KR20120058768A - Glaze and manufacturing method of the same - Google Patents
Glaze and manufacturing method of the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120058768A KR20120058768A KR1020100120209A KR20100120209A KR20120058768A KR 20120058768 A KR20120058768 A KR 20120058768A KR 1020100120209 A KR1020100120209 A KR 1020100120209A KR 20100120209 A KR20100120209 A KR 20100120209A KR 20120058768 A KR20120058768 A KR 20120058768A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- glaze
- parts
- weight
- distilled water
- added
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/08—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/02—Pretreated ingredients
- C03C1/026—Pelletisation or prereacting of powdered raw materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/86—Glazes; Cold glazes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 유약 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 오산화인(P2O5) 및 산화규소(SiO2)와 알칼리 산화물 또는 알칼리 토류 산화물이 함유되어 3×10-6/K?5×10-6/K 범위의 열팽창계수를 갖는 유약 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a glaze and a method of manufacturing the same, and more specifically, it contains phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) and silicon oxide (SiO 2 ) and alkali oxides or alkaline earth oxides containing 3 × 10 -6 / K? 5 A glaze having a coefficient of thermal expansion in the range of 10 −6 / K and a method for producing the same.
일반적으로, 유약은 도자기의 표면에 얇게 씌워서 광택과 색채 또는 무늬를 내어주는 유리질의 분말을 칭한다. 이러한 유약은 주성분이 SiO2(실리카)로 되어 있다.Generally, glaze refers to a glassy powder that is thinly coated on the surface of ceramics to give luster, color or pattern. This glaze has a main component of SiO 2 (silica).
도자기에 발생하는 균열은 제품에 미적효과를 주는 장식이 될 수도 있고 중대한 결함이 될 수도 있다. 균열이 결함이 되는 경우는 도자기에 긴 균열이 몇개 발생하여 보기 싫게 되는 경우로서 이와 같은 현상은 사용중에 나타나는 경우도 많다.Cracks in ceramics can be aesthetically pleasing to the product or a significant defect. If the crack is a defect, some long cracks occur in the ceramics and become unsatisfactory. This phenomenon often occurs during use.
이와 같은 균열현상은 유약과 도자기의 열팽창, 유약 조성과 탄성 등 여러가지 요인에 의하여 나타나지만 그 중 유약은 층이 얇고 도자기는 두꺼움으로 균열에 영향을 미치는 인자는 열팽창계수차, 즉 냉각과정 중에 나타나는 수축차에 의해 발생하는 것이 가장 큰 원인이다. 열팽창계수의 차가 클수록 균열의 발생율이 크게 되는 것이다.This cracking phenomenon is caused by various factors such as glaze and ceramics thermal expansion, glaze composition and elasticity, but among them, the thin layer of glaze and the thickness of porcelain are the factors that affect cracking. Caused by is the biggest cause. The larger the difference in coefficient of thermal expansion, the larger the incidence of cracking.
유약을 입힌 도자기를 굽기 위하여 소결한 후 냉각하면 녹은 유약이 응고하게 된다. 이 경우 상온까지 냉각되면서 도자기와 유약은 수축하게 된다. 이때 유약보다도 도자기 쪽이 크게 수축하면 유약은 압력을 받은 상태가 된다.After sintering and baking the glazed ceramics, the molten glaze solidifies. In this case, the porcelain and glaze shrink as they cool to room temperature. At this time, if the porcelain shrinks much larger than the glaze, the glaze is under pressure.
지금까지 도자기의 알칼리 성분 또는 실리카 성분의 첨가에 따른 열팽창계수의 변화 효과에 대해서는 많이 연구되어 왔지만 유약에 대한 연구는 미비한 실정이 었다.Until now, many studies have been conducted on the effect of thermal expansion coefficient on the addition of alkali or silica components in ceramics, but studies on glazes have been insufficient.
따라서 도자기에 대하여 이의 표면층인 유약의 열팽창계수를 맞추기 위한 유약의 개발이 필요하다.
Therefore, it is necessary to develop a glaze to match the coefficient of thermal expansion of the glaze, which is its surface layer, for ceramics.
상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명이 해결하려고 하는 과제는 오산화인(P2O5) 및 산화규소(SiO2)와 알칼리 산화물 또는 알칼리 토류 산화물이 함유되어 3×10-6/K?5×10-6/K 범위의 열팽창계수를 갖는 유약 및 그 제조방법을 제공함에 있다.
The problem to be solved by the present invention for solving the above problems is that the phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) and silicon oxide (SiO 2 ) and alkali oxides or alkaline earth oxides are contained 3 × 10 -6 / K? The present invention provides a glaze having a coefficient of thermal expansion in the range of 5 × 10 −6 / K and a method of manufacturing the same.
본 발명은, 유약에 있어서, P2O5, SiO2 및 CaO를 포함하며, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되고, 상기 SiO2는 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되며, 상기 CaO는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되는 유약을 제공한다. The present invention, in the glaze, comprises P 2 O 5 , SiO 2 and CaO, the P 2 O 5 is contained 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, the SiO 2 is 100 parts by weight of the glaze 45 to 70 parts by weight based on parts, and the CaO provides a glaze containing 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
상기 유약은 K2O를 더 포함할 수 있으며, 상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되는 것이 바람직하다.The glaze may further include K 2 O, and the K 2 O is preferably contained in 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
또한, 본 발명은, 유약에 있어서, P2O5, SiO2 및 K2O를 포함하며, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되고, 상기 SiO2는 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되며, 상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되는 유약을 제공한다. In the glaze, the present invention includes P 2 O 5 , SiO 2 and K 2 O, wherein P 2 O 5 is contained in an amount of 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, and SiO 2 is 45 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, and the K 2 O provides a glaze containing 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
상기 유약은 3×10-6/K?5×10-6/K 범위의 열팽창계수를 갖는다.The glaze has a coefficient of thermal expansion in the range of 3 × 10 −6 / K? 5 × 10 −6 / K.
또한, 본 발명은, 유약의 제조방법에 있어서, 증류수에 P2O5를 첨가하되, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되게 첨가하는 단계와, 상기 P2O5가 첨가된 증류수에 SiO2를 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되게 첨가하는 단계와, 상기 SiO2가 첨가된 증류수에 CaO를 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15중량부 함유되게 첨가하는 단계와, 상기 CaO가 첨가된 조성물을 교반하여 슬러리를 제조하는 단계와, 상기 슬러리를 건조하는 단계와, 상기 건조된 슬러리에 대하여 250~450℃의 온도에서 1차 열처리하는 단계와, 상기 1차 열처리된 결과물에 대하여 1000℃~1400℃의 온도에서 2차 열처리하는 단계 및 상기 2차 열처리된 결과물에 대하여 400~600℃의 온도에서 3차 열처리하는 단계를 포함하는 유약의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a manufacturing method of the glaze, but in distilled water, the addition of P 2 O 5, wherein the P 2 O 5 is the step of adding to be contained by 25 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the glaze, the P Adding 45 to 70 parts by weight of SiO 2 to 100 parts by weight of the glaze in distilled water added with 2 O 5 , and 0.5 to 15 parts by weight of CaO in 100 parts by weight of glaze in the SiO 2 added Adding to parts by weight, stirring the CaO-added composition to prepare a slurry, drying the slurry, and first heat treatment at a temperature of 250 to 450 ° C. with respect to the dried slurry. And a second heat treatment at a temperature of 1000 ° C. to 1400 ° C. with respect to the first heat-treated result, and a third heat treatment at a temperature of 400 ° C. to 600 ° C. with respect to the second heat-treated result. It provides a manufacturing method.
상기 P2O5를 첨가하는 단계에서, 상기 P2O5의 발열반응에 의해 수증기의 증발시 줄어든 양만큼 증류수의 양을 보충하여 증류수의 양을 일정하게 유지하는 것이 바람직하다.In the step of addition of the P 2 O 5, to compensate for the amount of distilled water, reduced by the amount evaporated during the steam by the exothermic reaction of the P 2 O 5 it is desirable to keep constant the amount of distilled water.
또한, 본 발명은, 상기 CaO를 첨가할 때 K2O를 첨가하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되게 첨가하는 것이 바람직하다.In addition, the present invention may further comprise the step of adding K 2 O when adding the CaO, the K 2 O is preferably added to contain 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze. .
또한, 본 발명은, 유약의 제조방법에 있어서, 증류수에 P2O5를 첨가하되, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되게 첨가하는 단계와, 상기 P2O5가 첨가된 증류수에 SiO2를 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되게 첨가하는 단계와, 상기 SiO2가 첨가된 증류수에 K2O를 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15중량부 함유되게 첨가하는 단계와, 상기 K2O가 첨가된 조성물을 교반하여 슬러리를 제조하는 단계와, 상기 슬러리를 건조하는 단계와, 상기 건조된 슬러리에 대하여 250~450℃의 온도에서 1차 열처리하는 단계와, 상기 1차 열처리된 결과물에 대하여 1000~1400℃의 온도에서 2차 열처리하는 단계 및 상기 2차 열처리된 결과물에 대하여 400~600℃의 온도에서 3차 열처리하는 단계를 포함하는 유약의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a manufacturing method of the glaze, but in distilled water, the addition of P 2 O 5, wherein the P 2 O 5 is the step of adding to be contained by 25 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the glaze, the P 2 O 5 is 0.5 with respect to K 2 O to SiO 2 in the addition of distilled water to the
상기 P2O5를 첨가하는 단계에서, 상기 P2O5의 발열반응에 의해 수증기의 증발시 줄어든 양만큼 증류수의 양을 보충하여 증류수의 양을 일정하게 유지하는 것이 바람직하다.
In the step of addition of the P 2 O 5, to compensate for the amount of distilled water, reduced by the amount evaporated during the steam by the exothermic reaction of the P 2 O 5 it is desirable to keep constant the amount of distilled water.
본 발명에 의한 유약은 3×10-6/K?5×10-6/K 범위의 열팽창계수를 갖는다.The glaze according to the present invention has a coefficient of thermal expansion in the range of 3 × 10 −6 / K? 5 × 10 −6 / K.
본 발명에 의하면, 알칼리 산화물인 K2O 또는 알칼리 토류 산화물인 CaO를 첨가하므로 내열 식기에 비하여 유약의 열팽창계수 증가 효과를 얻을 수 있다. 이는 CaO 또는 K2O의 첨가에 의해 SiO2 사면체 사이에 Ca2+이온 또는 K+ 이온 첨가되어 산소가교를 절단하고 이에 의해 열팽창계수가 증가하는 것으로 판단된다. 같은 중량비에 대하여 알칼리 산화물이 알칼리 토류산화물보다 열팽창계수의 증가 효과를 가져오는 것으로 보아 열팽창계수의 증가효과는 알칼리 이온의 규소산화물에서의 산소가교를 절단하는 효과에 의한 것으로 판단된다.
According to the present invention, since K 2 O, which is an alkali oxide, or CaO, which is an alkaline earth oxide, is added, the effect of increasing the coefficient of thermal expansion of the glaze can be obtained as compared with the heat resistant tableware. It is determined that Ca 2+ ions or K + ions are added between SiO 2 tetrahedra by addition of CaO or K 2 O to cleave the oxygen crosslinking, thereby increasing the coefficient of thermal expansion. In view of the same weight ratio, the alkali oxides have an effect of increasing the coefficient of thermal expansion than the alkaline earth oxide, and thus, the effect of increasing the coefficient of thermal expansion is determined by the effect of cleaving the oxygen cross-linking in the silicon oxide of alkali ions.
도 1은 열팽창계수측정기(Dilatometer)로 측정한 표준시편(ref)에 대하여 온도증가에 따른 열팽창계수의 변화를 나타낸 그래프이다.1 is a graph showing the change of the coefficient of thermal expansion with increasing temperature with respect to the standard specimen (ref) measured by the coefficient of thermal expansion (Dilatometer).
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It doesn't happen.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유약은, P2O5, SiO2 및 CaO를 포함하며, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되고, 상기 SiO2는 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되며, 상기 CaO는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유된다.Glaze according to a preferred embodiment of the present invention, P 2 O 5 , SiO 2 and CaO, the P 2 O 5 is contained in 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, the SiO 2 is 45 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, and CaO is contained 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
상기 유약은 K2O를 더 포함할 수 있으며, 상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되는 것이 바람직하다.The glaze may further include K 2 O, and the K 2 O is preferably contained in 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
또한, 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 유약은, P2O5, SiO2 및 K2O를 포함하며, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되고, 상기 SiO2는 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되며, 상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유된다. In addition, the glaze according to another preferred embodiment of the present invention, P 2 O 5 , SiO 2 and K 2 O, the P 2 O 5 is contained 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, The SiO 2 is contained 45 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, the K 2 O is contained 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
도자기의 표면을 덮어 씌우는 유약은 오산화인(P2O5)과 SiO2를 포함한다.Glazes that cover the surface of ceramics include phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) and SiO 2 .
오산화인(P2O5)은 인산의 무수물로서, 인을 충분한 공기 또는 산소속에서 연소시킬 때 생기는 흰색 결정성 가루이다. 강력한 산화제로서 사용되며, 인산 무수물 또는 무수인산이라고도 한다. 흡습성이 매우 강하며, 공기중의 수분을 흡수하는 힘은 진한 황산이나 염화칼슘보다 훨씬 크다. 찬물에는 소리를 내면서 녹아 메타인산(HPO3)이 되고, 가열할 경우에는 오쏘인산(H3PO4)을 생성한다. 건조제, 탈수제,계면활성제, 축합제로 사용된다. 흡습성 및 산성산화물임을 고려하여 내산성 용기속에 넣고 밀봉하여 저장한다.Phosphorous pentoxide (P 2 O 5 ) is an anhydride of phosphoric acid, which is a white crystalline powder produced by burning phosphorus in sufficient air or oxygen. Used as a powerful oxidizing agent, it is also called phosphoric anhydride or phosphoric anhydride. Hygroscopicity is very strong and the power to absorb moisture in the air is much greater than concentrated sulfuric acid or calcium chloride. In cold water, it melts and makes metaphosphoric acid (HPO 3 ). When heated, it forms orthophosphoric acid (H 3 PO 4 ). Used as desiccant, dehydrating agent, surfactant, condensing agent. Considering it is hygroscopic and acidic oxide, it is stored in an acid resistant container and sealed.
P2O5(오산화인)는 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부가 함유되는 것이 바람직하며, 오산화인(P2O5)의 함량이 25중량부 보다 낮으면 유약의 융점을 높이는 효과가 있으나, 열팽창계수가 낮아진다.P 2 O 5 (phosphorus pentoxide) is preferably contained 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of glaze, if the content of phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) is lower than 25 parts by weight has an effect of increasing the melting point of the glaze. However, the coefficient of thermal expansion is low.
SiO2는 유약의 기계적 강도를 증가시키는 역할을 한다. SiO2는 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부가 바람직하다. SiO2는 유약의 광택을 좋게 하는 특성이 있기 때문에 유약의 제조에 있어서 필수적으로 사용되는 요소이다. 그러나, 유약에 SiO2가 과량 함유될 경우 유동성이 감소하고, 내열성, 내화학성이 증가하면서 동시에 열팽창계수를 낮추는 효과가 있다.SiO 2 serves to increase the mechanical strength of the glaze. SiO 2 is added 45-70 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze. SiO 2 is an essential element in the manufacture of glaze because it has the property to improve the luster of the glaze. However, when the SiO 2 is excessively contained in the glaze, fluidity decreases, heat resistance and chemical resistance increase, and at the same time, there is an effect of lowering the coefficient of thermal expansion.
알칼리 토류산화물인 CaO와 알칼리 산화물인 K2O는 유약의 열팽창계수를 높이는 역할을 한다.
CaO, an alkaline earth oxide, and K 2 O, an alkali oxide, increase the thermal expansion coefficient of the glaze.
이하에서, 본 발명에 따른 유약의 제조방법을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the glaze according to the present invention will be specifically described.
유약을 제조하기 위하여 증류수를 칭량한다. 상기 증류수에 칭량한 P2O5(오산화인)를 천천히 첨가한다. 이때 오산화인은 물과 반응하면서 수증기가 발생한다. 증발한 수증기의 부족분에 대하여 증류수를 첨가한다. 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되게 첨가하는 것이 바람직하다.Distilled water is weighed to prepare the glaze. P 2 O 5 (phosphorus pentoxide) weighed into the distilled water is slowly added. At this time, phosphorus pentoxide reacts with water to generate steam. Distilled water is added to the shortage of vaporized water vapor. The P 2 O 5 is preferably added in an amount of 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
이러한 과정을 통해 오산화인을 완전히 물에 용해시킨 후 SiO2를 첨가한다. SiO2는 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되게 첨가하는 것이 바람직하다.Through this process, phosphorus pentoxide is completely dissolved in water, and then SiO 2 is added. SiO 2 is preferably added so as to contain 45 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
여기에 원하는 열팽창계수에 따라 알칼리 산화물인 K2O나 알칼리토류산화물인 CaO, 또는 이들의 혼합물을 미량 첨가한다. 상기 CaO는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되게 첨가하는 것이 바람직하고, 상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되게 첨가하는 것이 바람직하다A small amount of K 2 O as an alkali oxide, CaO as an alkaline earth oxide, or a mixture thereof is added thereto according to a desired coefficient of thermal expansion. The CaO is preferably added in an amount of 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, and the K 2 O is preferably added in an amount of 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
이와 같이 K2O나 CaO가 첨가되어 고르게 분산되도록 소정 시간(예컨대 24시간) 동안 교반한다. 상기 교반은 볼밀링 공정 등을 이용할 수 있다. As described above, the mixture is stirred for a predetermined time (eg, 24 hours) so that K 2 O or CaO is added and dispersed evenly. The stirring may use a ball milling process or the like.
이렇게 제조된 슬러리에 대하여 오븐에서 건조시킨다. 슬러리에서 수분이 제거되면, 수분이 제거된 슬러리에 대하여 3단계의 열처리를 수행한다.The slurry thus prepared is dried in an oven. After the moisture is removed from the slurry, three steps of heat treatment are performed on the slurry from which the moisture is removed.
1차 열처리 단계는 소정(예컨대 3℃/min)의 승온속도로 제1 온도(예컨대 200~400℃)까지 승온하고, 상기 제1 온도에서 소정시간(1~4시간) 동안 유지하여 수행한다.The first heat treatment step is performed by heating up to a first temperature (for example, 200 to 400 ° C.) at a temperature rising rate of a predetermined (eg, 3 ° C./min), and maintaining the first temperature for a predetermined time (1 to 4 hours).
2차 열처리 단계는 제1 온도에서 소정(예컨대 3℃/min)의 승온속도로 목표온도(예컨대 1000~1400℃)까지 승온하고, 상기 목표온도에서 소정시간(예컨대 4~8시간) 동안 유지한다.In the second heat treatment step, the temperature is raised to a target temperature (for example, 1000 to 1400 ° C.) at a temperature rising rate of a predetermined temperature (for example, 3 ° C./min) at the first temperature, and maintained at the target temperature for a predetermined time (for example, 4 to 8 hours). .
3차 열처리 단계는 제3 온도(예컨대 400~600℃)로 냉각하고, 상기 제3 온도에서 소정시간(예컨대, 2~4시간) 동안 유지한다.The third heat treatment step is cooled to a third temperature (for example 400 ~ 600 ℃), and maintained at the third temperature for a predetermined time (for example 2 to 4 hours).
상기와 같은 1차에서 3차까지의 3단계 열처리 공정을 거치는 동안 본 발명에 따른 유약은 경화된다.The glaze according to the present invention is cured during the three-step heat treatment process from the first to the third.
일반적으로 내열 식기류 유약의 경우에는 1~2×10-6/K의 열팽창계수를 가지고, 백자유약의 경우에는 6~8×10-6/K의 열팽창계수를 가진다.In general, heat-resistant tableware glazes have a coefficient of thermal expansion of 1-2 × 10 −6 / K, and white porcelain glazes have a coefficient of thermal expansion of 6-8 × 10 −6 / K.
본 발명에서는 약 3×10-6/K?5×10-6/K의 열팽창계수를 갖는 유약에 대하여 알칼리 산화물이나 알칼리 토류 산화물을 첨가하는 방법으로 균열을 발생시키지 않고 고유의 도자기의 미를 나타낼 수 있는 유약의 제조가 가능하다.In the present invention, the addition of alkali oxides or alkaline earth oxides to glazes having a coefficient of thermal expansion of about 3 × 10 −6 / K to 5 × 10 −6 / K does not cause cracks, thereby exhibiting the unique beauty of ceramics. It is possible to prepare glazes.
그외에도 필요에 따라 도자기의 열팽창계수에 맞는 유약의 제조가 가능하다.
In addition, it is possible to manufacture a glaze that meets the thermal expansion coefficient of ceramics as needed.
본 발명의 실시예에 대하여 아래와 같은 실험예를 통해서 상세히 살펴보기로한다.An embodiment of the present invention will be described in detail through the following experimental examples.
<실험예 1>Experimental Example 1
증류수 100중량부에 대하여 오산화인(P2O5) 38.78중량부를 증류수에 천천히 첨가하였다. 이때 P2O5의 발열반응에 의해 수증기가 발생하여 줄어든 만큼 증류수를 보충하여 증류수와 오산화인의 중량비를 일정하게 유지하였다.38.78 parts by weight of phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) was slowly added to distilled water based on 100 parts by weight of distilled water. At this time, water vapor was generated by the exothermic reaction of P 2 O 5 , and the distilled water was replenished as much as it was reduced to maintain a constant weight ratio of distilled water and phosphorus pentoxide.
P2O5를 완전히 용해시킨 뒤, 증류수 100중량부에 대하여 SiO2 58.52중량부를 넣고, CaO를 증류수 100중량부에 대하여 3중량부를 넣고 교반하여 슬러리를 제조하였다. 상기 교반은 50rpm의 속도로 24시간 동안 수행하였다. After completely dissolving P 2 O 5 , SiO 2 per 100 parts by weight of distilled water 58.52 parts by weight was added, and CaO was added to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of distilled water to prepare a slurry. The stirring was performed for 24 hours at a speed of 50 rpm.
상기 슬러리를 오븐에 넣고 100℃의 온도에서 건조하여 수분을 제거하였다. The slurry was placed in an oven and dried at a temperature of 100 ° C. to remove moisture.
수분이 제거된 슬러리에 대하여 3단계 열처리 조건으로 프릿(frit)을 제조하였다. A frit was prepared under a three-step heat treatment condition for the slurry from which moisture was removed.
1차 열처리 공정은 유기물 등의 불순물을 제거하기 위한 과정으로서 3℃/min의 승온 속도로 340℃로 승온하고, 340℃에서 1시간 동안 유지하였다.The primary heat treatment process is a process for removing impurities such as organic matter, and the temperature is raised to 340 ° C. at a temperature rising rate of 3 ° C./min, and maintained at 340 ° C. for 1 hour.
1차 열처리 공정이 완료되면, 프릿(frit)을 형성하기 위한 과정인 2차 열처리 공정을 수행하였다. 2차 열처리 공정은 3℃/min의 승온하여 1200℃의 온도에서 4시간 동안 유지하여 수행하였다.When the first heat treatment process is completed, a second heat treatment process, which is a process for forming a frit, was performed. The secondary heat treatment process was performed by increasing the temperature of 3 ℃ / min and maintained at a temperature of 1200 ℃ for 4 hours.
2차 열처리 공정이 완료된 후, 3차 열처리과정을 거쳐 유약을 제조하였다. 3차 열처리 공정은 500℃에서 3시간 유지하여 수행하였다.
After the secondary heat treatment process was completed, the glaze was manufactured through a third heat treatment process. The third heat treatment process was performed by maintaining at 500 ℃ 3 hours.
<실험예 2>Experimental Example 2
증류수 100중량부에 대하여 오산화인(P2O5) 37.98중량부를 증류수에 천천히 첨가하였다. 이때 P2O5의 발열반응에 의해 수증기가 발생하여 줄어든 만큼 증류수를 보충하여 증류수와 오산화인의 중량비를 일정하게 유지하였다.37.98 parts by weight of phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) was added slowly to distilled water based on 100 parts by weight of distilled water. At this time, water vapor was generated by the exothermic reaction of P 2 O 5 , and the distilled water was replenished as much as it was reduced to maintain a constant weight ratio of distilled water and phosphorus pentoxide.
P2O5를 완전히 용해시킨 뒤, 증류수 100중량부에 대하여 SiO2 57.02중량부를 넣고, CaO를 증류수 100중량부에 대하여 5중량부를 넣고 교반하여 슬러리를 제조하였다. 상기 교반은 50rpm의 속도로 24시간 동안 수행하였다. After completely dissolving P 2 O 5 , 57.02 parts by weight of SiO 2 was added to 100 parts by weight of distilled water, and 5 parts by weight of CaO was added to 100 parts by weight of distilled water to prepare a slurry. The stirring was performed for 24 hours at a speed of 50 rpm.
상기 슬러리를 오븐에 넣고 100℃의 온도에서 건조하여 수분을 제거하였다. The slurry was placed in an oven and dried at a temperature of 100 ° C. to remove moisture.
수분이 제거된 슬러리에 대하여 3단계 열처리 조건으로 프릿(frit)을 제조하였다. A frit was prepared under a three-step heat treatment condition for the slurry from which moisture was removed.
1차 열처리 공정은 유기물 등의 불순물을 제거하기 위한 과정으로서 3℃/min의 승온 속도로 340℃로 승온하고, 340℃에서 1시간 동안 유지하였다.The primary heat treatment process is a process for removing impurities such as organic matter, and the temperature is raised to 340 ° C. at a temperature rising rate of 3 ° C./min, and maintained at 340 ° C. for 1 hour.
1차 열처리 공정이 완료되면, 프릿(frit)을 형성하기 위한 과정인 2차 열처리 공정을 수행하였다. 2차 열처리 공정은 3℃/min의 승온하여 1200℃의 온도에서 4시간 동안 유지하여 수행하였다.When the first heat treatment process is completed, a second heat treatment process, which is a process for forming a frit, was performed. The secondary heat treatment process was performed by increasing the temperature of 3 ℃ / min and maintained at a temperature of 1200 ℃ for 4 hours.
2차 열처리 공정이 완료된 후, 3차 열처리과정을 거쳐 유약을 제조하였다. 3차 열처리 공정은 500℃에서 3시간 유지하여 수행하였다.
After the secondary heat treatment process was completed, the glaze was manufactured through a third heat treatment process. The third heat treatment process was performed by maintaining at 500 ℃ 3 hours.
<실험예 3><Experimental Example 3>
증류수 100중량부에 대하여 오산화인(P2O5) 38.78중량부를 증류수에 천천히 첨가하였다. 이때 P2O5의 발열반응에 의해 수증기가 발생하여 줄어든 만큼 증류수를 보충하여 증류수와 오산화인의 중량비를 일정하게 유지하였다.38.78 parts by weight of phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) was slowly added to distilled water based on 100 parts by weight of distilled water. At this time, water vapor was generated by the exothermic reaction of P 2 O 5 , and the distilled water was replenished as much as it was reduced to maintain a constant weight ratio of distilled water and phosphorus pentoxide.
P2O5를 완전히 용해시킨 뒤, 증류수 100중량부에 대하여 SiO2 58.22중량부를 넣고, K2O를 증류수 100중량부에 대하여 3중량부를 넣고 교반하여 슬러리를 제조하였다. 상기 교반은 50rpm의 속도로 24시간 동안 수행하였다. After completely dissolving P 2 O 5 , 58.22 parts by weight of SiO 2 was added to 100 parts by weight of distilled water, and 3 parts by weight of K 2 O was added to 100 parts by weight of distilled water to prepare a slurry. The stirring was performed for 24 hours at a speed of 50 rpm.
상기 슬러리를 오븐에 넣고 100℃의 온도에서 건조하여 수분을 제거하였다. The slurry was placed in an oven and dried at a temperature of 100 ° C. to remove moisture.
수분이 제거된 슬러리에 대하여 3단계 열처리 조건으로 프릿(frit)을 제조하였다. A frit was prepared under a three-step heat treatment condition for the slurry from which moisture was removed.
1차 열처리 공정은 유기물 등의 불순물을 제거하기 위한 과정으로서 3℃/min의 승온 속도로 340℃로 승온하고, 340℃에서 1시간 동안 유지하였다.The primary heat treatment process is a process for removing impurities such as organic matter, and the temperature is raised to 340 ° C. at a temperature rising rate of 3 ° C./min, and maintained at 340 ° C. for 1 hour.
1차 열처리 공정이 완료되면, 프릿(frit)을 형성하기 위한 과정인 2차 열처리 공정을 수행하였다. 2차 열처리 공정은 3℃/min의 승온하여 1200℃의 온도에서 4시간 동안 유지하여 수행하였다.When the first heat treatment process is completed, a second heat treatment process, which is a process for forming a frit, was performed. The secondary heat treatment process was performed by increasing the temperature of 3 ℃ / min and maintained at a temperature of 1200 ℃ for 4 hours.
2차 열처리 공정이 완료된 후, 3차 열처리과정을 거쳐 유약을 제조하였다. 3차 열처리 공정은 500℃에서 3시간 유지하여 수행하였다.
After the secondary heat treatment process was completed, the glaze was manufactured through a third heat treatment process. The third heat treatment process was performed by maintaining at 500 ℃ 3 hours.
<실험예 4>Experimental Example 4
증류수 100중량부에 대하여 오산화인(P2O5) 37.98중량부를 증류수에 천천히 첨가하였다. 이때 P2O5의 발열반응에 의해 수증기가 발생하여 줄어든 만큼 증류수를 보충하여 증류수와 오산화인의 중량비를 일정하게 유지하였다.37.98 parts by weight of phosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) was added slowly to distilled water based on 100 parts by weight of distilled water. At this time, water vapor was generated by the exothermic reaction of P 2 O 5 , and the distilled water was replenished as much as it was reduced to maintain a constant weight ratio of distilled water and phosphorus pentoxide.
P2O5를 완전히 용해시킨 뒤, 증류수 100중량부에 대하여 SiO2 57.02중량부를 넣고, K2O를 증류수 100중량부에 대하여 5중량부를 넣고 교반하여 슬러리를 제조하였다. 상기 교반은 50rpm의 속도로 24시간 동안 수행하였다. After completely dissolving P 2 O 5 , 57.02 parts by weight of SiO 2 was added to 100 parts by weight of distilled water, and 5 parts by weight of K 2 O was added to 100 parts by weight of distilled water to prepare a slurry. The stirring was performed for 24 hours at a speed of 50 rpm.
상기 슬러리를 오븐에 넣고 100℃의 온도에서 건조하여 수분을 제거하였다. The slurry was placed in an oven and dried at a temperature of 100 ° C. to remove moisture.
수분이 제거된 슬러리에 대하여 3단계 열처리 조건으로 프릿(frit)을 제조하였다. A frit was prepared under a three-step heat treatment condition for the slurry from which moisture was removed.
1차 열처리 공정은 유기물 등의 불순물을 제거하기 위한 과정으로서 3℃/min의 승온 속도로 340℃로 승온하고, 340℃에서 1시간 동안 유지하였다.The primary heat treatment process is a process for removing impurities such as organic matter, and the temperature is raised to 340 ° C. at a temperature rising rate of 3 ° C./min, and maintained at 340 ° C. for 1 hour.
1차 열처리 공정이 완료되면, 프릿(frit)을 형성하기 위한 과정인 2차 열처리 공정을 수행하였다. 2차 열처리 공정은 3℃/min의 승온하여 1200℃의 온도에서 4시간 동안 유지하여 수행하였다.When the first heat treatment process is completed, a second heat treatment process, which is a process for forming a frit, was performed. The secondary heat treatment process was performed by increasing the temperature of 3 ℃ / min and maintained at a temperature of 1200 ℃ for 4 hours.
2차 열처리 공정이 완료된 후, 3차 열처리과정을 거쳐 유약을 제조하였다. 3차 열처리 공정은 500℃에서 3시간 유지하여 수행하였다.
After the secondary heat treatment process was completed, the glaze was manufactured through a third heat treatment process. The third heat treatment process was performed by maintaining at 500 ℃ 3 hours.
아래의 표 1은 CaO나 K2O를 첨가하 않은 유약의 조성을 나타낸다.Table 1 below shows the composition of glaze without adding CaO or K 2 O.
도 1은 CaO나 K2O를 첨가하지 않은 유약에 대하여 열팽창계수 측정기(Dilatometer)로 100℃에서 600℃까지 열팽창계수(Coefficient of Thermal Exoansion; CTE)의 변화를 도시한 그림이다.FIG. 1 is a diagram illustrating the change of the coefficient of thermal expansion (CTE) from 100 ° C. to 600 ° C. with a dilatometer for glazes without CaO or K 2 O added thereto.
아래의 표 2는 200,300,400,500℃의 온도에서 열팽창계수(CTE)를 보여준다.Table 2 below shows the coefficient of thermal expansion (CTE) at temperatures of 200,300,400,500 ° C.
표 1과 같이 P2O5와 SiO2를 혼합한 유약의 경우 표 2에 나타난 바와 같이 200~500℃의 범위에서 3.97×10-6/K 이하의 열팽창계수(CTE)를 나타내었다.
As shown in Table 1, the glaze mixed with P 2 O 5 and SiO 2 exhibited a coefficient of thermal expansion (CTE) of 3.97 × 10 −6 / K or less in the range of 200 to 500 ° C.
아래의 표 3은 CaO를 첨가한 경우의 유약의 조성을 나타낸다.Table 3 below shows the composition of the glaze when CaO is added.
실험예 1은 CaO를 3중량부 첨가한 경우를 나타내고, 실험예 2는 알칼리 토류 산화물인 CaO를 5중량부 첨가한 경우를 나타낸다.Experimental Example 1 shows a case where 3 parts by weight of CaO is added, and Experimental Example 2 shows a case where 5 parts by weight of CaO which is an alkaline earth oxide is added.
아래의 표 4는 CaO를 첨가한 유약의 열팽창계수를 나타낸다.Table 4 below shows the thermal expansion coefficient of the glaze added with CaO.
표 4에 나타난 바와 같이, 3중량부를 첨가하였을 때 200℃, 300℃에서는 CaO를 첨가하지 않았을 때에 비하여 0.5×10-6/K의 증가를 보여주었지만, 400℃와 500℃에서는 그 효과는 미미한 편이었다. 이는 SiO2 사면체 사이에 Ca2+이온 첨가의 산소가교를 절단하는 효과가 온도증가에 따라 감소하는 것으로 판단된다.
As shown in Table 4, the addition of 3 parts by weight showed an increase of 0.5 × 10 −6 / K at 200 ° C. and 300 ° C., but no effect at 400 ° C. and 500 ° C. It was on the side. It is believed that the effect of cleaving the oxygen crosslinking of Ca 2+ ion addition between SiO 2 tetrahedra decreases with increasing temperature.
아래의 표 5는 K2O를 첨가한 유약의 조성을 나타낸다.Table 5 below shows the composition of the glaze added with K 2 O.
실험예 3은 P2O5와 SiO2에 K2O를 3중량부 첨가한 경우를 말하고, 실험예 4는 P2O5와 SiO2에 대하여 K2O를 5중량부 첨가한 경우를 말한다.Experiment 3 means a case of adding 3 parts by weight of K 2 O to P 2 O 5 and SiO 2, Example 4 refers to the case of adding 5 parts by weight of K 2 O with respect to P 2 O 5 and SiO 2 .
표 6은 K2O를 첨가한 유약의 열팽창계수를 나타낸다.Table 6 shows the thermal expansion coefficients of the glaze added with K 2 O.
표 6에 나타난 바와 같이 K2O를 첨가하였을 때에는 CaO를 첨가하였을 때에 비하여 0.5×10-6~1×10-6/K정도의 열팽창계수의 증가를 보였다. 이로부터 CaO 보다 K2O의 첨가가 실질적인 산소가교를 절단하는 데 효과적이라는 것을 알 수 있다.
As shown in Table 6, the addition of K 2 O showed an increase in the coefficient of thermal expansion of about 0.5 × 10 −6 to 1 × 10 −6 / K compared to when CaO was added. From this, it can be seen that the addition of K 2 O is more effective in cleaving the actual oxygen crosslinking than CaO.
이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation by a person of ordinary skill in the art within the scope of the technical idea of this invention is carried out. This is possible.
Claims (9)
P2O5, SiO2 및 CaO를 포함하며, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되고, 상기 SiO2는 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되며, 상기 CaO는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되는 것을 특징으로 하는 유약.
In the glaze,
P 2 O 5 , SiO 2 and CaO, wherein the P 2 O 5 is contained 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, the SiO 2 is 45 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze And the CaO is contained in an amount of 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
The method of claim 1 wherein said glaze is the K 2 O, K 2 O, and further comprising a glazing is characterized in that the unit containing from 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
P2O5, SiO2 및 K2O를 포함하며, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되고, 상기 SiO2는 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되며, 상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되는 것을 특징으로 하는 유약.
In the glaze,
P 2 O 5 , SiO 2 and K 2 O, wherein the P 2 O 5 is contained 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze, the SiO 2 is 45 to 70 by weight based on 100 parts by weight of the glaze It is contained by weight, the K 2 O glaze characterized in that it contains 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
Any one of claims 1 to 3 in any of the preceding claims, wherein the glazing is 3 × 10 -6 / K? 5 × 10 -6 / K , characterized in that the glaze has a coefficient of thermal expansion of the range.
증류수에 P2O5를 첨가하되, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되게 첨가하는 단계;
상기 P2O5가 첨가된 증류수에 SiO2를 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되게 첨가하는 단계;
상기 SiO2가 첨가된 증류수에 CaO를 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15중량부 함유되게 첨가하는 단계;
상기 CaO가 첨가된 조성물을 교반하여 슬러리를 제조하는 단계;
상기 슬러리를 건조하는 단계;
상기 건조된 슬러리에 대하여 250~450℃의 온도에서 1차 열처리하는 단계;
상기 1차 열처리된 결과물에 대하여 1000℃~1400℃의 온도에서 2차 열처리하는 단계; 및
상기 2차 열처리된 결과물에 대하여 400~600℃의 온도에서 3차 열처리하는 단계를 포함하는 유약의 제조방법.
In the manufacturing method of glaze,
Adding P 2 O 5 to distilled water, wherein the P 2 O 5 is added in an amount of 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze;
Adding 45 to 70 parts by weight of SiO 2 to 100 parts by weight of the glaze in distilled water to which the P 2 O 5 is added;
Adding CaO to 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze to the SiO 2 added distilled water;
Preparing a slurry by stirring the CaO-added composition;
Drying the slurry;
Performing a first heat treatment on the dried slurry at a temperature of 250˜450 ° C .;
Performing a second heat treatment at a temperature of 1000 ° C. to 1400 ° C. with respect to the first heat treated result; And
The method of manufacturing a glaze comprising the step of performing a third heat treatment at a temperature of 400 ~ 600 ℃ for the second heat-treated result.
상기 P2O5의 발열반응에 의해 수증기의 증발시 줄어든 양만큼 증류수의 양을 보충하여 증류수의 양을 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 유약의 제조방법.
The method of claim 5, wherein in the step of adding P 2 O 5 ,
Method for producing a glaze, characterized in that to maintain a constant amount of distilled water by supplementing the amount of distilled water by the amount reduced during the evaporation of water vapor by the exothermic reaction of the P 2 O 5 .
상기 K2O는 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15 중량부 함유되게 첨가하는 것을 특징으로 하는 유약의 제조방법.
The method of claim 5, further comprising adding K 2 O when adding CaO,
The K 2 O is a manufacturing method of the glaze, characterized in that added to 0.5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze.
증류수에 P2O5를 첨가하되, 상기 P2O5는 상기 유약 100중량부에 대하여 25~50중량부 함유되게 첨가하는 단계;
상기 P2O5가 첨가된 증류수에 SiO2를 상기 유약 100중량부에 대하여 45~70중량부 함유되게 첨가하는 단계;
상기 SiO2가 첨가된 증류수에 K2O를 상기 유약 100중량부에 대하여 0.5~15중량부 함유되게 첨가하는 단계;
상기 K2O가 첨가된 조성물을 교반하여 슬러리를 제조하는 단계;
상기 슬러리를 건조하는 단계;
상기 건조된 슬러리에 대하여 250~450℃의 온도에서 1차 열처리하는 단계;
상기 1차 열처리된 결과물에 대하여 1000~1400℃의 온도에서 2차 열처리하는 단계; 및
상기 2차 열처리된 결과물에 대하여 400~600℃의 온도에서 3차 열처리하는 단계를 포함하는 유약의 제조방법.
In the manufacturing method of glaze,
Adding P 2 O 5 to distilled water, wherein the P 2 O 5 is added in an amount of 25 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the glaze;
Adding 45 to 70 parts by weight of SiO 2 to 100 parts by weight of the glaze in distilled water to which the P 2 O 5 is added;
Adding 0.5 to 15 parts by weight of K 2 O to 100 parts by weight of the glaze to the SiO 2 added distilled water;
Preparing a slurry by stirring the composition to which K 2 O is added;
Drying the slurry;
Performing a first heat treatment on the dried slurry at a temperature of 250˜450 ° C .;
Performing a second heat treatment at a temperature of 1000 to 1400 ° C. with respect to the first heat treated product; And
The method of manufacturing a glaze comprising the step of performing a third heat treatment at a temperature of 400 ~ 600 ℃ for the second heat-treated result.
상기 P2O5의 발열반응에 의해 수증기의 증발시 줄어든 양만큼 증류수의 양을 보충하여 증류수의 양을 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 유약의 제조방법.The method of claim 8, wherein in the step of adding P 2 O 5 ,
Method for producing a glaze, characterized in that to maintain a constant amount of distilled water by supplementing the amount of distilled water by the amount reduced during the evaporation of water vapor by the exothermic reaction of the P 2 O 5 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100120209A KR101265941B1 (en) | 2010-11-30 | 2010-11-30 | Manufacturing method of glaze |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100120209A KR101265941B1 (en) | 2010-11-30 | 2010-11-30 | Manufacturing method of glaze |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120058768A true KR20120058768A (en) | 2012-06-08 |
| KR101265941B1 KR101265941B1 (en) | 2013-05-21 |
Family
ID=46610188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020100120209A KR101265941B1 (en) | 2010-11-30 | 2010-11-30 | Manufacturing method of glaze |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101265941B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200076840A (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-30 | 한국세라믹기술원 | Manufacturing method of high hardmess glaze layer having white jade texture |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101865750B1 (en) | 2016-08-16 | 2018-06-08 | (주)광주요 | Manufacturing method of porcelain having excellent scratch resistance using the glaze composition for high hardness |
| KR101988218B1 (en) | 2017-08-24 | 2019-06-12 | (주)광주요 | Manufacturing method of porcelain using the glaze composition for high wear resistance and translucency |
| CN108017283B (en) * | 2018-02-07 | 2021-01-15 | 盐城工业职业技术学院 | Lead-free ceramic glaze and preparation method thereof |
| KR102293418B1 (en) | 2019-12-18 | 2021-08-26 | 한국세라믹기술원 | Antibacterial glaze composition and manufacturing method of porcelain using the composition |
| KR102571886B1 (en) | 2020-12-11 | 2023-08-28 | 한국세라믹기술원 | Antibacterial glaze composition and manufacturing method of ceramic tile using the composition |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1765836B (en) * | 2005-09-07 | 2010-05-12 | 毛海燕 | Ceramic glaze with metal sense of reality |
-
2010
- 2010-11-30 KR KR1020100120209A patent/KR101265941B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200076840A (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-30 | 한국세라믹기술원 | Manufacturing method of high hardmess glaze layer having white jade texture |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101265941B1 (en) | 2013-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101265941B1 (en) | Manufacturing method of glaze | |
| JP6230775B2 (en) | Method for tempering ceramics of float crystallized glass | |
| CN106795039A (en) | Glass ceramic board | |
| TW201228981A (en) | Fluorophosphate glasses | |
| US3527649A (en) | Cadmium sulfide or cadmium sulfoselenide colored glazes and process for producing same | |
| CN106495481A (en) | A kind of enamel and preparation method thereof | |
| JP2008273791A (en) | Phosphate-based glass, glass ceramic comprising the phosphate-based glass and methods for production thereof | |
| JPS62153145A (en) | Hydrogen-containing glass microfoam, glass-ceramic and manufacture | |
| CN103420689A (en) | Artistic pottery fancy glaze and manufacturing method thereof | |
| JPH02116643A (en) | Alkali zinc aluminophosphate glass ceramic | |
| CN105541114B (en) | A kind of high low-expansion frit of beginning fusing point and preparation method thereof | |
| JP4990354B2 (en) | Phosphate mineral | |
| CN1315747C (en) | Glass ceramic containing fluorine phosphorus lithium aluminium silican and its preparation method | |
| CN100352782C (en) | Glass ceramic containing phosphorus lithium aluminium silicon and its preparation method | |
| KR101778366B1 (en) | Eco-friendly coating composition, coated steel having excellent corrosion resistance and fire retardant and method for manufacturing the same | |
| CS215875B1 (en) | Method of manufacturing glazeable non-porous ceramic sintered objects | |
| Kang et al. | Fabrication of calcium phosphate glass using eggshell and its crystallization behavior | |
| KR101990464B1 (en) | Inorganic binder for high temperature insulating materials, superhigh temperature insulating materials containing the same and Manufacturing method thereof | |
| KR100782160B1 (en) | Glass frit compositions for barrier ribs of pdp | |
| KR101788276B1 (en) | Composition for High Temperature Insulating Refractory and High Temperature Insulating Refractory Using the Same | |
| WO2017074185A1 (en) | Enamel powder and enamel slurry for producing an enamel coating on a metallic substrate, method for manufacturing an enamel slurry and use of the enamel coating for heat exchangers | |
| JPS6342705B2 (en) | ||
| JPH01100068A (en) | Hot melt refractory having high zirconia content | |
| JP6837557B2 (en) | Ulastonite-based crystallized glass for artificial teeth and this coloring method | |
| JPH0218562B2 (en) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160513 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |