KR20110097607A - Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium - Google Patents

Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium Download PDF

Info

Publication number
KR20110097607A
KR20110097607A KR1020100133375A KR20100133375A KR20110097607A KR 20110097607 A KR20110097607 A KR 20110097607A KR 1020100133375 A KR1020100133375 A KR 1020100133375A KR 20100133375 A KR20100133375 A KR 20100133375A KR 20110097607 A KR20110097607 A KR 20110097607A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid
flow rate
processing
main pipe
valve
Prior art date
Application number
KR1020100133375A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101705375B1 (en
Inventor
가즈히사 마츠모토
가즈요시 에시마
Original Assignee
도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2010039059A external-priority patent/JP2011176118A/en
Priority claimed from JP2010039127A external-priority patent/JP2011176125A/en
Application filed by 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 filed Critical 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Publication of KR20110097607A publication Critical patent/KR20110097607A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101705375B1 publication Critical patent/KR101705375B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1007—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material
    • B05C11/1013—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material responsive to flow or pressure of liquid or other fluent material

Abstract

본 발명은, 복수의 액체를 혼합하여 이루어진 혼합액을 이용하는 액처리 장치에서의 혼합액의 농도에 관해, 큰 비용을 들이지 않고, 보다 광범위한 조정을 실현하는 것을 그 과제로 한다.
본 발명에 따른 액처리 장치(10)는, 주배관(20)과, 주배관에 접속된 액공급 기구(40)와, 주배관으로부터 분기되는 복수의 분기관(25)과, 각 분기관에 접속된 복수의 처리 유닛(50)을 갖는다. 액공급 기구(40)는, 주배관 상에 마련된 혼합기(43)와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관(41b)과, 제2 액원으로부터의 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관(42b)을 갖는다. 제2 액공급관(42b)에 유량 조정 밸브(42d)가 설치되어 있고, 또한 상기 유량 조정 밸브(42d)에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구(42e)가 설치되어 있다. 혼합액의 혼합비 조정을 위해, 유량 조정 밸브(42d)와 보조 유량 조정 기구(42e)가 연동하여 제어된다.
본 발명에 따른 또 다른 액처리 장치(10')는, 주배관(20')과, 주배관에 접속된 액공급 기구(40')와, 주배관으로부터 분기되는 복수의 분기관(25')과, 각 분기관에 접속된 복수의 처리 유닛(50')을 갖는다. 액공급 기구(40')는, 주배관 상에 마련된 혼합기(43')와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관(41b')과, 레귤레이터(42t')에 의해 제어된 가압력에 따라서 제2 액탱크로부터 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관(42b')을 갖는다. 제2 액공급관(42b')에, 유량 조정 밸브(42d')가 설치되어 있다. 혼합액의 혼합비 조정을 위해, 유량 조정 밸브(42d')와 레귤레이터(42t')가 연동하여 제어된다.An object of the present invention is to realize a wider range of adjustment without incurring a large cost with respect to the concentration of a mixed liquid in a liquid processing apparatus using a mixed liquid formed by mixing a plurality of liquids.
The liquid treatment apparatus 10 according to the present invention includes a main pipe 20, a liquid supply mechanism 40 connected to the main pipe, a plurality of branch pipes 25 branched from the main pipe, and a plurality of connected to each branch pipe. Has a processing unit 50. The liquid supply mechanism 40 includes a mixer 43 provided on the main pipe, a first liquid supply pipe 41b for supplying a first liquid from a first liquid source to the mixer, and a second liquid from a second liquid source. It has a 2nd liquid supply pipe 42b supplied to the said mixer. A flow regulating valve 42d is provided in the second liquid supply pipe 42b, and an auxiliary flow regulating mechanism 42e is provided in series with the flow regulating valve 42d. In order to adjust the mixing ratio of the liquid mixture, the flow rate adjusting valve 42d and the auxiliary flow rate adjusting mechanism 42e are controlled in conjunction with each other.
Another liquid processing apparatus 10 'according to the present invention includes a main pipe 20', a liquid supply mechanism 40 'connected to the main pipe, a plurality of branch pipes 25' branched from the main pipe, It has a some processing unit 50 'connected to a branch pipe. The liquid supply mechanism 40 'includes a mixer 43' provided on the main pipe, a first liquid supply pipe 41b 'for supplying a first liquid from a first liquid source to the mixer, and a regulator 42t'. And a second liquid supply pipe 42b 'for supplying a second liquid from the second liquid tank to the mixer according to the pressing force controlled by the mixer. The flow rate adjustment valve 42d 'is provided in the second liquid supply pipe 42b'. In order to adjust the mixing ratio of the mixed liquid, the flow rate adjusting valve 42d 'and the regulator 42t' are interlocked and controlled.

Figure P1020100133375
Figure P1020100133375

Description

액처리 장치, 액처리 방법 및 기록 매체{LIQUID PROCESSING APPARATUS, LIQUID PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM}Liquid processing apparatus, liquid processing method and recording medium {LIQUID PROCESSING APPARATUS, LIQUID PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM}

본 발명은, 액을 이용하여 피처리체를 처리하는 액처리 장치 및 액처리 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 액을 이용하여 피처리체를 처리하는 액처리 방법을 실행하기 위한 프로그램, 그리고 이 프로그램을 기록한 기록 매체에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid treatment apparatus and a liquid treatment method for treating a target object using a liquid. The present invention also relates to a program for executing a liquid processing method for processing a target object using a liquid, and a recording medium on which the program is recorded.

종래 기술에서는, 상이한 복수의 액체를 혼합하여 이루어진 혼합액을 이용한 피처리체의 처리, 예컨대 반도체 웨이퍼(이하, 간단히 웨이퍼라고 함)나 유리 기판에 대한 세정 처리가 실시되어 왔다. 웨이퍼나 유리 기판 등의 피처리체에 대하여 액체를 이용하여 처리를 행하는 액처리 장치에는, 통상, 처리 챔버를 형성하는 처리 유닛이 복수 마련되고, 각 처리 유닛 내에서 피처리체가 순서대로 처리되어 가도록 되어 있다(예컨대, 특허문헌 1).In the prior art, a treatment of an object to be processed using a mixed liquid obtained by mixing a plurality of different liquids, for example, a cleaning process for a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer) or a glass substrate has been performed. In the liquid processing apparatus which performs a process using a liquid with respect to a to-be-processed object, such as a wafer or a glass substrate, normally, the some process unit which forms a process chamber is provided, and a to-be-processed object is processed in each process unit in order. There is (for example, patent document 1).

일본 특허 공개 평성06-204201호 공보Japanese Patent Laid-Open Publication No. 06-204201

그런데, 특허문헌 1에 개시된 액처리 장치에서는, 상이한 액을 혼합하여 공급하는 액공급 기구가, 각 처리 유닛에 대하여 별개로 할당되어 있다. 이 종류의 액처리 장치에서는, 각 처리 유닛에서의 액체의 소비에 맞춰, 액이 대응하는 액공급 기구로부터 상기 처리 유닛에 공급되도록 되어 있다. 그러나, 이러한 액처리 장치에서는, 복수의 액공급 기구로부터 공급되는 혼합액의 농도가 달라, 상이한 처리 유닛에서 처리된 피처리체간에 처리의 정도가 달라지게 된다. 또한, 액처리 장치의 구성 및 액처리 장치의 제어가 복잡해진다.By the way, in the liquid processing apparatus disclosed by patent document 1, the liquid supply mechanism which mixes and supplies different liquid is assigned separately with respect to each processing unit. In this type of liquid processing apparatus, the liquid is supplied from the corresponding liquid supply mechanism to the processing unit in accordance with the consumption of the liquid in each processing unit. However, in such a liquid processing apparatus, the concentrations of the mixed liquids supplied from the plurality of liquid supplying mechanisms are different, and the degree of processing varies between the targets processed in different processing units. In addition, the configuration of the liquid processing apparatus and the control of the liquid processing apparatus become complicated.

또한, 액체, 특히 약액을 이용하여 피처리체를 처리하는 액처리에서는, 처리 비용 저감의 관점 및 환경 유지의 관점에서, 액의 절약을 실현하는 것도 큰 과제가 되고 있다.Moreover, in the liquid treatment which processes a to-be-processed object using a liquid, especially a chemical liquid, it is also a big subject to implement | achieve liquid saving from a viewpoint of processing cost reduction, and an environment maintenance.

또한, 혼합액의 농도에 관해, 큰 비용을 들이지 않고, 보다 광범위한 조정을 실현하는 것이 요구되고 있다. 종래의 액공급 기구에서는, 유량 제어 가능한 범위에 아무리 해도 제한이 있다. 구체적으로는, 제어 가능한 범위를 벗어난 유량에서는 정밀도가 현저하게 떨어지거나, 제어 자체가 불가능하다.Moreover, regarding the density | concentration of mixed liquid, it is calculated | required to implement a wider adjustment without incurring a big cost. In the conventional liquid supply mechanism, there is a limit to the range capable of controlling the flow rate. Specifically, at a flow rate outside the controllable range, the precision is significantly lowered, or control itself is impossible.

본 발명은, 주배관과, 상기 주배관 상에 마련된 혼합기와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관과, 제2 액원으로부터의 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관을 가지며, 상기 제1 액과 상기 제2 액을 상기 혼합기에서 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관에 일측으로부터 공급하는 액공급 기구와, 상기 주배관으로부터 각각 분기되도록 마련된 복수의 분기관과, 각 분기관에 각각 대응하여 마련된 복수의 처리 유닛으로서, 대응하는 분기관을 통해 공급되는 혼합액을 이용하여 피처리체를 처리하도록 이루어진 복수의 처리 유닛을 포함하며, 상기 제2 액공급관에는, 소정 범위로 유량을 조정할 수 있는 유량 조정 밸브가 설치되어 있고, 또한 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구가 설치되어 있으며, 원하는 제2 액의 유량에 기초하여, 상기 유량 조정 밸브와 상기 보조 유량 조정 기구를 연동하여 제어하는 제어부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치이다.The present invention provides a main pipe, a mixer provided on the main pipe, a first liquid supply pipe for supplying a first liquid from a first liquid source to the mixer, and a second liquid for supplying a second liquid from a second liquid source to the mixer. A liquid supply mechanism having two liquid supply pipes and supplying a mixed liquid obtained by mixing the first liquid and the second liquid in the mixer to the main pipe from one side, a plurality of branch pipes each branched from the main pipe; A plurality of processing units provided corresponding to each branch pipe, each of which includes a plurality of processing units configured to process the object to be processed using the mixed liquid supplied through the corresponding branch pipe, wherein the second liquid supply pipe has a predetermined range. A flow regulating valve capable of adjusting the flow rate is provided, and an auxiliary flow regulating mechanism is provided in series with the flow regulating valve. And a control unit for controlling the flow rate regulating valve and the auxiliary flow rate adjusting mechanism in association with each other based on the desired flow rate of the second liquid.

본 발명에 의하면, 하나의 액공급 기구로부터 주배관에 공급되는 혼합액이, 복수의 처리 유닛에서의 피처리체의 처리에 이용된다. 따라서, 상이한 처리 유닛에서 처리된 피처리체간의 처리의 차이를 저감할 수 있다. 또한, 각 처리 유닛의 가동 상황에 따라서 요구되는 양의 혼합액이, 액공급 기구로부터 주배관에 공급된다. 따라서, 약액 절약의 관점에서도 바람직하다. 또한, 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구가 설치되고, 유량 조정 밸브와 연동하여 보조 유량 조정 기구가 제어됨으로써, 보다 광범위한 혼합비를 실현하는 것이 가능하다.According to the present invention, the mixed liquid supplied from one liquid supply mechanism to the main pipe is used for processing the object to be processed in the plurality of processing units. Therefore, the difference of the process between the to-be-processed object processed by the different processing unit can be reduced. In addition, the amount of the mixed liquid required in accordance with the operation status of each processing unit is supplied from the liquid supply mechanism to the main pipe. Therefore, it is preferable also from the viewpoint of chemical liquid saving. Further, an auxiliary flow rate adjustment mechanism is provided in series with the flow rate adjustment valve, and the auxiliary flow rate adjustment mechanism is controlled in conjunction with the flow rate adjustment valve, whereby a wider mixing ratio can be realized.

바람직하게는, 상기 보조 유량 조정 기구는, 오리피스를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하고 있다. 오리피스는 저렴한 구성 요소 부재이므로, 광범위한 혼합비를 매우 저비용으로 실현할 수 있다. Preferably, the auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a switchable path having an orifice. Since the orifice is an inexpensive component member, a wide range of mixing ratios can be realized at a very low cost.

구체적으로는, 예컨대, 상기 오리피스는, 상기 유량 조정 밸브의 조정 가능한 통과 유량의 1/2∼1/20의 범위 내의 소정비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다. 이 소정비의 역수에 따른 배수만큼, 실현 가능한 혼합비가 광범위해진다.Specifically, for example, the orifice is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio within a range of 1/2 to 1/220 of the adjustable passage flow rate of the flow regulating valve. By the multiples of the reciprocal of the predetermined ratio, the mixing ratio that can be realized becomes wider.

또는, 바람직하게는, 상기 보조 유량 조정 기구는, 니들 밸브를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하고 있다. 니들 밸브는 오리피스보다는 고가이지만, 그래도 광범위한 혼합비를 비교적 저비용으로 실현할 수 있다.Alternatively, the auxiliary flow rate adjusting mechanism preferably includes a path capable of switching the needle valve. Needle valves are more expensive than orifices, but still allow for a wide range of mixing ratios at relatively low cost.

구체적으로는, 예컨대, 상기 니들 밸브는, 상기 유량 조정 밸브의 조정 가능한 통과 유량의 1/2∼1/20의 범위 내의 설정 변경 가능한 소정비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다. 이 소정비의 역수에 따른 배수만큼, 실현 가능한 혼합비가 광범위해진다.Specifically, for example, the needle valve is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio which can be set and changed within a range of 1/2 to 1/220 of the adjustable passage flow rate of the flow rate regulating valve. By the multiples of the reciprocal of the predetermined ratio, the mixing ratio that can be realized becomes wider.

또는, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 복수의 유량 조정 요소를 전환 이용함으로써, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다. 즉, 상기 보조 유량 조정 기구의 복수의 유량 조정 요소 중의 어느 것을 이용하는지가 제어됨으로써, 혼합액에서의 혼합비를 보다 광범위하게 얻을 수 있다. 이 경우에도, 각 유량 조정 요소는, 니들 밸브 또는 오리피스를 포함하여 구성되는 것이 비용면에서 유리하다.Alternatively, the auxiliary flow rate adjustment mechanism preferably includes a plurality of flow rate adjustment elements which are provided in parallel with each other and selectively switch over. In this case, a wider mixing ratio can be realized by switching between a plurality of flow rate adjusting elements. That is, by controlling which of the plurality of flow regulating elements of the auxiliary flow regulating mechanism is used, the mixing ratio in the mixed liquid can be obtained more extensively. Even in this case, it is advantageous in terms of cost that each flow regulating element comprises a needle valve or an orifice.

상기 제2 액공급관에는, 상기 제2 액원이 미리 접속되어 있어도 좋다(접속된 상태로, 액처리 장치가 출하ㆍ판매될 수 있다). 예컨대, 제2 액원은 고농도 약액이다. 한편, 상기 제1 액공급관에는, 예컨대 제1 액으로서의 물이 공급될 수 있지만, 이 접속(제1 액원에 대한 접속)은 통상 액처리 장치를 공장에 설치할 때 이루어진다.The second liquid source may be connected to the second liquid supply pipe in advance (in a connected state, the liquid processing apparatus can be shipped and sold). For example, the second liquid source is a high concentration chemical liquid. On the other hand, although the water as the first liquid can be supplied to the first liquid supply pipe, for example, this connection (connection to the first liquid source) is usually made when the liquid processing apparatus is installed in the factory.

또한, 본 발명은, 주배관과, 상기 주배관 상에 마련된 혼합기와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관과, 제2 액을 수용하는 제2 액탱크와, 상기 제2 액탱크에 대하여 가압 가스를 공급하기 위한 가스원 및 압력 제어부와, 상기 가압 가스에 의해 가압된 상태의 상기 제2 액탱크 내의 제2 액을 상기 제2 액탱크로부터 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관을 가지며, 상기 제1 액과 상기 제2 액을 상기 혼합기에서 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관에 일측으로부터 공급하는 액공급 기구와, 상기 주배관으로부터 각각 분기되도록 마련된 복수의 분기관과, 각 분기관에 각각 대응하여 마련된 복수의 처리 유닛으로서, 대응하는 분기관을 통해 공급되는 혼합액을 이용하여 피처리체를 처리하도록 구성된 복수의 처리 유닛을 포함하며, 상기 제2 액공급관에는, 소정 범위로 유량을 조정할 수 있는 유량 조정 밸브가 설치되어 있고, 원하는 제2 액의 유량에 기초하여, 상기 유량 조정 밸브와 상기 압력 제어부를 연동하여 제어하는 제어부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치이다.The present invention also provides a main pipe, a mixer provided on the main pipe, a first liquid supply pipe for supplying a first liquid from a first liquid source to the mixer, a second liquid tank for accommodating a second liquid, and A gas source for supplying pressurized gas to the second liquid tank and a pressure controller, and a second liquid supplying the second liquid in the second liquid tank in a state pressurized by the pressurized gas from the second liquid tank to the mixer; A liquid supply mechanism having two liquid supply pipes and supplying a mixed liquid obtained by mixing the first liquid and the second liquid in the mixer to the main pipe from one side, a plurality of branch pipes each branched from the main pipe; A plurality of processing units provided corresponding to each branch pipe, respectively, wherein a plurality of processing units configured to process the object to be processed using the mixed liquid supplied through the corresponding branch pipe It includes, The second liquid supply pipe is provided with a flow rate adjustment valve capable of adjusting the flow rate in a predetermined range, based on the desired flow rate of the second liquid, the control unit for controlling the flow rate adjustment valve and the pressure control unit in conjunction It is a liquid treatment apparatus characterized in that is provided.

본 발명에 의하면, 하나의 액공급 기구로부터 주배관에 공급되는 혼합액이, 복수의 처리 유닛에서의 피처리체의 처리에 이용된다. 따라서, 상이한 처리 유닛에서 처리된 피처리체간의 처리의 차이를 저감할 수 있다. 또한, 각 처리 유닛의 가동 상황에 따라서 요구되는 양의 혼합액이, 액공급 기구로부터 주배관에 공급된다. 따라서, 약액 절약의 관점에서도 바람직하다. 또한, 제2 액탱크에 대하여 가압 가스를 공급하기 위한 가스원 및 압력 제어부가 마련되고, 상기 가압 가스에 의해 가압된 상태의 제2 액탱크 내의 제2 액이 유량 조정 밸브를 갖는 제2 액공급관을 통해 혼합기에 공급될 때, 상기 유량 조정 밸브와 연동하여 상기 압력 제어부가 제어됨으로써, 보다 광범위한 혼합비를 실현하는 것이 가능하다.According to the present invention, the mixed liquid supplied from one liquid supply mechanism to the main pipe is used for processing the object to be processed in the plurality of processing units. Therefore, the difference of the process between the to-be-processed object processed by the different processing unit can be reduced. In addition, the amount of the mixed liquid required in accordance with the operation status of each processing unit is supplied from the liquid supply mechanism to the main pipe. Therefore, it is preferable also from the viewpoint of chemical liquid saving. In addition, a second liquid supply pipe is provided with a gas source for supplying pressurized gas to the second liquid tank and a pressure control unit, the second liquid in the second liquid tank in a state pressurized by the pressurized gas has a flow rate adjustment valve When supplied to the mixer through the pressure control unit in conjunction with the flow rate control valve, it is possible to realize a wider mixing ratio.

바람직하게는, 주배관 상에 마련된 유량계를 더 포함하며, 상기 원하는 제2 액의 유량은, 제어부에서, 상기 유량계에 의한 유량 정보와, 상기 원하는 혼합비와, 상기 복수의 처리 유닛에서의 혼합액의 유량에 기초하여 산출되도록 되어 있고, 산출된 상기 원하는 제2 액의 유량이 상기 소정 범위 내이면, 상기 유량 조정 밸브만이 제어되고, 상기 소정 범위 밖이면, 상기 압력 제어부가 연동하여 제어되도록 되어 있다.Preferably, the apparatus further includes a flow meter provided on the main pipe, wherein the flow rate of the desired second liquid is controlled by the controller to flow rate information by the flow meter, the desired mixing ratio, and the flow rate of the mixed liquid in the plurality of processing units. If the calculated flow rate of the desired second liquid is within the predetermined range, only the flow rate regulating valve is controlled. If the calculated second flow rate is outside the predetermined range, the pressure control unit is controlled to work in conjunction.

또한, 바람직하게는, 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구가 설치되어 있고, 상기 제어부는, 상기 유량 조정 밸브와 상기 압력 제어부와 상기 보조 유량 조정 기구를 연동하여 제어하도록 되어 있다. 이 경우, 더욱 광범위한 혼합비를 실현하는 것이 가능하다.Preferably, an auxiliary flow rate adjustment mechanism is provided in series with the flow rate adjustment valve, and the control unit is configured to control the flow rate adjustment valve, the pressure control unit, and the auxiliary flow rate adjustment mechanism in conjunction with each other. In this case, it is possible to realize a wider mixing ratio.

이 경우, 상기 보조 유량 조정 기구는, 오리피스를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하고 있는 것이 바람직하다. 오리피스는 저렴한 구성 요소 부재이므로, 광범위한 혼합비를 매우 저비용으로 실현할 수 있다. 구체적으로는, 예컨대, 상기 오리피스는, 1/2∼1/20의 범위 내의 소정비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다. 이 소정비의 역수에 따른 배수만큼, 실현 가능한 혼합비가 광범위해진다.In this case, it is preferable that the said auxiliary flow volume adjustment mechanism includes the path provided with an orifice so that switching is possible. Since the orifice is an inexpensive component member, a wide range of mixing ratios can be realized at a very low cost. Specifically, for example, the orifice is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio within the range of 1/2 to 1/220. By the multiples of the reciprocal of the predetermined ratio, the mixing ratio that can be realized becomes wider.

또는, 상기 보조 유량 조정 기구는, 니들 밸브를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하고 있는 것이 바람직하다. 니들 밸브는 오리피스보다는 고가이지만, 그래도 광범위한 혼합비를 비교적 저비용으로 실현할 수 있다. 구체적으로는, 예컨대, 상기 니들 밸브는, 1/2∼1/20의 범위 내의 설정 변경 가능한 소정비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다. 이 소정비의 역수에 따른 배수만큼, 실현 가능한 혼합비가 광범위해진다.Or, it is preferable that the said auxiliary flow volume adjustment mechanism includes the path | route provided with the needle valve so that switching is possible. Needle valves are more expensive than orifices, but still allow for a wide range of mixing ratios at relatively low cost. Specifically, for example, the needle valve is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio which can be set and changed within a range of 1/2 to 1/220. By the multiples of the reciprocal of the predetermined ratio, the mixing ratio that can be realized becomes wider.

또는, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 복수의 유량 조정 요소를 전환 이용함으로써, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다. 즉, 상기 보조 유량 조정 기구의 복수의 유량 조정 요소 중의 어느 것을 이용하는지가 제어됨으로써, 혼합액에서의 혼합비를 보다 광범위하게 얻을 수 있다. 이 경우에도, 각 유량 조정 요소는, 니들 밸브 또는 오리피스를 포함하여 구성되는 것이, 비용면에서 유리하다.Alternatively, the auxiliary flow rate adjustment mechanism preferably includes a plurality of flow rate adjustment elements which are provided in parallel with each other and selectively switch over. In this case, a wider mixing ratio can be realized by switching between a plurality of flow rate adjusting elements. That is, by controlling which of the plurality of flow regulating elements of the auxiliary flow regulating mechanism is used, the mixing ratio in the mixed liquid can be obtained more extensively. Even in this case, it is advantageous in terms of cost that each flow rate adjustment element is configured to include a needle valve or an orifice.

상기 제2 액공급관에는, 상기 제2 액원이 미리 접속되어 있어도 좋다(접속된 상태로, 액처리 장치가 출하ㆍ판매될 수 있다). 예컨대, 제2 액원은 고농도 약액이다. 한편, 상기 제1 액공급관에는, 예컨대 제1 액으로서의 물이 공급될 수 있지만, 이 접속(제1 액원에 대한 접속)은 통상적으로 액처리 장치를 공장에 설치할 때 이루어진다.The second liquid source may be connected to the second liquid supply pipe in advance (in a connected state, the liquid processing apparatus can be shipped and sold). For example, the second liquid source is a high concentration chemical liquid. On the other hand, although the water as the first liquid can be supplied to the first liquid supply pipe, for example, this connection (connection to the first liquid source) is usually made when the liquid processing apparatus is installed in a factory.

또한, 본 발명은, 별개의 처리 유닛에 각각 통해 있는 복수의 분기관이 연장되어 나가는 주배관 내에, 제1 액공급관으로부터 공급되는 제1 액과 제2 액공급관으로부터 유량 조정 밸브와 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 접속된 보조 유량 조정 기구를 통해 공급되는 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관의 일측으로부터 충전하는 혼합 충전 공정과, 상기 주배관 내의 혼합액이 각 분기관을 통해 각 처리 유닛에 공급되고, 상기 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛 내에서 피처리체의 처리가 실시되는 처리 공정을 포함하며, 상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 유량 조정 밸브에 더하여 상기 보조 유량 조정 기구도 연동하여 제어되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법이다.The present invention also provides a flow control valve and a flow control valve from a first liquid and a second liquid supply pipe supplied from a first liquid supply pipe in a main pipe through which a plurality of branch pipes respectively extending through separate processing units extend. The mixing and filling process of mixing the 2nd liquid supplied through the auxiliary flow volume adjustment mechanism connected in series with respect to the said main piping from one side of the said main piping, and the mixed liquid in the said main piping to each processing unit through each branch pipe | tube. And a processing step of supplying and processing a target object in each processing unit by using the mixed liquid, and in the mixed filling step, in order to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid, the auxiliary flow rate is added to the flow regulating valve. It is a liquid processing method characterized in that the adjustment mechanism is also controlled in linkage.

본 발명에 의하면, 하나의 액공급 기구로부터 주배관에 공급되는 혼합액이, 복수의 처리 유닛에서의 피처리체의 처리에 이용된다. 따라서, 상이한 처리 유닛에서 처리된 피처리체간의 처리의 차이를 저감할 수 있다. 또한, 각 처리 유닛의 가동 상황에 따라서 요구되는 양의 혼합액이, 액공급 기구로부터 주배관에 공급된다. 따라서, 약액 절약의 관점에서도 바람직하다. 또한, 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 접속된 보조 유량 조정 기구가 유량 조정 밸브에 더하여 제어됨으로써, 보다 광범위한 혼합비를 실현하는 것이 가능하다.According to the present invention, the mixed liquid supplied from one liquid supply mechanism to the main pipe is used for processing the object to be processed in the plurality of processing units. Therefore, the difference of the process between the to-be-processed object processed by the different processing unit can be reduced. In addition, the amount of the mixed liquid required in accordance with the operation status of each processing unit is supplied from the liquid supply mechanism to the main pipe. Therefore, it is preferable also from the viewpoint of chemical liquid saving. In addition, by controlling the auxiliary flow rate adjusting mechanism connected in series with the flow rate adjusting valve in addition to the flow rate adjusting valve, it is possible to realize a wider mixing ratio.

여기서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하고 있고, 상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 보조 유량 조정 기구의 복수의 유량 조정 요소 중의 어느 것을 이용할 것인지가 전환 제어되는 것이 바람직하다. 이 경우, 복수의 유량 조정 요소를 전환 이용함으로써, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.Here, the auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a plurality of flow rate adjusting elements which are installed in parallel with each other and selectively switched and used, and in order to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid in the mixing filling step, It is preferable to switch-control which of the some flow control elements is used. In this case, a wider mixing ratio can be realized by switching between a plurality of flow rate adjusting elements.

또한, 본 발명은, 별개의 처리 유닛에 각각 통해 있는 복수의 분기관이 연장되어 나가는 주배관 내에, 제1 액원으로부터 공급되는 제1 액과, 압력 제어부를 통해 제어되는 가압 가스의 압력에 따라서 가압된 상태로 제2 액탱크로부터 유량 조정 밸브를 통해 공급되는 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관의 일측으로부터 충전하는 혼합 충전 공정과, 상기 주배관 내의 혼합액이 각 분기관을 통해 각 처리 유닛에 공급되고, 상기 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛 내에서 피처리체의 처리가 실시되는 처리 공정을 포함하며, 상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 유량 조정 밸브에 더하여 상기 압력 제어부도 연동하여 제어되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법이다.In addition, the present invention is pressurized according to the pressure of the first liquid supplied from the first liquid source and the pressurized gas controlled through the pressure control unit in the main pipe through which the plurality of branch pipes respectively extending through the separate processing units extend. The mixed filling process of mixing the 2nd liquid supplied from the 2nd liquid tank through the flow control valve in the state from one side of the said main piping, and the mixed liquid in the said main piping to each processing unit through each branch pipe. And a processing step of supplying and processing the object to be processed in each processing unit using the mixed liquid, and in the mixed filling step, in order to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid, the pressure control unit is added to the flow regulating valve. It is also a liquid treatment method characterized in that the control in conjunction.

본 발명에 의하면, 하나의 액공급 기구로부터 주배관에 공급되는 혼합액이, 복수의 처리 유닛에서의 피처리체의 처리에 이용된다. 따라서, 상이한 처리 유닛에서 처리된 피처리체간의 처리의 차이를 저감할 수 있다. 또한, 각 처리 유닛의 가동 상황에 따라서 요구되는 양의 혼합액이, 액공급 기구로부터 주배관에 공급된다. 따라서, 약액 절약의 관점에서도 바람직하다. 또한, 제2 액을 가압 공급하기 위한 압력 제어부와 제2 액의 공급 유량을 조정하기 위한 유량 조정 밸브가 연동 제어됨으로써, 보다 광범위한 혼합비를 실현하는 것이 가능하다.According to the present invention, the mixed liquid supplied from one liquid supply mechanism to the main pipe is used for processing the object to be processed in the plurality of processing units. Therefore, the difference of the process between the to-be-processed object processed by the different processing unit can be reduced. In addition, the amount of the mixed liquid required in accordance with the operation status of each processing unit is supplied from the liquid supply mechanism to the main pipe. Therefore, it is preferable also from the viewpoint of chemical liquid saving. In addition, the pressure control unit for pressurizing and supplying the second liquid and the flow rate adjusting valve for adjusting the supply flow rate of the second liquid can be interlocked to control a wider mixing ratio.

여기서, 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구가 설치되고, 상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 유량 조정 밸브에 더하여 상기 압력 제어부와 상기 보조 유량 조정 기구가 연동하여 제어되는 것이 바람직하다. 이 경우, 더욱 광범위한 혼합비를 실현하는 것이 가능하다.Here, an auxiliary flow regulating mechanism is provided in series with the flow regulating valve, and in order to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid in the mixing filling step, the pressure controller and the auxiliary flow regulating mechanism are provided in addition to the flow regulating valve. It is preferably controlled in conjunction. In this case, it is possible to realize a wider mixing ratio.

이 경우, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하고 있고, 상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 보조 유량 조정 기구의 복수의 유량 조정 요소 중의 어느 것을 이용할 것인지가 전환 제어되는 것이 바람직하다. 이 경우, 복수의 유량 조정 요소를 전환 이용함으로써, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.In this case, the auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a plurality of flow rate adjusting elements which are arranged in parallel with each other and selectively switched to be used. It is preferable that switching control is used which of the plurality of flow rate adjusting elements is used. In this case, a wider mixing ratio can be realized by switching between a plurality of flow rate adjusting elements.

본 발명의 일 양태에 따른 프로그램은, 액처리 장치를 제어하는 제어 장치에 의해 실행되는 프로그램으로서, 상기 제어 장치에 의해 실행됨으로써, 전술한 본 발명의 일 양태에 의한 액처리 방법 중 어느 하나를 액처리 장치에 실시시킨다.The program according to one aspect of the present invention is a program executed by a control apparatus for controlling a liquid processing apparatus, and executed by the control apparatus, thereby performing any of the liquid processing methods according to the above-described aspect of the present invention. It is carried out to a processing apparatus.

본 발명의 일 양태에 의한 기록 매체는, 액처리 장치를 제어하는 제어 장치에 의해 실행되는 프로그램이 기록된 기록 매체로서, 상기 프로그램이 상기 제어 장치에 의해 실행됨으로써, 전술한 본 발명의 일 양태에 의한 액처리 방법 중 어느 하나를 액처리 장치에 실시시킨다.A recording medium according to one aspect of the present invention is a recording medium on which a program to be executed by a control apparatus for controlling a liquid processing apparatus is recorded, and the program is executed by the control apparatus. By any of the liquid treatment methods.

본 발명에 따르면, 복수의 액체를 혼합하여 이루어진 혼합액을 이용하는 액처리 장치에 있어서 혼합액의 농도를, 큰 비용을 들이지 않고서도, 보다 광범위하게 조정할 수 있게 된다.According to the present invention, in the liquid processing apparatus using a mixed liquid obtained by mixing a plurality of liquids, the concentration of the mixed liquid can be adjusted more extensively without incurring a large cost.

도 1은, 본 발명의 제1 실시형태에 의한 액처리 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는, 도 1의 액처리 장치를 이용하여 실시될 수 있는 피처리체에 대한 액처리 방법의 일례를 설명하기 위한 플로우차트이다.
도 3은, 액공급 기구의 일 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 4는, 액공급 기구의 일 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 5는, 액공급 기구의 또 다른 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 6은, 액공급 기구의 또 다른 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 7은, 액처리 장치의 일 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 8은, 본 발명의 제2 실시형태에 의한 액처리 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 9는, 도 8의 액처리 장치를 이용하여 실시될 수 있는 피처리체에 대한 액처리 방법의 일례를 설명하기 위한 플로우차트이다.
도 10은, 액공급 기구의 일 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 11은, 액공급 기구의 또 다른 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 12는, 액공급 기구의 또 다른 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 13은, 액공급 기구의 또 다른 변형예를 나타내는 개략도이다.
도 14는, 액처리 장치의 일 변형예를 나타내는 개략도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows roughly the whole structure of the liquid processing apparatus by 1st Embodiment of this invention.
FIG. 2 is a flowchart for explaining an example of a liquid treatment method for a target object that can be implemented using the liquid treatment apparatus of FIG. 1.
3 is a schematic view showing a modification of the liquid supply mechanism.
4 is a schematic view showing one modification of the liquid supply mechanism.
5 is a schematic view showing still another modification of the liquid supply mechanism.
6 is a schematic view showing still another modification of the liquid supply mechanism.
7 is a schematic view showing one modification of the liquid processing apparatus.
8 is a diagram schematically showing the overall configuration of a liquid processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a flowchart for explaining an example of a liquid processing method for a processing target object that can be performed using the liquid processing apparatus of FIG. 8.
10 is a schematic view showing a modification of the liquid supply mechanism.
11 is a schematic view showing still another modification of the liquid supply mechanism.
12 is a schematic view showing still another modification of the liquid supply mechanism.
13 is a schematic view showing still another modification of the liquid supply mechanism.
14 is a schematic view showing a modification of the liquid processing apparatus.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 관해 설명한다. 본건 명세서에 첨부하는 도면에서는, 도시 및 용이한 이해를 위한 편의상, 적절하게 축척 및 종횡의 치수비 등을, 실물의 그것으로부터 변경하여 과장하였다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described with reference to drawings. In the drawings attached to the present specification, for convenience of illustration and easy understanding, the scale, aspect ratio and the like are appropriately changed from the actual one and exaggerated.

이하의 실시형태에서는, 본 발명을, 반도체 웨이퍼(피처리체의 일례)의 세정 처리, 특히 약액을 이용한 처리(약액 처리)에 적용한 예를 나타내고 있다. 그러나, 본 발명은, 적어도 본원 출원의 시점에서는, 웨이퍼의 세정 처리에 대한 적용에 한정되는 것은 아니다.In the following embodiment, the example which applied this invention to the cleaning process of a semiconductor wafer (an example of a to-be-processed object), especially the process using chemical liquid (chemical liquid process) is shown. However, the present invention is not limited to application to the cleaning process of a wafer at least at the time of the present application.

제1 실시형태First Embodiment

도 1에 나타낸 바와 같이, 액처리 장치(10)는, 주배관(20)과, 주배관(20)의 일측에 접속되어 주배관(20)에 혼합액을 공급하는 액공급 기구(40)와, 주배관(20)의 타측에 설치된 주개폐 밸브(22)와, 주배관(20)으로부터 분기된 복수의 분기관(25)을 갖고 있다. 복수의 분기관(25)의 각각에 대응하여 처리 유닛(50)이 설치되어 있다. 각 분기관(25)에는, 분기관(25)을 개폐하는 분기관용 개폐 밸브(27)가 설치되어 있다. 또한, 액처리 장치(10)는, 액처리 장치(10)의 각 구성 요소의 동작 등을 제어하는 제어 장치(12)를 갖고 있다. 이하, 각 구성 요소에 관해 순서대로 설명해 간다.As shown in FIG. 1, the liquid treatment apparatus 10 includes a main supply pipe 20, a liquid supply mechanism 40 connected to one side of the main pipe 20, and supplies a mixed liquid to the main pipe 20, and a main pipe 20. The main opening / closing valve 22 provided in the other side of (), and the some branch pipe 25 branched from the main piping 20 are provided. The processing unit 50 is provided corresponding to each of the plurality of branch pipes 25. Each branch pipe 25 is provided with a branch pipe open / close valve 27 for opening and closing the branch pipe 25. Moreover, the liquid processing apparatus 10 has the control apparatus 12 which controls the operation | movement of each component of the liquid processing apparatus 10, etc. Hereinafter, each component is demonstrated in order.

우선, 액공급 기구(40)에 관해 설명한다. 액공급 기구(40)는, 주배관(20) 및 분기관(25)을 통하여, 다수의 처리 유닛(50) 각각에, 웨이퍼(피처리체; W)의 처리에 이용되는 혼합액을 공급한다. 본 실시형태에서, 액공급 기구(40)는, 웨이퍼(피처리체; W)의 약액 처리에 이용되는 약액을 주배관(20) 내에 공급하도록 구성되어 있다.First, the liquid supply mechanism 40 will be described. The liquid supply mechanism 40 supplies the mixed liquid used for the processing of a wafer (object to be processed) to each of the plurality of processing units 50 through the main pipe 20 and the branch pipe 25. In the present embodiment, the liquid supply mechanism 40 is configured to supply the chemical liquid used for the chemical liquid processing of the wafer (object to be processed) W into the main pipe 20.

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태에서, 액공급 기구(40)는, 주배관(20)의 일측에 설치된 혼합기(43)(본 예에서는 혼합 밸브)와, 제1 액을 공급하는 제1 액공급관(41b)과, 제1 액과는 상이한 제2 액을 공급하기 위한 제2 액원(42a)을 갖고 있다. 제1 액공급관(41b)은, 혼합기(43)와 제1 액원(41a) 사이에 연장되어 있다. 제2 액원(42a)과 혼합기(43) 사이에 제2 액공급관(42b)이 설치되고, 제2 액공급관(42b)을 통해 제2 액원(42a)으로부터 혼합기(43)에 제2 액이 공급되도록 되어 있다. 혼합기(43)는, 제1 액공급관(41b)과, 제2 액공급관(42b)의 합류부를 이루는 부재이다. 제1 액원(41a)으로부터의 제1 액 및 제2 액원(42a)으로부터의 제2 액은, 혼합기(43)에서 합류하여 서로 혼합되고, 이에 따라, 제1 액과 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을 얻을 수 있게 된다. 혼합기(43)는, 제1 액과 제2 액을 적극적으로 혼합하는 기능을 갖는 부재로 구성될 수 있다. 단, 이것에 한정되지 않고, 혼합기(43)는, 오로지 제1 액 및 제2 액의 합류전의 각 액흐름에 기인하여 제1 액 및 제2 액이 혼합되도록 이루어진 부재(예컨대, T자형의 이음 부재인 티관)로 구성되어도 좋다.As shown in FIG. 1, in the present embodiment, the liquid supply mechanism 40 includes a mixer 43 (in this example, a mixing valve) provided on one side of the main pipe 20, and a first liquid for supplying the first liquid. It has a supply pipe 41b and the 2nd liquid source 42a for supplying the 2nd liquid different from a 1st liquid. The first liquid supply pipe 41b extends between the mixer 43 and the first liquid source 41a. The second liquid supply pipe 42b is installed between the second liquid source 42a and the mixer 43, and the second liquid is supplied from the second liquid source 42a to the mixer 43 through the second liquid supply pipe 42b. It is supposed to be. The mixer 43 is a member that forms a confluence of the first liquid supply pipe 41b and the second liquid supply pipe 42b. The first liquid from the first liquid source 41a and the second liquid from the second liquid source 42a are combined in the mixer 43 and mixed with each other, thereby mixing the first liquid and the second liquid. A mixed liquid can be obtained. The mixer 43 may be composed of a member having a function of actively mixing the first liquid and the second liquid. However, the present invention is not limited to this, and the mixer 43 is a member (for example, a T-shaped joint) in which the first liquid and the second liquid are mixed only due to the respective liquid flows before the first liquid and the second liquid are joined. Tee tube as a member).

본 실시형태에서는, 물, 특히 순수가, 제1 액원(41a)으로부터 제1 액으로서 공급되고, 고농도 약액이, 제2 액원(42a)으로부터 제2 액으로서 공급된다. 액공급 기구(40)는, 제1 액공급관(41b)으로부터의 물과 제2 액원(42a)으로부터의 고농도 약액을 혼합하여, 원하는 농도로 조절한 약액으로서의 혼합액을 주배관(20) 내에 공급할 수 있도록 되어 있다. 제2 액원(42a)으로부터 공급되는 고농도 약액(제2 액)으로서, 웨이퍼(W)를 세정 처리하는 데 이용될 수 있는 여러 약액을 채용할 수 있다. 예컨대, 제2 액원(42a)으로부터, 희불산, 암모니아과수(SC1), 또는 염산과수(SC2)가 공급되도록 해도 좋다. 또한, 제2 액은, 복수의 약액 원액이 혼합되는 것이어도 좋다. 예컨대, 암모니아과수(SC1)의 경우, NH4OH와 H2O2가 약액 원액으로서 이용될 수 있고, 염산과수(SC2)의 경우, HCl과 H2O2가 약액 원액으로서 이용될 수 있다. 또한, 제1 액원(41a)은, 처리 장치(10)가 설치되는 장소에 설비된 수원, 예컨대 공장의 시설이어도 좋다.In this embodiment, water, especially pure water, is supplied as a 1st liquid from the 1st liquid source 41a, and a high concentration chemical liquid is supplied as a 2nd liquid from the 2nd liquid source 42a. The liquid supply mechanism 40 mixes the water from the first liquid supply pipe 41b and the high concentration chemical liquid from the second liquid source 42a to supply the mixed liquid as the chemical liquid adjusted to a desired concentration into the main pipe 20. It is. As the high concentration chemical liquid (second liquid) supplied from the second liquid source 42a, various chemical liquids that can be used to clean the wafer W can be employed. For example, dilute hydrofluoric acid, ammonia fruit water (SC1), or hydrochloric acid fruit water (SC2) may be supplied from the second liquid source 42a. The second liquid may be a mixture of a plurality of chemical liquid stock solutions. For example, in the case of ammonia fruit water (SC1), NH 4 OH and H 2 O 2 can be used as a chemical stock solution, and in the case of hydrochloric acid fruit water (SC2), HCl and H 2 O 2 can be used as a chemical stock solution. . In addition, the 1st liquid source 41a may be a water source installed in the place where the processing apparatus 10 is installed, for example, a facility of a factory.

그런데, 액공급 기구(40)는, 주배관(20)에 접속된 복수의 처리 유닛(50)의 전부에 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 혼합비가 조절된 혼합액을 주배관(20) 내에 공급하도록 구성되어 있다.By the way, the liquid supply mechanism 40 is comprised by the pressure which can supply simultaneously to all of the some process unit 50 connected to the main piping 20, and is comprised so that the liquid mixture of which the mixing ratio was adjusted may be supplied in the main piping 20. FIG. .

도시하는 예에서는, 액공급 기구(40)의 제1 액공급관(41b) 상에 정압(定壓) 밸브(41c)가 설치되어 있다. 정압 밸브(41c)에는, 가압용의 압축 공기원(41d)과 레귤레이터(41e)(예컨대, 제품명 : HL 레귤레이터 942N)가 접속되어 있어, 정압 밸브(41c)를 원하는대로 작동시키도록 되어 있다. 또한, 정압 밸브(41c)를 적절하게 작동시키도록, 레귤레이터(41e)에 압력 센서(41f)가 설치되어 있어, 그 검출 압력을 레귤레이터(41e)의 제어를 위해 제어 장치(12)에 피드백하도록 되어 있다. 즉, 레귤레이터(41e)의 제어[정압 밸브(41c)의 제어]에 관해서도, 제어 장치(12)가 담당하도록 되어 있다. 이러한 구성에 의해, 제1 액원으로부터 제공되는 제1 액은, 주배관(20)에 접속된 복수의 처리 유닛(50)의 전부[정확하게는, 처리중(혼합액 소비중)인 처리 유닛(50)의 전부]에 동시에 공급될 수 있는 압력으로, 제1 액공급관(41b)을 통해 주배관(20)에 공급될 수 있도록 되어 있다. 도 1 중, 41m은 유량계이고, 41g는 개폐 밸브이다. 개폐 밸브(41g)는, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 레귤레이터(41e)는, 다른 압력 제어 기구에 의해 치환되어도 좋다.In the example shown in the figure, a constant pressure valve 41c is provided on the first liquid supply pipe 41b of the liquid supply mechanism 40. A pressurized compressed air source 41d and a regulator 41e (for example, a product name: HL regulator 942N) are connected to the positive pressure valve 41c to operate the positive pressure valve 41c as desired. In addition, a pressure sensor 41f is provided in the regulator 41e to properly operate the positive pressure valve 41c, and the detected pressure is fed back to the control device 12 for the control of the regulator 41e. have. That is, the control apparatus 12 is also in charge of control of the regulator 41e (control of the positive pressure valve 41c). By this structure, the 1st liquid provided from the 1st liquid source of the process unit 50 of all (exactly during processing (mixed liquid consumption)) of the some processing unit 50 connected to the main piping 20 is corrected. All at the same time, the pressure can be supplied to the main pipe 20 through the first liquid supply pipe (41b). In FIG. 1, 41m is a flowmeter, and 41g is an on-off valve. The opening / closing valve 41g is configured of a valve in which the opening and closing operation can be driven by the fluid pressure drive, for example, an air operated valve in which the opening and closing operation is driven by the air pressure. The regulator 41e may be replaced by another pressure control mechanism.

한편, 제2 액공급관(42b)에는, 유량계(42m) 및 유량 조정 밸브(42d)가 설치되어 있다. 그리고, 본 발명의 특징으로서, 유량 조정 밸브(42d)에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구(42e)가 더 설치되어 있다. 보조 유량 조정 기구(42e)는, 본 실시형태에서는, 개폐 밸브(42g)만을 갖는 단순한 배관 경로와 개폐 밸브(42h) 및 오리피스(42i)를 포함하는 경로가, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h)의 제어에 의해 전환 가능하게 구성되어 있다. 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h)는 각각, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 한편, 오리피스(42i)는, 1/2∼1/20의 범위 내의 소정비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다.On the other hand, the flowmeter 42m and the flow regulating valve 42d are provided in the 2nd liquid supply pipe 42b. As an aspect of the present invention, an auxiliary flow rate adjusting mechanism 42e is further provided in series with the flow rate adjusting valve 42d. In the present embodiment, the auxiliary flow rate adjusting mechanism 42e includes a simple piping path having only the opening / closing valve 42g and a path including the opening / closing valve 42h and the orifice 42i. The opening / closing valve 42g and the opening / closing valve ( It is comprised so that switching is possible by control of 42h). The opening / closing valve 42g and the opening / closing valve 42h are each comprised of a valve in which the opening / closing operation can be driven by fluid pressure driving, for example, an air operated valve in which the opening / closing operation is driven by air pressure. On the other hand, the orifice 42i is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio within the range of 1/2 to 1/220.

개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h) 각각의 개폐 제어는, 제어 장치(12)가 담당하도록 되어 있다. 이것에 의해, 오리피스(42i)의 통과 유무를 전환할 수 있고, 그 결과 2 레인지의 혼합비를 실현할 수 있도록 되어 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d)에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 종래 기술과 비교하여, 매우 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.The control device 12 is in charge of opening / closing control of each of the open / close valve 42g and the open / close valve 42h. As a result, the presence / absence of the orifice 42i can be switched, and as a result, the mixing ratio of two ranges can be realized (mixing ratio adjustment by the flow regulating valve 42d can be used for each range). As a result, a very wide mixing ratio can be realized as compared with the prior art.

또한, 유량 조정 밸브(42d)의 제어 자체도, 제어 장치(12)가 담당하도록 되어 있다. 구체적으로는, 유량계(41m)에 의한 제1 액의 통과 유량의 측정치와 유량계(42m)에 의한 제2 액의 통과 유량의 측정치를 피드백 정보로서 이용하면서, 제어 장치(12)가, 원하는 혼합비를 실현하도록, 유량 조정 밸브(42d)를 제어하도록 되어 있다.Moreover, the control apparatus 12 is also in charge of the control itself of the flow regulating valve 42d. Specifically, while using the measured value of the passage flow rate of the 1st liquid by the flowmeter 41m, and the measured value of the passage flow rate of the 2nd liquid by the flowmeter 42m as feedback information, the control apparatus 12 uses the desired mixing ratio. In order to realize this, the flow regulating valve 42d is controlled.

제2 액원(42a)은, 웨이퍼(W)를 처리하고 있는(혼합액을 소비하고 있는) 처리 유닛(50)의 수에 따른 양의 제2 액을, 혼합기(43)를 통해 주배관(20)에 공급하도록 구성되어 있다. 구체적으로는, 제2 액원(42a)은, 통상 탱크로서 구성되고, 예컨대 가압용의 질소 가스원(42k)으로부터의 가압을 받아, 제2 액을 혼합기(43)를 향해서 보내주도록 되어 있다. 일례로서, 제2 액의 액량은, 주배관(20)에 접속된 처리 유닛(50) 중, 주배관(20) 내의 액을 소비하여 웨이퍼(W)를 처리하고 있는 처리 유닛(50)의 수에 따라서, 원하는 혼합비에 기초하여 결정된다. 상기 액량의 제2 액이 주배관(20)에 공급되도록, 제어 장치(12)에 의해, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h)의 개폐와, 유량 조정 밸브(42d)의 통유량이, 연동하여 제어된다. 이러한 제어에 의해, 액공급 기구(40)는, 주배관(20) 내를, 소정 농도의 혼합액에 의해, 소정 압력으로 유지할 수 있다. 또한, 실현 가능한 혼합비가, 종래 기술과 비교하여 매우 광범위하다.The second liquid source 42a supplies the second liquid of the amount corresponding to the number of the processing units 50 processing the wafer W (which is consuming the mixed liquid) to the main pipe 20 through the mixer 43. It is configured to supply. Specifically, the second liquid source 42a is usually configured as a tank, for example, receiving a pressurization from a pressurized nitrogen gas source 42k and sending the second liquid toward the mixer 43. As an example, the liquid amount of the second liquid depends on the number of the processing units 50 that process the wafer W by consuming the liquid in the main pipe 20 among the processing units 50 connected to the main pipe 20. , Based on the desired mixing ratio. The opening and closing of the on-off valve 42g and the on-off valve 42h and the flow rate of the flow rate adjustment valve 42d are interlocked by the control device 12 so that the second liquid of the liquid amount is supplied to the main pipe 20. Is controlled. By this control, the liquid supply mechanism 40 can maintain the inside of the main pipe 20 at a predetermined pressure with a mixed liquid having a predetermined concentration. Moreover, the mixing ratio which can be realized is very wide compared with the prior art.

다음으로, 주배관(20) 및 주개폐 밸브(22)에 관해 설명한다. 주배관(20)은 일측에서, 전술한 바와 같이, 액공급 기구(40)에 접속되어 있다. 그리고, 주배관(20)은, 액공급 기구(40)가 접속된 일측과는 반대측에 해당하는 타측에서, 폐기 라인에 통해 있다. 주개폐 밸브(22)는, 주배관(20)의 액공급 기구(40)에 대하여 타측에 부착되어 있다. 주개폐 밸브(22)는, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 그리고, 주개폐 밸브(22)의 개폐 동작은, 제어 장치(12)에 의해 제어되도록 되어 있다. 그 결과, 주개폐 밸브(22)는, 제어 장치(12)로부터의 제어 신호에 기초하여, 주배관(20)을 폐기 라인으로부터 폐쇄한 상태와, 주배관(20)을 폐기 라인에 연통시킨 상태 중 어느 하나의 상태를 선택적으로 유지하게 된다.Next, the main piping 20 and the main opening / closing valve 22 are demonstrated. As described above, the main pipe 20 is connected to the liquid supply mechanism 40. And the main piping 20 is in the waste line at the other side corresponding to the opposite side to the one side to which the liquid supply mechanism 40 was connected. The main opening / closing valve 22 is attached to the other side with respect to the liquid supply mechanism 40 of the main piping 20. The main opening / closing valve 22 is comprised by the valve which can open and close operation | movement by fluid pressure drive, for example, the air operated valve which opens and closes operation | movement by air pressure. The opening / closing operation of the main opening / closing valve 22 is controlled by the control device 12. As a result, the main opening / closing valve 22 is based on the control signal from the control apparatus 12, either the state which closed the main piping 20 from the waste line, and the state which connected the main piping 20 to the waste line. One state is selectively maintained.

다음으로, 분기관(25), 분기관용 개폐 밸브(27) 및 처리 유닛(50)에 관해 설명한다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 복수의 분기관(25)은, 액공급 기구(40)와 주개폐 밸브(22) 사이의 구간에서 주배관(20)으로부터 연장되어 나온다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 각 분기관(25)은, 주배관(20)에 접속하고 있는 측과는 반대측에서, 대응하는 처리 유닛(50) 안으로 연장되어 들어간다. 각 분기관(25)은, 주배관(20)에 접속하고 있는 측과는 반대측의 단부로서, 액을 토출하는 토출 개구(26a)를 갖고 있고, 토출 개구(26a)는 처리 유닛(50) 내에서 지지 부재(54)에 지지되어 있다.Next, the branch pipe 25, the branch open / close valve 27 and the processing unit 50 will be described. As shown in FIG. 1, the plurality of branch pipes 25 extend from the main pipe 20 in a section between the liquid supply mechanism 40 and the main open / close valve 22. As shown in FIG. 1, each branch pipe 25 extends into a corresponding processing unit 50 on the side opposite to the side connected to the main pipe 20. Each branch pipe 25 is an end opposite to the side connected to the main pipe 20 and has a discharge opening 26a for discharging the liquid, and the discharge opening 26a is within the processing unit 50. It is supported by the support member 54.

분기관용 개폐 밸브(27)는, 전술한 주개폐 밸브(22)와 마찬가지로, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 그리고, 분기관용 개폐 밸브(27)의 개폐 동작은, 제어 장치(12)에 의해 제어되도록 되어 있다.Like the main opening / closing valve 22 described above, the branch pipe opening / closing valve 27 is composed of a valve which can be opened and closed by fluid pressure driving, for example, an air operated valve which is opened and closed by air pressure. have. The opening and closing operation of the branch pipe open / close valve 27 is controlled by the control device 12.

처리 유닛(50)은, 웨이퍼(W)를 유지하는 유지 기구(52)와, 웨이퍼(W)를 처리하기 위한 처리 챔버를 구획하는 격벽(도시하지 않음)을 갖고 있다. 유지 기구(52)는, 웨이퍼(W)의 표면이 대략 수평 방향을 따르도록 하여 웨이퍼(W)를 유지한다. 유지 기구(52)는, 원판형의 형상으로 이루어진 웨이퍼(W)의 중심을 축으로 하여, 유지한 웨이퍼(W)를 회전시킬 수 있도록 구성되어 있다. 분기관(25)은 격벽의 내부에 연장되어 들어가고, 분기관(25)의 토출 개구(26a)는 처리 챔버 내에 배치되어 있다.The processing unit 50 has a holding mechanism 52 holding the wafer W and partition walls (not shown) for partitioning the processing chamber for processing the wafer W. As shown in FIG. The holding mechanism 52 holds the wafer W with the surface of the wafer W substantially along the horizontal direction. The holding mechanism 52 is comprised so that the held wafer W can be rotated centering on the center of the wafer W which has a disk shape. The branch pipe 25 extends into the partition wall, and the discharge opening 26a of the branch pipe 25 is disposed in the processing chamber.

지지 부재(54)는, 웨이퍼(W)에 대하여 이동 가능(예컨대 요동 가능)하게 구성되어 있다. 지지 부재(54)가 이동함으로써, 분기관(25)의 토출 개구(26a)는, 유지 기구(52)에 유지된 웨이퍼(W)의 대략 중심에 상측으로부터 대면하는 처리 위치와, 웨이퍼(W)의 상측의 영역으로부터 가로 방향으로 벗어난 대기 위치 사이를 이동할 수 있다. 토출 개구(26a)가 처리 위치에 있는 경우, 토출 개구(26a)로부터 토출되는 액체는 웨이퍼(W)에 공급되고, 웨이퍼(W)는 공급된 액체에 의해 처리되게 된다. 한편, 토출 개구(26a)가 대기 위치에 있는 경우, 토출 개구(26a)로부터 토출되는 액체는 웨이퍼(W)에 공급되지 않고, 예컨대 폐기되게 된다.The support member 54 is comprised so that a movement (for example, oscillation is possible) with respect to the wafer W is possible. As the supporting member 54 moves, the discharge opening 26a of the branch pipe 25 faces the processing position facing from the upper side to the approximately center of the wafer W held by the holding mechanism 52, and the wafer W. It is possible to move between the standby positions deviated in the horizontal direction from the region on the upper side of. When the discharge opening 26a is in the processing position, the liquid discharged from the discharge opening 26a is supplied to the wafer W, and the wafer W is processed by the supplied liquid. On the other hand, when the ejection opening 26a is in the standby position, the liquid ejected from the ejection opening 26a is not supplied to the wafer W, for example, to be discarded.

또한, 도 1에 나타낸 바와 같이, 처리 유닛(50)은, 토출 개구(26a)로부터 웨이퍼(W)를 향해 토출된 액을 회수하는 컵(56)을 더 갖고 있다. 컵(56)은, 처리 챔버 내에 설치되어, 토출 개구(26a)로부터 토출된 액이 처리 챔버 내에서 비산하는 것을 방지한다.In addition, as shown in FIG. 1, the processing unit 50 further includes a cup 56 for recovering the liquid discharged from the discharge opening 26a toward the wafer W. As shown in FIG. The cup 56 is provided in the processing chamber to prevent the liquid discharged from the discharge opening 26a from scattering in the processing chamber.

그런데, 전술한 바와 같이, 본 실시형태에서의 액공급 기구(40)는, 주배관(20) 및 분기관(25)을 통하여, 처리 유닛(50) 내의 웨이퍼(W)에 농도 조절된 약액을 혼합액으로서 공급하도록 되어 있다. 그리고, 본 실시형태에서, 액처리 장치(10)는, 웨이퍼(W)의 세정 처리에 요구되는 그 밖의 액, 예컨대 린스액을 웨이퍼(W)에 공급할 수 있도록 구성되어 있다.By the way, as mentioned above, the liquid supply mechanism 40 in this embodiment mixes the chemical liquid whose density | concentration was adjusted to the wafer W in the processing unit 50 via the main piping 20 and the branch pipe 25. It is supposed to supply as. And in this embodiment, the liquid processing apparatus 10 is comprised so that the other liquid required for the cleaning process of the wafer W, for example, the rinse liquid, can be supplied to the wafer W. As shown in FIG.

구체적인 구성으로는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 전술한 분기관용 개폐 밸브(27)와 나란하게, 분기관(25) 상에 린스액용 개폐 밸브(28)가 설치되어 있다. 이 린스액용 개폐 밸브(28)에, 도시하지 않은 린스액원에 통하는 린스액 공급관(31)이 접속되어 있다. 즉, 도시하는 예에서는, 액처리 장치(10)의 분기관(25)의 하류측의 일부분이, 린스액의 공급관으로서도 기능한다.As a specific structure, as shown in FIG. 1, the rinse liquid open / close valve 28 is provided on the branch pipe 25 side by side with the above-mentioned open / close valve 27 for branch pipes. The rinse liquid supply pipe 31 which connects to the rinse liquid source which is not shown in figure is connected to this rinse liquid open / close valve 28. That is, in the example shown, a part of the downstream side of the branch pipe 25 of the liquid processing apparatus 10 also functions as a supply pipe of a rinse liquid.

또한, 분기관용 개폐 밸브(27) 및 린스액용 개폐 밸브(28)와 나란하게, 폐액용 개폐 밸브(29)가 설치되어 있다. 폐액용 개폐 밸브(29)는 폐액관(32)에 통해 있다. 예컨대 폐액용 개폐 밸브(29)를 개폐함으로써, 분기관(25)의 분기관용 개폐 밸브(27)보다 하류측 내의 액체를 폐기할 수 있다.Further, a waste liquid on / off valve 29 is provided in parallel with the branch pipe on / off valve 27 and the rinse liquid on / off valve 28. The waste liquid open / close valve 29 is through the waste liquid pipe 32. For example, by opening and closing the waste liquid opening / closing valve 29, the liquid in the downstream side of the branch pipe 25 may be disposed more than the branch opening / closing valve 27.

다음으로, 제어 장치(12)에 관해 설명한다. 제어 장치(12)에는, 공정 관리자 등이 액처리 장치(10)를 관리하기 위해 커맨드의 입력 조작 등을 행하는 키보드나, 액처리 장치(10)의 가동 상황을 가시화하여 표시하는 디스플레이 등을 포함하는 입출력 장치가 접속되어 있다. 또한, 제어 장치(12)는, 액처리 장치(10)에서 실행되는 처리를 실현하기 위한 프로그램 등이 기록된 기록 매체(13)에 액세스 가능하게 되어 있다. 기록 매체(13)는, ROM 및 RAM 등의 메모리, 하드디스크, CD-ROM, DVD-ROM 및 플렉시블 디스크 등의 디스크형 기록 매체 등, 기지(旣知)의 프로그램 기록 매체로 구성될 수 있다.Next, the control apparatus 12 is demonstrated. The control device 12 includes a keyboard for performing a command input operation or the like for the process manager 10 to manage the liquid processing apparatus 10, a display for visualizing and displaying the operation status of the liquid processing apparatus 10, and the like. The input / output device is connected. In addition, the control apparatus 12 is made accessible to the recording medium 13 on which the program etc. for implementing the process performed by the liquid processing apparatus 10 were recorded. The recording medium 13 may be composed of known program recording media, such as memory such as ROM and RAM, and disk type recording media such as hard disk, CD-ROM, DVD-ROM, and flexible disk.

다음으로, 이상과 같은 구성을 포함하는 액처리 장치(10)를 이용하여 실행될 수 있는 액처리 방법의 일례에 관해 설명한다. 이하에 설명하는 액처리 방법에서는, 도 2에 나타낸 바와 같이 하여, 피처리체로서의 웨이퍼(W)가, 하나의 처리 유닛(50) 내에서 세정 처리가 실시된다. 그리고, 도 2에 나타내는 일련의 액처리 방법 중의 약액 처리 공정 S2에서, 웨이퍼(W)는, 전술한 액처리 장치(10)의 액공급 기구(40)로부터 공급되는 혼합액을 이용하여 처리된다. 이하에서는, 우선, 도 2에 나타내는 플로우차트를 참조하면서, 하나의 처리 유닛(50) 내에서 웨이퍼(W)에 대하여 실시되는 액처리 방법을 개략적으로 설명하고, 그 후에, 약액 처리 공정 S2를 행하는 것과 관련된 액처리 장치(10)의 동작에 관해 설명한다.Next, an example of the liquid processing method which can be performed using the liquid processing apparatus 10 containing the above structures is demonstrated. In the liquid processing method demonstrated below, as shown in FIG. 2, the washing | cleaning process is performed in the one processing unit 50 for the wafer W as a to-be-processed object. And in chemical liquid processing process S2 in the series of liquid processing methods shown in FIG. 2, the wafer W is processed using the mixed liquid supplied from the liquid supply mechanism 40 of the liquid processing apparatus 10 mentioned above. Hereinafter, the liquid processing method performed with respect to the wafer W in one processing unit 50 is first outlined with reference to the flowchart shown in FIG. 2, and after that, chemical liquid processing process S2 is performed. The operation of the liquid processing apparatus 10 related to this will be described.

이하에 설명하는 액처리 방법을 실행하기 위한 각 구성 요소의 동작은, 미리 프로그램 기록 매체(13)에 저장해 놓은 프로그램에 따른 제어 장치(12)로부터의 제어 신호에 의해 제어된다.The operation of each component for executing the liquid processing method described below is controlled by a control signal from the control device 12 according to the program stored in the program recording medium 13 in advance.

도 2에 나타낸 바와 같이, 우선, 세정 처리가 실시되는 웨이퍼(W)가, 액처리 장치(10)의 각 처리 유닛(50) 내에 반입되어, 각 처리 유닛(50) 내에서 유지 기구(52)에 의해 유지된다(도 2의 공정 S1).As shown in FIG. 2, first, the wafer W subjected to the cleaning process is loaded into each processing unit 50 of the liquid processing apparatus 10, and the holding mechanism 52 is held in each processing unit 50. Is maintained by (Step S1 in Fig. 2).

다음으로, 제1 액공급관(41b)으로부터의 물(제1 액)과, 제2 액원(42a)으로부터의 고농도 약액(제2 액)의 혼합액이, 액공급 기구(40)로부터 처리 유닛(50) 내에 공급된다. 그리고, 이 혼합액이, 각 처리 유닛(50)에 반입된 웨이퍼(W)를 향해 토출되어, 웨이퍼(W)에 대한 처리가 실시된다(공정 S2). 웨이퍼(W)의 세정 처리에서는, 예컨대, 희불산, 암모니아과수(SC1), 염산과수(SC2) 등의 농도 조절된 약액이, 액공급 기구(40)로부터 혼합액으로서 공급될 수 있다.Next, a mixed liquid of water (first liquid) from the first liquid supply pipe 41b and a high concentration chemical liquid (second liquid) from the second liquid source 42a is supplied from the liquid supply mechanism 40 to the processing unit 50. ) Is supplied. And this mixed liquid is discharged toward the wafer W carried in each processing unit 50, and the process with respect to the wafer W is performed (process S2). In the cleaning process of the wafer W, for example, concentration-controlled chemical liquids such as dilute hydrofluoric acid, ammonia fruit water (SC1), hydrochloric acid fruit water (SC2), and the like can be supplied from the liquid supply mechanism 40 as a mixed liquid.

여기서, 혼합액에서의 농도 조정은, 제어 장치(12)(제어부)로부터의 제어 신호에 의해 유량 조정 밸브(42d)와 보조 유량 조정 기구(42e)가 연동 제어됨으로써, 원하는대로 실현된다. 본 실시형태에서는, 보조 유량 조정 기구(42e)가, 개폐 밸브(42g)만을 갖는 배관 경로와 개폐 밸브(42h) 및 오리피스(42i)를 포함하는 배관 경로를 전환 가능하게 구성되어 있고, 이들의 전환 제어에 의해 2 레인지의 혼합비를 실현할 수 있도록 되어 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d)에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 종래 기술과 비교하여, 매우 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.Here, the concentration adjustment in the mixed liquid is realized as desired by interlocking control of the flow rate adjusting valve 42d and the auxiliary flow rate adjusting mechanism 42e by a control signal from the control device 12 (control unit). In this embodiment, the auxiliary flow volume adjustment mechanism 42e is comprised so that switching of the piping path | route which has only the opening-closing valve 42g, and the piping path | route including the opening-closing valve 42h and the orifice 42i is possible, and switching these is The mixing ratio of the two ranges can be realized by the control (mixing ratio adjustment by the flow rate adjusting valve 42d can be used for each range). As a result, a very wide mixing ratio can be realized as compared with the prior art.

혼합액(약액)을 이용한 웨이퍼(W)의 처리가 종료되면, 다음으로, 물, 특히 순수를 린스액으로서 이용하는 린스 처리가 웨이퍼(W)에 실시된다(공정 S3). 구체적으로는, 린스액 공급관(31) 및 린스액용 개폐 밸브(28)을 통해, 린스액이 처리 유닛(50) 내에 공급된다. 그리고, 각 처리 유닛(50)에서, 혼합액이 남아 있는 웨이퍼(W)를 향해 린스액이 토출되어, 웨이퍼(W) 상에 잔류하는 혼합액이 린스액에 의해 치환된다.After the processing of the wafer W using the mixed liquid (chemical liquid) is finished, the rinse processing using water, particularly pure water, as the rinse liquid is then performed on the wafer W (step S3). Specifically, the rinse liquid is supplied into the processing unit 50 through the rinse liquid supply pipe 31 and the on / off valve 28 for the rinse liquid. In each processing unit 50, the rinse liquid is discharged toward the wafer W in which the mixed liquid remains, and the mixed liquid remaining on the wafer W is replaced by the rinse liquid.

린스 처리가 종료되면, 유지 기구(52)에 의해 웨이퍼(W)를 고속 회전시킴으로써, 웨이퍼(W)의 건조 처리가 실시된다(공정 S4). 이상과 같이 하여, 하나의 처리 유닛(50) 내에서의 웨이퍼(W)의 세정 처리가 종료되고, 처리가 종료된 웨이퍼(W)가 처리 유닛(50)으로부터 반출된다(공정 S5).When the rinse processing is completed, the wafer W is dried at a high speed by the holding mechanism 52 to perform the drying process of the wafer W (step S4). As described above, the cleaning processing of the wafer W in one processing unit 50 is completed, and the wafer W after the processing is finished is carried out from the processing unit 50 (step S5).

다음으로, 약액 처리를 행하는 것과 관련된 액처리 장치(10)의 동작에 관해 설명한다.Next, the operation of the liquid processing apparatus 10 associated with performing the chemical liquid processing will be described.

우선, 혼합액(약액)을 이용하여 웨이퍼(W)를 처리하는 약액 처리 공정 S2에 앞서, 혼합액이 주배관(20)에 충전된다. 주배관(20)에 대한 혼합액의 충전은, 전술한 웨이퍼(W)를 각 처리 유닛(50) 내에 반입하는 공정 S1전에 시작된다. 또한, 주배관(20)에 대한 혼합액의 충전은, 웨이퍼(W)를 각 처리 유닛(50) 내에 반입하는 공정 S1과 병행하여 실시되도록 해도 좋다.First, the mixed liquid is filled in the main pipe 20 prior to the chemical liquid processing step S2 for treating the wafer W using the mixed liquid (chemical liquid). Filling of the liquid mixture to the main piping 20 starts before the process S1 which carries in the above-mentioned wafer W in each processing unit 50. In addition, the filling of the mixed liquid to the main pipe 20 may be performed in parallel with the step S1 for carrying the wafer W into each processing unit 50.

구체적으로는, 제1 액원(41a)으로부터 물이 혼합기(43)에 공급되고, 제2 액원(42a)으로부터 고농도 약액이 혼합기(43)에 공급된다. 이에 따라, 주배관(20) 상에 설치된 혼합기(43)에서, 물과 고농도 약액의 혼합액으로서의 약액이 조합되고, 이 약액이 주배관(20)에 일측으로부터 공급되게 된다. 이 때, 주개폐 밸브(22)에 의해 주배관(20)은 타측에서 폐쇄되고, 이에 따라, 주배관(20)이 혼합액으로 채워지게 된다. 주배관(20)에 혼합액을 충전하고 있는 기간 동안, 분기관용 개폐 밸브(27)는 개방되어 있어도 좋고 폐쇄되어 있어도 좋다.Specifically, water is supplied to the mixer 43 from the first liquid source 41a, and a high concentration chemical liquid is supplied to the mixer 43 from the second liquid source 42a. As a result, in the mixer 43 provided on the main pipe 20, a chemical liquid as a mixed liquid of water and a high concentration chemical liquid is combined, and the chemical liquid is supplied to the main pipe 20 from one side. At this time, the main pipe 20 is closed on the other side by the main opening and closing valve 22, whereby the main pipe 20 is filled with the mixed liquid. During the period in which the main liquid 20 is filled with the mixed liquid, the branch open / close valve 27 may be open or closed.

그런데, 액공급 기구(40)로부터 혼합액을 주배관(20)에 공급하기 시작할 때, 주개폐 밸브(22)를 개방해 두어도 좋다. 주배관(20)에 대한 혼합액의 공급 시작후의 짧은 기간 동안, 주개폐 밸브(22)를 개방해 둠으로써, 배압(背壓)에 의해 혼합액이 주배관(20) 내에 유입되기 어려워지는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 주배관(20) 내에 혼합액을 신속하고 안정적으로 퍼지게 할 수 있다.By the way, when starting to supply the mixed liquid to the main piping 20 from the liquid supply mechanism 40, the main opening / closing valve 22 may be opened. By opening the main opening / closing valve 22 for a short period after the start of the supply of the mixed liquid to the main pipe 20, it is possible to prevent the mixed liquid from flowing into the main pipe 20 by back pressure. . For this reason, the mixed liquid can be spread quickly and stably in the main pipe 20.

다음으로, 주배관(20) 내에 공급된 혼합액을 분기관(25)에 유입시켜, 분기관(25)에도 농도 조절된 혼합액을 충전한다. 구체적으로는, 분기관용 개폐 밸브(27)를 개방함으로써, 주배관(20)으로부터 분기관(25)에 혼합액이 유입되게 된다. 또한, 각 처리 유닛(50)의 지지 부재(54)를 요동시켜, 분기관(25)의 토출 개구(26a)를 대기 위치에 배치해 둔다. 이에 따라, 주배관(20)으로부터 분기관(25)에 유입된 혼합액은, 대기 위치에 배치된 토출 개구(26a)로부터 토출되게 된다.Next, the mixed liquid supplied into the main pipe 20 is introduced into the branch pipe 25, and the mixed liquid whose concentration is adjusted is also filled in the branch pipe 25. Specifically, the mixed liquid flows into the branch pipe 25 from the main pipe 20 by opening the branch valve open / close valve 27. Moreover, the support member 54 of each processing unit 50 is rocked, and the discharge opening 26a of the branch pipe 25 is arrange | positioned at a standby position. Thereby, the mixed liquid which flowed in from the main pipe 20 into the branch pipe 25 is discharged from the discharge opening 26a arrange | positioned at a standby position.

이 상태에서, 분기관용 개폐 밸브(27) 및 주개폐 밸브(22)가 폐쇄되면, 주배관(20)은 밀폐된 상태가 되어, 제1 액의 공급 공정이 종료된다. 즉, 준비 공정으로서의, 주배관(20)에 혼합액을 충전하는 공정 및 분기관(25)에 혼합액을 충전하는 공정이 종료된다.In this state, when the open / close valve 27 for branch pipe and the main open / close valve 22 are closed, the main pipe 20 will be in a sealed state, and the supply process of a 1st liquid will be complete | finished. That is, the process of filling the mixed liquid in the main pipe 20 and the process of filling the mixed liquid in the branch pipe 25 as a preparation process are complete | finished.

여기서 설명한 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내에 혼합액을 충전하는 방법의 구체예는 예시에 지나지 않고, 여러가지 변경이 가능하다. 예컨대, 주개폐 밸브(22) 및 분기관용 개폐 밸브(27)를 개방 내지 폐쇄하는 타이밍은, 전술한 예에 한정되지 않는다. 예컨대, 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내에 혼합액을 병행하여 충전하도록 해도 좋다.Specific examples of the method for filling the mixed liquid in the main pipe 20 and the branch pipe 25 described here are merely examples, and various modifications are possible. For example, the timing of opening or closing the main opening / closing valve 22 and the branch opening / closing valve 27 is not limited to the above-mentioned example. For example, the mixed liquid may be filled in the main pipe 20 and the branch pipe 25 in parallel.

이상과 같이 하여 혼합액이 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내에 충전되고, 또한, 전술한 바와 같이 처리 유닛(50) 내에 웨이퍼(W)가 반입되면, 상기 처리 유닛(50) 내에서 웨이퍼(W)가 순서대로 처리되어 간다(전술한 공정 S2).As described above, when the mixed liquid is filled in the main pipe 20 and the branch pipe 25, and the wafer W is loaded into the processing unit 50 as described above, the wafer in the processing unit 50. (W) is processed in order (step S2 mentioned above).

이 공정 S2 중, 처리 유닛(50) 내에 반입된 웨이퍼(W)는, 유지 기구(52)에 의해 유지되고, 유지 기구(52)에 의해 회전된다. 또한, 지지 부재(54)는, 토출 개구(26a)가 웨이퍼(W)에 상측으로부터 대면하는 처리 위치에 위치하도록 배치된다. 이 상태에서, 분기관용 개폐 밸브(27)가 개방되어, 충분한 압력으로 유지된 주배관(20)으로부터 분기관(25)에 혼합액이 유입된다. 그리고, 혼합액이, 분기관(25)의 토출 개구(26a)를 통해 웨이퍼(W)의 상면(표측면의)에 토출된다. 혼합액은 회전중인 웨이퍼(W)의 표면상에 퍼져, 웨이퍼(W)의 표면이 혼합액에 의해 처리된다.In this step S2, the wafer W carried in the processing unit 50 is held by the holding mechanism 52 and rotated by the holding mechanism 52. In addition, the support member 54 is arrange | positioned so that the discharge opening 26a may be located in the processing position which faces the wafer W from the upper side. In this state, the branch opening / closing valve 27 is opened, and the mixed liquid flows into the branch pipe 25 from the main pipe 20 held at a sufficient pressure. Then, the mixed liquid is discharged to the upper surface (of the front surface) of the wafer W through the discharge opening 26a of the branch pipe 25. The mixed liquid spreads on the surface of the rotating wafer W, and the surface of the wafer W is processed by the mixed liquid.

웨이퍼(W)를 처리 유닛(50)에 반입할 때(공정 S1), 웨이퍼(W)는, 통상 복수의 처리 유닛(50) 각각에 순서대로 반송되어 간다. 따라서, 각 처리 유닛(50)에 웨이퍼(W)가 반입되는 타이밍은 서로 다르고, 이 때문에, 처리 유닛(50) 내에서의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리는, 통상 액처리 장치(10)에 포함되는 복수의 처리 유닛(50) 사이에서 일제히 시작되는 것이 아니다. 웨이퍼(W)를 처리할 준비가 된 처리 유닛(50)에 대응하는 분기관용 개폐 밸브(27)로부터 순서대로 개방해 나가, 대응하는 각 처리 유닛(50)에서의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리가 순서대로 시작되어 간다.When carrying in the wafer W into the processing unit 50 (step S1), the wafer W is normally conveyed to each of the plurality of processing units 50 in order. Therefore, the timing at which the wafers W are loaded into each processing unit 50 is different from each other. Therefore, the processing of the wafers W using the mixed liquid in the processing unit 50 is usually performed in the liquid processing apparatus 10. It does not start simultaneously between the plurality of processing units 50 included in. The wafer W is opened in order from the on / off valve 27 for branch pipes corresponding to the processing unit 50 ready for processing, and the wafer W is used with the mixed liquid in each processing unit 50. Processing begins in order.

그런데, 혼합액이 주배관(20)으로부터 분기관(25)을 통해 각 처리 유닛(50)에 공급되면, 주배관(20) 내의 압력이 저하될 우려가 있다. 그러나, 주배관(20)으로부터 공급되는 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛(50) 내에서 처리가 행해지고 있는 동안, 전술한 바와 같이, 액공급 기구(40)는, 복수의 처리 유닛(50)의 전부에 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 농도 조절된 혼합액을 주배관(20) 내에 보내주고 있다. 즉, 주배관(20)에 충전되어 있던 혼합액이 처리 유닛(50)에서의 처리에 사용되면, 액공급 기구(40)가 농도 조절된 혼합액을 주배관(20)에 새롭게 계속 보내준다. 그 결과, 주배관(20) 내에서의 혼합액의 액압은, 일정한 압력으로 유지된다. 이에 따라, 단일한 액공급 기구(40)를 이용하여, 다수의 처리 유닛(50)에 대하여, 웨이퍼(W)의 처리에 이용되는 혼합액을 안정된 유량으로 공급할 수 있다.By the way, when the mixed liquid is supplied to each processing unit 50 from the main pipe 20 through the branch pipe 25, there exists a possibility that the pressure in the main pipe 20 may fall. However, while the treatment is performed in each processing unit 50 using the mixed liquid supplied from the main pipe 20, as described above, the liquid supply mechanism 40 is applied to all of the plurality of processing units 50. At the same time as the pressure that can be supplied, the concentration of the mixed liquid is sent into the main pipe (20). That is, when the mixed liquid filled in the main pipe 20 is used for the processing in the processing unit 50, the liquid supply mechanism 40 continues to send the mixed liquid whose concentration is adjusted to the main pipe 20 newly. As a result, the liquid pressure of the mixed liquid in the main piping 20 is maintained at a constant pressure. Thereby, using the single liquid supply mechanism 40, the mixed liquid used for the processing of the wafer W can be supplied to the plurality of processing units 50 at a stable flow rate.

이상과 같이 하여 처리 유닛(50) 내에서 웨이퍼(W)에 대하여 적당량의 혼합액이 공급되면, 상기 처리 유닛(50)에 대응하는 분기관(25)이, 분기관용 개폐 밸브(27)에 의해 폐쇄된다. 이와 같이 하여, 각 처리 유닛(50)에서의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리(약액 처리)가 순서대로 종료되어 간다.When the appropriate amount of the mixed liquid is supplied to the wafer W in the processing unit 50 as described above, the branch pipe 25 corresponding to the processing unit 50 is closed by the branch pipe open / close valve 27. do. In this way, the processing (chemical liquid processing) of the wafer W using the mixed liquid in each processing unit 50 ends in order.

웨이퍼(W)에 대한 약액 처리(공정 S2)가 종료되면, 전술한 바와 같이 상기 웨이퍼(W)에 대하여 린스 처리(공정 S3)가 실시된다. 이 린스 처리에서, 웨이퍼(W)에 공급되는 린스액은, 린스액용 개폐 밸브(28)을 통해 분기관(25)에 유입되고, 분기관(25)의 토출 개구(26a)로부터 토출된다. 이 때문에, 린스 처리 시작시에는, 분기관(25)의 하류측의 부분 내에 잔류한 혼합액이 물에 의해 압출되게 된다. 이러한 방법에 의하면, 웨이퍼(W)에 대하여 연속적으로 액체를 공급함으로써, 웨이퍼(W)의 표면을 건조시키지 않고서, 약액 처리(공정 S2)에서 린스 처리(공정 S3)로, 상기 웨이퍼(W)에 대한 처리 내용을 변경할 수 있다. 이에 따라, 워터마크의 발생 등의 문제점을 회피할 수 있다.When the chemical liquid processing (step S2) on the wafer W is completed, the rinse processing (step S3) is performed on the wafer W as described above. In this rinse process, the rinse liquid supplied to the wafer W flows into the branch pipe 25 through the rinse liquid open / close valve 28 and is discharged from the discharge opening 26a of the branch pipe 25. Therefore, at the start of the rinse treatment, the mixed liquid remaining in the downstream portion of the branch pipe 25 is extruded by water. According to this method, by continuously supplying liquid to the wafer W, the chemical liquid treatment (step S2) to the rinse treatment (step S3) to the wafer W without drying the surface of the wafer W. You can change the processing for this. As a result, problems such as generation of a watermark can be avoided.

이와 같이 하여 린스 처리 공정이 종료된 시점에서는, 분기관(25)의 린스액용 개폐 밸브(28)[분기관용 개폐 밸브(27)]보다 하류측의 부분 내에 린스액이 잔류하게 된다. 그리고, 다음 웨이퍼(W)에 대한 처리를 시작할 때에는, 다음 웨이퍼(W)의 반입 공정에 앞서 또는 다음 웨이퍼(W)의 반입 공정에 병행하여, 폐액용 개폐 밸브(29) 및 폐액관(32)을 통해, 분기관(25) 내에 잔류하는 린스액을 분기관(25)으로부터 폐액해 두는 것이 바람직하다. 이러한 처치를 행하여 둠으로써, 다음 웨이퍼(W)에 대한 약액 처리 공정 S2 중, 웨이퍼(W)에 대하여 일정한 혼합비의 혼합액을 공급할 수 있다.In this way, when the rinse processing step is completed, the rinse liquid remains in a portion downstream of the rinse liquid on / off valve 28 (branch on / off valve 27) of the branch pipe 25. And when starting the process with respect to the next wafer W, the waste liquid opening-closing valve 29 and the waste liquid pipe 32 before the carrying-in process of the next wafer W or in parallel with the carrying-in process of the next wafer W are carried out. Through this, it is preferable that the rinse liquid remaining in the branch pipe 25 is removed from the branch pipe 25. By carrying out such treatment, the mixed liquid having a constant mixing ratio can be supplied to the wafer W in the chemical liquid processing step S2 for the next wafer W. FIG.

처리가 끝난 웨이퍼(W)가 각 처리 유닛(50)으로부터 반출되면, 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)가 각 처리 유닛(50)에 반입된다. 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)에 대하여, 동일한 처리 유닛(50) 내에서 직전에 처리된 웨이퍼(W)에 대한 처리와 동일한 처리가 실시되는 경우에는, 즉 액공급 기구(40)로부터 공급되는 혼합액의 혼합비(농도)를 변화시킬 필요가 없는 경우에는, 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내의 혼합액을 그대로 잔류시켜 두면 된다.When the processed wafer W is carried out from each processing unit 50, the wafer W to be processed next is loaded into each processing unit 50. When the same processing as that for the wafer W processed immediately before is performed in the same processing unit 50 with respect to the wafer W to be processed next, that is, supplied from the liquid supply mechanism 40 When it is not necessary to change the mixing ratio (concentration) of the mixed liquid, the mixed liquid in the main pipe 20 and the branch pipe 25 may be left as it is.

한편, 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)와, 동일한 처리 유닛(50) 내에서 직전에 처리된 웨이퍼(W)의 사이에서 처리 내용이 상이하여, 웨이퍼(W)의 처리에 이용되는 혼합액의 농도를 변경해야 하는 경우에는, 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)의 약액 처리가 시작되기 전에, 다음에 이용되는 혼합액을 주배관(20) 내에 충전한다. 이 경우, 우선, 제1 액원(41a)으로부터의 물(특히, 순수)만을 액공급 기구(40)로부터 주배관(20) 내에 공급하여, 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내에 잔류하는 약액을 물에 의해 치환한다. 구체예로서, 우선, 주개폐 밸브(22)를 개방하여 주배관(20) 내를 물로 치환한다. 다음으로, 주개폐 밸브(22)를 폐쇄하고 분기관용 개폐 밸브(27)를 개방하여, 분기관(25) 내를 물로 치환한다. 이 때, 대기 위치에 위치하는 분기관(25)의 토출 개구(26a)로부터 물을 토출하여, 분기관(25)을 전체 길이에 걸쳐 물로 씻어낸다. 이와 같이 하여, 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내를 물로 씻어낸 후, 전술한 방법과 동일하게 하여, 원하는 농도로 조절된 혼합액을 액공급 기구(40)로부터 주배관(20)에 충전하고, 원하는 농도로 조절된 혼합액을 분기관(25)에 충전한다. 이상과 같은 준비 공정이 종료된 후, 상이한 농도의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리가 실시된다.On the other hand, the content of the treatment is different between the wafer W to be processed next and the wafer W processed immediately before in the same processing unit 50, so that the concentration of the mixed liquid used for the processing of the wafer W is different. When is required to change, before the chemical liquid processing of the wafer W to be processed next starts, the mixed liquid to be used next is filled into the main pipe 20. In this case, first, only the water (especially pure water) from the first liquid source 41a is supplied from the liquid supply mechanism 40 into the main pipe 20, and the chemical liquid remaining in the main pipe 20 and the branch pipe 25 is maintained. Is replaced by water. As a specific example, first, the main opening / closing valve 22 is opened to replace the inside of the main pipe 20 with water. Next, the main opening / closing valve 22 is closed and the branch pipe open / close valve 27 is opened to replace the inside of the branch pipe 25 with water. At this time, water is discharged from the discharge opening 26a of the branch pipe 25 located at the standby position, and the branch pipe 25 is washed with water over the entire length. In this way, after washing the inside of the main pipe 20 and the branch pipe 25 with water, and in the same manner as described above, the mixed liquid adjusted to the desired concentration is filled from the liquid supply mechanism 40 to the main pipe 20 Then, the mixed liquid adjusted to the desired concentration is filled into the branch pipe 25. After the above preparatory process is completed, the wafer W is processed using the mixed liquid of different concentration.

여기서 설명한 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내를 상이한 혼합액으로 치환하는 방법의 구체예는 예시에 지나지 않고, 여러가지 변경이 가능하다. 예컨대, 주개폐 밸브(22) 및 분기관용 개폐 밸브(27)를 개방 및 폐쇄하는 타이밍은, 전술한 예에 한정되지 않는다. 따라서, 주배관(20) 내에 잔류하는 혼합액과, 분기관(25) 내에 잔류하는 혼합액을 병행하여 물로 치환하도록 해도 좋다. 또한, 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내에 잔류하는 혼합액을 우선 물로 치환하고, 그 후, 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내에 다음에 이용되어야 할 혼합액을 충전함으로써, 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내를 상이한 혼합액으로 치환하도록 한 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 주배관(20) 내 및 분기관(25) 내에 잔류하는 혼합액을, 다음에 이용되어야 할 혼합액으로 직접 치환하도록 해도 좋다.Specific examples of the method of replacing the inside of the main pipe 20 and the inside of the branch pipe 25 with different mixed liquids described above are merely examples, and various modifications are possible. For example, the timing of opening and closing the main opening / closing valve 22 and the branch opening / closing valve 27 is not limited to the above-mentioned example. Therefore, the mixed liquid remaining in the main pipe 20 and the mixed liquid remaining in the branch pipe 25 may be replaced with water in parallel. In addition, the mixed liquid remaining in the main pipe 20 and the branch pipe 25 is first replaced with water, and then the mixed liquid to be used next is filled in the main pipe 20 and the branch pipe 25, whereby the main pipe ( 20) Although the example which replaced the inside and the inside of the branch pipe 25 with the different liquid mixture was shown, it is not limited to this. The mixed liquid remaining in the main pipe 20 and the branch pipe 25 may be directly replaced with the mixed liquid to be used next.

이상과 같은 본 실시형태에 의하면, 액공급 기구(40)는, 조절된 혼합비로 제1 액과 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 다수의 처리 유닛(50)에 대하여 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 주개폐 밸브(22)에 의해 타측에서 폐쇄된 주배관(20) 내에 일측으로부터 보내주도록 되어 있다. 따라서, 다수의 처리 유닛(50)에 대하여, 단일의 액공급 기구(40)를 이용하여, 혼합액을 안정적으로 공급할 수 있다. 또한, 처리 유닛(50) 내에서 웨이퍼(W)를 처리하고 있는 동안, 각 처리 유닛(50)의 가동 상황에 따라서 요구되는 양의 혼합액만이, 액공급 기구(40)로부터 주배관(20)에 공급되게 된다. 따라서, 혼합액을 대량으로 허비하지 않고 혼합액을 절약할 수 있고, 이에 따라, 피처리체(웨이퍼(W))의 처리 비용을 저감할 수 있다. 또한, 액공급 기구(40)로부터 공급되는 혼합액이 약액인 경우에는, 약액 처리시의 약액의 폐기량을 저감시킬 수 있기 때문에, 환경상의 관점에서도 바람직하다. 또한, 동시에 처리가 행해지고 있는 상이한 처리 유닛(50)에서, 주배관(20)으로부터 공급되는 동일한(예컨대 동일한 농도의) 혼합액을 이용하여 상이한 웨이퍼(W)를 처리할 수 있다. 이에 따라, 웨이퍼(W) 간의 처리의 정도를 균일화시킬 수 있다.According to this embodiment as described above, the liquid supply mechanism 40 is a pressure which can supply the mixed liquid formed by mixing a 1st liquid and a 2nd liquid at the controlled mixing ratio to many processing units 50 simultaneously. The main opening / closing valve 22 is configured to feed from one side into the main pipe 20 closed at the other side. Therefore, the mixed liquid can be stably supplied to the plurality of processing units 50 using the single liquid supply mechanism 40. In addition, while the wafer W is being processed in the processing unit 50, only the amount of the mixed liquid required in accordance with the operating conditions of each processing unit 50 is transferred from the liquid supply mechanism 40 to the main pipe 20. Will be supplied. Therefore, the mixed liquid can be saved without wasting a large amount of the mixed liquid, whereby the processing cost of the target object (wafer W) can be reduced. Moreover, when the mixed liquid supplied from the liquid supply mechanism 40 is a chemical liquid, since the waste amount of the chemical liquid at the time of chemical liquid processing can be reduced, it is preferable also from an environmental viewpoint. In addition, in different processing units 50 which are simultaneously processed, different wafers W can be processed using the same (eg, the same concentration) mixed liquid supplied from the main pipe 20. As a result, the degree of processing between the wafers W can be made uniform.

또한, 본 실시형태에 의하면, 유량 조정 밸브(42d)에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구(42e)가 설치되고, 유량 조정 밸브(42d)와 연동하여 보조 유량 조정 기구(42e)가 제어됨으로써, 보다 광범위한 혼합비를 실현하는 것이 가능하다. 더 구체적으로는, 본 실시형태에 의하면, 보조 유량 조정 기구(42e)로서, 개폐 밸브(42g)만을 갖는 배관 경로와 개폐 밸브(42h) 및 오리피스(42i)를 포함하는 배관 경로가, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h)의 제어에 의해 전환 가능하게 구성되어 있다. 그리고, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h) 각각의 개폐 제어에 의해, 오리피스(42i)의 통과 유무를 전환할 수 있고, 그 결과 2 레인지의 혼합비를 실현할 수 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d)에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 종래 기술과 비교하여, 매우 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.In addition, according to the present embodiment, the auxiliary flow rate adjustment mechanism 42e is provided in series with the flow rate adjustment valve 42d, and the auxiliary flow rate adjustment mechanism 42e is controlled in cooperation with the flow rate adjustment valve 42d. It is possible to realize a wider mixing ratio. More specifically, according to the present embodiment, as the auxiliary flow rate adjusting mechanism 42e, the piping path including only the opening / closing valve 42g and the piping path including the opening / closing valve 42h and the orifice 42i include the opening / closing valve ( It is comprised so that switching is possible by control of 42g) and the switching valve 42h. By the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g and the opening / closing valve 42h, it is possible to switch the presence / absence of the orifice 42i, and as a result, a mixing ratio of two ranges can be realized (flow rate regulating valve for each range). Mixing ratio adjustment by 42d may be used]. As a result, a very wide mixing ratio can be realized as compared with the prior art.

또한, 오리피스(42i)는 저렴한 구성 요소 부재이므로, 광범위한 혼합비를 매우 저비용으로 실현할 수 있다. 구체적으로는, 오리피스(42i)는, 1/10의 소정비로 통과 액체의 유량을 조절할 수 있다. 이 소정비의 역수에 따른 배수만큼, 실현 가능한 혼합비가 광범위해진다(예컨대 1∼10 cc/min이라는 혼합비를 얻을 수 있다). 다만, 오리피스(42i)가 통과 액체의 유량을 조절하는 비율은, 1/2∼1/20 정도의 범위 내에서 적절하게 선택 가능하다.In addition, since the orifice 42i is an inexpensive component member, a wide range of mixing ratios can be realized at a very low cost. Specifically, the orifice 42i can adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio of 1/10. By the multiple of the reciprocal of the predetermined ratio, the mixing ratio that can be realized becomes wide (for example, a mixing ratio of 1 to 10 cc / min can be obtained). However, the ratio at which the orifice 42i adjusts the flow rate of the passage liquid can be appropriately selected within the range of about 1/2 to 1/220.

여기서, 유량 조정 밸브(42d)와 보조 유량 조정 기구(42e)의 연동 제어에 관해 더 설명한다. 구체적으로는, 설정된 농도, 유량, 처리 시간과 같은 정보에 기초하여, 처리 유닛(50)의 가동 상황에 따라서, 제어 장치(제어부)(12)가 유량 조정 밸브(42d)와 보조 유량 조정 기구(42e)를 연동하도록 제어하는데, 이하에 수치예에 관해 설명한다.Here, the interlocking control of the flow regulating valve 42d and the auxiliary flow regulating mechanism 42e will be further described. Specifically, based on the information such as the set concentration, flow rate, and processing time, the control device (control unit) 12 controls the flow rate adjusting valve 42d and the auxiliary flow rate adjusting mechanism according to the operating conditions of the processing unit 50. 42e), the numerical example is explained below.

우선, 처리 유닛(50)의 총수가 20개인 기판 처리 장치에서, 약액과 순수의 혼합비를 1:200(약액:순수)으로 하고, 순수의 공급량을 1 L/min으로 한다.First, in the substrate processing apparatus with a total number of the processing units 50, the mixing ratio of the chemical liquid and the pure water is 1: 200 (chemical liquid: pure water), and the supply amount of the pure water is 1 L / min.

처리가 중복되는(동시에 처리를 행하는) 처리 유닛의 수가 1개인 경우, 약액(제2 액)의 유량은 5 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개인 경우, 약액의 유량은 10 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 20개인 경우, 약액의 유량은 100 cc/min로 제어되어야 한다. 즉, 요구되는 유량 제어의 범위는 5∼100 cc/min이다.When the number of processing units in which the processing is duplicated (simultaneous processing) is one, the flow rate of the chemical liquid (second liquid) should be controlled at 5 cc / min. In the case of two treatment units having overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled to 10 cc / min. In the case of 20 treatment units with overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled to 100 cc / min. That is, the range of the required flow rate control is 5 to 100 cc / min.

보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 얻어지는 혼합비가 1∼10 cc/min인 경우, 5∼10 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 상기 보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 제어된다. 그리고, 나머지 10∼100 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 유량 조정 밸브(42d)에 의해 제어된다. 즉, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개 이하인가 또는 3개 이상인가에 따라, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h) 각각의 개폐 제어가 전환된다.When the mixing ratio obtained by the auxiliary flow rate adjustment mechanism 42e (orifice 42i) is 1 to 10 cc / min, the flow rate control range of 5 to 10 cc / min is described above. Orifice 42i]. The flow rate control range of the remaining 10 to 100 cc / min is controlled by the flow rate adjustment valve 42d. That is, the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g and the opening / closing valve 42h is switched depending on whether the number of processing units in which the processing overlaps is two or less or three or more.

여기서 또한, 기판의 막종류에 따라서, Lot마다 약액과 순수의 혼합비가 변경되는 경우가 있을 수 있다. 예컨대, 약액과 순수의 혼합비가 1:400(약액:순수)으로 변경되는 경우에 관해 설명한다.Here, the mixing ratio of the chemical liquid and the pure water may be changed for each lot depending on the film type of the substrate. For example, the case where the mixing ratio of the chemical liquid and the pure water is changed to 1: 400 (chemical liquid: pure water) will be described.

이 경우, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 1개인 경우, 약액의 유량은 2.5 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개인 경우, 약액의 유량은 5 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 20개인 경우, 약액의 유량은 50 cc/min로 제어되어야 한다. 즉, 요구되는 유량 제어의 범위는 2.5∼50 cc/min이다.In this case, when the number of processing units in which the processing is overlapped is one, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at 2.5 cc / min. In the case of two treatment units with overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at 5 cc / min. If the number of treatment units has 20 overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at 50 cc / min. That is, the range of the required flow rate control is 2.5 to 50 cc / min.

보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 얻어지는 혼합비는 1∼10 cc/min이기 때문에, 2.5∼10 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 상기 보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 제어된다. 그리고, 나머지 10∼50 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 유량 조정 밸브(42d)에 의해 제어된다. 즉, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 4개 이하인가 또는 5개 이상인가에 따라, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h) 각각의 개폐 제어가 전환된다.Since the mixing ratio obtained by the auxiliary flow adjustment mechanism 42e (orifice 42i) is 1-10 cc / min, regarding the flow rate control range of 2.5-10 cc / min, the said auxiliary flow adjustment mechanism 42e [ Orifice 42i]. And about the remaining 10-50 cc / min flow control range, it is controlled by the flow regulating valve 42d. That is, the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g and the opening / closing valve 42h is switched depending on whether the number of processing units in which the processing is overlapped is four or less or five or more.

또는, 기판의 막종류에 따라서, Lot마다 순수의 공급량이 변경되는 경우가 있을 수 있다. 예컨대, 순수의 공급량이 0.5 L/min로 변경되는 경우에 관해 설명한다.Alternatively, the supply amount of pure water may change for each lot depending on the film type of the substrate. For example, the case where the supply amount of pure water is changed to 0.5 L / min is demonstrated.

이 경우도, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 1개인 경우, 약액의 유량은 2.5 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개인 경우, 약액의 유량은 5 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 20개인 경우, 약액의 유량은 50 cc/min로 제어되어야 한다. 즉, 요구되는 유량 제어의 범위는 2.5∼50 cc/min이다.Also in this case, when the number of processing units in which the processing overlaps is one, the flow rate of the chemical liquid must be controlled at 2.5 cc / min. In the case of two treatment units with overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at 5 cc / min. If the number of treatment units has 20 overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at 50 cc / min. That is, the range of the required flow rate control is 2.5 to 50 cc / min.

보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 얻어지는 혼합비는 1∼10 cc/min이기 때문에, 2.5∼10 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 상기 보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 제어된다. 그리고, 나머지 10∼50 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 유량 조정 밸브(42d)에 의해 제어된다. 즉, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 4개 이하인가 또는 5개 이상인가에 따라, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h) 각각의 개폐 제어가 전환된다.Since the mixing ratio obtained by the auxiliary flow adjustment mechanism 42e (orifice 42i) is 1-10 cc / min, regarding the flow rate control range of 2.5-10 cc / min, the said auxiliary flow adjustment mechanism 42e [ Orifice 42i]. And about the remaining 10-50 cc / min flow control range, it is controlled by the flow regulating valve 42d. That is, the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g and the opening / closing valve 42h is switched depending on whether the number of processing units in which the processing is overlapped is four or less or five or more.

또는, 기판의 막종류에 따라서, Lot마다 처리 시간이 변경되는 경우가 있을 수 있다. 예컨대, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 최대 10개로 억제되는 경우에 관해 설명한다. 이 경우, 요구되는 유량 제어의 범위는 5∼50 cc/min이 된다.Alternatively, the processing time may be changed for each lot depending on the film type of the substrate. For example, the case where the number of processing units in which the processing is duplicated is suppressed to a maximum of 10 will be described. In this case, the range of the required flow rate control is 5 to 50 cc / min.

보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 얻어지는 혼합비는 1∼10 cc/min이기 때문에, 5∼10 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 상기 보조 유량 조정 기구(42e)[오리피스(42i)]에 의해 제어된다. 그리고, 나머지 10∼50 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 유량 조정 밸브(42d)에 의해 제어된다. 즉, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개 이하인가 또는 3개 이상인가에 따라, 개폐 밸브(42g) 및 개폐 밸브(42h) 각각의 개폐 제어가 전환된다.Since the mixing ratio obtained by the auxiliary flow adjustment mechanism 42e (orifice 42i) is 1-10 cc / min, regarding the flow control range of 5-10 cc / min, the auxiliary flow adjustment mechanism 42e [ Orifice 42i]. And about the remaining 10-50 cc / min flow control range, it is controlled by the flow regulating valve 42d. That is, the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g and the opening / closing valve 42h is switched depending on whether the number of processing units in which the processing overlaps is two or less or three or more.

이상에서는, 혼합비(농도), 순수의 공급 유량, 처리 시간이 각각 단독으로 변경되는 경우에 관해 설명했지만, 이들이 2개 이상 조합되어 변경되었다 하더라도, 바람직한 유량 조정 밸브(42d)와 보조 유량 조정 기구(42e)의 연동 제어를 실현할 수 있다.In the above, the case where the mixing ratio (concentration), the supply flow rate of pure water, and the processing time are respectively changed was explained. However, even if these are changed in combination of two or more, the preferred flow adjustment valve 42d and the auxiliary flow adjustment mechanism ( The interlocking control of 42e) can be realized.

전술한 실시형태에서, 액공급 기구(40)의 구성의 구체예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 전술한 구성과는 상이한 구성에 의해, 액공급 기구(40)가, 제1 액과 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 복수의 처리 유닛(50)의 전부에 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 주개폐 밸브(22)에 의해 폐쇄된 주배관(20)에 공급하도록 구성되어도 좋다.Although the specific example of the structure of the liquid supply mechanism 40 was shown in embodiment mentioned above, it is not limited to this. By the structure different from the above-mentioned structure, the liquid supply mechanism 40 is the pressure which can supply the mixed liquid formed by mixing the 1st liquid and the 2nd liquid to all of the some processing unit 50 simultaneously, It may be comprised so that it may supply to the main piping 20 closed by the on-off valve 22. FIG.

예컨대, 보조 유량 조정 기구(42e)의 전환시에, 혼합기(43)에 보내주는 제2 액의 압력 변동이 생겨, 제2 액의 유량이 변동하여 제1 액과의 혼합비가 변동할 가능성이 있기 때문에, 도 3에 나타낸 바와 같이, 혼합액의 농도 정밀도가 떨어지지 않도록, 혼합기(43)에 보내주는 제2 액의 유량 변동을 억제하기 위해 압력 센서(42u) 및 레귤레이터(42t)를 설치하고, 압력 센서(42u)의 검출 압력을 이용하여 레귤레이터(42t)를 제어하도록 해도 좋다.For example, when the auxiliary flow rate adjusting mechanism 42e is switched, a pressure fluctuation of the second liquid to be sent to the mixer 43 occurs, and the flow rate of the second liquid may fluctuate and the mixing ratio with the first liquid may fluctuate. Therefore, as shown in FIG. 3, in order to suppress the fluctuation | variation of the flow volume of the 2nd liquid sent to the mixer 43 so that the density | concentration precision of a mixed liquid may not fall, the pressure sensor 42u and the regulator 42t are provided, and the pressure sensor The regulator 42t may be controlled using the detection pressure of 42u.

또는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 오리피스(42i)는, 니들 밸브(42p)에 의해 치환될 수 있다. 이 경우, 니들 밸브(42p)는, 1/2∼1/20의 범위 내의 설정 변경 가능한 소정비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다. 이 경우, 니들 밸브(42p)의 개방도(통과 유량)도 제어 장치(12)에 의한 연동 제어의 대상으로 함으로써, 더욱 원활하게 원하는 혼합비를 실현할 수 있다. 다만, 니들 밸브(42p)는 오리피스(42i)보다는 고가이므로, 비용면에서는 도 1의 실시형태가 우수하다고도 할 수 있다.Alternatively, as shown in FIG. 4, the orifice 42i may be replaced by the needle valve 42p. In this case, the needle valve 42p is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio that can be set and changed within a range of 1/2 to 1/220. In this case, if the opening degree (pass flow rate) of the needle valve 42p is also subjected to the interlocking control by the control apparatus 12, a desired mixing ratio can be realized more smoothly. However, since the needle valve 42p is more expensive than the orifice 42i, it can be said that the embodiment of FIG. 1 is superior in cost.

또는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 도 1에서의 보조 유량 조정 기구(42e)에, 개폐 밸브(42q) 및 제2 오리피스(42r)를 포함하는 배관 경로가 추가로 도입되어도 좋다. 이 경우, 개폐 밸브(42g), 개폐 밸브(42h) 및 개폐 밸브(42q) 각각의 개폐 제어에 의해, 오리피스(42i) 및 제2 오리피스(42r)의 통과 유무를 전환할 수 있고, 그 결과 3 레인지의 혼합비를 실현할 수 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d)에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.Or as shown in FIG. 5, the piping path | route which includes the on-off valve 42q and the 2nd orifice 42r may further be introduce | transduced into the auxiliary flow volume adjustment mechanism 42e in FIG. In this case, the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g, the opening / closing valve 42h, and the opening / closing valve 42q can switch the presence / absence of the orifice 42i and the second orifice 42r. The mixing ratio of the range can be realized (mixing ratio adjustment by the flow rate adjusting valve 42d can be used for each range). As a result, a wider mixing ratio can be realized.

마찬가지로, 도 6에 나타낸 바와 같이, 도 4에서의 보조 유량 조정 기구(42e)에, 개폐 밸브(42q) 및 제2 니들 밸브(42s)를 포함하는 배관 경로가 추가로 도입되어도 좋다. 이 경우, 개폐 밸브(42g), 개폐 밸브(42h) 및 개폐 밸브(42q) 각각의 개폐 제어에 의해, 니들 밸브(42p) 및 제2 니들 밸브(42s)의 통과 유무를 전환할 수 있고, 그 결과 3 레인지의 혼합비를 실현할 수 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d)에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.Similarly, as shown in FIG. 6, the piping path | route which includes the on-off valve 42q and the 2nd needle valve 42s may further be introduce | transduced into the auxiliary flow volume adjustment mechanism 42e in FIG. In this case, the presence / absence of passage of the needle valve 42p and the second needle valve 42s can be switched by opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g, the opening / closing valve 42h and the opening / closing valve 42q. As a result, a mixing ratio of three ranges can be realized (mixing ratio adjustment by the flow regulating valve 42d can be used for each range). As a result, a wider mixing ratio can be realized.

또한, 전술한 실시형태에 대하여 여러가지 변경을 가하는 것이 가능하다. 이하, 변형의 일례에 관해 설명한다.In addition, it is possible to make various changes with respect to embodiment mentioned above. Hereinafter, an example of a deformation | transformation is demonstrated.

예컨대, 전술한 실시형태에서, 주배관(20)이 1개의 선형으로 형성되어 있는 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대 도 7에 나타낸 바와 같이, 주배관(20)이, 액공급 기구(40)로부터 떨어져 있는 타측에서, 복수의 관로(21a, 21b)로 나뉘어져 있어도 좋다. 도 7에 나타내는 예에서, 각 관로(21a, 21b)에, 주배관(20)을 액공급 기구(40)에 대하여 타측에서 폐쇄할 수 있는 주개폐 밸브(22)가 설치되어 있다. 그리고, 액공급 기구(40)와 각 주개폐 밸브(22) 사이의 구간에서, 각 관로(21a, 21b)로부터 복수의 분기관(25)이 연장되어 나온다. 도 7에서는, 도시 및 용이한 이해를 위한 편의상, 전술한 린스액용 개폐 밸브(28), 린스액 공급관(31), 폐액용 개폐 밸브(29) 및 폐액관(32)이 생략되어 있다. 또한, 도 7에 나타내는 변형예에서의 그 밖의 구성은, 전술한 실시형태와 동일하게 구성될 수 있기 때문에, 여기서는 중복되는 설명은 생략한다.For example, in the above-mentioned embodiment, although the example in which the main piping 20 is formed in one linear form was shown, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 7, the main pipe 20 may be divided into a plurality of conduits 21a and 21b on the other side away from the liquid supply mechanism 40. In the example shown in FIG. 7, the main opening / closing valve 22 which can close the main piping 20 with respect to the liquid supply mechanism 40 is provided in each piping 21a, 21b. In the section between the liquid supply mechanism 40 and the main opening / closing valves 22, the plurality of branch pipes 25 extend from the respective conduits 21a and 21b. In FIG. 7, the above-described rinse liquid on / off valve 28, rinse liquid supply pipe 31, waste liquid on / off valve 29, and waste liquid pipe 32 are omitted for convenience of illustration and easy understanding. In addition, since the other structure in the modification shown in FIG. 7 can be comprised similarly to embodiment mentioned above, the overlapping description is abbreviate | omitted here.

또한, 전술한 실시형태에서, 액공급 기구(40)가, 물을 공급하는 제1 액공급관(41b)과, 고농도 약액을 공급하는 제2 액원을 갖는 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 액공급 기구(40)가, 2종류 이상의 약액원을 갖도록 해도 좋다.In addition, in the above-mentioned embodiment, although the liquid supply mechanism 40 has shown the example which has the 1st liquid supply pipe 41b which supplies water, and the 2nd liquid source which supplies a high concentration chemical | medical solution, it is not limited to this. For example, the liquid supply mechanism 40 may have two or more kinds of chemical liquid sources.

이상에서 전술한 실시형태에 대한 몇개의 변형예를 설명했지만, 당연히 복수의 변형예를 적절하게 조합하여 적용하는 것도 가능하다.Although some modifications to the above-described embodiment have been described above, it is naturally possible to apply a combination of a plurality of modifications as appropriate.

제2 실시형태2nd Embodiment

다음으로, 도 8 및 도 14에 의해, 본 발명의 제2 실시형태에 관해 설명한다.Next, with reference to FIG. 8 and FIG. 14, 2nd Embodiment of this invention is described.

도 8에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태에서, 액공급 기구(40')는, 주배관(20')의 일측에 설치된 혼합기(43')(본 예에서는, 혼합 밸브)와, 제1 액을 공급하는 제1 액공급관(41b')과, 제1 액과는 상이한 제2 액을 공급하기 위한 제2 액탱크(42a')를 갖고 있다. 제1 액공급관(41b')은, 혼합기(43')와 제1 액원(41a') 사이에 연장되어 있다. 제2 액탱크(42a')와 혼합기(43') 사이에 제2 액공급관(42b')이 마련되고, 제2 액공급관(42b')을 통해 제2 액탱크(42a')로부터 혼합기(43')에 제2 액이 공급되도록 되어 있다. 혼합기(43')는, 제1 액공급관(41b')과 제2 액공급관(42b')의 합류부를 이루는 부재이다. 제1 액원(41a')으로부터의 제1 액 및 제2 액탱크(42a')로부터의 제2 액은, 혼합기(43')에서 합류하여 서로 혼합되고, 이에 따라, 제1 액과 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을 얻을 수 있게 된다. 혼합기(43')는, 제1 액과 제2 액을 적극적으로 혼합하는 기능을 갖는 부재로 구성될 수 있다. 단, 이것에 한정되지 않고, 혼합기(43')는, 오로지 제1 액 및 제2 액의 합류전의 각 액흐름에 기인하여 제1 액 및 제2 액이 혼합되도록 이루어진 부재(예컨대, T자형의 이음 부재인 티관)로 구성되어도 좋다.As shown in FIG. 8, in this embodiment, the liquid supply mechanism 40 'supplies the mixer 43' (mixing valve in this example) provided with one side of the main piping 20 ', and a 1st liquid. 1st liquid supply pipe 41b 'and the 2nd liquid tank 42a' for supplying the 2nd liquid different from a 1st liquid. The first liquid supply pipe 41b 'extends between the mixer 43' and the first liquid source 41a '. A second liquid supply pipe 42b 'is provided between the second liquid tank 42a' and the mixer 43 ', and the mixer 43 from the second liquid tank 42a' through the second liquid supply pipe 42b '. The second liquid is supplied to '). The mixer 43 'is a member that forms a confluence of the first liquid supply pipe 41b' and the second liquid supply pipe 42b '. The first liquid from the first liquid source 41a 'and the second liquid from the second liquid tank 42a' join in the mixer 43 'and are mixed with each other, whereby the first liquid and the second liquid It is possible to obtain a mixed liquid obtained by mixing the mixture. The mixer 43 'may be composed of a member having a function of actively mixing the first liquid and the second liquid. However, the present invention is not limited to this, and the mixer 43 'is a member (for example, a T-shaped) which is caused to mix the first liquid and the second liquid solely due to the respective liquid flows before the first liquid and the second liquid are joined. Tee tube which is a joint member).

본 실시형태에서는, 물, 특히 순수가, 제1 액원(41a')으로부터 제1 액으로서 공급되고, 고농도 약액이, 제2 액탱크(42a')로부터 제2 액으로서 공급된다. 액공급 기구(40')는, 제1 액공급관(41b')으로부터의 물과 제2 액탱크(42a')로부터의 고농도 약액을 혼합하여, 원하는 농도로 조절한 약액으로서의 혼합액을 주배관(20') 내에 공급할 수 있도록 되어 있다. 제2 액탱크(42a')로부터 공급되는 고농도 약액(제2 액)으로서, 웨이퍼(W)를 세정 처리하는 데 이용될 수 있는 여러가지 약액을 채택할 수 있다. 예컨대, 제2 액탱크(42a')로부터, 희불산, 암모니아과수(SC1) 또는 염산과수(SC2)가 공급되도록 해도 좋다. 또한, 제2 액은, 복수의 약액 원액이 혼합되는 것이어도 좋다. 예컨대, 암모니아과수(SC1)의 경우, NH4OH와 H2O2가 약액 원액으로서 이용될 수 있고, 염산과수(SC2)의 경우, HCl과 H2O2가 약액 원액으로서 이용될 수 있다. 또한, 제1 액원(41a')은, 처리 장치(10')가 설치되는 장소에 설비된 수원, 예컨대 공장의 시설이어도 좋다.In this embodiment, water, especially pure water, is supplied as the first liquid from the first liquid source 41a ', and a high concentration chemical liquid is supplied as the second liquid from the second liquid tank 42a'. The liquid supply mechanism 40 'mixes the high concentration chemical liquid from the first liquid supply pipe 41b' and the high concentration chemical liquid from the second liquid tank 42a ', and adjusts the mixed liquid as the chemical liquid adjusted to a desired concentration in the main pipe 20'. It is possible to supply inside. As the high concentration chemical liquid (second liquid) supplied from the second liquid tank 42a ', various chemical liquids that can be used to clean the wafer W can be adopted. For example, noble hydrofluoric acid, ammonia fruit water SC1 or hydrochloric acid fruit water SC2 may be supplied from the second liquid tank 42a '. The second liquid may be a mixture of a plurality of chemical liquid stock solutions. For example, in the case of ammonia fruit water (SC1), NH 4 OH and H 2 O 2 can be used as a chemical stock solution, and in the case of hydrochloric acid fruit water (SC2), HCl and H 2 O 2 can be used as a chemical stock solution. . In addition, the 1st liquid source 41a 'may be a water source installed in the place where the processing apparatus 10' is installed, for example, a facility of a factory.

그런데, 액공급 기구(40')는, 주배관(20')에 접속된 복수의 처리 유닛(50')의 전부에 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 혼합비가 조절된 혼합액을 주배관(20') 내에 공급하도록 구성되어 있다.By the way, the liquid supply mechanism 40 'is a pressure which can simultaneously supply all of the plurality of processing units 50' connected to the main pipe 20 ', and supplies the mixed liquid whose mixing ratio is adjusted into the main pipe 20'. It is configured to.

도시하는 예에서는, 액공급 기구(40')의 제1 액공급관(41b') 상에 정압 밸브(41c')가 설치되어 있다. 정압 밸브(41c')에는, 가압용의 압축 공기원(41d')과 압력 제어부로서의 레귤레이터(41e')(예컨대, 제품명 : HL 레귤레이터 942N)가 접속되어 있어, 정압 밸브(41c')를 원하는대로 작동시키도록 되어 있다. 또한, 정압 밸브(41c')를 적절하게 작동시키도록, 레귤레이터(41e')에 압력 센서(41f')가 설치되어 있어, 그 검출 압력을 레귤레이터(41e')의 제어를 위해 제어 장치(12')에 피드백하도록 되어 있다. 즉, 레귤레이터(41e')의 제어[정압 밸브(41c')의 제어]에 관해서도, 제어 장치(12')가 담당하도록 되어 있다. 이러한 구성에 의해, 제1 액원으로부터 제공되는 제1 액은, 주배관(20')에 접속된 복수의 처리 유닛(50')의 전부[정확하게는, 처리중(혼합액 소비중)인 처리 유닛(50')의 전부]에 동시에 공급될 수 있는 압력으로, 제1 액공급관(41b')을 통해 주배관(20')에 공급될 수 있도록 되어 있다. 도 8 중, 41m'은 유량계이고, 41g'는 개폐 밸브이다. 개폐 밸브(41g')는, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 또한, 레귤레이터(41e')는, 다른 압력 제어 기구에 의해 치환되어도 좋다.In the example shown in figure, the positive pressure valve 41c 'is provided on the 1st liquid supply pipe 41b' of the liquid supply mechanism 40 '. The positive pressure valve 41c 'is connected to a compressed air source 41d' for pressurization and a regulator 41e '(for example, a product name: HL regulator 942N) as a pressure control unit, and the positive pressure valve 41c' is connected as desired. It is supposed to work. Moreover, the pressure sensor 41f 'is provided in the regulator 41e' so that the positive pressure valve 41c 'can be operated appropriately, and the control device 12' is used to control the detected pressure of the regulator 41e '. ) Feedback. That is, the control apparatus 12 'is also in charge of control of the regulator 41e' (control of the positive pressure valve 41c '). By this structure, the 1st liquid provided from the 1st liquid source is the processing unit 50 which is all (exactly during processing (mixed liquid consumption)) of the some processing unit 50 'connected to the main piping 20'. At a pressure that can be simultaneously supplied to all of ')', it can be supplied to the main pipe 20 'through the first liquid supply pipe 41b'. In FIG. 8, 41m 'is a flowmeter, and 41g' is an on-off valve. The on-off valve 41g 'is comprised of a valve in which the opening and closing operation can be driven by the fluid pressure drive, for example, an air operated valve in which the opening and closing operation is driven by the air pressure. In addition, the regulator 41e 'may be replaced by another pressure control mechanism.

한편, 제2 액공급관(42b')에는, 유량계(42m') 및 유량 조정 밸브(42d')가 설치되어 있다. 또한, 유량 조정 밸브(42d')에 대하여 직렬적으로 개폐 밸브(42g')가 설치되어 있다. 개폐 밸브(42g')의 개폐 제어는, 제어 장치(12')가 담당하도록 되어 있다.On the other hand, the flowmeter 42m 'and the flow regulating valve 42d' are provided in the 2nd liquid supply pipe 42b '. Moreover, the opening-closing valve 42g 'is provided in series with the flow regulating valve 42d'. The control device 12 'is in charge of opening and closing control of the on-off valve 42g'.

또한, 유량 조정 밸브(42d')의 제어도, 제어 장치(12')가 담당하도록 되어 있다. 구체적으로는, 유량계(41m')에 의한 제1 액의 통과 유량의 측정치와 유량계(42m')에 의한 제2 액의 통과 유량의 측정치를 피드백 정보로서 이용하면서, 제어 장치(12')가, 원하는 혼합비를 실현하도록, 유량 조정 밸브(42d')[및 후술하는 바와 같이 레귤레이터(42t')]를 제어하도록 되어 있다.In addition, the control apparatus 12 'is also in charge of controlling the flow regulating valve 42d'. Specifically, the control device 12 'uses the measured value of the passage flow rate of the first liquid by the flowmeter 41m' and the measurement of the passage flow rate of the second liquid by the flowmeter 42m 'as feedback information. In order to realize a desired mixing ratio, the flow rate regulating valve 42d '(and the regulator 42t' as described later) is controlled.

제2 액탱크(42a')는, 웨이퍼(W)를 처리하고 있는(혼합액을 소비하고 있는) 처리 유닛(50')의 수에 따른 양의 제2 액을, 혼합기(43')를 통해 주배관(20')에 공급하도록 구성되어 있다. 구체적으로는, 제2 액탱크(42a')는, 제2 액을 가압하기 위해 설치된 질소 가스원(42k')으로부터의 가압을 받아, 제2 액을 혼합기(43')를 향해 보내주도록 되어 있다. 질소 가스원(42k')으로부터의 가압력은, 레귤레이터(42t')에 의해 제어되도록 되어 있다. 레귤레이터(42t')는, 질소 가스원(42k')으로부터 제2 액탱크(42a')에 이르는 배관 도중에 설치되어 있다. 레귤레이터(42t')의 제어에 의해, 질소 가스원(42k')으로부터의 가압력이 제어됨으로써, 결과적으로 제2 액의 제2 액탱크(42a')로부터의 송출 유량이 제어된다.The 2nd liquid tank 42a 'supplies the 2nd liquid of the quantity according to the number of the processing units 50' which are processing the wafer W (consuming the mixed liquid) through the mixer 43 '. It is configured to supply to 20 '. Specifically, the second liquid tank 42a 'receives pressurization from the nitrogen gas source 42k' provided to pressurize the second liquid, and sends the second liquid toward the mixer 43 '. . The pressing force from the nitrogen gas source 42k 'is controlled by the regulator 42t'. The regulator 42t 'is provided in the middle of piping from the nitrogen gas source 42k' to the second liquid tank 42a '. By the control of the regulator 42t ', the pressing force from the nitrogen gas source 42k' is controlled, and as a result, the delivery flow volume of the 2nd liquid from the 2nd liquid tank 42a 'is controlled.

도시하는 예에서는, 제2 액탱크(42a')에, 가압용의 질소 가스원(42k')과 레귤레이터(42t')(예컨대, 제품명 : HL 레귤레이터 942N)가 접속되어 있어, 제2 액탱크(42a') 내의 제2 액을 원하는대로 가압할 수 있도록 되어 있다. 또한, 제2 액의 가압의 정도(송출력의 정도)를 적절하게 조정하도록, 레귤레이터(42t')에 압력 센서(42u')가 설치되어 있어, 그 검출 압력을 레귤레이터(42t')의 제어를 위해 제어 장치(12')에 피드백하도록 되어 있다. 즉, 레귤레이터(42t')의 제어에 관해서도, 제어 장치(12')가 담당하도록 되어 있다.In the example shown in figure, the pressurized nitrogen gas source 42k 'and the regulator 42t' (for example, a product name: HL regulator 942N) are connected to the 2nd liquid tank 42a ', and the 2nd liquid tank ( The second liquid in 42a ') can be pressurized as desired. In addition, a pressure sensor 42u 'is provided in the regulator 42t' so as to appropriately adjust the degree of pressurization (the degree of power output) of the second liquid, and the detected pressure is controlled by the regulator 42t '. To the control device 12 '. In other words, the control device 12 'is also responsible for the control of the regulator 42t'.

제2 액의 액량은, 주배관(20')에 접속된 처리 유닛(50') 중, 주배관(20') 내의 액을 소비하여 웨이퍼(W)를 처리하고 있는 처리 유닛(50')의 수에 따라서, 원하는 혼합비에 기초하여 결정된다. 상기 액량의 제2 액이 주배관(20')에 공급되도록, 제어 장치(12')에 의해, 레귤레이터(42t')에 의한 제2 액의 가압력과, 유량 조정 밸브(42d')의 통유량이 연동하여 제어된다. 이러한 제어에 의해, 액공급 기구(40')는, 주배관(20') 내를, 소정 농도의 혼합액에 의해, 소정 압력으로 유지할 수 있다. 또한, 실현 가능한 혼합비가, 종래 기술과 비교하여 매우 광범위하다.The liquid amount of the second liquid is determined by the number of processing units 50 'that process the wafer W by consuming the liquid in the main pipe 20' among the processing units 50 'connected to the main pipe 20'. Therefore, it is determined based on the desired mixing ratio. By the control device 12 ', the pressing force of the second liquid by the regulator 42t' and the flow rate of the flow rate regulating valve 42d 'are supplied by the control device 12' so that the second liquid of the liquid amount is supplied to the main pipe 20 '. It is controlled in conjunction. By this control, the liquid supply mechanism 40 'can maintain the inside of the main pipe 20' at a predetermined pressure with a mixed liquid having a predetermined concentration. Moreover, the mixing ratio which can be realized is very wide compared with the prior art.

다음으로, 주배관(20') 및 주개폐 밸브(22')에 관해 설명한다. 주배관(20')은 일측에서, 전술한 바와 같이, 액공급 기구(40')에 접속되어 있다. 그리고, 주배관(20')은, 액공급 기구(40')가 접속된 일측과는 반대측에 해당하는 타측에서, 폐기 라인에 통해 있다. 주개폐 밸브(22')는, 주배관(20')의 액공급 기구(40')에 대하여 타측에 부착되어 있다. 주개폐 밸브(22')는, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 그리고, 주개폐 밸브(22')의 개폐 동작은, 제어 장치(12')에 의해 제어되도록 되어 있다. 그 결과, 주개폐 밸브(22')는, 제어 장치(12')로부터의 제어 신호에 기초하여, 주배관(20')을 폐기 라인으로부터 폐쇄한 상태와, 주배관(20')을 폐기 라인에 연통시킨 상태 중 어느 하나의 상태를 선택적으로 유지하게 된다.Next, the main piping 20 'and the main opening / closing valve 22' are demonstrated. As described above, the main pipe 20 'is connected to the liquid supply mechanism 40'. The main pipe 20 'is in the waste line on the other side corresponding to the side opposite to the one side to which the liquid supply mechanism 40' is connected. The main opening / closing valve 22 'is attached to the other side with respect to the liquid supply mechanism 40' of the main piping 20 '. The main opening / closing valve 22 'is comprised of the valve which can open and close operation by fluid pressure drive, for example, the air operated valve which opens and closes operation by air pressure. The opening / closing operation of the main opening / closing valve 22 'is controlled by the control device 12'. As a result, the main opening / closing valve 22 'communicates with the main pipe 20' closed from the waste line and the main pipe 20 'communicates with the waste line based on the control signal from the control device 12'. The state of any one of the selected states is selectively maintained.

다음으로, 분기관(25'), 분기관용 개폐 밸브(27') 및 처리 유닛(50')에 관해 설명한다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 복수의 분기관(25')은, 액공급 기구(40')와 주개폐 밸브(22') 사이의 구간에서 주배관(20')으로부터 연장되어 나와 있다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 각 분기관(25')은, 주배관(20')에 접속하고 있는 측과는 반대측에서, 대응하는 처리 유닛(50') 안으로 연장되어 들어가 있다. 각 분기관(25')은, 주배관(20')에 접속하고 있는 측과는 반대측의 단부로서, 액을 토출하는 토출 개구(26a')를 갖고 있고, 토출 개구(26a')는 처리 유닛(50') 내에서 지지 부재(54')에 지지되어 있다.Next, the branch pipe 25 ', the open / close valve 27' for branch pipes, and the processing unit 50 'are demonstrated. As shown in FIG. 8, the some branch pipe 25 'extends from the main pipe 20' in the section between the liquid supply mechanism 40 'and the main opening / closing valve 22'. As shown in FIG. 8, each branch pipe 25 ′ extends into the corresponding processing unit 50 ′ on the side opposite to the side connected to the main pipe 20 ′. Each branch pipe 25 'has an discharge opening 26a' for discharging liquid as an end portion on the side opposite to the side connected to the main pipe 20 ', and the discharge opening 26a' has a processing unit ( 50 ') is supported by the support member 54'.

분기관용 개폐 밸브(27')은, 전술한 주개폐 밸브(22')와 마찬가지로, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 그리고, 분기관용 개폐 밸브(27')의 개폐 동작은, 제어 장치(12')에 의해 제어되도록 되어 있다.Branch opening / closing valve 27 'is a valve which can be opened / closed by fluid pressure driving, for example an air operated valve driven by pneumatic pressure, like main opening / closing valve 22' described above. Consists of. The opening and closing operation of the branch pipe open / close valve 27 'is controlled by the control device 12'.

처리 유닛(50')은, 웨이퍼(W)를 유지하는 유지 기구(52')와, 웨이퍼(W)를 처리하기 위한 처리 챔버를 구획하는 격벽(도시하지 않음)을 갖고 있다. 유지 기구(52')는, 웨이퍼(W)의 표면이 대략 수평 방향을 따르도록 하여 웨이퍼(W)를 유지한다. 유지 기구(52')는, 원판형의 형상으로 이루어진 웨이퍼(W)의 중심을 축으로 하여, 유지한 웨이퍼(W)를 회전시킬 수 있도록 구성되어 있다. 분기관(25')은 격벽의 내부에 연장되어 들어가고, 분기관(25')의 토출 개구(26a')는 처리 챔버 내에 배치되어 있다.The processing unit 50 'has a holding mechanism 52' holding the wafer W and partition walls (not shown) for partitioning the processing chamber for processing the wafer W. As shown in FIG. The holding mechanism 52 'holds the wafer W with the surface of the wafer W substantially along the horizontal direction. The holding mechanism 52 'is comprised so that the held wafer W can be rotated centering on the center of the wafer W which has a disk shape. The branch pipe 25 'extends inside the partition wall, and the discharge opening 26a' of the branch pipe 25 'is disposed in the processing chamber.

지지 부재(54')는, 웨이퍼(W)에 대하여 이동 가능(예컨대 요동 가능)하게 구성되어 있다. 지지 부재(54')가 이동함으로써, 분기관(25')의 토출 개구(26a')는, 유지 기구(52')에 유지된 웨이퍼(W)의 대략 중심에 상측으로부터 대면하는 처리 위치와, 웨이퍼(W)의 상측의 영역으로부터 가로 방향으로 벗어난 대기 위치 사이를 이동할 수 있다. 토출 개구(26a')가 처리 위치에 있는 경우, 토출 개구(26a')로부터 토출되는 액체는 웨이퍼(W)에 공급되고, 웨이퍼(W)는 공급된 액체에 의해 처리되게 된다. 한편, 토출 개구(26a')가 대기 위치에 있는 경우, 토출 개구(26a')로부터 토출되는 액체는 웨이퍼(W)에 공급되지 않고, 예컨대 폐기되게 된다.The support member 54 'is comprised so that a movement (for example, oscillation is possible) with respect to the wafer W is possible. As the supporting member 54 'is moved, the discharge opening 26a' of the branch pipe 25 'has a processing position facing from the upper side to the approximately center of the wafer W held by the holding mechanism 52', It is possible to move between the standby positions deviated in the horizontal direction from the region on the upper side of the wafer W. As shown in FIG. When the discharge opening 26a 'is in the processing position, the liquid discharged from the discharge opening 26a' is supplied to the wafer W, and the wafer W is processed by the supplied liquid. On the other hand, when the ejection opening 26a 'is in the standby position, the liquid ejected from the ejection opening 26a' is not supplied to the wafer W and, for example, is discarded.

또한, 도 8에 나타낸 바와 같이, 처리 유닛(50')은, 토출 개구(26a')로부터 웨이퍼(W)를 향해 토출된 액을 회수하는 컵(56')을 더 갖고 있다. 컵(56')은, 처리 챔버 내에 설치되어, 토출 개구(26a')로부터 토출된 액이 처리 챔버 내에서 비산하는 것을 방지한다.8, the processing unit 50 'further has the cup 56' which collect | recovers the liquid discharged toward the wafer W from the discharge opening 26a '. The cup 56 'is provided in the processing chamber to prevent the liquid discharged from the discharge opening 26a' from scattering in the processing chamber.

그런데, 전술한 바와 같이, 본 실시형태에서의 액공급 기구(40')는, 주배관(20') 및 분기관(25')을 통하여, 처리 유닛(50') 내의 웨이퍼(W)에 농도 조절된 약액을 혼합액으로서 공급하도록 되어 있다. 그리고, 본 실시형태에서, 액처리 장치(10')는, 웨이퍼(W)의 세정 처리에 요구되는 그 밖의 액, 예컨대 린스액도 웨이퍼(W)에 공급할 수 있도록 구성되어 있다.By the way, as mentioned above, the liquid supply mechanism 40 'in this embodiment adjusts density | concentration to the wafer W in the processing unit 50' via the main piping 20 'and the branch pipe 25'. The prepared chemical liquid is supplied as a mixed liquid. In the present embodiment, the liquid processing apparatus 10 'is configured to supply other liquids required for the cleaning process of the wafer W, such as a rinse liquid, to the wafer W as well.

구체적인 구성으로는, 도 8에 나타낸 바와 같이, 전술한 분기관용 개폐 밸브(27')와 나란하게, 분기관(25') 상에 린스액용 개폐 밸브(28')가 설치되어 있다. 이 린스액용 개폐 밸브(28')에, 도시하지 않은 린스액원에 통하는 린스액 공급관(31')이 접속되어 있다. 즉, 도시하는 예에서는, 액처리 장치(10')의 분기관(25')의 하류측의 일부분이, 린스액의 공급관으로서도 기능한다.As a specific structure, as shown in FIG. 8, the rinse liquid open / close valve 28 'is provided on the branch pipe 25' in parallel with the above-mentioned open / close valve 27 'for branch pipes. A rinse liquid supply pipe 31 ′ connected to a rinse liquid source (not shown) is connected to the rinse liquid open / close valve 28 ′. That is, in the example shown, a part of the downstream side of the branch pipe 25 'of the liquid processing apparatus 10' also functions as a supply pipe of a rinse liquid.

또한, 분기관용 개폐 밸브(27') 및 린스액용 개폐 밸브(28')와 나란하게, 폐액용 개폐 밸브(29')가 설치되어 있다. 폐액용 개폐 밸브(29')는 폐액관(32')에 통해 있다. 예컨대 폐액용 개폐 밸브(29')를 개폐함으로써, 분기관(25')의 분기관용 개폐 밸브(27')보다 하류측 내의 액체를 폐기할 수 있다.Further, the waste liquid on / off valve 29 'is provided in parallel with the branch pipe on / off valve 27' and the rinse liquid on / off valve 28 '. The waste liquid open / close valve 29 'is through the waste liquid pipe 32'. For example, by opening and closing the waste liquid opening / closing valve 29 ', the liquid in the downstream side of the branch pipe 25' can be disposed more than the branch opening / closing valve 27 '.

다음으로, 제어 장치(12')에 관해 설명한다. 제어 장치(12')에는, 공정 관리자 등이 액처리 장치(10')를 관리하기 위해 커맨드의 입력 조작 등을 행하는 키보드나, 액처리 장치(10')의 가동 상황을 가시화하여 표시하는 디스플레이 등을 포함하는 입출력 장치가 접속되어 있다. 또한, 제어 장치(12')는, 액처리 장치(10')에서 실행되는 처리를 실현하기 위한 프로그램 등이 기록된 기록 매체(13')에 액세스 가능하게 되어 있다. 기록 매체(13')는, ROM 및 RAM 등의 메모리, 하드디스크, CD-ROM, DVD-ROM 및 플렉시블 디스크 등의 디스크형 기록 매체 등, 기지의 프로그램 기록 매체로 구성될 수 있다.Next, the control apparatus 12 'is demonstrated. The control device 12 'includes a keyboard to which a process manager or the like performs a command input operation or the like for managing the liquid processing device 10', a display that visualizes and displays the operation status of the liquid processing device 10 ', and the like. An input / output device including a is connected. In addition, the control apparatus 12 'is made accessible to the recording medium 13' on which a program or the like for realizing the processing executed in the liquid processing apparatus 10 'is recorded. The recording medium 13 'may be composed of known program recording media, such as memory such as ROM and RAM, and disk type recording media such as hard disk, CD-ROM, DVD-ROM, and flexible disk.

다음으로, 이상과 같은 구성을 포함하는 액처리 장치(10')를 이용하여 실행될 수 있는 액처리 방법의 일례에 관해 설명한다. 이하에 설명하는 액처리 방법에서는, 도 9에 나타낸 바와 같이 하여, 피처리체로서의 웨이퍼(W)가, 하나의 처리 유닛(50') 내에서 세정 처리가 실시된다. 그리고, 도 9에 나타내는 일련의 액처리 방법 중의 약액 처리 공정 S2'에서, 웨이퍼(W)는, 전술한 액처리 장치(10)의 액공급 기구(40')로부터 공급되는 혼합액을 이용하여 처리된다. 이하에서는, 우선, 도 9에 나타내는 플로우차트를 참조하면서, 하나의 처리 유닛(50') 내에서 웨이퍼(W)에 대하여 실시되는 액처리 방법을 개략적으로 설명하고, 그 후에, 약액 처리 공정 S2'를 행하는 것과 관련된 액처리 장치(10')의 동작에 관해 설명한다.Next, an example of the liquid processing method which can be performed using the liquid processing apparatus 10 'containing the above structure is demonstrated. In the liquid processing method demonstrated below, as shown in FIG. 9, the washing | cleaning process is performed in the one processing unit 50 'with the wafer W as a to-be-processed object. And in chemical liquid processing process S2 'of the series of liquid processing methods shown in FIG. 9, the wafer W is processed using the mixed liquid supplied from the liquid supply mechanism 40' of the liquid processing apparatus 10 mentioned above. . Hereinafter, the liquid processing method performed with respect to the wafer W in one processing unit 50 'is first demonstrated, referring the flowchart shown in FIG. 9 first, and then chemical liquid processing process S2'. The operation of the liquid processing apparatus 10 'associated with performing the following will be described.

이하에 설명하는 액처리 방법을 실행하기 위한 각 구성 요소의 동작은, 미리 프로그램 기록 매체(13')에 저장해 놓은 프로그램에 따른 제어 장치(12')로부터의 제어 신호에 의해 제어된다.The operation of each component for executing the liquid processing method described below is controlled by a control signal from the control device 12 'corresponding to the program stored in the program recording medium 13' in advance.

도 9에 나타낸 바와 같이, 우선, 세정 처리가 실시되는 웨이퍼(W)가, 액처리 장치(10')의 각 처리 유닛(50') 내에 반입되어, 각 처리 유닛(50') 내에서 유지 기구(52')에 의해 유지된다(도 9의 공정 S1').As shown in FIG. 9, first, the wafer W subjected to the cleaning process is loaded into each processing unit 50 ′ of the liquid processing apparatus 10 ′ and held in the holding unit 50 ′. It is held by (52 ') (step S1' in Fig. 9).

다음으로, 제1 액공급관(41b')으로부터의 물(제1 액)과, 제2 액탱크(42a')로부터의 고농도 약액(제2 액)의 혼합액이, 액공급 기구(40')로부터 처리 유닛(50') 내에 공급된다. 그리고, 이 혼합액이, 각 처리 유닛(50')에 반입된 웨이퍼(W)를 향해 토출되어, 웨이퍼(W)에 대한 처리가 실시된다(공정 S2'). 웨이퍼(W)의 세정 처리에서는, 예컨대, 희불산, 암모니아과수(SC1), 염산과수(SC2) 등의 농도 조절된 약액이, 액공급 기구(40')로부터 혼합액으로서 공급될 수 있다.Next, a mixed liquid of water (first liquid) from the first liquid supply pipe 41b 'and high concentration chemical liquid (second liquid) from the second liquid tank 42a' is supplied from the liquid supply mechanism 40 '. It is supplied into the processing unit 50 '. And this mixed liquid is discharged toward the wafer W carried in each processing unit 50 ', and the process with respect to the wafer W is performed (process S2'). In the cleaning process of the wafer W, for example, concentration-controlled chemical liquids such as dilute hydrofluoric acid, ammonia fruit water (SC1), hydrochloric acid fruit water (SC2), and the like can be supplied from the liquid supply mechanism 40 'as a mixed liquid.

여기서, 혼합액에서의 농도 조정은, 제어 장치(12')(제어부)로부터의 제어 신호에 의해 유량 조정 밸브(42d')와 레귤레이터(42t')가 연동 제어됨으로써, 원하는대로 실현된다. 본 실시형태에서는, 레귤레이터(42t')의 제어에 의해, 질소 가스원(42k')으로부터의 가압력이 제어됨으로써, 제2 액의 제2 액탱크(42a')로부터의 송출 유량이 제어되는 한편, 유량 조정 밸브(42d')의 제어에 의해, 상기 유량 조정 밸브(42d')의 통과 유량이 제어됨으로써, 매우 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다. 예컨대, 레귤레이터(42t')의 제어에 의해 송출 유량을 1∼1.5배로 제어할 수 있다면[1배=레귤레이터(42t')가 설치되지 않은 상태], 유량 조정 밸브(42d')만의 제어의 경우와 비교해서, 1.5배만큼 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.Here, the concentration adjustment in the mixed liquid is realized as desired by interlocking control of the flow rate regulating valve 42d 'and the regulator 42t' by a control signal from the control device 12 '(control unit). In the present embodiment, the pressurized pressure from the nitrogen gas source 42k 'is controlled by the control of the regulator 42t', so that the flow rate of delivery of the second liquid from the second liquid tank 42a 'is controlled. By controlling the flow regulating valve 42d ', the flow rate of the flow regulating valve 42d' is controlled, whereby a very wide mixing ratio can be realized. For example, if the discharge flow rate can be controlled to 1 to 1.5 times by the control of the regulator 42t '(1 times = the state in which the regulator 42t' is not installed), then the control of only the flow regulating valve 42d ' In comparison, a wider mixing ratio can be realized by 1.5 times.

혼합액(약액)을 이용한 웨이퍼(W)의 처리가 종료되면, 다음으로, 물, 특히 순수를 린스액으로서 이용하는 린스 처리가 웨이퍼(W)에 실시된다(공정 S3'). 구체적으로는, 린스액 공급관(31') 및 린스액용 개폐 밸브(28')를 통해, 린스액이 처리 유닛(50') 내에 공급된다. 그리고, 각 처리 유닛(50')에서, 혼합액이 남아 있는 웨이퍼(W)를 향해 린스액이 토출되어, 웨이퍼(W) 상에 잔류하는 혼합액이 린스액에 의해 치환된다.When the processing of the wafer W using the mixed liquid (chemical liquid) is completed, the rinse processing using water, particularly pure water, as the rinse liquid is then performed on the wafer W (step S3 '). Specifically, the rinse liquid is supplied into the processing unit 50 ′ through the rinse liquid supply pipe 31 ′ and the on / off valve 28 ′ for the rinse liquid. In each processing unit 50 ′, the rinse liquid is discharged toward the wafer W where the mixed liquid remains, and the mixed liquid remaining on the wafer W is replaced by the rinse liquid.

린스 처리가 종료되면, 유지 기구(52')에 의해 웨이퍼(W)를 고속 회전시킴으로써, 웨이퍼(W)의 건조 처리가 실시된다(공정 S4'). 이상과 같이 하여, 하나의 처리 유닛(50') 내에서의 웨이퍼(W)의 세정 처리가 종료되고, 처리가 종료된 웨이퍼(W)가 처리 유닛(50')으로부터 반출된다(공정 S5').When the rinsing process is completed, the wafer W is dried at a high speed by the holding mechanism 52 'to perform the drying process of the wafer W (step S4'). As mentioned above, the cleaning process of the wafer W in one processing unit 50 'is complete | finished, and the processed wafer W is carried out from the processing unit 50' (process S5 '). .

다음으로, 약액 처리를 행하는 것과 관련된 액처리 장치(10')의 동작에 관해 설명한다.Next, operation | movement of the liquid processing apparatus 10 'associated with performing chemical liquid processing is demonstrated.

우선, 혼합액(약액)을 이용하여 웨이퍼(W)를 처리하는 약액 처리 공정 S2'에 앞서, 혼합액이 주배관(20')에 충전된다. 주배관(20')에 대한 혼합액의 충전은, 전술한 웨이퍼(W)를 각 처리 유닛(50') 내에 반입하는 공정 S1'전에 시작된다. 또한, 주배관(20')에 대한 혼합액의 충전은, 웨이퍼(W)를 각 처리 유닛(50') 내에 반입하는 공정 S1'과 병행하여 실시되도록 해도 좋다.First, the mixed liquid is filled in the main pipe 20 'prior to the chemical liquid processing step S2' which processes the wafer W using the mixed liquid (chemical liquid). The filling of the mixed liquid into the main pipe 20 'starts before the step S1' in which the above-described wafer W is loaded into each processing unit 50 '. In addition, the filling of the mixed liquid into the main pipe 20 'may be performed in parallel with the step S1' for carrying the wafer W into each processing unit 50 '.

구체적으로는, 제1 액원(41a')으로부터 물이 혼합기(43')에 공급되고, 제2 액탱크(42a')로부터 고농도 약액이 혼합기(43')에 공급된다. 이에 따라, 주배관(20') 상에 설치된 혼합기(43')에서, 물과 고농도 약액의 혼합액으로서의 약액이 조합되고, 이 약액이 주배관(20')에 일측으로부터 공급되게 된다. 이 때, 주개폐 밸브(22')에 의해 주배관(20')은 타측에서 폐쇄되고, 이에 따라, 주배관(20')이 혼합액으로 채워지게 된다. 주배관(20')에 혼합액을 충전하고 있는 기간 동안, 분기관용 개폐 밸브(27)는 개방되어 있어도 좋고 폐쇄되어 있어도 좋다.Specifically, water is supplied from the first liquid source 41a 'to the mixer 43', and a high concentration chemical liquid is supplied from the second liquid tank 42a 'to the mixer 43'. Accordingly, in the mixer 43 'provided on the main pipe 20', the chemical liquid as a mixed liquid of water and a high concentration chemical liquid is combined, and the chemical liquid is supplied to the main pipe 20 'from one side. At this time, the main pipe 20 'is closed at the other side by the main opening / closing valve 22', whereby the main pipe 20 'is filled with the mixed liquid. During the period in which the main liquid 20 'is filled with the mixed liquid, the branch valve open / close valve 27 may be open or closed.

그런데, 액공급 기구(40')로부터 혼합액을 주배관(20')에 공급하기 시작할 때, 주개폐 밸브(22')를 개방해 두어도 좋다. 주배관(20')에 대한 혼합액의 공급 시작후의 짧은 기간 동안, 주개폐 밸브(22')를 개방해 둠으로써, 배압에 의해 혼합액이 주배관(20') 내에 유입되기 어려워지는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 주배관(20') 내에 혼합액을 신속하고 안정적으로 퍼지게 할 수 있다.By the way, when starting to supply the mixed liquid to the main piping 20 'from the liquid supply mechanism 40', you may open the main opening / closing valve 22 '. By opening the main opening / closing valve 22 'for a short period after the start of supply of the mixed liquid to the main pipe 20', it is possible to prevent the mixed liquid from flowing into the main pipe 20 'by the back pressure. For this reason, the mixed liquid can be quickly and stably spread in the main pipe 20 '.

다음으로, 주배관(20') 내에 공급된 혼합액을 분기관(25')에 유입시켜, 분기관(25')에도 농도 조절된 혼합액을 충전한다. 구체적으로는, 분기관용 개폐 밸브(27')를 개방함으로써, 주배관(20')으로부터 분기관(25')에 혼합액이 유입되게 된다. 또한, 각 처리 유닛(50')의 지지 부재(54')를 요동시켜, 분기관(25')의 토출 개구(26a')를 대기 위치에 배치해 둔다. 이에 따라, 주배관(20')으로부터 분기관(25')에 유입된 혼합액은, 대기 위치에 배치된 토출 개구(26a')로부터 토출되게 된다.Next, the mixed liquid supplied into the main pipe 20 'is introduced into the branch pipe 25', and the mixed liquid whose concentration is adjusted is also filled in the branch pipe 25 '. Specifically, the mixed liquid flows into the branch pipe 25 'from the main pipe 20' by opening the on / off valve 27 'for the branch pipe. Moreover, the support member 54 'of each processing unit 50' is rocked, and the discharge opening 26a 'of the branch pipe 25' is arrange | positioned at a standby position. As a result, the mixed liquid introduced into the branch pipe 25 'from the main pipe 20' is discharged from the discharge opening 26a 'arranged in the standby position.

이 상태에서, 분기관용 개폐 밸브(27') 및 주개폐 밸브(22')가 폐쇄되면, 주배관(20')은 밀폐된 상태가 되어, 제1 액의 공급 공정이 종료된다. 즉, 준비 공정으로서의, 주배관(20')에 혼합액을 충전하는 공정 및 분기관(25')에 혼합액을 충전하는 공정이 종료된다.In this state, when the branch opening / closing valve 27 'and the main opening / closing valve 22' are closed, the main piping 20 'will be in a closed state, and the supply process of the 1st liquid will be complete | finished. That is, the process of filling the mixed liquid into the main piping 20 'and the process of filling the mixed liquid into the branch pipe 25' as a preparation process are complete | finished.

여기서 설명한 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내에 혼합액을 충전하는 방법의 구체예는 예시에 지나지 않고, 여러가지 변경이 가능하다. 예컨대, 주개폐 밸브(22') 및 분기관용 개폐 밸브(27')를 개방 내지 폐쇄하는 타이밍은, 전술한 예에 한정되지 않는다. 예컨대, 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내에 혼합액을 병행하여 충전하도록 해도 좋다.Specific examples of the method for filling the mixed liquid in the main pipe 20 'and the branch pipe 25' described herein are merely examples, and various modifications are possible. For example, the timing of opening or closing the main open / close valve 22 'and the branch open / close valve 27' is not limited to the above-described example. For example, the mixed liquid may be filled in the main pipe 20 'and the branch pipe 25' in parallel.

이상과 같이 하여 혼합액이 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내에 충전되고, 또한, 전술한 바와 같이 처리 유닛(50') 내에 웨이퍼(W)가 반입되면, 상기 처리 유닛(50') 내에서 웨이퍼(W)가 순서대로 처리되어 간다(전술한 공정 S2').When the mixed liquid is filled in the main pipe 20 'and the branch pipe 25' as described above, and the wafer W is loaded into the processing unit 50 'as described above, the processing unit 50' ), The wafers W are sequentially processed (step S2 'described above).

이 공정 S2' 중, 처리 유닛(50') 내에 반입된 웨이퍼(W)는, 유지 기구(52')에 의해 유지되고, 유지 기구(52')에 의해 회전된다. 또한, 지지 부재(54')는, 토출 개구(26a')가 웨이퍼(W)에 상측으로부터 대면하는 처리 위치에 위치하도록 배치된다. 이 상태에서, 분기관용 개폐 밸브(27')가 개방되어, 충분한 압력으로 유지된 주배관(20')으로부터 분기관(25')에 혼합액이 유입된다. 그리고, 혼합액이, 분기관(25')의 토출 개구(26a')를 통해 웨이퍼(W)의 상면(표면)에 토출된다. 혼합액은 회전중인 웨이퍼(W)의 표면상에 퍼져, 웨이퍼(W)의 표면이 혼합액에 의해 처리된다.In this step S2 ', the wafer W carried in the processing unit 50' is held by the holding mechanism 52 'and rotated by the holding mechanism 52'. In addition, the support member 54 'is arrange | positioned so that the discharge opening 26a' may be located in the processing position which faces the wafer W from the upper side. In this state, the branch open / close valve 27 'is opened, and the mixed liquid flows into the branch pipe 25' from the main pipe 20 'held at a sufficient pressure. Then, the mixed liquid is discharged to the upper surface (surface) of the wafer W through the discharge opening 26a 'of the branch pipe 25'. The mixed liquid spreads on the surface of the rotating wafer W, and the surface of the wafer W is processed by the mixed liquid.

웨이퍼(W)를 처리 유닛(50')에 반입할 때(공정 S1), 웨이퍼(W)는, 통상 복수의 처리 유닛(50') 각각에 순서대로 반송되어 간다. 따라서, 각 처리 유닛(50')에 웨이퍼(W)가 반입되는 타이밍은 서로 다르고, 이 때문에, 처리 유닛(50') 내에서의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리는, 통상 액처리 장치(10')에 포함되는 복수의 처리 유닛(50') 사이에서 일제히 시작되는 것이 아니다. 웨이퍼(W)를 처리할 준비가 된 처리 유닛(50')에 대응하는 분기관용 개폐 밸브(27')로부터 순서대로 개방해 나가, 대응하는 각 처리 유닛(50')에서의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리가 순서대로 시작되어 간다.When the wafer W is loaded into the processing unit 50 '(step S1), the wafer W is normally conveyed to each of the plurality of processing units 50' in order. Therefore, the timing at which the wafers W are loaded into each processing unit 50 'is different from each other. Therefore, the processing of the wafers W using the mixed liquid in the processing unit 50' is usually performed by a liquid processing apparatus ( It does not start simultaneously among the plurality of processing units 50 'included in 10'). Wafers which are sequentially opened from the on / off valves 27 'for branch pipes corresponding to the processing unit 50' ready to process the wafer W, and use the mixed liquid in the corresponding processing units 50 '( The processing of W) starts in order.

그런데, 혼합액이 주배관(20')으로부터 분기관(25')을 통해 각 처리 유닛(50')에 공급되면, 주배관(20') 내의 압력이 저하될 우려가 있다. 그러나, 주배관(20')으로부터 공급되는 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛(50') 내에서 처리가 행해지고 있는 동안, 전술한 바와 같이, 액공급 기구(40')는, 복수의 처리 유닛(50')의 전부에 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 농도 조절된 혼합액을 주배관(20') 내에 보내주고 있다. 즉, 주배관(20')에 충전되어 있던 혼합액이 처리 유닛(50')에서의 처리에 사용되면, 액공급 기구(40')가 농도 조절된 혼합액을 주배관(20')에 새롭게 계속 보내준다. 그 결과, 주배관(20') 내에서의 혼합액의 액압은, 일정한 압력으로 유지된다. 이에 따라, 단일한 액공급 기구(40')를 이용하여, 다수의 처리 유닛(50')에 대하여, 웨이퍼(W)의 처리에 이용되는 혼합액을 안정된 유량으로 공급할 수 있다.By the way, when the mixed liquid is supplied from the main pipe 20 'to the respective processing units 50' through the branch pipe 25 ', the pressure in the main pipe 20' may be lowered. However, while the processing is performed in each processing unit 50 'using the mixed liquid supplied from the main pipe 20', as described above, the liquid supply mechanism 40 'is provided with a plurality of processing units 50'. At a pressure that can be simultaneously supplied to all of the), the concentration-adjusted mixed liquid is sent into the main pipe 20 '. That is, when the mixed liquid filled in the main pipe 20 'is used for processing in the processing unit 50', the liquid supply mechanism 40 'continues to send the adjusted liquid to the main pipe 20'. As a result, the liquid pressure of the mixed liquid in the main piping 20 'is maintained at a constant pressure. As a result, the mixed liquid used for the processing of the wafer W can be supplied to the plurality of processing units 50 'at a stable flow rate using the single liquid supply mechanism 40'.

이상과 같이 하여 처리 유닛(50') 내에서 웨이퍼(W)에 대하여 적당량의 혼합액이 공급되면, 상기 처리 유닛(50')에 대응하는 분기관(25)이, 분기관용 개폐 밸브(27')에 의해 폐쇄된다. 이와 같이 하여, 각 처리 유닛(50')에서의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리(약액 처리)가 순서대로 종료되어 간다.When the appropriate amount of the mixed liquid is supplied to the wafer W in the processing unit 50 'as described above, the branch pipe 25 corresponding to the processing unit 50' is connected to the branch valve opening / closing valve 27 '. Is closed by. In this manner, the processing (chemical liquid processing) of the wafer W using the mixed liquid in each processing unit 50 ′ ends in order.

웨이퍼(W)에 대한 약액 처리(공정 S2')가 종료되면, 전술한 바와 같이 상기 웨이퍼(W)에 대하여 린스 처리(공정 S3')가 실시된다. 이 린스 처리에서, 웨이퍼(W)에 공급되는 린스액은, 린스액용 개폐 밸브(28')를 통해 분기관(25')에 유입되고, 분기관(25')의 토출 개구(26a')로부터 토출된다. 이 때문에, 린스 처리 시작시에는, 분기관(25')의 하류측의 부분 내에 잔류한 혼합액이 물에 의해 압출되게 된다. 이러한 방법에 의하면, 웨이퍼(W)에 대하여 연속적으로 액체를 공급함으로써, 웨이퍼(W)의 표면을 건조시키지 않고서, 상기 웨이퍼(W)에 대한 처리 내용을 약액 처리(공정 S2')에서 린스 처리(공정 S3')로 변경할 수 있다. 이에 따라, 워터마크의 발생 등의 문제점을 회피할 수 있다.When the chemical liquid processing (step S2 ') on the wafer W is completed, the rinse processing (step S3') is performed on the wafer W as described above. In this rinse process, the rinse liquid supplied to the wafer W flows into the branch pipe 25 'through the rinse liquid open / close valve 28' and is discharged from the discharge opening 26a 'of the branch pipe 25'. Discharged. For this reason, at the start of the rinse treatment, the mixed liquid remaining in the downstream portion of the branch pipe 25 'is extruded by water. According to this method, by continuously supplying liquid to the wafer W, the contents of the processing on the wafer W are rinsed in the chemical liquid treatment (step S2 ') without drying the surface of the wafer W. The process can be changed to S3 '). As a result, problems such as generation of a watermark can be avoided.

이와 같이 하여 린스 처리 공정이 종료된 시점에서는, 분기관(25')의 린스액용 개폐 밸브(28')[분기관용 개폐 밸브(27')]보다 하류측의 부분 내에 린스액이 잔류하게 된다. 그리고, 다음 웨이퍼(W)에 대한 처리를 시작할 때에는, 다음 웨이퍼(W)의 반입 공정에 앞서 또는 다음 웨이퍼(W)의 반입 공정에 병행하여, 폐액용 개폐 밸브(29') 및 폐액관(32')을 통해, 분기관(25') 내에 잔류하는 린스액을 분기관(25')으로부터 폐액해 두는 것이 바람직하다. 이러한 처치를 행하여 둠으로써, 다음 웨이퍼(W)에 대한 약액 처리 공정 S2' 중, 웨이퍼(W)에 대하여 일정한 혼합비의 혼합액을 공급할 수 있다.In this way, when the rinse processing step is completed, the rinse liquid remains in a portion downstream from the rinse liquid open / close valve 28 ′ (open / close valve 27 ′ for the branch pipe) of the branch pipe 25 ′. Then, when the processing for the next wafer W is started, the opening / closing valve 29 'for waste liquid and the waste liquid pipe 32 are carried out prior to the carrying-in process of the next wafer W or in parallel with the carrying-in process of the next wafer W. Through '), it is preferable that the rinse liquid remaining in the branch pipe 25' is removed from the branch pipe 25 '. By carrying out such treatment, the mixed liquid having a constant mixing ratio can be supplied to the wafer W in the chemical liquid processing step S2 'for the next wafer W. FIG.

처리가 끝난 웨이퍼(W)가 각 처리 유닛(50')으로부터 반출되면, 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)가 각 처리 유닛(50')에 반입된다. 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)에 대하여, 동일한 처리 유닛(50') 내에서 직전에 처리된 웨이퍼(W)에 대한 처리와 동일한 처리가 실시되는 경우에는, 즉 액공급 기구(40')로부터 공급되는 혼합액의 혼합비(농도)를 변화시킬 필요가 없는 경우에는, 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내의 혼합액을 그대로 잔류시켜 두면 된다.When the processed wafer W is taken out from each processing unit 50 ', the wafer W to be processed next is loaded into each processing unit 50'. When the same processing as that for the wafer W processed immediately before is performed in the same processing unit 50 'with respect to the wafer W to be processed next, that is, from the liquid supply mechanism 40' When it is not necessary to change the mixing ratio (concentration) of the liquid mixture supplied, what is necessary is just to leave the mixed liquid in the main piping 20 'and the branch pipe 25' as it is.

한편, 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)와, 동일한 처리 유닛(50') 내에서 직전에 처리된 웨이퍼(W)의 사이에서 처리 내용이 상이하여, 웨이퍼(W)의 처리에 이용되는 혼합액의 농도를 변경해야 하는 경우에는, 다음에 처리되어야 할 웨이퍼(W)의 약액 처리가 시작되기 전에, 다음에 이용되는 혼합액을 주배관(20') 내에 충전한다. 이 경우, 우선, 제1 액원(41a')으로부터의 물(특히, 순수)만을 액공급 기구(40')로부터 주배관(20') 내에 공급하여, 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내에 잔류하는 약액을 물에 의해 치환한다. 구체예로서, 우선, 주개폐 밸브(22')를 개방하여 주배관(20') 내를 물로 치환한다. 다음으로, 주개폐 밸브(22')를 폐쇄하고 분기관용 개폐 밸브(27')를 개방하여, 분기관(25') 내를 물로 치환한다. 이 때, 대기 위치에 위치하는 분기관(25')의 토출 개구(26a')로부터 물을 토출하고, 분기관(25')을 전체 길이에 걸쳐 물로 씻어낸다. 이와 같이 하여, 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내를 물로 씻어낸 후, 전술한 방법과 동일하게 하여, 원하는 농도로 조절된 혼합액을 액공급 기구(40')로부터 주배관(20')에 충전하고, 원하는 농도로 조절된 혼합액을 분기관(25')에 충전한다. 이상과 같은 준비 공정이 종료된 후, 상이한 농도의 혼합액을 이용한 웨이퍼(W)의 처리가 실시된다.On the other hand, the content of the treatment is different between the wafer W to be processed next and the wafer W processed immediately before in the same processing unit 50 ', so that the mixed liquid used for the processing of the wafer W is When the concentration needs to be changed, the mixed liquid to be used next is filled into the main pipe 20 'before the chemical liquid processing of the wafer W to be processed next starts. In this case, first, only water (especially pure water) from the first liquid source 41a 'is supplied from the liquid supply mechanism 40' into the main pipe 20 ', so that the main pipe 20' and the branch pipe 25 'are supplied. The chemical liquid remaining in) is replaced by water. As a specific example, first, the main opening / closing valve 22 'is opened to replace the inside of the main pipe 20' with water. Next, the main open / close valve 22 'is closed and the branch pipe open / close valve 27' is opened to replace the inside of the branch pipe 25 'with water. At this time, water is discharged from the discharge opening 26a 'of the branch pipe 25' positioned at the standby position, and the branch pipe 25 'is washed with water over the entire length. In this way, after washing the inside of the main pipe 20 'and the inside of the branch pipe 25' with water, and in the same manner as described above, the mixed liquid adjusted to the desired concentration is discharged from the liquid supply mechanism 40 'to the main pipe 20. '), And the mixed liquid adjusted to the desired concentration is filled into the branch pipe 25'. After the above preparatory process is completed, the wafer W is processed using the mixed liquid of different concentration.

여기서 설명한 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내를 상이한 혼합액으로 치환하는 방법의 구체예는 예시에 지나지 않고, 여러가지 변경이 가능하다. 예컨대, 주개폐 밸브(22') 및 분기관용 개폐 밸브(27')를 개방 및 폐쇄하는 타이밍은, 전술한 예에 한정되지 않는다. 따라서, 주배관(20') 내에 잔류하는 혼합액과, 분기관(25') 내에 잔류하는 혼합액을 병행하여 물로 치환하도록 해도 좋다. 또한, 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내에 잔류하는 혼합액을 우선 물로 치환하고, 그 후, 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내에 다음에 이용되어야 할 혼합액을 충전함으로써, 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내를 상이한 혼합액으로 치환하도록 한 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 주배관(20') 내 및 분기관(25') 내에 잔류하는 혼합액을, 다음에 이용되어야 할 혼합액으로 직접 치환하도록 해도 좋다.Specific examples of the method of replacing the inside of the main pipe 20 'and the inside of the branch pipe 25' with different mixed liquids are merely examples, and various modifications are possible. For example, the timing of opening and closing the main opening / closing valve 22 'and the branch opening / closing valve 27' is not limited to the above-mentioned example. Therefore, the mixed liquid remaining in the main pipe 20 'and the mixed liquid remaining in the branch pipe 25' may be replaced with water in parallel. Further, the mixed liquid remaining in the main pipe 20 'and in the branch pipe 25' is first replaced with water, and then the mixed liquid to be used next is filled in the main pipe 20 'and the branch pipe 25'. Although the example which replaced the inside of the main pipe 20 'and the inside of the branch pipe 25' with the different liquid mixture was shown, it is not limited to this. The mixed liquid remaining in the main pipe 20 'and in the branch pipe 25' may be directly replaced with the mixed liquid to be used next.

이상과 같은 본 실시형태에 의하면, 액공급 기구(40')는, 조절된 혼합비로 제1 액과 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 다수의 처리 유닛(50')에 대하여 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 주개폐 밸브(22')에 의해 타측에서 폐쇄된 주배관(20') 내에 일측으로부터 보내주도록 되어 있다. 따라서, 다수의 처리 유닛(50')에 대하여, 단일한 액공급 기구(40')를 이용하여, 혼합액을 안정적으로 공급할 수 있다. 또한, 처리 유닛(50') 내에서 웨이퍼(W)를 처리하고 있는 동안, 각 처리 유닛(50')의 가동 상황에 따라서 요구되는 양의 혼합액만이, 액공급 기구(40')로부터 주배관(20')에 공급되게 된다. 따라서, 혼합액을 대량으로 허비하지 않고 혼합액을 절약할 수 있고, 이에 따라, 피처리체(웨이퍼(W))의 처리 비용을 저감할 수 있다. 또한, 액공급 기구(40')로부터 공급되는 혼합액이 약액인 경우에는, 약액 처리시의 약액의 폐기량을 저감시킬 수 있기 때문에, 환경상의 관점에서도 바람직하다. 또한, 동시에 처리가 행해지고 있는 상이한 처리 유닛(50')에서, 주배관(20')으로부터 공급되는 동일한(예컨대 동일한 농도의) 혼합액을 이용하여 상이한 웨이퍼(W)를 처리할 수 있다. 이에 따라, 웨이퍼(W) 간의 처리의 정도를 균일화시킬 수 있다.According to the present embodiment as described above, the liquid supply mechanism 40 'can simultaneously supply the mixed liquids formed by mixing the first liquid and the second liquid to the plurality of processing units 50' at a controlled mixing ratio. The pressure is sent from one side into the main pipe 20 'closed at the other side by the main opening / closing valve 22'. Therefore, the mixed liquid can be stably supplied to the plurality of processing units 50 'by using a single liquid supply mechanism 40'. In addition, while the wafer W is being processed in the processing unit 50 ', only the amount of the mixed liquid required in accordance with the operating conditions of each processing unit 50' is supplied from the liquid supply mechanism 40 'to the main pipe ( 20 '). Therefore, the mixed liquid can be saved without wasting a large amount of the mixed liquid, whereby the processing cost of the target object (wafer W) can be reduced. Moreover, when the mixed liquid supplied from the liquid supply mechanism 40 'is a chemical liquid, since the waste amount of the chemical liquid at the time of chemical liquid processing can be reduced, it is preferable also from an environmental viewpoint. In addition, different wafers W can be processed using the same (eg, the same concentration) mixed liquid supplied from the main pipe 20 'in different processing units 50' that are being processed at the same time. As a result, the degree of processing between the wafers W can be made uniform.

또한, 본 실시형태에 의하면, 레귤레이터(42t')의 제어에 의해 질소 가스원(42k')으로부터의 가압력이 제어됨으로써, 제2 액의 제2 액탱크(42a')로부터의 송출 유량이 제어되는 한편, 유량 조정 밸브(42d')의 제어에 의해, 상기 유량 조정 밸브(42d')의 통과 유량이 제어됨으로써, 보다 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다. 더 구체적으로는, 예컨대, 레귤레이터(42t')의 제어에 의해 송출 유량을 1∼1.5배로 제어할 수 있다면[1배=레귤레이터(42t')가 설치되지 않은 상태], 유량 조정 밸브(42d')만의 제어의 경우와 비교해서, 1.5배만큼 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.In addition, according to the present embodiment, the pressurization pressure from the nitrogen gas source 42k 'is controlled by the control of the regulator 42t', so that the flow rate of delivery of the second liquid from the second liquid tank 42a 'is controlled. On the other hand, by controlling the flow regulating valve 42d ', the flow rate of the flow regulating valve 42d' is controlled, whereby a wider mixing ratio can be realized. More specifically, for example, if the discharge flow rate can be controlled to 1 to 1.5 times by the control of the regulator 42t '(1 times = state in which the regulator 42t' is not installed), the flow rate adjusting valve 42d ' Compared to the case of full control, a wider mixing ratio can be realized by 1.5 times.

여기서, 유량 조정 밸브(42d')와 레귤레이터(42t')의 연동 제어에 관해 더 설명한다. 구체적으로는, 설정된 농도, 유량, 처리 시간과 같은 정보에 기초하여, 처리 유닛(50')의 가동 상황에 따라서, 제어 장치(제어부)(12')가 유량 조정 밸브(42d')와 레귤레이터(42t')를 연동하도록 제어하는데, 이하에 수치예에 관해 설명한다.Here, interlocking control of the flow regulating valve 42d 'and the regulator 42t' is further demonstrated. Specifically, based on the information such as the set concentration, flow rate, and processing time, the control device (control unit) 12 'is adapted to adjust the flow rate adjustment valve 42d' and the regulator according to the operating situation of the processing unit 50 '. 42t ') is controlled to work together, but the numerical example is explained below.

우선, 처리 유닛(50')의 총수가 20'개인 기판 처리 장치에서, 약액과 순수의 혼합비를 1:100(약액:순수)으로 하고, 순수의 공급량을 1 L/min으로 한다.First, in the substrate processing apparatus having a total number of processing units 50 ', the mixing ratio of the chemical liquid and the pure water is 1: 100 (chemical liquid: pure water), and the supply amount of the pure water is 1 L / min.

처리가 중복되는(동시에 처리를 행하는) 처리 유닛의 수가 1개인 경우, 약액(제2 액)의 유량은 10 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개인 경우, 약액의 유량은 20 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 최대 10개인 경우, 약액의 유량은 최대 100 cc/min로 제어되어야 한다. 즉, 요구되는 유량 제어의 범위는 10∼100 cc/min이다. 한편, 유량 조정 밸브(42d')의 유량 제어 범위는, 여기서는 10∼100 cc/min으로 되어 있다. 따라서, 이 경우, 상기 10∼100 cc/min의 유량 제어 범위에 관해서는, 유량 조정 밸브(42d')에 의해서만 제어된다.When the number of processing units in which the processing is duplicated (simultaneously processing) is one, the flow rate of the chemical liquid (second liquid) should be controlled to 10 cc / min. In the case of two treatment units having overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled to 20 cc / min. If the number of treatment units has overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at a maximum of 100 cc / min. That is, the range of the required flow control is 10 to 100 cc / min. In addition, the flow volume control range of the flow regulating valve 42d 'is 10-100 cc / min here. In this case, therefore, the flow rate control range of 10 to 100 cc / min is controlled only by the flow rate adjustment valve 42d '.

여기서, 기판의 막종류에 따라서, Lot마다 약액과 순수의 혼합비가 변경되는 경우가 있을 수 있다. 예컨대, 약액과 순수의 혼합비가 1:200(약액:순수)으로 변경되는 경우에 관해 설명한다.Here, the mixing ratio of the chemical liquid and the pure water may change depending on the film type of the substrate. For example, the case where the mixing ratio of the chemical liquid and the pure water is changed to 1: 200 (chemical liquid: pure water) will be described.

이 경우, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 1개인 경우, 약액의 유량은 5.0 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개인 경우, 약액의 유량은 10 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 최대 10개인 경우, 약액의 유량은 최대 50 cc/min로 제어되어야 한다. 즉, 요구되는 유량 제어의 범위는 5.0∼50 cc/min이다.In this case, when the number of processing units in which the processing is overlapped is one, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at 5.0 cc / min. In the case of two treatment units having overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled to 10 cc / min. If the number of treatment units has overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at a maximum of 50 cc / min. That is, the range of the required flow rate control is 5.0 to 50 cc / min.

유량 조정 밸브(42d')에 의해 제어되는 유량 범위(소정 범위)는, 이 경우 10∼50 cc/min에 한정된다. 상기 범위 밖의 5.0∼10 cc/min이라는 유량 범위에 관해서는, 레귤레이터(42t')를 연동 제어하는 것에 의해서만 제어 가능하다. 구체적으로는, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개 이하인 경우에, 레귤레이터(42t')에 의해 제2 액탱크에 대한 가압 가스(질소 가스)의 가압력이 저감된다.The flow rate range (predetermined range) controlled by the flow rate adjustment valve 42d 'is limited to 10 to 50 cc / min in this case. The flow rate range of 5.0 to 10 cc / min outside the above range can be controlled only by interlocking control of the regulator 42t '. Specifically, when the number of processing units in which the processes overlap is two or less, the pressing force of the pressurized gas (nitrogen gas) to the second liquid tank is reduced by the regulator 42t '.

또는, 기판의 막종류에 따라서, Lot마다 순수의 공급량이 변경되는 경우가 있을 수 있다. 예컨대, 순수의 공급량이 2 L/min로 변경되는 경우에 관해 설명한다.Alternatively, the supply amount of pure water may change for each lot depending on the film type of the substrate. For example, the case where the supply amount of pure water is changed to 2 L / min is demonstrated.

이 경우, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 1개인 경우, 약액의 유량은 20 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 2개인 경우, 약액의 유량은 40 cc/min로 제어되어야 한다. 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 최대 10개인 경우, 약액의 유량은 최대 200 cc/min로 제어되어야 한다. 즉, 요구되는 유량 제어의 범위는 20∼200 cc/min이다.In this case, when the number of processing units in which the processing is overlapped is one, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at 20 cc / min. In the case of two treatment units having overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled to 40 cc / min. If the number of treatment units has overlapping treatments, the flow rate of the chemical liquid should be controlled at a maximum of 200 cc / min. That is, the range of the required flow control is 20 to 200 cc / min.

유량 조정 밸브(42d')에 의해 제어되는 유량 범위(소정 범위)는, 이 경우 20∼100 cc/min에 한정된다. 상기 범위 밖의 100∼200 cc/min이라는 유량 범위에 관해서는, 레귤레이터(42t')를 연동 제어하는 것에 의해서만 제어 가능하다. 구체적으로는, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 6개 이상인 경우에, 레귤레이터(42t')에 의해 제2 액탱크에 대한 가압 가스(질소 가스)의 가압력이 증대된다.In this case, the flow rate range (predetermined range) controlled by the flow rate adjustment valve 42d 'is limited to 20 to 100 cc / min. The flow rate range of 100 to 200 cc / min outside the above range can be controlled only by interlocking control of the regulator 42t '. Specifically, when the number of processing units in which the processes overlap is six or more, the pressing force of the pressurized gas (nitrogen gas) to the second liquid tank is increased by the regulator 42t '.

또는, 기판의 막종류에 따라서, Lot마다 처리 시간이 변경되는 경우가 있을 수 있다. 예컨대, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 최대 20개가 되는 경우에 관해 설명한다. 이 경우, 요구되는 유량 제어의 범위는 10∼200 cc/min이 된다.Alternatively, the processing time may be changed for each lot depending on the film type of the substrate. For example, the case where the number of processing units in which the processing is duplicated is at most 20 will be described. In this case, the range of the required flow rate control is 10 to 200 cc / min.

유량 조정 밸브(42d')에 의해 제어되는 유량 범위(소정 범위)는, 이 경우, 10∼100 cc/min에 한정된다. 상기 범위 밖의 100∼200 cc/min이라는 유량 범위에 관해서는, 레귤레이터(42t')를 연동 제어하는 것에 의해서만 제어 가능하다. 구체적으로는, 처리가 중복되는 처리 유닛의 수가 11개 이상인 경우에, 레귤레이터(42t')에 의해 제2 액탱크에 대한 가압 가스(질소 가스)의 가압력이 증대된다.In this case, the flow rate range (predetermined range) controlled by the flow rate adjustment valve 42d 'is limited to 10 to 100 cc / min. The flow rate range of 100 to 200 cc / min outside the above range can be controlled only by interlocking control of the regulator 42t '. Specifically, when the number of processing units in which the processes overlap is 11 or more, the pressing force of the pressurized gas (nitrogen gas) to the second liquid tank is increased by the regulator 42t '.

이상에서는, 혼합비(농도), 순수의 공급 유량, 처리 시간이 각각 단독으로 변경되는 경우에 관해 설명했지만, 이들이 2개 이상 조합되어 변경되었다 하더라도, 바람직한 유량 조정 밸브(42d')와 레귤레이터(42t')의 연동 제어를 실현할 수 있다.In the above, the case where the mixing ratio (concentration), the supply flow rate of pure water, and the processing time are respectively changed was explained. However, even if these are changed in combination of two or more, the preferable flow rate adjustment valve 42d 'and the regulator 42t' are changed. Interlocking control can be realized.

전술한 실시형태에서, 액공급 기구(40')의 구성의 구체예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 전술한 구성과는 상이한 구성에 의해, 액공급 기구(40')가, 제1 액과 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 복수의 처리 유닛(50')의 전부에 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 주개폐 밸브(22')에 의해 폐쇄된 주배관(20')에 공급하도록 구성되어도 좋다.Although the specific example of the structure of the liquid supply mechanism 40 'was shown in embodiment mentioned above, it is not limited to this. By the structure different from the structure mentioned above, the liquid supply mechanism 40 'is made into the pressure which can supply the mixed liquid formed by mixing the 1st liquid and the 2nd liquid to all of the some processing unit 50' simultaneously. It may be configured to supply the main pipe 20 'closed by the main opening / closing valve 22'.

예컨대, 도 10에 나타낸 바와 같이, 유량 조정 밸브(42d')에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구(42e')가 설치되어도 좋다. 도 10의 보조 유량 조정 기구(42e')는, 개폐 밸브(42g')만을 갖는 단순한 배관 경로와 개폐 밸브(42h') 및 오리피스(42i')를 포함하는 경로가, 개폐 밸브(42g') 및 개폐 밸브(42h')의 제어에 의해 전환 가능하게 구성되어 있다. 개폐 밸브(42g') 및 개폐 밸브(42h')는 각각, 유체압 구동에 의해 개폐 동작이 구동될 수 있는 밸브, 예컨대 공기압에 의해 개폐 동작이 구동되는 에어 오퍼레이트 밸브로 구성되어 있다. 한편, 오리피스(42i')는, 1/2∼1/20의 범위 내의 소정비, 예컨대 1/10로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다.For example, as shown in FIG. 10, the auxiliary flow volume adjusting mechanism 42e 'may be provided in series with respect to the flow volume adjusting valve 42d'. The auxiliary flow rate adjustment mechanism 42e 'in FIG. 10 has a simple piping path having only the on-off valve 42g', and a path including the on-off valve 42h 'and the orifice 42i'. It is comprised so that switching is possible by control of the on-off valve 42h '. The opening / closing valve 42g 'and the opening / closing valve 42h' are each composed of a valve capable of driving the opening and closing operation by fluid pressure driving, for example, an air operated valve in which the opening and closing operation is driven by air pressure. On the other hand, the orifice 42i 'is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio, for example, 1/10, in the range of 1/2 to 1/220.

개폐 밸브(42g') 및 개폐 밸브(42h') 각각의 개폐 제어는, 제어 장치(12')가 담당하도록 되어 있다. 이것에 의해, 오리피스(42i)의 통과 유무를 전환할 수 있고, 그 결과 2 레인지의 혼합비를 실현할 수 있도록 되어 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d') 및 레귤레이터(42t')에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 매우 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다. 오리피스(42i')는 저렴한 구성 요소 부재이므로, 광범위한 혼합비를 매우 저비용으로 실현할 수 있다.The control device 12 'is in charge of opening / closing control of each of the open / close valve 42g' and the open / close valve 42h '. As a result, the presence or absence of the orifice 42i can be switched, and as a result, the mixing ratio of the two ranges can be realized (mixing ratio adjustment by the flow regulating valve 42d 'and the regulator 42t' for each range). Can be used]. As a result, a very wide mixing ratio can be realized. Since the orifices 42i 'are inexpensive component members, a wide range of mixing ratios can be realized at very low cost.

도 10의 또 다른 변형예로서, 도 11에 나타낸 바와 같이, 오리피스(42i')는 니들 밸브(42p')에 의해 치환될 수 있다. 이 경우, 니들 밸브(42p')는, 1/2∼1/20의 범위 내의 설정 변경 가능한 소정비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되어 있다. 이 경우, 니들 밸브(42p')의 개방도(통과 유량)도 제어 장치(12')에 의한 연동 제어의 대상으로 함으로써, 더욱 원활하게 원하는 혼합비를 실현할 수 있다. 다만, 니들 밸브(42p')는 오리피스(42i')보다는 고가이므로, 비용면에서는 도 10의 실시형태가 우수하다고도 할 수 있다.As another variation of FIG. 10, as shown in FIG. 11, the orifice 42i ′ may be replaced by a needle valve 42p ′. In this case, the needle valve 42p 'is comprised so that the flow volume of a passage liquid may be adjusted by the predetermined ratio which can be set and changed within the range of 1 / 2-1 / 20. In this case, if the opening degree (pass flow rate) of the needle valve 42p 'is also subjected to the interlocking control by the control device 12', the desired mixing ratio can be realized more smoothly. However, since the needle valve 42p 'is more expensive than the orifice 42i', the embodiment of Fig. 10 can be said to be superior in terms of cost.

또는, 도 12에 나타낸 바와 같이, 도 10에서의 보조 유량 조정 기구(42e')에, 개폐 밸브(42q') 및 제2 오리피스(42r')를 포함하는 배관 경로가 추가로 도입되어도 좋다. 이 경우, 개폐 밸브(42g'), 개폐 밸브(42h') 및 개폐 밸브(42q') 각각의 개폐 제어에 의해, 오리피스(42i') 및 제2 오리피스(42r')의 통과 유무를 전환할 수 있고, 그 결과 3 레인지의 혼합비를 실현할 수 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d') 및 레귤레이터(42t')에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다.Or as shown in FIG. 12, the piping path | route which includes the on-off valve 42q 'and the 2nd orifice 42r' may be introduce | transduced into the auxiliary flow volume adjustment mechanism 42e 'in FIG. In this case, the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g ', the opening / closing valve 42h', and the opening / closing valve 42q 'enables switching of the presence or absence of passage of the orifice 42i' and the second orifice 42r '. As a result, a mixing ratio of three ranges can be realized (mixing ratio adjustment by the flow regulating valve 42d 'and regulator 42t' can be used for each range). As a result, a wider mixing ratio can be realized.

마찬가지로, 도 13에 나타낸 바와 같이, 도 11에서의 보조 유량 조정 기구(42e')에, 개폐 밸브(42q') 및 제2 니들 밸브(42s')를 포함하는 배관 경로가 추가로 도입되어도 좋다. 이 경우, 개폐 밸브(42g'), 개폐 밸브(42h') 및 개폐 밸브(42q') 각각의 개폐 제어에 의해, 니들 밸브(42p') 및 제2 니들 밸브(42s')의 통과 유무를 전환할 수 있고, 그 결과 3 레인지의 혼합비를 실현할 수 있다[각 레인지마다 유량 조정 밸브(42d') 및 레귤레이터(42t')에 의한 혼합비 조정이 이용될 수 있다]. 이에 따라, 더욱 광범위한 혼합비를 실현할 수 있다. Similarly, as shown in FIG. 13, the piping path | route which includes the on-off valve 42q 'and the 2nd needle valve 42s' may be introduce | transduced into the auxiliary flow volume adjustment mechanism 42e' in FIG. In this case, the opening / closing control of each of the opening / closing valve 42g ', the opening / closing valve 42h', and the opening / closing valve 42q 'switches the presence or absence of passage of the needle valve 42p' and the second needle valve 42s'. As a result, a mixing ratio of three ranges can be realized (mixing ratio adjustment by the flow regulating valve 42d 'and regulator 42t' can be used for each range). As a result, a wider mixing ratio can be realized.

또한, 전술한 실시형태에 대하여 여러가지 변경을 가하는 것이 가능하다. 이하, 변형의 일례에 관해 설명한다. In addition, it is possible to make various changes with respect to embodiment mentioned above. Hereinafter, an example of a deformation | transformation is demonstrated.

예컨대, 전술한 실시형태에서, 주배관(20')이 1개의 선형으로 형성되어 있는 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대 도 14에 나타낸 바와 같이, 주배관(20')이, 액공급 기구(40')로부터 떨어져 있는 타측에서, 복수의 관로(21a', 21b')로 나뉘어져 있어도 좋다. 도 14에 나타내는 예에서, 각 관로(21a', 21b')에, 주배관(20')을 액공급 기구(40')에 대하여 타측에서 폐쇄할 수 있는 주개폐 밸브(22')가 설치되어 있다. 그리고, 액공급 기구(40')와 각 주개폐 밸브(22') 사이의 구간에서, 각 관로(21a', 21b')로부터 복수의 분기관(25')이 연장되어 나온다. 도 14에서는, 도시 및 용이한 이해를 위한 편의상, 전술한 린스액용 개폐 밸브(28'), 린스액 공급관(31'), 폐액용 개폐 밸브(29') 및 폐액관(32')이 생략되어 있다. 또한, 도 14에 나타내는 변형예에서의 그 밖의 구성은, 전술한 실시형태와 동일하게 구성될 수 있기 때문에, 여기서는 중복되는 설명은 생략한다.For example, in the above-mentioned embodiment, although the example in which the main pipe 20 'is formed in one linear form was shown, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 14, the main pipe 20 'may be divided into a plurality of conduits 21a' and 21b 'on the other side away from the liquid supply mechanism 40'. In the example shown in FIG. 14, the main opening-closing valve 22 'which can close the main piping 20' with respect to the liquid supply mechanism 40 'is provided in each piping 21a', 21b '. . Then, in the section between the liquid supply mechanism 40 'and the main opening / closing valves 22', the plurality of branch pipes 25 'extend from the respective passages 21a' and 21b '. In FIG. 14, for convenience of illustration and easy understanding, the above-described rinse liquid open / close valve 28 ′, rinse liquid supply pipe 31 ′, waste liquid open / close valve 29 ′, and waste liquid pipe 32 ′ are omitted. have. In addition, since the other structure in the modification shown in FIG. 14 can be comprised similarly to embodiment mentioned above, the overlapping description is abbreviate | omitted here.

또한, 전술한 실시형태에서, 액공급 기구(40')가, 물을 공급하는 제1 액공급관(41b')과, 고농도 약액을 공급하는 제2 액탱크(42a')를 갖는 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 액공급 기구(40')가 2종류 이상의 약액원을 갖도록 해도 좋다.In addition, in the above-mentioned embodiment, although the liquid supply mechanism 40 'showed the example which has the 1st liquid supply pipe 41b' which supplies water, and the 2nd liquid tank 42a 'which supplies a high concentration chemical | medical solution, It is not limited to this. For example, the liquid supply mechanism 40 'may have two or more kinds of chemical liquid sources.

이상에서 전술한 실시형태에 대한 몇개의 변형예를 설명해 왔지만, 복수의 변형예를 적절하게 조합하여 적용하는 것도 당연히 가능하다.Although some modifications to the above-described embodiment have been described above, it is naturally possible to apply a combination of a plurality of modifications as appropriate.

또한, 첫머리에서 설명한 바와 같이, 본 발명을 웨이퍼의 세정 처리 이외의 처리에도 적용할 수 있다.As described at the outset, the present invention can also be applied to processes other than the wafer cleaning process.

10, 10' : 액처리 장치 12, 12' : 제어 장치
13, 13' : 기록 매체 20, 20' : 주배관
21a, 21b, 21a', 21b' : 관로 22, 22' : 주개폐 밸브
25, 25' : 분기관 26a, 26a': 토출 개구
27, 27' : 분기관용 개폐 밸브 40, 40' : 액공급 기구
41a, 41a' : 제1 액원 41b, 41b' : 제1 액공급관
41c, 41c' : 정압 밸브 41d, 41d' : 압축 공기원
41e, 41e' : 레귤레이터 41f, 41f' : 압력 센서
41g, 41g' : 개폐 밸브 41m, 41m' : 유량계
42a : 제2 액원 42a' : 제2 액탱크
42b, 42b' : 제2 액공급관 42d, 42d' : 유량 조정 밸브
42e, 42e' : 보조 유량 조정 기구 42k, 42k' : 질소 가스원
42h, 42h' : 개폐 밸브 42i, 42i' : 오리피스
42m, 42m' : 유량계 42p, 42p' : 니들 밸브
42q, 42q' : 개폐 밸브 42r, 42r' : 제2 오리피스
42s, 42s' : 제2 니들 밸브 42t, 42t' : 레귤레이터
42u, 42u' : 압력 센서 43, 43' : 혼합기
50, 50' : 처리 유닛 52, 52' : 유지 기구
54, 54' : 지지 부재10, 10 ': liquid treatment device 12, 12': control device
13, 13 ': recording medium 20, 20': main pipe
21a, 21b, 21a ', 21b': Pipe line 22, 22 ': Main opening and closing valve
25, 25 ': branch pipes 26a, 26a': discharge opening
27, 27 ': branch valve open / close valve 40, 40': liquid supply mechanism
41a, 41a ': first liquid source 41b, 41b': first liquid supply pipe
41c, 41c ': Positive pressure valve 41d, 41d': Compressed air source
41e, 41e ': Regulator 41f, 41f': Pressure sensor
41g, 41g ': On / off valve 41m, 41m': Flow meter
42a: second liquid source 42a ': second liquid tank
42b, 42b ': Second liquid supply pipe 42d, 42d': Flow control valve
42e, 42e ': auxiliary flow adjusting mechanism 42k, 42k': nitrogen gas source
42h, 42h ': on-off valve 42i, 42i': orifice
42m, 42m ': Flow meter 42p, 42p': Needle valve
42q, 42q ': on-off valve 42r, 42r': second orifice
42s, 42s ': second needle valve 42t, 42t': regulator
42u, 42u ': Pressure sensor 43, 43': Mixer
50, 50 ': processing unit 52, 52': holding mechanism
54, 54 ': support member

Claims (31)

주배관;
상기 주배관 상에 마련된 혼합기와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관과, 제2 액원으로부터의 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관을 가지며, 상기 제1 액과 상기 제2 액을 상기 혼합기에서 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관에 일측으로부터 공급하는 액공급 기구;
상기 주배관으로부터 각각 분기되도록 마련된 복수의 분기관; 및
각 분기관에 각각 대응하여 마련된 복수의 처리 유닛으로서, 대응하는 분기관을 통해 공급되는 혼합액을 이용하여 피처리체를 처리하도록 구성된 복수의 처리 유닛
을 포함하며,
상기 제2 액공급관에는, 정해진 범위로 유량을 조정할 수 있는 유량 조정 밸브가 설치되어 있고, 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구가 설치되어 있으며,
원하는 제2 액의 유량에 기초하여, 상기 유량 조정 밸브와 상기 보조 유량 조정 기구를 연동하여 제어하는 제어부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.Main piping;
A mixer provided on the main pipe, a first liquid supply pipe for supplying a first liquid from a first liquid source to the mixer, and a second liquid supply pipe for supplying a second liquid from a second liquid source to the mixer; A liquid supply mechanism for supplying a mixed liquid obtained by mixing a first liquid and the second liquid in the mixer to the main pipe from one side;
A plurality of branch pipes each branched from the main pipe; And
A plurality of processing units provided in correspondence with each branch pipe, respectively, A plurality of processing units configured to process the object to be processed using the mixed liquid supplied through the corresponding branch pipe
Including;
The second liquid supply pipe is provided with a flow rate adjustment valve capable of adjusting the flow rate in a predetermined range, and an auxiliary flow rate adjustment mechanism is provided in series with the flow rate adjustment valve.
And a control unit for controlling the flow rate adjusting valve and the auxiliary flow rate adjusting mechanism in association with each other based on the desired flow rate of the second liquid. 제1항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 오리피스를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid treatment apparatus according to claim 1, wherein the auxiliary flow rate adjustment mechanism includes a switchable path having an orifice. 제2항에 있어서, 상기 오리피스는, 상기 유량 조정 밸브의 조정 가능한 통과 유량의 1/2∼1/20의 범위 내의 정해진 비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid treatment apparatus according to claim 2, wherein the orifice is configured to adjust the flow rate of the passage liquid at a predetermined ratio within a range of 1/2 to 1/20 of the adjustable passage flow rate of the flow regulating valve. 제1항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 니들 밸브를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the auxiliary flow rate adjusting mechanism comprises a switchable path including a needle valve. 제4항에 있어서, 상기 니들 밸브는, 상기 유량 조정 밸브의 조정 가능한 통과 유량의 1/2∼1/20의 범위 내의 설정 변경 가능한 정해진 비로 통과 액체의 유량을 조절하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid according to claim 4, wherein the needle valve is configured to adjust the flow rate of the passing liquid at a predetermined ratio which can be set and changed within a range of 1/2 to 1/20 of the adjustable flow rate of the flow regulating valve. Processing unit. 제1항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a plurality of flow rate adjusting elements which are provided in parallel with each other and are selectively switched and used. 제6항에 있어서, 각 유량 조정 요소는, 니들 밸브 또는 오리피스를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid treatment apparatus according to claim 6, wherein each of the flow regulating elements comprises a needle valve or an orifice. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 액공급관에는, 상기 제2 액원이 미리 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid treatment apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the second liquid source is connected to the second liquid supply pipe in advance. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액공급 기구는, 상기 제1 액과 상기 제2 액을 혼합하여 이루어진 상기 혼합액을, 상기 복수의 처리 유닛 전부에 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 상기 주배관의 일측으로부터 공급할 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The said liquid supply mechanism is a pressure in any one of Claims 1-7 which can supply the said mixed liquid formed by mixing the said 1st liquid and the said 2nd liquid to all the said several processing units simultaneously. , The liquid processing apparatus, characterized in that configured to be able to supply from one side of the main pipe. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액공급 기구는, 적어도 피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛에 상기 제1 액을 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 상기 주배관에 상기 제1 액을 공급하도록 구성되고, 피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛의 수에 따른 양의 상기 제2 액을, 상기 주배관에 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid supply mechanism according to any one of claims 1 to 7, wherein the liquid supply mechanism supplies the first liquid to the main pipe at a pressure capable of simultaneously supplying the first liquid to at least the processing unit that is processing the target object. And supplying the second liquid in an amount corresponding to the number of processing units processing the object to be treated, to the main pipe. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리 유닛에서 피처리체의 처리가 시작되기 전에, 상기 혼합액이 상기 주배관 및 상기 분기관에 충전되도록 되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid treatment apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the mixed liquid is filled in the main pipe and the branch pipe before the processing of the target object in the processing unit is started. 별개의 처리 유닛에 각각 통해 있는 복수의 분기관이 연장되어 나가는 주배관 내에, 제1 액공급관으로부터 공급되는 제1 액과 제2 액공급관으로부터 유량 조정 밸브와 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 접속된 보조 유량 조정 기구를 통해 공급되는 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관의 일측으로부터 충전하는 혼합 충전 공정; 및
상기 주배관 내의 혼합액이 각 분기관을 통해 각 처리 유닛에 공급되고, 상기 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛 내에서 피처리체의 처리가 실시되는 처리 공정
을 포함하며,
상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 유량 조정 밸브에 더하여 상기 보조 유량 조정 기구도 연동하여 제어되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.In a main pipe through which a plurality of branch pipes respectively extending through separate processing units extend, connected in series to the flow regulating valve and the flow regulating valve from the first liquid supplied from the first liquid supply pipe and the second liquid supply pipe. A mixed filling step of filling the mixed liquid formed by mixing the second liquid supplied through the auxiliary flow rate adjusting mechanism from one side of the main pipe; And
A processing step in which the mixed liquid in the main pipe is supplied to each processing unit through each branch pipe, and the processing target object is performed in each processing unit using the mixed liquid.
Including;
In the mixed filling step, in order to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid, the auxiliary flow regulating mechanism is also controlled in conjunction with the flow regulating valve. 제12항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하고,
상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 보조 유량 조정 기구의 복수의 유량 조정 요소 중의 어느 것을 이용할 것인지가 전환 제어되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.The auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a plurality of flow rate adjusting elements which are provided in parallel with each other and are selectively switched and used.
In the mixed filling step, the liquid treatment method is controlled to switch which one of a plurality of flow rate adjusting elements of the auxiliary flow rate adjusting mechanism is used to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 주배관으로부터 공급되는 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛 내에서 처리가 행해지고 있는 동안, 적어도 피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛에 상기 제1 액을 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 상기 주배관에 상기 제1 액이 공급되고,
피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛의 수에 따른 양의 상기 제2 액이, 상기 주배관에 공급되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법. The pressure according to claim 12 or 13, wherein at least the first liquid can be supplied simultaneously to the processing unit that is processing the target object while the processing is performed in each processing unit using the mixed liquid supplied from the main pipe. Thus, the first liquid is supplied to the main pipe,
And the second liquid in an amount corresponding to the number of processing units processing the object to be processed is supplied to the main pipe. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 주배관에 혼합액을 충전할 때, 상기 분기관에도 혼합액이 충전되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.The liquid treatment method according to claim 12 or 13, wherein when the mixed liquid is filled into the main pipe, the mixed liquid is also filled into the branch pipe. 액처리 장치를 제어하는 제어 장치에 의해 실행되는 프로그램이 기록된 기록 매체로서,
상기 프로그램이 상기 제어 장치에 의해 실행됨으로써, 제12항 또는 제13항에 기재된 액처리 방법을 액처리 장치에 실시시키는 것인 기록 매체.A recording medium on which a program executed by a control device for controlling a liquid processing apparatus is recorded,
A recording medium according to claim 12, wherein the liquid processing apparatus according to claim 12 or 13 is executed by executing the program by the control apparatus. 주배관;
상기 주배관 상에 마련된 혼합기와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관과, 제2 액을 수용하는 제2 액탱크와, 상기 제2 액탱크에 대하여 가압 가스를 공급하기 위한 가스원 및 압력 제어부와, 상기 가압 가스에 의해 가압된 상태의 상기 제2 액탱크 내의 제2 액을 상기 제2 액탱크로부터 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관을 가지며, 상기 제1 액과 상기 제2 액을 상기 혼합기에서 원하는 혼합비로 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관에 일측으로부터 공급하는 액공급 기구;
상기 주배관으로부터 각각 분기되도록 마련된 복수의 분기관; 및
각 분기관에 각각 대응하여 마련된 복수의 처리 유닛으로서, 대응하는 분기관을 통해 공급되는 혼합액을 이용하여 피처리체를 처리하도록 구성된 복수의 처리 유닛
을 포함하며,
상기 제2 액공급관에는, 정해진 범위로 유량을 조정할 수 있는 유량 조정 밸브가 설치되어 있고,
원하는 제2 액의 유량에 기초하여, 상기 유량 조정 밸브와 상기 압력 제어부를 연동하여 제어하는 제어부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.Main piping;
A mixer provided on the main pipe, a first liquid supply pipe for supplying a first liquid from a first liquid source to the mixer, a second liquid tank for accommodating a second liquid, and pressurized gas to the second liquid tank And a second liquid supply pipe for supplying a second liquid in the second liquid tank in a state pressurized by the pressurized gas to the mixer from the second liquid tank, for supplying a gas source and a pressure control unit. A liquid supply mechanism for supplying a mixed liquid formed by mixing the liquid and the second liquid at a desired mixing ratio in the mixer to the main pipe from one side;
A plurality of branch pipes each branched from the main pipe; And
A plurality of processing units provided in correspondence with each branch pipe, respectively, A plurality of processing units configured to process the object to be processed using the mixed liquid supplied through the corresponding branch pipe
Including;
The second liquid supply pipe is provided with a flow rate control valve capable of adjusting the flow rate in a predetermined range,
A control unit for controlling the flow rate adjusting valve and the pressure control unit in accordance with the desired flow rate of the second liquid is provided. 제17항에 있어서, 주배관 상에 마련된 유량계를 더 포함하고,
상기 원하는 제2 액의 유량은, 제어부에서, 상기 유량계에 의한 유량 정보와, 상기 원하는 혼합비와, 상기 복수의 처리 유닛에서의 혼합액의 유량에 기초하여 산출되도록 되어 있고,
산출된 상기 원하는 제2 액의 유량이 상기 정해진 범위 내이면, 상기 유량 조정 밸브만이 제어되고, 상기 정해진 범위 밖이면, 상기 압력 제어부가 연동하여 제어되도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.18. The method of claim 17, further comprising a flow meter provided on the main pipe,
The flow rate of the desired second liquid is calculated by the control unit based on the flow rate information by the flow meter, the desired mixing ratio, and the flow rate of the mixed liquid in the plurality of processing units,
If the calculated flow rate of the desired second liquid is within the predetermined range, only the flow rate regulating valve is controlled, and if it is outside the predetermined range, the pressure control unit is configured to be controlled in cooperation with each other. 제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구가 설치되어 있고,
상기 제어부는, 상기 유량 조정 밸브와 상기 압력 제어부와 상기 보조 유량 조정 기구를 연동하여 제어하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The auxiliary flow rate adjusting mechanism according to claim 17 or 18, which is provided in series with the flow rate adjusting valve.
And the control unit is configured to control the flow rate adjusting valve, the pressure control unit, and the auxiliary flow rate adjusting mechanism in conjunction with each other. 제19항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 오리피스를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid processing apparatus according to claim 19, wherein the auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a switchable path having an orifice. 제19항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 니들 밸브를 구비하는 경로를 전환 가능하게 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid treatment apparatus according to claim 19, wherein the auxiliary flow rate adjustment mechanism includes a switchable path including a needle valve. 제19항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.20. The liquid processing apparatus according to claim 19, wherein the auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a plurality of flow rate adjusting elements which are provided in parallel with each other and are selectively switched and used. 제22항에 있어서, 각 유량 조정 요소는, 니들 밸브 또는 오리피스를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid treatment apparatus according to claim 22, wherein each of the flow regulating elements comprises a needle valve or an orifice. 제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 액공급 기구는, 적어도 피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛에 상기 제1 액을 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 상기 주배관에 상기 제1 액을 공급하도록 구성되고, 피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛의 수에 따른 양의 상기 제2 액을, 상기 주배관에 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid supply mechanism according to claim 17 or 18, wherein the liquid supply mechanism is configured to supply the first liquid to the main pipe at a pressure capable of simultaneously supplying the first liquid to at least a processing unit that is processing a target object. And supplying the second liquid in an amount corresponding to the number of processing units processing the object to be treated to the main pipe. 제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 처리 유닛에서 피처리체의 처리가 시작되기 전에, 상기 혼합액이 상기 주배관 및 상기 분기관에 충전되도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.The liquid processing apparatus according to claim 17 or 18, wherein the mixed liquid is filled in the main pipe and the branch pipe before the processing of the object to be processed in the processing unit begins. 별개의 처리 유닛에 각각 통해 있는 복수의 분기관이 연장되어 나가는 주배관 내에, 제1 액원으로부터 공급되는 제1 액과, 압력 제어부를 통해 제어되는 가압 가스의 압력에 따라서 가압된 상태로 제2 액탱크로부터 유량 조정 밸브를 통해 공급되는 제2 액을 혼합하여 이루어진 혼합액을, 상기 주배관의 일측으로부터 충전하는 혼합 충전 공정; 및
상기 주배관 내의 혼합액이 각 분기관을 통해 각 처리 유닛에 공급되고, 상기 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛 내에서 피처리체의 처리가 실시되는 처리 공정
을 포함하며,
상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 유량 조정 밸브에 더하여 상기 압력 제어부도 연동하여 제어되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.The second liquid tank in the pressurized state in accordance with the pressure of the first liquid supplied from the first liquid source and the pressurized gas controlled by the pressure control unit in the main pipe through which the plurality of branch pipes respectively extending through the separate processing units extend. A mixed filling step of filling the mixed liquid formed by mixing the second liquid supplied through the flow regulating valve from one side of the main pipe; And
A processing step in which the mixed liquid in the main pipe is supplied to each processing unit through each branch pipe, and the processing target object is performed in each processing unit using the mixed liquid.
Including;
In the mixed filling step, in order to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid, the pressure control unit in addition to the flow rate control valve is controlled in conjunction with the liquid treatment method. 제26항에 있어서, 상기 유량 조정 밸브에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구가 설치되어 있고,
상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 유량 조정 밸브에 더하여 상기 압력 제어부와 상기 보조 유량 조정 기구가 연동하여 제어되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.The auxiliary flow rate adjusting mechanism is provided in series with the flow rate adjusting valve.
In the mixed filling step, in order to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid, the pressure control unit and the auxiliary flow rate adjusting mechanism are controlled in conjunction with the flow rate adjusting valve. 제27항에 있어서, 상기 보조 유량 조정 기구는, 서로 병렬로 설치되어 선택적으로 전환 이용되는 복수의 유량 조정 요소를 포함하고,
상기 혼합 충전 공정에서, 상기 혼합액의 원하는 혼합비를 얻기 위해, 상기 보조 유량 조정 기구의 복수의 유량 조정 요소 중의 어느 것을 이용할 것인지가 전환 제어되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.28. The flow regulating apparatus of claim 27, wherein the auxiliary flow rate adjusting mechanism includes a plurality of flow rate adjusting elements which are provided in parallel with each other and are selectively switched and used.
In the mixed filling step, the liquid treatment method is controlled to switch which one of a plurality of flow rate adjusting elements of the auxiliary flow rate adjusting mechanism is used to obtain a desired mixing ratio of the mixed liquid. 제27항 또는 제28항에 있어서, 상기 주배관으로부터 공급되는 혼합액을 이용하여 각 처리 유닛 내에서 처리가 행해지고 있는 동안, 적어도 피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛에 상기 제1 액을 동시에 공급할 수 있는 압력으로, 상기 주배관에 상기 제1 액이 공급되고,
피처리체를 처리하고 있는 처리 유닛의 수에 따른 양의 상기 제2 액이, 상기 주배관에 공급되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.The pressure according to claim 27 or 28, wherein at least the first liquid can be supplied simultaneously to the processing unit that is processing the target object while the processing is performed in each processing unit using the mixed liquid supplied from the main pipe. Thus, the first liquid is supplied to the main pipe,
And the second liquid in an amount corresponding to the number of processing units processing the object to be processed is supplied to the main pipe. 제27항 또는 제28항에 있어서, 상기 주배관에 혼합액을 충전할 때, 상기 분기관에도 혼합액이 충전되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.The liquid treatment method according to claim 27 or 28, wherein, when the mixed liquid is filled into the main pipe, the mixed liquid is also filled into the branch pipe. 액처리 장치를 제어하는 제어 장치에 의해 실행되는 프로그램이 기록된 기록 매체로서,
상기 프로그램이 상기 제어 장치에 의해 실행됨으로써, 제26항 내지 제28항 중 어느 한 항에 기재된 액처리 방법을 액처리 장치에 실시시키는 것인 기록 매체.A recording medium on which a program executed by a control device for controlling a liquid processing apparatus is recorded,
The recording medium which executes the liquid processing method in any one of Claims 26-28 by executing the said program by the said control apparatus.
KR1020100133375A 2010-02-24 2010-12-23 Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium KR101705375B1 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-039059 2010-02-24
JP2010039059A JP2011176118A (en) 2010-02-24 2010-02-24 Liquid treatment apparatus, liquid treatment method, program, and program recording medium
JPJP-P-2010-039127 2010-02-24
JP2010039127A JP2011176125A (en) 2010-02-24 2010-02-24 Liquid treatment apparatus, liquid treatment method, program, and program recording medium

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110097607A true KR20110097607A (en) 2011-08-31
KR101705375B1 KR101705375B1 (en) 2017-02-09

Family

ID=44932588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100133375A KR101705375B1 (en) 2010-02-24 2010-12-23 Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101705375B1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06204201A (en) 1992-09-25 1994-07-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processor
JPH1167710A (en) * 1997-08-15 1999-03-09 Sony Corp Wafer cleaning device
JPH11226527A (en) * 1998-02-18 1999-08-24 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd Multistage flow rate type cleaning method and multistage flow rate type cleaning apparatus
JPH11281461A (en) * 1998-03-27 1999-10-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Liquid weighing instrument, liquid weighing method, and substrate treating device
JP2007329328A (en) * 2006-06-08 2007-12-20 Tokyo Electron Ltd Device and method for processing substrate, and recording medium

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06204201A (en) 1992-09-25 1994-07-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processor
JPH1167710A (en) * 1997-08-15 1999-03-09 Sony Corp Wafer cleaning device
JPH11226527A (en) * 1998-02-18 1999-08-24 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd Multistage flow rate type cleaning method and multistage flow rate type cleaning apparatus
JPH11281461A (en) * 1998-03-27 1999-10-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Liquid weighing instrument, liquid weighing method, and substrate treating device
JP2007329328A (en) * 2006-06-08 2007-12-20 Tokyo Electron Ltd Device and method for processing substrate, and recording medium

Also Published As

Publication number Publication date
KR101705375B1 (en) 2017-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5043696B2 (en) Processing liquid mixing apparatus, substrate processing apparatus, processing liquid mixing method, and storage medium
US8950414B2 (en) Liquid processing apparatus, liquid processing method, and storage medium
CN110197803B (en) Substrate liquid processing apparatus and substrate liquid processing method
JP2009172459A5 (en)
US5690151A (en) Dual channel bag filling machine with a clean-in-place system that cleans one channel while the other continues to fill bags
KR101385412B1 (en) Apparatus and method for generating gas-liquid mixed fluid, and processing apparatus and processing method
KR20110013239A (en) Liquid processing apparatus, liquid processing method, and recording medium having program stored therein
TW202138128A (en) On-demand in-line-blending and supply of chemicals
CN103047539A (en) Chemical liquor supply system
JP2011176118A (en) Liquid treatment apparatus, liquid treatment method, program, and program recording medium
US6325359B1 (en) Device and method for producing gas solution and cleaning device
KR20110097607A (en) Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium
JP2011187891A (en) Liquid processing apparatus, liquid processing method, program, and program recording medium
JP2011176125A (en) Liquid treatment apparatus, liquid treatment method, program, and program recording medium
US20080041488A1 (en) Fluid dispensing system for semiconductor manufacturing processes with self-cleaning dispense valve
JP6698921B1 (en) Polishing liquid supply device
JPH11114474A (en) Substrate treatment apparatus
JP4413834B2 (en) Liquid supply apparatus and method
KR100394194B1 (en) automatic supply apparatus for chemical solution and control method thereof
CN211159321U (en) High-throughput direct writing equipment and liquid phase method preparation system
JPH11161343A (en) Device for preparing chemicals
JP5260260B2 (en) Piping system
JPH1167711A (en) Substrate processing apparatus
JP2007330949A (en) Mixture coating feeder
JP3364379B2 (en) Substrate processing equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant