KR20110097676A - Photocurable resin composition and article having cured coating thereof, and method for preparation thereof - Google Patents
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Abstract
고경도이며 투명성, 대전방지성, 보존안정성, 내습열성, 습열 조건하에서의 밀착성이 우수하고, 광 조사에 의한 경화시에 도공 라인의 반송 속도에 관계없이 백화가 생기지 않는 광경화성 수지 조성물, 및 그 경화 피막을 가지는 물품, 그 제조 방법을 제공한다.
(1) 평균 입자 직경이 80nm 이하의 무기 산화물 미립자,
(2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물,
(3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물,
(4) R1R2R3R4N+X-(R1~R4는 CH3, C2H5, C2H4OCH3, C6H13 또는 C8H17, X는 N(SO2CF3)2, BF4 또는 PF6)로 나타내는 이온성 화합물,
(5) Li+Y-(Y는 ClO4, SO2CF3, SO2C2F5, N(SO2CF3)2, N(SO2C2F5)2, BF4 또는 PF6)로 나타내는 이온성 화합물,
(6) 래디컬계 광중합 개시제
를 특정 비율로 함유하여 이루어지는 광경화성 수지 조성물.A photocurable resin composition having high hardness, excellent transparency, antistatic property, storage stability, moisture heat resistance, and wet heat resistance, and no whitening regardless of the conveyance speed of the coating line during curing by light irradiation, and curing thereof An article having a coating and a method of manufacturing the same are provided.
(1) inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 80 nm or less,
(2) a compound containing three or more (meth) acryl groups,
(3) a compound containing one or two (meth) acryl groups;
(4) R 1 R 2 R 3 R 4 N + X - (R 1 ~ R 4 is CH 3, C 2 H 5, C 2 H 4 OCH 3, C 6 H 13 or C 8 H 17, X is N Ionic compound represented by (SO 2 CF 3 ) 2 , BF 4 or PF 6 ),
(5) Li + Y - ( Y is ClO 4, SO 2 CF 3, SO 2 C 2 F 5, N (SO 2 CF 3) 2, N (SO 2 C 2 F 5) 2, BF 4 or PF 6 Ionic compounds represented by
(6) radical type photoinitiator
Photocurable resin composition which contains in a specific ratio.
Description
본 발명은 도료, 코팅 등에 사용되는 광경화성 수지 조성물, 및 그 경화 피막을 가지는 물품, 그 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고경도이며 투명성, 대전방지성, 보존안정성, 습열 조건하에서의 기재로의 밀착성이 우수하고, 또한 광 조사에 의한 경화시에, 도공 라인의 반송 속도에 관계없이 백화가 생기지 않는 수지 조성물, 및 그 경화 피막을 가지는 물품, 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an article having a photocurable resin composition for use in paints, coatings, and the like, and to a cured coating thereof, and more particularly, to a substrate having high hardness, transparency, antistatic properties, storage stability, and moist heat conditions. It is excellent in the adhesiveness, and at the time of hardening by light irradiation, the resin composition which does not produce whitening irrespective of the conveyance speed of a coating line, and the article which has its cured film, and its manufacturing method are related.
폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 환상 폴리올레핀 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지 등의 합성 수지는 경량·투명성·용이가공성 등의 이점을 가진다. 그래서, 그러한 합성 수지는 최근 CD, DVD 등의 광디스크, 액정, EL 패널 등의 표시창, 각종 기능성 필름 등, 각종 분야에서 이용되고 있다. 그들의 표면의 내찰상성을 향상시키기 위해서, 투명하고 또한 내찰상성을 가지는 하드 코트를 매체의 기록 및/또는 재생 빔 입사측 표면에 형성하는 것이 일반적으로 행해지고 있다.Synthetic resins, such as polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, cyclic polyolefin resin, polyethylene terephthalate resin, and triacetyl cellulose resin, have advantages such as light weight, transparency and easy processing. Thus, such synthetic resins have recently been used in various fields such as optical discs such as CDs and DVDs, display windows such as liquid crystals and EL panels, and various functional films. In order to improve the scratch resistance of these surfaces, it is generally performed to form a hard coat that is transparent and has scratch resistance on the recording and / or reproduction beam incident side surface of the medium.
하드 코트의 형성은 분자중에 (메타)아크릴로일기 등의 광반응성기를 2개 이상 가지는 화합물이나, (메타)아크릴로일기 등의 광반응성기를 가지는 알콕시실란을 염기성 촉매 존재하에서 가수분해 축합한 바구니형 구조의 실록산 화합물(일본 특허 공개 2002-363414호 공보, 일본 특허 공개 2004-143449호 공보:특허문헌 1, 2)이나, 광반응성기를 가지는 알콕시실란과 콜로이달실리카의 반응물 등을 함유하는 조성물을 매체 표면에 도포하고, 이것을 자외선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 경화시킴으로써 행해진다. 이들의 대전방지성의 향상을 목적으로, 각종 대전방지제의 첨가가 검토되고 있다. 폴리에테르 변성 실리콘과 과염소산 리튬의 반응물(일본 특허 공개 평5-320625호 공보:특허문헌 3)이나, 다관능 아크릴과 과염소산 리튬의 반응물(일본 특허 제3673590호 공보:특허문헌 4), 다관능 아크릴레이트와 (CF3SO2)2NLi의 혼합물(일본 특허 공개 평9-278831호 공보, 일본 특허 공개 2001-288325호 공보:특허문헌 5, 6)이 제안되어 있지만, 내찰상성은 불충분하다.Formation of the hard coat is a cage in which a compound having two or more photoreactive groups such as (meth) acryloyl group in the molecule or alkoxysilane having photoreactive groups such as (meth) acryloyl group is hydrolyzed and condensed in the presence of a basic catalyst. A composition containing a siloxane compound having a structure (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-363414, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-143449: Patent Literatures 1 and 2), a composition containing a reactant of an alkoxysilane and colloidal silica having a photoreactive group, and the like It apply | coats to a surface and hardens it by irradiation of active energy rays, such as an ultraviolet-ray. For the purpose of improving these antistatic properties, the addition of various antistatic agents has been studied. Reactant of polyether modified silicone and lithium perchlorate (Japanese Patent Laid-Open No. 5-320625: Patent Document 3), Reactant of polyfunctional acrylic and lithium perchlorate (Japanese Patent No. 3673590: Patent Document 4), polyfunctional acrylic Although a mixture of a rate and (CF 3 SO 2 ) 2 NLi (Japanese Patent Laid-Open No. 9-278831, Japanese Patent Laid-Open Nos. 2001-288325: Patent Literatures 5 and 6) has been proposed, scratch resistance is insufficient.
그래서, 내찰상성을 개선할 목적에서, 실리카 및 실란 가수분해물과 (CF3SO2)2NLi의 혼합물(일본 특허 공개 2005-146110호 공보, 일본 특허 공개 2006-70120호 공보, 일본 특허 공개 2008-222951호 공보:특허문헌 7~9)이 제안되어 있지만, 용제를 함유하는 것으로, 경화시에 용제를 처리하는 설비가 필요하여, 설비 비용 부담이 커진다는 문제가 있었다.Therefore, for the purpose of improving the scratch resistance, a mixture of silica and silane hydrolyzate with (CF 3 SO 2 ) 2 NLi (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-146110, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-70120, Japanese Patent Laid-Open 2008- 222951 (Patent Documents 7 to 9) have been proposed, but since the solvent is contained, a facility for treating the solvent at the time of curing is required, resulting in a large facility cost burden.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 고경도이며 투명성, 대전방지성, 보존안정성, 내습열성, 습열 조건하에서의 기재로의 밀착성이 우수하고, 또한 광 조사에 의한 경화시에, 도공 라인의 반송 속도에 관계없이 백화가 생기지 않는 광경화성 수지 조성물, 및 그 경화 피막을 가지는 물품, 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said situation, It is high hardness, is excellent in adhesiveness to a base material under transparency, antistatic property, storage stability, moist heat resistance, and moist heat conditions, and conveyance of a coating line at the time of hardening by light irradiation. It aims at providing the photocurable resin composition which whitening does not produce regardless of a speed | rate, the article which has its hardened film, and its manufacturing method.
본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 검토를 거듭한 결과, (1) 평균 입자 직경이 80nm 이하의 무기 산화물 미립자, (2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물, (3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물, (4) 하기에 나타내는 지방족 아민계 이온성 화합물, (5) 하기에 나타내는 리튬계 이온성 화합물, 및 (6) 래디컬계 광중합 개시제를 특정 비율로 함유하는 광경화성 수지 조성물이, 보존안정성이 우수하고, 광 조사에 의한 경화시에, 도공 라인의 반송 속도에 관계없이 백화를 생기게 하지 않으며, 이 조성물을 경화시켜 이루어지는 피막은 지지기체에 대하여 습열 조건하에서의 밀착성이 양호하며, 투명성이 높고, 내찰상성, 대전방지성이 우수한 것을 알아냈다. 또 이 경우, 이 광경화성 수지 조성물은 용제를 실질적으로 함유하지 않는 상태에서 적합하게 사용할 수 있는 것을 지견하여, 본 발명을 이루기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly examined in order to achieve the said objective, As a result, (1) inorganic oxide microparticles whose average particle diameter is 80 nm or less, (2) the compound containing three or more (meth) acryl groups, (3) (meth A compound containing one or two acrylic groups, (4) an aliphatic amine ionic compound shown below, (5) a lithium ionic compound shown below, and (6) a radical photoinitiator are contained at a specific ratio. The photocurable resin composition which is excellent in storage stability and does not produce whitening irrespective of the conveyance speed of a coating line at the time of hardening by light irradiation, and the film formed by hardening this composition is made under the conditions of wet heat conditions with respect to a support gas. It was found that the adhesion was good, the transparency was high, and the scratch resistance and the antistatic property were excellent. Moreover, in this case, it discovered that this photocurable resin composition can be used suitably in the state which does not contain a solvent substantially, and reached | attained this invention.
따라서, 본 발명은 하기에 나타내는 광경화성 수지 조성물 및 그 경화 피막을 가지는 물품, 그 제조 방법을 제공한다.Therefore, this invention provides the article which has a photocurable resin composition shown below and its cured film, and its manufacturing method.
〔청구항 1〕[Claim 1]
(1) 평균 입자 직경이 80nm 이하의 무기 산화물 미립자,(1) inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 80 nm or less,
(2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물,(2) a compound containing three or more (meth) acryl groups,
(3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물,(3) a compound containing one or two (meth) acryl groups;
(4) R1R2R3R4N+X-(R1, R2, R3, R4는 CH3, C2H5, C2H4OCH3, C6H13, C8H17로부터 선택되는 기이며, 각각의 기는 동일해도 되고 상이해도 된다. X는 N(SO2CF3)2, BF4 또는 PF6로부터 선택되는 기이다.)로 나타내는 이온성 화합물, (4) R 1 R 2 R 3 R 4 N + X - (R 1, R 2, R 3, R 4 is CH 3, C 2 H 5, C 2 H 4 OCH 3, C 6 H 13, C 8 is a group selected from H 17, may be the same or different and each group. X is N (SO 2 CF 3) an ionic compound represented by the formula 2, BF 4, or a group selected from PF 6.),
(5) Li+Y-(Y는 ClO4, SO2CF3, SO2C2F5, N(SO2CF3)2, N(SO2C2F5)2, BF4 또는 PF6로부터 선택되는 기이다.)로 나타내는 이온성 화합물, (5) Li + Y - ( Y is ClO 4, SO 2 CF 3, SO 2 C 2 F 5, N (SO 2 CF 3) 2, N (SO 2 C 2 F 5) 2, BF 4 or PF 6 Ionic compounds represented by
(6) 래디컬계 광중합 개시제(6) radical type photoinitiator
를 함유하여 이루어지고, (1), (2), (3)성분의 합계 100질량부중, (1)성분이 25~70질량부, (2)성분이 20~70질량부, (3)성분이 5~30질량부이며, (1), (2), (3)성분의 합계 100질량부에 대하여, (4)성분이 0.05~3질량부, (5)성분이 0.1~7질량부, (6)성분이 1~8질량부인 광경화성 수지 조성물.Containing, (1) 25-70 mass parts of (1) components, 20-70 mass parts of (2) components, and (3) component in 100 mass parts of total of (1), (2), and (3) component It is this 5-30 mass parts, 0.05-4 mass parts of (4) components, 0.1-7 mass parts of (5) components with respect to 100 mass parts of total of (1), (2), (3) component, (6) Photocurable resin composition whose component is 1-8 mass parts.
〔청구항 2〕[Claim 2]
(1)성분의 평균 입자 직경이 80nm 이하의 무기 산화물 미립자가 실리카 미립자인 청구항 1에 기재된 광경화성 수지 조성물.(1) The photocurable resin composition of Claim 1 whose inorganic particle fine particles of 80 nm or less of average particle diameters of a component are silica fine particles.
〔청구항 3〕[Claim 3]
실리카 미립자가 (메타)아크릴기를 함유하는 실란 커플링제로 처리된 것인 청구항 2에 기재된 광경화성 수지 조성물.The photocurable resin composition of Claim 2 in which a silica microparticle is processed with the silane coupling agent containing a (meth) acryl group.
〔청구항 4〕[Claim 4]
실질적으로 용제를 함유하지 않고, 25℃에 있어서의 점도가 300mPa·s 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물.It does not contain a solvent substantially, and the viscosity in 25 degreeC is 300 mPa * s or less, The photocurable resin composition in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
〔청구항 5〕[Claim 5]
(1)성분을 (2)성분 및/또는 (3)성분에 미리 분산한 혼합물에 (4), (5) 및 (6)성분을 혼합하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물.(1) The component which mixes (4), (5), and (6) component in the mixture which disperse | distributed the component to (2) component and / or (3) component previously, It is characterized by any of Claims 1-4. The photocurable resin composition of Claim.
〔청구항 6〕[Claim 6]
청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물의 경화 피막이 형성되어 이루어지고, 전광선투과율이 85% 이상, Haze가 2% 이하, ASTM D1044에 의한 테이퍼 마모 시험에 있어서의 하중 500g, 100회전시에 있어서의 Haze의 변화율이 8% 이하, 표면저항값이 1×1015Ω 이하인 것을 특징으로 하는 물품.The hardened film of the photocurable resin composition of any one of Claims 1-5 is formed, the total light transmittance is 85% or more, Haze is 2% or less, the load 500g and 100 rotations in the taper abrasion test by ASTM D1044. An article having a rate of change of Haze of 8% or less and a surface resistance of 1 × 10 15 Ω or less in the city.
〔청구항 7〕[Claim 7]
경화 피막이 형성되는 물품이 폴리카보네이트를 50질량% 이상 함유하는 수지 조성물에 의해 성형된 것인 청구항 6에 기재된 물품.The article according to claim 6, wherein the article on which the cured coating film is formed is molded from a resin composition containing 50% by mass or more of polycarbonate.
〔청구항 8〕[Claim 8]
청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물을 마이크로 그라비아법으로 피처리 물품상에 도공하고, 자외선 조사로 경화시킴으로써 상기 피처리 물품상에 경화 피막을 형성시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 물품의 제조 방법.The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 5 is coated on the article to be treated by the microgravure method and cured by ultraviolet irradiation to form a cured film on the article to be treated. Manufacturing method.
본 발명의 광경화성 수지 조성물은 (메타)아크릴기 함유 화합물중에 분산된 무기 산화물 미립자에, 지방족 아민계 이온성 화합물과 리튬계 이온성 화합물을 특정량 혼합함으로써, 무기 산화물 미립자와 이온성 화합물의 상승 효과에 의해 대전방지성과 분산안정성의 양쪽의 효과에 기여하고, 실질적으로 용제를 배합하지 않아도, 보존안정성이 양호하며, 투명성이 높고, 내마모성, 대전방지성, 습열 조건하에서의 밀착성이 우수한 피막이 얻어진다.The photocurable resin composition of this invention raises an inorganic oxide fine particle and an ionic compound by mixing a specific amount of an aliphatic amine type ionic compound and a lithium type ionic compound in the inorganic oxide fine particle disperse | distributed in the (meth) acryl group containing compound. The effect contributes to both effects of antistatic property and dispersion stability, and provides a film having good storage stability, high transparency, excellent transparency, wear resistance, antistatic property, and adhesion under moist heat conditions even without substantially mixing the solvent.
본 발명의 광경화성 수지 조성물은,The photocurable resin composition of the present invention,
(1) 평균 입자 직경이 80nm 이하의 무기 산화물 미립자,(1) inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 80 nm or less,
(2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물,(2) a compound containing three or more (meth) acryl groups,
(3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물,(3) a compound containing one or two (meth) acryl groups;
(4) 지방족 아민계 이온성 화합물,(4) aliphatic amine-based ionic compounds,
(5) 리튬계 이온성 화합물,(5) lithium-based ionic compounds,
(6) 래디컬계 광중합 개시제(6) radical type photoinitiator
를 함유하는 것이다.It contains.
(1) 무기 산화물 미립자(1) inorganic oxide fine particles
본 발명의 (1) 무기 산화물 미립자는 예를 들어 Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, Sb, Ce, Fe 등의 산화물 미립자, 또는 이들의 복합 산화물 미립자 등을 들 수 있다. 금속 산화물 미립자로서 구체적으로는 예를 들어 실리카, 알루미나, 지르코니아, 티타니아, 산화세륨 등의 미립자를 들 수 있다.Examples of the (1) inorganic oxide fine particles of the present invention include oxide fine particles such as Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, Sb, Ce, Fe, or composite oxide fine particles thereof. Specific examples of the metal oxide fine particles include fine particles such as silica, alumina, zirconia, titania, and cerium oxide.
이들 무기 산화물 미립자의 평균 입자 직경은 80nm 이하이며, . 바람직하게는 50nm 이하이다. 80nm보다 큰 것을 사용하면, 안정성이 나빠지고, 피막에 입자형상의 이물이 보이거나, 투명성을 손상시켜버리거나 한다. 또한, 그 하한은 통상 10nm 이상이다. 또, 본 발명에 있어서, 평균 입자 직경은 동적 광산란 광자 상관법에 의한 입도분포 측정장치에 의해 측정할 수 있다.These inorganic oxide fine particles have an average particle diameter of 80 nm or less. Preferably it is 50 nm or less. If a size larger than 80 nm is used, stability deteriorates, and foreign matters in the form of particles appear on the film or the transparency is impaired. In addition, the minimum is 10 nm or more normally. In addition, in this invention, an average particle diameter can be measured by the particle size distribution measuring apparatus by a dynamic light scattering photon correlation method.
특히 바람직한 무기 산화물 미립자로서는 실리카 미립자이며, 평균 입자 직경이 50nm 이하이면 보다 바람직하다. 또, 실리카 미립자는 저굴절율 등의 효과가 기대되는 중공, 다공질의 것을 사용해도 된다. 실리카 미립자 중에서도 활성 에너지선 반응성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물에 의해 표면 수식된 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 반응성 실리카 미립자는 조성물을 경화시킬 때의 활성 에너지선 조사에 의해, 가교 반응을 일으키고, 폴리머 매트릭스중에 고정된다.As especially preferable inorganic oxide fine particles, it is a silica fine particle, and it is more preferable if an average particle diameter is 50 nm or less. Moreover, you may use the hollow and porous thing for which silica microparticles | fine-particles effect is expected, such as a low refractive index. Among the silica fine particles, those surface-modified by a hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group are preferably used. Such reactive silica fine particles cause crosslinking reactions and are fixed in the polymer matrix by active energy ray irradiation when curing the composition.
여기서, 활성 에너지선 반응성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물로서는 (메타)아크릴기를 함유하는 실란 커플링제를 들 수 있고, 구체적으로는 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리클로로실란, γ-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필메틸디클로로실란, γ-메타크릴옥시프로필디메틸메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필디메틸에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필디메틸클로로실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리클로로실란, γ-아크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필메틸디클로로실란, γ-아크릴옥시프로필디메틸메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필디메틸에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필디메틸클로로실란, γ-아크릴옥시메틸트리메톡시실란, γ-아크릴옥시메틸트리에톡시실란, γ-아크릴옥시메틸트리클로로실란, γ-아크릴옥시메틸메틸디메톡시실란, γ-아크릴옥시메틸메틸디에톡시실란, γ-아크릴옥시메틸메틸디클로로실란, γ-아크릴옥시메틸디메틸메톡시실란, γ-아크릴옥시메틸디메틸에톡시실란, γ-아크릴옥시메틸디메틸클로로실란을 예시할 수 있다.Here, as a hydrolyzable silane compound which has an active energy ray reactive group, the silane coupling agent containing a (meth) acryl group is mentioned, Specifically, (gamma) -methacryloxypropyl trimethoxysilane and (gamma) -methacryloxypropyl trie Oxysilane, γ-methacryloxypropyltrichlorosilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldichlorosilane, γ-methacryloxy Propyldimethylmethoxysilane, γ-methacryloxypropyldimethylethoxysilane, γ-methacryloxypropyldimethylchlorosilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, γ-acrylic Oxypropyltrichlorosilane, γ-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-acryloxypropylmethyldichlorosilane, γ -Acryloxypropyldimethylmethoxysilane, γ-acryloxypropyldimethylethoxysilane, γ-acryloxypropyldimethylchlorosilane, γ-acryloxymethyltrimethoxysilane, γ-acryloxymethyltriethoxysilane, γ- Acryloxymethyltrichlorosilane, (gamma) -acryloxymethylmethyldimethoxysilane, (gamma) -acryloxymethylmethyl diethoxysilane, (gamma) -acryloxymethylmethyldichlorosilane, (gamma) -acryloxymethyldimethylmethoxysilane, (gamma) -acryloxy Methyl dimethyl ethoxysilane and (gamma) -acryloxymethyl dimethyl chlorosilane can be illustrated.
또, 활성 에너지선 반응성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물의 표면 수식량은 입자에 대하여 바람직하게는 0.1~10질량%, 보다 바람직하게는 0.5~8질량%, 특히 바람직하게는 1~5질량%이다.Moreover, the surface modification amount of the hydrolyzable silane compound which has an active energy ray reactive group is 0.1-10 mass% with respect to particle | grains, More preferably, it is 0.5-8 mass%, Especially preferably, it is 1-5 mass%.
활성 에너지선 반응성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물에 의한 표면 수식의 방법으로서는, 실리카 미립자 존재하에서 활성 에너지선 반응성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물을 가수분해하는 방법을 들 수 있는데, 그 때에 부생하는 활성 에너지선 반응성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물의 가수분해물은 보존안정성을 악화시키는, 혹은 경도를 저하시키는 원인 등이 되므로, 그들을 없애도록 해야한다.As a method of surface modification by the hydrolyzable silane compound which has an active energy ray reactive group, the method of hydrolyzing the hydrolysable silane compound which has an active energy ray reactive group in presence of silica microparticles | fine-particles is mentioned, The active energy ray reactivity which by-produces at that time The hydrolyzate of the hydrolyzable silane compound having a group may cause deterioration in storage stability or deterioration in hardness, and thus should be removed.
이들 (1) 무기 산화물 미립자를 후술하는 (2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물이나, (3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물에, 1차입자인채로 분산한 것을 사용하는 것이 바람직하고, 1차입자로 존재시킴으로써 투명성 등의 외관이 양호한 피막을 얻을 수 있다.These (1) inorganic oxide microparticles | fine-particles disperse | distributed as a primary particle to the compound containing three or more (2) (meth) acryl groups mentioned later, or (3) the compound containing one or two (meth) acryl groups. It is preferable to use a thing, and a film with favorable external appearance, such as transparency, can be obtained by existing as a primary particle.
구체적으로는 무기 산화물 미립자를 (메타)아크릴기 함유 화합물중에 분산제나 분산기기를 사용하여, 물리적으로 분산하는 방법이나, 무기 산화물 미립자가 분산된 용액에 (메타)아크릴기 함유 화합물을 첨가한 후, 원래의 분산제를 증류제거하는 방법을 들 수 있다.Specifically, after dispersing the inorganic oxide fine particles in the (meth) acryl group-containing compound using a dispersing agent or a dispersing device, or adding the (meth) acryl group-containing compound to the solution in which the inorganic oxide fine particles are dispersed, And a method of distilling off the original dispersant.
(2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물(2) A compound containing three or more (meth) acryl groups
본 발명의 (2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물은, (1) 무기 산화물 미립자 및 (3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물과 함께, 경화성 성분의 주성분이 되는 것이며, 경화후에 얻어지는 피막의 매트릭스를 형성하는 것이다. (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물은 (1)성분의 무기 산화물 미립자를 분산함과 아울러 바인더 성분이며, 이 화합물에 의해, 내마모성이 우수하고, 고경도의 경화물이 얻어지는 것이다.The compound containing three or more (2) (meth) acryl groups of this invention is a main component of a curable component with the compound containing (1) inorganic oxide fine particles and (3) one or two (meth) acryl groups. It forms the matrix of the film obtained after hardening. The compound containing three or more (meth) acryl groups disperse | distributes the inorganic oxide microparticles | fine-particles of (1) component, and is a binder component, By this compound, it is excellent in abrasion resistance and the hardened | cured material of a high hardness is obtained.
(2)성분의 (메타)아크릴기 함유 화합물은 분자내에 3개 이상의 (메타)아크릴기를 가지는 화합물이며, 예를 들어, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 메톡실레이트펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에톡실레이트펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리아크릴화이소시아누레이트 등을 들 수 있다. 또, 3관능 이상의 우레탄아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 활성 에너지선 반응성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물의 가수분해 축합물 등의 폴리머 성분도 들 수 있지만, 반드시 이들에 한정되는 것은 아니다.The (meth) acryl group-containing compound of (2) component is a compound which has three or more (meth) acryl groups in a molecule | numerator, For example, trimethylol propane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate , Methoxylate pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethoxylate pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, isocyanate isocyanurate, etc. are mentioned. Moreover, although polymer components, such as a trifunctional or more than urethane acrylate, polyester acrylate, and the hydrolysis-condensation product of the hydrolyzable silane compound which has an active energy ray reactive group, are mentioned, it is not necessarily limited to these.
이들 화합물은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.These compounds may use only 1 type and may use 2 or more types together.
(3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물(3) Compounds containing one or two (meth) acryl groups
본 발명의 (3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물은, (1) 무기 산화물 미립자 및 (2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물과 함께, 경화성 성분의 주성분이 되는 것이며, 경화후에 얻어지는 피막의 매트릭스를 형성하는 것이다.The compound containing one or two (3) (meth) acryl groups of the present invention is a main component of the curable component together with the compound containing (1) inorganic oxide fine particles and (2) three or more (meth) acryl groups. It forms the matrix of the film obtained after hardening.
특히 조성물의 점도를 저하시키기 위한 성분임과 동시에, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 환상 폴리올레핀 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지 등과의 밀착성을 향상시키기 위한 성분이다.In particular, it is a component for reducing the viscosity of a composition and at the same time, it is a component for improving adhesiveness with polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, cyclic polyolefin resin, polyethylene terephthalate resin, triacetyl cellulose resin, and the like.
(3)성분은 조성물의 점도를 저하시키기 위해서, 25℃에 있어서의 점도가 100mPa·s 이하, 특히 50mPa·s 이하인 것이 바람직하다. 하한은 특별히 제한되지 않지만, 통상 1mPa·s 이상이다. 또한, 점도는 회전점도계에 의해 측정할 수 있다(이하, 동일).(3) In order for a component to reduce the viscosity of a composition, it is preferable that the viscosity in 25 degreeC is 100 mPa * s or less, especially 50 mPa * s or less. Although a minimum in particular is not restrict | limited, Usually, it is 1 mPa * s or more. In addition, a viscosity can be measured with a rotational viscometer (it is the same hereafter).
이 (메타)아크릴기 함유 화합물은 특별히 밀착성을 향상시키기 위해서, 분자내에 수산기, 에폭시기 등의 관능기를 가지는 것이 바람직하다. 또, 피부 자극성 PII값이 4.0 이상인 것이 바람직하다. 또한, 각 화합물의 피부 자극성 PII값은 문헌 등에 의해 조사할 수 있다.It is preferable that this (meth) acryl group containing compound has functional groups, such as a hydroxyl group and an epoxy group, in a molecule | numerator especially in order to improve adhesiveness. Moreover, it is preferable that skin irritation PII value is 4.0 or more. In addition, the skin irritation PII value of each compound can be investigated by literature etc.
예를 들어, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디아크릴화이소시아누레이트, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀A디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 반드시 이들에 한정되는 것은 아니다.For example, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di ( Meta) acrylate, diacrylate isocyanurate, ethylene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate, and the like, but are not limited to these.
이들 화합물은 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.These compounds may use only 1 type and may use 2 or more types together.
(1)성분의 배합량은 (1)성분과 (2)성분과 (3)성분의 합계 100질량부중, 25~70질량부, 바람직하게는 35~60질량부이며, (2)성분의 배합량은 (1)성분과 (2)성분과 (3)성분의 합계 100질량부중, 20~70질량부, 바람직하게는 30~55질량부이며, (3)성분의 배합량은 (1)성분과 (2)성분과 (3)성분의 합계 100질량부중, 5~30질량부, 바람직하게는 10~20질량부이다.The compounding quantity of (1) component is 25-70 mass parts in a total of 100 mass parts of (1) component, (2) component, and (3) component, Preferably it is 35-60 mass parts, and the compounding quantity of (2) component is It is 20-70 mass parts, Preferably it is 30-55 mass parts in 100 mass parts of total of (1) component, (2) component, and (3) component, The compounding quantity of (3) component is (1) component and (2 In 100 mass parts of total of a component and (3) component, it is 5-30 mass parts, Preferably it is 10-20 mass parts.
(1)성분과 (2)성분과 (3)성분의 합계 100질량부중, (1)성분의 배합량이 25질량부 미만이면, 경도가 저하되고, 충분한 내마모성이 얻어지지 않게 되며, 70질량부를 넘으면, 피막의 외관이 나빠진다. 또, (2)성분의 배합량이 20질량부 미만이면, 분산 안정성이 나쁘고, 피막 외관을 악화시켜버리며, 70질량부를 넘으면, 경도가 저하된다. (3)성분의 배합량이 5질량부 미만이면, 밀착성이 나빠지고, 30질량부를 넘으면, 경도가 저하된다.If the compounding quantity of (1) component is less than 25 mass parts in total of 100 mass parts of (1) component, (2) component, and (3) component, hardness will fall and sufficient abrasion resistance will not be obtained, and if it exceeds 70 mass parts , The appearance of the coating is deteriorated. Moreover, when the compounding quantity of (2) component is less than 20 mass parts, dispersion stability will worsen, deteriorating a film external appearance, and when it exceeds 70 mass parts, hardness will fall. Adhesiveness worsens that the compounding quantity of (3) component is less than 5 mass parts, and when it exceeds 30 mass parts, hardness will fall.
(4) 지방 아민계 이온성 화합물(4) fatty amine-based ionic compounds
본 발명에 있어서, (4) R1R2R3R4N+X-(R1, R2, R3, R4는 CH3, C2H5, C2H4OCH3, C6H13, C8H17로부터 선택되는 기이며, 각각의 기는 동일해도 되고 상이해도 된다. X는 N(SO2CF3)2, BF4, PF6로부터 선택되는 기이다.)로 나타내는 지방족 아민계 이온성 화합물은 상용성 및 용해성이 양호한 대전방지제로서 사용된다. 또, 분산성 개선의 효과가 있어, 첨가함으로써 보존시의 응집이나 침강을 억제할 수 있고, 또한 광조사의 경화시에, 도공 라인의 반송 속도에 관계없이, 피막이 백화하는 것을 막을 수 있다. 이들 중에서도, 상온(통상 5~40℃, 특히 25℃)에서 액체인 지방족 아민계 이온성 화합물이 특히 바람직하다.In the present invention, (4) R 1 R 2 R 3 R 4 N + X - (R 1, R 2, R 3, R 4 is CH 3, C 2 H 5, C 2 H 4 OCH 3, C 6 An aliphatic amine represented by H 13 , C 8 H 17 , and each group may be the same or different, X is a group selected from N (SO 2 CF 3 ) 2 , BF 4 , PF 6 ). Systemic ionic compounds are used as antistatic agents having good compatibility and solubility. Moreover, it has the effect of improving dispersibility, and by adding it, can suppress aggregation and sedimentation at the time of storage, and can prevent whitening of a film irrespective of the conveyance speed of a coating line at the time of hardening of light irradiation. Among these, the aliphatic amine type ionic compound which is liquid at normal temperature (usually 5-40 degreeC, especially 25 degreeC) is especially preferable.
여기서, R1~R4는 CH3, C2H5, C2H4OCH3, C6H13, C8H17로부터 선택되는 기이며, 각각의 기는 동일해도 되고 상이해도 된다. 또, X는 N(SO2CF3)2, BF4, PF6로부터 선택되는 기이다. R1R2R3R4N+X-로 나타내는 지방족 아민계 이온성 화합물로서, 구체적으로는 하기의 것 등을 들 수 있다.Wherein, R 1 ~ R 4 is CH 3, C 2 H 5, C 2 H 4 OCH 3, C 6 H 13, C 8 is a group selected from H 17, may each be the same or different groups. Also, X is a group selected from N (SO 2 CF 3) 2 , BF 4, PF 6. Specific examples of the aliphatic amine ionic compound represented by R 1 R 2 R 3 R 4 N + X - include the following ones.
(C2H5)4N+BF4 -, (CH3)(C2H5)3N+BF4 -, (CH3)(C2H5)2(C2H4OCH3)N+BF4 -, (CH3)3(C6H13)N+BF4 -, (CH3)(C8H17)3N+BF4 -, (C2H5)4N+PF6 -, (CH3)(C2H5)3N+PF6 -, (CH3)(C2H5)2(C2H4OCH3)N+PF6 -, (CH3)3(C6H13)N+PF6 -, (CH3)(C8H17)3N+PF6 -, (C2H5)4N+(CF3SO2)2N-, (CH3)(C2H5)3N+(CF3SO2)2N-, (CH3)(C2H5)2(C2H4OCH3)N+(CF3SO2)2N-, (CH3)3(C6H13)N+(CF3SO2)2N-, (CH3)(C8H17)3N+(CF3SO2)2N- (C 2 H 5) 4 N + BF 4 -, (CH 3) (C 2 H 5) 3 N + BF 4 -, (CH 3) (C 2 H 5) 2 (C 2 H 4 OCH 3) N + BF 4 -, (CH 3 ) 3 (C 6 H 13) N + BF 4 -, (CH 3) (C 8 H 17) 3 N + BF 4 -, (C 2 H 5) 4 N + PF 6 -, (CH 3) (C 2 H 5) 3 N + PF 6 -, (CH 3) (C 2 H 5) 2 (C 2 H 4 OCH 3) N + PF 6 -, (CH 3) 3 ( C 6 H 13) N + PF 6 -, (CH 3) (C 8 H 17) 3 N + PF 6 -, (C 2 H 5) 4 N + (CF 3 SO 2) 2 N -, (CH 3 ) (C 2 H 5) 3 N + (CF 3 SO 2) 2 N -, (CH 3) (C 2 H 5) 2 (C 2 H 4 OCH 3) N + (CF 3 SO 2) 2 N - , (CH 3) 3 (C 6 H 13) N + (CF 3 SO 2) 2 N -, (CH 3) (C 8 H 17) 3 N + (CF 3 SO 2) 2 N -
(4)성분의 배합량은 (1)성분과 (2)성분과 (3)성분의 합계 100질량부에 대하여 0.05~3질량부이며, 바람직하게는 0.1~2.5질량부, 특히 바람직하게는 0.1~2질량부이다. 배합량이 지나치게 적으면, 대전방지효과가 얻어지지 않게 되고, 또한 안정성도 나빠진다. 배합량이 지나치게 많으면, 경도가 저하된다.(4) The compounding quantity of a component is 0.05-3 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (1) component, (2) component, and (3) component, Preferably it is 0.1-2.5 mass parts, Especially preferably, it is 0.1- 2 mass parts. If the amount is too small, the antistatic effect is not obtained and the stability is also deteriorated. If there is too much compounding quantity, hardness will fall.
(5) 리튬계 이온성 화합물(5) lithium-based ionic compounds
본 발명에 있어서, (5) Li+Y-(Y는 ClO4, SO2CF3, SO2C2F5, N(SO2CF3)2, N(SO2C2F5)2, BF4, PF6로부터 선택되는 기이다.)로 나타내는 리튬계 이온성 화합물은 지방족 아민계 이온성 화합물과 마찬가지로 상용성 및 용해성이 양호한 대전방지제로서 사용된다. 또, 분산성 개선의 효과가 있어, 첨가함으로써 보존시의 응집이나 침강을 억제할 수 있고, 또한 광 조사의 경화시에, 도공 라인의 반송 속도에 관계없이, 피막이 백화하는 것을 막을 수 있다.In the present invention, (5) Li + Y - (Y is ClO 4, SO 2 CF 3, SO 2 C 2 F 5, N (SO 2 CF 3) 2, N (SO 2 C 2 F 5) 2, The lithium-based ionic compound represented by BF 4 and PF 6 ) is used as an antistatic agent having good compatibility and solubility as well as an aliphatic amine-based ionic compound. Moreover, it has the effect of improving dispersibility, and by adding it, can suppress aggregation and sedimentation at the time of storage, and can prevent whitening of a film regardless of the conveyance speed of a coating line at the time of hardening of light irradiation.
Li+Y-로 나타내는 리튬계 이온성 화합물로서, 구체적으로는 하기의 것 등을 들 수 있다.Specific examples of the lithium-based ionic compound represented by Li + Y - include the following ones.
Li+ClO4 -, Li+SO2CF3 -, Li+SO2C2F5 -, Li+N(SO2CF3)2 -, Li+N(SO2C2F5)2 -, Li+BF4 -, Li+PF6 - Li + ClO 4 -, Li + SO 2 CF 3 -, Li + SO 2 C 2 F 5 -, Li + N (SO 2 CF 3) 2 -, Li + N (SO 2 C 2 F 5) 2 -, Li + BF 4 -, Li + PF 6 -
(5)성분의 배합량은 (1)성분과 (2)성분과 (3)성분의 합계 100질량부에 대하여 0.1~7질량부이며, 바람직하게는 0.2~5질량부, 특히 바람직하게는 0.5~4질량부이다. 배합량이 지나치게 적으면, 대전방지효과가 얻어지지 않게 되고, 또 자외선 조사시에 피막이 백화하는 경우가 있으며, 또한 안정성도 나빠진다. 배합량이 지나치게 많으면, 경도가 저하된다.The compounding quantity of (5) component is 0.1-7 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (1) component, (2) component, and (3) component, Preferably it is 0.2-5 mass parts, Especially preferably, it is 0.5- 4 mass parts. If the amount is too small, the antistatic effect is not obtained, and the coating may whiten during ultraviolet irradiation, and the stability is also deteriorated. If there is too much compounding quantity, hardness will fall.
(4), (5)성분의 이온성 화합물을 병용하여 사용한 경우, 각각을 단독으로 사용한 경우에 비해, 무용제임에도 불구하고 피막성형성이 우수하고, 표면평활성, 투명성이 우수한 피막을 얻을 수 있고, 밀착성이 우수한 것이 확인되었다. 또, 표면저항값을 낮게 할 수 있어, 대전방지성이 우수한 피막을 얻을 수 있다.When using the ionic compound of (4) and (5) in combination, compared with the case where each is used independently, it is excellent in the film formability and can provide the film which is excellent in surface smoothness and transparency compared with the case where it is no solvent, It was confirmed that adhesiveness was excellent. Moreover, the surface resistance value can be made low and the film excellent in antistatic property can be obtained.
(6) 래디컬계 광중합 개시제(6) radical type photoinitiator
본 발명의 조성물에는 (6) 래디컬계 광중합 개시제가 함유된다. 래디컬계 광중합 개시제로서는 아세토페논계, 벤조인계, 아실포스핀옥사이드계, 벤조페논계, 티옥산톤계 등의 통상의 것으로부터 선택할 수 있다. 구체적으로는 벤조페논, 벤질, 미힐러케톤, 티옥산톤 유도체, 벤조인에틸에테르, 디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 , 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 , 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 옥시페닐아세트산2-[2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시]에틸에스테르와 옥시페닐아세트산2-(2-히드록시에톡시)에틸에스테르의 혼합물, 아실포스핀옥사이드 유도체, 2-메틸-1-{4-(메틸티오)페닐}-2-모르폴리노프로판-1-온 , 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 등을 들 수 있다.The composition of this invention contains (6) radical type photoinitiators. As a radical type photoinitiator, it can select from normal things, such as an acetophenone type, a benzoin type, an acyl phosphine oxide type, a benzophenone type, and a thioxanthone type. Specifically, benzophenone, benzyl, Michler's ketone, thioxanthone derivative, benzoin ethyl ether, diethoxy acetophenone, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1- [4- (2-hydroxye Methoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl)- Benzyl] phenyl} -2-methyl-propane-1-one, oxyphenylacetic acid 2- [2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy] ethyl ester and oxyphenylacetic acid 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl Mixtures of esters, acylphosphine oxide derivatives, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropane-1-one, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine etc. are mentioned.
이들은 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 조합시켜 사용해도 된다. 이들 중에서는 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 , 2-메틸-1-{4-(메틸티오)페닐}-2-모르폴리노프로판-1-온 , 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀이 표면 경화성이 양호한 점에서 바람직하다.These may be used independently or may be used in combination of 2 or more type. Among these, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl}- 2-morpholinopropane-1-one, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine are preferable at the point that surface hardenability is favorable.
래디컬계 광중합 개시제의 배합량은 (1)성분과 (2)성분과 (3)성분의 합계 100질량부에 대하여 1~8질량부이며, 바람직하게는 2~6질량부이다. 배합량이 지나치게 적으면 경화성이 악화되고, 지나치게 많으면 밀착성이 저하된다.The compounding quantity of a radical type photoinitiator is 1-8 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (1) component, (2) component, and (3) component, Preferably it is 2-6 mass parts. When there is too little compounding quantity, sclerosis | hardenability will worsen, and when too much, adhesiveness will fall.
본 발명의 광경화성 수지 조성물에는 추가로 필요에 따라서 (4), (5)성분 이외의 이온성 화합물, 실란 커플링제, 중합금지제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제, 소포제, 레벨링제, 표면장력 저하제 등을 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 포함하고 있어도 지장없지만, 용제는 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기서, 실질적으로 함유하지 않는다는 것은 조성물중 3질량% 이하, 특히 1질량% 이하의 비율로 함유하는 것은 허용한다는 것을 의미한다.The photocurable resin composition of the present invention may further contain ionic compounds, silane coupling agents, polymerization inhibitors, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antifoaming agents, leveling agents, and surfaces other than the components (4) and (5) as necessary. Although it does not interfere even if it contains the tension reducing agent etc. in the range which does not impair the objective of this invention, It is preferable that a solvent is not contained substantially. Here, substantially free means that it is acceptable to contain 3 mass% or less, especially 1 mass% or less in a composition.
본 발명의 조성물은 상기 각 성분을 상법에 준하여 균일하게 혼합함으로써 얻어지는데, 본 발명에 있어서는, 상기 (1)성분을 (2)성분 또는 (3)성분과 미리 혼합하고, 이것과 나머지 성분을 혼합하는 것이 바람직하다.Although the composition of this invention is obtained by mixing each said component uniformly according to a conventional method, in this invention, the said (1) component is previously mixed with (2) component or (3) component, and this and the remaining component are mixed. It is desirable to.
또한, 이들 조성물은 25℃에 있어서의 점도가 300mPa·s 이하, 특히 220mPa·s 이하가 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 점도가 지나치게 높으면, 도포 작업성이 악화되고, 줄무늬 얼룩 등이 발생하기 쉬워진다. 또한, 본 조성물의 25℃에 있어서의 점도는 10mPa·s 이상인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to adjust these compositions so that the viscosity in 25 degreeC may be 300 mPa * s or less, especially 220 mPa * s or less. When the viscosity is too high, the coating workability deteriorates, and streaks and the like tend to occur. Moreover, it is preferable that the viscosity in 25 degreeC of this composition is 10 mPa * s or more.
본 발명의 광경화성 수지 조성물은 표면에 내마모성, 대전방지성의 부여가 필요하게 되는 물품, 구체적으로는 폴리카보네이트를 50질량% 이상, 특히 70~100질량% 함유하는 수지 조성물에 의해 성형된 물품인, 재생 전용 광디스크, 광기록 디스크, 광자기 기록 디스크 등의 광정보매체의 표면, 보다 상세하게는 기록 또는 재생빔 입사측 표면이나, 광학 렌즈, 광학 필터, 반사방지막, 반사방지막 하층막, 및 액정 디스플레이, CRT 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, EL 디스플레이 등의 각종 표시 소자 등의 표면에 도포하고, 경화 피막으로 함으로써, 이들 표면의 내찰상성, 방오성을 부여할 수 있고, 이 경화 피막을 가지는 물품은 내찰상성, 내마모성 및 대전방지성이 우수한 것이 될 수 있다.The photocurable resin composition of this invention is an article which needs to provide abrasion resistance and antistatic property to the surface, specifically, the article shape | molded by the resin composition containing 50 mass% or more, especially 70-100 mass% of polycarbonate, Surfaces of optical information carriers, such as optical disks for exclusive use of reproduction, optical recording disks, magneto-optical recording disks, and more specifically, incident or incident surface of recording or reproduction beams, optical lenses, optical filters, anti-reflection films, anti-reflection films, and liquid crystal displays. By applying to a surface of various display elements such as a CRT display, a plasma display, an EL display, and the like, and forming a cured film, scratch resistance and antifouling property of these surfaces can be imparted, and an article having the cured film is scratch resistant and abrasion resistant. And excellent antistatic properties.
구체적으로는 탁도계(NDH2000, 닛폰덴쇼쿠코교제)에 의해 측정한 전광선투과율이 85% 이상, 및 Haze가 2% 이하, ASTM D1044에 의한 테이퍼 마모 시험에 있어서의 하중 500g, 100회전시에 있어서의 Haze의 변화율이 8% 이하, 초절연계(토아덴파코교(주)제 SM-8210)에 의해 측정한 표면저항값이 1×1015Ω 이하의 특성을 얻는 것이 될 수 있다.Specifically, the total light transmittance measured by a turbidimeter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.) is 85% or more, and Haze is 2% or less. The change rate of 8% or less, and the surface resistance value measured by an ultra-insulator (SM-8210 manufactured by Toa Denpaco Co., Ltd.) can be obtained a characteristic of 1 × 10 15 Ω or less.
상기 광경화성 수지 조성물의 피막을 형성하는 방법으로서는, 롤 코트법, 스핀 코트법, 바 코트법, 마이크로 그라비아법 등에 의해 피막을 제작할 수 있고, 이들 중에서도 마이크로 그라비아법에 의해 도공하고, 자외선 조사에 의해 경화하여 피막을 제작하는 것이 바람직하다. 형성된 피막의 막두께는 0.1~50μm, 특히 0.5~30μm의 범위에 있는 것이 바람직하다. 막두께가 지나치게 얇으면 내마모성이 저하되는 경우가 있고, 또 지나치게 두꺼우면 내크랙성이 저하되는 경우가 있다.As a method of forming the film of the said photocurable resin composition, a film can be produced by the roll coat method, the spin coat method, the bar coat method, the microgravure method, etc. Among these, it coats by the microgravure method, and it irradiates by ultraviolet irradiation It is preferable to harden | cure and produce a film. It is preferable that the film thickness of the formed film exists in the range of 0.1-50 micrometers, especially 0.5-30 micrometers. If the film thickness is too thin, wear resistance may decrease, and if too thick, crack resistance may decrease.
광경화성 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로서는, 통상 200~450nm의 범위의 파장의 광을 포함하는 광원, 예를 들어 고압수은등, 초고압수은등, 무전극 램프, 메탈 할라이드 램프, 제논등, 카본아크등 등을 사용할 수 있다. 조사량은 특별히 제한되지 않지만, 10~5,000mJ/cm2, 특히 20~2,000mJ/cm2인 것이 바람직하다. 광조사기에 의한 경화는 배치식과 컨베이어식이 있는데, 생산성이 높은 컨베이어식이 바람직하다. 경화 시간은 통상 0.01~60초, 바람직하게는 0.1~10초이다. 그 때의 도공 라인의 반송 속도는 특별히 제한은 없지만 0.1~40m/min, 특히 1~20m/min의 범위가 바람직하다. 반송 속도가 늦으면 생산성이 나쁘고, 빠르면 반송시에 상처가 나기 쉽다는 문제가 있다.As a light source for hardening a photocurable resin composition, the light source containing the light of the wavelength of the range of 200-450 nm normally, for example, high pressure mercury lamp, ultrahigh pressure mercury lamp, electrodeless lamp, metal halide lamp, xenon lamp, carbon arc etc. Can be used. Dose is preferably not particularly limited, but the 10 ~ 5,000mJ / cm 2, particularly 20 ~ 2,000mJ / cm 2. Curing by a light irradiator has a batch type and a conveyor type, but a high productivity conveyor type is preferable. Hardening time is 0.01 to 60 second normally, Preferably it is 0.1 to 10 second. Although the conveyance speed of a coating line in that case does not have a restriction | limiting in particular, The range of 0.1-40 m / min, especially 1-20 m / min is preferable. When the conveyance speed is low, there is a problem that productivity is poor, and when the conveyance speed is low, damage is likely to occur during conveyance.
상기 물품을 성형하는 수지 조성물에 사용하는 폴리카보네이트는 바람직하게는 2가 페놀과 카보네이트 전구체를 용액법 또는 용융법으로 반응시켜 제조되는 방향족 폴리카보네이트 수지이며, 2가 페놀의 대표적인 예로서는, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판(통칭 비스페놀A), 1,1-비스(4-히드록시페닐)에탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)시클로헥산, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-디브로모페닐)프로판, 비스(4-히드록시페닐)설파이드, 비스(4-히드록시페닐)술폰, 1,1-비스(4-히드록시-3-메틸페닐)시클로헥산, 2,2-비스(4-히드록시-3-메틸페닐)프로판 및 2,2'-메틸-4,4'-비페닐디올 등을 들 수 있다. 바람직한 2가 페놀은 비스(4-히드록시페닐)알칸계이며, 특히 비스페놀A가 바람직하다.The polycarbonate used for the resin composition for molding the article is preferably an aromatic polycarbonate resin prepared by reacting a dihydric phenol and a carbonate precursor by a solution method or a melting method, and as a representative example of the dihydric phenol, 2,2- Bis (4-hydroxyphenyl) propane (common name bisphenol A), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis ( 4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (4- Hydroxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane and 2,2'-methyl-4, 4'-biphenyldiol etc. are mentioned. Preferred dihydric phenols are bis (4-hydroxyphenyl) alkanes, with bisphenol A being particularly preferred.
카보네이트 전구체로서는 카르보닐 할라이드, 카보네이트에스테르, 할로포르메이트 등을 들 수 있고, 구체적으로는 포스겐, 디페닐카보네이트, 2가 페놀의 디할로포르메이트 등을 들 수 있다.Examples of the carbonate precursor include carbonyl halides, carbonate esters, haloformates, and the like, and specific examples thereof include phosgene, diphenyl carbonate, and dihaloformates of dihydric phenol.
폴리카보네이트 수지를 제조함에 있어서, 상기 2가 페놀은 단독으로 또는 2종 이상 병용할 수 있고, 또 필요에 따라서 분자량 조절제, 분기제, 촉매 등을 사용할 수 있다.In manufacturing a polycarbonate resin, the said dihydric phenol can be used individually or in combination of 2 or more types, A molecular weight regulator, a branching agent, a catalyst, etc. can be used as needed.
폴리카보네이트 수지의 분자량은 점도 평균 분자량으로 나타내어 1.0×104~10.0×104이며, 바람직하게는 1.5×104~4.5×104이며, 보다 바람직하게는 1.8×104~3.0×104이다. 본 발명에서 말하는 점도 평균 분자량은 염화메틸렌 100ml에 폴리카보네이트 수지 0.7g을 20℃에서 용해한 용액으로부터 구한 비점도(ηsp)를 다음식에 삽입하여 구한 것이다.The molecular weight of the polycarbonate resin is 1.0 × 10 4 to 10.0 × 10 4 , represented by the viscosity average molecular weight, preferably 1.5 × 10 4 to 4.5 × 10 4 , and more preferably 1.8 × 10 4 to 3.0 × 10 4 . . The viscosity average molecular weight as used in this invention is calculated | required by inserting the specific viscosity ((eta) sp ) calculated | required from the solution which melt | dissolved 0.7 g of polycarbonate resin at 20 degreeC in 100 ml of methylene chlorides by following Formula.
ηsp/c=[η]+0.45×[η]2c(단 [η]은 극한점도)η sp / c = [η] + 0.45 × [η] 2 c (where [η] is the ultimate viscosity)
[η]=1.23×10-4M0.83 [η] = 1.23 × 10 -4 M 0.83
c=0.7c = 0.7
또, 물품을 성형하는 수지 조성물에는 필요에 따라서 첨가제, 예를 들어 아인산에스테르, 인산에스테르, 포스폰산에스테르 등의 열안정제(0.001~0.1질량%), 트리아졸계, 아세토페논계, 살리실산에스테르계 등의 자외선흡수제(0.1~0.7질량%), 테트라브롬 비스페놀A, 테트라브롬 비스페놀A의 저분자량 폴리카보네이트, 데카브로모디페닐에테르 등의 난연제(3~15질량%), 착색제, 형광증백제 등을 배합해도 된다.In addition, additives such as phosphite esters, phosphate esters, and phosphonic acid esters (0.001 to 0.1 mass%), triazoles, acetophenones, salicylic acid esters, etc. Even if the ultraviolet absorber (0.1-0.7 mass%), the low molecular weight polycarbonate of tetrabrom bisphenol A, tetrabrom bisphenol A, flame retardants (3-15 mass%), such as decabromo diphenyl ether, a coloring agent, a fluorescent brightener, etc. are mix | blended, do.
(실시예)(Example)
이하, 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예에 제한되는 것은 아니다. 또한, 하기예에 있어서, 점도는 회전점도계에 의해 측정한 값이다.EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the following Example. In addition, in the following example, a viscosity is the value measured with the rotational viscometer.
[실시예 1]Example 1
γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 처리 실리카가 분산된 에톡실레이트펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(이하, S-PETTA;실리카 농도 50질량%, 실리카 입자 직경 30nm) 80질량부, 헥산디올디아크릴레이트(이하, HDODA, PII값 5.5) 20질량부, (CH3)(C8H17)3N+(CF3SO2)2N-(이하, MTOTFSI) 0.2질량부, Li+(CF3SO2)2N-(이하, LiTFSI) 1.8질량부, 다로큐어1173(이하, D1173;2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 래디컬계 광중합 개시제, 치바스페셜티케미컬즈사제, 상품명) 3질량부를 혼합하고, 25℃에 있어서의 점도가 193mPa·s인 광경화성 수지 조성물을 얻었다. 이 광경화성 수지 조성물을 방향족 폴리카보네이트 필름(비스페놀A와 포스겐으로 제조된 점도 평균 분자량 2.3×104의 방향족 폴리카보네이트 필름;폭 140mm, 두께 92μm)에, 마이크로 그라비아 코터법(야스이세이키사제 번수 200)으로 두께 5μm가 되도록 도포하고, 이어서 160W 고압수은등을 가지는 컨베이어식 자외선 조사 장치(아이그라픽스사제)를 사용하여 경화 피막을 제작했다. 그 때의 조건은 반송 속도 2m/min이며 적산 조사량은 1,000mJ/cm2이었다. 얻어진 투명 피막을 사용하여, 하기에 나타내는 평가를 했다. 이들 결과를 표 1에 나타낸다.80 mass parts of ethoxylate pentaerythritol tetraacrylate (henceforth S-PETTA; silica concentration 50 mass%, silica particle diameter 30nm) which gamma-methacryloxypropyl trimethoxysilane-treated silica was disperse | distributed, hexanediol diacryl rate (hereinafter, HDODA, PII value 5.5) 20 parts by mass, (CH 3) (C 8 H 17) 3 N + (CF 3 SO 2) 2 N - ( hereinafter, MTOTFSI) 0.2 parts by weight, Li + (CF 3 SO 2) 2 N - (hereinafter, LiTFSI) 1.8 mass parts, Darocure 1173 (hereinafter, D1173; 2- hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, a radical-based photopolymerization initiator, Ciba Specialty Chemicals's Co., Ltd., 3 mass parts), the photocurable resin composition whose viscosity in 25 degreeC is 193 mPa * s was obtained. The photocurable resin composition was added to an aromatic polycarbonate film (aromatic polycarbonate film having a viscosity average molecular weight of 2.3 × 10 4 made of bisphenol A and phosgene; 140 mm in width and 92 μm in thickness) and subjected to microgravure coater method (number 200 made by Yasui Seiki Co., Ltd.). ), And a cured film was produced using a conveyor-type ultraviolet irradiation device (manufactured by Igrapix) having a 160W high-pressure mercury lamp. At that time, the conveyance speed was 2 m / min, and the integrated irradiation amount was 1,000 mJ / cm 2 . Evaluation shown below was performed using the obtained transparent film. These results are shown in Table 1.
보존안정성 :Preservation stability:
40℃, 14일후에 침강물이 있는지 여부를 육안 판정하고, 하기 기준으로 평가했다.It was visually judged whether there was a sediment after 40 degreeC and 14 days, and the following reference | standard evaluated.
○:침강물 없음○: no sediment
×:침강물 있음×: With sediment
피막 투명성 :Film transparency:
경화한 막을 JIS K 7105에 준거하여, 탁도계(NDH2000, 닛폰덴쇼쿠코교제)를 사용하여 측정하고, 전광선투과율, Haze를 평가했다. 백화의 기준으로서, 실용상 문제가 없는 전광선투과율 85% 이상, Haze 2% 이하를 합격으로 했다.The cured film was measured using a turbidity meter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.) in accordance with JIS K 7105 to evaluate the total light transmittance and Haze. As a standard of whitening, 85% or more of total light transmittance and Haze 2% or less which did not have a problem practically were made into the pass.
내찰상성, 내마모성 :Scratch Resistance, Wear Resistance:
ASTM D 1044에 준거하여, 테이퍼 마모 시험기(마모륜 CS-10F 사용)를 사용하여 경화 피막의 마모 시험(500g 하중, 100회전)을 행하고, 마모 시험 전후의 경화 피막의 Haze를 탁도계(NDH2000, 닛폰덴쇼쿠코교제)를 사용하여 측정하고, 마모 시험후의 Haze-마모 시험전의 Haze를 ΔHaze로 했다(ΔHaze는 8 이하인 경우에 내찰상성, 내마모성이 양호하다).In accordance with ASTM D 1044, a wear test (500 g load, 100 revolutions) of the cured film was performed using a tapered abrasion tester (using abrasion ring CS-10F), and the haze of the cured film before and after the abrasion test was measured with a turbidimeter (NDH2000, Nippon). It measured using Tenshoku Kogyo Co., Ltd., and made Haze before Haze-wear test after abrasion test as (DELTA Haze) ((DELTA Haze is good in abrasion resistance and abrasion resistance when it is 8 or less.).
표면저항값 :Surface resistance value:
초절연계(토아덴파코교(주)제 SM-8210)를 사용하여, 25℃, 50%RH의 분위기하에서 측정했다.It measured in 25 degreeC and the atmosphere of 50% RH using the super insulation system (SM-8210 by Toad Denpaco Co., Ltd.).
습열밀착성 :Wet Heat Adhesion:
60℃, 95%RH의 분위기하에 240시간 방치하고 나서, 상온에 24시간 방치후, JIS K 5400에 준거하여 도공면에 10×10의 칸을 제작하고, 셀로판 테이프를 붙이고, 상방으로 잡아당겨, 박리 상황을 확인했다.After standing for 24 hours in an atmosphere of 60 ° C. and 95% RH, after leaving for 24 hours at room temperature, a 10 × 10 cell was formed on the coated surface in accordance with JIS K 5400, and a cellophane tape was attached and pulled upwards. The peeling situation was confirmed.
○:이상 없음○: no abnormality
×:칸의 1/3 이상 박리된 개소가 1칸 이상 있음X: There are 1 or more spaces where at least 1/3 of the spaces are peeled off
테이퍼 마모 시험에서는 ΔHaze는 4로 내마모성도 높았다. 또, 표면저항값은 1×1012Ω으로 낮았다.In the tapered abrasion test, ΔHaze was 4, which also showed high wear resistance. The surface resistance value was as low as 1 × 10 12 Ω.
[실시예 2~8 및 비교예 1~12]Examples 2 to 8 and Comparative Examples 1 to 12
마찬가지로, 하기 표 1, 2에 나타내는 바와 같이 배합을 바꾸어 막을 얻고 평가를 했다. 이들 결과를 표 1, 2에 나타낸다.Likewise, as shown in Tables 1 and 2 below, the formulations were changed to obtain a film and to be evaluated. These results are shown in Tables 1 and 2.
S-PETTA:γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 처리 실리카가 분산된 에톡실레이트펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 실리카 농도 50질량%, 실리카 입자 직경 30nmEthoxylate pentaerythritol tetraacrylate in which S-PETTA: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane-treated silica was dispersed, silica concentration 50 mass%, silica particle diameter 30 nm
S-PETTA-2:γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 처리 실리카가 분산된 에톡실레이트펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 실리카 농도 50질량%, 실리카 입자 직경 120nmEthoxylate pentaerythritol tetraacrylate in which S-PETTA-2: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane-treated silica was dispersed, silica concentration 50 mass%, silica particle diameter 120 nm
HDODA:헥산디올디아크릴레이트HDODA: Hexanediol diacrylate
MTOTFSI:(CH3)(C8H17)3N+(CF3SO2)2N- MTOTFSI: (CH 3) (C 8 H 17) 3 N + (CF 3 SO 2) 2 N -
LiTFSI:Li+(CF3SO2)2N- LiTFSI: Li + (CF 3 SO 2) 2 N -
D1173:다로큐어1173, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 치바스페셜티케미컬즈사제, 상품명D1173: Tarocure 1173, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, product made in Chiba Specialty Chemicals,
Claims (8)
(2) (메타)아크릴기를 3개 이상 함유하는 화합물,
(3) (메타)아크릴기를 1개 또는 2개 함유하는 화합물,
(4) R1R2R3R4N+X-(R1, R2, R3, R4는 CH3, C2H5, C2H4OCH3, C6H13, C8H17로부터 선택되는 기이며, 각각의 기는 동일해도 되고 상이해도 된다. X는 N(SO2CF3)2, BF4, PF6로부터 선택되는 기이다.)로 나타내는 이온성 화합물,
(5) Li+Y-(Y는 ClO4, SO2CF3, SO2C2F5, N(SO2CF3)2, N(SO2C2F5)2, BF4, PF6로부터 선택되는 기이다.)로 나타내는 이온성 화합물,
(6) 래디컬계 광중합 개시제
를 함유하여 이루어지며, (1), (2), (3)성분의 합계 100질량부중, (1)성분이 25~70질량부, (2)성분이 20~70질량부, (3)성분이 5~30질량부이며, (1), (2), (3)성분의 합계 100질량부에 대하여, (4)성분이 0.05~3질량부, (5)성분이 0.1~7질량부, (6)성분이 1~8질량부인 광경화성 수지 조성물.(1) inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 80 nm or less,
(2) a compound containing three or more (meth) acryl groups,
(3) a compound containing one or two (meth) acryl groups;
(4) R 1 R 2 R 3 R 4 N + X - (R 1, R 2, R 3, R 4 is CH 3, C 2 H 5, C 2 H 4 OCH 3, C 6 H 13, C 8 is a group selected from H 17, may be the same or different and each group. X is N (SO 2 CF 3) an ionic compound represented by the formula 2, BF 4, is a group selected from PF 6.),
(5) Li + Y - ( Y is ClO 4, SO 2 CF 3, SO 2 C 2 F 5, N (SO 2 CF 3) 2, N (SO 2 C 2 F 5) 2, BF 4, PF 6 Ionic compounds represented by
(6) radical type photoinitiator
(1) 25-70 mass parts of (1) component, 20-70 mass parts of (2) component, and (3) component in 100 mass parts of total of (1), (2), (3) component It is this 5-30 mass parts, 0.05-4 mass parts of (4) components, 0.1-7 mass parts of (5) components with respect to 100 mass parts of total of (1), (2), (3) component, (6) Photocurable resin composition whose component is 1-8 mass parts.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2010-038924 | 2010-02-24 | ||
JP2010038924A JP5509920B2 (en) | 2010-02-24 | 2010-02-24 | PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, ARTICLE HAVING THE CURED CELL |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110097676A true KR20110097676A (en) | 2011-08-31 |
KR101689668B1 KR101689668B1 (en) | 2016-12-26 |
Family
ID=44599830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110015863A KR101689668B1 (en) | 2010-02-24 | 2011-02-23 | Photocurable resin composition and article having cured coating thereof, and method for preparation thereof |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5509920B2 (en) |
KR (1) | KR101689668B1 (en) |
CN (1) | CN102190916B (en) |
TW (1) | TWI553407B (en) |
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- 2011-02-23 TW TW100105982A patent/TWI553407B/en active
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TW201142498A (en) | 2011-12-01 |
CN102190916B (en) | 2015-06-24 |
JP2011173990A (en) | 2011-09-08 |
CN102190916A (en) | 2011-09-21 |
KR101689668B1 (en) | 2016-12-26 |
JP5509920B2 (en) | 2014-06-04 |
TWI553407B (en) | 2016-10-11 |
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