KR20120025736A - Apparatus for gathering liquid crystal and removing bubbles in liquid crystal tank - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a residual liquid crystal and bubble treatment apparatus of a liquid crystal tank.
도 1은 액정 디스펜서와 액정 공급시스템을 개략적으로 도시한 측면도이다. 1 is a side view schematically showing a liquid crystal dispenser and a liquid crystal supply system.
도 1에 도시한 바와 같이, 액정 디스펜서가 설치되고, 상기 액정 디스펜서를 덮도록 커버 프레임(B)이 설치된다. 상기 커버 프레임(B) 밖에 액정 공급시스템이 설치된다.As shown in Fig. 1, a liquid crystal dispenser is provided, and a cover frame B is provided to cover the liquid crystal dispenser. The liquid crystal supply system is installed outside the cover frame (B).
상기 액정 디스펜서는 프레임(100)과, 상기 프레임(100)에 장착되는 스테이지(200)와, 상기 스테이지(200)의 양쪽에 각각 위치하여 상기 프레임(100)에 결합되는 제1 가이드 유닛(G1)들과, 상기 제1 가이드 유닛(G1)들에 결합되는 헤드 유닛 지지대(400)와, 상기 헤드 유닛 지지대(400)를 움직이는 제1 구동유닛(미도시)과, 상기 헤드 유닛 지지대(400)에 구비되는 제2 가이드 유닛(G2)과, 상기 제2 가이드 유닛(G2)에 결합되는 복수 개 헤드 유닛(500)들과, 상기 헤드 유닛(500)들을 움직이는 제2 구동유닛(미도시)을 포함한다.The liquid crystal dispenser includes a
상기 헤드 유닛(500)은 상기 제2 가이드 유닛에 연결되는 지지 조립체(510)와, 상기 지지 조립체(510)에 결합되는 액정 병 지지대(520)와, 상기 액정 병 지지대(520)에 삽입된 액정 병(530)과, 상기 액정 병(530)의 입구를 막도록 액정 병(530)의 주둥이에 결합되는 마개(540)와, 상기 지지 조립체(510)의 하부에 구비된 노즐 유닛(550)과, 상기 마개(540)에 관통된 상태로 결합되어 액정 병(530)의 액정을 노즐 유닛(550)으로 흐르도록 하는 노즐 연결 튜브(560)를 포함한다. The
상기 마개(540)에 주입 통로(H)가 구비된다. 상기 노즐 유닛(550)은 노즐(551)을 포함한다. An injection passage H is provided in the
상기 액정 공급시스템은 베이스 플레이트(610)에 설치되는 액정 탱크(620)와, 상기 액정 탱크(620)에 압력을 공급하는 압력 공급 유닛(630)과, 상기 액정 탱크(620)와 압력 공급 유닛(630)을 연결하는 연결관(640)과, 상기 커버 프레임(B)의 일측벽에 관통된 상태로 결합되는 액정 주입장치(700)와, 상기 액정 탱크(620)와 액정 주입장치(700)를 연결하는 튜브(650)와 상기 튜브(650)에 구비되는 밸브(800)를 포함한다. 상기 밸브(800)는 상기 튜브(650) 내부로 액정을 흐르게 하거나 흐르지 못하게 한다. The liquid crystal supply system includes a
상기 액정 디스펜서와 액정 공급시스템의 작동을 설명하면 다음과 같다.The operation of the liquid crystal dispenser and the liquid crystal supply system will be described below.
상기 액정 디스펜서의 스테이지(200)에 기판이 놓여진다. 상기 제1 구동유닛과 제2 구동유닛이 상기 헤드 유닛(500)들을 초기 위치에서 액정 적하 위치로 이동시킨다.The substrate is placed on the
상기 제1 구동유닛과 제2 구동유닛이 상기 헤드 유닛(500)들을 각각 설정된 데이터에 따라 움직인다. 상기 헤드 유닛(500)들이 움직이는 동안 상기 헤드 유닛(500)의 노즐(551)을 통해 기판에 일정 양의 액정을 적하시킨다. The first driving unit and the second driving unit move the
상기 액정 병(530)에 담겨진 액정의 양이 일정 수준까지 감소되면 액정 디스펜서에 구비된 표시유닛(미도시)으로부터 알람이 나타난다. 알람이 나타나면 헤드 유닛(500)의 노즐(551)을 통해 기판에 액정을 적하시키는 공정을 정지시킨다. When the amount of liquid crystal contained in the
그리고 상기 헤드 유닛(500)을 액정을 공급받는 위치로 이동시킨다.The
상기 헤드 유닛(500)이 액정을 공급받는 위치로 이동한 상태에서 상기 액정 공급시스템이 상기 헤드 유닛(500)의 액정 병(530)에 액정을 공급한다. The liquid crystal supply system supplies liquid crystal to the
상기 액정 공급시스템이 상기 헤드 유닛(500)의 액정 병(530)에 다음과 같이 액정을 공급한다.The liquid crystal supply system supplies liquid crystal to the
먼저, 상기 액정 주입장치(700)를 구성하는 튜브 지지관(710)이 앞으로 이동하여 상기 액정 병(530)의 마개(540)의 주입 통로(H)에 삽입된다. 상기 튜브 지지관(710)에 상기 튜브(650)의 끝부분이 삽입되어 있다. First, the
상기 액정 탱크(620)에 저장된 액정이 튜브(650)를 통해 흐르도록 상기 밸브(800)를 열고 상기 압력 공급 유닛(630)이 상기 액정 탱크(620) 내부에 압력을 공급한다. 상기 액정 탱크(620) 내부에 공급된 압력에 의해 액정 탱크(620)에 저장된 액정이 튜브(650)와 마개(540)의 주입 통로(H)를 통해 액정 병(530) 내부에 공급된다.The
상기 액정 병(530) 내부에 액정의 양이 일정 수준까지 채워지게 되면 상기 압력 공급 유닛(630)이 상기 액정 탱크(620)에 압력을 공급하는 것을 중단하고 상기 밸브(800)를 닫아 상기 액정 탱크(620)에 저장된 액정이 상기 튜브(650)를 통해 액정 병(530)에 공급되는 것을 중지시킨다.When the amount of liquid crystal is filled to a predetermined level inside the
상기 액정 주입장치(700)의 튜브 지지관(710)이 마개의 주입 통로(H)로부터 빠져나오도록 뒤로 이동시킨다. The
상기 헤드 유닛(500)의 액정 병(530)에 액정을 공급하는 것을 완료하면 상기 헤드 유닛(500)을 액정 적하 위치로 이동시킨다.When the liquid crystal is supplied to the
상기 액정 공급시스템의 액정 탱크에 남아있는 액정의 양이 감지 장치에 의해 감지되어 설정 양 이하가 되면 상기 액정 탱크(620)를, 액정이 채워진 새로운 액정 탱크로 교체한다. 상기 액정 탱크(620)에 잔류하는 액정이 설정된 양 이하가 될 경우 기포들이 액정 병(530)에 공급될 수 있다. When the amount of liquid crystal remaining in the liquid crystal tank of the liquid crystal supply system is detected by the sensing device to be less than the set amount, the
상기 액정 탱크(620)에 잔류하는 액정은 폐기된다. 따라서 고가인 액정이 낭비된다.The liquid crystal remaining in the
한편, 액정 공급시스템에 설치된, 액정이 채워진 액정 탱크의 액정에 기포들이 발생되어 있는 경우 액정 탱크의 액정을 액정 병(530)에 공급할 때 기포들이 유입된다.On the other hand, when bubbles are generated in the liquid crystal of the liquid crystal tank filled with the liquid crystal provided in the liquid crystal supply system, bubbles are introduced when the liquid crystal of the liquid crystal tank is supplied to the
본 발명의 목적은 액정 탱크들에 잔류하는 액정을 한 개의 액정 탱크에 모을 수 있을 뿐만 아니라 액정 탱크에 발생된 기포들을 제거하는 것이다.It is an object of the present invention to collect liquid crystals remaining in liquid crystal tanks in one liquid crystal tank as well as to remove bubbles generated in the liquid crystal tank.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 제1 튜브; 상기 제1 튜브에 장착되는 개폐 유닛; 상기 제1 튜브에 장착되는 제1 방향전환유닛; 상기 제1 방향전환유닛에 연결되는 제2 튜브; 상기 제1 방향전환유닛에 연결되는 제3 튜브; 상기 제3 튜브에 분지 형태로 연결되는 제4 튜브; 및 상기 제3 튜브와 제4 튜브에 연결되며, 제3 튜브에 흐르는 공기의 유속에 의해 상기 제4 튜브에 진공을 발생시키는 진공 발생기; 및 복수 개의 액정 탱크를 서로 연결하는 연결 튜브를 포함하는 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, the first tube; An opening / closing unit mounted to the first tube; A first turning unit mounted to the first tube; A second tube connected to the first redirection unit; A third tube connected to the first redirection unit; A fourth tube branched to the third tube; And a vacuum generator connected to the third tube and the fourth tube and generating a vacuum in the fourth tube by a flow rate of air flowing through the third tube. And a connecting tube for connecting the plurality of liquid crystal tanks to each other, the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank is provided.
상기 제2 튜브에 장착되는 압력 조절기가 장착되는 것이 바람직하다.It is preferable that the pressure regulator mounted on the second tube is mounted.
상기 제2 튜브에 필터 어셈블리가 장착되는 것이 바람직하다.Preferably, the filter assembly is mounted to the second tube.
상기 제3 튜브에 유량 조절기가 장착되는 것이 바람직하며, 상기 유량 조절기는 상기 제1 방향전환유닛과 진공 발생기 사이에 위치한다.Preferably, a flow regulator is mounted on the third tube, and the flow regulator is located between the first diverting unit and the vacuum generator.
상기 저장 용기와 진공 발생기 사이에 위치하도록 상기 제3 튜브에 제4 필터가 장착되는 것이 바람직하다.Preferably, a fourth filter is mounted to the third tube so as to be positioned between the reservoir and the vacuum generator.
상기 제2 튜브의 한쪽 끝부분이 제1 액정 탱크에 착탈 가능하게 삽입되며, 상기 제1 액정 탱크와 제2 액정 탱크를 연결하는 제1 연결 튜브가 구비되고, 상기 제3 튜브의 끝부분에 저장 용기가 착탈 가능하게 연결되며, 상기 진공 발생기와 상기 저장 용기의 사이에 위치하도록 상기 제3 튜브에 제2 방향전환유닛이 장착되며, 제2 연결 튜브의 한쪽이 상기 제2 액정 탱크에 착탈 가능하게 삽입되고 다른 한쪽이 상기 제2 방향전환유닛에 연결될 수 있다.One end of the second tube is removably inserted into the first liquid crystal tank, and a first connection tube connecting the first liquid crystal tank and the second liquid crystal tank is provided, and stored at the end of the third tube. The container is detachably connected, and a second turning unit is mounted on the third tube so as to be positioned between the vacuum generator and the storage container, and one side of the second connecting tube is detachably attached to the second liquid crystal tank. It can be inserted and the other side is connected to the second turning unit.
본 발명은 액정 탱크에 잔류하는 액정을 다른 액정 탱크에 모으고 그 모은 액정을 액정 공급시스템에서 액정 디스펜서의 액정 병에 공급할 수 있게 되므로 고가인 액정의 손실을 방지하게 된다. According to the present invention, the liquid crystal remaining in the liquid crystal tank is collected in another liquid crystal tank and the collected liquid crystal can be supplied to the liquid crystal bottle of the liquid crystal dispenser in the liquid crystal supply system, thereby preventing the loss of expensive liquid crystal.
또한, 액정이 채워져 있는 액정 탱크를 액정 공급시스템에 장착하기 전 액정 탱크의 액정에 형성된 기포들을 제거하게 되므로 액정 병에 액정을 공급시 액정 병에 기포들이 유입되는 것을 방지하게 된다. In addition, since the bubbles formed in the liquid crystal of the liquid crystal tank is removed before the liquid crystal tank filled with the liquid crystal in the liquid crystal supply system, bubbles are prevented from flowing into the liquid crystal bottle when the liquid crystal bottle is supplied to the liquid crystal bottle.
도 1은 액정 디스펜서와 액정 공급시스템을 개략적으로 도시한 측면도,
도 2는 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예를 도시한 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예를 도시한 배관도,
도 4는 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예를 구성하는 진공 발생기를 도시한 단면도,
도 5는 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예를 구성하는 제2 튜브의 다른 실시예를 도시한 배관도,
도 6은 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제2 실시예를 도시한 배관도,
도 7은 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제3 실시예를 도시한 배관도이다.1 is a side view schematically showing a liquid crystal dispenser and a liquid crystal supply system;
Figure 2 is a perspective view showing a first embodiment of the liquid crystal remaining liquid crystal bubble and bubble processing apparatus according to the present invention,
3 is a piping diagram showing a first embodiment of the remaining liquid crystal and bubble treatment apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention;
4 is a cross-sectional view showing a vacuum generator constituting the first embodiment of the residual liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention;
5 is a piping diagram showing another embodiment of the second tube constituting the first embodiment of the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention;
6 is a piping diagram showing a second embodiment of the remaining liquid crystal and bubble treatment apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention;
7 is a piping diagram showing a third embodiment of the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention.
이하, 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 실시예를 첨부도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the remaining liquid crystal and bubble treatment apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예를 도시한 사시도이다. 도 3은 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예를 도시한 배관도이다.Figure 2 is a perspective view showing a first embodiment of the liquid crystal remaining bubble and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention. 3 is a piping diagram showing a first embodiment of the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention.
도 2, 3에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예는 제1 튜브(10); 상기 제1 튜브(10)에 장착되는 개폐 유닛(V1); 상기 제1 튜브(10)에 장착되는 제1 방향전환유닛(V2); 상기 제1 방향전환유닛(V2)에 연결되는 제2 튜브(20); 상기 제2 튜브(20)에 장착되는 압력 조절기(레귤레이터)(R); 상기 제1 방향전환유닛(V2)에 연결되는 제3 튜브(30); 상기 제3 튜브(30)에 분지 형태로 연결되는 제4 튜브(40); 상기 제3 튜브(30)와 제4 튜브(40)에 연결되며, 제3 튜브(30)에 흐르는 공기의 유속에 의해 압력을 제4 튜브(40)에 진공 상태를 만드는 진공 발생기(P)를 포함한다.2 and 3, the first embodiment of the remaining liquid crystal and bubble treatment apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention comprises a first tube (10); An opening / closing unit (V1) mounted to the first tube (10); A first direction switching unit (V2) mounted to the first tube (10); A
상기 구성 부품들은 하우징(HS)의 내부 및 외부에 장착된다.The components are mounted inside and outside the housing HS.
상기 제1,2,3,4 튜브(10)(20)(30)(40)는 각각 금속 재질일 수 있고 또한 비금속 재질일 수 있다. 즉, 상기 제1,2,3,4 튜브(10)(20)(30)(40)는 각각 유연성이 없는 재질일 수 있고 또한 유연성이 있는 재질일 수 있다.The first, second, third, and
상기 제1 튜브(10)는 압축공기 공급장치(미도시)에 착탈 가능하게 연결되거나 상기 압축공기 공급장치에 연결되는 튜브에 착탈 가능하게 연결된다.The
상기 개폐 유닛(V1)은 상기 제1 튜브(10)로 압축 공기가 흐르게 하거나 흐르지 못하게 한다. 상기 개폐 유닛(V1)은 개폐 밸브인 것이 바람직하다. 상기 개폐 유닛(V1)을 열면 상기 제1 튜브(10)로 압축 공기가 흐르게 되고, 상기 개폐 유닛(V1)을 닫으면 상기 제1 튜브(10)로 압축 공기가 흐르지 않게 된다.The opening / closing unit V1 allows or does not allow compressed air to flow into the
상기 제1 방향전환유닛(V2)은 상기 제1 튜브(10)를 통해 흐르는 압축 공기를 제2 튜브(20)로 흐르게 하거나 제3 튜브(30)로 흐르게 한다. 상기 제1 방향전환유닛(V2)은 삼방 밸브인 것이 바람직하다. 상기 제1 튜브(10)의 한쪽 끝은 상기 제1 방향전환유닛(V2)에 연결되고, 상기 제2,3 튜브(20)(30)의 각 한쪽 끝이 각각 제1 방향전환유닛(V2)에 연결된다.The first redirection unit V2 causes the compressed air flowing through the
상기 압력 조절기(R)는 제2 튜브(20)를 통해 흐르는 압축 공기의 압력을 일정하게 유지시킬 뿐만 아니라 그 압력을 조절한다.The pressure regulator R not only maintains the pressure of the compressed air flowing through the
상기 제2 튜브(20)에 필터 어셈블리가 장착되는 것이 바람직하다. 상기 필터 어셈블리는 상기 제1 방향전환유닛(V2)과 압력 조절기(R) 사이에 위치하는 제1 필터(F1)와, 상기 제1 필터(F2)와 상기 압력 조절기(R) 사이에 위치하는 제2 필터(F2)와, 상기 압력 조절기(R) 다음에 위치하는 제3 필터(F3)를 포함한다. 상기 제1 필터(F1)는 제2 튜브(20)로 흐르는 압축 공기 중의 이물질을 여과한다. 상기 제2 필터(F2)는 압축 공기 중에 포함된 습기를 여과한다. 상기 제3 필터(F3)는 제1,2 필터(F1)(F2)를 거친 압축 공기 중에 남아있는 미세한 이물질을 여과하게 된다.It is preferable that the filter assembly is mounted to the
상기 진공 발생기(P)의 일예로, 도 4에 도시한 바와 같이, 한쪽 끝에서 가운데 부분으로 갈수록 내경이 점점 작아지고 그 가운데 부분에서 일정 길이로 내경이 일정하며 이어 다른 한쪽 끝으로 갈수록 내경이 점점 커지는 형상이다. 상기 진공 발생기(P)의 가운데에 외면과 내주면을 관통하는 결합구멍(1)이 구비된다. 상기 진공 발생기(P)의 양단에 각각 제3 튜브(30)가 연결된다. 상기 결합구멍(1)에 상기 제4 튜브(40)가 결합된다. 상기 진공 발생기(P) 내부로 압축 공기가 유동하게 되면 내경이 작은 가운데 부분에서 유속은 빨라지고 압력을 낮아지게 되면서 제4 튜브(40)에 진공을 발생시키게 된다.As an example of the vacuum generator (P), as shown in Figure 4, the inner diameter gradually decreases from one end to the middle portion, the inner diameter is constant at a certain length from the middle portion, and the inner diameter gradually increases toward the other end It is a shape that grows. A
상기 제4 튜브(40)의 한쪽 끝부분은 액정 탱크(C)에 착탈 가능하게 삽입된다.One end of the
상기 제3 튜브(30)에 유량 조절기(SC)가 장착되는 것이 바람직하며, 상기 유량 조절기(SC)는 상기 제1 방향전환유닛(V2)과 진공 발생기(P) 사이에 위치한다. 상기 유량 조절기(SC)는 제3 튜브(30)로 흐르는 압축 공기의 유량을 조절한다. 단위 시간당 제3 튜브(30)를 통해 흐르는 압축 공기의 유량을 증가시키면 제3 튜브(30)에 흐르는 압축 공기의 유속이 증가하게 된다. 상기 유량 조절기(SC)는 상기 진공 발생기(P) 쪽으로 흐르는 압축 공기의 유량을 조절하게 된다. Preferably, the third flow rate controller SC is mounted to the
상기 제3 튜브(30)의 한쪽 끝에 폐 가스가 모여지는 저장 용기(B)가 착탈 가능하게 결합되는 것이 바람직하다. 상기 저장 용기(B)에 배기 튜브(70)가 삽입된다.It is preferable that the storage container B in which waste gas is collected at one end of the
상기 저장 용기(B)와 진공 발생기(P) 사이에 위치하도록 상기 제3 튜브(30)에 제4 필터(F4)가 장착되는 것이 바람직하다. 상기 제4 필터(F4)는 습기를 제거하는 필터인 것이 바람직하다.The fourth filter F4 is preferably mounted on the
상기 제2 튜브(20)의 한쪽 끝부분이 제1 액정 탱크(C1)에 착탈 가능하게 삽입되며, 상기 제1 액정 탱크(C1)와 제2 액정 탱크(C2)를 연결하는 제1 연결 튜브(50)가 구비된다. 상기 제1 액정 탱크(C1)는 액정 공급시스템에서 교체된, 바닥에 소량의 액정이 잔류하는 액정 탱크이다. 상기 제2 액정 탱크(C2)는 제1 액정 탱크(C1)에 잔류하는 액정을 모으는 액정 탱크이다. 상기 제1 연결 튜브(50)의 한쪽 끝부분은 상기 제1 액정 탱크(C1)에 착탈 가능하게 삽입되고 다른 한쪽 끝부분은 상기 제2 액정 탱크(C2)에 착탈 가능하게 삽입된다. 상기 제1 연결 튜브(50)를 통해 상기 제1 액정 탱크(C1)에 잔류하는 액정이 제2 액정 탱크(C2)로 이동하게 된다.One end of the
상기 제2 액정 탱크(C2)에 제2 연결 튜브(60)의 한쪽 끝부분이 착탈 가능하게 삽입된다. 상기 제2 연결 튜브(60)는 상기 제2 액정 탱크(C2) 내부의 가스를 외부로 방출시킨다. 상기 제2 연결 튜브(60)의 다른 한쪽은 상기 저장 용기(B)에 연통되도록 상기 제3 튜브(30)에 연결된다. 상기 제2 연결 튜브(60)가 상기 제3 튜브(30)에 연결되는 부분은 상기 진공 발생기(P)와 제4 필터(F4) 사이이다. 상기 제2 연결 튜브(60)와 제3 튜브(30)는 제2 방향전환유닛(V3)에 의해 연결된다. 즉, 상기 제3 튜브(30)에 제2 방향전환유닛(V3)이 연결되고 상기 제2 방향전환유닛(V3)에 상기 제2 연결 튜브(60)가 연결된다. 상기 제2 방향전환유닛(V3)은 삼방 밸브인 것이 바람직하다.One end of the
상기 제2 연결 튜브(60)의 다른 한쪽 끝부분은 제3 튜브(30)에 연결되지 않고 대기 중에 노출될 수 있다.The other end of the second connecting
한편, 도 5에 도시한 바와 같이, 상기 제2 튜브(20)의 끝에 복수 개의 분지 튜브(90)가 연결될 수 있다. 상기 분지 튜브(90)가 두 개인 경우에 대하여 설명한다. 상기 제2 튜브(20)의 끝에 와이자 관(80)을 연결하고 그 와이자 관(80)에 분지 튜브(90)를 각각 연결한다. 상기 두 개의 분지 튜브(90)는 두 개의 제1 액정 탱크(C1)에 연결된다. 상기 두 개의 제1 액정 탱크(C1)에 각각 제1 연결 튜브(50)가 연결된다. 그 두 개의 제1 연결 튜브(50)는 한 개의 제2 액정 탱크(C2)에 연결된다. 이와 같은 경우 두 개의 제2 액정 탱크(C2)에 각각 잔류하는 액정을 동시에 제2 액정 탱크(C2)에 모을 수 있다. Meanwhile, as illustrated in FIG. 5, a plurality of
또한, 상기 제4 튜브의 경우에도 그 제4 튜브의 끝에 복수 개의 분지 튜브를 연결하고 그 복수 개의 분지 튜브들이 각각 액정이 채워진 액정 탱크에 삽입되면 복수 개의 액정 탱크에서 동시에 기포를 제거할 수 있다. In addition, even in the case of the fourth tube, when a plurality of branch tubes are connected to the ends of the fourth tube and the plurality of branch tubes are inserted into the liquid crystal tank filled with liquid crystals, bubbles may be simultaneously removed from the plurality of liquid crystal tanks.
이하, 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제1 실시예의 작용을 설명한다.Hereinafter, the operation of the first embodiment of the residual liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention will be described.
먼저, 액정 탱크의 잔류 액정을 다른 액정 탱크에 모을 경우에 대하여 설명한다. 액정이 잔류하는 액정 탱크를 제1 액정 탱크(C1)라 하고, 상기 제1 액정 탱크(C1)에 잔류하는 액정을 모으는 액정 탱크를 제2 액정 탱크(C2)라 한다. 상기 제2 튜브(20)의 끝부분을 제1 액정 탱크(C1)의 내부에 삽입한다. 상기 제1 연결 튜브(50)의 한쪽을 제1 액정 탱크(C1)에 삽입하고 제1 연결 튜브(50)의 다른 한쪽을 제2 액정 탱크(C2)에 삽입한다. 상기 제1 액정 탱크(C1)에 삽입된 제1 연결 튜브(50)의 끝면은 잔류 액정에 잠기도록 삽입한다. 상기 제2 액정 탱크(C2)에 제2 연결 튜브(60)의 한쪽 끝부분을 삽입한다.First, the case where the residual liquid crystal of a liquid crystal tank is collected in another liquid crystal tank is demonstrated. The liquid crystal tank in which the liquid crystal remains is called a first liquid crystal tank C1, and the liquid crystal tank which collects the liquid crystal remaining in the first liquid crystal tank C1 is called a second liquid crystal tank C2. The end of the
상기 제1 튜브(10)와 제2 튜브(20)가 연통되도록 상기 제1 방향전환유닛(V2)을 조절한다. 그리고 제2 연결 튜브(60)가 상기 제3 튜브(30)와 연결된 경우 제2 연결 튜브(60)가 상기 저장 용기(B)에 연통되도록 제2 방향전환유닛(V3)을 조절한다.The first direction switching unit V2 is adjusted such that the
상기 개폐 유닛(V1)을 오픈하여 압축 공기가 제1 튜브(10)를 통해 제2 튜브(20)로 흐르게 한다.The opening / closing unit V1 is opened to allow compressed air to flow through the
상기 제2 튜브(20)로 흐르는 압축 공기는 제1,2 필터(F1)(F2)를 거치면서 이물질과 습기가 여과되고 압력 조절기(R)를 거치면서 설정된 압력으로 유지된다. 상기 압력 조절기(R)를 거친 압축 공기는 제3 필터(F3)를 거치면서 압축 공기에 포함된 미세한 이물질이 제거되어 제1 액정 탱크(C1) 내부로 유입되어 제1 액정 탱크(C1)의 내부에 잔류하는 액정을 가압하게 된다. 압축 공기가 제1 액정 탱크(C1) 내부에 잔류하는 액정을 가압함에 따라 그 잔류 액정이 제1 연결 튜브(50)를 통해 제2 액정 탱크(C2)로 유입된다. The compressed air flowing into the
상기 제1 액정 탱크(C1)에 잔류하는 액정이 제2 액정 탱크(C2)로 유입됨에 따라 제2 액정 탱크(C2) 내부의 가스가 제2 연결 튜브(60)를 통해 저장 용기(B)로 유입된다. 상기 저장 용기(B)로 유입되는 가스는 배기 튜브(70)를 통해 외부로 배출된다. As the liquid crystal remaining in the first liquid crystal tank C1 flows into the second liquid crystal tank C2, gas inside the second liquid crystal tank C2 flows into the storage container B through the
상기 제1 액정 탱크(C1)에 잔류하는 액정이 모두 제2 액정 탱크(C2)로 이동되면 상기 개폐 유닛(V1)을 조작하여 제1 튜브(10)로 유입되는 압축 공기를 차단시키게 된다.When all of the liquid crystal remaining in the first liquid crystal tank C1 is moved to the second liquid crystal tank C2, the compressed air flowing into the
상기 제2 액정 탱크(C2)에 설정된 양의 액정이 채워지게 되면 액정 공급시스템에 장착되어 액정 병에 액정을 공급할 수 있다.When the amount of liquid crystal set in the second liquid crystal tank C2 is filled, the liquid crystal may be mounted in the liquid crystal supply system to supply liquid crystal to the liquid crystal bottle.
상기 액정 공급시스템에 장착될, 액정이 채워진 액정 탱크(C)에서 액정의 기포들을 제거할 경우, 제1 튜브(10)와 제3 튜브(30)가 연통되도록 제1 방향전환유닛(V2)을 조절하고, 제3 튜브(30)와 저장 용기(B)가 연통되도록 제2 방향전환유닛(V3)을 조절한다. 그리고 상기 제4 튜브(40)의 한쪽 끝부분을 액정이 채워진 액정 탱크(C)에 착탈 가능하게 삽입한다. 이때 제4 튜브(40)의 끝이 액정 탱크(C)의 액정에 잠기지 않게 한다.When the bubbles of the liquid crystal are removed from the liquid crystal tank C filled with the liquid crystal to be mounted on the liquid crystal supply system, the first direction switching unit V2 is connected so that the
상기 개폐 유닛(V1)을 오픈하여 압축 공기가 제1 튜브(10)를 통해 제3 튜브(30)로 흐르게 한다. 상기 제3 튜브(30)로 흐르는 압축 공기가 진공 발생기(P)를 거치면서 제4 튜브(40) 및 액정 탱크(C)의 내부가 진공 상태가 된다. 상기 액정 탱크(C)의 내부가 진공 상태가 됨에 따라 액정 내부에 형성된 기포들이 액정 표면으로 올라오면서 터지게 된다. 이로 인하여 액정 내부에 형성된 기포들이 제거된다. 상기 액정 탱크(C)의 액정에서 제거된 기포들은 제4 튜브(40)를 따라 유동하면서 압축 공기와 함께 저장 용기(B)를 거쳐 배기 튜브(70)를 통해 배기된다. 상기 제3 튜브(30)에 장착된 유량 조절기(SC)로 진공 발생기(P) 쪽으로 유동하는 압축 공기의 유량을 조절함에 따라 상기 액정 탱크(C)의 진공압을 조절하게 된다. 상기 액정 탱크(C) 내부의 기포들이 제거되면 상기 개폐 유닛(V1)을 닫는다. The opening / closing unit V1 is opened to allow compressed air to flow through the
도 6은 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제2 실시예를 도시한 것이다. Figure 6 shows a second embodiment of the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention.
도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제2 실시예는 압축공기 공급장치(미도시)에 한쪽이 연결되고 다른 한쪽이 저장 용기(B)에 착탈 가능하게 삽입되는 제2 튜브(20); 상기 제2 튜브(20)에 장착되는 개폐 유닛(V1); 상기 제1 액정 탱크(C1)와 제2 액정 탱크(C2)를 연결하는 제1 연결 튜브(50)를 포함한다.As shown in FIG. 6, in the second embodiment of the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention, one side is connected to a compressed air supply device (not shown), and the other side is detachable from the storage container B. FIG. A
상기 제2 튜브(20)는 압축공기 공급장치에 착탈 가능하게 연결된다. 또한 상기 제2 튜브(20)는 상기 압축공기 공급장치에 연결되는 튜브에 착탈 가능하게 연결될 수 있다.The
상기 개폐 유닛(V1)과 제1 액정 탱크(C1) 사이에 위치하도록 상기 제2 튜브(20)에 압력 조절기(R)가 장착됨이 바람직하다.Preferably, a pressure regulator R is mounted on the
상기 제2 튜브(20)에 필터 어셈블리가 장착됨이 바람직하다. 상기 필터 어셈블리는 상기 개폐 유닛(V1)과 압력 조절기(R) 사이에 위치하는 제1 필터(F1)와, 상기 제1 필터(F1)와 상기 압력 조절기(R) 사이에 위치하는 제2 필터(F2)와, 상기 압력 조절기(R) 다음에 위치하는 제3 필터(F3)를 포함한다. 상기 제1 필터(F1)는 제2 튜브(20)로 흐르는 압축 공기 중의 이물질을 여과한다. 상기 제2 필터(F2)는 압축 공기 중에 포함된 습기를 여과한다. 상기 제3 필터(F3)는 제1,2 필터(F1)(F2)를 거친 압축 공기 중에 남아있는 미세한 이물질을 여과하게 된다.Preferably, the filter assembly is mounted to the
상기 제2 액정 탱크(C2)에 내부의 가스가 외부로 배출되는 제2 연결 튜브(60)가 착탈 가능하게 삽입된다.The
본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류 액정 및 기포 처리장치의 제2 실시예의 작용을 설명한다.The operation of the second embodiment of the residual liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention will be described.
상기 제1 액정 탱크(C1)가 액정이 잔류하는 액정 탱크이고, 제2 액정 탱크(C2)가 잔류 액정을 모으는 액정 탱크이다.The said 1st liquid crystal tank C1 is a liquid crystal tank in which a liquid crystal remains, and the 2nd liquid crystal tank C2 is a liquid crystal tank which collects a residual liquid crystal.
상기 제1 액정 탱크(C1)에 삽입된 제1 연결 튜브(50)의 끝면은 잔류 액정에 잠기도록 삽입한다. An end surface of the
상기 개폐 유닛(V1)을 오픈하여 압축 공기가 제2 튜브(20)로 흐르게 한다.The opening / closing unit V1 is opened to allow compressed air to flow to the
상기 제2 튜브(20)로 흐르는 압축 공기는 제1,2 필터(F1)(F2)를 거치면서 이물질과 습기가 여과되고 압력 조절기(R)를 거치면서 설정된 압력으로 유지된다. 상기 압력 조절기(R)를 거친 압축 공기는 제3 필터(F3)를 거치면서 압축 공기에 포함된 미세한 이물질이 제거되어 제1 액정 탱크(C1) 내부로 유입되어 제1 액정 탱크(C1)의 내부에 잔류하는 액정을 가압하게 된다. 압축 공기가 제1 액정 탱크(C1) 내부에 잔류하는 액정을 가압함에 따라 그 잔류 액정이 제1 연결 튜브(50)를 통해 제2 액정 탱크(C2)로 유입된다. The compressed air flowing into the
상기 제1 액정 탱크(C1)에 잔류하는 액정이 제2 액정 탱크(C2)로 유입됨에 따라 제2 액정 탱크(C2) 내부의 가스가 제2 연결 튜브(60)를 통해 외부로 배출된다.As the liquid crystal remaining in the first liquid crystal tank C1 flows into the second liquid crystal tank C2, the gas inside the second liquid crystal tank C2 is discharged to the outside through the
상기 제1 액정 탱크(C1)에 잔류하는 액정이 모두 제2 액정 탱크(C2)로 이동되면 상기 개폐 유닛(V1)을 닫는다.When all of the liquid crystal remaining in the first liquid crystal tank C1 is moved to the second liquid crystal tank C2, the opening / closing unit V1 is closed.
상기 제2 액정 탱크(C2)에 설정된 양의 액정이 모아지면 액정 공급시스템에 장착되어 액정 병에 액정을 공급할 수 있다.When the amount of liquid crystal set in the second liquid crystal tank C2 is collected, the liquid crystal may be mounted in the liquid crystal supply system to supply liquid crystal to the liquid crystal bottle.
한편, 도 5에 도시한 바와 같이, 상기 제2 튜브(20)의 끝에 복수 개의 분지 튜브(90)가 연결될 수 있다. 상기 분지 튜브(90)가 두 개인 경우에 대하여 설명한다. 상기 제2 튜브(20)의 끝에 와이자 관(80)을 연결하고 그 와이자 관(80)에 분지 튜브(90)를 각각 연결한다. 상기 두 개의 분지 튜브(90)는 두 개의 제1 액정 탱크(C1)에 연결된다. 상기 두 개의 제1 액정 탱크(C1)에 각각 제1 연결 튜브(50)가 연결된다. 그 두 개의 제1 연결 튜브(50)는 한 개의 제2 액정 탱크(C2)에 연결된다. 이와 같은 경우 두 개의 제2 액정 탱크(C2)에 각각 잔류하는 액정을 동시에 제2 액정 탱크(C2)에 모을 수 있다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 5, a plurality of
도 7은 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제3 실시예를 도시한 것이다. Figure 7 shows a third embodiment of the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention.
도 7에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치의 제3 실시예는 압축공기 공급장치(미도시)에 한쪽이 연결되고 다른 한쪽이 저장 용기(B)에 착탈 가능하게 삽입되는 제3 튜브(30); 상기 제3 튜브(30)에 장착되는 개폐 유닛(V1); 상기 개폐 유닛(V1)과 저장 용기(B) 사이의 위치에서 상기 제3 튜브(30)에 분지 형태로 연결되는 제4 튜브(40); 상기 제3 튜브(30)와 제4 튜브(40)에 연결되며, 제3 튜브(30)에 흐르는 공기의 유속에 의해 압력을 제4 튜브(40)에 진공 상태를 만드는 진공 발생기(P)를 포함한다.As shown in Fig. 7, the third embodiment of the remaining liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention, one side is connected to the compressed air supply device (not shown), and the other side is detachable from the storage container (B). A
상기 제3 튜브(30)는 압축공기 공급장치에 착탈 가능하게 연결된다. 또한 상기 제3 튜브(30)는 상기 압축공기 공급장치에 연결되는 튜브에 착탈 가능하게 연결될 수 있다.The
상기 진공 발생기(P)와 개폐 유닛(V1) 사이에 위치하도록 상기 제3 튜브(30)에 유량 조절기(SC)가 장착됨이 바람직하다.Preferably, the flow regulator SC is mounted on the
상기 진공 발생기(P)에 이어 상기 제3 튜브(30)에 제4 필터(F4)가 장착됨이 바람직하다.It is preferable that the fourth filter F4 is mounted on the
상기 저장 용기(B)에 배기 튜브(70)가 착탈 가능하게 삽입된다.The
본 발명에 따른 액정 탱크의 잔류 액정 및 기포 처리장치의 제3 실시예의 작용을 설명한다.The operation of the third embodiment of the residual liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank according to the present invention will be described.
상기 제4 튜브(40)의 한쪽 끝부분을 액정이 채워진 액정 탱크(C)에 착탈 가능하게 삽입한다. 이때 제4 튜브(40)의 끝이 액정 탱크(C)의 액정에 잠기지 않게 한다.One end of the
상기 개폐 유닛(V1)을 오픈하여 압축 공기가 제3 튜브(30)로 흐르게 한다. 상기 제3 튜브(30)로 흐르는 압축 공기가 진공 발생기(P)를 거치면서 제4 튜브(40) 및 액정 탱크(C)의 내부가 진공 상태가 된다. 상기 액정 탱크(C)의 내부가 진공 상태가 됨에 따라 액정 내부에 형성된 기포들이 액정 표면으로 올라오면서 터지게 된다. 이로 인하여, 액정 내부에 형성된 기포들이 제거된다. 상기 액정 탱크(C)의 액정에서 제거된 기포들은 제4 튜브(40)를 따라 유동하면서 압축 공기와 함께 저장 용기(B)를 거쳐 배기 튜브(70)를 통해 배기된다. 상기 제3 튜브(30)에 장착된 유량 조절기(SC)로 진공 발생기(P) 쪽으로 유동하는 압축 공기의 유량을 조절함에 따라 상기 액정 탱크(C)의 진공압을 조절하게 된다. The open / close unit V1 is opened to allow compressed air to flow to the
상기 액정 탱크(C) 내부의 기포들이 제거되면 상기 개폐 밸브(V1)를 닫는다.When the bubbles inside the liquid crystal tank C are removed, the open / close valve V1 is closed.
한편, 상기 제4 튜브(40)의 끝에 복수 개의 분지 튜브를 연결하고 그 복수 개의 분지 튜브들이 각각 액정이 채워진 액정 탱크(C)에 삽입되면 복수 개의 액정 탱크(C)에서 동시에 기포를 제거할 수 있다.Meanwhile, when a plurality of branch tubes are connected to the ends of the
기포들이 제거된 액정 탱크(C)는 액정 공급시스템에 장착된다.The liquid crystal tank C from which bubbles are removed is mounted in the liquid crystal supply system.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 액정 탱크에 잔류하는 액정을 다른 액정 탱크에 모으고 그 모은 액정을 액정 공급시스템에서 액정 디스펜서의 액정 병에 공급할 수 있게 되므로 고가인 액정의 손실을 방지하게 된다.As described above, the present invention collects the liquid crystal remaining in the liquid crystal tank in another liquid crystal tank, and the collected liquid crystal can be supplied to the liquid crystal bottle of the liquid crystal dispenser in the liquid crystal supply system, thereby preventing the loss of expensive liquid crystal.
또한, 액정이 채워져 있는 액정 탱크를 액정 공급시스템에 장착하기 전 액정 탱크의 액정에 형성된 기포들을 제거하게 되므로 액정 병에 액정을 공급시 액정 병에 기포들이 유입되는 것을 방지하게 된다. In addition, since the bubbles formed in the liquid crystal of the liquid crystal tank is removed before the liquid crystal tank filled with the liquid crystal in the liquid crystal supply system, bubbles are prevented from flowing into the liquid crystal bottle when the liquid crystal bottle is supplied to the liquid crystal bottle.
10; 제1 튜브 20; 제2 튜브
30; 제3 튜브 40; 제4 튜브
V1; 개폐 유닛 V2; 제1 방향전환유닛
V3; 제 방향전환유닛 P; 진공 발생기
R; 압력 조절기 SC; 유량 조절기10;
30;
V1; Opening and closing unit V2; 1st direction change unit
V3; First redirection unit P; Vacuum generator
R; Pressure regulator SC; Flow regulator
Claims (15)
상기 제1 튜브에 장착되는 개폐 유닛;
상기 제1 튜브에 장착되는 제1 방향전환유닛;
상기 제1 방향전환유닛에 연결되는 제2 튜브;
상기 제1 방향전환유닛에 연결되는 제3 튜브;
상기 제3 튜브에 분지 형태로 연결되는 제4 튜브;
상기 제3 튜브와 제4 튜브에 연결되며, 제3 튜브에 흐르는 공기의 유속에 의해 상기 제4 튜브에 진공을 발생시키는 진공 발생기; 및
복수 개의 액정 탱크를 서로 연결하는 연결 튜브를 포함하는 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치.A first tube;
An opening / closing unit mounted to the first tube;
A first turning unit mounted to the first tube;
A second tube connected to the first redirection unit;
A third tube connected to the first redirection unit;
A fourth tube branched to the third tube;
A vacuum generator connected to the third tube and the fourth tube and generating a vacuum in the fourth tube by a flow rate of air flowing through the third tube; And
Residual liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank comprising a connection tube for connecting a plurality of liquid crystal tank to each other.
상기 제2 튜브에 장착되는 개폐 유닛;
상기 제1 액정 탱크와 제2 액정 탱크를 연결하는 제1 연결 튜브를 포함하는 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치.A second tube, one of which is connected to the compressed air supply device and the other of which is detachably inserted into the first liquid crystal tank;
An opening / closing unit mounted to the second tube;
Residual liquid crystal and bubble processing apparatus of the liquid crystal tank comprising a first connection tube connecting the first liquid crystal tank and the second liquid crystal tank.
상기 제3 튜브에 장착되는 개폐 유닛;
상기 개폐 유닛과 저장 용기 사이의 위치에서 상기 제3 튜브에 분지 형태로 연결되는 제4 튜브;
상기 제3 튜브와 제4 튜브에 연결되며, 제3 튜브에 흐르는 공기의 유속에 의해 제4 튜브에 진공을 발생시키는 진공 발생기를 포함하는 액정 탱크의 잔류액정 및 기포 처리장치.A third tube, one of which is connected to the compressed air supply device and the other of which is detachably inserted into the storage container;
An opening / closing unit mounted to the third tube;
A fourth tube branched to the third tube at a position between the opening and closing unit and the storage container;
And a vacuum generator connected to the third tube and the fourth tube, the vacuum generator generating a vacuum in the fourth tube by a flow rate of air flowing through the third tube.
The liquid crystal tank residual liquid crystal and bubble processing apparatus according to claim 14, wherein a flow regulator is mounted on the third tube so as to be located between the vacuum generator and the opening / closing unit.
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