KR20120051965A - 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 폐수의 pH를 조절하거나 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입한 상태에서 광촉매 산화반응을 유도함으로써 반응성아조염료 폐수의 색도를 효과적으로 제거할 수 있는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법 및 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법은 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매를 주입하고, 상기 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입함과 함께 상기 폐수의 pH를 최초상태보다 낮도록 조절하는 단계 및 상기 광촉매에 자외선을 조사하여, 광촉매 산화반응에 의해 반응성아조염료를 분해하여 폐수의 색도를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폐수의 pH를 조절하거나 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입한 상태에서 광촉매 산화반응을 유도함으로써 반응성아조염료 폐수의 색도를 효과적으로 제거할 수 있는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법 및 장치에 관한 것이다.
섬유 염색 산업은 거의 모든 공정에서 공업용수를 필요로 하는 소위 용수 다소비 업종으로서, 수질오염물질이 다량 방출되는 특징을 갖는다. 특히, 염색 공정 후 배출되는 잔여 염료로 인해 짙은 색도를 나타냄에 따라 심미적인 차원에서 민원의 대상이 되고 있으며, 수계에서는 햇볕을 차단하여 수중식물의 성장에 악영향을 미치는 사실이 보고된 바 있다. 따라서, 염색 공정에서 배출되는 폐수의 색도 제거를 위한 친환경적 고효율적인 기술 개발이 필요한 실정이다.
반응성 염료(reactive dye)는 최근 섬유의 고품질화 및 다양한 수요로 인하여 전세계적으로 가장 사용 빈도가 높은 합성염료이며 그 사용량이 급격히 증가하고 있는 추세이다. 또한, 반응성 염료는 다양하고 선명한 색과 간단한 사용법 때문에 최근 직물 산업에서 광범위하게 사용되는 대표적인 염료이다. 그 중에서도 반응성아조염료(reactive azo dye)는 전체 반응성 염료 수요의 70% 정도를 차지할 정도로 가장 널리 사용되고 있으며, 수요가 급격히 증가하고 있다.
반응성아조염료는 분자량이 비교적 큰 물질(500?1000g/mol)로서 용해성이 높아 흡착에 의한 제거가 어려우며, 염료 자체의 독성 및 난분해성 특징에 따라 전형적인 생물학적 하수처리 공정(활성슬러지 공법 등)으로는 단순 흡착에 의한 제거방법 외에는 색도 제거가 불가능한 것으로 알려져 있다. 이와 같은 반응성 염료를 함유한 폐수의 경우, 염색 공정에 사용된 염료의 최고 50% 정도가 섬유에 부착되지 않고 배출되어 폐수의 짙은 색도를 유발하는 문제점이 있다. 또한, 염색 공정시 반응성아조염료의 섬유로의 부착효율 증대를 위해 높은 pH 조건(pH 11?13)에서 고농도의 염(일반적으로 60?100g/L NaCl 또는 Na2SO4)을 주입함에 따라, 염색 폐수가 고농도의 염을 포함한 상태로 배출되며 이로 인해 후단 처리시설에서의 처리효율을 현저하게 저하시키게 된다.
이러한 이유로 인해 섬유 산업체에서는 고농도 잔류 염이 함유된 반응성아조염료 폐수의 색도 제거가 가장 심각한 환경 문제로 부각되고 있으며, 강화되고 있는 환경 규제에 대응하기 위해 현재 섬유 산업체에서 이용되고 있는 폐수처리기술보다 더욱 전문적이고 경제적인 기술이 절실히 요구되고 있는 실정이다.
한편, 광촉매 산화반응을 통한 독성 및 난분해성 물질에 대한 분해 연구는 활발히 진행되고 있다. 산화방법에 의한 염색폐수처리의 경우 한국공개특허 2001-91796호, 한국공개특허 2003-77865호, 한국공개특허 2004-84586호, 미국특허출원 2005-115004호 등에서 기술된 방법과 같이 펜톤산화를 이용한 산화방법, 플라즈마를 이용한 산화방법 그리고 오존을 이용한 산화방법 등이 보고된 바 있다. 또한, 광촉매 산화방법에 의한 염색폐수처리와 관련하여 한국공개특허 2001-8364호, 일본공개특허 2001-205100호 등에서 기술된 방법과 같이 대표적인 광촉매인 이산화티탄의 고정형태의 방법, 이산화티탄의 크기에 따른 염색폐수처리 효율 증대방법 등이 보고된 바 있다.
그러나, 현재까지 보고된 염색 반응성아조염료 폐수의 처리에 대한 대부분의 연구는 주로 고농도의 폐수를 희석시켜 염의 농도를 매우 낮은 농도로 낮춘 후에 색도를 제거하는 방법에 초점이 맞추어져 있어 경제적인 측면에서 실제 산업체에 적용하기에는 어려움이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 폐수의 pH를 조절하거나 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입한 상태에서 광촉매 산화반응을 유도함으로써 반응성아조염료 폐수의 색도를 효과적으로 제거할 수 있는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법 및 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법은 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매 및 산소를 포함하는 가스를 주입하는 단계 및 상기 광촉매에 자외선을 조사하여, 광촉매 산화반응을 통해 반응성아조염료를 분해하여 폐수의 색도를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 산소를 포함하는 가스는 산소가 10vol% 이상 포함될 수 있으며, 상기 폐수 내에 주입되는 산소를 포함하는 가스의 양은 전체 폐수의 부피 대비하여 분당 10?40vol%일 수 있다.
본 발명에 따른 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법은 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매를 주입하고, 상기 폐수의 pH를 최초 pH보다 낮도록 조절하는 단계 및 상기 광촉매에 자외선을 조사하여, 광촉매 산화반응에 의해 반응성아조염료를 분해하여 폐수의 색도를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 다른 특징으로 한다.
반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매를 주입하고, 상기 폐수의 pH를 최초 pH보다 낮도록 조절하는 단계에서, 상기 폐수의 pH는 pH 4?10으로 조절될 수 있다. 또한, 폐수의 pH는 산 물질을 이용하여 조절하며, 상기 산 물질은 HCl, H2SO4, HNO3, H3PO4, H2CO3 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
본 발명에 따른 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법은 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매를 주입하고, 상기 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입함과 함께 상기 폐수의 pH를 최초상태보다 낮도록 조절하는 단계 및 상기 광촉매에 자외선을 조사하여, 광촉매 산화반응에 의해 반응성아조염료를 분해하여 폐수의 색도를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 또 다른 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거장치는 반응성아조염료와 고농도염이 포함된 폐수 및 광촉매가 담지되어 반응성아조염료의 광촉매 산화반응이 진행되는 공간을 제공하는 광촉매 산화반응조와, 상기 광촉매에 자외선을 조사하는 자외선 램프와, 상기 광촉매 산화반응조에 산소를 포함하는 가스를 주입하여 상기 폐수의 염 농도를 조절하는 가스 주입수단 및 상기 광촉매 산화반응조에 산 물질을 주입하여 상기 폐수의 pH를 조절하는 산 물질 공급수단을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법 및 장치는 다음과 같은 효과가 있다.
염색 공정 후 발생하는 반응성아조염료 함유 폐수의 색도를 광촉매 산화반응을 통해 고효율로 제거할 수 있다. 특히, 고농도의 염이 존재하는 조건 하에서 광촉매 산화반응에 의한 안정적인 고효율의 색도 제거가 가능함에 따라, 폐수의 희석 과정이 불필요하다.
도 1은 100ml/min의 산소 가스 주입 및 pH 4인 조건에서의 실험 중 광촉매 산화반응 전(A)과 후(B)의 반응성아조염료 폐수의 색도 변화를 촬영한 사진.
본 발명은, 고농도염 및 반응성아조염료(reactive azo dye)를 함유하는 폐수의 색도를 제거함을 목적으로 하며, 이를 구현하기 위한 방법으로 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수 내에 광촉매를 주입시킨 상태에서 자외선 조사를 통해 광촉매 산화반응을 유도하여 반응성아조염료를 분해하는 방법을 이용한다. 또한, 반응성아조염료의 분해효율을 증대시키기 위해, 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입하거나 폐수의 pH를 최초 pH보다 낮게 설정한 상태에서 상기 광촉매 산화반응을 유도하는 것을 다른 특징으로 한다. 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입하는 것과 폐수의 pH 조절은 개별적으로 적용되거나 동시에 적용될 수 있다.
먼저, 광촉매 산화반응에 의한 고농도염 함유 반응성아조염료의 분해 메커니즘을 설명하면 다음과 같다. 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수 내에 광촉매가 주입된 상태에서 상기 광촉매에 자외선을 조사하게 되면 광촉매에 의한 산화반응에 의해, 반응성아조염료의 아조결합기(azo bond)와 작용기(functional group)가 분해(cleavage)되어 궁극적으로 색도 제거가 발생하게 된다. 상기 광촉매로는 이산화타탄(TiO2) 등이 이용될 수 있다.
또한, 광촉매 산화반응을 촉진시키기 위한 조건으로서 전술한 바와 같이 1) 폐수 내에 산소를 포함하는 가스의 주입, 2) 폐수의 pH 조절이 부가된다. 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입하는, 이유는 산소가 폐수 내에서 매우 효과적인 전자 트랩(electron trap) 역할을 하여 광촉매 산화반응에 의해 발생되는 전자와 정공(photogenerated holes)의 재결합(recombination)을 억제하여 광촉매 반응효율을 높이기 때문이다. 상기 산소를 포함하는 가스는 산소 가스 자체 또는 산소 가스와 불활성 가스의 조합일 수 있으며, 이 때 산소 가스의 함유량은 10?100vol%일 수 있다. 산소 가스를 10vol% 이상 포함시키는 이유는 산소가 10vol% 미만일 경우 전자 트랩의 역할을 수행함에 어려움이 있기 때문이다. 또한, 상기 산소를 포함하는 가스는 처리대상 폐수의 부피에 대비하여 분당 10?40vol%로 주입되는 것이 바람직하며, 그 이유는 산소를 포함하는 가스의 양이 분당 10vol% 이하로 주입될 경우에는 전자 트랩 효과가 미미하며, 40vol% 이상일 경우에는 주입속도가 너무 빨라서 주입한 산소가 광촉매와 접촉하는 시간이 감소되어 전자 트랩 효과가 미미하게 되기 때문이다.
한편, 폐수의 pH를 최초 pH보다 낮게 설정하는 이유는 폐수 내에서 반응성아조염료가 소수성화되는 것을 최소화하여 응집(aggregation)되는 것을 방지함으로써 반응성아조염료와 광촉매의 반응성을 향상시키기 위함이며, 이를 통해 반응성아조염료의 광촉매 산화반응을 촉진시킬 수 있다. 또한, 폐수의 pH는 pH 4?10의 조건에서 광촉매 산화반응이 더욱 촉진된다. pH 조절에 사용되는 산 물질로는 HCl, H2SO4, HNO3, H3PO4, H2CO3 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물이 이용될 수 있다. 참고로, 염색 공정 후 발생하는 반응성아조염료 폐수의 pH는 강알칼리인 pH 11?13이며, 이와 같은 pH 조건 하에서 아조염료는 소수성화되어 염료 자체가 응집이 되는 성질을 갖는다.
이하, 본 발명의 내용을 일 실시예를 통해 보다 상세히 설명하기로 한다. 제 1 실시예는 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입한 상태에서 광촉매 산화반응을 유도한 실험이며, 제 2 실시예는 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 pH를 최초보다 낮게 유지한 상태에서 광촉매 산화반응을 유도한 실험이다.
제 1 실시예 : 산소 주입 여부에 따른 광촉매 산화반응에 의한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거
반응성아조염료인 Reactive Red 2(RR2) 100mg/L를 포함한 시료 폐수와 100g/L의 NaCl을 광촉매와 함께 광촉매 산화반응조(500ml)에 주입하였다. 이어, 25의 온도 하에서 시료 폐수와 염 및 광촉매를 교반하여 완전 혼합하였다. 광촉매는 이산화티탄(TiO2)을 사용하였으며, 1g/L의 농도를 유지하였다. 그런 다음, 광촉매 산화반응조 내에 자외선을 조사하였다. 자외선 조사는 UV-C 램프를 이용하였으며, UV-C 램프의 전력은 36W로 유지하였다.
한편, 산소 주입 여부에 따른 광촉매 산화반응의 정도 즉, 색도 제거효율을 비교하기 위해, 산소를 주입하지 않은 상태(시료 1)와 산소를 주입한 상태(시료 2)에 대해서 자외선 조사를 실시하였다. 산소를 주입한 경우(시료 2), 광촉매 산화반응조 내에 산소 가스를 100ml/min의 유속으로 주입하였다. 또한, 시료 1과 시료 2의 pH는 7로 유지하였다. 참고로, 상기 산소 또는 산소를 포함하는 가스는 가스주입수단을 통해 주입될 수 있다.
시료 1과 시료 2의 색도 제거효율은 최초 RR2 농도와 광촉매 산화반응 후의 잔류 RR2 농도를 각각 측정한 후, 제거된 RR2를 이용하여 계산하였다. 이 때, RR2의 농도 측정은 스펙트로포토미터(spectrophotometer)를 이용하였으며, RR2 염료의 최대 흡광도를 나타내는 파장인 538nm 조건 하에서 진행하였다.
아래의 표 1은 산소 주입 여부에 따른 광촉매 산화반응에 의한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거효율을 나타낸 것이다.
색도 제거효율(%) | |
시료 1 (산소 없음) | 82.7 |
시료 2 (산소 주입) | 93.1 |
[표 1]을 참고하면, 산소를 주입한 경우 즉, 시료 2의 경우 색도 제거효율이 93.1%로 산소를 주입하지 않은 시료 1(82.7%)에 대비하여 색도 제거효율이 향상됨을 알 수 있다. 이는, 광촉매 산화반응시 주입된 산소가 전자 트랩(electron trap)의 역할을 수행하여 광촉매 반응시 발생하는 전자와 정공(photogenerated holes)의 재결합(recombination)을 억제함으로써 광촉매 산화반응 효율을 높이기 때문인 것으로 확인된다.
제 2 실시예 : 산소 주입 및 다양한 pH 조건에서의 광촉매 산화반응에 의한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거
제 2 실시예의 실험 조건은 기본적으로 제 1 실시예의 실험 조건과 동일하며, 다만 시료 폐수(pH 12) 내에 산소를 주입함과 함께 시료 폐수의 pH를 다양하게 조절하였다. 구체적으로, 각각의 시료 폐수 내에 100g/L의 NaCl을 주입하고, 산소 가스를 100ml/min로 주입함과 함께 각각의 시료 폐수의 pH를 1N 농도의 HCl을 이용하여 각각 4(시료 3), 7(시료 4), 10(시료 5)으로 조절하여 산소 주입 하에서 각각의 pH 조건에 따른 색도 제거효율을 비교하였다. 각각의 시료 폐수의 반응시간은 2시간이었다. 참고로, 시료 6은 pH 조절을 하지 않은 폐수로서 시료의 pH는 pH 12였으며, 상기 pH 조절을 위한 산 물질의 주입은 산 물질 주입수단을 통해 이루어질 수 있다.
아래의 표 2는 산소 주입 조건에서 다양한 pH 조건에서의 광촉매 산화반응에 의한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거효율을 비교하여 나타낸 것으로서, 색도 제거효율은 제 1 실시예에서와 마찬가지로 스펙트로포토미터를 이용하여 초기 RR2 농도와 광촉매 산화반응 후의 잔류 RR2 농도를 각각 측정한 후, 제거된 RR2를 이용하여 계산하였다.
색도 제거효율(%) | |
시료 3 (pH 4) | 94.1 |
시료 4 (pH 7) | 93.6 |
시료 5 (pH 10) | 92.5 |
시료 6 (pH 12, pH 조절 안함) | 82.6 |
[표 2]를 참고하면, 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 초기 pH인 pH 12인 경우(시료 6), 색도 제거효율이 82.6%로 가장 낮게 나타났으며, 폐수의 pH를 4, 7, 10으로 조절한 시료 3, 시료 4, 시료 5의 경우 모두 시료 6(pH 12)보다 색도 제거효율이 각각 11.5%, 11.0%, 9.9% 높게 나타났다. 참고로, 도 1은 100ml/min의 산소 가스 주입 및 pH 4인 조건에서의 실험 중 광촉매 산화반응 전(A)과 후(B)의 반응성아조염료 폐수의 색도 변화를 촬영한 것인데, 도 1에 도시한 바와 같이 광촉매 산화반응 후 염료 폐수의 색도가 거의 제거됨을 확인할 수 있다. 이는, 높은 pH(pH 11 이상) 하에서 발생하는 반응성아조염료의 소수성화를 pH를 낮게 조절하여 방지함으로써 소수성화된 염료 자체의 응집에 의한 색도 제거가 아닌 광촉매 산화반응에 의한 색도 제거효율이 향상되었기 때문인 것으로 확인된다.
이와 같은 실험 결과를 통해, 폐수 내에 산소를 주입과 함께 폐수의 pH를 낮추게 되면 광촉매 산화반응을 촉진시킬 수 있으며 궁극적으로 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거효율을 높일 수 있음을 확인할 수 있다.
Claims (15)
- 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매 및 산소를 포함하는 가스를 주입하는 단계; 및
상기 광촉매에 자외선을 조사하여, 광촉매 산화반응을 통해 반응성아조염료를 분해하여 폐수의 색도를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 산소를 포함하는 가스는 산소가 10vol% 이상 포함된 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 폐수 내에 주입되는 산소를 포함하는 가스의 양은 전체 폐수의 부피 대비하여 분당 10?40vol%인 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매를 주입하고, 상기 폐수의 pH를 최초 pH보다 낮도록 조절하는 단계; 및
상기 광촉매에 자외선을 조사하여, 광촉매 산화반응에 의해 반응성아조염료를 분해하여 폐수의 색도를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 제 4 항에 있어서, 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매를 주입하고, 상기 폐수의 pH를 최초 pH보다 낮도록 조절하는 단계에서, 상기 폐수의 pH는 pH 4?10으로 조절되는 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 제 4 항에 있어서, 폐수의 pH는 산 물질을 이용하여 조절하며, 상기 산 물질은 HCl, H2SO4, HNO3, H3PO4, H2CO3 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 반응성아조염료 및 고농도염이 포함된 폐수 내에 광촉매를 주입하고, 상기 폐수 내에 산소를 포함하는 가스를 주입함과 함께 상기 폐수의 pH를 최초상태보다 낮도록 조절하는 단계; 및
상기 광촉매에 자외선을 조사하여, 광촉매 산화반응에 의해 반응성아조염료를 분해하여 폐수의 색도를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 산소를 포함하는 가스는 산소가 10vol% 이상 포함된 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 폐수 내에 주입되는 산소를 포함하는 가스의 양은 전체 폐수의 부피 대비하여 분당 10?40vol%인 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 폐수의 pH는 pH 4?10으로 조절되는 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거방법.
- 반응성아조염료와 고농도염이 포함된 폐수 및 광촉매가 담지되어 반응성아조염료의 광촉매 산화반응이 진행되는 공간을 제공하는 광촉매 산화반응조;
상기 광촉매에 자외선을 조사하는 자외선 램프;
상기 광촉매 산화반응조에 산소를 포함하는 가스를 주입하여 상기 폐수의 염 농도를 조절하는 가스 주입수단; 및
상기 광촉매 산화반응조에 산 물질을 주입하여 상기 폐수의 pH를 조절하는 산 물질 공급수단을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 산 물질 공급수단으로부터 상기 광촉매 산화반응조 내에 산 물질이 주입되어 상기 폐수의 pH가 4?10으로 조절되는 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 산소를 포함하는 가스는 산소가 10vol% 이상 포함된 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 폐수 내에 주입되는 산소를 포함하는 가스의 양은 전체 폐수의 부피 대비하여 분당 10?40vol%인 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 가스 주입수단과 산 물질 공급수단으로부터 각각 산소가 10vol% 이상 포함된 가스와 산이 상기 광촉매 산화반응조에 주입되며, 상기 폐수의 pH가 4?10으로 조절되며, 상기 폐수 내에 주입되는 산소를 포함하는 가스의 양은 전체 폐수의 부피 대비하여 분당 10?40vol%인 것을 특징으로 하는 광촉매 산화반응을 이용한 고농도염 함유 반응성아조염료 폐수의 색도 제거장치.
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