the sphericity of the conductive particles represented by a / b is 5 or less,
When the particle diameter of the electroconductive particle after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is B, so that the indentation rate defined by 100 (AB) / A may be 40% or more, Electroconductive particle penetrates into the terminal of a flexible substrate, The connection structure characterized by the above-mentioned.
리지드 기판이 유리 기판인, 접속 구조체.The method of claim 3, wherein
The bonded structure wherein the rigid substrate is a glass substrate.
도전성 입자의 압축 경도가 7000 kgf/㎟ 이하이고, 입자 직경이 15 ㎛ 이하이며, 진구도가 5 이하인, 접속 구조체.The method according to claim 3 or 4,
The compressed structure of electroconductive particle is 7000 kgf / mm <2> or less, particle diameter is 15 micrometers or less, and sphericity is 5 or less.
리지드 기판의 단자 상에 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 이방성 도전 접착 필름을 임시 부착하고, 그 이방성 도전 접착 필름을 끼워, 리지드 기판의 단자에 플렉시블 기판의 단자가 대응하도록, 플렉시블 기판을 배치하고,
이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 입자 직경을 A 로 하고, 플렉시블 기판의 단자와 리지드 기판의 단자 사이의 갭을 B 로 했을 때 100?(A-B)/A 로 정의되는 압입률이 40 % 이상이 되도록, 플렉시블 기판측으로부터, 가열 본더로 이방성 도전 접착 필름을 가열 가압함으로써 이방성 도전 접속을 실시하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.As a manufacturing method of the bonded structure of Claim 3,
The flexible board | substrate is arrange | positioned so that the anisotropic conductive adhesive film of Claim 1 or 2 may be temporarily attached on the terminal of a rigid board | substrate, the said anisotropic conductive adhesive film is sandwiched, and the terminal of a flexible board may correspond to the terminal of a rigid board | substrate. ,
When the particle diameter of the electroconductive particle after anisotropic conductive connection is set to A, and the gap between the terminal of a flexible board | substrate and the terminal of a rigid board | substrate is B, so that the indentation rate defined by 100 (AB) / A may be 40% or more, An anisotropic conductive connection is performed by heat-pressing an anisotropic conductive adhesive film with a heating bonder from the flexible substrate side.
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