KR20110055422A - 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
이동가능한 대상물의 또 다른 대상물에 대한 위치를 측정하는 위치 측정 시스템은 이동가능한 대상물 및 다른 대상물 중 하나에 장착되고, 각각 측정 방향을 따라 측정 빔을 방출할 수 있는 2 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드, 이동가능한 대상물 및 다른 대상물 중 다른 하나에 장착된 1 이상의 기준 타겟- 각각의 기준 타겟은 2 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드와 상호작동하는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함함 -, 및 2 이상의 1D 인코더 헤드의 출력들에 기초하여 대상물의 위치를 계산하는 프로세서를 포함하며, 2 이상의 1D 인코더 헤드 각각의 측정 방향은 각각의 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않다.
Description
본 발명은 위치 측정 시스템, 리소그래피 장치, 및 위치 측정 방법에 관한 것이다.
리소그래피 장치는 기판 상에, 통상적으로는 기판의 타겟부 상에 원하는 패턴을 적용시키는 기계이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어 집적 회로(IC)의 제조 시에 사용될 수 있다. 이러한 경우, 대안적으로 마스크 또는 레티클이라 칭하는 패터닝 디바이스가 IC의 개별층 상에 형성될 회로 패턴을 생성하는데 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 상의 (예를 들어, 1 개 또는 수 개의 다이의 부분을 포함하는) 타겟부 상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는 통상적으로 기판 상에 제공된 방사선-감응재(레지스트)층 상으로의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 패터닝되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다. 종래의 리소그래피 장치는, 한번에 타겟부 상으로 전체 패턴을 노광함으로써 각각의 타겟부가 조사(irradiate)되는 소위 스테퍼, 및 방사선 빔을 통해 주어진 방향("스캐닝"-방향)으로 패턴을 스캐닝하는 한편, 이 방향과 평행한 방향(같은 방향으로 평행한 방향) 또는 역-평행한 방향(반대 방향으로 평행한 방향)으로 기판을 동기적으로 스캐닝함으로써 각각의 타겟부가 조사되는 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 기판 상에 패턴을 임프린트(imprint)함으로써, 패터닝 디바이스에서 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.
스캐닝 타입 리소그래피 장치에서, 패터닝 디바이스 및 기판의 위치를 높은 정확성으로 제어하는 것이 바람직하다. 이를 위해, 높은 정확성으로 6 자유도에서 실제 위치를 결정하는 것이 바람직하다. 이 측정들을 수행하기 위해, 간섭계 또는 인코더 타입 위치 측정 시스템들이 사용될 수 있다.
인코더 타입 위치 측정 시스템은 이동가능한 대상물 상에 장착된 인코더 헤드(encoder head) 및 기준 대상물 상에 장착된 기준 타겟을 포함할 수 있다. 기준 타겟은 평평한 표면 상에 배치된 그리드 또는 격자를 포함한다. 평평한 표면 상에 직각으로 인코더 헤드의 측정 빔이 지향된다. 격자 상에서의 측정 빔의 1차 및 -1차 반사들이 인코더 헤드 내에서 조합된다. 이 조합된 신호의 세기 차에 기초하여, 측정 빔에 실질적으로 수직인 방향으로의 기준 대상물에 대한 이동가능한 대상물의 이동이 결정될 수 있다.
본 명세서에서 그 전문이 인용참조되는 US 7,573,581은 두 방향으로, 즉 기준 대상물의 평평한 표면에 실질적으로 평행한 이동 및 기준 대상물의 평평한 표면에 실질적으로 수직인 이동에 있어서 대상물의 위치를 측정할 수 있는 2 차원(2D) 인코더 헤드를 개시한다. 상기 인코더 헤드에서는, 단일 광 빔이 그리드 플레이트에 대각(opposite angle)으로 지향되는 2 개의 측정 빔으로 분할된다. 회절 반사 빔들의 +1차 및 -1차는 조합된 신호를 형성하도록 다시 모아진다. 인코더 헤드 내에 배치된 검출기들에 의해 측정되는 이 조합된 신호의 세기 차에 기초하여, 기준 대상물에 대한 이동가능한 대상물의 위치 변화들을 나타내는 신호들이 결정될 수 있다. 이 신호들은 기준 타겟의 평평한 표면에 실질적으로 평행한 이동가능한 대상물의 이동들에 대한 정보를 포함할 수 있으며, 기준 타겟의 평평한 표면에 실질적으로 수직인 이동들에 대한 정보도 포함할 수 있다.
측정 빔들이 대각들로 지향, 즉 인코더 헤드의 주축에 대해 미러링(mirror)되기 때문에, 측정 신호들을 감산하고 가산함으로써 기준 타겟의 평평한 표면에 실질적으로 평행한 신호의 성분과 실질적으로 수직인 신호의 성분이 계산될 수 있다.
US 2003/0169434는 인코더-타입 변위 검출 장치의 또 다른 실시예를 개시하며, 이는 광을 방출하는 광 소스를 포함하는 광 방출/수용 유닛, 반환 광(returning light)들을 복수의 광들로 분할하는 광학 분할 유닛(optical splitting unit)- 상기 광 소스로부터의 광은 외부 광학 시스템으로 향하고 이로부터 반환되어 반환 광들이 됨 -, 반환 광들의 편광 상태에 대응하여 투과되는 광들의 양을 증가시키고 감소시키는 편광 유닛, 및 편광 유닛을 통해 투과된 광들을 검출하는 복수의 포토(photo)-검출 요소들을 갖는 광학 수용 유닛을 포함한다. 광 소스, 광 분할 유닛, 편광 유닛, 및 광학 수용 유닛은 연합하여 하나의 유닛으로 통합된다.
대안적인 인코더-타입 위치 측정 시스템을 제공하고, 이러한 위치 측정 시스템을 포함한 리소그래피 장치를 제공하는 것이 바람직하다. 또한, 디자인에 있어서 유연성을 갖는 인코더-타입 위치 측정 시스템, 및 이러한 유연성을 갖는 위치 측정 시스템을 리소그래피 장치 내에 배치하는 방법을 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 이동가능한 대상물의 또 다른 대상물에 대한 위치를 측정하는 위치 측정 시스템이 제공되고, 상기 시스템은: 이동가능한 대상물 및 다른 대상물 중 하나에 장착되고, 각각 측정 방향을 갖는 측정 빔을 방출할 수 있는 2 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드, 이동가능한 대상물 및 다른 대상물 중 다른 하나에 장착된 1 이상의 기준 타겟- 각각의 기준 타겟은 2 이상의 1D 인코더 헤드와 상호작동하는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함함 -, 및 2 이상의 1D 인코더 헤드의 출력들에 기초하여 대상물의 위치를 계산하는 프로세서를 포함하며, 2 이상의 1D 인코더 헤드 각각의 측정 방향은 각각의 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 방사선 빔을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 조명 시스템; 패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해, 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체; 기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블; 및 기판의 타겟부 상에 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템을 포함한 리소그래피 장치가 제공되고, 상기 리소그래피 장치는 대상물에 대한 지지체 또는 기판 테이블의 위치를 결정하는 위치 측정 시스템을 포함하며, 상기 위치 측정 시스템은: 지지체 또는 기판 테이블, 및 대상물 중 하나에 장착되고, 각각 측정 방향을 갖는 측정 빔을 방출할 수 있는 2 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드, 지지체 또는 기판 테이블, 및 대상물 중 다른 하나에 장착된 1 이상의 기준 타겟- 각각의 기준 타겟은 2 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드와 상호작동하는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함함 -, 및 2 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드의 출력들에 기초하여 지지체 또는 기판 테이블의 위치를 계산하는 프로세서를 포함하고, 2 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드 각각의 측정 방향은 각각의 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 대상물에 대해 6 자유도에서 리소그래피 장치 내의 스테이지의 위치를 측정하기 위해, 리소그래피 장치 내에 위치 측정 시스템을 배치하는 방법이 제공되고, 이는: 각각 측정 방향으로 측정 빔을 방출할 수 있는 6 개의 일차원(1D) 인코더 헤드, 및 1 이상의 기준 타겟- 각각의 기준 타겟은 1 이상의 일차원(1D) 인코더 헤드와 상호작동하는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함함 -을 제공하는 단계, 스테이지 및 대상물 중 하나 상에 일차원(1D) 인코더 헤드들을 장착하고, 스테이지 및 대상물 중 다른 하나 상에 1 이상의 기준 타겟을 장착하는 단계- 상기 6 개의 일차원(1D) 인코더 헤드 중 적어도 2 이상의 측정 방향은 각각의 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않음 -, 및 상기 일차원(1D) 인코더 헤드들의 출력들에 기초하여 대상물의 위치를 계산하도록 구성된 프로세서에 6 개의 일차원(1D) 인코더 헤드를 커플링(couple)하는 단계를 포함한다.
이하 대응하는 참조 부호들이 대응하는 부분들을 나타내는 첨부된 개략적인 도면들을 참조하여, 단지 예시의 방식으로만 본 발명의 실시예들을 설명할 것이다:
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시하는 도면;
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 위치 측정 시스템의 인코더 헤드 및 그리드 플레이트를 도시하는 도면;
도 3은 본 발명에 따른 위치 측정 시스템의 일 실시예의 측면도;
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 위치 측정 시스템의 일 실시예의 구성의 평면도;
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 인코더 헤드들의 구성을 나타내는 도면; 및
도 6은 본 발명에 따른 위치 측정 시스템의 또 다른 실시예의 평면도이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시하는 도면;
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 위치 측정 시스템의 인코더 헤드 및 그리드 플레이트를 도시하는 도면;
도 3은 본 발명에 따른 위치 측정 시스템의 일 실시예의 측면도;
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 위치 측정 시스템의 일 실시예의 구성의 평면도;
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 인코더 헤드들의 구성을 나타내는 도면; 및
도 6은 본 발명에 따른 위치 측정 시스템의 또 다른 실시예의 평면도이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는 방사선 빔(B)(예를 들어, UV 방사선 또는 여하한의 다른 적절한 방사선)을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템(일루미네이터)(IL), 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고 소정 파라미터들에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제 1 위치설정 디바이스(PM)에 연결된 패터닝 디바이스 지지체 또는 마스크 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)를 포함한다. 또한, 상기 장치는 기판(예를 들어, 레지스트-코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제 2 위치설정 디바이스(PW)에 연결된 기판 테이블(예를 들어, 웨이퍼 테이블)(WT) 또는 "기판 지지체"를 포함한다. 또한, 상기 장치는 기판(W)의 (예를 들어, 1 이상의 다이를 포함하는) 타겟부(C) 상으로 패터닝 디바이스(MA)에 의해 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영 시스템(예를 들어, 굴절 투영 렌즈 시스템)(PS)을 포함한다.
조명 시스템은 방사선을 지향, 성형, 또는 제어하기 위하여, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 다른 형태의 광학 구성요소들, 또는 여하한의 그 조합과 같은 다양한 형태의 광학 구성요소들을 포함할 수 있다.
패터닝 디바이스 지지체는 패터닝 디바이스의 방위, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에서 유지되는지의 여부와 같은 다른 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스를 유지한다. 패터닝 디바이스 지지체는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 다른 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 패터닝 디바이스 지지체는, 예를 들어 필요에 따라 고정되거나 이동가능할 수 있는 프레임 또는 테이블일 수 있다. 패터닝 디바이스 지지체는, 패터닝 디바이스가 예를 들어 투영 시스템에 대해 원하는 위치에 있을 것을 보장할 수 있다. 본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 용어의 어떠한 사용도 "패터닝 디바이스"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서, 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는데 사용될 수 있는 여하한의 디바이스를 언급하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은, 예를 들어 상기 패턴이 위상-시프팅 피처(phase-shifting feature)들 또는 소위 어시스트 피처(assist feature)들을 포함하는 경우, 기판의 타겟부 내의 원하는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수도 있다는 것을 유의하여야 한다. 일반적으로, 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스 내의 특정 기능 층에 해당할 것이다.
패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예로는 마스크, 프로그램가능한 거울 어레이, 및 프로그램가능한 LCD 패널들을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리(binary)형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트형과 같은 마스크 타입뿐만 아니라, 다양한 하이브리드(hybrid) 마스크 타입들을 포함한다. 프로그램가능한 거울 어레이의 일 예시는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.
본 명세서에서 사용되는 "투영 시스템"이라는 용어는, 사용되는 노광 방사선에 대하여, 또는 침지 액체의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 카타디옵트릭(catadioptric), 자기, 전자기 및 정전기 광학 시스템, 또는 여하한의 그 조합을 포함하는 여하한 타입의 투영 시스템을 내포하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서의 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영 시스템"이라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
본 명세서에 도시된 바와 같이, 상기 장치는 (예를 들어, 투과 마스크를 채택하는) 투과형으로 구성된다. 대안적으로, 상기 장치는 (예를 들어, 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이를 채택하거나, 반사 마스크를 채택하는) 반사형으로 구성될 수 있다.
리소그래피 장치는 2 개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블 또는 "기판 지지체"(및/또는 2 이상의 마스크 테이블 또는 "마스크 지지체")를 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블 또는 지지체가 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 1 이상의 테이블 또는 지지체가 노광에 사용되고 있는 동안 1 이상의 다른 테이블 또는 지지체에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다.
또한, 리소그래피 장치는 투영 시스템과 기판 사이의 공간을 채우기 위해서, 기판의 전체 또는 일부분이 비교적 높은 굴절률을 갖는 액체, 예컨대 물로 덮일 수 있는 형태로 구성될 수 있다. 또한, 침지 액체는 리소그래피 장치 내의 다른 공간들, 예를 들어 마스크와 투영 시스템 사이에도 적용될 수 있다. 침지 기술은 투영 시스템의 개구수(numerical aperture)를 증가시키는데 사용될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 "침지"라는 용어는 기판과 같은 구조체가 액체 내에 담그어져야 함을 의미하는 것이라기보다는, 노광 시 액체가 투영 시스템과 기판 사이에 놓이기만 하면 된다는 것을 의미한다.
도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 방사선 소스(SO)로부터 방사선 빔을 수용한다. 예를 들어, 상기 소스가 엑시머 레이저(excimer laser)인 경우, 상기 소스 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 일부분을 형성하는 것으로 간주되지 않으며, 상기 방사선 빔은 예를 들어 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스팬더(beam expander)를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로, 소스(SO)로부터 일루미네이터(IL)로 통과된다. 다른 경우, 예를 들어 상기 소스가 수은 램프인 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 통합부일 수 있다. 상기 소스(SO) 및 일루미네이터(IL)는, 필요에 따라 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라고 칭해질 수 있다.
상기 일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하도록 구성된 조정기(AD)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필 평면 내의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같이, 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수도 있다. 일루미네이터는 방사선 빔의 단면에 원하는 균일성(uniformity) 및 세기 분포를 갖기 위해, 방사선 빔을 컨디셔닝하는데 사용될 수 있다.
상기 방사선 빔(B)은 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 상에 입사되며, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 상기 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 가로질렀으면, 상기 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하며, 이는 기판(W)의 타겟부(C) 상에 상기 빔을 포커스한다. 제 2 위치설정 디바이스(PW) 및 위치 센서(IF)(예를 들어, 간섭계 디바이스, 리니어 인코더 또는 용량성 센서)의 도움으로, 기판 테이블(WT)은, 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로 내에 상이한 타겟부(C)들을 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제 1 위치설정 디바이스(PM) 및 또 다른 위치 센서(도 1에 명확히 도시되지 않음)는, 예를 들어 마스크 라이브러리(mask library)로부터의 기계적인 회수 후에, 또는 스캔하는 동안, 방사선 빔(B)의 경로에 대해 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 정확히 위치시키는데 사용될 수 있다. 일반적으로, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)의 이동은, 장-행정 모듈(long-stroke module: 개략 위치설정) 및 단-행정 모듈(short-stroke module: 미세 위치설정)의 도움으로 실현될 것이며, 이는 제 1 위치설정 디바이스(PM)의 일부분을 형성한다. 이와 유사하게, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 이동은 장-행정 모듈 및 단-행정 모듈을 이용하여 실현될 수 있으며, 이는 제 2 위치설정 디바이스(PW)의 일부분을 형성한다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)는 단-행정 액추에이터에만 연결되거나 고정될 수 있다. 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 및 기판(W)은 패터닝 디바이스 정렬 마크들(M1 및 M2) 및 기판 정렬 마크들(P1 및 P2)을 이용하여 정렬될 수 있다. 비록, 예시된 기판 정렬 마크들은 지정된(dedicated) 타겟부들을 차지하고 있지만, 그들은 타겟부들 사이의 공간들 내에 위치될 수도 있다[이들은 스크라이브-레인 정렬 마크(scribe-lane alignment mark)들로 알려져 있다]. 이와 유사하게, 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA) 상에 1 이상의 다이가 제공되는 상황들에서, 패터닝 디바이스 정렬 마크들은 다이들 사이에 위치될 수 있다.
도시된 장치는 다음 모드들 중 적어도 1 이상에서 사용될 수 있다:
1. 스텝 모드에서, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 또는 "마스크 지지체", 및 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"는 기본적으로 정지 상태로 유지되는 한편, 방사선 빔에 부여되는 전체 패턴은 한번에 타겟부(C) 상에 투영된다[즉, 단일 정적 노광(single static exposure)]. 그 후, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"는 상이한 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다. 스텝 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 정적 노광 시에 이미징되는 타겟부(C)의 크기를 제한한다.
2. 스캔 모드에서, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 또는 "마스크 지지체", 및 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"는 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝된다[즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure)]. 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 또는 "마스크 지지체"에 대한 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대(축소) 및 이미지 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광 시 타겟부의 (스캐닝 되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.
3. 또 다른 모드에서, 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 또는 "마스크 지지체"는 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"가 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채택되며, 프로그램가능한 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"가 각각 이동한 후, 또는 스캔 중에 계속되는 방사선 펄스 사이사이에 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이와 같은 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
또한, 상술된 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 사용 모드들이 채택될 수도 있다.
도 1의 리소그래피 장치에서, 기판 테이블(WT)의 위치를 측정하기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 인코더-타입 위치 측정 시스템(PMS)이 제공된다. 인코더-타입 위치 측정 시스템(PMS)은 6 자유도에서 기판 테이블(WT)의 위치를 결정하도록 구성된다. 이를 위해, 기판 테이블(WT) 상에 다수 인코더 헤드들(EH)이 제공되고, 리소그래피 장치의 프레임, 예를 들어 소위 메트롤로지 프레임 상에 그리드 플레이트(GP)가 장착된다.
그리드 플레이트(GP)는 그리드 또는 격자를 포함하는 대상물이며, 플레이트 형상일 필요는 없다. 그리드 플레이트(GP)는 인코더 헤드(EH)를 이용하여 이동가능한 대상물의 위치를 측정하는데 사용되는 그리드 또는 격자가 제공된 여하한의 대상물일 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 위치 측정 시스템의 인코더 헤드(2) 및 그리드 플레이트(3)의 측면도를 나타낸다. 그리드 플레이트(3)는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함한다. 이러한 그리드 플레이트(3)는 당업계에 잘 알려져 있다.
인코더 헤드(2)는 예를 들어 이동가능한 대상물 상에 배치되고, 그리드 플레이트(3)는 기준 대상물 상에 배치되지만, 그리드 플레이트(3)가 이동가능한 대상물 상에 배치되고, 인코더 헤드(2)가 기준 대상물 상에 배치되는 것도 가능하다.
인코더 헤드(2)는 광 소스(4)(이는 폭넓게 "방사선 소스"라고 언급될 수 있음), 예를 들어 레이저 소스를 포함한다. 광 소스(4)는 여하한의 대상물일 수 있으며, 이는 단독으로, 또는 다른 구성요소들과 조합하여 원하는 위치에서 광 빔을 방출하도록 구성된다. 광 소스(4)는, 예를 들어 멀리 떨어진 광 소스에 연결된 섬유일 수도 있다.
광 소스(4)는 측정 방향 A로 그리드 플레이트(3)를 향해 측정 빔을 방출한다. 측정 빔(A)은 그리드 플레이트(3)의 평평한 표면에 대해 α 각도로 지향되며, 이 각도(α)는 90 도보다 작다, 즉 그리드 플레이트(3)의 평평한 표면에 수직하지 않다.
측정 빔은 그리드 플레이트(3) 상에서 회절될 것이며, 추가 측정을 위해 1차 및 -1차 반사들이 사용된다. 1차 및 -1차 빔들은 다시 인코더 헤드(2)로 반사되며, 이는 1차 및 -1차 반사들을 다시 그리드 플레이트(3)로 반사시키는 거울 요소들(5)을 포함하고, 이때 1차 및 -1차 반사들은 단일 반사 빔으로 조합되도록 반사된다.
거울 요소들(5)은 입사각에 평행하게 1차 및 -1차 빔들을 반사시키도록 구성된 여하한의 반사 요소들일 수 있다. 바람직하게는, 거울 요소들(5)은 코너 큐브(corner cube) 및 캣츠 아이즈(cats eye's)와 같은 역-반사기(retro-reflector)들이다.
이 반사 빔의 세기 차들이 그리드 플레이트(3)에 대한 인코더 헤드(2)의 이동들을 나타낸다. 반사 빔은 거울(6)에 의해 검출기(7)로 반사될 것이다. 검출기(7)는 그리드 플레이트(3)에 대한 인코더 헤드(2)의 이동들을 나타내는 신호를 제공할 것이다.
거울 요소(6)는, 예를 들어 편광 빔 스플리터이다. 이러한 실시예에서, 광 소스(4)에 의해 방출된 편광된 광은 편광 빔 스플리터를 통과할 수 있는 한편, 그리드 플레이트(3)로부터 반사된 광 빔은 전부 반사된다. 광 소스에 의해 방출된 광/방사선이 편광 빔 스플리터를 통과할 수 있도록 광 빔의 위상을 변화시키기 위해 광 경로 내에 쿼터 람다 플레이트(quarter lambda plate)들이 배치될 수 있으며, 반사된 광 빔은 편광 빔 스플리터 상에서 반사된다. 쿼터 람다 플레이트들은, 예를 들어 거울 요소들(5) 상에 배치될 수 있다.
측정 빔이 90 도보다 작은 각도(α)로 그리드 플레이트의 평평한 표면 상에 지향되기 때문에, 인코더 헤드(2)는 그리드 플레이트(3)의 평평한 표면에 실질적으로 평행하고 수직인 방향 모두에서 인코더 헤드와 그리드 플레이트(3) 간의 변위들에 민감할 것이다. 그러므로, 인코더 헤드(2)는 비교적 간단한 디자인이지만, 인코더 헤드(2)는 그 자신에 대한 X-방향 또는 Z-방향으로의 위치 변화를 올바르게 결정할 수 없을 수 있다. 위치 변화를 결정하기 위해, 그리드 플레이트(3)에 대한 인코더 헤드(2)의 이동에 대한 추가 정보가 요구된다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 위치 측정 시스템을 나타낸다. 위치 측정 시스템(1)은 도 2의 인코더 헤드와 유사한 제 1 인코더 헤드(2), 및 2 개의 인코더 헤드 부분(2a 및 2b)으로 구성된 제 2 인코더 헤드(2)를 포함하며, 상기 제 1 인코더 부분(2a)은 광 소스(4) 및 검출기(7)를 포함하는 한편, 상기 제 2 인코더 부분(2b)은 거울 요소들(5)을 포함한다. 수 개의 인코더 헤드 부분들(2a 및 2b)로부터 구성된 이러한 인코더 헤드(2)는 리소그래피 장치 내의 위치 측정 시스템(1)의 장착에 대해 추가 유연성을 제공할 수 있다.
인코더 헤드들(2)은 이동가능한 대상물(10) 상에 장착되는 한편, 그리드 플레이트(3)는 기준 대상물(11) 상에 장착된다.
위치 측정 시스템은 인코더 헤드들(2)의 검출기들(7)에 연결된 프로세서(12)를 더 포함한다. 프로세서(12)는 검출기들(7)에 의해 제공된 신호들에 기초하여, 위치 변화 또는 여하한의 다른 위치량을 결정할 수 있다.
위치 측정 시스템(1)의 인코더 헤드들(2)의 측정 빔들은 모두 X-Z 평면에서 90 도보다 작은 각도로 그리드 플레이트(3)의 평평한 표면으로 지향된다. 하지만, 측정 빔들이 그리드 플레이트로 지향되는 실제 각도들은 상이하다. 결과로서, 인코더 헤드들(2)의 두 검출기들(7)은 Z 방향 및 X 방향으로의 이동을 나타내는 상이한 성분들을 포함한 신호들을 제공할 것이다. X 및 Z 방향에 대한 정보를 포함한 2 개의 상이한 신호가 존재하기 때문에, 프로세서(12)에 의해 X 방향으로의 이동 및 Z 방향으로의 이동이 계산될 수 있다.
따라서, 도 3에 나타낸 위치 측정 시스템의 실시예는 단 하나의 그리드 플레이트(3)로 X 및 Z 방향 모두에 대한 정보를 제공한다. Z-방향으로의 위치 변화를 측정하기 위해 그리드 플레이트가 Z-방향에 평행하게 제공될 필요가 없는 한편, 별도의 1D 인코더 헤드들, 즉 하나의 측정 빔들 및 결과로서 한 방향의 감도를 갖는 인코더 헤드들을 이용하는 유연성이 유지된다.
다수의 그리드 플레이트들이 나란히 배치되어 그리드 플레이트들의 평평한 표면들이 평행하게 배치되는 경우에도, 이 장점이 여전히 존재한다는 것을 유의한다.
일 실시예에서, 상기 시스템은 2 이상의 기준 타겟을 포함하며, 상기 기준 타겟들은 1 이상의 기준 타겟의 평평한 표면들이 실질적으로 동일한 평면 내에 놓이도록 나란히 배치된다.
실제로, 위치 측정 시스템(1)은 6 자유도에서 이동가능한 대상물의 위치를 측정할 수 있는 것이 바람직할 것이다. 이러한 위치 측정 시스템의 바람직한 실시예에서, 각각 자신의 광 소스를 갖는 6 개의 별도의 1D 인코더 헤드를 사용하는 것이 제안된다. 이러한 위치 측정 시스템은, 검출기들(7)로부터 얻어진 측정 신호들이 충분히 독립적이어서 상이한 방향으로의 이동들이 처리 유닛(12) 내에서 구별될 수 있도록 인코더 헤드들(2)의 측정 방향들이 선택되는 한, 단일 인코더 헤드들(2)의 장착에 대해 큰 유연성을 제공한다. 바람직하게는, 1D 인코더 헤드들 각각이 상이한 측정 방향을 가질 것이다.
도 4는 그리드 플레이트(3) 아래에 위치되는 이동가능한 대상물(10) 상에 배치된 6 개의 1D 인코더 헤드들의 구성의 일 예시를 평면도로 나타낸다. 6 개의 인코더 헤드들은 평면도에서 측정 빔 방향을 나타낸 화살표로 도시된다. 각각의 측정 빔은 Z 성분, 및 X 및/또는 Z 성분을 가질 것이다. 인코더 헤드들(2) 각각의 측정 빔들은 그리드 플레이트(3)의 평평한 표면에 상이한 각도들로 지향되므로, 처리 유닛에서 인코더 헤드들(2)의 검출기들에 의해 제공된 결과적인 측정 신호들로부터 이동가능한 대상물(10)의 6 자유도를 계산하도록 신호들에 있어서 충분한 독립성이 얻어진다.
도 4에 나타낸 구성은 X-방향 및 Y-방향으로 비교적 큰 범위의 이동을 갖고, 다른 방향들(Z, Rx, Ry, Rz)로는 비교적 작은 범위의 이동을 갖는 이동가능한 대상물들에 특히 적절하다는 것을 유의한다. 이러한 구성은, 예를 들어 패터닝 디바이스 지지체 또는 기판 지지체와 같은 리소그래피 장치 내의 스테이지에 사용될 수 있다.
도 5는 3 개의 인코더 헤드(2)의 평면도를 나타내며, 이는 각각 X-Z 평면, Y-Z 평면, 및 X-Y-Z 평면 내의 측정 빔을 갖는다. 도 5의 구성의 장점은, 모든 측정 빔이 동일한 측정 위치(20)로 지향된다는 것이다.
Z-방향으로의 이동가능한 대상물(10)의 이동은, 측정 빔들이 그리드 플레이트(3)에 입사(hit)하는 정확한 위치를 변화시킬 수 있다는 것을 유의한다. 그러므로, 측정 빔들의 각도들 및 인코더 헤드들의 위치는 이동가능한 대상물(10)의 공칭 위치(nominal position)에서 측정 빔들이 동일한 측정 위치에 반사되도록 선택된다.
도 5의 구성에서는, 3 개의 측정 빔이 존재하며, 이는 조합하여 세 방향으로의 성분들을 갖는다. 이 구성은 6 자유도에서 이동가능한 대상물의 위치를 계산할 만큼 충분한 정보를 제공하지 않는다. 그러므로, 6 자유도에서 이동가능한 대상물(10)의 위치를 결정하기 위해 추가 정보가 얻어져야 한다.
이 추가 정보는 단일 측정 위치(20)로 지향되는 측정 빔들을 갖는 추가 인코더 헤드들에 의해 얻어질 수 있으며, 다른 측정 위치들로 지향되는 측정 빔들을 갖는 인코더 헤드들에 의해서도 얻어질 수 있다.
도 6은 그리드 플레이트(3) 상의 단일 측정 위치(20)에서 측정하는 도 5의 3 개의 인코더 헤드(2), 및 3 개의 추가 1D 인코더 헤드를 통합하여 가능한 구성을 나타낸다. 도 5의 조합된 인코더 헤드들(2)은 이동가능한 대상물(10)의 한 코너에 배치되며, 3 개의 추가 인코더 헤드들(2)은 이동가능한 대상물(10)의 다른 코너들에 배치된다.
6 개의 인코더 헤드(2)의 측정 신호들은 6 자유도에서 이동가능한 대상물(10)의 위치를 계산하도록 처리 유닛(12)에 충분한 측정 정보를 제공한다. 이로 인해, 6 개의 별도의 1D 인코더 헤드들(2)의 사용이 기준 대상물(11) 및/또는 이동가능한 대상물(10) 상의 인코더 헤드들(2)의 장착에 대해 큰 유연성을 제공한다. 또한, 본 발명의 위치 측정 시스템은 단일 측정 위치(20)에서 이동가능한 대상물의 위치를 측정할 가능성을 제공한다.
본 명세서에서는, IC 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대하여 언급되지만, 본 명세서에 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 안내 및 검출 패턴, 평판 디스플레이(flat-panel display), 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같이 다른 적용예들을 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용예와 관련하여, 본 명세서의 "웨이퍼" 또는 "다이"라는 용어의 어떠한 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟부"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트 층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 메트롤로지 툴 및/또는 검사 툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판 처리 툴과 다른 기판 처리 툴에 본 명세서의 기재 내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수도 있다.
이상, 광학 리소그래피와 관련하여 본 발명의 실시예들의 특정 사용예를 언급하였지만, 본 발명은 다른 적용예들, 예를 들어 임프린트 리소그래피에 사용될 수 있으며, 본 명세서가 허용한다면 광학 리소그래피로 제한되지 않는다는 것을 이해할 것이다. 임프린트 리소그래피에서, 패터닝 디바이스 내의 토포그래피(topography)는 기판 상에 생성된 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스의 토포그래피는 전자기 방사선, 열, 압력 또는 그 조합을 인가함으로써 레지스트가 경화되는 기판에 공급된 레지스트 층으로 가압될 수 있다. 패터닝 디바이스는 레지스트가 경화된 후에 그 안에 패턴을 남기는 레지스트로부터 이동된다.
본 명세서에서 사용된 "방사선" 및 "빔"이라는 용어는 (예를 들어, 365, 248, 193, 157 또는 126 nm, 또는 그 정도의 파장을 갖는) 자외(UV) 방사선 및 (예를 들어, 5 내지 20 nm 범위 내의 파장을 갖는) 극자외(EUV) 방사선뿐만 아니라, 이온 빔 또는 전자 빔과 같은 입자 빔을 포함하는 모든 형태의 전자기 방사선을 포괄한다.
본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사, 자기, 전자기 및 정전기 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 형태의 광학 구성요소들 중 어느 하나 또는 그 조합으로 언급될 수 있다.
이상, 본 발명의 특정 실시예가 설명되었지만 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 예를 들어, 본 발명은 앞서 개시된 바와 같은 방법을 구현하는 기계-판독가능한 명령어의 1 이상의 시퀀스를 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되어 있는 데이터 저장 매체(예를 들어, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수 있다.
상기 서술내용은 예시를 위한 것이지, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면 아래에 설명되는 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수도 있음을 이해할 것이다.
Claims (15)
- 이동가능한 대상물의 또 다른 대상물에 대한 위치를 측정하는 위치 측정 시스템에 있어서:
상기 이동가능한 대상물 및 다른 대상물 중 하나에 장착되고, 각각 측정 방향을 따라 측정 빔을 방출하도록 구성된 2 이상의 일차원 인코더 헤드(one dimensional encoder head);
상기 이동가능한 대상물 및 다른 대상물 중 다른 하나에 장착된 기준 타겟- 상기 기준 타겟은 상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드와 상호작동하는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함함 -; 및
상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드의 출력들에 기초하여 상기 이동가능한 대상물의 위치를 계산하도록 구성된 프로세서
를 포함하며, 상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드 각각의 측정 방향은 상기 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않은 위치 측정 시스템. - 제 1 항에 있어서,
6 개의 일차원 인코더 헤드를 포함하고, 상기 프로세서는 상기 6 개의 일차원 인코더 헤드에 기초하여 6 자유도에서 상기 위치를 결정하도록 구성되는 위치 측정 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 위치 측정 시스템은 하나의 기준 타겟을 포함하는 위치 측정 시스템. - 제 1 항에 있어서,
2 이상의 기준 타겟을 포함하고, 상기 기준 타겟들은 상기 1 이상의 기준 타겟의 평평한 표면들이 실질적으로 동일한 평면 내에 놓이도록 나란히 배치되는 위치 측정 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 대상물의 공칭 위치(nominal position)에서, 상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드 중 제 1 일차원 인코더 헤드의 측정 빔과 상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드 중 제 2 일차원 인코더 헤드의 측정 빔은 상기 기준 타겟 중 하나 상의 단일 측정 위치에서 일치하는 위치 측정 시스템. - 제 5 항에 있어서,
상기 제 1 일차원 인코더 헤드의 측정 빔의 측정 방향, 및 상기 제 2 일차원 인코더 헤드의 측정 방향은 상기 각각의 기준 타겟의 평평한 표면에 실질적으로 평행한 평면에서 서로 실질적으로 수직하게 배치되는 위치 측정 시스템. - 제 5 항에 있어서,
적어도 3 이상의 일차원 인코더 헤드를 포함하고, 상기 1 이상의 인코더 헤드 중 제 3 일차원 인코더 헤드의 측정 빔이 상기 단일 측정 위치에서 일치하는 위치 측정 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드는 상기 이동가능한 대상물 상에 장착되고, 상기 1 이상의 기준 타겟은 상기 다른 대상물 상에 장착되는 위치 측정 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드 각각은 방사선 소스를 포함하는 위치 측정 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드 중 적어도 2 이상의 측정 빔들은 상기 그리드 플레이트의 평평한 표면에 대해 상이한 각도들로 지향되는 위치 측정 시스템. - 리소그래피 장치에 있어서:
방사선 빔을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 조명 시스템;
패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해, 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 패터닝 디바이스 지지체;
기판을 유지하도록 구성된 기판 지지체;
상기 기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템; 및
상기 지지체들 중 하나의 또 다른 대상물에 대한 위치를 결정하는 위치 측정 시스템
을 포함하고, 상기 위치 측정 시스템은:
상기 하나의 지지체 및 다른 대상물 중 하나에 장착되고, 각각 측정 방향을 따라 측정 빔을 방출할 수 있는 2 이상의 일차원 인코더 헤드;
상기 하나의 지지체 및 다른 대상물 중 다른 하나에 장착된 기준 타겟- 상기 기준 타겟은 상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드와 상호작동하는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함함 -; 및
상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드의 출력들에 기초하여 상기 하나의 지지체의 위치를 계산하는 프로세서
를 포함하며, 상기 2 이상의 일차원 인코더 헤드 각각의 측정 방향은 상기 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않은 리소그래피 장치. - 제 11 항에 있어서,
상기 위치 측정 시스템은 6 개의 일차원 인코더 헤드를 포함하고, 상기 프로세서는 상기 6 개의 일차원 인코더 헤드에 기초하여 6 자유도에서 상기 위치를 결정하도록 구성되는 리소그래피 장치. - 대상물에 대해 6 자유도에서 리소그래피 장치 내의 스테이지의 위치를 측정하기 위해, 상기 리소그래피 장치 내에 위치 측정 시스템을 배치하는 방법에 있어서:
각각 측정 방향으로 측정 빔을 방출할 수 있는 6 개의 일차원 인코더 헤드, 및 기준 타겟- 상기 기준 타겟은 상기 1 이상의 일차원 인코더 헤드와 상호작동하는 그리드 또는 격자를 갖는 평평한 표면을 포함함 -을 제공하는 단계;
상기 스테이지 및 상기 대상물 중 하나에 상기 일차원 인코더 헤드들을 장착하고, 상기 스테이지 및 상기 대상물 중 다른 하나에 상기 기준 타겟을 장착하는 단계- 상기 6 개의 일차원 인코더 헤드 중 적어도 2 이상의 측정 방향은 상기 각각의 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않음 -; 및
상기 인코더 헤드들의 출력들에 기초하여 상기 대상물의 위치를 계산하도록 구성된 프로세서에 상기 6 개의 일차원 인코더 헤드를 커플링(couple)하는 단계
를 포함하는 위치 측정 시스템 배치 방법. - 제 13 항에 있어서,
상기 스테이지의 공칭 위치에서, 2 또는 3 개의 일차원 인코더 헤드의 측정 빔을 동일한 측정 위치로 지향하는 상기 2 또는 3 개의 일차원 인코더 헤드를 장착하는 단계를 포함하는 위치 측정 시스템 배치 방법. - 제 13 항에 있어서,
상기 6 개의 일차원 인코더 헤드 각각의 측정 방향이 상기 각각의 기준 타겟의 평평한 표면에 수직하지 않도록 상기 6 개의 일차원 인코더 헤드를 장착하는 단계를 포함하는 위치 측정 시스템 배치 방법.
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