KR20120076969A - Method of producting anti-reflective layer for display device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing an anti-reflecting layer is provided to prevent brilliant by making low reflectivity of external light and to improve visibility. CONSTITUTION: A solvent containing nano-powder is spread on a first material. A curing process evaporating the solvent through a drying process by UV investigation is executed at is 80-120°C for 1-2 minutes. The first material in which the nano-power is spread contacts with a second material(230) which is coated by a binder. The second material is heat-hardened or UV-hardened. A mold is separated from the second material. An anti-reflective layer(240a) having a moth-eye pattern is formed on the second material. The binder is composed of a thermosetting resin or a UV-cured resin.

Description

디스플레이장치용 반사방지층 제조방법{METHOD OF PRODUCTING ANTI-REFLECTIVE LAYER FOR DISPLAY DEVICE}Method for manufacturing anti-reflection layer for display device {METHOD OF PRODUCTING ANTI-REFLECTIVE LAYER FOR DISPLAY DEVICE}

본 발명은 반사율이 낮은 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing an antireflection layer for a display device having a low reflectance.

화상을 표시하는 디스플레이 장치에는 완전 평면 컴퓨터 모니터나 텔레비전의 음극선관(Cathode Ray Tube:CRT), 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display:LCD), 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel:PDP), 필드 에미션 디스플레이(Field Emission Display:FED), 유기발광다이오드(Organic Light Emitting Diodes:OLED) 장치 등이 있다. Display devices that display images include cathode ray tubes (CRTs), liquid crystal displays (LCDs), plasma displays (PDPs), and field emission displays (CRTs) in flat-panel computer monitors or televisions. Emission Display (FED) and Organic Light Emitting Diodes (OLED) devices.

이러한 디스플레이(display)장치는 실내 또는 실외에서 외부광이 입사하는 환경 하에서 사용되며, 외부광에 의한 상 맺힘 현상 때문에 디스플레이장치에는 시인성 저하와 같은 문제가 야기된다. Such a display device is used in an environment in which external light is incident indoors or outdoors, and a problem such as deterioration of visibility is caused in the display device due to an image condensation phenomenon caused by external light.

이러한, 디스플레이장치의 문제점을 해결하기 위하여 반사율을 줄이도록 하는 다양한 종류의 각종 반사방지층이 개발되었다. In order to solve the problem of the display device, various kinds of anti-reflection layers have been developed to reduce the reflectance.

반사방지층 제조에 있어서 디스플레이장치의 반사율을 줄이기 위한 방법으로 널리 사용되고 있는 방법은 디스플레이장치 표면에 입사되는 빛을 산란시키는 난반사를 유도하거나 빛의 회절에 의한 상쇄간섭을 이용하는 것이다. A widely used method for reducing the reflectance of a display device in manufacturing an antireflection layer is to induce diffuse reflection to scatter light incident on the surface of the display device or to use offset interference by diffraction of light.

이 중 가장 많이 사용하는 방법은, 빛의 회절에 의한 상쇄간섭을 이용하는 것인데, 이러한 빛의 회절에 의한 상쇄간섭효과를 이용하기 위해서는 단층형 또는 다층형(multi layers) 형태의 반사방지층이 필요하다. Among them, the most commonly used method is to use offset interference by diffraction of light. In order to use the offset interference effect by diffraction of light, a single layer or multi-layer antireflection layer is required.

단층형 또는 다층형 형태의 반사방지층은 플루오린화칼슘(CaF₂), 황화아연(ZnS), 실리카(silica: SiO₂) 등의 무기 화합물이 재료가 되어 진공증착 스퍼터링(sputtering:물리증착), 화학기상증착(chemical vapor deposition:CVD), 용액도포법(wet coating) 등의 방법으로 제조되고 있다.
Single layer or multilayer antireflective layer is made of inorganic compounds such as calcium fluoride (CaF₂), zinc sulfide (ZnS), silica (silica: SiO₂), and vacuum deposition sputtering (physical vapor deposition) (chemical vapor deposition: CVD), wet coating, or the like.

도 1a는 종래 단층형 반사방지층을 보여주는 도면이고, 도 1b는 종래 다층형 반사방지층을 보여주는 도면이다. Figure 1a is a view showing a conventional single-layer anti-reflection layer, Figure 1b is a view showing a conventional multilayer anti-reflection layer.

도 1a에 도시된 바와 같이 단층형 반사방지층은, 기재(10)의 일면에 하드코팅액을 이용한 하드코트층(12)을 형성하고, 하드코트층(12)의 일면에 1.3 ~ 1.5의 낮은 굴절률을 가지는 코팅액으로 저굴절률층(14)을 형성하여 제조한다. As shown in FIG. 1A, the single layer anti-reflective layer forms a hard coat layer 12 using a hard coating solution on one surface of the substrate 10 and has a low refractive index of 1.3 to 1.5 on one surface of the hard coat layer 12. The eggplant is prepared by forming the low refractive index layer 14 with a coating liquid.

하드코트층(12)은 열 또는 자외선 경화제 투명 코팅제를 이용하여 적층된다. The hard coat layer 12 is laminated using a heat or ultraviolet curing agent transparent coating.

저굴절률층(14)은 실리카(silica:SiO₂), 불화 마그네슘(MgF₂), 불소수지(fluorocarbonresin) 등이 이용된다. The low refractive index layer 14 includes silica (SiO 2), magnesium fluoride (MgF 2), fluorocarbon resin, and the like.

한편, 다층형 반사방지층은 도 1b에 도시된 바와 같이, 기재(20)의 일면에 하드코팅액을 이용한 하드코트층(22)을 형성하고, 하드코트층(22)의 일면에 제1굴절률을 가지는 제1굴절률층(24)과, 제2굴절률을 가지는 제2굴절률층(26) 및 제3굴절률을 가지는 제3굴절률층(28)을 순차적으로 형성하여 제조한다. Meanwhile, as shown in FIG. 1B, the multilayer antireflective layer forms a hard coat layer 22 using a hard coating solution on one surface of the substrate 20 and has a first refractive index on one surface of the hard coat layer 22. The first refractive index layer 24, the second refractive index layer 26 having the second refractive index, and the third refractive index layer 28 having the third refractive index are sequentially formed.

여기서, 제1굴절률은 1.64 ~ 1.67 범위 내 값을 가지고, 제2굴절률은 1.75 ~ 1.77 범위 내 값을 가지며, 제3굴절률은 1.4 ~ 1.42 범위 내 값을 가짐이 바람직하다. Here, it is preferable that the first refractive index has a value within the range of 1.64 to 1.67, the second refractive index has a value within the range of 1.75 to 1.77, and the third refractive index has a value within the range of 1.4 to 1.42.

일반적으로 고절율일 경우 1.6 이상의 값을 가지고, 저굴절률일 경우 1.3 ~ 1.5 범위의 값을 가지므로 제1굴절률층(24)과 제2굴절률층(26)은 고굴절률층에 해당하고, 제3굴절률층(28)은 저굴절률층에 해당한다. In general, the high refractive index has a value of 1.6 or more, and the low refractive index has a value in the range of 1.3 to 1.5, so the first refractive index layer 24 and the second refractive index layer 26 correspond to the high refractive index layer, and the third refractive index. Layer 28 corresponds to a low refractive index layer.

이러한 다층형 반사방지층은, 굴절률층에는 제한이 없이 필요에 따라 특정 값으로 정해진 복수의 굴절률층이 다양한 조합으로 적층될 수 있다. The multilayer anti-reflection layer may be laminated in various combinations of a plurality of refractive index layers defined as specific values as needed without any limitation on the refractive index layer.

하드코트층(22)은 열 또는 자외선 경화제 투명 코팅제를 이용하여 적층된다. The hard coat layer 22 is laminated using a heat or ultraviolet curing agent transparent coating.

제1 및 2굴절층(24, 26)은 높은 굴절률을 지니고 있는 무기금속 산화물 및 황화물 입자가 이용된다. The first and second refractive layers 24 and 26 use inorganic metal oxides and sulfide particles having high refractive indices.

제3굴절층(28)은 실리카(silica:SiO₂), 불화 마그네슘(MgF₂), 불소수지(fluorocarbonresin) 등이 이용된다.As the third refractive layer 28, silica (SiO 2), magnesium fluoride (MgF 2), fluorocarbon resin, or the like is used.

최근들어 광학계의 구조가 복잡해짐에 따라 단층형 반사방지층으로는 원하는 투과율과 반사율을 얻을 수 없게 되어 다층형 반사방지층이 많이 이용되는 추세에 있다.Recently, as the structure of the optical system is complicated, the desired transmittance and the reflectance cannot be obtained with the single layer anti-reflection layer, and thus, the multilayer anti-reflection layer is frequently used.

이러한, 다층형 반사방지층의 제조에 있어서 가장 중요한 인자는 각 층의 굴절률과 각 층의 두께이다. The most important factors in the production of such multilayer antireflection layers are the refractive index of each layer and the thickness of each layer.

상쇄간섭 조건을 만족하기 위한 최적의 굴절률 값은 1.22인데, 다층형 반사방지층의 평균 귤절율을 1.22로 조절하기가 쉽지 않은 문제점이 있다. An optimal refractive index value for satisfying the cancellation interference condition is 1.22, and it is not easy to adjust the average regulation rate of the multilayer antireflection layer to 1.22.

특히, 굴절률이 1.22 이하의 재료는 거의 없으며, 있어도 고가여서 이용하기가 쉽지 않다. 또한, 굴절률이 낮아질수록 재료의 강도가 떨어지기 때문에 적용하기가 쉽지 않은 문제점이 있다.
In particular, there are few materials having a refractive index of 1.22 or less, and they are expensive and are not easy to use. In addition, since the strength of the material is lowered as the refractive index is lower, there is a problem that it is not easy to apply.

이에 따라, 본 발명의 목적은, 디스플레이장치에 있어서 최적의 저굴절률을 가지는 반사방지층을 제조하는 방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an antireflection layer having an optimal low refractive index in a display device.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법은, 나노파우더가 함유된 용액을 제1기재에 도포하는 단계와; 상기 나노파우더를 포함하는 상기 제1기재에 큐어링(curing) 공정을 실시하는 단계와; 상기 나노파우더가 도포된 상기 제1기재를 바인더가 코팅된 제2기재에 접촉시키는 단계와; 상기 제2기재에 광경화 또는 열경화 처리를 하는 단계와; 상기 제2기재 상에 산 형태의 요철형상을 생성하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above object, the method for manufacturing an antireflection layer for a display device according to the present invention comprises the steps of applying a solution containing a nano powder to a first substrate; Performing a curing process on the first substrate including the nanopowder; Contacting the first substrate coated with the nano powder with a second substrate coated with a binder; Photocuring or thermosetting the second substrate; Generating an uneven shape in the form of acid on the second substrate.

상기 큐어링 공정은 80 ~ 120℃에서 1분 내지 2분 동안 진행하는 것을 특징으로 한다.The curing process is characterized in that for 1 to 2 minutes at 80 ~ 120 ℃.

그리고, 상기 바인더는 광경화성 수지 또는 열경화성 수지인 것을 특징으로 한다.The binder is characterized in that the photocurable resin or thermosetting resin.

또한, 상기 바인더는 1.4 내지 1.6의 굴절률을 가지고, 두께는 1 내지 2㎛ 범위로 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the binder has a refractive index of 1.4 to 1.6, the thickness is characterized in that formed in the range of 1 to 2㎛.

상기 산 형태의 요철형상은 산과 산 또는 골과 골의 간격이 50 내지 200nm 범위를 가지는 것을 특징으로 한다.The uneven shape of the mountain form is characterized in that the interval between the acid and the mountain or the valley and the valley has a range of 50 to 200nm.

상기 제1기재는 평판기재 또는 롤기재에 해당하는 것을 특징으로 한다.The first substrate is characterized in that it corresponds to a flat substrate or a roll substrate.

이러한, 상기 반사방지층은 음극관 디스플레이장치(Cathode Ray Tube:CRT), 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel:PDP), 액정 디스플레이장치(Liquid Crystal Display:LCD) 및 유기 전계 발광 디스플레이(Organic Eltro Luminescence Display:OELD) 중 하나에 적용 가능한 것을 특징으로 한다.
The anti-reflection layer may include a cathode ray tube (CRT), a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), and an organic electroluminescent display (OELD). It is characterized in that it is applicable to either.

본 발명에 따른 반사방지층 제조방법에 따르면, 높은 굴절률을 가지는 재료를 이용하여 저굴절률을 가지는 반사방지층을 제조할 수 있게 된다. 이로 인해, 선택할 수 있는 재료의 폭이 넓어지게 되고, 저렴한 재료를 이용하여 반사방지층을 제조할 수 있게 된다.According to the method of manufacturing an antireflection layer according to the present invention, an antireflection layer having a low refractive index can be manufactured using a material having a high refractive index. As a result, the width of the selectable material becomes wider, and the antireflection layer can be manufactured using an inexpensive material.

또한, 이러한 반사방지층을 적용한 디스플레이장치는 외부 빛에 대한 반사율을 낮추어 눈부심을 방지하면서도 시인성을 향상시킬 수 있게 된다.
In addition, the display device using the anti-reflection layer can improve the visibility while preventing glare by lowering the reflectance of the external light.

도 1a 는 종래 단층형 반사방지층을 보여주는 도면.
도 1b는 종래 다층형 반사방지층을 보여주는 도면.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 제1실시예에 따른 반사방지층 제조공정을 보여주는 도면.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 반사방지층 제조방법을 보여주는 흐름도이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제2실시예에 따른 반사방지층 제조공정을 보여주는 도면.
도 5는 반사방지층을 적용하지 않은 디스플레이장치와 본 발명에 따른 반사방지층을 적용한 디스플레이장치에서의 조도별 블랙 휘도 값 변화량을 보여주는 그래프.Figure 1a is a view showing a conventional monolayer antireflection layer.
Figure 1b is a view showing a conventional multilayer anti-reflection layer.
2A to 2D are views illustrating a process of manufacturing an anti-reflection layer according to a first embodiment of the present invention.
3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an anti-reflection layer according to a first embodiment of the present invention.
4A and 4B illustrate an antireflection layer manufacturing process according to a second embodiment of the present invention.
5 is a graph showing the amount of change in black luminance value for each illuminance in the display device to which the anti-reflection layer is not applied and the display device to which the anti-reflection layer is applied according to the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 제1실시예에 따른 반사방지층 제조공정을 보여주는 도면이고, 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 반사방지층 제조방법을 보여주는 흐름도이다. 2A to 2D are views illustrating a process of manufacturing an antireflection layer according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an antireflection layer according to a first embodiment of the present invention.

도 2a에 도시된 바와 같이, 제1기재(212) 위에 나노파우더(214)가 함유된 용액(216)을 도포한다(S10). 이때, 나노파우더(214)가 함유된 용액(216)은 스핀코팅법(spin coating), 슬릿코팅법(slit coating), 드럽캐스팅법(drop casting), 딥케스팅법(dip casting) 등을 사용하여 제1기재(212) 전면에 규칙적으로 배열되도록 도포할 수 있다. As shown in FIG. 2A, the solution 216 containing the nanopowder 214 is coated on the first substrate 212 (S10). In this case, the solution 216 containing the nanopowder 214 may be formed by using a spin coating method, a slit coating method, a drop casting method, a dip casting method, or the like. The first substrate 212 may be applied to be regularly arranged on the front surface.

여기서, 나노파우더(214)는 나노크기의 분말가루로, 형성하고자 하는 산 형상에 해당하는 모스아이(moth eye) 패턴의 패턴간 간격(산과 산 또는 골과 골의 간격)이 200nm 이하로 형성되도록 50 ~ 200nm 범위의 직경을 가질 수 있고, 보다 바람직하게는 100 ~ 150nm 범위의 직경을 가질 수 있다. 이러한, 나노파우더(214)는 산화규소(SiOx), 티타늄 산화물(TiOx), 산화아연(ZnOx), 안티몬 주석 산화물(ATO), 인듐 주석 산화물(ITO), TnOx 등으로 사용 가능하다. Here, the nano powder 214 is a nano-size powder powder, so that the interval (pattern between the acid and the acid or the valley and valley) of the moth eye pattern corresponding to the acid shape to be formed is formed to 200nm or less. It may have a diameter in the range of 50-200 nm, more preferably in the range of 100-150 nm. The nano powder 214 may be used as silicon oxide (SiOx), titanium oxide (TiOx), zinc oxide (ZnOx), antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO), TnOx, or the like.

제1기재(212)는 글라스(glass), 쿼츠(quartz)와 같은 투명기재를 사용하거나, 또는 웨이퍼(wafer)를 사용할 수 있다.The first substrate 212 may use a transparent substrate such as glass, quartz, or a wafer.

이에 따라 나노파우더(214)가 도포된 제1기재(212)에는 도 2b에 도시된 바와 같이, UV 조사를 통한 건조를 통해 솔벤트(solvent)를 증발시키는 큐어링(curing) 공정을 실시하는데, 이러한 큐어링 공정은 80 ~ 120℃에서 1 ~ 2분 동안 진행할 수 있다(S12). 이때, UV 조사 대신 열처리를 하여 큐어링 공정을 실시할 수도 있다.Accordingly, as shown in FIG. 2B, the first substrate 212 to which the nanopowder 214 is applied is subjected to a curing process of evaporating the solvent through drying through UV irradiation. Curing process may proceed for 1 to 2 minutes at 80 ~ 120 ℃ (S12). At this time, the curing process may be performed by heat treatment instead of UV irradiation.

상기와 같은 큐어링 공정 후에 나노파우더(214)가 도포된 제1기재(212)는 몰드(mold)로 사용되는데, 이러한 몰드는 형성하고자 하는 산 형태의 요철형상에 반대되는 렌즈형상을 나노파우더(214)에 의해 가지게 된다. After the curing process as described above, the first substrate 212 coated with the nanopowder 214 is used as a mold, and the mold has a lens shape opposite to the uneven shape of the acid form to be formed. 214).

이후, 도 2c에 도시된 바와 같이 나노파우더(214)가 도포된 제1기재(212)를 바인더(240)가 코팅된 제2기재(230)에 접촉시킨 후(S14), 제2기재에 UV를 조사하여 광경화하거나, 또는 열경화 처리를 한다(S16). Thereafter, as shown in FIG. 2C, after the first substrate 212 coated with the nanopowder 214 is contacted with the second substrate 230 coated with the binder 240 (S14), UV is applied to the second substrate. Is irradiated with photocuring or thermal curing (S16).

상기 바인더(240)는 열경화성 수지 또는 광경화성 수지에 해당하고, 이러한 열경화성 수지 또는 광경화성 수지는 1.4 ~ 1.6 범위의 굴절률을 가지며 보다 바람직하게는 1.45 ~ 1.55 범위의 굴절률을 가진다. 이러한, 열경화성 수지 또는 광경화성 수지의 두께는 약 1 ~ 2㎛ 범위로 형성됨이 바람직하다. The binder 240 corresponds to a thermosetting resin or a photocurable resin, and the thermosetting resin or the photocurable resin has a refractive index in the range of 1.4 to 1.6 and more preferably has a refractive index in the range of 1.45 to 1.55. Such, the thickness of the thermosetting resin or photocurable resin is preferably formed in the range of about 1 ~ 2㎛.

이와 같이 바인더(240)가 코딩되는 제2기재(230)는, 투명기재, 필름 중 하나를 사용할 수 있는데, 유리, 플라스틱 필름, 폴리에테르 술폰(polyether sulfone:PES), 시트 등을 포함한다. 여기서, 플라스틱 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate:PET) 필름, 셀루로오스 트리아세테이트(cellulose triacetate:CTA) 필름 등을 적용할 수 있다.As described above, the second substrate 230 to which the binder 240 is encoded may be one of a transparent substrate and a film, and includes a glass, a plastic film, a polyether sulfone (PES), a sheet, and the like. Here, the plastic film may be a polyethylene terephthalate (PET) film, a cellulose triacetate (CTA) film, or the like.

여기서, 플라스틱 필름의 재료로 적합한 중합체로는 셀룰로우스 에스테르(cellulose ester), 폴리이미드(polyimide), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에스테르(polyester), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리올레핀(polyolefine), 폴리술폰(polysulfone), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyether lmide), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate), 및 폴리에테르 케톤(polyether ketone), 폴리비닐알코올(polyvinyl alcohol), 폴리염화비닐(polyvinyl chloride) 등이 가능하다. The polymer suitable for the material of the plastic film may be cellulose ester, polyimide, polycarbonate, polyester, polystyrene, polyolefine, polysulfone. (polysulfone), polyether sulfone, polyarylate, polyether lmide, polymethyl methacrylate, and polyether ketone, polyvinyl alcohol ( polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, and the like.

셀룰로우스 에스테르는 셀룰로오스 트리아세테이트(cellulose triacetate), 셀룰로오스 프로피오네이트(cellulose propionate), 셀룰로오스 부티레이트(cellulose butyrate), 셀룰로오스 아세테이트 프로티오네이트(cellulose acetate propionate), 및 니트로 셀룰로오스(nitro cellulose)를 포함하고, 폴리에스테르는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(polybutylene terephthalate)를 포함하며, 폴리스티렌은 신디오택틱(syndiotactic) 폴리스티렌을 포함한다. Cellulose esters include cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and nitro cellulose The polyester includes polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, and polystyrene includes syndiotactic polystyrene.

한편 마지막 단계로 도 2d에 도시된 바와 같이, 나노파우더(214)가 도포된 제1기재, 즉 몰드를 바인더(240)가 코팅된 제2기재(230)로부터 분리하여 제2기재(230)에 산 형태의 요철형상, 즉 모스아이(moth eye) 패턴이 형성된 반사방지층(240a)을 제작하는 공정을 완료할 수 있다(S18). On the other hand, as shown in FIG. 2D, the first substrate to which the nanopowder 214 is applied, that is, the mold is separated from the second substrate 230 coated with the binder 240 to the second substrate 230. The process of manufacturing the anti-reflection layer 240a in which the uneven shape of the mountain form, that is, the moth eye pattern is formed, may be completed (S18).

이와 같이, 반사반지층(240a)에 형성된 모스아이 패턴의 패턴피치(pattern pitch)(산과 산 또는 골과 골의 간격)(d1)는 50 ~ 200nm의 범위를 가지도록 형성되는데, 보다 바람직하게는 100 ~ 150nm의 범위를 가지도록 형성되게 된다. 또한, 반사반지층(240a)의 두께(d2)는 약 1 ~ 2㎛ 범위 내로 형성되게 된다.As such, the pattern pitch (the spacing between the peaks and peaks or valleys and valleys) d1 of the moth-eye pattern formed on the reflective ring layer 240a is formed to have a range of 50 to 200 nm, more preferably. It will be formed to have a range of 100 ~ 150nm. In addition, the thickness d2 of the reflective ring layer 240a may be formed in a range of about 1 to 2 μm.

이와 같이 모스아이 패턴이 형성된 반사반지층(240a)은, 1.2 ~ 1.3 범위의 평균 굴절률을 가지게 되고, 반사방지층(240a)의 반사율은 0.5 ~ 2% 범위를 가지게 된다.As described above, the reflective ring layer 240a having the moth-eye pattern has an average refractive index in the range of 1.2 to 1.3, and the reflectance of the anti-reflection layer 240a is in the range of 0.5 to 2%.

이러한 반사반지층(240a)은 가시광선에 대한 반사가 방지되는 효과를 가지게 되고, 뛰어난 투과특성을 가지게 된다. The reflection ring layer 240a has an effect of preventing reflection to visible light and has excellent transmission characteristics.

본 발명은 전술한 바와 같이, 나노파우더(214)를 코팅한 제1기재(212)를 몰드로 사용하여 모스아이 패턴을 형성하므로, 상용되는 재료에 해당하는 나노파우더(214)를 사용하여 패턴간 간격(피치)이 일정한 모스아이 패턴을 반복적으로 형성할 수 있으며 대면적의 기판에 균일한 모스아이 패턴을 형성할 수 있게 된다. As described above, since the moth-eye pattern is formed by using the first substrate 212 coated with the nanopowder 214 as a mold, the nanopowder 214 corresponding to a commercially available material is used between the patterns. It is possible to repeatedly form a moth-eye pattern having a constant interval (pitch) and to form a uniform moth-eye pattern on a large-area substrate.

이에 따라, 공정과정을 단순화시켜 생산성을 향상시킬 수 있고, 저렴한 비용으로 대면적의 기판에 균일한 모스아이 패턴을 형성할 수 있게 된다.Accordingly, the productivity can be improved by simplifying the process, and a uniform MOSFET pattern can be formed on a large-area substrate at low cost.

특히, 실리카(silica:SiO₂), 불소수지(fluorocarbonresin)와 같은 저굴절 재료를 기재에 증착할 필요없이 1.4 ~ 1.6 범위의 높은 굴절률을 가지는 광경화성 수지 또는 열경화성 수지를 사용하여도 1.2 ~ 1.3 범위의 저굴절률을 가지는 반사반지층을 형성한다는 점에 특징이 있다. 즉, 재료를 선택할 수 있는 폭이 넓어지게 된다.
In particular, even when using a photocurable resin or a thermosetting resin having a high refractive index in the range of 1.4 to 1.6 without the need to deposit low refractive materials such as silica (SiO₂), fluorocarbonresin on the substrate, It is characterized by forming a reflective ring layer having a low refractive index. In other words, the width of the material can be selected.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제2실시예에 따른 반사방지층 제조방법을 보여주는 공정도이다. 4A and 4B are process charts illustrating a method of manufacturing an antireflection layer according to a second embodiment of the present invention.

도 4a에 도시된 바와 같이 기재(330)의 일면에 코팅된 바인더(340) 상에, 나노파우더(314)가 도포된 롤러(300)를 회전시켜 롤러(300)에 도포된 나노파우더(314)에 의해 산 형태의 모스아이 패턴이 바인더(340)에 인쇄되도록 한다. As shown in FIG. 4A, the nanopowder 314 applied to the roller 300 is rotated by rotating the roller 300 coated with the nanopowder 314 on the binder 340 coated on one surface of the substrate 330. As a result, the moth-eye pattern in the form of acid is printed on the binder 340.

나노파우더(314)는 나노크기의 분말가루로 모스아이 패턴의 패턴간 간격이 200nm 이하로 형성되도록 50 ~ 200nm범위의 직경을 가질 수 있고, 보다 바람직하게는 100 ~ 150nm 범위의 직경을 가질 수 있다. 이러한, 나노파우더(314)는 산화규소(SiOx), 티타늄 산화물(TiOx), 산화아연(ZnOx), 안티몬 주석 산화물(ATO), 인듐 주석 산화물(ITO), TnOx 등으로 사용 가능하다. The nano powder 314 may have a diameter in the range of 50 to 200 nm, and more preferably in the range of 100 to 150 nm so that the inter-pattern spacing of the mos-eye pattern is formed to 200 nm or less with nano-sized powder powder. . The nano powder 314 may be used as silicon oxide (SiOx), titanium oxide (TiOx), zinc oxide (ZnOx), antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO), TnOx, or the like.

기재는 글라스(glass), 쿼츠(quartz)와 같은 투명기재를 사용하거나, 또는 웨이퍼(wafer) 등을 사용할 수 있다. The substrate may use a transparent substrate such as glass, quartz, or a wafer.

상기 바인더(340)는 경화성 수지 또는 광경화성 수지에 해당하고, 이러한 경화성 수지 또는 광경화성 수지는 1.4 ~ 1.6 범위의 굴절률을 가지며 보다 바람직하게는 1.45 ~ 1.55 범위의 굴절률을 가진다. 이러한, 경화성 수지 또는 광경화성 수지의 두께는 약 1 ~ 2㎛ 범위로 형성됨이 바람직하다. The binder 340 corresponds to a curable resin or photocurable resin, and the curable resin or photocurable resin has a refractive index in a range of 1.4 to 1.6 and more preferably has a refractive index in a range of 1.45 to 1.55. Such, the thickness of the curable resin or photocurable resin is preferably formed in the range of about 1 ~ 2㎛.

이와 같이 바인더(340)가 코딩되는 기재(330)는, 투명기재, 필름 중 하나를 사용할 수 있는데, 유리, 플라스틱 필름, 폴리에테르 술폰(polyether sulfone:PES), 시트 등을 포함한다. 여기서, 플라스틱 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate:PET) 필름, 셀루로오스 트리아세테이트(cellulose triacetate:CTA) 필름 등을 적용할 수 있다.As described above, the substrate 330 to which the binder 340 is encoded may be one of a transparent substrate and a film, and may include glass, a plastic film, a polyether sulfone (PES), a sheet, and the like. Here, the plastic film may be a polyethylene terephthalate (PET) film, a cellulose triacetate (CTA) film, or the like.

한편, 상기 나노파우더(314)가 도포된 롤러(300)는, 본 발명의 제1실시예와 마찬가지로 롤러(300)에 나노파우더(314)가 함유된 용액을 도포하고, 큐어링 공정을 실시하여 솔벤트를 증발시킨 것이다. 큐어링 공정은 80 ~ 120℃의 광(UV)조사 또는 열처리를 1 ~ 2분 동안 진행할 수 있다.On the other hand, the roller 300 coated with the nanopowder 314, like the first embodiment of the present invention by applying a solution containing the nano powder 314 to the roller 300, by performing a curing process Solvent was evaporated. Curing process may be performed for 1 to 2 minutes of light (UV) irradiation or heat treatment of 80 ~ 120 ℃.

이후, 모스아이 패턴이 인쇄된 기재(330) 상에 UV를 조사하여 광경화시키거나, 또는 열경화 처리를 실시하여 도 4b에 도시된 바와 같이, 기재(330)상에 모스아이 패턴이 형성된 반사반지층(340a)을 제작하는 공정을 완료할 수 있다. Thereafter, UV light is irradiated onto the substrate 330 on which the Moth Eye pattern is printed, or heat curing is performed to reflect the MoS Eye pattern formed on the substrate 330 as shown in FIG. 4B. The process of manufacturing the ring layer 340a may be completed.

이와 같이, 반사반지층(340a)에 형성된 모스아이 패턴의 패턴피치(산과 산 또는 골과 골의 간격)는 50 ~ 200nm의 범위를 가지도록 형성되는데, 보다 바람직하게는 100 ~ 150nm의 범위를 가지도록 형성되게 된다. 또한, 반사반지층(340a)의 두께는 약 1 ~ 2㎛ 범위 내로 형성되게 된다.As such, the pattern pitch (the spacing between the mountains and the mountains or the valleys and valleys) of the moth-eye pattern formed on the reflective ring layer 340a is formed to have a range of 50 to 200 nm, more preferably 100 to 150 nm. Will be formed. In addition, the thickness of the reflective ring layer 340a is to be formed in the range of about 1 ~ 2㎛.

이와 같이 모스아이 패턴이 형성된 반사반지층(340a)은, 1.2 ~ 1.3 범위의 평균 굴절률을 가지게 되고, 반사방지층(340a)의 반사율은 0.5 ~ 2% 범위를 가지게 된다.As described above, the reflective ring layer 340a having the moth-eye pattern has an average refractive index in the range of 1.2 to 1.3, and the reflectance of the antireflection layer 340a is in the range of 0.5 to 2%.

이러한 반사반지층(340a)은 가시광선에 대한 반사가 방지되는 효과를 가지게 되고, 뛰어난 투과특성을 가지게 된다. The reflection ring layer 340a has an effect of preventing reflection of visible light and has excellent transmission characteristics.

전술한 바와 같이, 나노파우더를 롤러에 도포하여 모스아이 패턴을 형성함으로써 패턴피치가 일정한 모스아이 패턴을 반복적으로 형성할 수 있으며 대면적의 기재에 보다 쉽게 균일한 모스아이 패턴을 형성할 수 있게 된다. As described above, by applying the nano-powder to the roller to form a moth eye pattern it is possible to repeatedly form a moth eye pattern with a constant pattern pitch, it is possible to more easily form a uniform moth eye pattern on a large-area substrate. .

이와 같이, 공정과정을 단순화시켜 생산성을 향상시키고, 저렴한 비용으로 대면적의 기판에 균일한 모스아이 패턴을 형성할 수 있게 된다.As such, the process can be simplified to improve productivity, and a uniform MOSFET pattern can be formed on a large-area substrate at low cost.

실리카(silica:SiO₂), 불소수지(fluorocarbonresin)와 같은 저굴절 재료를 기재에 증착할 필요없이 1.4 ~ 1.6 범위의 높은 굴절률을 가지는 광경화성 수지 또는 열경화성 수지를 사용하여도 1.2 ~ 1.3 범위의 저굴절률을 가지는 반사반지층을 형성한다는 점에 특징이 있다.
Low refractive index in the range of 1.2 to 1.3 even when using a photocurable resin or a thermosetting resin having a high refractive index in the range of 1.4 to 1.6 without the need to deposit a low refractive material such as silica (SiO₂), fluorocarbonresin on the substrate It is characterized in that it forms a reflective ring layer having a.

도 5는 반사방지층을 적용하지 않은 디스플레이장치와 본 발명에 따른 반사방지층을 적용한 디스플레이장치에서의 조도별 블랙 휘도 값 변화량을 보여주는 그래프이다.FIG. 5 is a graph showing changes in black luminance values for respective illumination levels in the display device to which the anti-reflection layer is not applied and the display device to which the anti-reflection layer is applied according to the present invention.

여기서 블랙 휘도 값은 디스플레이장치의 액정 표시패널을 투과하는 백라이트 광이 최소가 되어 가장 낮은 휘도를 나타내는 값이다. In this case, the black luminance value is a value indicating the lowest luminance by minimizing backlight light passing through the liquid crystal display panel of the display device.

조도가 5000lux일 때, 반사반지층을 적용하지 않은 디스플레이장치(B)의 블랙 휘도 값은 약 310(cd/m²)이지만, 본 발명에 따른 반사방지층(도 2d의 240a 및 도 4b의 340a)을 적용한 디스플레이장치(A)의 블랙 휘도 값은 약 170(cd/m²)으로, 반사방지층을 적용하지 않은 디스플레이장치(B)에 비해 블랙 휘도 값이 55% 감소되었음을 알 수 있다. When the illuminance is 5000 lux, the black luminance value of the display apparatus B without applying the reflection ring layer is about 310 (cd / m²), but the anti-reflection layer (240a of FIG. 2D and 340a of FIG. 4B) according to the present invention is used. The black luminance value of the applied display apparatus A is about 170 (cd / m²), and it can be seen that the black luminance value is reduced by 55% compared to the display apparatus B without the antireflective layer.

이에 따라, 본 발명에 따라 반사방지층을 적용한 디스플레이장치는 외부 빛에 대한 반사율이 낮음을 알 수 있다.
Accordingly, it can be seen that the display device to which the antireflection layer is applied according to the present invention has low reflectance of external light.

본 발명에 따른 반사방지층은 저반사율의 구현이 필요한 모든 디스플레이장치에 적용 가능하다. 예를 들어, 음극관 디스플레이장치(Cathode Ray Tube:CRT), 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel:PDP), 액정 디스플레이장치(Liquid Crystal Display:LCD) 및 유기 전계 발광 디스플레이(Organic Eltro Luminescence Display:OELD) 등에 적용 가능하다.
The antireflective layer according to the present invention is applicable to all display devices requiring low reflectance. For example, it is applied to a cathode ray tube (CRT), a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), and an organic electroluminescent display (OELD). It is possible.

본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

212: 제1기재 214, 314: 나노파우더
230: 제2기재 240, 340: 바인더
240a, 340a: 반사방지층 300: 롤러212: first substrate 214, 314: nano powder
230: second substrate 240, 340: binder
240a, 340a: antireflection layer 300: roller

Claims (7)

나노파우더가 함유된 용액을 제1기재에 도포하는 단계와;
상기 나노파우더를 포함하는 상기 제1기재에 큐어링(curing) 공정을 실시하는 단계와;
상기 나노파우더가 도포된 상기 제1기재를 바인더가 코팅된 제2기재에 접촉시키는 단계와;
상기 제2기재에 광경화 또는 열경화 처리를 하는 단계와;
상기 제2기재 상에 산 형태의 요철형상을 생성하는 단계를
포함하는 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법.
Applying a solution containing a nanopowder to a first substrate;
Performing a curing process on the first substrate including the nanopowder;
Contacting the first substrate coated with the nano powder with a second substrate coated with a binder;
Photocuring or thermosetting the second substrate;
Generating an uneven shape of an acid form on the second substrate;
Method for manufacturing an anti-reflection layer for a display device comprising.
제 1 항에 있어서,
상기 큐어링 공정은
80 ~ 120℃에서 1분 내지 2분 동안 진행하는 것을 특징으로 하는 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법.
The method of claim 1,
The curing process
Method for manufacturing an anti-reflection layer for a display device, characterized in that for 1 to 2 minutes at 80 ~ 120 ℃.
제 1항에 있어서,
상기 바인더는
광경화성 수지 또는 열경화성 수지인 것을 특징으로 하는 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법.
The method of claim 1,
The binder is
A method of manufacturing an antireflection layer for a display device, characterized in that it is a photocurable resin or a thermosetting resin.
제 3항에 있어서,
상기 바인더는
1.4 내지 1.6의 굴절률을 가지고, 두께는 1 내지 2㎛ 범위로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법.
The method of claim 3, wherein
The binder is
It has a refractive index of 1.4 to 1.6, the thickness is formed in the range of 1 to 2㎛ antireflection layer manufacturing method for a display device.
제 1항에 있어서,
상기 산 형태의 요철형상은
산과 산 또는 골과 골의 간격이 50 내지 200nm 범위를 가지는 것을 특징으로 하는 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법.
The method of claim 1,
The uneven shape of the acid form
A method of manufacturing an antireflection layer for a display device, characterized in that the interval between the acid and the hill or the valley and the valley has a range of 50 to 200nm.
제 1항에 있어서,
상기 제1기재는
평판기재 또는 롤기재에 해당하는 것을 특징으로 하는 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법.
The method of claim 1,
The first substrate is
Method for manufacturing an anti-reflection layer for a display device, characterized in that the flat substrate or roll substrate.
제 1항에 있어서,
상기 반사방지층은
음극관 디스플레이장치(Cathode Ray Tube:CRT), 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel:PDP), 액정 디스플레이장치(Liquid Crystal Display:LCD) 및 유기 전계 발광 디스플레이(Organic Eltro Luminescence Display:OELD) 중 하나에 적용 가능한 것을 특징으로 하는 디스플레이장치용 반사방지층 제조방법.The method of claim 1,
The antireflection layer
Applicable to Cathode Ray Tube (CRT), Plasma Display Panel (PDP), Liquid Crystal Display (LCD) and Organic Eltro Luminescence Display (OELD) Method for manufacturing an anti-reflection layer for display device characterized in that.
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