KR20110075358A - Test circuit of a semiconductor memory apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 집적 회로에 관한 것으로서, 특히 반도체 메모리 장치의 테스트 회로에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor integrated circuits, and more particularly to test circuits for semiconductor memory devices.
일반적으로 반도체 메모리 장치는 트랜지스터를 이용하여 구현된다.In general, a semiconductor memory device is implemented using a transistor.
트랜지스터는 P.V.T(process, voltage, temperature) 변화에 특성이 변하는 특징을 가지며, 이러한 트랜지스터로 구현되는 반도체 메모리 장치 또한 P.V.T 변화에 따라 특성이 변하게 된다.The transistor has a characteristic in which a characteristic changes with a P.V.T (process, voltage, temperature) change, and a semiconductor memory device implemented with such a transistor also changes in accordance with the P.V.T change.
반도체 메모리 장치의 안정적인 동작을 보장하기 위해서, 반도체 메모리 장치는 수많은 테스트를 받게 된다. In order to ensure stable operation of the semiconductor memory device, the semiconductor memory device is subjected to numerous tests.
반도체 메모리 장치가 거쳐야 할 수 많은 테스트중 웨이퍼 상태에서 P.V.T 변화에 따른 트랜지스터의 특성 변화를 모니터링하는 테스트를 먼저 수행함으로써, 반도체 메모리 장치의 불량 유무를 판단하고 다음 단계의 테스트를 수행하게 하여 반도체 메모리 장치의 테스트 시간을 줄일 수 있다.Of the many tests that a semiconductor memory device must undergo, a test that first monitors the characteristics of transistors according to PVT changes in a wafer state is performed first to determine whether there is a defect in the semiconductor memory device and to perform the next test. Reduce test time.
웨이퍼 상태에서 P.V.T 변화에 따른 트랜지스터의 특성 변화를 모니터링할 수 있는 테스트 회로에 대한 요구가 증대되고 있다.There is an increasing demand for test circuits that can monitor transistor characteristic changes with P.V.T changes in wafer conditions.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, P.V.T(process, voltage, temperature) 변화에 따른 트랜지스터의 특성 변화를 모니터링할 수 있는 반도체 메모리 장치의 테스트 회로를 제공한다.The present invention has been made to solve the above-described problem, and provides a test circuit of a semiconductor memory device capable of monitoring a characteristic change of a transistor according to a change in P.V.T (process, voltage, temperature).
본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 테스트 회로는 오실레이터 테스트 신호, 풀업 테스트 신호, 풀다운 테스트 신호, 및 클럭에 응답하여 제 1 테스트 입력 신호 및 제 2 테스트 입력 신호를 생성하는 테스트 입력 신호 생성부, 제 1 테스트 선택 신호에 응답하여 테스트 전압을 피모스 제어 신호의 전압으로서 출력하거나 상기 제 1 테스트 입력 신호를 반전시켜 상기 피모스 제어 신호로서 출력하고, 제 2 테스트 선택 신호에 응답하여 상기 테스트 전압을 엔모스 제어 신호의 전압으로서 출력하거나 상기 제 2 테스트 입력 신호를 반전시켜 상기 엔모스 제어 신호로서 출력하는 테스트 제어 신호 생성부, 및 상기 피모스 제어 신호에 응답하여 패드에 연결된 출력 노드의 전압을 풀업시키고, 상기 엔모스 제어 신호에 응답하여 상기 출력 노드의 전압을 풀다운 시키도록 구성된 테스트 드라이버를 포함한다.The test circuit of the semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention may include a test input signal generator configured to generate a first test input signal and a second test input signal in response to an oscillator test signal, a pull-up test signal, a pull-down test signal, and a clock. Outputting a test voltage as a voltage of a PMOS control signal in response to a first test selection signal or inverting the first test input signal to output as a PMOS control signal, and in response to a second test selection signal, the test voltage Outputs the voltage as the NMOS control signal or inverts the second test input signal to output the NMOS control signal, and a voltage of an output node connected to the pad in response to the PMOS control signal. The output node in response to the NMOS control signal And a test driver configured to pull-down the voltage.
본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 테스트 회로는 P.V.T 변화에 따른 트랜지스터의 특성 변화를 모니터링할 수 있어, 반도체 메모리 장치의 테스트 기간을 줄일 수 있는 효과가 있다.The test circuit of the semiconductor memory device according to the present invention can monitor the characteristic change of the transistor according to the change of P.V.T, thereby reducing the test period of the semiconductor memory device.
본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 테스트 회로는 도 1에 도시된 바와 같이, 테스트 입력 신호 생성부(100), 테스트 제어 신호 생성부(200), 및 테스트 드라이버(300)를 포함한다.As illustrated in FIG. 1, a test circuit of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes a test
상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 오실레이터 테스트 신호(T_ROD), 풀업 테스트 신호(T_PUON), 및 풀다운 테스트 신호(T_PDON)에 응답하여 클럭(CLK)을 제 1 테스트 입력 신호(T_in1) 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)로서 출력한다. 또한, 상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 상기 풀업 테스트 신호(T_PUON) 및 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)에 응답하여 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 생성하고, 상기 풀다운 테스트 신호(T_PDON) 및 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)에 응답하여 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 각각 생성한다.The test
상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 제 1 입력 신호 생성부(110), 및 제 2 입력 신호 생성부(120)를 포함한다.The test
상기 제 1 입력 신호 생성부(110)는 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD), 및 상기 풀업 테스트 신호(T_PUON)가 모두 인에이블되면 상기 클럭(CLK)을 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)로서 출력하고, 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)가 디스에이블되고 상기 풀업 테스트 신호(T_PUON)가 인에이블되면 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 디스에이블시키며, 상기 풀업 테스트 신호(T_PUON)가 디스에이블되면 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)와는 무관하게 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 인에이블시킨다.The first
상기 제 1 입력 신호 생성부(110)는 제 1 및 제 2 낸드 게이트(ND11, ND12)를 포함한다. 상기 제 1 낸드 게이트(ND11)는 상기 클럭(CLK)과 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)를 입력 받는다. 상기 제 2 낸드 게이트(ND12)는 상기 제 1 낸드 게이트(ND11)의 출력 신호와 상기 풀업 테스트 신호(T_PUON)를 입력 받아 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 출력한다.The first
상기 제 2 입력 신호 생성부(120)는 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD) 및 상기 풀다운 테스트 신호(T_PDON)가 모두 인에이블되면 상기 클럭(CLK)을 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)로서 출력하고, 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)가 디스에이블되고 상기 풀다운 테스트 신호(T_PDON)가 인에이블되면 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 디스에이블시키며, 상기 풀다운 테스트 신호(T_PDON)가 디스에이블되면 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)와는 무관하게 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 인에이블시킨다.The second
상기 제 2 입력 신호 생성부(120)는 제 1 및 제 2 노어 게이트(NOR11, NOR12)를 포함한다. 상기 제 1 노어 게이트(NOR11)는 상기 클럭(CLK)과 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)의 반전 신호(T_RODB)를 입력 받는다. 상기 제 2 노어 게이트(NOR12)는 상기 제 1 노어 게이트(NOR11)의 출력 신호와 상기 풀다운 테스트 신호(T_PDON)를 입력 받아 상기 테스트 입력 신호(T_in2)를 출력한다.The second
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)는 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)에 응답하여 테스트 전압(V_test)을 피모스 제어 신호(P_ctrl)의 전압으로서 출력하거나 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 반전시켜 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)로서 출력하고, 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)에 응답하여 상기 테스트 전압(V_test)을 엔모스 제어 신호(N_ctrl)의 전압으로서 출력하거나 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 반전시켜 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.The test
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)는 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)가 인에이블되면 상기 테스트 전압(V_test)을 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)의 전압으로서 출력하고, 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)가 디스에이블되면 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 반전시켜 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)로서 출력한다. The test
또한, 상기 테스트 제어 신호 생성부(200)는 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)가 인에이블되면 상기 테스트 전압(V_test)을 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)의 전압으로서 출력하고, 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)가 디스에이블되면 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 반전시켜 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.In addition, when the second test selection signal T_sel2 is enabled, the test control
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)는 제 1 내지 제 4 스위칭부(210~240)를 포함한다.The test
상기 제 1 스위칭부(210)는 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)가 인에이블되면 상기 테스트 전압(V_test)을 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)의 전압으로서 출력한다.The
상기 제 1 스위칭부(210)는 제 1 패스 게이트(PG11)로 구현되며, 상기 제 1 패스 게이트(PG11)는 제 1 제어단에 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)의 반전 신호(T_sel1B)를 입력 받고 제 2 제어단에 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)를 입력 받으며, 입력단에 상기 테스트 전압(V_test)을 입력받아 출력단에서 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)를 출력하도록 구성된다.The
상기 제 2 스위칭부(220)는 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)가 디스에이블되면 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 반전시켜 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)로서 출력한다.When the first test select signal T_sel1 is disabled, the
상기 제 2 스위칭부(220)는 제 1 제어 인버터(IVC11)로 구현되며, 상기 제 1 제어 인버터(IVC11)는 제 1 제어단에 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)를 입력 받고 제 2 제어단에 상기 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)의 반전 신호(T_sel1B)를 입력 받으며, 입력단에 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 입력 받아 출력단에서 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)를 출력하도록 구성된다.The
상기 제 3 스위칭부(230)는 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel1)가 인에이블되면 상기 테스트 전압(V_test)을 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)의 전압으로서 출력한다.When the second test select signal T_sel1 is enabled, the
상기 제 3 스위칭부(230)는 제 2 패스 게이트(PG12)로 구현되며, 상기 제 2 패스 게이트(PG12)는 제 1 제어단에 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)의 반전 신호(T_sel2B)를 입력 받고 제 2 제어단에 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)를 입력 받으며, 입력단에 상기 테스트 전압(V_test)을 입력받아 출력단에서 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)를 출력하도록 구성된다.The
상기 제 4 스위칭부(240)는 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)가 디스에이블되면 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 반전시켜 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.When the second test select signal T_sel2 is disabled, the
상기 제 4 스위칭부(240)는 제 2 제어 인버터(IVC12)로 구현되며, 상기 제 2 제어 인버터(IVC11)는 제 1 제어단에 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)를 입력 받고 제 2 제어단에 상기 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)의 반전 신호(T_sel2B)를 입력 받으며, 입력단에 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 입력 받아 출력단에서 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)를 출력하도록 구성된다.The
상기 테스트 드라이버(300)는 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)에 응답하여 패드(PAD)에 연결된 출력 노드(node_out)에 풀업 동작을 수행하고, 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)에 응답하여 상기 출력 노드(node_out)에 풀다운 동작을 수행한다.The
상기 테스트 드라이버(300)는 제 1 및 제 2 트랜지스터(P11, N11)를 포함한다. 상기 제 1 트랜지스터(P11)는 게이트에 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)가 입력되고 소오스에 외부 전압(VDD)을 인가 받으며 드레인에 상기 출력 노드(node_out)가 연결된다. 상기 제 2 트랜지스터(N11)는 게이트에 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)를 입력 받고 드레인에 상기 출력 노드(node_out)가 연결되며 소오스에 접지단(VSS)이 연결된다. 이때, 상기 출력 노드(node_out)는 패드(PAD)에 연결된다.The
이와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 테스트 회로를 이용한 테스트는 다음과 같이 수행된다.The test using the test circuit of the semiconductor memory device according to the embodiment configured as described above is performed as follows.
첫번째, 클럭(CLK) 즉, 반도체 메모리 장치 내부에 구현된 오실레이터의 출력을 모니터링하는 테스트에 대해 설명한다.First, a test for monitoring the output of the clock CLK, that is, the oscillator implemented in the semiconductor memory device will be described.
오실레이터 테스트 신호(T_ROD), 및 풀업 테스트 신호(T_PUON)를 하이 레벨로 인에이블시킨다. 이때, 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)의 반전 신호(T_RODB)는 로우 레벨로 디스에이블된다. 또한 풀다운 테스트 신호(T_PDON)를 로우 레벨로 인에이블시킨다. 제 1, 및 제 2 테스트 선택 신호(T_sel1, T_sel2)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다.The oscillator test signal T_ROD and the pull-up test signal T_PUON are enabled to a high level. At this time, the inversion signal T_RODB of the oscillator test signal T_ROD is disabled to a low level. It also enables the pull-down test signal (T_PDON) to a low level. The first and second test select signals T_sel1 and T_sel2 are disabled to a low level.
테스트 입력 신호 생성부(100)는 상기 클럭(CLK)을 제 1 테스트 입력 신호(T_in1) 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)로서 출력한다.The test
테스트 제어 신호 생성부(200)의 제 1 내지 제 4 스위칭부(210~240) 중 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)가 턴온된다. 턴온된 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)는 상기 제 1 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in1, T_in2)를 각각 반전시켜 피모스 제어 신호(P_ctrl) 및 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.The second and
테스트 드라이버(300)는 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)가 로우 레벨로 인에이블되면 풀업 동작을 수행하여 출력 노드(node_out)의 전압 레벨을 높이고, 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)가 하이 레벨로 인에이블되면 풀다운 동작을 수행하여 상기 출력 노드(node_out)의 전압 레벨을 낮춘다.When the PMOS control signal P_ctrl is enabled at the low level, the
결국, 상기 클럭(CLK)이 하이 레벨일 경우 상기 제 1 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in1, T_in2)가 하이 레벨이 되고, 상기 피모스 및 엔모스 제어 신호(P_ctrl, N_ctrl)가 로우 레벨이 되어, 상기 테스트 드라이버(300)는 풀업 동작 을 수행한다. 또한, 상기 클럭(CLK)이 로우 레벨일 경우 상기 제 1 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in1, T_in2)가 로우 레벨이 되고, 상기 피모스 및 엔모스 제어 신호(P_ctrl, N_ctrl)가 하이 레벨이 되어, 상기 테스트 드라이버(300)는 풀다운 동작을 수행한다. 패드(PAD)를 통해 상기 클럭(CLK)이 반도체 메모리 장치의 외부로 출력되며, 이를 모니터링하는 테스트 수행이 가능해진다.As a result, when the clock CLK is at a high level, the first and second test input signals T_in1 and T_in2 are at a high level, and the PMOS and NMOS control signals P_ctrl and N_ctrl are at a low level. The
두번째, 포화영역(saturation region)에서 구동되는 피모스 트랜지스터(P11)의 출력 전류 양을 모니터링하는 테스트에 대해 설명한다.Second, a test for monitoring the amount of output current of the PMOS transistor P11 driven in the saturation region will be described.
상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD), 상기 풀업 테스트 신호(T_PUON)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다. 이때, 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)의 반전 신호(T_RODB)는 하이 레벨로 디스에이블된다. 또한 풀다운 테스트 신호(T_PDON)를 로우 레벨로 인에이블시킨다. 제 1, 및 제 2 테스트 선택 신호(T_sel1, T_sel2)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다.The oscillator test signal T_ROD and the pull-up test signal T_PUON are disabled to a low level. In this case, the inversion signal T_RODB of the oscillator test signal T_ROD is disabled to a high level. It also enables the pull-down test signal (T_PDON) to a low level. The first and second test select signals T_sel1 and T_sel2 are disabled to a low level.
상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 하이 레벨로 인에이블된 상기 제 1 테스트 신호(T_in1)를 출력하고, 하이 레벨로 디스에이블된 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 출력한다.The test
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)의 제 1 내지 제 4 스위칭부(210~240) 중 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)가 턴온된다. 턴온된 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)는 상기 제 1 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in1, T_in2)를 각각 반전시켜 피모스 제어 신호(P_ctrl) 및 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.The second and
즉, 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)는 로우 레벨로 인에이블되고, 상기 엔모 스 제어 신호(N_ctrl)는 로우 레벨로 디스에이블된다.That is, the PMOS control signal P_ctrl is enabled at the low level, and the NMOS control signal N_ctrl is disabled at the low level.
상기 테스트 드라이버(300)의 피모스 트랜지스터(P11)는 턴온되고, 엔모스 트랜지스터(N11)는 턴오프된다. 상기 피모스 트랜지스터(P11)는 게이트에 접지 전압(VSS) 레벨의 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)를 입력 받는다. 즉, 상기 테스트 드라이버(300)는 포화 영역에서 구동되는 상기 피모스 트랜지스터(P11)의 출력 전류를 상기 출력 노드(node_out)를 거쳐 상기 패드(PAD)로 출력한다.The PMOS transistor P11 of the
이때, 상기 패드(PAD)로부터 출력되는 전류의 양을 모니터링함으로써, 반도체 메모리 장치에 구현된 포화영역의 피모스 트랜지스터가 출력하는 전류를 테스트할 수 있다.In this case, by monitoring the amount of current output from the pad PAD, the current output by the PMOS transistor in the saturation region implemented in the semiconductor memory device may be tested.
세번째, 포화영역(saturation region)에서 구동되는 엔모스 트랜지스터(N11)의 출력 전류의 양을 모니터링하는 테스트에 대해 설명한다.Third, a test for monitoring the amount of output current of the NMOS transistor N11 driven in the saturation region will be described.
상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다. 상기 풀업 테스트 신호(T_PUON)를 하이 레벨로 인에이블시킨다. 이때, 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)의 반전 신호(T_RODB)는 하이 레벨로 인에이블된다. 또한 풀다운 테스트 신호(T_PDON)를 하이 레벨로 디스에이블시킨다. 제 1, 및 제 2 테스트 선택 신호(T_sel1, T_sel2)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다.The oscillator test signal T_ROD is disabled to a low level. The pull-up test signal T_PUON is enabled to a high level. In this case, the inversion signal T_RODB of the oscillator test signal T_ROD is enabled to a high level. It also disables the pull-down test signal (T_PDON) to a high level. The first and second test select signals T_sel1 and T_sel2 are disabled to a low level.
상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 로우 레벨로 디스에이블된 상기 제 1 테스트 신호(T_in1)를 출력하고, 로우 레벨로 인에이블된 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 출력한다.The test
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)의 제 1 내지 제 4 스위칭부(210~240) 중 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)가 턴온된다. 턴온된 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)는 상기 제 1 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in1, T_in2)를 각각 반전시켜 피모스 제어 신호(P_ctrl) 및 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.The second and
즉, 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)는 하이 레벨로 디스에이블되고, 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)는 하이 레벨로 인에이블된다.That is, the PMOS control signal P_ctrl is disabled at a high level, and the NMOS control signal N_ctrl is enabled at a high level.
그러면, 상기 테스트 드라이버(300)의 상기 피모스 트랜지스터(P11)는 턴오프되고, 상기 엔모스 트랜지스터(N11)는 턴온된다. 상기 엔모스 트랜지스터(N11)는 게이트에 외부 전압(VDD) 레벨의 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)를 입력 받는다. 즉, 상기 테스트 드라이버(300)는 포화 영역에서 구동되는 상기 엔모스 트랜지스터(N11)의 출력 전류를 상기 출력 노드(node_out)를 거쳐 상기 패드(PAD)로 출력한다.Then, the PMOS transistor P11 of the
이때, 상기 패드(PAD)로부터 출력되는 전류의 양을 모니터링함으로써, 반도체 메모리 장치에 구현된 포화영역의 엔모스 트랜지스터가 출력하는 전류를 테스트할 수 있다.In this case, by monitoring the amount of current output from the pad PAD, the current output by the NMOS transistor in the saturation region implemented in the semiconductor memory device may be tested.
네번째, 포화영역(saturation region)에서 구동되는 엔모스 트랜지스터(N11)와 피모스 트랜지스터(P11)에 의해 출력 노드(node_out)로 출력되는 전류의 양을 모니터링하는 테스트에 대해 설명한다.Fourth, a test for monitoring the amount of current output to the output node node_out by the NMOS transistor N11 and the PMOS transistor P11 driven in the saturation region will be described.
상기 풀업 테스트 신호(T_PUON)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다. 또한 상기 풀다운 테스트 신호(T_PDON)를 하이 레벨로 디스에이블시킨다. 제 1, 및 제 2 테스트 선택 신호(T_sel1, T_sel2)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다.The pull-up test signal T_PUON is disabled to a low level. In addition, the pull-down test signal T_PDON is disabled to a high level. The first and second test select signals T_sel1 and T_sel2 are disabled to a low level.
상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 하이 레벨로 인에이블된 상기 제 1 테스트 신호(T_in1)를 출력하고, 로우 레벨로 인에이블된 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 출력한다.The test
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)의 제 1 내지 제 4 스위칭부(210~240) 중 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)가 턴온된다. 턴온된 상기 제 2 및 제 3 스위칭부(220, 230)는 상기 제 1 및 제 2 테스트 입력 신호(T_in1, T_in2)를 각각 반전시켜 피모스 제어 신호(P_ctrl) 및 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.The second and
즉, 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)는 로우 레벨로 인에이블되고, 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)는 하이 레벨로 인에이블된다.That is, the PMOS control signal P_ctrl is enabled at a low level, and the NMOS control signal N_ctrl is enabled at a high level.
상기 테스트 드라이버(300)의 상기 피모스 트랜지스터(P11)와 상기 엔모스 트랜지스터(N11)는 턴온된다. 상기 엔모스 트랜지스터(N11)는 게이트에 외부 전압(VDD) 레벨의 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)를 입력 받아 턴온되고, 상기 피모스 트랜지스터(P11)는 게이트에 접지 전압(VSS) 레벨의 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)를 입력 받아 턴온된다. 즉, 상기 테스트 드라이버(300)는 포화 영역의 상기 엔모스 트랜지스터(N11)와 상기 피모스 트랜지스터(P11)가 출력하는 전류를 상기 출력 노드(node_out)를 거쳐 상기 패드(PAD)로 출력한다.The PMOS transistor P11 and the NMOS transistor N11 of the
이때, 상기 패드(PAD)로부터 출력되는 전류의 양을 모니터링함으로써, 반도체 메모리 장치에 구현된 포화영역의 엔모스 트랜지스터와 피모스 트랜지스터가 출력하는 전류를 테스트할 수 있다.In this case, by monitoring the amount of current output from the pad PAD, the current output from the NMOS transistor and the PMOS transistor in the saturation region implemented in the semiconductor memory device may be tested.
다섯번째, 피모스 트랜지스터(P11)가 게이트에 입력되는 전압 레벨에 따라 출력하는 전류의 양을 모니터링하는 테스트를 설명한다.Fifth, a test for monitoring the amount of current output by the PMOS transistor P11 according to the voltage level input to the gate will be described.
상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다. 이때, 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)의 반전 신호(T_RODB)는 하이 레벨로 인에이블된다. 또한 풀다운 테스트 신호(T_PDON)를 로우 레벨로 인에이블시킨다. 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)를 하이 레벨로 인에이블시키고 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다.The oscillator test signal T_ROD is disabled to a low level. In this case, the inversion signal T_RODB of the oscillator test signal T_ROD is enabled to a high level. It also enables the pull-down test signal (T_PDON) to a low level. The first test select signal T_sel1 is enabled at a high level and the second test select signal T_sel2 is disabled at a low level.
상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 하이 레벨로 디스에이블된 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)을 출력한다.The test
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)의 제 1 내지 제 4 스위칭부(210~240) 중 상기 제 1 및 제 3 스위칭부(210, 230)가 턴온된다. 턴온된 상기 제 1 스위칭부(210)는 테스트 전압(V_test)을 피모스 제어 신호(P_ctrl)의 전압으로서 출력한다. 턴온된 상기 제 3 스위칭부(230)는 상기 제 2 테스트 입력 신호(T_in2)를 반전시켜 엔모스 제어 신호(N_ctrl)로서 출력한다.The first and
즉, 상기 엔모스 제어 신호(N_ctrl)는 로우 레벨로 디스에이블된다.That is, the NMOS control signal N_ctrl is disabled at a low level.
상기 테스트 드라이버(300)의 상기 엔모스 트랜지스터(N11)는 턴오프된다. 상기 피모스 트랜지스터(P11)는 게이트에 상기 테스트 전압(V_test)을 입력 받는다. The NMOS transistor N11 of the
결국, 상기 테스트 드라이버(300)는 게이트에 상기 테스트 전압(V_test)을입력 받는 피모스 트랜지스터(P11)가 상기 테스트 전압(V_test) 레벨에 따른 출력 전류를 상기 출력 노드(node_out)에 출력한다.As a result, the PMOS transistor P11 receiving the test voltage V_test from the gate outputs an output current corresponding to the test voltage V_test level to the output node node_out.
이때, 상기 출력 노드(node_out)와 연결된 패드(PAD)로부터 출력되는 전류의 양을 모니터링함으로써, 반도체 메모리 장치에 구현된 피모스 트랜지스터가 게이트 전압 레벨에 따라 출력하는 전류의 양을 모니터링할 수 있다.In this case, by monitoring the amount of current output from the pad PAD connected to the output node node_out, the amount of current output by the PMOS transistor implemented in the semiconductor memory device according to the gate voltage level may be monitored.
마지막으로, 엔모스 트랜지스터(N11)가 게이트에 입력되는 전압 레벨에 따라 출력하는 전류의 양을 모니터링하는 테스트를 설명한다.Finally, a test for monitoring the amount of current outputted by the NMOS transistor N11 according to the voltage level input to the gate will be described.
상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)를 로우 레벨로 디스에이블시킨다. 이때, 상기 오실레이터 테스트 신호(T_ROD)의 반전 신호(T_RODB)는 하이 레벨로 인에이블된다. 또한 풀업 테스트 신호(T_PUON)를 하이 레벨로 인에이블시킨다. 제 1 테스트 선택 신호(T_sel1)를 로우 레벨로 디스에이블시키고 제 2 테스트 선택 신호(T_sel2)를 하이 레벨로 인에이블시킨다.The oscillator test signal T_ROD is disabled to a low level. In this case, the inversion signal T_RODB of the oscillator test signal T_ROD is enabled to a high level. It also enables the pull-up test signal T_PUON to a high level. The first test select signal T_sel1 is disabled to a low level and the second test select signal T_sel2 is enabled to a high level.
상기 테스트 입력 신호 생성부(100)는 로우 레벨로 디스에이블된 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)을 출력한다.The test
상기 테스트 제어 신호 생성부(200)의 제 1 내지 제 4 스위칭부(210~240) 중 상기 제 2 및 제 4 스위칭부(220, 240)가 턴온된다. 턴온된 상기 제 2 스위칭부(220)는 상기 제 1 테스트 입력 신호(T_in1)를 반전시켜 피모스 제어 신호(P_ctrl)로서 출력한다. 턴온된 상기 제 4 스위칭부(240)는 테스트 전압(V_test)을 엔모스 제어 신호(N_ctrl)의 전압으로서 출력한다.The second and
즉, 상기 피모스 제어 신호(P_ctrl)는 하이 레벨로 디스에이블된다.That is, the PMOS control signal P_ctrl is disabled to a high level.
상기 테스트 드라이버(300)의 상기 피모스 트랜지스터(P11)는 턴오프된다. 상기 엔모스 트랜지스터(N11)는 게이트에 상기 테스트 전압(V_test)을 입력 받는 다. The PMOS transistor P11 of the
결국, 상기 테스트 드라이버(300)는 게이트에 상기 테스트 전압(V_test)을입력 받는 엔모스 트랜지스터(N11)가 상기 테스트 전압(V_test) 레벨에 따라 출력하는 전류를 상기 출력 노드(node_out)에 출력한다.As a result, the
이때, 상기 출력 노드(node_out)와 연결된 패드(PAD)로부터 출력되는 전류의 양을 모니터링함으로써, 반도체 메모리 장치에 구현된 엔모스 트랜지스터가 게이트 전압 레벨에 따라 출력하는 전류의 양을 모니터링할 수 있다.In this case, by monitoring the amount of current output from the pad PAD connected to the output node node_out, the amount of current output by the NMOS transistor implemented in the semiconductor memory device according to the gate voltage level may be monitored.
본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 테스트 회로는 P.V.T 변화에 따른 트랜지스터의 특성 변화를 모니터링할 수 있어, 반도체 메모리 장치의 테스트 기간을 줄일 수 있다.The test circuit of the semiconductor memory device according to the present invention can monitor the characteristic change of the transistor according to the P.V.T change, thereby reducing the test period of the semiconductor memory device.
본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있으므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features, the embodiments described above should be understood as illustrative and not restrictive in all aspects. Should be. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 테스트 회로를 개략적으로 보여주는 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically illustrating a test circuit of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
100: 테스트 입력 신호 생성부 200: 테스트 제어 신호 생성부100: test input signal generator 200: test control signal generator
300: 테스트 드라이버300: test driver
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090131793A KR20110075358A (en) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | Test circuit of a semiconductor memory apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090131793A KR20110075358A (en) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | Test circuit of a semiconductor memory apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20110075358A true KR20110075358A (en) | 2011-07-06 |
Family
ID=44915370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020090131793A KR20110075358A (en) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | Test circuit of a semiconductor memory apparatus |
Country Status (1)
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-
2009
- 2009-12-28 KR KR1020090131793A patent/KR20110075358A/en not_active Application Discontinuation
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