KR20120083039A - Apparatus and method for vacuum molding substrate - Google Patents

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KR20120083039A
KR20120083039A KR1020110004463A KR20110004463A KR20120083039A KR 20120083039 A KR20120083039 A KR 20120083039A KR 1020110004463 A KR1020110004463 A KR 1020110004463A KR 20110004463 A KR20110004463 A KR 20110004463A KR 20120083039 A KR20120083039 A KR 20120083039A
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백승준
김태완
최세진
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주식회사 미뉴타텍
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Abstract

PURPOSE: A device for vacuum-molding a board and a method thereof are provided to add a transparent partition film to an upper part of a mold, thereby reducing the volume of a UV(Ultra Violet) resin necessary for a high vacuum degree. CONSTITUTION: A mold(20), an elevating mold frame(170), and a transparent partition wall(30) are formed in a vacuum chamber body. The mold transfers an optical pattern on a board. The elevating mold frame fixes edges of the mold. The transparent partition wall covers the mold and the mold frame. The transparent partition wall is extended to a side.

Description

기판 진공성형 장치 및 진공성형 방법 {APPARATUS AND METHOD FOR VACUUM MOLDING SUBSTRATE}Substrate Vacuum Forming Apparatus and Vacuum Forming Method {APPARATUS AND METHOD FOR VACUUM MOLDING SUBSTRATE}

본 발명은 광학용 기판 혹은 기능성 기판을 제조하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 예를 들면 백라이트용 기판(light guided panel, LGP) 등 대면적의 기판에 3차원 패턴을 형성할 수 있는 진공성형 장치 및 진공성형 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an apparatus and method for manufacturing an optical substrate or a functional substrate, for example, a vacuum forming apparatus capable of forming a three-dimensional pattern on a large-area substrate such as a light guided panel (LGP) and It relates to a vacuum forming method.

도광판은 액정 표시 장치에 이용되는 백라이트 장치의 부품으로, CCFL(냉음극 형광 램프)과 같은 선광원 또는 LED와 같은 점광원을 면광원으로 변환시켜 주기 위한 광학 패턴을 일면 또는 양면에 구비하고 있다.The light guide plate is a component of a backlight device used in a liquid crystal display device, and has one or both optical patterns for converting a line light source such as a CCFL (cold cathode fluorescent lamp) or a point light source such as an LED into a surface light source.

이러한 광학 패턴을 도광판에 성형하기 위해서는, 사출, 반사형 잉크를 이용한 실크 인쇄, 자외선 경화성 수지 (이하, UV 수지) 또는 열 경화성 수지를 이용한 성형 방법 등이 사용되어 왔다.In order to mold such an optical pattern on a light guide plate, injection molding, silk printing using reflective ink, a UV curing resin (hereinafter referred to as UV resin), a molding method using a thermosetting resin, and the like have been used.

사출법은 복잡한 구조물을 성형하기에 적합하나 성형 시간과 냉각 시간이 길고, 비교적 공정이 간단한 인쇄법은 복잡한 광학 패턴에 적용할 수 없다. 이러한 이유로, 열 경화성 수지, 또는 공정이 비교적 간단하고 경화 시간이 짧아 보다 바람직한 UV 수지를 이용하여 도광판의 광학 패턴을 성형하는 방법에 관한 많은 시도가 있어 왔다.The injection method is suitable for molding complex structures, but the printing method with a long molding time and a cooling time and a relatively simple process cannot be applied to a complicated optical pattern. For this reason, many attempts have been made on a thermosetting resin or a method of molding an optical pattern of a light guide plate using a more preferable UV resin because the process is relatively simple and the curing time is short.

UV 성형법은 UV 수지가 코팅된 대면적 기판에 스탬퍼를 밀착시키고, 그 사이에 있는 UV 수지가 빈 틈 없이 (빈 공간 없이) 충진되도록 한 이후, 이를 UV광으로 경화하고 스탬퍼를 이형하면, 스탬퍼에 새겨져 있는 광학 패턴 형상이 기판에 전사되는 성질을 이용한 것이다.The UV molding method adheres a stamper to a large area substrate coated with a UV resin, and allows the UV resin in between to be filled without gaps (without empty space), and then cures it with UV light and releases the stamper. The engraved optical pattern shape is used to transfer the substrate to the substrate.

하지만, 종래 UV 성형법 중 롤(roll)형의 스탬퍼를 사용하거나 평판형의 경질 성형몰드 (hard stamper)를 사용하는 경우, 대면적 기판과 스탬퍼 간의 평탄도를 정밀하게 조절하기 어려우며, 이로 인해 스탬퍼와 기판 사이에 UV 수지 이외에 빈 공간이 발생하여, 이로 인해 미성형, 기포 등의 불량이 쉽게 발생하게 된다. However, in the case of using a roll stamper or a flat hard stamper in the conventional UV molding method, it is difficult to precisely control the flatness between the large-area substrate and the stamper. In addition to the UV resin, empty spaces are generated between the substrates, which causes defects such as unmolding and bubbles.

또한, 기판에 도포된 수지가 스탬퍼와 밀착 시에 기판 외곽으로 빠져 나와 외관이 손상되는 문제점이 발생하기도 한다. In addition, when the resin applied to the substrate is in close contact with the stamper to the outside of the substrate may be a problem that the appearance is damaged.

백라이트의 부품 중 하나로서 프리즘 시트와 같이 연속 공급되는 시트에 UV 수지를 이용하여 광학 패턴을 성형하는 방법은 이미 양산화 단계에 있기는 하나, UV 성형법을 이용하여 낱장 공급 (불연속 공급)되는 기판에 광학 패턴을 성형하는 방법은 전술한 바와 같은 문제점으로 인하여 아직 상용화의 단계까지는 이르지 못하고 있다.As one of the parts of the backlight, a method of forming an optical pattern using a UV resin on a sheet continuously supplied like a prism sheet is already in the mass production stage, but the optical sheet is supplied to a substrate supplied (discontinuously supplied) using the UV molding method. The method of molding the pattern has not yet reached the stage of commercialization due to the above problems.

한편, 기판에 UV 수지를 코팅하는 방법으로는 실크 인쇄법, 슬릿 코팅 (slit coating)법, 롤 코팅 (roll coating)법 등이 있으나, 비교적 고점도인 UV 수지 (통상적으로 점도가 100 cps ~ 10,000 cps)를 실크 인쇄법으로 코팅하는 경우에는 실크 제판의 미세 격자와 UV 수지의 표면 장력에 의해 미세 기포가 다수 발생하고, 이러한 미세 기포가 실크 제판을 통과하여 기판에 코팅됨으로써 기판의 광학 패턴에 영향을 주는 문제가 발생한다. 슬릿 코팅법은 슬릿 코터 기구가 고가이어서 경제성에서 불리하며, 롤 코팅법은 공정 안정성이 낮아 잦은 불량으로 양산성에서 불리한 문제점이 있다.On the other hand, the UV resin is coated on the substrate by a silk printing method, a slit coating method, a roll coating method, etc., but a relatively high-viscosity UV resin (usually having a viscosity of 100 cps to 10,000 cps) ) Is coated by the silk printing method, a large number of micro bubbles are generated by the fine lattice of the silk plate making and the surface tension of the UV resin, and these fine bubbles pass through the silk plate to be coated on the substrate to affect the optical pattern of the substrate. Giving problems arise. The slit coating method is disadvantageous in economics because the slit coater mechanism is expensive, and the roll coating method is disadvantageous in mass productivity due to frequent defects due to low process stability.

한국공개특허공보 제 2009-0109755 호는 진공 체임버 내에서 투명하고 유연한 성형몰드를 사용하여 3차원 패턴을 성형함으로써, UV 수지를 실크 인쇄할 수 있는 기판 제조방법 및 장치를 개시하였다. 그러나, 기판의 크기가 커질수록 진공시켜야 하는 체임버 부피도 증가하여, 진공형성에 소요되는 시간이 길어지고 이로 인해 생산성이 저하되는 것이 큰 문제로 대두되고 있다.Korean Laid-Open Patent Publication No. 2009-0109755 discloses a substrate manufacturing method and apparatus capable of silk printing a UV resin by molding a three-dimensional pattern using a transparent and flexible molding mold in a vacuum chamber. However, as the size of the substrate increases, the volume of the chamber to be evacuated also increases, which increases the time required for vacuum formation, thereby lowering productivity.

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 상기 성형몰드의 상부에 투명격막을 추가로 구비하여, 실제 고진공이 필요한 UV 수지 측의 부피를 줄임으로써, 짧은 시간 내에 원하는 수준의 진공도를 달성할 수 있는 기판 진공성형 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, by further comprising a transparent diaphragm on the upper part of the molding mold, by reducing the volume of the UV resin side that actually requires high vacuum, achieve a desired level of vacuum in a short time An object of the present invention is to provide a substrate vacuum forming apparatus that can be used.

또한, 본 발명은 상기 기판 진공성형 장치를 이용한 기판 진공성형 방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.In addition, another object of the present invention is to provide a substrate vacuum forming method using the substrate vacuum forming apparatus.

본 발명에 따른 진공성형 방법 및 장치는 상기 목적의 달성을 위해, (1) 투명한 탄성수지의 투명격막 및 투명하고 유연한 성형몰드를 사용하고, (2) 투명격막의 하부에만 고진공을 적용하여 진공 소요시간을 단축시키며, (3) 진공 체임버 내에서 3차원 패턴을 성형하고, (4) 기압 차이에 의해 성형몰드가 기판에 밀착되도록 하는 것 등을 주요 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the vacuum forming method and apparatus according to the present invention use (1) a transparent diaphragm of transparent elastic resin and a transparent and flexible molding mold, and (2) apply a high vacuum only to the lower portion of the transparent diaphragm to obtain a vacuum. Shortening time, (3) forming a three-dimensional pattern in the vacuum chamber, (4) the molding mold to be in close contact with the substrate by the pressure difference, and the main features.

본 발명이 요지로 하는 바는 다음과 같다.The gist of the present invention is as follows.

본 발명의 기판 진공성형 장치는 Substrate vacuum forming apparatus of the present invention

수지가 도포된 기판에 3차원 패턴을 성형하기 위한 기판 진공성형 장치로서, 통상의 측벽과, 측벽의 상방과 하방을 밀폐하는 커버와 바닥판으로 구성된 진공 체임버 본체를 구비하고,A substrate vacuum forming apparatus for molding a three-dimensional pattern on a resin-coated substrate, comprising: a vacuum chamber body composed of a normal side wall, a cover and a bottom plate sealing upper and lower sides of the side wall,

진공 체임버 본체 내부에는, 기판에 광학 패턴을 전사하는 성형몰드, 상기 성형몰드의 가장자리를 고정하는 승강 가능한 성형몰드 프레임, 및 상기 성형몰드와 성형몰드 프레임을 덮고 측벽까지 연장 형성되는 투명격막을 포함하며,The vacuum chamber body includes a molding mold for transferring an optical pattern to a substrate, a liftable molding mold frame for fixing an edge of the molding mold, and a transparent diaphragm covering the molding mold and the molding mold frame and extending to sidewalls. ,

상기 커버, 측벽 및 바닥판에 의해 밀폐되는 공간은, 상기 투명격막에 의하여 상부 체임버와 하부 체임버로 분할되는 것을 특징으로 한다.The space sealed by the cover, the side wall and the bottom plate is divided into an upper chamber and a lower chamber by the transparent diaphragm.

또한, 본 발명의 기판 진공성형 장치는 상기 성형몰드 프레임의 하강에 의하여, 상기 성형몰드, 성형몰드 프레임 및 바닥판, 또는 상기 성형몰드, 성형몰드 프레임, 측벽 및 바닥판이 공간을 밀폐할 수 있다.In addition, in the substrate vacuum forming apparatus of the present invention, the molding mold, the molding mold frame and the bottom plate, or the molding mold, the molding mold frame, the side wall and the bottom plate may seal the space by the lowering of the molding mold frame.

또한, 상기 바닥판에는 기판을 고정하는 홀더가 부착될 수 있다.In addition, a holder for fixing the substrate may be attached to the bottom plate.

또한, 상기 바닥판은 분리 가능하고 승강하도록 구성되고, 최고 상승 위치에서 측벽의 하방을 밀폐할 수 있다.The bottom plate is also detachable and configured to elevate and may seal down the sidewall at the highest raised position.

또한, 상기 상부 체임버와 하부 체임버는 독립적으로 압력 제어가 이루어질 수 있다.In addition, the upper chamber and the lower chamber may be pressure controlled independently.

또한, 상기 상부 체임버와 하부 체임버의 진공 중 압력 차이는 1 내지 100 torr인 것이 바람직하다.In addition, the pressure difference in the vacuum of the upper chamber and the lower chamber is preferably 1 to 100 torr.

또한, 상기 진공 체임버 본체에는 상기 상부 체임버와 하부 체임버 각각에 연통하는 통기 라인이 설치될 수 있다.In addition, the vacuum chamber body may be provided with a ventilation line communicating with each of the upper chamber and the lower chamber.

또한, 상기 커버는 UV 광에 투광성이 있는 재질로 구성될 수 있다.In addition, the cover may be made of a material that is transparent to UV light.

또한, 상기 커버의 상방에는 자외선 램프 스테이지가 배치될 수 있다.In addition, an ultraviolet lamp stage may be disposed above the cover.

또한, 상기 측벽은 성형몰드 프레임의 상승과 바닥판의 상승의 상호 간섭을 방지하기 위하여 단면이 L자형으로 형성될 수 있다.In addition, the side wall may be formed in an L-shaped cross section to prevent mutual interference of the rise of the molding die frame and the rise of the bottom plate.

한편, 기판에 3차원 패턴을 성형하기 위한 본 발명의 기판 진공성형 방법은, On the other hand, the substrate vacuum molding method of the present invention for molding a three-dimensional pattern on the substrate,

(A) 기판에 수지를 도포하는 단계,(A) applying a resin to the substrate,

(B) 상기 기판 및 투명격막을 진공 체임버 내에 장착하고 진공 체임버를 밀폐한 후 투명격막의 상부 영역과 하부 영역에 진공을 형성하는 단계,(B) mounting the substrate and the transparent diaphragm in a vacuum chamber and sealing the vacuum chamber and then forming a vacuum in the upper and lower regions of the transparent diaphragm,

(C) 진공 상태에서 상기 수지가 도포된 기판의 일면에 성형몰드를 접촉시키는 단계,(C) contacting a molding mold with one surface of the substrate to which the resin is applied in a vacuum state,

(D) 상기 성형몰드의 상부 영역과 하부 영역이 서로에 대하여 기밀 상태가 되도록 유지하는 단계, 및(D) maintaining the upper region and the lower region of the molding mold to be airtight with respect to each other, and

(E) 상기 성형몰드를 경계로 압력 차이를 발생시켜 성형몰드를 기판에 밀착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.(E) generating a pressure difference at the boundary of the molding mold, characterized in that it comprises the step of bringing the molding mold in close contact with the substrate.

또한, 본 발명의 기판 진공성형 방법은 상기 (E) 단계에서, 상기 성형몰드의 하부 영역을 진공 상태로 유지하고, 성형몰드의 상부 영역의 진공을 해제할 수 있다.In the substrate vacuum forming method of the present invention, in the step (E), the lower region of the molding mold may be maintained in a vacuum state, and the vacuum of the upper region of the molding mold may be released.

또한, 본 발명의 기판 진공성형 방법은 상기 (E) 단계 후에, (F) 수지를 경화시키는 단계와, (G) 성형몰드의 상부 영역과 하부 영역의 압력 차이를 해제하는 단계와, (H) 성형몰드와 기판을 분리하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the substrate vacuum forming method of the present invention, after the step (E), (F) curing the resin, (G) releasing the pressure difference between the upper region and the lower region of the molding mold, (H) The method may include separating the molding mold from the substrate.

또한, 본 발명의 기판 진공성형 방법은 상기 (B) 단계에서, 상기 투명격막의 상부 영역과 하부 영역의 압력 차이는 1 내지 100 torr인 것이 바람직하다.In the substrate vacuum forming method of the present invention, in step (B), the pressure difference between the upper region and the lower region of the transparent diaphragm is preferably 1 to 100 torr.

또한, 상기 수지는 UV 수지인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the said resin is UV resin.

또한, 상기 성형몰드는 유연하고 투명한 플라스틱으로 이루어질 수 있다.In addition, the molding mold may be made of a flexible and transparent plastic.

또한, 상기 투명격막은 투명한 탄성수지로 이루어질 수 있다.In addition, the transparent diaphragm may be made of a transparent elastic resin.

또한, 본 발명의 기판 진공성형 방법은 상기 (A) 단계를 진공 중에서 실크 인쇄 공정에 의하여 실시할 수 있다.In addition, the substrate vacuum forming method of the present invention can be carried out by the silk printing process in the vacuum step (A).

또한, 본 발명의 기판 진공성형 방법은 상기 (A) 단계를, 기판에 1 내지 10 회 코팅 가능한 양만큼의 UV 수지를 실크 제판위에 토출하는 정밀 노즐을 설치한 실크 인쇄 장치에 의하여 실시할 수 있다.In addition, the substrate vacuum forming method of the present invention can be carried out by the silk printing apparatus provided with a precision nozzle for discharging the UV resin on the silk plate as much as 1 to 10 coatings on the substrate. .

또한, 본 발명의 기판 진공성형 방법은 상기 (E) 단계 후에, 상기 성형몰드를 통해 기판에 자외선을 조사할 수 있다.In addition, in the substrate vacuum forming method of the present invention, after the step (E), the substrate may be irradiated with ultraviolet rays through the molding mold.

또한, 상기 투명격막은 실리콘고무 또는 우레탄고무로 이루어질 수 있다.In addition, the transparent diaphragm may be made of silicone rubber or urethane rubber.

또한, 상기 성형몰드 프레임의 상단 가장자리는 라운드형일 수 있다.In addition, the upper edge of the molded mold frame may be round.

또한, 상기 성형몰드 프레임의 상단 또는 상측 심부에 수평한 통기 라인이 설치될 수 있다.In addition, a ventilation line horizontal to the upper or upper core portion of the molded mold frame may be installed.

본 발명에 따르면, 기판과 성형몰드의 평탄도가 정밀하게 조절되지 않더라도 기판과 성형몰드가 균일한 압력으로 완벽하게 밀착되도록 할 수 있으며, 기판의 성형 공정을 진공 중에서 실시함으로써, 아무리 복잡한 형태의 3차원 패턴이라고 하더라도 성형몰드와 기판 사이에 성형이 이루어지 않은 미성형부가 발생하거나 기포 등의 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 기판의 크기나 두께에 관계없이 균일한 3차원 패턴의 성형이 가능하므로, 본 발명에 따른 방법과 장치를 적용하여 대면적 제품을 제조할 수 있어, 당업계에 기여하는 바가 지대하다. 나아가, 투명격막의 도입으로 인하여 상대적으로 고진공이 필요한 기판 주변에는 높은 수준의 진공도를 유도하는 한편, 고진공이 필요하지 않은 나머지 공간에는 상대적으로 낮은 수준의 진공도만으로도 불량 없는 패턴 형성이 가능하게 되었다. 이를 통해 진공 형성에 소요되는 비용과 시간을 획기적으로 절감할 수 있게 되어, 작업효율이 현저히 상승하는 장점이 있다.According to the present invention, even if the flatness of the substrate and the molding mold is not precisely controlled, the substrate and the molding mold can be brought into perfect contact with a uniform pressure. Even in the case of the dimensional pattern, unmolded portions that are not formed between the molding mold and the substrate may be prevented from occurring, or defects such as bubbles. In addition, since it is possible to form a uniform three-dimensional pattern regardless of the size and thickness of the substrate, it is possible to manufacture a large-area product by applying the method and apparatus according to the present invention, there is a great contribution to the art. Furthermore, the introduction of a transparent diaphragm induces a high level of vacuum around the substrate requiring a relatively high vacuum, while allowing a defect-free pattern to be formed even with a relatively low level of vacuum in the remaining space where a high vacuum is not required. Through this, it is possible to drastically reduce the cost and time required to form a vacuum, and there is a merit that the work efficiency is significantly increased.

도 1은 본 발명에 따른 한 실시 형태에 따른 기판 성형 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 2는 도광판 상에 수지를 실크 인쇄법에 의하여 도포한 후의 수지의 표면 상태를 나타내는 도면이다.
도 3 내지 도 6은, 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 기판에 도포된 수지에 광학 패턴을 형성시키기 위한 진공성형 장치의 개략도이다,
도 7 내지 도 10은, 본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따라 기판에 도포된 수지에 광학 패턴을 형성시키기 위한 진공성형 장치의 개략도이다.
1 is a flowchart showing a substrate forming method according to an embodiment according to the present invention.
It is a figure which shows the surface state of resin after apply | coating resin on the light guide plate by the silk printing method.
3 to 6 are schematic views of a vacuum forming apparatus for forming an optical pattern on a resin applied to a substrate according to a preferred embodiment of the present invention.
7 to 10 are schematic views of a vacuum forming apparatus for forming an optical pattern in a resin applied to a substrate according to another preferred embodiment of the present invention.

이하에서 도 1 내지 도 10을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시 형태를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 10.

도 1은 본 발명의 한 실시 형태에 따른 기판 성형 방법을 나타내는 흐름도이고, 도 2는 도광판 상에 수지를 실크 인쇄법에 의하여 도포한 후의 수지의 표면 상태를 나타내는 도면이고, 도 3 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 기판에 도포된 수지에 광학 패턴을 형성시키기 위한 진공성형 장치의 개략도이고, 도 7 내지 도 10은 본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따라 기판에 도포된 수지에 광학 패턴을 형성시키기 위한 진공성형 장치의 개략도이다.1 is a flowchart showing a substrate forming method according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing the surface state of the resin after the resin is coated on the light guide plate by the silk printing method, and FIGS. 3 to 6 7 is a schematic diagram of a vacuum forming apparatus for forming an optical pattern on a resin applied to a substrate according to a preferred embodiment of the present invention, and FIGS. 7 to 10 are optical patterns on a resin applied to a substrate according to another preferred embodiment of the present invention. Is a schematic diagram of a vacuum forming apparatus for forming a mold.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에서는 기판 기재 (bare substrate)에 수지를 도포하는 공정과 수지에 3차원 패턴을 형성하는 공정에 의하여 기판을 제조하며, 특히 수지로서는 UV 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 이하에서, UV 수지를 도포하는 공정과 3차원 패턴을 형성하는 공정에 대하여 구체적인 실시예를 참조하여 설명한다. As shown in FIG. 1, in the present invention, a substrate is manufactured by a process of applying a resin to a bare substrate and a process of forming a three-dimensional pattern in the resin, and in particular, it is preferable to use a UV resin as the resin. Do. Hereinafter, a process of applying a UV resin and a process of forming a three-dimensional pattern will be described with reference to specific examples.

<UV 수지 도포 공정><UV resin coating process>

UV 수지를 도포함에 있어서는, 실크 인쇄법, 슬릿 코팅법, 롤 코팅법 등을 사용할 수 있으나, 본 발명의 한 실시예에서는 실크 인쇄법을 사용하였으며, 기포 발생과 관련된 문제를 해결하기 위하여 수지 도포를 진공 체임버 내에서 실시하였다. In applying the UV resin, a silk printing method, a slit coating method, a roll coating method, or the like may be used, but in one embodiment of the present invention, the silk printing method is used, and the resin coating is applied to solve the problem related to bubble generation. It was carried out in a vacuum chamber.

진공 체임버 내부에 실크 제판과, 실크 인쇄를 수행하기 위한 2개의 스퀴즈를 구비한 이송 장치를 설치하였으며, 진공 체임버의 진공도를 조정하여, UV 수지의 물성(점도)과 사용 제판의 목수에 따라 기포가 발생하지 않는 진공도를 결정하였다. 그 결과는 아래의 표와 같다.Inside the vacuum chamber, a transfer device equipped with silk engraving and two squeezes for silk printing was installed. The degree of vacuum that did not occur was determined. The results are shown in the table below.

UV 수지 점도UV resin viscosity 제판 목수Engraving carpenter 기포 미발생 진공도Bubble-free vacuum degree 100 cps100 cps 200목200 Th 400 torr400 torr 200 cps200 cps 150목150 Th 300 torr300 torr 300 cps300 cps 100목100 Th 100 torr100 torr

도 2는 기판 상에 점도가 100 cps 인 UV 수지를 실크 인쇄법에 의하여 도포한 후의 UV 수지의 외관을 나타내는 사진이며, (a)와 (b)는 각각 대기압 조건과 400 torr의 진공도의 조건으로 UV 수지를 도포하였을 때의 표면 상태를 나타낸다.Figure 2 is a photograph showing the appearance of the UV resin after applying a UV resin with a viscosity of 100 cps on the substrate by the silk printing method, (a) and (b) are at atmospheric pressure and vacuum conditions of 400 torr, respectively The surface state at the time of apply | coating UV resin is shown.

도 2의 (b)와 같이, 실크 인쇄 조건에 따른 적정 진공도를 설정하여 UV 수지를 도광판 상에 도포함으로써, UV 수지에 기포가 발생하는 것을 방지할 수 있었다.As shown in FIG. 2B, by setting an appropriate vacuum degree according to the silk printing condition and applying the UV resin onto the light guide plate, it was possible to prevent bubbles from being generated in the UV resin.

또 다른 실시예에서는, 대기압에서 실크 인쇄가 반복될수록 기포 발생이 점점 더 심해지는 현상에 착안하여 기판에 코팅되는 UV 수지의 양을 소량으로 제어할 수 있는 정밀 노즐을 설치하고, 1 내지 10 회 코팅 가능한 UV 수지 양만을 제판위에 토출하는 방법을 사용하여 대기압에서 실크 인쇄를 수행하였다. 통상적인 UV 수지의 경우 1 내지 2 회 코팅 가능한 양이 적합하나, 소포성이 우수한 UV 수지를 사용하는 경우, 10 회 이상 코팅 가능한 양으로도 실크 인쇄를 수행할 수 있다.In another embodiment, a precision nozzle that can control the amount of UV resin coated on the substrate in a small amount, paying attention to the phenomenon that the bubble generation becomes more severe as the silk printing is repeated at atmospheric pressure, coating 1 to 10 times Silk printing was performed at atmospheric pressure using the method of dispensing only the possible amount of UV resin onto the plate making. In the case of a conventional UV resin, an amount that can be coated once or twice is suitable. However, when a UV resin having excellent antifoaming property is used, silk printing can be performed in an amount that can be coated 10 times or more.

<광학 패턴 성형><Optical pattern molding>

본 발명에 따라 기판에 수지를 도포한 후에 수지에 광학 패턴을 성형하는 공정에서는, 투명하고 유연한 연질의 성형몰드 (예를 들면, Regiflex mold, (주)미뉴타텍, 한국)를 사용하였으며, 진공 체임버 내에서 성형하는 것을 특징으로 한다. In the process of molding the optical pattern on the resin after applying the resin to the substrate according to the present invention, a transparent and flexible soft molding mold (eg, Regiflex mold, Minutatec, Korea) was used, and the vacuum It is characterized by molding in a chamber.

도 3 내지 도 6은 기판(10)의 일면에 도포된 수지 (도면에는 도시 생략)를 유연한 성형몰드(20)에 의하여 가압하여 3차원 패턴을 성형하는 본 발명의 진공성형 장치(100)의 한 실시예를 나타낸다. 3 to 6 illustrate a vacuum molding apparatus 100 of the present invention for molding a three-dimensional pattern by pressing a resin (not shown in the drawing) applied to one surface of the substrate 10 by a flexible molding mold 20. An Example is shown.

진공성형 장치(100)는 커버(110), 측벽(120) 및 바닥판(130)을 구비하는 진공 체임버 본체(140)를 포함한다. Vacuum forming apparatus 100 includes a vacuum chamber body 140 having a cover 110, sidewalls 120, and bottom plate 130.

측벽(120)은 소정의 공간을 포위하는 각통, 원통 등과 같은 통상의 형태이며, 그 형상이 특별히 한정되지는 않는다. 도 3의 실시예에서, 바닥판(130)은 측벽(120)의 하단으로부터 일체형으로 연장되고, 커버(110)는 측벽(120)의 상방을 덮음으로써, 바닥판(130), 측벽(120) 및 커버(110)에 의하여 진공 체임버(150)가 구획된다.The side wall 120 is a conventional shape such as a cylinder, a cylinder, or the like surrounding a predetermined space, and the shape thereof is not particularly limited. In the embodiment of FIG. 3, the bottom plate 130 extends integrally from the bottom of the side wall 120, and the cover 110 covers the upper side of the side wall 120, thereby bottom plate 130 and side wall 120. And the vacuum chamber 150 is partitioned by the cover 110.

측벽(120)에는 미도시의 개폐 가능한 문이 설치되어, 수지가 도포된 기판(10)을 진공 체임버(150) 내로 이송하여 바닥판(130)에 안착시킬 수 있다. 이 때, 기판(10)을 고정하기 위하여, 바닥판(130)에 홀더(132)가 부착되어 있는 것이 바람직하다. The side wall 120 may be provided with an openable door (not shown) to transfer the resin-coated substrate 10 into the vacuum chamber 150 to be seated on the bottom plate 130. At this time, in order to fix the substrate 10, the holder 132 is preferably attached to the bottom plate 130.

진공 체임버(150)가 외부와 기밀 상태를 유지하도록, 커버(110)와 측벽(120)의 연결부에는 밀봉 부재(152)가 배치된다. The sealing member 152 is disposed at the connection portion between the cover 110 and the side wall 120 so that the vacuum chamber 150 maintains an airtight state with the outside.

진공 체임버(150)에는 기판(10)에 3차원 패턴을 전사하는 성형몰드(20)와, 성형몰드(20)의 가장자리를 고정하는 성형몰드 프레임(170), 그리고 상기 성형몰드(20)와 성형몰드 프레임(170)을 덮고 측벽까지 연장 형성되는 투명격막(30)이 배치되고, 성형몰드 프레임(170)은 승강 기구(180)에 의하여 승강 가능하도록 구성된다.The vacuum chamber 150 has a molding mold 20 for transferring a three-dimensional pattern to the substrate 10, a molding mold frame 170 for fixing the edge of the molding mold 20, and the molding mold 20 and molding. A transparent diaphragm 30 is formed to cover the mold frame 170 and extend to the side wall, and the molding mold frame 170 is configured to be liftable by the lifting mechanism 180.

상기 투명격막(30)은 외부와 기밀 상태의 진공 체임버(150)를 상부 체임버와 하부 체임버로 분할한다.The transparent diaphragm 30 divides the outer and hermetic vacuum chamber 150 into an upper chamber and a lower chamber.

상기 성형몰드(20)는 두께가 1mm 내지 2mm 정도인 유연한 플라스틱 소재로 이루어지고, 액자의 형태와 같이 성형몰드 프레임(170)에 고정된다. 상기 성형몰드 프레임(170)은 금속과 같은 강성의 소재로 이루어지는 것이 바람직하고, 상기 투명격막(30)이 마찰에 의해 손상되는 것을 방지하기 위해 상단 가장자리가 라운드형으로 마감되는 것이 바람직하다.The molding mold 20 is made of a flexible plastic material having a thickness of about 1mm to 2mm, and is fixed to the molding mold frame 170 in the form of a picture frame. The molding mold frame 170 is preferably made of a rigid material such as metal, and the top edge is preferably rounded to prevent the transparent membrane 30 from being damaged by friction.

상기 투명격막(30)은 실리콘고무 또는 우레탄고무와 같은 투명한 탄성수지로 이루어지는 것이 바람직하고, 특히 실리콘고무 또는 우레탄고무로 이루어지는 것이 더욱 바람직하다.The transparent diaphragm 30 is preferably made of a transparent elastic resin such as silicone rubber or urethane rubber, and more preferably made of silicone rubber or urethane rubber.

성형몰드 프레임(170)이 최저 위치로 하강하여 바닥판(130)과 접촉하면, 성형몰드(20)는 기판(10)에 근접하도록 구성된다. 이 때, 성형몰드(20), 성형몰드 프레임(170) 및 바닥판(130)에 의하여 포위된 공간이 성형몰드(20)의 상부 영역을 포함하는 공간과 기밀 상태를 유지하도록, 성형몰드(20)와 성형몰드 프레임(170)의 고정부와, 성형몰드 프레임(170)과 바닥판(130)의 접촉부에는 밀봉 부재(156, 158)가 배치된다. When the molding mold frame 170 descends to the lowest position and contacts the bottom plate 130, the molding mold 20 is configured to approach the substrate 10. At this time, the molding mold 20 so that the space surrounded by the molding mold 20, the molding mold frame 170 and the bottom plate 130 maintains a space and an airtight state including the upper region of the molding mold 20. ) And sealing members 156 and 158 are disposed at the fixing portion of the molding mold frame 170 and the contact portion of the molding mold frame 170 and the bottom plate 130.

진공 체임버(150)가 상부 체임버와 하부 체임버로 분할되었을 때에 상부 및 하부 체임버의 진공도가 각각 제어될 수 있도록, 진공 체임버 본체(140)에는 3개의 통기 라인(162, 164, 168)이 설치된다. 도 3에 예시된 실시예에서는, 통기 라인(162, 164, 168)이 커버(110), 측벽(120)과 바닥판(130)에 배치되어 상부 체임버와 하부 체임버에 각각 연통하도록 구성되어 있다. When the vacuum chamber 150 is divided into an upper chamber and a lower chamber, three ventilation lines 162, 164, and 168 are provided in the vacuum chamber body 140 so that the vacuum degree of the upper and lower chambers can be controlled, respectively. In the embodiment illustrated in FIG. 3, vent lines 162, 164, and 168 are arranged in the cover 110, the sidewalls 120 and the bottom plate 130 so as to communicate with the upper chamber and the lower chamber, respectively.

전술한 바와 같은 구성의 진공성형 장치(100)를 이용하여, 기판(10)에 광학 패턴을 전사하는 공정에 대하여 설명한다. The process of transferring the optical pattern to the substrate 10 using the vacuum forming apparatus 100 having the above-described configuration will be described.

도 3에 도시한 바와 같이 기판(10)을 진공 체임버(150) 내로 이송하고 진공 체임버(150)를 밀폐한 후에, 진공 펌프(도 3에 도시 생략)를 가동하여 통기 라인(162, 168)을 통해 진공 체임버(150) 내의 공기를 배출시킨다. 이 때 통기 라인(164)은 진공 펌프에 연결될 수도 있고, 연결되지 않을 수도 있다. 진공 체임버(150)의 압력은 잔류 공기에 의한 불량 발생을 감소시키고 기판(10)에 코팅된 수지(20)의 기포를 제거하기 위하여 100 torr 이하가 되도록 하는 것이 바람직하며, 진공도를 증가시킬 경우에는 고가의 장비가 필요하게 되므로 10-3 torr ~ 100 torr의 범위가 되도록 설정하는 것이 바람직하다. After transferring the substrate 10 into the vacuum chamber 150 and closing the vacuum chamber 150 as shown in FIG. 3, a vacuum pump (not shown in FIG. 3) is operated to close the aeration lines 162 and 168. The air in the vacuum chamber 150 is discharged through. At this time, the vent line 164 may or may not be connected to the vacuum pump. The pressure of the vacuum chamber 150 is preferably 100 torr or less in order to reduce the occurrence of defects due to residual air and to remove bubbles of the resin 20 coated on the substrate 10. When the degree of vacuum is increased, Expensive equipment is required, so it is preferable to set it in the range of 10 -3 torr to 100 torr.

그런데, 전술한 바와 같이 기판(10)에 코팅된 UV 수지에서의 기포 발생을 억제하는 것이 진공의 주된 목적이라면, 진공 체임버(150) 전체에 높은 수준의 진공을 가할 필요가 없다는 발상이 본 발명의 주요한 착안점이다. 즉, 실제 고진공은 UV 수지가 코팅된 기판(10) 주변에만 적용하고, 나머지 영역에는 상대적으로 낮은 수준의 진공도로도 충분한 것이다.However, if the main purpose of the vacuum is to suppress the generation of bubbles in the UV resin coated on the substrate 10 as described above, the idea that a high level of vacuum is not required to apply to the entire vacuum chamber 150 is It is a major focus. That is, the actual high vacuum is applied only around the substrate 10 coated with the UV resin, and a relatively low level of vacuum is sufficient for the remaining areas.

이는 수율 향상을 위해 기판(10)의 크기가 갈수록 대형화됨에 따라 이를 제작하는 진공 체임버(150) 역시 대형화되는 추세에서 그 중요성이 커지고 있다. 즉, 진공 체임버(150) 내부 영역 중 고진공을 적용해야 할 영역의 부피를 줄이면 줄일수록, 진공에 소요되는 시간 및 동력비가 감소하여 생산성을 향상시키는 것이 가능해지기 때문이다.As the size of the substrate 10 increases in size to improve yield, the importance of the vacuum chamber 150 for manufacturing the same also increases in size. That is, as the volume of the region to which high vacuum is to be applied in the region inside the vacuum chamber 150 is reduced, the time and power cost required for the vacuum are reduced, thereby improving productivity.

본 발명에서는 이러한 고진공 적용 부피 감소를 위해 투명격막(30)을 도입하였다. 상기 투명격막(30)은 커버(110), 측벽(120) 및 바닥판(130)에 의해 밀폐된 진공 체임버(150)를 상하로 구획하여 상부 체임버와 하부 체임버로 분할되게 한다.In the present invention, the transparent diaphragm 30 is introduced to reduce the volume of the high vacuum application. The transparent diaphragm 30 divides the vacuum chamber 150 sealed by the cover 110, the side wall 120, and the bottom plate 130 up and down to be divided into an upper chamber and a lower chamber.

이 상태에서 기판(10)이 포함된 하부 체임버에 통기 라인(168)을 통해 높은 수준의 진공 (상대적으로 저압)을, 반대로 상부 체임버에는 통기 라인(162)을 통해 낮은 수준의 진공 (상대적으로 고압)을 적용하면 투명격막(30)이 성형몰드(20)와 밀착하여 도 4와 같은 형태가 된다. 이 과정을 통해 종래보다 짧은 시간, 낮은 운전비로 기판(10)에 코팅된 수지에서 기포를 제거하는 것이 가능해진다.In this state, a high level of vacuum (relatively low pressure) is applied to the lower chamber including the substrate 10 through the vent line 168, while a lower level of vacuum (relatively high pressure) is provided to the upper chamber through the vent line 162. ), The transparent diaphragm 30 is in close contact with the molding mold 20 to form a shape as shown in FIG. 4. This process makes it possible to remove bubbles from the resin coated on the substrate 10 in a shorter time, lower operating cost than conventional.

다만, 진공도의 차이로 인해 투명격막(30) 상하에 압력차가 발생하면 도 4와 같이 투명격막(30)은 아래로 처져 상기 성형몰드(20)에 밀착되며, 이 경우 성형몰드(20)는 압력차로 인한 기계적 하중을 고스란히 전달받게 된다. 따라서, 성형몰드(20)에 가해지는 이러한 기계적 하중을 적절히 제어하는 것이 필요하며, 이는 상부 체임버와 하부 체임버의 압력차를 1 내지 100 torr 이내로 제어함으로써 달성될 수 있다.However, if a pressure difference occurs above and below the transparent diaphragm 30 due to the difference in the degree of vacuum, the transparent diaphragm 30 sags downward to closely adhere to the forming mold 20 as shown in FIG. 4, in which case the forming mold 20 is pressurized. It receives the mechanical loads from the car. Therefore, it is necessary to properly control this mechanical load applied to the molding mold 20, which can be achieved by controlling the pressure difference between the upper chamber and the lower chamber within 1 to 100 torr.

한편, 본 발명에서 사용되는 투명격막(30)은 상기 성형몰드 프레임(170)의 상승과 하강, 그리고 진공 도중에 성형몰드 프레임(170)과 접촉하여 마찰을 일으킨다. 특히, 성형몰드 프레임(170)의 상단 가장자리에서 일어나는 이러한 마찰은 투명격막(30)에 손상을 발생시킬 수 있다. 따라서, 성형몰드 프레임(170)의 상단 가장자리는 도 3 내지 도 6에 도시된 바와 같이 라운드형으로 마감되는 것이 바람직하다.On the other hand, the transparent diaphragm 30 used in the present invention causes friction by contacting the molding mold frame 170 during the rising and falling of the molding mold frame 170 and vacuum. In particular, such friction occurring at the upper edge of the molded mold frame 170 may cause damage to the transparent diaphragm 30. Therefore, the upper edge of the molded mold frame 170 is preferably finished in a round shape as shown in FIGS.

그리고, 진공 적용시 상기 투명격막(30)은 성형몰드(20)의 중앙에서부터 밀착되어 성형몰드 프레임(170) 쪽으로 밀착 부위가 확장된다. 이 경우 투명격막(30)과 성형몰드(20) 사이의 공기 배출을 원활히 하기 위해 성형몰드 프레임(170)의 상단 또는 상측 심부에 수평한 통기 라인(166)이 설치되는 것이 바람직하다. 도 3 내지 도 6에는 상기 통기 라인(166)이 성형몰드 프레임(170)의 상측 심부에 설치된 경우를 예시한 것이다.In addition, when the vacuum is applied, the transparent diaphragm 30 is in close contact with the center of the molding mold 20 to extend the contact portion toward the molding mold frame 170. In this case, in order to smoothly discharge the air between the transparent diaphragm 30 and the molding mold 20, it is preferable that a horizontal vent line 166 is provided at the upper or upper core portion of the molding mold frame 170. 3 to 6 illustrate a case where the ventilation line 166 is installed on the upper core portion of the molding mold frame 170.

이처럼, 진공 체임버(150)를 진공 상태로 한 후에, 승강 기구(180)를 작동시켜 성형몰드 프레임(170)을 서서히 하강하여, 성형몰드 프레임(170)에 고정된 성형몰드(20)가 수지가 도포된 기판(10)의 일면에 도 5와 같이 접촉되도록 한다.As described above, after the vacuum chamber 150 is set in a vacuum state, the lifting mechanism 180 is operated to gradually lower the molding mold frame 170 so that the molding mold 20 fixed to the molding mold frame 170 is formed of resin. One surface of the coated substrate 10 is to be contacted as shown in FIG.

이 때, 성형몰드(20)와 성형몰드 프레임(170) 사이의 밀봉 부재(156)와, 성형몰드 프레임(170)과 바닥판(130) 사이의 밀봉 부재(158)에 의하여, 진공 체임버(150) 내의 성형몰드(20)의 상부 영역을 포함하는 공간과 하부 영역을 포함하는 공간이 서로에 대하여 기밀 상태로 유지된다. 즉, 진공 체임버(150)는 상기 투명격막(30)에 의해 상부 체임버와 하부 체임버로 분할되었던 것에 더하여 서로 연통하지 않는 2개의 체임버로 또 다시 분할되고, 성형몰드(20)는 2개의 체임버의 경계로서의 격벽의 역할을 한다. At this time, the vacuum chamber 150 is formed by the sealing member 156 between the molding mold 20 and the molding mold frame 170 and the sealing member 158 between the molding mold frame 170 and the bottom plate 130. The space including the upper region and the lower region of the molding mold 20 in the cavities is kept airtight with respect to each other. That is, the vacuum chamber 150 is further divided into two chambers which are not in communication with each other in addition to being divided into an upper chamber and a lower chamber by the transparent diaphragm 30, and the molding mold 20 is bounded by two chambers. It acts as a bulkhead.

그 후, 성형몰드(20)의 상부 영역과 연통하는 통기 라인(162, 168)을 통하여 진공을 해제하고, 성형몰드(20)의 하부 영역은 진공을 유지하도록 하면, 성형몰드(20)를 경계로 하여 발생한 압력 차이에 의하여 성형몰드(20)가 기판(10)에 완벽하게 밀착하게 된다. 예를 들면, 성형몰드(20)의 상부 영역에 대기압이 작용하도록 하면, 성형몰드(20)의 상하에 대략 1기압의 차이를 발생시킬 수 있다.Thereafter, if the vacuum is released through the vent lines 162 and 168 communicating with the upper region of the molding mold 20 and the lower region of the molding mold 20 is kept in vacuum, the molding mold 20 is bounded. Due to the pressure difference generated by the molding mold 20 is in close contact with the substrate 10 perfectly. For example, when atmospheric pressure acts on the upper region of the molding mold 20, a difference of approximately 1 atmosphere can be generated above and below the molding mold 20.

이러한 진공 해제 도중에는 투명격막(30) 상부 체임버와 하부 체임버의 압력차가 마찬가지로 1 내지 100 torr 범위로 제어되는 것이 투명격막(30)의 손상 방지를 위해 바람직하다. 진공 해제가 완료되면, 상기 상부 체임버와 하부 체임버 사이의 압력차는 사라지며, 투명격막(30)은 도 6과 같이 편평해진다.During the vacuum release, the pressure difference between the upper chamber and the lower chamber of the transparent diaphragm 30 is preferably controlled in the range of 1 to 100 torr, in order to prevent damage to the transparent diaphragm 30. When the vacuum release is completed, the pressure difference between the upper chamber and the lower chamber disappears, and the transparent diaphragm 30 becomes flat as shown in FIG. 6.

성형몰드(20)와 밀착된 상태에서 수지를 경화시키면, 성형몰드(20)에 새겨져 있는 3차원 패턴이 기판(10)에 전사된다. 수지의 경화가 완료되면, 성형몰드(20)의 하부 영역과 연통하는 통기 라인(164)을 통하여 진공을 해제하고, 성형몰드 프레임(170)을 상승시켜 성형몰드(20)와 기판(10)을 이형한다. When the resin is cured in close contact with the molding mold 20, the three-dimensional pattern engraved on the molding mold 20 is transferred to the substrate 10. When curing of the resin is completed, the vacuum is released through the vent line 164 communicating with the lower region of the molding mold 20, and the molding mold frame 170 is raised to lift the molding mold 20 and the substrate 10. Mold.

본 발명에 따른 진공성형 방법의 변형 실시예에 의하면, UV 수지가 도포된 기판(10)을 사용하는 것이 바람직하고, 특히 "UV 수지 도포 공정"에 기재된 공정을 이용하는 것이 더욱 바람직하다. 이 경우에, 진공성형 장치(100)는 자외선 램프 스테이지 (UV lamp stage)를 또한 포함할 수 있다. According to a modified embodiment of the vacuum forming method according to the present invention, it is preferable to use the substrate 10 to which the UV resin is applied, and more preferably to use the process described in "UV resin application process". In this case, the vacuum forming apparatus 100 may also include an UV lamp stage.

도 7 내지 도 10은 본 발명에 따른 진공성형 장치(100)의 다른 실시예를 나타낸다. 도 7 내지 도 10에 도시된 진공성형 장치(100)의 구성요소 중에서, 도 3 내지 도 6의 진공성형 장치(100)와 동일하거나 대응하는 부재에는 동일한 도면부호를 부여되어 있으며, 중복되는 구성에 대해서는 상세한 설명을 생략하기로 한다. 7 to 10 show another embodiment of the vacuum forming apparatus 100 according to the present invention. Among the components of the vacuum forming apparatus 100 shown in FIGS. 7 to 10, the same or corresponding members as those of the vacuum forming apparatus 100 of FIGS. Detailed description thereof will be omitted.

진공성형 장치(100)는 커버(110), 측벽(120) 및 바닥판(130)을 구비하는 진공 체임버 본체(140)를 포함하며, 진공 체임버 본체(140) 내에는 승강 가능한 성형몰드 프레임(170)과 성형몰드 프레임(170)에 고정된 성형몰드(20)가 구비된다. 본 실시예에서는, UV 수지가 도포된 기판(10)에 광학 패턴을 형성하는 공정에 적합하도록, 진공성형 장치(100)는 UV 수지를 경화시키기 위한 UV 램프 스테이지(190)를 또한 포함한다.The vacuum forming apparatus 100 includes a vacuum chamber body 140 having a cover 110, a side wall 120, and a bottom plate 130, and within the vacuum chamber body 140, a lifting and molding mold frame 170. ) And a molding mold 20 fixed to the molding mold frame 170 is provided. In this embodiment, the vacuum forming apparatus 100 also includes a UV lamp stage 190 for curing the UV resin to be suitable for the process of forming an optical pattern on the substrate 10 to which the UV resin is applied.

도 7의 실시예에서의 바닥판(130)은, 도 3의 실시예에서 측벽과 일체형으로 형성된 바닥판과는 달리, 분리 가능하고 미도시의 승강 기구에 의하여 상하 운동을 하도록 구성되고, 최고 상승 위치에서 측벽(120)의 하방을 밀폐한다. 커버(110), 측벽(120) 및 바닥판(130)에 의하여 밀폐된 공간은 진공 체임버(150)를 형성한다. The bottom plate 130 in the embodiment of FIG. 7, unlike the bottom plate formed integrally with the side wall in the embodiment of FIG. 3, is detachable and is configured to move up and down by a lifting mechanism, not shown, with the highest lift Seal the underside of sidewall 120 in position. The space enclosed by the cover 110, the side wall 120, and the bottom plate 130 forms a vacuum chamber 150.

측벽(120)은 성형몰드(20)의 승강 기구(180)와 간섭되지 않도록 대략 L자형으로 연장되는 연장부(122)를 구비하며, 바닥판(130)은 상승 시에 측벽(120)의 연장부(122)에 밀착된다.The side wall 120 has an extension portion 122 extending substantially in an L shape so as not to interfere with the lifting mechanism 180 of the forming mold 20, and the bottom plate 130 extends of the side wall 120 when raised. It is in close contact with the portion 122.

또한, 커버(110) 및 측벽(120)에는 진공 체임버(150)를 감압하거나 가스를 주입하기 위한 통기 라인(162, 164, 168)이 3개소의 위치에 설치된다. 3개의 통기 라인(162, 164, 168) 중에서 하나는 커버(110)에, 다른 2개는 측벽(120)에 배치된다. 3개의 통기 라인(162, 164, 168)은 진공 체임버(150)가 분할되어 형성되는 3개의 체임버에 각각 연통하도록 구성되는데, 이에 대해서는 도 10을 참조하여 다시 설명하기로 한다. In addition, the cover 110 and the side wall 120 are provided with ventilation lines 162, 164, and 168 at three positions for depressurizing or injecting the vacuum chamber 150. One of the three vent lines 162, 164, 168 is disposed on the cover 110 and the other two on the side wall 120. The three ventilation lines 162, 164, and 168 are configured to communicate with three chambers in which the vacuum chamber 150 is divided, which will be described with reference to FIG. 10 again.

성형몰드(20)는 유연하고 UV 광에 대하여 투광성을 갖는 플라스틱 소재로 제작된다. 성형몰드(20)는, 성형몰드 프레임(170)과 함께, 승강 기구(180)에 의해 상하 운동을 할 수 있다. 성형몰드 프레임(170)의 하강 시에, 성형몰드(20)의 하방의 공간이 상방의 공간과 분리되어 기밀 상태를 유지하도록, 성형몰드(20)와 성형몰드 프레임(170)의 접촉부에 밀봉 부재(156)가 배치되고, 측벽(120)의 연장부(122)와 성형몰드 프레임(170)의 접촉부에도 밀봉 부재(158)가 배치된다.The molding mold 20 is made of a plastic material which is flexible and transparent to UV light. The molding mold 20 can move up and down by the lifting mechanism 180 together with the molding mold frame 170. When the molding mold frame 170 descends, the sealing member at the contact portion between the molding mold 20 and the molding mold frame 170 so that the space below the molding mold 20 is separated from the upper space and maintained in an airtight state. 156 is disposed, and the sealing member 158 is also disposed at the contact portion between the extension portion 122 of the side wall 120 and the molding mold frame 170.

다음으로, 도 7 내지 도 10을 참조하여 진공성형 장치(100)의 작동 과정에 대하여 설명한다. Next, the operation of the vacuum forming apparatus 100 will be described with reference to FIGS. 7 to 10.

우선, 커버(110)를 분리하고 바닥판(130)을 하강하여, 진공 체임버 본체(140)의 상방과 하방을 개방한다. 성형몰드(20)를 성형몰드 프레임(170)에 고정하고, 투명격막(30)을 덮은 후에 커버(100)를 닫고, 기판(10)이 장착된 홀더(132)를 이송 장치(도면에 도시 생략)에 의하여 바닥판(130) 상으로 이송시키면, 도 7과 같이 진공성형을 위한 준비 상태가 된다. First, the cover 110 is removed and the bottom plate 130 is lowered to open the upper and lower portions of the vacuum chamber body 140. The molding mold 20 is fixed to the molding mold frame 170, the cover 100 is closed after covering the transparent diaphragm 30, and the holder 132 on which the substrate 10 is mounted is transferred to a transfer device (not shown in the drawing). When transferred to the bottom plate 130 by the), it becomes a ready state for vacuum molding as shown in FIG.

이어서, 바닥판(130)을 상승시켜 측벽(120)의 연장부(122)에 바닥판(130)을 밀착시키면, 커버(110), 측벽(120) 및 바닥판(130)에 의해 구획된 공간이 밀폐되어 진공 체임버(150)를 형성하고, 진공 펌프(도면에 도시 생략)를 가동하여 통기 라인(162, 168)을 통해 진공 체임버(150) 내의 공기를 배출시키면, 도 8과 같이 투명격막(30)이 성형몰드(20)에 밀착된다. 이 때 통기 라인(164)은 진공 펌프에 연결될 수도 있고, 연결되지 않을 수도 있다.Subsequently, when the bottom plate 130 is raised to closely adhere the bottom plate 130 to the extension 122 of the side wall 120, the space partitioned by the cover 110, the side wall 120, and the bottom plate 130. The seal is formed to form a vacuum chamber 150, and a vacuum pump (not shown in the drawing) is operated to discharge air in the vacuum chamber 150 through the vent lines 162 and 168, and as shown in FIG. 30 is in close contact with the molding mold 20. At this time, the vent line 164 may or may not be connected to the vacuum pump.

진공 체임버(150)를 진공 상태로 한 후에, 승강 기구(180)를 작동시켜 성형몰드 프레임(170)을 서서히 하강하여, 성형몰드 프레임(170)에 고정된 성형몰드(20)가 UV 수지가 도포된 기판(10)의 일면에 도 9와 같이 접촉되도록 한다.After the vacuum chamber 150 is in a vacuum state, the lifting mechanism 180 is operated to gradually lower the molding mold frame 170 so that the molding mold 20 fixed to the molding mold frame 170 is coated with UV resin. One surface of the substrate 10 is brought into contact as shown in FIG. 9.

이 때, 성형몰드(20)와 성형몰드 프레임(170) 사이의 밀봉 부재(156)와, 성형몰드 프레임(170)과 측벽(120)의 연장부(122) 사이의 밀봉 부재(158)에 의하여, 진공 체임버(150) 내의 성형몰드(20)의 상부 영역을 포함하는 공간과 하부 영역을 포함하는 공간이 서로에 대하여 연통하지 않는 기밀 상태로 유지된다. 이러한 작동 상태가 도 9에 도시되어 있으며, 진공 체임버(150)는 2개의 체임버로 분할되는데, 성형몰드(20)는 이처럼 분할된 2개의 체임버의 경계로서의 격벽의 역할을 한다. At this time, the sealing member 156 between the molding mold 20 and the molding mold frame 170 and the sealing member 158 between the molding mold frame 170 and the extension part 122 of the side wall 120 are formed. In addition, the space including the upper region and the lower region of the molding mold 20 in the vacuum chamber 150 is maintained in an airtight state not communicating with each other. This operating state is shown in FIG. 9, wherein the vacuum chamber 150 is divided into two chambers, and the molding mold 20 serves as a partition wall as a boundary of the two divided chambers.

2개의 체임버가 분할된 상태에서, 통기 라인(162, 168)을 통하여 진공을 해제하고, 성형몰드(20) 아래의 진공은 유지하도록 하면, 도 10과 같이 기압 차에 의하여 성형몰드(20)가 기판(10)에 완벽하게 밀착하고, 투명격막(30)은 편평하게 된다.When the two chambers are divided, the vacuum is released through the vent lines 162 and 168 and the vacuum under the molding mold 20 is maintained. As shown in FIG. It adheres perfectly to the board | substrate 10, and the transparent diaphragm 30 becomes flat.

커버(110)를 열고 투명격막(30)을 제거하거나 제거하지 않고, UV 램프 스테이지(190)에 의하여 투명한 성형몰드(20)를 통해 UV를 조사하면, 기판(10)에 코팅되어 있던 UV 수지는 성형몰드(20)와 밀착된 상태에서 경화하게 되고, 성형몰드(20)에 새겨져 있는 3차원 패턴이 기판(10)에 전사된다. 석영과 같이 UV 광에 투명하고 견고한 재질을 커버(110)로 사용할 경우, 커버(110)를 개방하는 조작이 필요하지 않을 수도 있다. When the cover 110 is opened and irradiated with UV through the transparent molding mold 20 by the UV lamp stage 190 without removing or removing the transparent diaphragm 30, the UV resin coated on the substrate 10 is It hardens in the state in which it is in close contact with the molding mold 20, and the three-dimensional pattern engraved on the molding mold 20 is transferred to the substrate 10. In the case of using the cover 110 as a transparent material that is transparent to UV light such as quartz, an operation of opening the cover 110 may not be necessary.

UV 수지의 경화가 완료되면, 성형몰드(20) 아래의 진공을 해제하고 성형몰드(20)가 장착된 성형몰드 프레임(170)을 상승시켜, 성형몰드(20)와 기판(10)을 이형한다. When curing of the UV resin is completed, the vacuum under the molding mold 20 is released and the molding mold frame 170 on which the molding mold 20 is mounted is lifted to release the molding mold 20 and the substrate 10. .

전술한 바와 같은 공정 순서에 의해, 기판(10)이 대형화하더라도 평탄도에 관계없이 기포 발생이나 미성형과 같은 불량 요인의 발생을 방지할 수 있으며, 기판(10) 주변에만 고진공을 형성함으로써 보다 신속하게 진공 공정을 수행할 수 있어 생산성을 제고하는 것이 가능하다. According to the above-described process sequence, even if the substrate 10 is enlarged, it is possible to prevent the occurrence of defects such as bubble generation or unmolding regardless of the flatness, and by forming a high vacuum only around the substrate 10, it is more rapid. It is possible to perform a vacuum process to improve the productivity.

이상으로, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해 설명하였으나, 본 발명의 범위가 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 본질적이고 필수적인 특징적 구성을 일탈함이 없이 다양한 변형 형태가 가능함은 물론이다. 특히 본 발명의 실시 예에서는 연속 제조 공정의 효율성을 위해 진공 체임버에 착탈되는 기판 홀더와 상부 커버를 도입하였으나, 기판의 투입 방법이나 진공 체임버의 형태 등은 당업자 수준에서 다양한 방법으로 변형 형태가 가능하다. 따라서 본 명세서에서 전술한 실시 형태는 예시적인 것일 뿐 제한적인 의미를 갖지는 않으며, 본 발명의 범위는 첨부된 청구범위에 기재된 사항 및 이로부터 파악될 수 있는 모든 변형 실시 형태를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, the scope of the present invention is not limited to the said embodiment, Of course, various modification forms are possible without deviating from the essential and essential characteristic structure of this invention. Particularly, in the embodiment of the present invention, the substrate holder and the upper cover which are attached to or detached from the vacuum chamber are introduced for the efficiency of the continuous manufacturing process, but the input method of the substrate or the shape of the vacuum chamber may be modified in various ways at the level of those skilled in the art. . The foregoing embodiments are, therefore, to be considered in all respects only as illustrative and not restrictive, and the scope of the present invention is to be understood to include the matters set forth in the appended claims and all modifications that may be understood therefrom. do.

10: 기판 20: 성형몰드
30: 투명격막
100: 진공성형 장치 110: 커버
120: 측벽 122: 연장부
130: 바닥판 140: 진공 체임버 본체
150: 진공 체임버 152,154,156,158: 밀봉 부재
162,164,166,168: 통기 라인 170: 성형몰드 프레임
180: 승강 기구 190: 자외선 램프 스테이지
10: substrate 20: molding mold
30: transparent diaphragm
100: vacuum forming apparatus 110: cover
120: side wall 122: extension
130: bottom plate 140: vacuum chamber body
150: vacuum chamber 152,154,156,158: sealing member
162,164,166,168: Aeration line 170: Molded mold frame
180: lifting mechanism 190: ultraviolet lamp stage

Claims (22)

수지가 도포된 기판에 3차원 패턴을 성형하기 위한 기판 진공성형 장치로서, 통상의 측벽과, 측벽의 상방과 하방을 밀폐하는 커버와 바닥판으로 구성된 진공 체임버 본체를 구비하고,
진공 체임버 본체 내부에는, 기판에 광학 패턴을 전사하는 성형몰드, 상기 성형몰드의 가장자리를 고정하는 승강 가능한 성형몰드 프레임, 및 상기 성형몰드와 성형몰드 프레임을 덮고 측벽까지 연장 형성되는 투명격막을 포함하며,
상기 커버, 측벽 및 바닥판에 의해 밀폐되는 공간은, 상기 투명격막에 의하여 상부 체임버와 하부 체임버로 분할되는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
A substrate vacuum forming apparatus for molding a three-dimensional pattern on a resin-coated substrate, comprising: a vacuum chamber body composed of a normal side wall, a cover and a bottom plate sealing upper and lower sides of the side wall,
The vacuum chamber body includes a molding mold for transferring an optical pattern to a substrate, a liftable molding mold frame for fixing an edge of the molding mold, and a transparent diaphragm covering the molding mold and the molding mold frame and extending to sidewalls. ,
The space enclosed by the cover, the side wall and the bottom plate is divided into an upper chamber and a lower chamber by the transparent diaphragm.
청구항 1에 있어서,
상기 성형몰드 프레임의 하강에 의하여, 상기 성형몰드, 성형몰드 프레임 및 바닥판, 또는 상기 성형몰드, 성형몰드 프레임, 측벽 및 바닥판이 공간을 밀폐하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1,
And the molding mold, the molding mold frame and the bottom plate, or the molding mold, the molding mold frame, the side wall and the bottom plate seal the space by the lowering of the molding mold frame.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 바닥판에는 기판을 고정하는 홀더가 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치
The method according to claim 1 or 2,
Substrate vacuum forming apparatus, characterized in that the holder is attached to the bottom plate for fixing the substrate
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 바닥판은 분리 가능하고 승강하도록 구성되고, 최고 상승 위치에서 측벽의 하방을 밀폐하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
And the bottom plate is detachable and configured to elevate and seal down the sidewall at the highest raised position.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 상부 체임버와 하부 체임버는 독립적으로 압력 제어가 가능한 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
And the upper chamber and the lower chamber are capable of independently controlling pressure.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 상부 체임버와 하부 체임버의 진공 중 압력 차이는 1 내지 100 torr인 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
Substrate vacuum forming apparatus, characterized in that the pressure difference in the vacuum of the upper chamber and the lower chamber is 1 to 100 torr.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 진공 체임버 본체에는 상기 상부 체임버와 하부 체임버 각각에 연통하는 통기 라인이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
And said vent chamber communicating with said upper chamber and said lower chamber, respectively, is provided in said vacuum chamber body.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 성형몰드는 유연하고 투명한 플라스틱으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The molding mold substrate vacuum forming apparatus, characterized in that made of a flexible and transparent plastic.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 투명격막은 투명한 탄성수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The transparent diaphragm is a substrate vacuum forming apparatus, characterized in that made of a transparent elastic resin.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 커버는 UV 광에 투광성이 있는 재질로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The cover is a substrate vacuum forming apparatus, characterized in that consisting of a material which is transparent to UV light.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 커버의 상방에 자외선 램프 스테이지가 배치된 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method according to claim 1 or 2,
An ultraviolet lamp stage is disposed above the cover, characterized in that the substrate vacuum forming apparatus.
청구항 4에 있어서,
상기 측벽은, 성형몰드 프레임의 상승과 바닥판의 상승의 상호 간섭을 방지하기 위하여 단면이 L자형으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 장치.
The method of claim 4,
The side wall is a substrate vacuum forming apparatus, characterized in that the cross section is formed in an L-shape in order to prevent mutual interference of the rise of the molding mold frame and the rise of the bottom plate.
기판에 3차원 패턴을 성형하기 위한 기판 진공성형 방법으로서,
(A) 기판에 수지를 도포하는 단계,
(B) 상기 기판 및 투명격막을 진공 체임버 내에 장착하고 진공 체임버를 밀폐한 후 투명격막의 상부 영역과 하부 영역에 진공을 형성하는 단계,
(C) 진공 상태에서 상기 수지가 도포된 기판의 일면에 성형몰드를 접촉시키는 단계,
(D) 상기 성형몰드의 상부 영역과 하부 영역이 서로에 대하여 기밀 상태가 되도록 유지하는 단계, 및
(E) 상기 성형몰드를 경계로 압력 차이를 발생시켜 성형몰드를 기판에 밀착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
A substrate vacuum molding method for forming a three-dimensional pattern on a substrate,
(A) applying a resin to the substrate,
(B) mounting the substrate and the transparent diaphragm in a vacuum chamber, sealing the vacuum chamber, and then forming a vacuum in the upper and lower regions of the transparent diaphragm,
(C) contacting a molding mold with one surface of the substrate to which the resin is applied in a vacuum state,
(D) maintaining the upper region and the lower region of the molding mold to be airtight with respect to each other, and
(E) a substrate vacuum forming method comprising the step of generating a pressure difference to the molding mold in close contact with the molding mold to the substrate.
청구항 13에 있어서,
상기 (E) 단계에서, 상기 성형몰드의 하부 영역을 진공 상태로 유지하고, 성형몰드의 상부 영역의 진공을 해제하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
The method according to claim 13,
In the step (E), the lower region of the molding mold is maintained in a vacuum state, the substrate vacuum forming method, characterized in that to release the vacuum of the upper region of the molding mold.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 (E) 단계 후에, (F) 수지를 경화시키는 단계와, (G) 성형몰드의 상부 영역과 하부 영역의 압력 차이를 해제하는 단계와, (H) 성형몰드와 기판을 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
The method according to claim 13 or 14,
After step (E), (F) curing the resin, (G) releasing the pressure difference between the upper region and the lower region of the molding mold, and (H) separating the molding mold from the substrate. Substrate vacuum forming method, characterized in that.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 (B) 단계에서, 상기 투명격막의 상부 영역과 하부 영역의 압력 차이는 1 내지 100 torr인 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
The method according to claim 13 or 14,
In the step (B), the pressure difference between the upper region and the lower region of the transparent diaphragm, characterized in that 1 to 100 torr.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 수지는 UV 수지인 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
The method according to claim 13 or 14,
And the resin is a UV resin.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 성형몰드는 유연하고 투명한 플라스틱으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
The method according to claim 13 or 14,
The molding mold is a substrate vacuum forming method, characterized in that made of a flexible and transparent plastic.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 투명격막은 투명한 탄성수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
The method according to claim 13 or 14,
The transparent diaphragm is a substrate vacuum forming method, characterized in that made of a transparent elastic resin.
청구항 17에 있어서,
상기 (A) 단계를 진공 중에서 실크 인쇄 공정에 의하여 실시하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
18. The method of claim 17,
The vacuum forming method of the substrate, characterized in that the step (A) is carried out by a silk printing process in a vacuum.
청구항 17에 있어서,
상기 (A) 단계를, 기판에 1 내지 10 회 코팅 가능한 양만큼의 UV 수지를 실크 제판위에 토출하는 정밀 노즐을 설치한 실크 인쇄 장치에 의하여 실시하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
18. The method of claim 17,
The step (A) is carried out by a silk printing apparatus provided with a precision nozzle for discharging the UV resin on the silk plate by an amount capable of coating the substrate 1 to 10 times.
청구항 18에 있어서,
상기 (E) 단계 후에, 상기 성형몰드를 통해 기판에 자외선을 조사하는 것을 특징으로 하는 기판 진공성형 방법.
19. The method of claim 18,
After the step (E), the substrate vacuum forming method, characterized in that for irradiating the ultraviolet light to the substrate through the molding mold.
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