KR20120084820A - 구강 관리 기구 - Google Patents

Abstract

칫솔과 같은 구강 관리 기구는 헤드와, 칫솔 헤드에 의해 지지되는 다수의 치아 세척 요소를 포함한다. 치아 세척 요소는 치약을 보유하기 위해 칫솔 헤드 위로 떨어져 있는 상승된 치약 유지 리세스를 한정하는 엘라스토머 폴리싱 요소를 포함하는 것이 바람직하다. 일 실시예에서, 리세스는 환형 홈으로서 형성된다. 리세스의 양호한 실시예는 칫솔질중 치약의 손실을 지지 및 최소화하기 위해 부분적으로 또는 완전히 폐쇄된 바닥 부분을 포함한다. 일부 실시예에서, 폴리싱 요소는 다수의 Y 형 폴리싱 부재로부터 함께 형성된다.

Description

구강 관리 기구{ORAL CARE IMPLEMENT}

본 발명은 구강 관리 기구에 관한 것으로서, 특히 치아 세척 요소를 갖는 칫솔에 관한 것이다.

칫솔과 같은 구강 관리 기구는 전형적으로 구강 공동의 치아 및/또는 연조직을 클렌징하기 위해 치약(dentifrice)과 함께 사용된다. 치약 또는 유사한 구강 관리 제품은 활성제(active ingredient)를 포함하며, 상기 활성제는 일반적으로 칫솔질 동작을 통해 칫솔로 관리될 때 치아 및/또는 잇몸의 표면으로부터 플라그 및 찌꺼기(debris)의 제거, 치아의 폴리싱 및 미백, 구강 표면의 박테리아 집단의 감소 등과 같은 구강 건강 이점을 사용자에 제공한다.

종래의 칫솔 헤드는 일반적으로 치아 및/또는 잇몸에 치약의 적용중 치약을 일시적으로 지지하는 강모와 같은 다수의 치아 세척 요소를 포함한다. 설계에 의해, 이런 강모는 보통은 많은 개별적인 강모 스트랜드(전형적으로 나일론 또는 다른 폴리머로 제조되는)를 포함하는 터프트(tuft)내에 형성되며, 주로 찌꺼기를 제거하도록 적용된다. 이들 범용 강모는 특히 미백 및 폴리싱 작용제(agent)를 포함하는 치약으로 사용될 때 치아 표면의 폴리싱 및 그로부터의 얼룩을 제거하는데 최적화되어 있지 않다. 개별적인 강모 스트랜드의 팁(tip)은 얼룩을 효과적으로 제거하고 치아를 폴리싱 및 미백하는데 바람직한 최적 타입의 폴리싱 동작을 달성하기 위해 치아 표면과의 이상적인 표면적 접촉을 적게 한다.

치약과 같은 구강 치료 치약은 타테르(tarter) 제거/제어, 미백, 시린 치아, 에나멜 보호 등을 포함하는 광범위한 공식화(formulation)에 유용하다. 이런 제품들로부터 사용자에게 최대한의 이점을 얻게 하기 위해, 치약은 칫솔질중 치아와 접촉한 채로 머무르는 것이 바람직하다. 그러나, 치약은 전형적으로 치약을 지지하는 칫솔 강모로부터 사용자의 구강내로 옮겨지거나, 또는 강모의 베이스들 사이에서 그리고 강모의 베이스를 향해 하향으로 강제되며 그것에 따라 치약의 효율성을 최소화한다.

따라서, 칫솔질중 치아에의 적용을 위해 치약을 양호하게 지지하는 칫솔 헤드가 요망되고 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 칫솔과 같은 구강 관리 기구는 강모 요소를 포함하는 다수의 치아 세척 요소와 치아의 강화된 세척, 폴리싱, 및 미백을 제공하도록 구성 및 적용되는 바람직하기로는 하나 이상의 치아 폴리싱 유니트를 포함한다. 폴리싱 유니트는 수직으로 떨어져 있으며 칫솔 헤드의 표면 위로 상승되며 바람직하기로는 치아 세척 요소의 활성의 칫솔질 영역에 위치되는, 상승된 치약 보유 포켓(pocket) 또는 리세스(recess)를 포함한다. 단순히 치약이 강모의 위쪽에 놓이고 칫솔질중 그 위쪽으로부터 쉽게 분리되는 종래의 칫솔 강모의 구조와는 대조적으로, 상기 상승된 유지 리세스는 활성의 칫솔질 영역으로부터 치약의 과도한 손실 및 옮겨짐을 최소화하기 위해 치약을 수용하도록 특별히 구성되는 것이 바람직하다. 이것은 칫솔질중 치약과 치아 사이의 접촉을 최대화하여 구강 관리법의 효율성을 최대화한다. 치약을 수용 및 지지하는 예시적인 실시예에서 유지 리세스는 일반적으로 V 형 포켓의 형태로 구성된다. 일부 실시예에서, 유지 리세스는 치약을 양호하게 유지하기 위해 상향하여 개방되는 위쪽과 부분적으로, 더욱 바람직하기로는 완전히 밀폐되는 바닥 부분을 갖는 폴리싱 유니트에 배치되는 원주방향으로 신장하는 환형 홈(groove)으로서 구성된다.

양호한 실시예에서, 폴리싱 유니트는 치약 유지 리세스를 한정(define)하는 엘라스토머 폴리싱 요소를 포함한다. 폴리싱 요소는 공통 지점의 둘레로 동심으로 정렬되는 일부 실시예에서 다수의 폴리싱 부재로 각각 구성된다. 일 실시예에서, 각각의 폴리싱 부재는 Y 형 이지만, 다른 적절한 형상도 가능하다.

예시적인 일 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 칫솔은 길이방향 축을 한정하는 칫솔 헤드와 상기 칫솔 헤드에 의해 지지되는 다수의 치아 세척 요소를 포함한다. 치아 세척 요소는 엘라스토머 폴리싱 요소를 갖는 적어도 하나의 치아 폴리싱 유니트를 포함한다. 상승된 치약 유지 리세스는 치약을 보유하기 위해 떨어져 있고 그리고 칫솔 헤드 위로 상승되는 것이 바람직한 폴리싱 요소에 의해 한정된다. 일부 실시예에서, 폴리싱 요소는 다수의 개별적인 Y 형 폴리싱 부재로 구성된다. 또 다른 실시예에서, 강화된 세척, 폴리싱, 및 미백 작용을 위해 폴리싱 유니트는 적어도 부분적으로, 더욱 바람직하기로는 폴리싱 요소의 내부에 완전히 배치되는 강모 요소를 포함한다.

유사한 요소에 유사한 도면부호가 붙여진 하기의 도면을 참조하여 양호한 실시예의 특징이 서술될 것이다.

도1은 본 발명의 예시적인 일 실시예에 따른 칫솔의 사시도.
도2는 그 칫솔 헤드의 사시도.
도3은 도2의 칫솔 헤드의 평면도.
도4는 도2의 칫솔 헤드의 측면도.
도5는 도2의 칫솔 헤드의 말단면도(칫솔의 손잡이를 향해 본).
도6은 도2의 칫솔 헤드의 치아 폴리싱 유니트의 사시도.
도7은 도6의 평면도.
도8은 도7의 선8-8을 따라 취한 도6의 치아 폴리싱 유니트의 개별적인 폴리싱 부재의 횡단면도.
도9는 도6-8의 개별적인 폴리싱 부재의 사시도.
도10은 도9의 폴리싱 부재의 갈라진 부분의 정면도.
도11은 도9의 폴리싱 부재의 다른 분리된 부분의 정면도.
도12는 선12-12를 따라 취한 도9의 폴리싱 부재의 지지 베이스의 횡단면도.
도13-15는 폴리싱 부재의 다른 실시예를 도시한 도면.

모든 도면은 개략적이며 여기에 서술된 물품, 부품, 또는 시스템의 실제의 물리적 표시가 아니며, 척도대로 도시되지 않는다. 도면은 그것에 따라 해석되어야만 한다.

본 발명의 원리에 따른 예시적인 실시예의 서술은 첨부의 도면과 함께 읽혀져야만 하며, 이는 기재된 전체 서술의 일부로 간주된다. 여기에 서술되는 발명의 실시예의 기재에 있어서, 방향 또는 배치에 대한 기준은 단순히 기재의 편리을 위한 것이며, 본 발명의 범위를 결코 제한하지 않는다. "하부", "상부", "수평", "수직", "위", "아래", "상향", "하향", "위쪽", "바닥" 등과 같은 상대적인 용어는 그 파생어와 함께(예를 들어, "수평으로", "하향하여", "상향하여", 등) 아래의 논의에서 서술되거나 또는 도면에 도시된 배치를 지칭하는 것으로 해석되어야 한다. 이들 상대적인 용어는 단지 서술상 편리를 위한 것이며 명시적으로 표시하지 않는 한 장치가 특정한 배치로 구성되거나 작동될 것을 요구하지 않는다. "부착되는", "붙여지는(affixed)", "연결되는", "계합되는(coupled)", "상호연결되는" 과 같은 용어 및 유사한 용어는 달리 특별히 서술되지 않는 한 운동가능할 뿐만 아니라 개재되는 구조체를 통해 구조체들이 직접적으로 또는 간접적으로 서로 고정되거나 부착되는 관계 또는 단단한 부착 또는 관계들을 지칭한다. 또한, 본 발명의 특징부 및 이점은 양호한 실시예를 참조하여 도시되었다. 따라서, 본 발명은 단독으로 존재하는 특징부의 일부 가능한 비제한적인 조합 또는 특징부들의 다른 조합을 나타내는 이런 양호한 실시예에 명확하게 제한되지 않으며, 본 발명의 범위는 여기에 첨부되는 청구범위에 의해 한정된다.

목 부분(101)을 갖는 헤드(102)와 사용자에 의한 파지를 위한 손잡이(103)를 갖는 칫솔(100)의 형태인 구강 관리 기구의 예시적인 일 실시예를 도시하고 있다. 손잡이(103)는 목 부분(102)에 영구적으로 또는 분리가능하게 연결되며, 후자인 분리가능한 손잡이의 예는 사용자가 교체할 수 있는 헤드를 갖는 칫솔 또는 구강 관리 작용제를 갖는 교체가능한 손잡이를 갖는 칫솔에 적합하다. 손잡이(103)는 일반적으로 가늘고 긴 형상이며, 임의의 적절한 인체공학적 및 사용자에 의해 파지되는 칫수의 미적으로 만족감을 주는 형상을 갖는다. 손잡이(103)는 칫솔 손잡이를 위한 기술분야에 통상적으로 사용되며 폴리머 고무, 열가소성 엘라스토머(TPE), 및 그 조합물을 제한없이 포함하는 하나 이상의 적절한 물질로 형성된다. 따라서, 손잡이(103)는 많은 상이한 형상, 길이, 및 다양한 구성으로 형성된다.

일부 실시예에서, 손잡이(103)는 배터리 작동식 칫솔의 부분을 형성하며, 전원 및 전기/전자 부품들을 포함한다. 따라서, 칫솔 헤드(102)는 수동식 또는 배터리 작동식 칫솔에의 그 적용시 단독으로만 제한되지 않는다. 일부 실시예에서, 손잡이(103)는 구강 공동에 적용될 수 있는 구강 관리 작용제를 갖는 저장조를 포함한다.

도1 내지 도5에서, 칫솔 헤드(102)는 전방의 브러시측(104), 마주 보는 후방측(105), 2개의 마주 보는 횡방향측(106, 107), 말단부(108), 및 손잡이(103)에 가장 가까운 기부 단부(109)를 포함한다. 주(primary) 구강 관리 지역(110)은 횡방향측들(106, 107) 사이의 전방 브러시측(104), 말단부(108), 및 기부 단부(109)상에 형성된다. 일 실시예에서, 후방측(105)은 혀 클리너(cleaner) 및/또는 다른 보조적인 치아 또는 연조직 세척 요소(도시않음)를 지지하는 부(secondary) 구강 관리 지역(111)을 한정한다. 칫솔 헤드(102)는 가능한 일 실시예에서 가늘고 긴 타원형 또는 계란형을 갖는다. 목 부분(101)은 손잡이(103)내로 완만하게 전이(transition)하기 위해 헤드(102) 보다 폭이 좁고 경사지게 형성된다.

도1 및 도3에서, 가상의 X-Y-Z 좌표 시스템은 다수의 치아 세척 요소(120)를 서술함에 있어 기준의 편리상 칫솔 헤드(102)에 대한 것으로 확인된다. 수평면 또는 수평 방향은 X-Y 축[일반적으로, 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104)과 평행한]에 의해 한정되며, 수직면 또는 수직 방향은 X-Z 및 Y-Z 축[일반적으로, 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104)과 직교하는]에 의해 한정된다. 칫솔 헤드(102)는 일반적으로 X 축과 일치하는 길이방향 축(LA)과, Y 축과 일치하고 말단부(108)와 기부 단부(109) 사이의 중간에 배치되며 상기 LA 과 직교하는 횡방향 축(TA)을 갖는다. 이것은 구강 관리 지역(110)을 기부 처리 절반부(P)와 말단 처리 절반부(D)(도3에 도시)로 분할한다.

도1 내지 도5에서, 구강 관리 지역(110)의 전방측(104)은 칫솔 헤드(102)에 붙여지는 다수의 및 다양한 치아 세척 요소(120)를 지지한다. 치아 세척 요소(120)는 다양한 강모/필라멘트 및 엘라스토머 요소를 포함한다. 도면에서 강모 터프트 또는 요소는 여기에 서술되는 강모 요소의 구조를 가리지 않도록 편의상 그리고 명확함을 위해 상세히 도시되는 개별적인 강모/필라멘트 스트랜드가 없는 블록 형태로 도시되었음을 인식해야 한다. 도4에 도시된 바와 같이, 가상의 명목상 기준 브러시면(BP)은 길이방향 축(LA)과 옵셋되며 길이방향 축(LA)과 대략 평행한 치아 세척 요소(120) 및 칫솔 헤드[세척 요소(120)의 높이를 변화를 허용하는 변형예를 갖는](102)의 전방 브러시측(104)의 위쪽/자유단부에 의해 대략적으로 한정된다. 브러시면(BP)에 가까운 치아 세척 요소(120)의 상부 부분은 칫솔질중 세척 요소(120)와 치아 사이의 접촉의 대부분이 발생하는 활성의 칫솔질 영역을 한정한다. 치아 세척 요소들(120)이 각각 상세히 서술될 것이다.

도1 내지 도5에서, 치아 세척 요소(120)는 적어도 하나의 가요성 및 탄성적으로 구성되는 치아 폴리싱 유니트(130)를 포함한다. 여기에 추가로 서술되는 바와 같이, 폴리싱 유니트(130)는 치아를 폴리싱/세척하고 칫솔질중 치약의 손실을 최소화하기 위해 치약(D)을 수용 및 지지하도록 적용하는 독특하게 구성되는 치아 접촉 표면을 갖는다(도9 참조). 예시적인 양호한 일 실시예에서, 폴리싱 유니트(130)는 탄성의/가요성 엘라스토머 치아 폴리싱 요소(136) 및 그 내부에 적어도 부분적으로 배치되는 강모 요소(140)를 포함한다. 엘라스토머 치아 폴리싱 요소(136)는 가늘고 긴 수직의 지지축 또는 베이스(131)와, 여기에 추가로 상세히 서술되는 바와 같이 치약을 보유 및 지지하도록 적용 및 구성되는 베이스(131)의 위쪽에 배치되는 폴리싱 헤드(132)를 포함한다. 양호한 예시적인 실시예에서, 지지 베이스(131)는 일반적이지만 정확할 필요는 없는 기둥형 또는 원통형의 형상을 갖는다. 폴리싱 요소(136)는 칫솔(102)의 전방 브러시측(104)에의 부착을 위한 하부 베이스 단부(134)와, 치아와 계합하도록 구성되는 폴리싱 헤드(132)에 의해 한정되는 반대측의 상부 자유단부(135)를 갖는다.

양호한 일 배치에 있어서, 여기에 추가로 서술되는 바와 같이 횡방향 축(TA)의 양측상에 배치되는 말단 폴리싱 유니트 및 기부 폴리싱 유니트로 간주되는 적어도 2개의 폴리싱 유니트(130)가 도시된 바와 같이 제공된다. 여기에 서술되는 다른 치아 세척 요소들에 대한 상대 위치를 도시하기 위하여, 폴리싱 유니트(130)는 도3에 점선으로 개략적으로 도시된다. 폴리싱 유니트(130)는 대칭적으로 배치되며, 양호한 예시적인 실시예에서 길이방향 축(LA)과 축방향으로 정렬된다. 다른 실시예에서, 하나 또는 2개의 폴리싱 유니트(130)가 길이방향 축(LA)에 대해 축을 벗어나서 배치된다. 일부 다른 실시예는 헤드의 중심에서 길이방향 축(LA)과 횡방향 축(TA)의 교차점에 배치되거나 헤드상의 일부 다른 위치에 배치되는 단일의 폴리싱 유니트(130)를 갖는다. 따라서, 본 발명은 도면에 도시된 폴리싱 유니트의 배치 또는 갯수에 제한되지 않는다.

도6 및 도7은 명확함을 위해 칫솔 헤드(102)로부터 분리된 폴리싱 요소(136)의 사시도 및 평면도이다. 도8은 도7로부터 취한 폴리싱 요소(136)를 통한 수직의 횡단면 측면도이다. 일 실시예에서, 폴리싱 요소(136)는 도8에 도시된 바와 같이 외향하여 벌어지는 폴리싱 헤드(132)로 인해, 일반적으로 전체적으로 그러나 미세하게 변형된 원통형 형상을 갖는 것이 바람직하지만, 그러나 다른 적절한 형상이 사용될 수도 있다. 폴리싱 요소(136), 특히 폴리싱 헤드(132)의 상부 단부(135)는 폴리싱 헤드(132)와 치아 사이의 접촉 면적을 최대로 하고 그것에 따라 폴리싱/세척 효율성을 최적화하기 위해, 도시된 바와 같이 외향하여 벌어지는 것이 바람직하다.

도6 내지 도9에서, 폴리싱 요소(136)는 수직으로 떨어져 있고 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104) 위로 상승되는 상승된 치약 보유 포켓 또는 리세스(138)를 포함한다. 치약 유지 리세스(138)는 치약의 과도한 양이 칫솔질중 폴리싱 요소(136)로부터 손실되지 않는 방식으로, 치약(D)을 보유 및 지지하도록 특별히 구성 및 적용된다. 사용되는 치약의 구강 건강 이점을 극대화화기 위해, 상승된 치약 유지 리세스(138)는 일반적으로 치아 세척 요소(120)의 상부 부분 또는 절반부 및 브러시면(BP)에 가깝게 한정되는 활성의 칫솔질 영역에 위치되는 것이 바람직하다. 양호한 예시적인 실시예에서, 유지 리세스(138)는 폴리싱 요소(136)의 폴리싱 헤드(132)에 형성된다. 도시된 가능한 일 실시예에서, 유지 리세스(138)는 일반적으로 V 형의 횡단면 형상(도8 참조)을 가지며, 치약(D)을 보유하기 위해 폴리싱 요소(136)의 대응하는 V 형의 환형 홈을 한정한다. 이 환형 홈은 여기에 추가로 서술되는 바와 같이 폴리싱 요소(136)가 복수의 세그먼트형 부재로 구성되는 실시예에서, 연속적이거나 불연속적일 수 있다.

폴리싱 요소(136)는 강모 요소(140)를 수용하기 위한 중심 구멍(139)을 추가로 한정한다. 구멍(139)은 강모 요소(140)의 횡단면 형상(수평)을 보완하도록 형성되는 것이 바람직하다. 예시적인 일 실시예에서, 도7에 상세히 도시된 바와 같이, 구멍(139)은 여기에 추가로 서술되는 바와 같이 평면도에서 원형이다. 다른 적절한 형상도 가능할 것으로 예상된다.

엘라스토머 폴리싱 요소(136)는 이런 요소를 제조하기 위한 분야에 통상적으로 사용되는 형상 메모리를 갖는 임의의 적절한 가요성 및 탄성 물질로 형성된다. 일부 실시예에서, 제한없이 예를 들어 폴리싱 요소(136)는 고무 또는 TPE 로 제조된다. 양호한 실시예에서, 지지축 또는 베이스(131)를 포함하는 폴리싱 부재 및 폴리싱 헤드(132)는 종래 방식의 단일 단계로 사출성형에 의해 성형되는 일체형 엘라스토머 구조체의 일체형 부분으로 형성된다. 다른 실시예에서, 폴리싱 헤드(132)는 분리되어 성형되고 지지 베이스(131)에 부착된다. 따라서, 본 발명은 두 구성에 제한되지 않는다.

폴리싱 요소(136)는 단일의 일체형으로 성형되는 엘라스토머 구조체이며, 또는 양호한 예시적인 실시예에서 도2, 3, 6 및 7에 상세히 도시된 바와 같이 폴리싱 요소(136)를 함께 형성하기 위해 떨어져서 조립 및 배치되지만 일반적으로 매우 근접한 2개 이상의 분리된 개별적인 폴리싱 부재(137)로 구성된다. 폴리싱 부재(137)는 동일한 예시적인 타입의 물질로 개별적으로 각각 형성되며, 상술한 폴리싱 요소(136)와 유사한 방식으로 구성된다. 폴리싱 부재(137)는 강모 요소(140)를 수용하기 위해 중심 구멍(139)을 형성하기 위해 충분히 떨어져 있는 것이 바람직하다.

도2, 3, 6, 및 7에서, 양호한 일 실시예에서 치아 폴리싱 요소(136)는 도6 및 도7에 상세히 도시된 바와 같이 3개의 엘라스토머 치아 폴리싱 부재를 포함한다. 다른 실시예에서는 이 보다 많거나 적은 폴리싱 부재(137)가 제공된다. 치아 폴리싱 부재(137)는 칫솔 헤드(102)상에서 원주방향으로 서로 떨어진 관계로 중심 지점(CP) 둘레로 서로 가깝게 동심으로 배치된다. 따라서, 양호한 실시예에서 각각의 폴리싱 요소(136)의 폴리싱 부재(137)가 폴리싱 요소의 자유단부(135)에서 연속적인 상부 또는 원주방향의 외측 엣지를 한정할 필요가 없는 것으로 인식할 수 있지만, 그러나 대신에 폴리싱 요소(136)가 2개 이상의 분리된 폴리싱 부재(137)로 구성될 때(도7 참조) 일부 실시예에서 원주방향 슬롯 또는 간극(157)에 의해 가로막힌다. 이 세그먼트형 구조체는 폴리싱 부재(137) 및 폴리싱 요소(136)에 전체적으로 최대의 가요성을 유리하게 제공한다. 그러나, 양호한 실시예에서 폴리싱 부재(137)의 인접한 부분들[예를 들어, 특히 그 각각의 지지 베이스(131)에 인접한 각각의 폴리싱 헤드(132)의 하부 부분들]은 환형의 치약 유지 리세스(138)에 보유되는 과도한 양의 치약이 폴리싱 부재들(137) 사이로 빠져나가는 것의 방지를 돕기 위해, 이런 슬롯 또는 간극(157)을 최소화하기 위해 원주방향으로 서로 상대적으로 가깝게 떨어져 있다. 치약 손실을 최소화하면서 가요성을 최대화하기 위한 과도한 실험없이도, 폴리싱 부재(137)의 적절한 원주방향의 떨어져 있음을 결정하는 것도 본 기술분야의 숙련자의 범위에 속한다.

도6 내지 도8에서, 각각의 폴리싱 부재(137)는 일반적으로(수직 단면으로) 전체적으로 Y 형상을 갖는 것이 바람직하며, 폴리싱 요소(136)를 함께 이루는 3개의 구성 부분중 하나를 형성한다. 도9를 추가로 참조하여, 각각의 폴리싱 부재(137)는 평면도에서 호형(arcuate) 형상을 갖는 바람직한 V 형의 형태인 치약 유지 리세스(138)를 포함한다. 이 V 형은 그 내부에 치약의 개선된 지지 및 유지의 제공을 수반하면서, 다양한 다른 타입의 치아 세척 요소의 통합을 허용하는 칫솔 헤드(102)상에 가치있는 제한된 공간을 유익하게 보존한다. 각각의 폴리싱 부재(137)가 칫솔 헤드(102)에 조립될 때, 도7에 도시된 바와 같이 환형의 원주방향 홈 또는 유지 리세스(138)를 형성하기 위해 호형의 V 홈이 조합된다. 양호한 실시예에서, 도9로부터 취한 도12의 단면도에 상세히 도시된 바와 같이, 단부(134), 바람직하기로는 단부(134) 자체에 가깝게 놓이는 각각의 폴리싱 부재(137)의 지지 베이스(131)는 호형의 수평 단면을 갖는다. 폴리싱 부재(137)가 칫솔 헤드(102)에 조립되어 동심으로 배치되고 중심 지점(CP) 둘레에서 떨어져 있을 때, 평면도(도7 참조)에서 일반적으로 원형 패턴을 갖는 폴리싱 요소(136)를 형성하기 위해 폴리싱 부재들이 조합된다. 유리하게, 이것은 칫솔 사용자에 의해 사용되는 칫솔질 방향과 관계없이 다방향 세척 및 폴리싱을 제공한다. 이 배치에서, 치약 유지 리세스(138)는 인접한 폴리싱 부재들(137) 사이에 형성되는 간극(157)을 갖는 원주방향으로 신장되는 불연속적인 환형 홈을 형성하는 것으로 인식될 수 있을 것이다. 폴리싱 요소(136)가 단일의 일체형 구조체(도시않음)로 성형되거나 또는 선택적으로 폴리싱 부재들(37)을 함께 단단히 인접시킴으로써 형성될 수도 있는 다른 실시예에서, 환형 홈은 원주방향으로 연속적이거나 또는 거의 연속적이다.

도6 내지 도9에서, V 형 치약 유지 리세스(138)은 내측 및 외측의 갈라진 부분(152, 153)상에 각각 형성되는 2개의 마주 보는 일반적으로 수직의 치아 폴리싱 및 치약 폴리싱 표면(150, 151)에 의해 한정된다. 내측의 갈라진 부분(152) 및 외측의 갈라진 부분(153)은 각각의 폴리싱 부재(137)의 공통의 지지 베이스 부분(131)으로부터 상향하여 돌출한다. 치아 세척 요소(120) 및 브러시면(BP)의 상부 부분들에 가까운 활성의 칫솔질 영역에 치약을 위치시키기 위해, 갈라진 부분(152, 153)에 의해 한정되는 폴리싱 표면(150, 151) 및 유지 리세스(138)는 떨어져 있고 도시된 바와 같이 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104) 위로 상승되는 것이 바람직하다. 폴리싱 표면(150, 151)은 치아와 접촉하도록 적용되며, 일부 예시적인 실시예에서는 개선된 치아 세척/폴리싱 동작을 위해 다수의 상승된 리브(155)(도9에 상세히 도시된)와 같은 추가적인 치아 세척/폴리싱 부속물을 포함할 수도 있다.

예시적인 양호한 일 실시예에서, 도8 및 도9에 상세히 도시된 바와 같이 내측의 갈라진 부분(152) 및 외측의 갈라진 부분(153)은 서로에 대해 분기되는 관계로 상향하여 배치된다. 외측의 갈라진 부분(153)의 상부 자유단부(135)는 중심 지점(CP)으로부터 외향하여 벌어지는 것이 바람직하고, 내측의 갈라진 부분(152)의 상부 자유단부(135)는 수직이거나 또는 중심 지점(CP)을 향해 내향하여 벌어진다. 갈라진 부분(152, 153)상에 형성되는 폴리싱 표면(150, 151)이 칫솔질중 치약 유지 및 치아 폴리싱 모두의 이중 목적을 각각 수행하기 때문에, 갈라진 부분(152, 153)은 완전히 수직으로[즉, 90°또는 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104)과 직교하는] 배치되는 것이 바람직하다. 그 대신에, 상술한 바와 같이, 갈라진 부분(152, 153)은 각도를 이루고, 표면(150, 151)이 수평으로 신장되는 부품 및 수직으로 신장되는 부품 모두를 갖도록 각각의 폴리싱 부재(137)의 수직의 중심축(CA)으로부터 각도(A3, A2)로 미세하게 내향하여 또는 외향하여 각각 벌어지는 것이 바람직하다. 이 형상은 치아 세척 및 폴리싱을 유익하게 강화시킨다

도8 및 도9에서, 칫솔 헤드(102)로부터 상향하는 것이 바람직한 유지 리세스(138)를 형성하기 위해, 갈라진 부분(152, 153)은 각도(A1)만큼 방사방향으로 떨어져 있다(도8 참조). 각도(A2, A3)의 합인 각도(A1)는 칫솔질중 치약의 과도한 외향 손실을 방지하기 위해 180°미만이 바람직하다.

도8 및 도9에서, 유지 리세스(138)는 상향하여 개방되는 위쪽(156) 및 치약(D)의 리본(ribbon)을 수용 및 지지하도록 적용되며 적어도 부분적으로 폐쇄되는 바닥(154)을 갖는 것이 바람직하다. 양호한 실시예에서, 제한없이, 바닥(154)은 도8 및 도9에 예로서 도시된 바와 같이 완전히 폐쇄된다. 유리하게, 상향하여 신장하는 폴리싱 표면(150, 151) 및 폐쇄된 바닥(154)은 지지 리세스(138)로부터의 치약의 손실을 최소화한다. 양호한 세척 및 폴리싱 유효성을 위하여 치약과 치아 사이의 접촉을 최대화하기 위해, 이것은 칫솔질중 치약을 활성의 칫솔질 영역에 오래 있게 한다.

치약 유지 리세스(138)의 바닥(154)은 유지 리세스(138)의 하부 부분을 통해 치약이 빠져나갈 수 없는 한 임의의 적절한 형상을 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 도8 및 도9에 도시된 바와 같이, 폐쇄된 바닥(154)은 상대적으로 뾰족하거나, 또는 칫솔(100)의 반복적인 사용에 의해 유발되는 응력 균열을 이끄는 응력 집중 지점을 제거하기 위해 그 가장 아래의 지점에서 도시된 바와 같이 미세하게 둥글다. 다른 실시예에서, 폐쇄된 바닥(154)은 평탄한 U 형상(도13 참조)을 많이 갖는 V 형 리세스(138)를 형성하는 더욱 점진적으로 그리고 넓게 둥글다. 도15에 도시된 바와 같은 또 다른 가능한 실시예에서, 폴리싱 요소(136)는 내측의 갈라진 부분(152) 및 부분적으로 폐쇄되는 바닥(154) 없이 형성되며, 치약을 유지하고 과도한 양의 치약이 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104)을 향해 하향하는 치약의 외향 누설을 방지하기 위해, 강모 요소(140)는 지지 베이스에 대해 인접하거나 또는 지지 베이스로부터 미세하게 떨어져 있음으로써 갈라진 부분(152)을 기능적으로 대체한다. 따라서, 본 발명은 폴리싱 유니트(130)가 치약을 활성의 칫솔질 영역에 유지하도록 구성되는 한 완전히 또는 부분적으로 폐쇄되는 바닥(154)의 임의의 특수한 형상에 제한되지 않는다.

일부 가능한 실시예에서, 갈라진 부분(152, 153)은 치약 유지 리세스(138)의 바닥(154)의 가장 낮은 지점에서 공통 지점으로부터 측정하였을 때 서로에 대해 동일한 또는 상이한 수직 높이(H1, H2)(도8에 도시된)를 갖는다. 바람직하게, 외측의 갈라진 부분(153)은 칫솔질중 치약(D)의 과도한 양이 폴리싱 요소(130)로부터 방사방향으로 외향하여 들어오거나 빠져나가는 것을 방지하기 위해 내측의 갈라진 부분(152)의 높이(H2)와 적어도 대략 동일하지만 적지는 않은 높이(H1)를 가지며, 그후, 세척 및 폴리싱의 유효성이 손실되는 치아 세척 요소(120) 사이에서 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104)을 향해 활성의 칫솔질 영역으로부터 하향한다. 또한, 갈라진 부분(152, 153)의 높이(H1, H2)에 의해 한정되는 치약 유지 리세스(138)의 수직 깊이는 치아의 세척 및 폴리싱에 효과적이도록 충분한 양의 치약(D)을 보유 및 유지시키기에 충분히 깊은 것이 바람직하다.

도8 내지 도11에 상세히 도시된 바와 같이, 각각의 갈라진 부분(152, 153)은 상부 자유단부(135)상의 최외측 지점들 사이에서 측정한 위쪽 폭(W1)과, 하부 베이스 단부(134)상의 최외측 지점들 사이에서 측정한 바닥 폭(W2)을 갖는다. 각각의 갈라진 부분(152, 153)은 각각의 부분의 각각의 대응하는 두께(T1 또는 T2) 보다 큰 위쪽 폭(W1)을 갖도록 수평방향으로 넓은 것이 바람직하다(도10-도11 참조). 갈라진 부분(152, 153)의 상부 자유단부(135)가 협소한 바닥 폭(W2)에 관하여 수평방향으로 외향하여 벌어지도록, 위쪽 폭(W1)은 바닥 폭(W2) 보다 넓은 것이 바람직하다. 이것은 각각의 폴리싱 부재(137)의 상부 자유단부(135)가 비스듬하거나 외향하여 각도를 이루게 하는 반면에, 폴리싱 부재들 사이에서 외향하여 치약의 과도한 누설을 방지하기 위해 간극을 상대적으로 협소하게 유지시킨다(도6 내지 도9 참조). 도10 및 도11은 갈라진 부분(152, 153)의 2개의 가능한 변형예를 도시하고 있으며, 하나 또는 2개의 갈라진 부분의 상부 자유단부(135)는 도10에서는 호형으로 형성되었지만, 선택적으로 도11에서는 직선형일 수도 있다. 다른 가능한 자유단부 형상도 가능하다.

그 사이에 형성되는 각도(A1)를 따른 상기 갈라진 부분(152, 153)의 높이(H1, H2)는 유지 리세스(138)가 충분히 깊고 칫솔질 동작중 치약(D)이 쉽게 미끄러져서 리세스로부터 이탈될 정도로 평탄하지 않도록 선택되어야 한다는 것으로 인식될 수 있을 것이다. 과도한 실험없이 H1, H2, 및 A1 을 위한 적절한 매개변수를 결정하는 것도 본 기술분야의 숙련자의 범위내에 속한다.

도2-3, 도6-7에서, 강모 요소(140)는 폴리싱 요소(136)의 내측에 적어도 부분적으로, 더욱 바람직하기로는 구멍(139)의 요소(136)의 내측에 완전히 배치되는 것이 바람직하다. 강모 요소(140)는 예시적인 실시예에서, 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104)으로부터 상향하여 신장하며 일반적으로 수직의 방향을 갖는 강모 터프트로서 형성된다. 그러나, 다른 적절한 형상도 가능하다. 강모 요소(140)는 칫솔 헤드(102)의 전방 브러시측(104)에 부착되는 하부 단부(도시되지 않음)를 가지며, 갈라진 부분(152)의 자유 단부(135) 위로 수직으로 돌출하는 개별적인 강모의 적어도 일부를 갖는 각각의 폴리싱 부재(137)의 내측의 갈라진 부분(152) 보다 수직방향으로 높다(도6 참조). 이 배치는 강모 요소(140)의 세척 유효성, 특히 작은 어금니 및 큰 어금니의 첨단들(cusp) 사이 및/또는 치아 사이의 치간 공간들 사이의 세척을 강화시킨다. 다른 실시예에서, 강모 요소(140)의 강모는 내측 및 외측의 갈라진 부분(152, 153)의 상부 자유단부(135) 보다 높이 돌출한다. 일 실시예에서, 제한없이, 강모 요소(140)는 치아들 및/또는 치아 첨단들 사이의 조밀한 공간내로의 개선된 도달 및 관통을 위해 상대적으로 조밀하게 패킹된 강모를 갖는 원형(평면도에서)이다. 강모 요소(140)의 강모는 경사진 또는 경사지지 않은 강모이다.

폴리싱 유니트(130)의 다른 실시예는 많거나 적은 폴리싱 부재(137) 및 다른 형상의 강모 요소(140)를 갖는 것으로 인식될 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 여기에 도시된 예시적인 실시예에 제한되지 않는다.

도3에 상세히 도시된 바와 같이, 폴리싱 유니트(130)는 일 실시예에서 칫솔 헤드(102)의 길이방향 축(LA)을 따라 횡방향 측들(106, 107) 사이에서 중심에 위치되는 것이 바람직하다. 양호한 실시예에서, 축방향으로 정렬되는 2개의 폴리싱 유니트(130)는 횡방향 축(TA)과 말단부(108) 사이에 배치되는 하나의 유니트와, 횡방향 축(TA)과 기부 단부(109) 사이에 배치되는 다른 유니트를 갖는다.

폴리싱 유니트(130)는 기본적으로 치아를 세척 및 폴리싱하기 위한 디스크형 폴리싱 패드를 형성하며, 이것은 특수한 세척 및 민감도 보호 및 미백제를 갖는 치약의 사용을 수반할 때 더욱 효과적인 얼룩 제거, 민감도 처방 적용, 또는 미백 작용을 제공하기 위한 것이다. 유리하게, 치약은 칫솔질중 유지 리세스(138)에 의해 폴리싱 유니트(130)의 폴리싱 헤드(132)에 양호하게 지지됨으로써, 더욱 효과적인 폴리싱, 세척, 민감도 처방 적용, 및 미백 작용을 위해 칫솔 헤드(102)의 전면(104)을 향해 다른 치아 세척 요소들 사이에서 하향하는 치약의 손실을 감소시킨다.

이제 첨부의 도면을 참조하여 칫솔(100) 및 폴리싱 유니트(130)의 작동이 간단히 서술될 것이다. 폴리싱 유니트(130) 및 폴리싱 요소(136)의 소극적인(inactive) 예비 칫솔질 위치가 도6 및 도9에 도시되어 있다. 먼저, 사용자는 치약과 같은 치약의 리본을 세척 요소(120)상에 위치시킨다. 치약의 적어도 일부는 유지 리세스(138)에 매립된다(도9 참조). 선택적으로, 사용자는 어플리케이터(applicator)를 사용하여 치약을 치아에 직접 적용할 수도 있다. 칫솔질중 사용자가 치아에 대해 칫솔 헤드(102)를 가압할 때, 헤드에 적용된 힘(F)은 각각의 폴리싱 부재(137)의 벌어진 내측 및 외측의 갈라진 부분(152, 153)이 각각 내향 및 외향하여 탄성적으로 변형되게 하여(도9의 방향 화살표 참조), 폴리싱 요소(136) 및 치약 유지 리세스(138)를 미세하게 평탄화시킨다. 칫솔 헤드에 미리 적용되었거나 또는 사용자의 치아에 미리 적용되는 치약의 대부분은 유지 리세스(138)의 바닥(154)과 치아 사이에서 경사짐으로써 각각의 폴리싱 유니트(130)상에서 종래의 칫솔 보다 오래 제 위치에 유리하게 유지될 것이다. 치약의 외향 및 내향 누설은 유익하게 최소화되므로, 더욱 많은 치약이 치아에 직접 적용을 위한 긴 시간 주기 동안 치아 세척 요소(120)의 활성의 칫솔질 영역에 유용하게 유지된다. 이것은 치아와 치약과의 접촉 시간을 최대화시켜 사용되는 치약의 활성제에 의해 제공되는 구강 건강 이점을 최적화시킨다. 동시에, 그 위에 형성되는 그 세척 및 치약 폴리싱 표면(150, 151)을 갖는 갈라진 부분(152, 153)은 치약과 함께 세척, 폴리싱, 민감도 적용 및/또는 미백 작용을 제공하기 위해 치아와 접촉할 것이다. 사용자가 칫솔 헤드(102)로부터 칫솔질 압력(F)(일반적으로 칫솔 헤드 및 치아 표면과 수직한)을 제거할 때, 엘라스토머 폴리싱 요소(136) 및 개별적인 폴리싱 부재(137)는 그 이전의 소극적인 위치로 복귀할 것이다.

도1 내지 도5에서, 폴리싱 유니트(130)는 각각의 폴리싱 유니트의 원주방향 측의 측면에 위치하는 강모 요소에 의해 적어도 부분적으로 둘러싸이는 것이 바람직하다. 일부 실시예에서, 폴리싱 유니트(130)를 향하고 폴리싱 유니트를 부분적으로 둘러싸는 오목한 내측을 갖는 적어도 2개 이상의, 바람직하기로는 3개 이상의 호형 치아 세척 강모 요소(170)(위쪽 또는 수평 단면)가 각각 제공된다. 일 실시예에서, 도시된 바와 같이 4개의 호형 치아 세척 요소(170)가 제공된다.

각각의 호형 강모 요소(170)는 본 기술분야에서 통상적으로 사용되는 임의의 적절한 강모 물질로 제조되는 강모의 터프트로 형성되며, 경사지거나 경사지지 않을 수 있다. 호형의 강모 요소(170)는 횡방향으로 떨어져 있는 한 쌍의 횡방향측 호형 요소(171)를 포함하며, 상기 호형 요소는 칫솔 헤드(102)의 둘레 엣지 및 횡방향측(106, 107)에 가까운 폴리싱 유니트(130)에 인접하여 각각 배치되며, 축방향의 적어도 하나의 호형 말단 또는 기부 요소(172)는 헤드(102)의 길이방향 축(LA)을 따라 위치된다. 양호한 실시예에서, 횡방향으로 떨어져 있는 2개의 축방향 말단 및 기부 요소(172)가 도시된 바와 같이 제공된다. 도2 및 도3에 상세히 도시된 바와 같이, 한 쌍의 축방향 말단 요소(172)는 칫솔 헤드(102)의 말단부(108)에 가깝게 위치되는 것이 바람직하며[말단의 치아 폴리싱 유니트(130)의 전방에], 다른 쌍의 축방향 기부 요소(172)는 칫솔 헤드(102)의 기부 단부(109)에 가깝게 배치되는 것이 바람직하다[손잡이(103)를 향해 기부 치아 폴리싱 유니트(130)의 후방에]. 양호한 강모 배치에서, 횡방향 및 축방향 강모 요소(171, 172)는 도3에 도시된 바와 같이 길이방향 축(LA)에 대해 대칭적으로 배치된다. 다른 가능한 배치에서, 강모 요소(171, 172)의 비대칭적 포지셔닝(positioning)이 사용된다.

도1 내지 도5에서, 축방향의 기부 및/또는 말단 강모 요소(172)는 도4에 상세히 도시된 바와 같이, 강모의 높이가 횡방향 축(TA)으로부터 칫솔(102)의 말단부(108) 및 기부 단부(109)를 각각 향해 길이방향으로 상향 방향으로 점진적으로 경사지도록 각도를 이루거나 경사진다. 축방향 강모 요소(172)의 각도를 이룬 배치는 이들 강모 터프트의 도달 및 세척을 강화시킨다. 또한, 횡방향측 호형 요소(171)는 일부 실시예에서 횡방향 축(TA) 및 칫솔 헤드(102)의 기부 또는 말단부(108, 109)로부터 멀리 길이방향으로 상향하여 경사지거나 각도를 이룬다.

도1 내지 도5에서, 칫솔 헤드(102)는 양호한 일 실시예에서 횡방향 축(TA)을 따라 횡방향으로 떨어져 있는 한 쌍의 중간 치아 세척 강모 요소(180)를 추가로 포함한다. 각각의 중간 강모 요소(180)는 길이방향 축(LA)과 횡방향측(106, 107) 사이에 위치되는 것이 바람직하며, 길이방향 축(LA)과 횡방향 축(TA)의 교차점에서 칫솔 헤드(102)의 중심에 가깝게 길이방향 축(LA)과 여기에 추가로 서술되는 측부 세척 요소(160) 사이에 위치되는 것이 더욱 바람직하다. 예시적인 일 배치에서, 중간 강모 요소(180)는 측부(106 또는 107)를 향해 길이방향 축(LA)으로부터 멀리 외향하는 오목한 측부를 갖는 호형 요소(횡방향의 수평 단면에서)로서 형성된다. 강모 요소(180)는 폴리싱 유니트들(130) 사이에서 축방향으로 배치되지만, 도시된 바와 같이 길이방향 축(LA)으로부터 옵셋되는 것이 바람직하다. 예시적인 일 실시예에서, 강모 요소(180)는 위로부터 보았을 때 "8 자 모양" 패턴을 형성하기 위해 호형 강모 요소(1170)의 오목하게 내향하는 형상과 동등하도록 칫솔 헤드(102)상에 배치 및 배치된다(도3 참조). 중간 강모 요소(150)는 본 기술분야에 통상적으로 사용되는 임의의 적절한 물질로 형성되는 강모의 터프트로 구성된다.

도1 내지 도5에서, 측부 세척 강모 요소(160)가 추가로 제공되고, 칫솔 헤드(102)에 의해 지지된다. 예시적인 일 실시예에서, 측부 세척 강모 요소(160)는 길이방향 축(LA)을 향해 내향하고 중간 요소들과 칫솔 헤드(102)의 횡방향측(106, 107) 사이의 공간 또는 공극을 충전하기 위해 중간 강모 요소(180)의 외향하는 오목한 측을 보완하는 하나의 볼록한 측(평면도에서 또는 횡방향의 수평 단면으로)을 갖는다. 일 실시예에서, 하나의 측부 강모 요소(160)는 칫솔 헤드(102)상에서 각각의 횡방향측(106, 107)에 가깝게 제공되며, 횡방향 축(T)상에 위치되는 것이 바람직하다. 일부 실시예에서, 측부 세척 강모 요소(160)는 횡방향 축(TA)을 따라 분기된 2개의 강모 터프트로부터 각각 형성되지만, 조합된 볼록한 형상을 한쪽 측부상에 유지시킨다. 측부 세척 강모 요소(160)의 예시적인 실시예는 잇몸선을 따른 치아의 세척을 강화하기 위해 적어도 인접한 중간 강모 요소(180) 보다 큰 수직 높이를 갖는 깊은 세척을 위해 설계된다. 측부 강모 요소(160)의 다른 갯수 및/또는 배치가 가능한 것으로 인식될 수 있을 것이다.

민감한 치아를 갖는 사용자에의 적용을 위한 일부 실시예에서, 강모 요소(160, 170 및/또는 180)의 일부 또는 전부는 경사지며, 다른 강모 요소 보다 부드러운 강모 물질의 일부 또는 전부는 경사지지 않으며 비교적 뻣뻣한(stiffer) 물질로 제조된다. 가능한 일 구성에 있어서, 축방향 말단 및 기부 강모 요소(172) 및 측부 세척 요소(160)는 부드러운 치간 세척을 위한 연질의 강모 물질로 제조되며, 칫솔 헤드(102)상의 다른 치아 세척 강모 보다 잇몸선을 따른 마찰을 감소시킨다.

여기에 서술되는 치아 세척 요소는 예를 들어 인 몰드 터프팅(IMT), 앵커 프리 터프팅(AFT), 앵커링된/스테이플된 사출성형, 초음파 용접, 및 그 조합과 같은 본 기술분야에 사용되는 임의의 적절한 종래 방법에 의해 칫솔 헤드에 부착되며, 그것에 제한되지 않는다. 또한, 여기에 서술되는 예시적인 실시예의 특징들은 수동 또는 전동 칫솔에서 실행 및 통합된다.

여기에 서술되는 디바이스 및 장치는 쉽게 알려져 있고 본 기술분야의 숙련자에 의해 얻어질 수 있는 종래의 상업적으로 입수할 수 있는 부품을 사용하고 있다. 따라서, 이들 디바이스를 형성하고 박테리아 및 박테리아 대사 제품과 연관된 구강 조건의 검출 및 처리를 위해 과도한 실험없이 여기에 서술된 방법을 사용하는 것도 본 기술분야의 숙련자의 범위내에 속한다.

상술한 서술 및 도면은 본 발명의 양호한 실시예를 나타내지만, 첨부의 청구범위에서 청구되는 바와 같이 본 발명의 정신 및 범위로부터의 일탈없이 다양한 추가, 변경, 및 대체가 이루어질 수 있음을 인식해야 한다. 특히, 본 발명은 본 발명의 숙련자라면 그 정신 및 기본적인 특성으로부터의 일탈없이 다른 특수한 형태, 구조체, 배치, 비율, 크기, 및 다른 요소, 물질, 및 부품이 사용될 수 있음을 알 수 있을 것이다. 본 기술분야의 숙련자라면 본 발명은 많은 구조 변경, 배치, 비율, 크기, 물질, 및 부품이 사용될 수 있으며 그렇지 않을 경우 본 발명의 실시예로 사용될 수 있으며, 이것은 본 발명은 본 발명의 원리로부터의 일탈없이 특수한 환경 및 작동 요구사항에 특별히 적용될 수 있음을 인식할 수 있을 것이다. 따라서, 여기에 서술된 실시예는 모든 면에서 예시적이고 제한적이 아닌 것으로 간주되며, 본 발명의 범위는 첨부의 청구범위에 의해 한정되며, 상술한 서술 또는 실시예에 제한되지 않는다.

101: 목 부분 102: 헤드
103: 손잡이 120: 치아 세척 요소
130: 폴리싱 유니트 132: 폴리싱 헤드
138: 리세스 154: 바닥
157: 간극

Claims (24)

1. 구강 관리 기구에 있어서,
   칫솔 헤드와,
   상기 칫솔 헤드에 의해 지지되는 다수의 치아 세척 요소를 포함하며,
   상기 치아 세척 요소는 적어도 하나의 치아 폴리싱 유니트를 포함하고, 상기 폴리싱 유니트는 치약을 보유하기 위해 상기 칫솔 헤드 위에 떨어져 있는 상승된 치약 유지 리세스를 포함하는 엘라스토머 폴리싱 요소를 갖는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
2. 제1항에 있어서, 상기 폴리싱 요소는 다수의 Y 형 폴리싱 부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
3. 제1항에 있어서, 상기 폴리싱 요소내에 배치되는 강모 요소를 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
4. 제2항에 있어서, 상기 유지 리세스는 치약을 수용하기 위해 상향하여 개방되는 위쪽을 갖는 환형 홈으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
5. 제4항에 있어서, 상기 유지 리세스는 치약을 유지하기 위해 적어도 부분적으로 폐쇄되는 바닥을 포함하는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
6. 제1항에 있어서, 상기 유지 리세스는 다수의 리브를 포함하는 치아 폴리싱 표면을 한정하는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
7. 제1항에 있어서, 제2폴리싱 유니트를 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
8. 제7항에 있어서, 상기 칫솔 헤드는 길이방향 축을 한정하고, 상기 제1 및 제2폴리싱 유니트는 칫솔 헤드의 길이방향 축상에 축방향으로 정렬되는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
9. 제1항에 있어서, 상기 유지 리세스는 수직 단면이 V 형인 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
10. 제1항에 있어서, 상기 유지 리세스는 상향하는 개방된 위쪽 및 폐쇄된 바닥을 포함하는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
11. 제10항에 있어서, 상기 유지 리세스는 폴리싱 요소의 외향하여 벌어지는 외측의 다수의 갈라진 부분 및 떨어져 있는 마주보는 내측의 다수의 갈라진 부분에 의해 한정되는 것을 특징으로 하는 구강 관리 기구.
12. 칫솔에 있어서,
    길이방향 축을 한정하는 칫솔 헤드와,
    상기 칫솔 헤드에 의해 지지되는 다수의 치아 세척 요소를 포함하며,
    상기 치아 세척 요소는 엘라스토머 폴리싱 요소와 상기 엘라스토머 폴리싱 요소의 내부에 적어도 부분적으로 배치되는 강모 요소를 포함하는 적어도 하나의 치아 폴리싱 유니트를 포함하며, 상기 엘라스토머 요소는 치약을 보유하기 위해 상기 칫솔 헤드 위에 떨어져 있는 상승된 치약 유지 리세스를 갖는 것을 특징으로 하는 칫솔.
13. 제12항에 있어서, 상기 폴리싱 요소는 중심 구멍 둘레로 원주방향으로 배치되는 외향하여 벌어지는 다수의 갈라진 부분 및 내향하여 벌어지는 마주보는 다수의 갈라진 부분을 포함하고, 상기 갈라진 부분들은 치약 유지 리세스를 한정하는 것을 특징으로 하는 칫솔.
14. 제13항에 있어서, 상기 강모 요소는 중심 구멍에 배치되는 것을 특징으로 하는 칫솔.
15. 제14항에 있어서, 상기 강모 요소는 평면도에서 원형 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 칫솔.
16. 제12항에 있어서, 상기 강모 요소는 폴리싱 요소 위로 수직으로 신장되는 것을 특징으로 하는 칫솔.
17. 제12항에 있어서, 상기 세척 요소는 "8 자 모양" 패턴을 한정하기 위해 칫솔 헤드상에 배치되는 다수의 호형 강모 요소를 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 칫솔.
18. 칫솔에 있어서,
    길이방향 축 및 전방 브러시측을 한정하는 헤드와,
    상기 헤드의 전방 브러시측에 부착되는 다수의 강모 요소와,
    상기 헤드의 전방 브러시측에 부착되는 엘라스토머 폴리싱 요소를 포함하며,
    상기 폴리싱 요소는 다수의 개별적인 폴리싱 부재로 구성되고, 각각의 폴리싱 부재는 치약을 지지하기 위해 칫솔 헤드 위로 떨어져 있는 상승된 치약 유지 리세스를 갖는 것을 특징으로 하는 칫솔.
19. 제18항에 있어서, 상기 폴리싱 부재는 Y 형인 것을 특징으로 하는 칫솔.
20. 제19항에 있어서, 상기 폴리싱 부재는 폴리싱 헤드와 상기 폴리싱 헤드에 부착되는 지지 베이스를 각각 포함하며, 상기 폴리싱 헤드는 각각의 폴리싱 부재에 V 형 치약 유지 리세스를 한정하는 것을 특징으로 하는 칫솔.
21. 제18항에 있어서, 상기 폴리싱 부재는 원형의 폴리싱 요소를 함께 한정하기 위해 중심 지점 둘레에 동심으로 배치되는 것을 특징으로 하는 칫솔.
22. 제18항에 있어서, 상기 각각의 폴리싱 부재는 치약 유지 리세스의 일부를 한정하며 떨어져 있고 상향하여 신장하는 갈라진 부분들의 마주보는 쌍을 포함하는 것을 특징으로 하는 칫솔.
23. 제22항에 있어서, 상기 갈라진 부분들은 폐쇄된 공통의 바닥에서 접합되고, 치약 유지 리세스의 개방된 위쪽을 형성하기 위해 서로 상향하여 분기되는 관계로 배치되는 것을 특징으로 하는 칫솔.
24. 제18항에 있어서, 상기 치약 유지 리세스는 치약을 지지하기 위한 폐쇄된 바닥을 갖는 것을 특징으로 하는 칫솔.
    

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