KR20110113043A - 서셉터 및 그것을 구비한 종형 기판 처리 설비 - Google Patents

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KR20110113043A
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Abstract

본 발명은 종형 기판처리 설비에 관한 것으로, 내부에 반응공간을 형성하도록 하부가 개방된 개구부를 갖는 공정 튜브; 상기 공정튜브의 개구부를 개폐할 수 있도록 작동하는 시일캡; 상기 시일캡에 설치되는 보우트; 상기 보우트의 중앙에 수직하게 위치되도록 상기 시일캡에 설치되는 노즐 유닛; 및 상기 보우트에 적재되는 그리고 상기 노즐 유닛을 중심으로 방사상으로 기판이 위치되도록 기판이 놓여지는 스테이지들을 갖는 서셉터를 포함한다.

Description

서셉터 및 그것을 구비한 종형 기판 처리 설비{SUSCEPTOR AND VERTICAL SUBSTRATES TREATMENT EQUIPMENT WITH THE SAME}
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 서셉터 및 그것을 구비한 종형 기판처리 설비에 관한 것이다.
최근 반도체 장치(devies)의 제조 기술은 소비자의 다양한 욕구를 충족시키기 위해 집적도, 신뢰도, 응답속도 등을 향상시키는 방향으로 발전하고 있다. 일반적으로, 반도체 장치는 실리콘 웨이퍼 상에 산화공정, 증착 공정, 확산 공정, 사진 및 식각 공정 등을 수행하여 전기적 특성을 갖는 패턴을 형성함으로서 제조된다.
반도체 장치의 제조 과정에서, 산화공정, 저압 화학 기상 증착 공정 및 확산 공정은 통상적으로 종형의 기판처리 설비에서 이루어진다. 구체적으로, 종형의 기판처리 설비는 히터 블록이 구비되고 히터 블록 내부에 석영으로 이루어지는 아우트 튜브 및 이너 튜브로 구성된다. 또한, 이너 튜브 내에는 웨이퍼들을 적재하기 위한 보트가 구비되며, 상기 보트에 적재된 다수매의 웨이퍼는 한꺼번에 공정 공간, 즉 공정 챔버에 투입되어 증착 또는 확산 공정이 수행된다.
그런데, 종래의 종형의 기판처리 설비는 공정가스를 보트에 놓여진 기판들로 공급하기 위해 공정 튜브 측면에 노즐을 설치하여 사용하고 있으나, 이러한 노즐은 공정 튜브를 감싸고 있는 히터와 매우 가깝게 위치하기 때문에 히터의 열로부터 자유롭지 못하며, 노즐의 온도 상승은 노즐 내부를 경유하는 공정가스에 약영향을 끼치게 된다.
본 발명의 목적은 오존 가스 등 열에 취약한 가스의 안정적인 공급 및 분사가 가능한 서셉터 및 그것을 구비한 종형 기판처리 설비를 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 목적은 기판의 로딩/언로딩 시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있는 서셉터 및 그것을 구비한 종형 기판처리 설비를 제공하는데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 서셉터(susceptor)는 동일평면상에 기판이 놓여지는 스테이지들을 갖는 원판 형상의 베이스를 포함하되; 상기 베이스에는 상기 스테이지들에 놓여진 기판들을 향해 공정가스를 분사하기 위한 노즐 유닛이 위치할 수 있도록 일부가 절개된 노즐 장착홈이 형성된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 장착홈은 상기 베이스 중심에서 상기 베이스의 반경 방향을 따라 상기 베이스의 외주면까지 연장되도록 제공된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 스테이지들은 상기 베이스의 중심으로 동심원상에 등간격으로 배치된다.
상기한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 종형 기판처리 설비는 하단이 개방된 공정 튜브; 상기 공정 튜브 외곽에 배치되며, 상기 공정 튜브를 가열하는 히터 어셈블리; 엘리베이터 유닛에 의해 상기 공정 튜브의 개방된 하단에 결합되는 시일 캡; 상기 시일 캡 상에 설치되고 상기 공정 튜브 내측으로 로딩되는 보우트; 상기 보우트에 적재되며, 동일평면상에 기판이 놓여지는 스테이지들을 갖는 서셉터; 및 상기 시일 캡 상에 설치되며 상기 보우트에 적재되는 서셉터들 각각의 스테이지들에 놓여진 기판들로 공정가스를 분사하는 노즐 유닛을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 유닛은 상기 보우트의 중앙에 수직하게 위치되며, 상기 서셉터는 상기 스테이지들이 동일평면상에 제공되는 원판형상의 베이스를 포함하며, 상기 베이스에는 상기 노즐 유닛이 위치할 수 있도록 일부가 절개된 노즐 장착홈이 형성된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 스테이지들은 상기 베이스의 중심으로 동심원상에 등간격으로 배치된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 스테이지들은 상기 노즐 유닛을 중심으로 방사상으로 배치된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 유닛은 상기 베이스의 스테이지들 각각으로 공정가스가 균일하게 분사되도록 회전된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 유닛은 서로 다른 공정 가스를 분사하기 위한 적어도 2개의 분사부들을 포함하는 몸체; 및 상기 몸체 내부에 위치되며, 상기 분사부들이 가열되지 않도록 상기 몸체를 냉각하는 냉각부재를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 유닛은 외부관; 상기 외부관 내측에 설치되는 내부관; 상기 외부관과 상기 내부관 사이에 제공되는 환형의 공간에 서로 다른 공정가스가 제공되도록 상기 환형의 공간을 구획하는 수직한 격벽들; 상기 수직한 격벽들에 의해 구획된 공간들로 제공된 공정가스가 상기 보우트의 기판들 각각으로 분사되도록 상기 외부관에 형성되는 분사구들; 및 상기 내부관의 내측에 설치되며 공정가스가 외부 환경에 의해 가열되는 것을 방지하기 위한 냉각부재를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 종형 기판처리 설비는 상기 시일캡에 설치되어 상기 노즐 유닛을 회전시키는 노즐 회전부재를 더 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 종형 기판처리 설비는 상기 노즐 유닛으로부터 분사되는 공정가스가 기판상에 균일하게 제공되도록 상기 보우트를 회전시키는 보우트 회전부재를 더 포함한다.
상기한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 종형 기판처리 설비는 내부에 반응공간을 형성하도록 하부가 개방된 개구부를 갖는 공정 튜브; 상기 공정튜브의 개구부를 개폐할 수 있도록 작동하는 시일캡; 상기 시일캡에 설치되는 보우트; 상기 보우트의 중앙에 수직하게 위치되도록 상기 시일캡에 설치되는 노즐 유닛; 및 상기 보우트에 적재되는 그리고 상기 노즐 유닛을 중심으로 방사상으로 기판이 위치되도록 기판이 놓여지는 스테이지들을 갖는 서셉터를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 서셉터는 상기 스테이지들이 동일 평면상에 제공되는 원판 형상의 베이스를 포함하되; 상기 베이스에는 상기 시일캡에 설치된 상기 노즐 유닛이 위치할 수 있도록 일부가 절개된 노즐 장착홈이 형성된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 유닛은 상기 스테이지들 각각의 기판들로 공정가스를 분사하는 분사부들을 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 분사부들은 상기 스테이지들의 등간격과 동일하게 배치된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 시일캡에 설치되어 상기 노즐 유닛을 회전시키는 노즐 회전부재를 더 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 유닛은 외부관; 상기 외부관 내측에 설치되는 내부관; 상기 외부관과 상기 내부관 사이에 제공되는 환형의 공간에 서로 다른 공정가스가 제공되도록 상기 환형의 공간을 구획하는 수직한 격벽들; 상기 수직한 격벽들에 의해 구획된 공간들로 제공된 공정가스가 상기 보우트의 기판들 각각으로 분사되도록 상기 외부관에 형성되는 분사구들; 및 상기 내부관의 내측에 설치되며 공정가스가 외부 환경에 의해 가열되는 것을 방지하기 위한 냉각부재를 포함한다.
이와 같은 본 발명은 기판들이 동일 평면상에 놓여지는 스테이지들을 갖는 서셉터를 이용함으로써, 별도의 공간(로드락 챔버)에서 서셉터의 스테이지들에 기판을 로딩/언로딩이 가능하다.
또한, 본 발명은 복수개의 스테이지를 갖는 서셉터들이 보우트에 적재됨으로써, 한번 공정을 진행할 때 많은 수량의 기판들을 처리할 수 있다. 예를 들어 한장의 서셉터에 4장의 기판이 놓여지는 스테이지를 구비하고 있는 경우 한번 공정을 진행할 때 그 생산성을 4배로 높일 수 있다. 따라서, 본 발명은 종래에 비하여 생산성을 크게 향상시킬 수 있어 생산 물량을 고객이 요구하는 납기에 보다 손쉽게 맞출 수 있다.
또한, 본 발명은 원자층 증착 공정 등을 효율적으로 진행할 수 있게 되어, 신뢰성 있는 반도체 장치의 단위시간 당 처리량을 증가시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 노즐 유닛의 온도 상승을 억제하여 공정가스가 기판에 도달하기 전에 열분해되는 것을 예방함으로써 기판에 형성되는 박막의 품질을 향상시킬 수 있다.
도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 실시예에 따른 종형 기판처리 설비의 개략적인 구성을 보여주는 도면들이다.
도 2a 및 도 2b는 도 1a에 도시된 서셉터와 시일캡을 보여주는 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시된 서셉터의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 종형 기판처리 설비의 개략적인 구성을 보여주는 평단면도이다.
도 5는 도 1c에 표시된 점선 부분의 요부확대도이다.
도 6은 노즐 유닛의 요부 확대 사시도이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 1a 내지 도 6을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다. 상기 도면들에 있어서 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호가 병기되어 있다.
도 1a은 서셉터가 반송장치에 의해 운반중인 상태의 종형 기판처리 설비를 보여주는 도면이고, 도 1b는 서셉터들이 시일캡에 놓여진 보우트에 적재된 상태의 종형 기판처리 설비를 보여주는 도면이며, 도 1c는 시일캡이 엘리베이터 유닛에 의해 이동하여 서셉터들이 적재된 보우트가 공정 튜브에 위치한 상태의 종형 기판처리 설비를 보여주는 도면이다.
도 1a 내지 도 1c에 도시된 바와 같이, 본 발명의 종형 기판처리 설비(1)는 공정 튜브(100), 히터 어셈블리(300), 시일 캡(210), 보우트(800), 노즐 유닛(400), 서셉터(500)들을 포함한다.
-공정 튜브-
공정 튜브(100)는 돔 형상의 원통관 형상으로 하부가 개방된 개구부를 갖는다. 공정 튜브(100)는 서셉터(500)들이 적재된 보우트(800)가 로딩되어 서셉터(500)들 각각에 놓여진 웨이퍼들 상에 화학 기상 증착(박막 증착 공정, 확산 공정, 산화공정 등)이 진행되는 내부 공간을 제공한다. 공정 튜브(100)는 높은 온도에서 견딜 수 있는 재질, 예컨대 석영으로 제작될 수 있다. 공정 튜브(100)는 하단부 일측에 공정 튜브(100) 내부를 감압시키기 위해 내부 공기를 강제 흡입하여 배기하기 위한 배기 포트(120)가 마련된다.
배기 포트(120)는 공정시 공정 튜브(100) 내 공기 및 미반응가스 그리고 반응부산물 등을 외부로 배출시키기 위해 제공된다. 배기 포트(120)는 배기라인과 연결되며, 배기 포트(120)를 통해 공정 튜브(100)로 공급되는 공정 가스의 배기 및 내부 감압이 이루어진다.
-히터 어셈블리-
히터 어셈블리(300)는 공정 튜브(100)의 바깥둘레에 배치된다. 도시하지 않았지만, 히터 어셈블리(300)는 공정튜브(100)를 가열하는 히터와, 히터로부터 발생되는 열이 외부로 방출되는 것을 차단하도록 히터 외곽에 설치되는 단열부재를 포함한다.
도 2a 및 도 2b는 도 1a에 도시된 서셉터와 시일캡을 보여주는 사시도이다.
- 시일 캡-
도 1c 내지 도 2b를 참조하면, 시일 캡(210)은 엘리베이터 장치인 구동부(230)에 의해 공정 튜브(100)의 개구부를 개폐할 수 있도록 이동된다. 시일 캡(210)의 상승 동작에 의해 시일 캡(210)에 놓여지는 보우트(800)가 공정 튜브(100) 안으로 로딩되며, 시일 캡(210)의 하강 동작에 의해 시일 캡(210)에 놓여진 보우트(800)가 공정 튜브(100) 밖으로 언로딩된다. 보우트(800)가 공정 튜브(100)에 로딩되면, 시일캡(210)은 공정 튜브(100)의 플랜지(130)와 결합된다.
한편, 공정 튜브(100)의 플랜지(130)와 시일 캡(210)이 접촉하는 부분에는 실링(sealing)을 위한 오-링(O-ring)과 같은 밀폐부재가 제공되어 공정가스가 공정 튜브(100)와 시일 캡(210) 사이에서 새어나가지 않도록 한다.
도 3은 도 2a에 도시된 서셉터를 보여주는 사시도이다.
-서셉터-
도 3에 도시된 바와 같이, 서셉터(500)는 보우트(800) 내에서 기판들을 지지하기 위한 것으로, 원판 형상의 베이스(502)를 갖으며, 베이스(502) 상면에는 동일 평면상에 4개의 스테이지(510a,510b,510c,510d)가 제공된다. 스테이지(510a,510b,510c,510d) 각각에는 기판(S)이 놓여지게 되며, 스테이지는 기판의 로딩/언로딩 작업을 위해 중앙에 넓은 개구(512)가 형성되어 있다. 도시하지 않았지만, 기판의 로딩/언로딩은 별도의 장치에서 이루어지게 된다. 베이스(502)에 설치되는 스테이지의 개수는 2개, 3개 또는 5개 등으로 변경될 수 있다.
베이스(502)에는 스테이지(510a,510b,510c,510d)들을 향해 공정가스를 분사하기 위한 노즐 유닛(400)이 위치할 수 있도록 일부가 절개된 노즐 장착홈(504)이 형성되어 있다. 노즐 장착홈(504)은 베이스 중심에서 베이스의 반경 방향을 따라 베이스의 외주면까지 연장되도록 제공된다.
도시하지 않았지만, 서셉터(500)는 공정 튜브(100)와 시일캡(210) 등이 위치하는 공정챔버(미도시됨)와 인접한 로드락 챔버에서 대기하게 되며, 기판수납용기(일명 카세트)에 수납되어 있는 기판들은 기판반송장치(미도시됨)에 의해 로드락 챔버에서 대기하는 서셉터(500)의 스테이지(510a,510b,510c,510d)들에 놓여지게 된다. 기판들이 놓여진 스테이지(510a,510b,510c,510d)들을 갖는 서셉터(500)는 기판 반송 장치와 동일한 반송장치(600)에 의해 운반되어 공정 튜브(100) 아래에서 대기하는 보우트(800)에 적재된다. 공정 처리가 완료된 기판들은 스테이지(510a~510d)들에 놓여진 상태에서 서셉터 반송에 의해 로드락 챔버로 옮겨지며, 보우트(800)에는 로드락 챔버에서 대기하는 또 다른 서셉터들이 적재된다. 이처럼, 본 발명에서는 반송장치(600)의 1회 반송에 의해 4장의 기판이 놓여진 서셉터가 보우트에 적재됨으로써 기존의 종형 기판처리 설비에서 기판 한장씩 반송하는 것에 비해 시간을 단축할 수 있다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 종형 기판처리 설비의 개략적인 구성을 보여주는 평단면도이다. 도 5는 도 1c에 표시된 점선 부분의 요부확대도이다. 도 6은 노즐 유닛의 요부 확대 사시도이다.
-노즐 유닛-
도 4 내지 도 6을 참조하면, 노즐 유닛(400)은 보우트의 중앙에 수직(공정 튜브 내부의 중앙이기도 함)하게 위치되도록 시일캡(210)의 중앙에 설치된다. 노즐 유닛(400)은 박막 형성을 위한 공정가스를 복수의 기판들 표면으로 분사하는 4개의 분사부(410)들을 포함한다. 4개의 분사부(410)들은 서셉터(500)에 제공되는 스테이지들 처럼 90도 간격으로 배치되어 각각의 해당 스테이지에 놓여져 있는 기판들로 공정가스를 분사하게 된다. 각각의 분사부(410)들의 분사구(412)들은 보우트(800)에 적재된 서셉터(500) 상에 놓여진 기판들 각각에 수평한 방향으로 공정가스를 분사할 수 있도록 위치된다. 노즐 유닛(400)의 하단에는 노즐 유닛(400)을 회전시키기 위한 노즐 회전부재(450)가 시일캡(210) 내에 설치되어 있다. 예컨대, 본 발명에서는 공정 진행시 노즐 유닛(400)과 보우트(800) 중에서 어느 하나만 회전되어도 된다. 도시하지 않았지만, 시일 캡(210)에는 보우트(800)를 회전시키기 위한 보우트 회전부재가 노즐 회전부재(450)와 유사한 방식으로 설치될 수 있다.
노즐 유닛(400)의 분사구(412)들을 통해 분사되는 공정가스는 보우트(800)에 적재되어 있는 서셉터들의 기판들 전면에 고르게 유동되고, 공정 튜브(100) 하부로 흘러내려 배기포트(120)를 통해 배기된다.
노즐 유닛(400)은 외부관(402)과, 외부관(402) 내측에 설치되는 내부관(404)으로 이루어지는 이중관 구조로 이루어지며, 내부관(404)의 내측에는 노즐 유닛(400)의 온도 상승을 억제하기 위한 냉각부재(480)가 설치되는데, 냉각부재(480)는 냉각매체가 흐르는 냉각라인으로 이루어진다.
한편, 외부관(402)은 90도 간격으로 돌출되어 형성된 분사부(410)들을 갖으며, 외부관(402)과 내부관(404) 사이에 제공되는 환형의 공간은 수직한 격벽(406)에 의해 4개의 독립된 공간으로 구획되며, 각각의 구획된 공간에는 서로 다른 공정가스가 공급될 수 있으며, 수직한 격벽(406)들에 의해 구획된 공간들로 제공된 서로 다른 공정가스는 각각의 해당 분사부(410)의 분사구(412)들을 통해 보우트의 기판들 각각으로 분사된다. 물론, 노즐 유닛(400)은 필요에 따라서는 수직한 격벽을 생략하고 하나의 공정가스만을 공급받아 보우트에 적재된 서셉터(500)들로 분사할 수도 있다.
도 1c에서와 같이, 노즐 유닛(400)에는 공정가스를 공급하는 공급라인(490)들 및 냉각부재(480)로 냉각매체를 공급하고 회수하는 라인(486,488)이 연결된다. 도면에는 편의상 공급라인(490)을 하나만 도시하였으나, 사용하고자 하는 가스에 따라 4개의 공급라인이 사용될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 노즐 유닛의 위치가 공정 튜브의 측면이 아닌 보우트의 중심에 설치를 하고, 내부에 냉각 부재를 구비하여 열로 인한 공정 가스의 사전 반응을 억제할 수 있다. 또한, 노즐 유닛(또는 보우트)가 회전됨으로써 막의 균일성을 향상시킬 수 있다. 특히, 노즐 유닛이 중심에 있어 공정가스 공급시 평균자유행정(mean free pass) 내에서 공급이 가능하여 박막 성장의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 종형 기판처리 설비는 다양한 웨이퍼 프로세싱 작동들을 수행하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 절연막을 증착시키도록 구성된 CVD(Chemical Vapor Deposition) 챔버일 수 있고, 또는 장벽(barrier) 막을 증착시키도록 구성된 PVD 챔버일 수 있으며, 금속막을 증착시키도록 구성된 PVD 챔버일 수 있다. 또는 원자층을 증착하는 챔버이거나 확산 챔버일 수 있다.
이상에서, 본 발명에 따른 종형 기판처리 설비의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
100 : 공정 튜브
210 : 시일 캡
300 : 히터 어셈블리
400 : 노즐 유닛
500 : 서셉터
800 : 보우트

Claims (19)

  1. 기판들을 지지하기 위한 종형 기판처리 설비의 서셉터(susceptor)에 있어서:
    동일평면상에 기판이 놓여지는 스테이지들을 갖는 원판 형상의 베이스를 포함하되;
    상기 베이스에는 상기 스테이지들에 놓여진 기판들을 향해 공정가스를 분사하기 위한 노즐 유닛이 위치할 수 있도록 일부가 절개된 노즐 장착홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비의 서셉터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노즐 장착홈은 상기 베이스 중심에서 상기 베이스의 반경 방향을 따라 상기 베이스의 외주면까지 연장되도록 제공되는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비의 서셉터.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지들은 상기 베이스의 중심으로 동심원상에 등간격으로 배치되는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비의 서셉터.
  4. 종형 기판처리 설비에 있어서:
    하단이 개방된 공정 튜브;
    상기 공정 튜브 외곽에 배치되며, 상기 공정 튜브를 가열하는 히터 어셈블리;
    엘리베이터 유닛에 의해 상기 공정 튜브의 개방된 하단에 결합되는 시일 캡;
    상기 시일 캡 상에 설치되고 상기 공정 튜브 내측으로 로딩되는 보우트;
    상기 보우트에 적재되며, 동일평면상에 기판이 놓여지는 스테이지들을 갖는 서셉터; 및
    상기 시일 캡 상에 설치되며 상기 보우트에 적재되는 서셉터들 각각의 스테이지들에 놓여진 기판들로 공정가스를 분사하는 노즐 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은 상기 보우트의 중앙에 수직하게 위치되며,
    상기 서셉터는 상기 스테이지들이 동일평면상에 제공되는 원판형상의 베이스를 포함하며, 상기 베이스에는 상기 노즐 유닛이 위치할 수 있도록 일부가 절개된 노즐 장착홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 스테이지들은 상기 베이스의 중심으로 동심원상에 등간격으로 배치되는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 스테이지들은 상기 노즐 유닛을 중심으로 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은 상기 베이스의 스테이지들 각각으로 공정가스가 균일하게 분사되도록 회전되는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  9. 제4항 또는 제8항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은
    서로 다른 공정 가스를 분사하기 위한 적어도 2개의 분사부들을 포함하는 몸체; 및
    상기 몸체 내부에 위치되며, 상기 분사부들이 가열되지 않도록 상기 몸체를 냉각하는 냉각부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  10. 제4항 또는 제8항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은
    외부관;
    상기 외부관 내측에 설치되는 내부관;
    상기 외부관과 상기 내부관 사이에 제공되는 환형의 공간에 서로 다른 공정가스가 제공되도록 상기 환형의 공간을 구획하는 수직한 격벽들;
    상기 수직한 격벽들에 의해 구획된 공간들로 제공된 공정가스가 상기 보우트의 기판들 각각으로 분사되도록 상기 외부관에 형성되는 분사구들; 및
    상기 내부관의 내측에 설치되며 공정가스가 외부 환경에 의해 가열되는 것을 방지하기 위한 냉각부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  11. 제4항에 있어서,
    상기 종형 기판처리 설비는
    상기 시일캡에 설치되어 상기 노즐 유닛을 회전시키는 노즐 회전부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  12. 제4항에 있어서,
    상기 종형 기판처리 설비는
    상기 노즐 유닛으로부터 분사되는 공정가스가 기판상에 균일하게 제공되도록 상기 보우트를 회전시키는 보우트 회전부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  13. 종형 기판처리 설비에 있어서:
    내부에 반응공간을 형성하도록 하부가 개방된 개구부를 갖는 공정 튜브;
    상기 공정튜브의 개구부를 개폐할 수 있도록 작동하는 시일캡;
    상기 시일캡에 설치되는 보우트;
    상기 보우트의 중앙에 수직하게 위치되도록 상기 시일캡에 설치되는 노즐 유닛; 및
    상기 보우트에 적재되는 그리고 상기 노즐 유닛을 중심으로 방사상으로 기판이 위치되도록 기판이 놓여지는 스테이지들을 갖는 서셉터를 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 서셉터는
    상기 스테이지들이 동일 평면상에 제공되는 원판 형상의 베이스를 포함하되; 상기 베이스에는 상기 시일캡에 설치된 상기 노즐 유닛이 위치할 수 있도록 일부가 절개된 노즐 장착홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은
    상기 스테이지들 각각의 기판들로 공정가스를 분사하는 분사부들을 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 분사부들은 상기 스테이지들의 등간격과 동일하게 배치되는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 시일캡에 설치되어 상기 노즐 유닛을 회전시키는 노즐 회전부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  18. 제14항에 있어서,
    상기 시일 캡에 설치되어 상기 보우트들을 회전시키는 보우트 회전부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
  19. 제14항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은
    외부관;
    상기 외부관 내측에 설치되는 내부관;
    상기 외부관과 상기 내부관 사이에 제공되는 환형의 공간에 서로 다른 공정가스가 제공되도록 상기 환형의 공간을 구획하는 수직한 격벽들;
    상기 수직한 격벽들에 의해 구획된 공간들로 제공된 공정가스가 상기 보우트의 기판들 각각으로 분사되도록 상기 외부관에 형성되는 분사구들; 및
    상기 내부관의 내측에 설치되며 공정가스가 외부 환경에 의해 가열되는 것을 방지하기 위한 냉각부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 종형 기판처리 설비.
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