KR20110108529A - Electrostatic capacitance type touch panel with two layer transparent conductive film on one side of tempered glass and manufacturing the same - Google Patents

Electrostatic capacitance type touch panel with two layer transparent conductive film on one side of tempered glass and manufacturing the same Download PDF

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Abstract

판상의 강화유리층, 도전성을 갖는 투명한 물질로 이루어진 1차 투명도전막층, 1차 투명도전막층 및 강화유리층 상에 배치되어 강화유리층의 전체면을 커버하고, 투명하면서 전기적 절연성을 갖는 물질로 이루어진 절연막층, 절연막층 상에 배치되고, 전도성을 갖는 투명한 물질로 이루어진 2차 투명도전막층 및 2차 투명도전막층이 형성된 부분의 바깥부분으로서, 절연막층의 가장자리의 일부에 배치되는 2차 금속전극층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전용량방식 터치패널 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명의 터치패널 및 그 제조방법은 하나의 강화유리층에 절연막을 매개로 하여 두 층의 투명도전막층을 직접 형성함으로써 전체 두께를 상대적으로 얇게 하고, 박형의 설계가 가능하며, 원자재 및 공정에 있어서의 비용을 절감할 수 있다.It is disposed on a plate-like tempered glass layer, a transparent transparent conductive material, a primary transparent conductive film layer and a primary transparent conductive film layer, and is disposed on the tempered glass layer to cover the entire surface of the tempered glass layer. A secondary metal electrode layer disposed on a portion of the edge of the insulating film layer, which is disposed on the insulating film layer formed on the insulating film layer, and is formed outside the portion where the secondary transparent conductive film layer and the secondary transparent conductive film layer made of a conductive material are formed on the insulating film layer. Disclosed is a capacitive touch panel and a method of manufacturing the same. The touch panel of the present invention and a method of manufacturing the same are formed by directly forming two layers of transparent conductive film layers through an insulating film on one tempered glass layer, and the overall thickness is relatively thin, and the thin design is possible. Can reduce the cost.

Description

강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널 및 그 제조방법{Electrostatic capacitance type touch panel with two layer transparent conductive film on one side of tempered glass and manufacturing the same}Electrostatic capacitance type touch panel with two layer transparent conductive film on one side of tempered glass and manufacturing the same}

본 발명은 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 한면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one side of the substrate and a method of manufacturing the same.

터치패널은 디스플레이에 표시되어 있는 아이콘이나 버튼을 직접 터치함으로써 직감적으로 컴퓨터를 조작하는 입력장치이다. 최근에는 PDA, 스마트폰, PMP, 내비게이션, 게임머신, 무인정보단말기 등 디스플레이가 장착된 모든 전자기기에 적용되고 있다.The touch panel is an input device for intuitively operating a computer by directly touching an icon or a button displayed on a display. Recently, it has been applied to all electronic devices equipped with displays such as PDAs, smartphones, PMPs, navigation systems, game machines, and unmanned information terminals.

이러한 터치패널의 방식으로는 압력식 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 감지 방식 등이 있으며, 특히 정전용량 방식은 인체 혹은 물체의 정전기를 감지하여 구동하는 방식으로 최근 이동단말기에 적용되면서 각광받고 있다.The touch panel method includes a pressure resistive film method, a capacitive method, an ultrasonic method, an infrared sensing method, and the like. In particular, the capacitive method is applied to a mobile terminal recently by sensing and driving static electricity of a human body or an object. Be in the spotlight.

정전용량방식 터치패널은 프린트된 필름이나 유리기판 또는 투명필름이나 투명한 유리기판에 전극 패턴(Pattern)을 형성하여 전극 패턴 사이에 생성되는 기생 캐패시턴스(Capacitance)값 및 전극 패턴과 손가락 사이의 생성되는 캐패시턴스 값의 변화를 검출해 내어 좌표를 연산, 검출하는 방식이다.The capacitive touch panel is formed by forming an electrode pattern on a printed film, a glass substrate, a transparent film, or a transparent glass substrate, and a parasitic capacitance value generated between the electrode patterns and a capacitance generated between the electrode pattern and the finger. It is a method of calculating and detecting coordinates by detecting changes in values.

종래의 정전용량방식 터치패널의 구조는 도 1에 도시한 바와 같이 크게 상층부(10), OCA층(Optical Clear Adhesive layer, 30) 및 하층부(20)가 차례로 적층되어 이루어진다.As shown in FIG. 1, a conventional capacitive touch panel has a structure in which an upper layer 10, an optical clear adhesive layer 30, and a lower layer 20 are sequentially stacked.

이때, 상층부(10)는 위로부터 판유리 또는 투명합성수지필름층(12), 스크리닝층(screening layer; 14), 1차 금속전극층(16) 및 1차 투명도전막층(18)이 위로부터 순차로 적층된다. 또한, 하층부(20)는 아래로부터 투명합성수지필름층(22), 2차 금속전극층(16) 및 2차 투명도전막층(28)이 순차로 적층되어 이루어진다. 또한, OCA층(30)은 투명한 양면접착용 필름으로서, 상층부(10)와 하층부(20)를 접착하는 기능을 하는 동시에, 상하에 존재하는 투명도전막층(18, 28) 간에 절연층의 역할을 한다.At this time, the upper layer 10 is laminated from the top glass or transparent synthetic resin film layer 12, the screening layer (screening layer) 14, the primary metal electrode layer 16 and the primary transparent conductive film layer 18 in order from the top do. The lower layer portion 20 is formed by sequentially laminating the transparent synthetic resin film layer 22, the secondary metal electrode layer 16, and the secondary transparent conductive film layer 28 from below. In addition, the OCA layer 30 is a transparent double-sided adhesive film, and serves to bond the upper layer portion 10 and the lower layer portion 20, and also serves as an insulating layer between the transparent conductive film layers 18 and 28 existing above and below. do.

그러나 상기와 같은 구조를 가진 터치패널은 각기 투명도전막층(16, 26)이 막으로 형성되어 있는 판유리 또는 투명합성수지필름층(12)과 투명합성수지필름층(22)를 OCA층(30)으로 접착하는 방식이어서, 완성된 터치패널의 두께가 두꺼워지며, 제조공정에서는 원자재나 부착하는 공정의 비용이 높은 문제점이 있었다.However, in the touch panel having the structure as described above, the plate glass or transparent synthetic resin film layer 12 and the transparent synthetic resin film layer 22, each having the transparent conductive film layers 16 and 26 formed thereon, are bonded to the OCA layer 30. In this way, the thickness of the finished touch panel becomes thick, and in the manufacturing process, there is a problem in that the cost of raw materials or the attaching process is high.

본 발명의 목적은, 터치패널을 이루는 적층된 층수를 줄여 전체적인 두께를 얇게 하며, 막의 경계에서 일어나는 불필요한 반사를 줄일 뿐 아니라, 원자재와 공정 비용을 절감할 수 있는 정전용량방식 터치패널을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a capacitive touch panel which can reduce the number of laminated layers constituting the touch panel to reduce the overall thickness, reduce unnecessary reflections occurring at the boundary of the film, and reduce raw materials and process costs. .

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 정전용량방식 터치패널은 판상의 강화유리층, 상기 강화유리층 상에 배치되고, 도전성을 갖는 투명한 물질로 이루어진 1차 투명도전막층, 상기 1차 투명도전막층 및 상기 강화유리층 상에 배치되어 상기 강화유리층의 전체면을 커버하고, 투명하면서 전기적 절연성을 갖는 물질로 이루어진 절연막층, 상기 절연막층 상에 배치되고, 전도성을 갖는 투명한 물질로 이루어진 2차 투명도전막층 및 상기 2차 투명도전막층이 형성된 부분의 바깥부분으로서, 상기 절연막층의 가장자리의 일부에 배치되는 2차 금속전극층을 포함한다.The capacitive touch panel of the present invention for achieving the above object is a plate-like tempered glass layer, a first transparent conductive film layer made of a transparent material having a conductivity, disposed on the tempered glass layer, the first transparent conductive film layer and An insulating layer disposed on the tempered glass layer to cover the entire surface of the tempered glass layer, the insulating layer made of a transparent and electrically insulating material, and a secondary transparent conductive film made of a transparent material disposed on the insulating layer and conductive A layer and an outer portion of the portion where the secondary transparent conductive film layer is formed, the secondary metal electrode layer disposed on a portion of the edge of the insulating film layer.

본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 강화유리층 상의 가장자리와상기 절연막층 사이에 배치되는 1차 금속전극층을 더 포함할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, it may further include a primary metal electrode layer disposed between the edge on the tempered glass layer and the insulating film layer.

또한, 상기 강화유리층과 상기 절연막층 사이 또는 상기 강화유리층과 1차 금속전극층의 사이에는, 상기 1차 금속전극층 및 2차 금속전극층을 광학적으로 차단하여 가리거나 장식할 수 있는 스크리닝(screening)층을 더 포함할 수 있다.In addition, screening may be performed between the tempered glass layer and the insulating layer or between the tempered glass layer and the primary metal electrode layer to optically block or decorate the primary metal electrode layer and the secondary metal electrode layer. It may further comprise a layer.

한편, 상기 스크리닝층은, 실크스크린 인쇄로 형성될 수 있다.Meanwhile, the screening layer may be formed by silk screen printing.

상기 1차 투명도전막층은, 일축의 방향으로 형성된 패턴을 가짐으로써 일축 방향의 터치 위치를 검출할 수 있고, 상기 2차 투명도전막층은, 상기 1차 투명도전막의 패턴에 대하여 수직을 이루는 다른 일축의 방향으로 형성된 패턴을 가짐으로써, 다른 일축 방향의 터치위치를 검출할 수 있는 패턴을 가질 수 있다.The first transparent conductive film layer has a pattern formed in one direction of the axial direction to detect a touch position in the uniaxial direction, and the second transparent conductive film layer is another uniaxially perpendicular to the pattern of the first transparent conductive film. By having the pattern formed in the direction of, it is possible to have a pattern that can detect the touch position in the other uniaxial direction.

본 발명의 바람직한 다른 실시예에 있어서, 상기 1차 투명도전막층은, 일축 방향으로 형성된 패턴 및 이에 수직으로 형성된 다른 일축 방향의 패턴을 가지고, 상기 다른 일축 방향의 패턴은 단속적으로 형성됨으로써 상기 일축 방향으로 형성된 패턴과 쇼트(short)를 일으키지 않도록 하며, 상기 2차 투명도전막층은, 브릿지(bridge) 방식으로 형성되어, 상기 단속적으로 형성된 다른 일축 방향의 패턴을 연결할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the first transparent conductive film layer has a pattern formed in one axis direction and another uniaxial direction pattern formed perpendicularly to the other, the pattern of the other uniaxial direction is formed intermittently to the uniaxial direction The second transparent conductive film layer may be formed in a bridge manner to connect the pattern formed in the intermittent direction.

한편, 상기 1차 투명도전막층 및 2차 투명도전막층은, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), AZO(Antimon Tin Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), 탄소나노튜브(CNT, Carborn Nanotube) 및 전도성 고분자 중에 선택된 어느 하나일 수 있다.Meanwhile, the first transparent conductive film layer and the second transparent conductive film layer include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), antimony tin oxide (AZO), indium tin zinc oxide (ITZO), and carbon nanotube (CNT). , Carborn Nanotube) and the conductive polymer may be any one selected.

또한, 상기 1차 투명도전막층 및 2차 투명도전막층은, 스퍼터링증착(Sputtering Deposition) 또는 플라즈마증착(Plasma Deposition)으로 형성될 수 있다.In addition, the first transparent conductive film layer and the second transparent conductive film layer may be formed by sputtering deposition or plasma deposition.

상기 1차 투명도전막층 및 2차 투명도전막층은, 패턴을 형성함에 있어서 포토리소그래피(Photolithography) 또는 플라즈마에칭(Plasma Etching)으로 식각할 수 있다.The first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer may be etched by photolithography or plasma etching in forming a pattern.

상기 1차 금속전극층 및 2차 금속전극층은, 은(Ag), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al) 중에 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The primary metal electrode layer and the secondary metal electrode layer may include at least one selected from silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al).

또한, 상기 1차 금속전극층 및 2차 금속전극층은, 실크스크린 인쇄 또는 증착에 의하여 형성될 수 있다.In addition, the primary metal electrode layer and the secondary metal electrode layer may be formed by silkscreen printing or deposition.

상기 절연막층은, 실리카(SiO2), PET(Polyethyleneterephthalate) 및 폴리이미드(Polyimide) 중에 선택된 어느 하나일 수 있다.The insulating layer may be one selected from silica (SiO 2 ), polyethylene terephthalate (PET), and polyimide.

상기 절연막층은, 실크스크린 인쇄 또는 증착에 의해 형성될 수 있다.The insulating layer may be formed by silkscreen printing or deposition.

또한, 상기 절연막층은, 콘텍트홀(Contact Hole)이 더 형성될 수 있다.In addition, a contact hole may be further formed in the insulating layer.

상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 정전용량방식 터치패널의 제조방법은 기판인 강화유리판을 준비하는 제1 단계, 상기 강화유리판 상의 가장자리를 부분적으로 인쇄하여 스크리닝층을 형성하는 제2 단계, 상기 강화유리판 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 1차 투명도전막을 형성하는 제3 단계, 상기 증착된 1차 투명도전막을 식각하여 패턴을 형성하는 제4 단계, 상기 강화유리층 및 상기 1차 투명도전막층 상에 전기적 절연성 물질을 인쇄 또는 증착함으로써, 절연막을 형성하여 상기 강화유리층의 전체면을 커버하도록 하는 제5 단계, 상기 절연막 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 2차 투명도전막을 형성하는 제6 단계, 상기 증착된 2차 투명도전막을 식각하여 패턴을 형성하는 제7 단계 및 상기 절연막 상에, 상기 제2 단계의 스크리닝층이 형성된 범위에 포함되도록 금속물질을 인쇄하여 2차 금속전극층을 형성하는 제8 단계를 포함한다..According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a capacitive touch panel, the second step of forming a screening layer by partially printing an edge on the tempered glass plate. A third step of forming a first transparent conductive film by depositing a transparent conductive material on the tempered glass plate, a fourth step of forming a pattern by etching the deposited first transparent conductive film, the tempered glass layer and the first transparent conductive film layer A fifth step of forming an insulating film to cover the entire surface of the tempered glass layer by printing or depositing an electrically insulating material on the sixth step, and a sixth step of forming a second transparent conductive film by depositing a transparent conductive material on the insulating film And a seventh step of forming a pattern by etching the deposited second transparent conductive film and the screening layer of the second step on the insulating layer. By printing a metal material to be included in the defined range and a eighth step of forming a second metal electrode layer.

본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 제4 단계와 제5 단계의 사이에, 상기 제2 단계의 스크리닝층 상에 금속물질을 인쇄하여 1차 금속전극층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the method may further include forming a primary metal electrode layer by printing a metal material on the screening layer of the second step between the fourth and fifth steps.

상기 제4 단계의 1차 투명도전막 패턴은, 일축의 방향으로 형성하고, 상기 제7 단계의 2차 투명도전막 패턴은, 상기 1차 투명도전막 패턴에 대하여 수직을 이루는 다른 일축의 방향으로 형성하여 터치의 위치를 검출할 수 있도록 할 수 있다.The first transparent conductive film pattern of the fourth step is formed in the direction of one axis, and the second transparent conductive film pattern of the seventh step is formed in the direction of another one axis perpendicular to the first transparent conductive film pattern and touched. It is possible to detect the position of.

또한, 상기 제4 단계의 1차 투명도전막 패턴은, 일축의 방향 및 이에 수직을 이루는 다른 일축 방향으로 형성하고, 상기 다른 일축 방향의 패턴은 단속적으로 형성하여 상기 일축 방향의 패턴과 쇼트(short)를 일으키지 않도록 하며, 상기 제7 단계의 2차 투명도전막 패턴은, 브릿지(bridge) 방식으로 형성하여 상기 단속적으로 형성된 다른 일축 방향의 패턴을 연결하도록 할 수 있다.In addition, the first transparent conductive film pattern of the fourth step is formed in one axial direction and another uniaxial direction perpendicular to the axial direction, and the other uniaxial pattern is formed intermittently to form a short with the pattern in the uniaxial direction. The second transparent conductive film pattern of the seventh step may be formed in a bridge manner to connect another intermittent pattern formed intermittently.

상기 제2 단계의 인쇄는, 실크스크린 인쇄일 수 있다.The printing of the second step may be silkscreen printing.

상기 제3 단계 및 제6 단계의 상기 1차 투명도전막 및 2차 투명도전막은, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), AZO(Antimon Tin Oxide), 탄소나노튜브(CNT, Carborn Nanotube) 및 전도성 고분자 중에 선택된 어느 하나로 할 수 있다.The first transparent conductive film and the second transparent conductive film of the third step and the sixth step may include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), antimony tin oxide (AZO), Carbon nanotubes (CNT, Carborn Nanotube) and the conductive polymer may be any one selected from.

또한, 상기 제3 단계 및 제6 단계의 증착은, 스퍼터링증착(Sputtering Deposition) 또는 플라즈마증착(Plasma Deposition)일 수 있다.In addition, the deposition of the third and sixth steps may be sputtering deposition or plasma deposition.

상기 1차 및 2차 금속전극층은, 은(Ag), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al) 중에 선택된 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The primary and secondary metal electrode layers may include at least one selected from silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al).

또한, 상기 1차 및 2차 금속전극층은, 실크스크린 인쇄 또는 증착으로 형성할 수 있다.In addition, the primary and secondary metal electrode layers may be formed by silkscreen printing or deposition.

상기 제5 단계의 절연막은, 실리카(SiO2), PET(Polyethyleneterephthalate) 및 폴리이미드(Polyimide) 중에 선택된 어느 하나일 수 있다.The insulating film of the fifth step may be any one selected from silica (SiO 2 ), polyethylene terephthalate (PET), and polyimide.

또한, 상기 제5 단계의 절연막은, 인쇄 또는 증착에 의해 형성될 수 있다.In addition, the insulating film of the fifth step may be formed by printing or deposition.

상기 제5 단계는, 상기 절연막에 콘텍트홀(Contact Hole)을 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.The fifth step may further include forming a contact hole in the insulating film.

본 발명에 따르면, 하나의 강화유리판에 절연막을 매개로 하여 두 층의 투명도전막층을 직접 형성함으로써 전체 두께를 상대적으로 얇게 하고, 박형의 설계가 가능하며, 원자재 및 공정에 있어서의 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by forming the two layers of transparent conductive film directly on one tempered glass plate through an insulating film, the overall thickness can be made relatively thin, thin design is possible, and the cost in raw materials and processes can be reduced. It can be effective.

도 1은 종래의 정전용량방식 터치패널의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 정전용량방식 터치패널의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 정전용량방식 터치패널의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 정전용량방식 터치패널의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional capacitive touch panel.
2 is a cross-sectional view showing the structure of a capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing the structure of a capacitive touch panel according to another embodiment of the present invention.
4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention.

이하에 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명할 것이다. 다음에서 설명되는 실시예들은 여러 가지 다양한 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 완전한 설명을 하기 위하여 제공되는 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below may be modified in various forms, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. Embodiments of the present invention are provided to provide a thorough explanation to those skilled in the art.

이하에서는, 먼저 본 발명의 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널(이하, 터치패널이라 함)의 구조에 대하여 살펴본 후, 이의 제조방법에 대하여 설명하도록 한다.Hereinafter, a structure of a capacitive touch panel (hereinafter referred to as a touch panel) having two layers of transparent conductive films on one surface of the tempered glass of the present invention will be described, and then a manufacturing method thereof will be described.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 터치패널(100)의 구조를 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a structure of a first touch panel 100 according to an embodiment of the present invention.

도 2에 의하면, 본 발명의 일실시예에 따른 제1 터치패널(100)은 강화유리층(110), 스크리닝층(120), 1차 투명도전막층(130), 1차 금속전극층(140), 절연막층(150), 2차 투명도전막층(132) 및 2차 금속전극층(142)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the first touch panel 100 according to an exemplary embodiment of the present invention may include a tempered glass layer 110, a screening layer 120, a primary transparent conductive film layer 130, and a primary metal electrode layer 140. And an insulating film layer 150, a secondary transparent conductive film layer 132, and a secondary metal electrode layer 142.

강화유리층(110)은 본 발명의 제1 터치패널(100)을 이루는 층이 부착될 수 있는 기재이며, 터치패널을 적용한 디스플레이의 커버가 된다. 또한, 본 발명의 특성상 두 층의 투명도전막(130, 132)이 하나의 커버의 일면에 부착되므로 강도가 우수한 강화유리로 선택하여 전체적인 강도를 높일 수 있다.The tempered glass layer 110 is a substrate to which a layer constituting the first touch panel 100 of the present invention can be attached and becomes a cover of a display to which the touch panel is applied. In addition, since the transparent conductive films 130 and 132 of the two layers are attached to one surface of one cover, the overall strength can be increased by selecting the tempered glass having excellent strength.

강화유리(tempered glass)는 성형 판유리를 유리전이온도(Tg)에 가까운 500 내지 600 ℃로 가열하고, 압축한 냉각공기에 의해 급랭시켜 유리 표면부를 압축변형시키고 내부를 인장변형시켜 강화한 유리 또는 이온치환에 의하여 화학적으로 강화한 유리를 포함한다.Tempered glass is a glass or ion-substituted glass that is heated to 500 to 600 ° C near the glass transition temperature (Tg), and quenched by compressed cooling air to compressively deform the surface of the glass and tensilely deform the interior. Contains chemically strengthened glass.

스크리닝층(120)은 강화유리층(110)상에 배치되고, 스크리닝층(120)의 하부에 배치될 1차 및 2차 금속전극층(140, 142)을 완전히 가릴 수 있는 위치에 동일하거나 더 넓은 범위로 배치되어 하부에 배치되는 1차 및 2차 금속전극층(140, 142)을 가려주는 역할을 한다. 여기서, 상기 위치는 하기에 설명할 금속전극(140, 142)이 배치될 제1 터치패널(100)의 네 귀퉁이이고, 그 형태는 사각형으로 네 귀퉁이에 각각 배치될 수 있다. 또한, 스크리닝층(120)은 실크스크린 인쇄 또는 증착에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 그러나 본 발명의 권리범위가 이에 한정되지 않으며, 경우에 따라 스크리닝층의 인쇄되는 범위와 형태는 달리 정할 수 있다.The screening layer 120 is disposed on the tempered glass layer 110 and is the same or wider at a position that can completely cover the primary and secondary metal electrode layers 140 and 142 to be disposed below the screening layer 120. It serves to cover the primary and secondary metal electrode layers (140, 142) disposed in the lower range is disposed in the range. In this case, the positions are four corners of the first touch panel 100 in which the metal electrodes 140 and 142 to be described below will be disposed, and the shape thereof may be quadrangular and disposed at four corners. In addition, the screening layer 120 is preferably formed by silkscreen printing or deposition. However, the scope of the present invention is not limited thereto, and in some cases, the printing range and shape of the screening layer may be determined differently.

1차 투명도전막층(130)은 강화유리층(110) 상에 배치되며 스크리닝층(120)이 배치된 영역에서 안쪽 영역에 위치하며 일축을 향하는 일정한 패턴을 형성하여 배치될 수 있다. 이때, 1차 투명도전막층(130)의 소재는 ITO(Indium Tin Oxide)인 것이 바람직하나, 경우에 따라 IZO(Indium Zinc Oxide), ATO(Antimon Tin Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), 탄소나노튜브(CNT, Carborn Nanotube) 및 전도성 고분자 중에 선택된 어느 하나로 할 수 있다.The first transparent conductive film layer 130 may be disposed on the tempered glass layer 110 and may be disposed in an inner region in the region where the screening layer 120 is disposed and form a predetermined pattern toward one axis. At this time, the material of the first transparent conductive film layer 130 is preferably ITO (Indium Tin Oxide), but in some cases Indium Zinc Oxide (IZO), Antimony Tin Oxide (ATO), Indium Tin Zinc Oxide (ITZO), carbon Nanotubes (CNT, Carborn Nanotube) and the conductive polymer may be any one selected from.

또한, 1차 투명도전막층(130)의 두께는 ITO로 하는 경우에, 0.01 내지 0.02 ㎛의 범위로 하는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 0.01㎛보다 더 얇은 경우에는 도전성에 문제가 생길 뿐 아니라 기계적인 강도가 낮아질 수 있고, 0.02㎛보다 더 두꺼운 경우에는 필요한 패턴을 구현하기 위한 식각 공정을 수행하는데 불리할 수 있다.In addition, when the thickness of the primary transparent conductive film layer 130 is set to ITO, it is preferable to set it as the range of 0.01-0.02 micrometer. If the thickness is thinner than 0.01 mu m, not only the conductivity may be deteriorated, but the mechanical strength may be lowered, and when the thickness is thinner than 0.02 mu m, it may be disadvantageous to perform an etching process for implementing a required pattern.

1차 금속전극층(140)은 스크리닝층(120) 상에 배치되고, 스크리닝층(120)이 배치되는 영역에 포함되도록 배치하여 스크리닝층(120)에 의해 가려지도록 한다. 1차 금속전극층(140)은 제1 터치패널(100)의 네 귀퉁이에 위치하며, 여기에 전압을 가할 수 있다. 1차 금속전극층(140)의 소재는 은(Ag), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al) 중에 선택된 어느 하나 또는 그 합금으로 할 수 있으나, 전기전도성이 좋은 은으로 하는 것이 바람직하다.The primary metal electrode layer 140 is disposed on the screening layer 120 and disposed to be included in the region where the screening layer 120 is disposed so as to be covered by the screening layer 120. The primary metal electrode layer 140 is located at four corners of the first touch panel 100 and may apply voltage thereto. The material of the primary metal electrode layer 140 may be any one selected from silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al) or an alloy thereof, but is preferably made of silver having good electrical conductivity.

절연막층(150)은 도시한 바와 같이 1차 투명도전막층(130) 및 1차 금속전극층(140) 상에 배치되며, 1차 투명도전막층(130)의 패턴이 형성되지 않은 영역은 강화유리층(110) 상에 위치할 수 있다. 이때, 절연막층(150)은 실크스크린 인쇄 또는 증착에 의하여 형성될 수 있다.As illustrated, the insulating layer 150 is disposed on the first transparent conductive layer 130 and the first metal electrode layer 140, and the region in which the pattern of the first transparent conductive layer 130 is not formed is a tempered glass layer. May be located on 110. In this case, the insulating layer 150 may be formed by silkscreen printing or deposition.

절연막층(150)은 1차 투명도전막층(130)과 2차 투명도전막층(132) 간에 전기적 절연이 되도록 하는 유전체이며, 소재는 투명한 성질의 절연물질인 실리카(SiO2), PET(Polyethyleneterephthalate) 및 폴리이미드(Polyimide) 중에 선택된 어느 하나로 할 수 있으나, 본 발명의 특성상 절연막층(150)에 직접 2차 투명도전막층(132)과 2차 금속전극층(142)을 직접 증착하여 형성하므로 열로 인한 손상을 최소화하기 위하여 내열성이 강한 실리카로 하는 것이 바람직하다.The insulating layer 150 is a dielectric that is electrically insulated between the first transparent conductive layer 130 and the second transparent conductive layer 132, and the material is silica (SiO 2 ) and PET (polyethylene terephthalate), which are transparent insulating materials. And polyimide, but may be formed by depositing the second transparent conductive film layer 132 and the second metal electrode layer 142 directly on the insulating film layer 150. In order to minimize the heat resistance, it is preferable to use silica having a high heat resistance.

한편, 절연막층(150)은 콘텍트홀(contact hole)을 더 포함할 수 있으며, 이는 2차 금속전극층(140)과 1차 투명도전막층(130) 간의 전기적 접속이 용이하도록 하는 기능을 한다.Meanwhile, the insulating layer 150 may further include a contact hole, which serves to facilitate electrical connection between the secondary metal electrode layer 140 and the primary transparent conductive layer 130.

또한, 2차 투명도전막층(132)은 절연막층(150) 상에 배치되며, 그 패턴은 1차 투명도전막층(130)의 패턴과 수직이 되도록 형성된다. 이에 따라, 1차 투명도전막층(130)과 2차 투명도전막층(132)은 각각 X축과 Y축, 즉 수직이 되는 방향의 터치 위치를 검출할 수 있다.In addition, the second transparent conductive film layer 132 is disposed on the insulating film layer 150, and the pattern is formed to be perpendicular to the pattern of the first transparent conductive film layer 130. Accordingly, the first transparent conductive film layer 130 and the second transparent conductive film layer 132 can detect the touch position in the X-axis and Y-axis, that is, the vertical direction.

2차 금속전극층(142) 또한 2차 투명도전막층(132)과 같이 절연막층(150) 상에 배치되며, 그 위치는 1차 금속전극층(140)이 형성된 영역과 동일하도록 배치된다. 여기서, 2차 금속전극층(142)의 기능과 소재는 상기 1차 금속전극층(140)에서 설명한 바와 동일하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.The secondary metal electrode layer 142 is also disposed on the insulating layer 150 together with the secondary transparent conductive film layer 132, and the position thereof is the same as the region where the primary metal electrode layer 140 is formed. Here, since the function and material of the secondary metal electrode layer 142 are the same as those described in the primary metal electrode layer 140, detailed description thereof will be omitted.

여기서, 2차 투명도전막층(132) 및 2차 금속전극층(142)은 별도의 필름에 형성한 후, 투명접착제를 이용하여 상기 터치패널의 일부 구조에 접착하는 것이 아니라, 절연막층(150)에 직접 2차 금속전극층(142) 및 2차 투명도전막층(132)을 형성함으로써 별도의 접착제층을 필요로 하지 않으므로 터치패널의 전체 두께가 기존의 OCA를 적용한 터치패널에 비하여 상대적으로 얇아질 수 있다.Here, the second transparent conductive film layer 132 and the second metal electrode layer 142 are formed on a separate film, and then bonded to a portion of the structure of the touch panel using a transparent adhesive, but not to the insulating film layer 150. Since the second metal electrode layer 142 and the second transparent conductive film layer 132 are directly formed, a separate adhesive layer is not required, and thus the overall thickness of the touch panel may be relatively thinner than that of the conventional OCA applied touch panel. .

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제2 터치패널(200)의 구조를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a structure of a second touch panel 200 according to another embodiment of the present invention.

도 3에 의하면, 제2 터치패널(200)은 강화유리층(210), 스트리닝층(220), 1차 투명도전막층(230), 1차 금속전극층(240), 절연막층(250), 2차 투명도전막층(232) 및 2차 금속전극층(242)을 포함한다. 이때, 제2 터치패널(200)을 이루는 상기 층들은 제1 터치패널(100)에서와 유사하므로 자세한 설명은 상기 설명을 참조하기로 한다. Referring to FIG. 3, the second touch panel 200 includes a tempered glass layer 210, a streaming layer 220, a primary transparent conductive film layer 230, a primary metal electrode layer 240, and an insulating film layer 250. The secondary transparent conductive film layer 232 and the secondary metal electrode layer 242 are included. In this case, since the layers constituting the second touch panel 200 are similar to those of the first touch panel 100, a detailed description thereof will be referred to the description above.

다만, 제2 터치패널(200)은 1차 투명도전막층(230)과 2차 투명도전막(232)에 있어서, 패턴의 설계가 제1 터치패널(도 2의 100)과 상이하다.However, in the second touch panel 200, the design of the pattern is different from that of the first touch panel (100 in FIG. 2) in the first transparent conductive film layer 230 and the second transparent conductive film 232.

상세하게는, 1차 투명도전막층(230)의 패턴은 X축과 Y축 방향으로 동시에 설계된다. 다시 말해, 일축 방향의 터치를 검출할 수 있는 패턴 및 이에 수직을 이루는 다른 일축으로 형성된 패턴이 동시에 설계된다. 이때, 상기 다른 일축으로 형성된 패턴은 상기 일축으로 형성된 패턴과의 쇼트(short)를 방지하기 위하여 상기 일축 방향의 패턴과 겹치지 않도록 단속적으로 형성된다.In detail, the pattern of the primary transparent conductive film layer 230 is designed simultaneously in the X-axis and Y-axis directions. In other words, a pattern capable of detecting a touch in one axis direction and a pattern formed on another axis perpendicular to the pattern are simultaneously designed. In this case, the pattern formed on the other uniaxial axis is intermittently formed so as not to overlap with the pattern in the uniaxial direction in order to prevent short with the pattern formed on the uniaxial axis.

2차 투명도전막층(232)의 패턴은 브릿지(bridge) 방식으로 설계된다. 여기서, 브릿지 방식이란 1차 투명도전막층(230)의 상기 단속적으로 형성된 패턴을 연속되도록 하여 전기적으로 연결하는 교량 역할을 하는 것이다. The pattern of the second transparent conductive film layer 232 is designed in a bridge (bridge) manner. Here, the bridge method serves as a bridge for electrically connecting the intermittently formed pattern of the first transparent conductive film layer 230 to be continuous.

이에 따라, 제1 투명도전막층(230) 및 제2 투명도전막층(232)은 제1 터치패널(도 2의 100)에서의 1차 투명도전막층(도 2의 130) 및 2차 투명도전막층(도 2의 132)에 형성된 패턴과 동일한 기능을 수행할 수 있다.Accordingly, the first transparent conductive film layer 230 and the second transparent conductive film layer 232 are formed of the first transparent conductive film layer (130 of FIG. 2) and the second transparent conductive film layer of the first touch panel (100 of FIG. 2). The same function as the pattern formed in 132 of FIG. 2 may be performed.

도 4는 본 발명의 실시예들에 따른 제1 터치패널(도 2의 100) 및 제2 터치패널(도 3의 200)의 제조방법을 순서대로 나타낸 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a manufacturing method of a first touch panel (100 of FIG. 2) and a second touch panel (200 of FIG. 3) in order according to embodiments of the present disclosure.

도 4에 의하면, 본 발명의 터치패널의 제조방법의 제1 단계는, 본 발명의 기판으로 사용될 판상의 강화유리를 준비하는 단계(S1)이다.According to Figure 4, the first step of the manufacturing method of the touch panel of the present invention is a step (S1) of preparing a plate-shaped tempered glass to be used as the substrate of the present invention.

제2 단계는, 인쇄안료를 제1 단계에서 준비한 강화유리층 상의 네 귀퉁이에 사각형 형태로 인쇄하여 스크리닝층을 형성하는 단계(S2)이다.The second step is a step (S2) to form a screening layer by printing a printing pigment in the form of a square on the four corners on the tempered glass layer prepared in the first step.

인쇄방법은 실크스크린 인쇄가 바람직하며, 인쇄안료는 실크스크린 인쇄에 적용될 수 있는 안료는 모두 가능하다. 그러나 본 발명의 권리범위가 이에 한정되지 않으며, 경우에 따라 인쇄되는 범위와 형태를 달리할 수 있다.The printing method is preferably silkscreen printing, and printing pigments are all pigments that can be applied to silkscreen printing. However, the scope of the present invention is not limited thereto, and in some cases, the scope and form of printing may vary.

제3 단계는, 상기 준비된 강화유리층이 될 판 상에 1차 투명도전막을 박막으로 증착하는 단계(S3)이다.The third step is a step (S3) of depositing a first transparent conductive film as a thin film on the plate to be the prepared tempered glass layer.

여기서, 투명도전막의 소재는 앞서 설명한 바와 같이 ITO(Indium Tin Oxide) 필름인 것이 바람직하나, 경우에 따라 IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimon Tin Oxide), 탄소나노튜브(CNT, Carborn Nanotube) 및 전도성 고분자 중에 선택된 어느 하나로 할 수 있다. 또한, 증착방법으로는 스퍼터링증착(Sputtering Deposition) 또는 플라즈마증착(Plasma deposition)을 적용할 수 있다.Here, the material of the transparent conductive film is preferably an indium tin oxide (ITO) film as described above, but in some cases, indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), antimony tin oxide (ATO), carbon nano Tube (CNT, Carborn Nanotube) and the conductive polymer may be any one selected from. In addition, as the deposition method, sputtering deposition or plasma deposition may be applied.

제4 단계는, 상기 제2 단계에서 증착된 1차 투명도전막에 식각(Etching)공정을 수행하여 소정의 모양으로 패턴을 형성하는 단계(S4)이다.The fourth step is a step of forming a pattern in a predetermined shape by performing an etching process on the first transparent conductive film deposited in the second step (S4).

이때, 제1 터치패널(도 2의 100)의 경우, 형성되는 패턴은 터치패널 면의 일축에서의 터치를 검출할 수 있도록 일축의 방향으로 형성한다. In this case, in the case of the first touch panel (100 of FIG. 2), the pattern to be formed is formed in the direction of one axis so as to detect a touch on one axis of the touch panel surface.

한편, 제2 터치패널(도 3의 200)의 경우에는, 일축의 방향으로 패턴을 형성하고, 동시에 상기 일축에 수직이 되는 방향의 다른 일축의 방향으로 패턴을 형성한다. 이때, 상기 다른 일축의 방향으로 형성하는 패턴은 상기 일축으로 형성된 패턴과 쇼트(short)를 일으키지 않도록 단속적으로 형성한다.On the other hand, in the case of the second touch panel (200 in FIG. 3), the pattern is formed in the direction of one axis, and at the same time, the pattern is formed in the direction of another axis in the direction perpendicular to the one axis. At this time, the pattern formed in the direction of the other one axis is formed intermittently so as not to cause a short with the pattern formed in the one axis.

또한, 식각하는 방법은 포토리소그래피(Photolithography)로 하는 것이 바람직하나, 경우에 따라 플라즈마 에칭(Plasma Etching) 등 다른 공지의 식각방법이 적용될 수 있다. In addition, the etching method is preferably photolithography, but other known etching methods such as plasma etching may be applied.

제5 단계는, 상기 제1 단계 내지 제4 단계에서 형성된 층 상에 절연물질로써 절연막을 형성하는 단계(S5)이다.The fifth step is a step (S5) to form an insulating film with an insulating material on the layer formed in the first to fourth steps.

상기 절연물질은 투명한 성질을 가지는 동시에 열에 강한 실리카(SiO2)로 하는 것이 바람직하나, 경우에 따라 PET(Polyethyleneterephthalate), 폴리이미드(Polyimide) 등을 이용할 수 있다.The insulating material is preferably made of heat resistant silica (SiO 2 ) while having a transparent property, but in some cases, polyethylene terephthalate (PET), polyimide, or the like may be used.

또한, 절연막을 형성하는 방법은 인쇄 또는 증착으로 할 수 있다.In addition, the method of forming an insulating film can be printing or vapor deposition.

경우에 따라, 상기 절연막을 형성한 이후에 콘텍트홀(Contact Hole)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In some cases, the method may further include forming a contact hole after forming the insulating layer.

제6 단계는, 상기 절연막 상에 2차 투명도전막을 증착하는 단계(S6)이다.The sixth step is to deposit a secondary transparent conductive film on the insulating film (S6).

이때, 2차 투명도전막을 이루는 물질과 이를 형성하는 방법은 상기 제3 단계의 1차 투명도전막에서 설명한 바와 같으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.In this case, the material constituting the secondary transparent conductive film and the method of forming the same are the same as described in the first transparent conductive film of the third step, a detailed description thereof will be omitted.

제7 단계는, 상기 제6 단계에서 증착된 2차 투명도전막에 식각(Etching)공정을 수행하여 소정의 모양으로 패터닝(Pattern)을 형성하는 단계(S7)이다.A seventh step is a step (S7) to form a pattern (pattern) in a predetermined shape by performing an etching process on the secondary transparent conductive film deposited in the sixth step.

이때, 제1 터치패널(도 2의 100)의 경우, 형성되는 패턴은 상기 제4 단계에서 형성된 패턴과 수직이 되는 방향의 다른 일축 방향으로 패턴을 형성한다.In this case, in the case of the first touch panel 100 of FIG. 2, the pattern to be formed forms a pattern in another axial direction in a direction perpendicular to the pattern formed in the fourth step.

한편, 제2 터치패널(도 3의 200)의 경우에는, 브릿지(bridge) 형태로 패턴을 형성함으로써, 상기 제4 단계에서 형성된 1차 투명도전막의 단속적인 패턴을 연결하도록 한다.On the other hand, in the case of the second touch panel (200 in FIG. 3), by forming a pattern in the form of a bridge (bridge), to connect the intermittent pattern of the primary transparent conductive film formed in the fourth step.

여기서, 적용되는 식각방법은 제4 단계에서 상술한 바와 동일하므로 그 설명은 생략하기로 한다.Here, the applied etching method is the same as described above in the fourth step, and a description thereof will be omitted.

마지막으로 제8 단계는, 제5 단계에서 형성된 상기 절연막 상에 2차 금속전극을 인쇄하는 단계(S8)이다.Finally, the eighth step is a step (S8) of printing a secondary metal electrode on the insulating film formed in the fifth step.

이때, 2차 금속전극층이 인쇄되는 범위는 상기 스크리닝층과 동일하거나 포함되도록 할 수 있다. 또한, 상기 금속은 은(Ag)으로 하는 것이 바람직하나, 경우에 따라 구리(Cu), 알루미늄(Al) 등 다른 도전성이 높은 금속을 적용할 수 있다.In this case, the range in which the secondary metal electrode layer is printed may be the same as or included in the screening layer. In addition, the metal is preferably silver (Ag), but in some cases, other highly conductive metals such as copper (Cu) and aluminum (Al) may be used.

이로써, 본 발명의 터치패널이 완성된다.This completes the touch panel of the present invention.

그러나 본 발명의 기술적 범위는 여기에 한정되지 않으며, 경우에 따라, 상기 제4 단계와 제5 단계의 사이에 상기 제2 단계의 스크리닝층 상에 금속물질을 인쇄하여 1차 금속전극층을 형성하는 단계를 더 포함하도록 할 수 있다. 왜냐하면, 상기 1차 금속전극층은 상기 절연막 패턴의 설계나 콘텍트홀의 존재에 따라 전기적인 접속이 용이한 경우에는 생략이 가능하기 때문이다.However, the technical scope of the present invention is not limited thereto, and in some cases, forming a primary metal electrode layer by printing a metal material on the screening layer of the second step between the fourth and fifth steps. It may be to include more. This is because the primary metal electrode layer can be omitted if the electrical connection is easy due to the design of the insulating film pattern or the presence of the contact hole.

이상, 본 발명의 바람직한 실시예들을 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.As mentioned above, preferred embodiments of the present invention have been described in detail, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. It is possible.

예를 들면, 제1 터치패널(도 2의 100) 및 제2 터치패널(도 3의 200)의 1차 금속전극층(도 2의 140, 도 3의 240)은 콘텍트홀(contact hole)의 형성이나 절연막의 식각에 의한 패턴 설계에 따라 생략할 수도 있다. 또한, 본 발명의 터치패널의 제조방법에 있어서도 절연막의 인쇄나 식각에 따른 설계 즉, 콘텍트홀의 형성이 있을 때 2차 금속전극에 전압을 걸어주는 것으로서 1차 투명도전막층에 전기적 접속이 가능하므로 1차 금속전극층을 생략할 수 있다.For example, the first metal electrode layer (140 of FIG. 2 and 240 of FIG. 3) of the first touch panel 100 (FIG. 2) and the second touch panel 200 (FIG. 3) may form contact holes. Alternatively, the pattern may be omitted depending on the pattern design by etching the insulating film. In addition, in the method for manufacturing a touch panel of the present invention, a design according to the printing or etching of the insulating film, that is, a voltage is applied to the secondary metal electrode when the contact hole is formed, thus enabling electrical connection to the primary transparent conductive film layer. The secondary metal electrode layer can be omitted.

10: 상층부 12: 판유리 또는 투명합성수지필름층
14: 스크리닝층 16: 1차 금속전극층
18: 1차 투명도전막층 20: 하층부
22: 투명합성수지필름층 26: 2차 금속전극층
28: 2차 투명도전막층 30: OCA층
100: 제1 터치패널 110: 강화유리층
120: 스크리닝층 130: 1차 투명도전막층
132: 2차 투명도전막층 140: 1차 금속전극층
142: 2차 금속전극층 150: 절연막층
200: 제2 터치패널 210: 강화유리층
220: 스크리닝층 230: 1차 투명도전막층
232: 2차 투명도전막층 240: 1차 금속전극층
242: 2차 금속전극층 250: 절연막층10: upper layer 12: plate glass or transparent synthetic resin film layer
14: screening layer 16: primary metal electrode layer
18: primary transparent conductive film layer 20: lower layer
22: transparent synthetic resin film layer 26: secondary metal electrode layer
28: secondary transparent conductive film layer 30: OCA layer
100: first touch panel 110: tempered glass layer
120: screening layer 130: primary transparent conductive film layer
132: secondary transparent conductive film layer 140: primary metal electrode layer
142: secondary metal electrode layer 150: insulating film layer
200: second touch panel 210: tempered glass layer
220: screening layer 230: primary transparent conductive film layer
232: secondary transparent conductive film layer 240: primary metal electrode layer
242: secondary metal electrode layer 250: insulating film layer

Claims (26)

판상의 강화유리층;
상기 강화유리층 상에 배치되고, 도전성을 갖는 투명한 물질로 이루어진 1차 투명도전막층;
상기 1차 투명도전막층 및 상기 강화유리층 상에 배치되어 상기 강화유리층의 전체면을 커버하고, 투명하면서 전기적 절연성을 갖는 물질로 이루어진 절연막층;
상기 절연막층 상에 배치되고, 전도성을 갖는 투명한 물질로 이루어진 2차 투명도전막층; 및
상기 2차 투명도전막층이 형성된 부분의 바깥부분으로서, 상기 절연막층의 가장자리의 일부에 배치되는 2차 금속전극층을 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.Plate-like tempered glass layer;
A first transparent conductive film layer disposed on the tempered glass layer and made of a transparent material having conductivity;
An insulating layer disposed on the primary transparent conductive film layer and the tempered glass layer to cover the entire surface of the tempered glass layer and be made of a transparent and electrically insulating material;
A second transparent conductive layer disposed on the insulating layer and made of a transparent material having conductivity; And
A capacitive touch having two layers of transparent conductive film on one side of the tempered glass, which includes a second metal electrode layer disposed on a portion of an edge of the insulating layer as an outer portion of the portion where the second transparent conductive film layer is formed. panel. 제1항에 있어서,
상기 강화유리층 상의 가장자리와 상기 절연막층 사이에 배치되는 1차 금속전극층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
Capacitive touch panel having a transparent conductive film of two layers on one surface of the tempered glass further comprising a primary metal electrode layer disposed between the edge on the tempered glass layer and the insulating film layer. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 강화유리층과 상기 절연막층 사이 또는 상기 강화유리층과 1차 금속전극층의 사이에는,
상기 1차 금속전극층 및 2차 금속전극층을 광학적으로 차단하여 가리거나 장식할 수 있는 스크리닝(screening)층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method according to claim 1 or 2,
Between the tempered glass layer and the insulating film layer or between the tempered glass layer and the primary metal electrode layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of the tempered glass, further comprising a screening layer that may optically block or decorate the primary metal electrode layer and the secondary metal electrode layer. . 제3항에 있어서,
상기 스크리닝층은,
실크스크린 인쇄로 형성되는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 3,
The screening layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, which is formed by silk screen printing. 제1항에 있어서,
상기 1차 투명도전막층은,
일축의 방향으로 형성된 패턴을 가짐으로써 일축 방향의 터치 위치를 검출할 수 있고,
상기 2차 투명도전막층은,
상기 1차 투명도전막의 패턴에 대하여 수직을 이루는 다른 일축의 방향으로 형성된 패턴을 가짐으로써, 다른 일축 방향의 터치위치를 검출할 수 있는 패턴을 가지는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The first transparent conductive film layer,
By having the pattern formed in the direction of one axis, the touch position in the direction of one axis can be detected,
The secondary transparent conductive film layer,
By having a pattern formed in another uniaxial direction perpendicular to the pattern of the primary transparent conductive film, two layers of transparent conductive on one surface of the tempered glass, characterized in that it has a pattern that can detect the touch position in the other uniaxial direction Capacitive touch panel with a film. 제1항에 있어서,
상기 1차 투명도전막층은,
일축 방향으로 형성된 패턴 및 이에 수직으로 형성된 다른 일축 방향의 패턴을 가지고, 상기 다른 일축 방향의 패턴은 단속적으로 형성됨으로써 상기 일축 방향으로 형성된 패턴과 쇼트(short)를 일으키지 않도록 하며,
상기 2차 투명도전막층은,
브릿지(bridge) 방식으로 형성되어, 상기 단속적으로 형성된 다른 일축 방향의 패턴을 연결하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The first transparent conductive film layer,
It has a pattern formed in one axis direction and another pattern in one uniaxial direction formed perpendicular to this, the other uniaxial pattern is formed intermittently so as not to cause a short with the pattern formed in the uniaxial direction,
The secondary transparent conductive film layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of the tempered glass, which is formed in a bridge manner and connects the intermittently formed uniaxial patterns. 제1항에 있어서,
상기 1차 투명도전막층 및 2차 투명도전막층은,
ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), AZO(Antimon Tin Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), 탄소나노튜브(CNT, Carborn Nanotube) 및 전도성 고분자 중에 선택된 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The first transparent conductive film layer and the second transparent conductive film layer,
It includes any one selected from indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), antimony tin oxide (AZO), indium tin zinc oxide (ITZO), carbon nanotubes (CNT, carborn nanotube) Capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass. 제1항에 있어서,
상기 1차 투명도전막층 및 2차 투명도전막층은,
스퍼터링증착(Sputtering Deposition) 또는 플라즈마증착(Plasma Deposition)으로 형성된 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The first transparent conductive film layer and the second transparent conductive film layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of tempered glass, characterized in that formed by sputtering deposition or plasma deposition. 제1항에 있어서,
상기 1차 투명도전막층 및 2차 투명도전막층은,
패턴을 형성함에 있어서 포토리소그래피(Photolithography) 또는 플라즈마에칭(Plasma Etching)으로 식각하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The first transparent conductive film layer and the second transparent conductive film layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, wherein the pattern is etched by photolithography or plasma etching. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 1차 금속전극층 및 2차 금속전극층은,
은(Ag), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al) 중에 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method according to claim 1 or 2,
The primary metal electrode layer and the secondary metal electrode layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of tempered glass, characterized in that it comprises at least one selected from silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al). 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 1차 금속전극층 및 2차 금속전극층은,
실크스크린 인쇄 또는 증착에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method according to claim 1 or 2,
The primary metal electrode layer and the secondary metal electrode layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, which is formed by silk screen printing or deposition. 제1항에 있어서,
상기 절연막층은,
실리카(SiO2), PET(Polyethyleneterephthalate) 및 폴리이미드(Polyimide) 중에 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The insulating film layer,
Capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, characterized in that any one selected from silica (SiO 2 ), PET (Polyethyleneterephthalate) and polyimide (Polyimide). 제1항에 있어서,
상기 절연막층은,
실크스크린 인쇄 또는 증착에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The insulating film layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, which is formed by silk screen printing or deposition. 제1항에 있어서,
상기 절연막층은,
콘텍트홀(Contact Hole)이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널.The method of claim 1,
The insulating film layer,
A capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, wherein a contact hole is further formed. 기판인 강화유리판을 준비하는 제1 단계;
상기 강화유리판 상의 가장자리를 부분적으로 인쇄하여 스크리닝층을 형성하는 제2 단계;
상기 강화유리판 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 1차 투명도전막을 형성하는 제3 단계;
상기 증착된 1차 투명도전막을 식각하여 패턴을 형성하는 제4 단계;
상기 강화유리층 및 상기 1차 투명도전막층 상에 전기적 절연성 물질을 인쇄 또는 증착함으로써, 절연막을 형성하여 상기 강화유리층의 전체면을 커버하도록 하는 제5 단계;
상기 절연막 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 2차 투명도전막을 형성하는 제6 단계;
상기 증착된 2차 투명도전막을 식각하여 패턴을 형성하는 제7 단계; 및
상기 절연막 상에, 상기 제2 단계의 스크리닝층이 형성된 범위에 포함되도록 금속물질을 인쇄하여 2차 금속전극층을 형성하는 제8 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.A first step of preparing a tempered glass sheet serving as a substrate;
A second step of partially printing an edge on the tempered glass plate to form a screening layer;
A third step of forming a first transparent conductive film by depositing a transparent conductive material on the tempered glass plate;
A fourth step of forming a pattern by etching the deposited first transparent conductive film;
A fifth step of forming an insulating film to cover the entire surface of the tempered glass layer by printing or depositing an electrically insulating material on the tempered glass layer and the first transparent conductive film layer;
A sixth step of forming a second transparent conductive film by depositing a transparent conductive material on the insulating film;
A seventh step of etching the deposited second transparent conductive film to form a pattern; And
A two-layer transparent conductive film is formed on one surface of the tempered glass, the eighth step of forming a secondary metal electrode layer by printing a metal material on the insulating film so as to fall within a range in which the screening layer of the second step is formed. Method of manufacturing a capacitive touch panel having. 제15항에 있어서,
상기 제4 단계와 제5 단계의 사이에,
상기 제2 단계의 스크리닝층 상에 금속물질을 인쇄하여 1차 금속전극층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
Between the fourth step and the fifth step,
A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of tempered glass, further comprising forming a primary metal electrode layer by printing a metal material on the screening layer of the second step. 제15항에 있어서,
상기 제4 단계의 1차 투명도전막 패턴은,
일축의 방향으로 형성하고,
상기 제7 단계의 2차 투명도전막 패턴은,
상기 1차 투명도전막 패턴에 대하여 수직을 이루는 다른 일축의 방향으로 형성하여 터치의 위치를 검출할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
The first transparent conductive film pattern of the fourth step,
Formed in the direction of one axis,
The second transparent conductive film pattern of the seventh step,
Method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of the tempered glass, characterized in that the position of the touch can be detected by forming in the direction of one uniaxial direction perpendicular to the first transparent conductive film pattern. . 제15항에 있어서,
상기 제4 단계의 1차 투명도전막 패턴은,
일축의 방향 및 이에 수직을 이루는 다른 일축 방향으로 형성하고, 상기 다른 일축 방향의 패턴은 단속적으로 형성하여 상기 일축 방향의 패턴과 쇼트(short)를 일으키지 않도록 하며,
상기 제7 단계의 2차 투명도전막 패턴은,
브릿지(bridge) 방식으로 형성하여 상기 단속적으로 형성된 다른 일축 방향의 패턴을 연결하도록 하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
The first transparent conductive film pattern of the fourth step,
It is formed in the direction of one axis and the other uniaxial direction perpendicular to this, and the other uniaxial pattern is formed intermittently so as not to cause a short with the pattern in the uniaxial direction,
The second transparent conductive film pattern of the seventh step,
A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, the bridge is formed in a bridge manner to connect the intermittently formed uniaxial patterns. 제15항에 있어서,
상기 제2 단계의 인쇄는,
실크스크린 인쇄인 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
The printing of the second step,
A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of tempered glass, which is silk screen printing. 제15항에 있어서,
상기 제3 단계 및 제6 단계의 상기 1차 투명도전막 및 2차 투명도전막은,
ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), AZO(Antimon Tin Oxide), 탄소나노튜브(CNT, Carborn Nanotube) 및 전도성 고분자 중에 선택된 어느 하나를 포함하는 물질로 하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
The first transparent conductive film and the second transparent conductive film of the third and sixth step,
A material containing any one selected from indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), antimony tin oxide (AZO), carbon nanotubes (CNT), and conductive polymers. A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass. 제15항에 있어서,
상기 제3 단계 및 제6 단계의 증착은,
스퍼터링증착(Sputtering Deposition) 또는 플라즈마증착(Plasma Deposition)인 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법16. The method of claim 15,
Deposition of the third and sixth step,
Method for manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, characterized in that it is sputtering deposition or plasma deposition 제15항 또는 제16항에 있어서,
상기 1차 및 2차 금속전극층은,
은(Ag), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al) 중에 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.The method according to claim 15 or 16,
The primary and secondary metal electrode layers,
A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of tempered glass, characterized in that it comprises at least one selected from silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al). 제15항 또는 제16항에 있어서,
상기 1차 및 2차 금속전극층은,
실크스크린 인쇄 또는 증착으로 형성하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.The method according to claim 15 or 16,
The primary and secondary metal electrode layers,
A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, which is formed by silk screen printing or vapor deposition. 제15항에 있어서,
상기 제5 단계의 절연막은,
실리카(SiO2), PET(Polyethyleneterephthalate) 및 폴리이미드(Polyimide) 중에 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
The insulating film of the fifth step,
Silica (SiO 2 ), PET (Polyethyleneterephthalate) and polyimide (Polyimide), characterized in that any one of the method of manufacturing a capacitive touch panel having a transparent conductive film of two layers on one side of the tempered glass. 제15항에 있어서,
상기 제5 단계의 절연막은,
인쇄 또는 증착에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
The insulating film of the fifth step,
A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive film on one surface of tempered glass, which is formed by printing or deposition. 제15항에 있어서,
상기 제5 단계는,
상기 절연막에 콘텍트홀(Contact Hole)을 형성하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 강화유리 일면에 두 층의 투명도전막을 갖는 정전용량방식 터치패널의 제조방법.16. The method of claim 15,
The fifth step,
A method of manufacturing a capacitive touch panel having two layers of transparent conductive films on one surface of tempered glass, further comprising forming a contact hole in the insulating film.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103396012A (en) * 2013-07-23 2013-11-20 蓝思科技（长沙）有限公司 Method for realizing patterns and colors of visual window frames of touch panel by adopting metal or alloy
KR101366510B1 (en) * 2011-10-31 2014-02-24 (주)태양기전 Touch panel having multi-layer metal line and method of manufacturing the same
KR101403541B1 (en) * 2012-04-18 2014-06-11 주식회사 이노터치테크놀로지 High strengthened capacitive touch panel and method for manufacturing the same
KR101426077B1 (en) * 2013-03-13 2014-08-05 에스맥 (주) touch screen panel
KR101469653B1 (en) * 2013-02-28 2014-12-05 이성규 Touch screen panel and fabricating method thereof
KR101673483B1 (en) * 2015-08-10 2016-11-07 주식회사 사파이어테크놀로지 Touch panel with hollow silica insulating layer on sapphire substrate and its manufacturing method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090015482A (en) * 2007-08-08 2009-02-12 써모세람코리아 주식회사 Window-unified thin film touch panel of glass-glass type, and manufacturing method thereof
KR100894310B1 (en) 2008-09-26 2009-04-24 주식회사 토비스 Touch panel using tempered glass

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101366510B1 (en) * 2011-10-31 2014-02-24 (주)태양기전 Touch panel having multi-layer metal line and method of manufacturing the same
KR101403541B1 (en) * 2012-04-18 2014-06-11 주식회사 이노터치테크놀로지 High strengthened capacitive touch panel and method for manufacturing the same
KR101469653B1 (en) * 2013-02-28 2014-12-05 이성규 Touch screen panel and fabricating method thereof
KR101426077B1 (en) * 2013-03-13 2014-08-05 에스맥 (주) touch screen panel
CN103396012A (en) * 2013-07-23 2013-11-20 蓝思科技（长沙）有限公司 Method for realizing patterns and colors of visual window frames of touch panel by adopting metal or alloy
KR101673483B1 (en) * 2015-08-10 2016-11-07 주식회사 사파이어테크놀로지 Touch panel with hollow silica insulating layer on sapphire substrate and its manufacturing method

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