KR20110054084A - Fabricating method of screen for printing and a screen for printing using the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a printing screen and the printing screen are provided to reduce cost required for a printing process by forming a metal net without printing patterns. CONSTITUTION: A method for manufacturing a printing screen includes the following: A photo-resist is coated at one side of a master mold(S10). The photo-resist is exposed using a photo-mask on which dot shapes are formed(S20). A part of the photo-resist on which the dot shapes are arranged is hardened. The remained photo-resist is etched(S30). Enchant is poured to the etched photo resist in order to etch the master mold(S40). Non-etched photo-resist is developed(S50). A metal net is formed using a plating solution(S60). The metal net is separated from the master mold(S70).

Description

재판용 스크린 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 재판용 스크린{FABRICATING METHOD OF SCREEN FOR PRINTING AND A SCREEN FOR PRINTING USING THE SAME}TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION A screen for manufacturing a trial screen and a screen for trial manufactured using the same.

본 발명은 재판용 스크린 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 재판용 스크린에 관한 것으로, 사출물과 같은 기구물 표면에 문자나 형상을 인쇄하는 재판용 스크린 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 재판용 스크린에 관한 것이다.The present invention relates to a trial screen manufacturing method and a trial screen manufactured using the same, and to a trial screen manufacturing method for printing a character or shape on the surface of the instrument such as an injection molding, and a trial screen manufactured using the same. .

오늘날에는 사출물과 같은 수지에 문자나 문양을 인쇄하는 기법으로서, 실크 스크린 인쇄 기법이 주로 활용되고 있다.Today, silk screen printing is mainly used as a technique for printing letters or patterns on resins such as injection moldings.

일반적으로 실크 스크린 인쇄 기법은 직조된 메쉬 형상의 실크 스크린에다가 인쇄될 형상이 뚫린 형태로 새겨진 필름을 덮고 인쇄될 대상물에 밀착시킨 후, 필름에 유제를 도포하여 문지름으로서, 인쇄 형상이 형성된 영역의 실크 스크린에만 유제를 통과시킴으로써 문자나 문양을 인쇄하는 기법이다.In general, the silk screen printing technique covers a film engraved in a woven mesh shape on a woven mesh screen, adheres to the object to be printed, and rubs the film by applying an emulsion to the film. It is a technique of printing letters or patterns by passing an emulsion only on the screen.

한편, 이러한 직조된 메쉬 형상의 실크 스크린을 이용하는 방식과는 달리 고해상도의 문자를 형성하기 위하여, 두께가 매우 얇은 금속망에 격자모양의 인쇄 모양을 형성하고 상기 금속망을 인쇄 대상에 밀착시킨 후, 잉크 도료를 도포하여 금 속망에 형성된 인쇄 모양대로 문자나 문양을 인쇄하는 기법이다.On the other hand, in order to form a high-resolution characters, unlike the method of using the woven mesh-shaped silk screen, after forming a grid-shaped printing shape on a very thin metal mesh and closely contacting the metal mesh to the print object, It is a technique of printing letters or patterns by printing ink coating on the metal mesh.

그런데, 상기한 금속망을 이용한 방식은 격자모양의 인쇄 패턴 부위가 내구성이 취약하여 오래 사용하지 못하는 문제점을 안고 있다.However, the above-described method using the metal mesh has a problem in that the grid pattern of the printed pattern is poor in durability and thus cannot be used for a long time.

또한, 상기한 금속망을 이용한 방식은 격자모양의 인쇄 패턴을 형성하여 인쇄 모양을 결정하기 때문에 미세한 그라데이션(gradation)을 형성하기에 매우 불리한 점이 발생하게 된다.In addition, the method using the metal mesh is very disadvantageous to form a fine gradation (gradation) because the printing pattern is determined by forming a grid-shaped printing pattern.

또한, 상기한 금속망을 이용한 방식은 문자 형태의 인쇄 모양이 각인된 상태로 사용하게 되므로, 새로운 문자를 인쇄해야 하는 경우에 새로운 금속망을 제조해야 한다. 이러한 금속망은 제조비용이 가로 대비 세로의 크기가 40cm X 40cm 인 경우에 1000만원을 호가하게 되어 매우 많은 제조 비용이 소모되고 있다.In addition, the method using the metal mesh is used in a state in which the printed form of the letter is imprinted, it is necessary to manufacture a new metal mesh when it is necessary to print new characters. Such metal meshes cost 10 million won when the manufacturing cost is 40cm × 40cm in length and width, and thus a lot of manufacturing costs are consumed.

본 발명의 기술적 과제는 고품질 인쇄에 이용되는 금속망의 내구성이 향상되는 재판용 스크린 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 재판용 스크린을 제공하는 데 있다.The technical problem of the present invention is to provide a trial screen manufacturing method for improving the durability of the metal mesh used for high quality printing and a trial screen manufactured using the same.

본 발명의 다른 기술적 과제는 금속망에 인쇄 모양을 형성하지 않고도 이용할 수 있는 금속망을 제조하는 재판용 스크린 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 재판용 스크린을 제공하는 데 있다.Another technical problem of the present invention is to provide a trial screen manufacturing method for manufacturing a metal mesh that can be used without forming a printing shape on the metal mesh and a trial screen manufactured using the same.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 재판용 스크린 제조 방법은 마스터 금형의 일 면에 포토 레지스트를 코팅하는 포토 레지스트 코팅단계; 상기 포토 레지스트가 복수 개의 점 형상으로 경화되도록 복수 개의 점 형상이 형성된 포토 마스크로 상기 포토 레지스트를 노광하는 포토 레지스트 노광단계; 상기 노광된 포토 레지스트에 에칭액을 부어 상기 복수 개의 점 형상으로 경화된 부분 이외의 포토 레지스트를 식각하는 포토 레지스트 식각단계; 상기 마스터 금형에 상기 복수 개의 점 형상이 돌기 형태로 형성되도록 식각된 포토 레지스트에 부식액을 부어 넣어 상기 마스터 금형을 부식시키는 마스터 금형 에칭단계; 상기 마스터 금형에 형성된 돌기에 잔존하는 포토 레지스트를 현상하는 포토 레지스트 현상단계; 니켈액을 상기 마스터 금형에 형성된 돌기를 넘지 않도록 도금액을 부어넣고 전주도금을 실시하여 상기 도금액을 고착시킴으로서 금속망을 형성하는 전주 도금단계; 및 상기 마스터 금형에서 상기 고착된 금속망을 분리하는 금속망 분리단계; 를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 한다.Screen for producing a trial screen of the present invention for achieving the above technical problem is a photo resist coating step of coating a photo resist on one side of the master mold; A photoresist exposing step of exposing the photoresist with a photomask in which a plurality of point shapes are formed such that the photoresist is cured into a plurality of point shapes; A photoresist etching step of etching photoresists other than the portions cured into the plurality of point shapes by pouring an etchant into the exposed photoresist; A master mold etching step of corroding the master mold by pouring a corrosion solution into an etched photoresist such that the plurality of dot shapes are formed in a protrusion shape on the master mold; A photoresist developing step of developing the photoresist remaining on the protrusions formed in the master mold; A electroplating step of forming a metal network by pouring a plating solution so that the nickel liquid does not exceed the protrusions formed in the master mold and performing electroplating to fix the plating solution; And a metal net separation step of separating the fixed metal net from the master mold. And is formed to include a plurality of protrusions.

이 경우, 상기 금속망 분리단계에서 분리된 상기 금속망에는 홀을 형성하고, 상기 홀의 지름을 10μm 내지 20μm로 형성하고, 상기 홀의 중심간 피치 간격을 25μm 내지 35μm로 형성되는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that a hole is formed in the metal net separated in the metal net separation step, the diameter of the hole is 10 μm to 20 μm, and the pitch interval between the centers of the hole is 25 μm to 35 μm.

또한, 재판용 스크린 제조 방법에서는 상기 금속망의 두께를 상기 홀 지름의 60% 내지 170% 사이로 형성하는 것이 바람직하다.In the screen for manufacturing trial screen, it is preferable to form the thickness of the metal mesh between 60% and 170% of the hole diameter.

한편, 상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 재판용 스크린 제조 방법을 이용하여 제조된 재판용 스크린은 복수 개의 홀이 정배열 되어 형성되며, 니켈의 재질로 형성되고, 상기 홀의 지름은 10μm 내지 20μm 형성되며, 상기 홀의 중심간 피치 간격이 25μm 내지 35μm로 형성되는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the trial screen manufactured by using the trial screen manufacturing method for achieving the above technical problem is formed of a plurality of holes are arranged in a regular order, formed of a material of nickel, the diameter of the hole is formed of 10μm to 20μm, It is characterized in that the pitch interval between the center of the hole is formed from 25μm to 35μm.

이 경우, 상기 금속망의 두께는 홀 지름의 60% 내지 170% 사이로 형성되는 것이 바람직하다.In this case, the thickness of the metal mesh is preferably formed between 60% and 170% of the hole diameter.

또한, 상기 금속망은 문자나 문양의 인쇄 영역이 상기 복수 개 홀들로 이루어지도록 상기 인쇄 영역 이외에 미세홀들에 도포되는 유제; 를 더 포함하여 형성될 수 있다.In addition, the metal mesh is an emulsion applied to the fine holes in addition to the printing area so that the printing area of the letter or pattern consists of the plurality of holes; It may be formed to include more.

본 발명은 금속망에 원형의 미세한 홀을 형성하고, 미세한 홀의 일부를 유제로 막아 인쇄 영역을 형성하므로, 종래의 격자 모양 패턴의 금속망과는 달리 내구성이 월등히 향상되는 효과가 있다.According to the present invention, since circular fine holes are formed in the metal mesh and a part of the fine holes is blocked with an emulsion to form a print area, unlike the conventional metal grid of a grid pattern, durability is much improved.

또한, 본 발명은 금속망에 원형의 미세한 홀을 형성하고, 미세한 홀의 일부를 유제로 막아 인쇄 영역을 형성하므로, 제조 비용이 종래의 1/10인 수준으로 낮아져 제조 비용을 대폭으로 절감시키는 효과가 있다.In addition, since the present invention forms a circular fine hole in the metal mesh, and forms a printing area by blocking a portion of the fine hole with an emulsion, the manufacturing cost is lowered to the level of 1/10 of the conventional, thereby greatly reducing the manufacturing cost have.

또한, 본 발명은 다른 형태의 인쇄 영역을 형성하고자 하는 경우 금속망에 형성되는 유제를 노광 및 현상하고 또 다른 인쇄 영역이 형성되도록 유제를 다시 도포하여 다른 인쇄 영역을 할 수 있게 되어 재활용 가능하므로, 인쇄 제조 비용을 더욱 절감시키는 효과가 있다.In addition, the present invention can be recycled because it is possible to expose and develop the emulsion formed in the metal mesh when forming another type of printing area and to re-apply the oil so that another printing area is formed so that the other printing area can be recycled. There is an effect to further reduce the cost of printing manufacturing.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described embodiments of the present invention;

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법을 이루는 각각의 공정에 대해 설명하기로 한다.First, each process of forming the trial screen manufacturing method according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법의 순서도이다. 도 2는 내지 도 8은 도 1에 도시된 재판용 스크린 제조 방법의 각각의 공정에 관한 순서도이다. 여기서, 도 2 내지 도 8에서는 도 1에 도시된 재판용 스크린 제조 방법의 부분 단면도를 도시하였다. 도 9는 도 1의 재판용 스크린 제조 방법을 이용하여 제조된 재판용 스크린의 부분 사시도이다. 1 is a flowchart of a trial screen manufacturing method according to an embodiment of the present invention. 2 to 8 are flowcharts for each process of the trial screen manufacturing method shown in FIG. 2 to 8 show partial cross-sectional views of the trial screen manufacturing method shown in FIG. 1. 9 is a partial perspective view of a trial screen manufactured using the trial screen manufacturing method of FIG. 1.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법은 포토 레지스트 코팅단계(S1), 포토 레지스트 노광단계(S2), 포토 레지스트 식각단계(S3), 마스터 금형 에칭단계(S4), 포토 레지스트 현상단계(S5), 전주 도금단계(S6) 및, 금속망 분리단계(S7)를 포함하여 형성된다. As shown in FIG. 1, the screen for manufacturing a trial screen according to an embodiment of the present invention includes a photoresist coating step (S1), a photoresist exposure step (S2), a photoresist etching step (S3), and a master mold etching step. (S4), a photoresist developing step (S5), electroplating plating step (S6), and metal mesh separation step (S7) is formed.

상기 포토 레지스트 코팅단계(S1)는 도 2에 도시된 바와 같이, 마스터 금형(1)의 일 면에 포토 레지스트(2)를 코팅하는 단계이다. 본 실시예에서, 마스터 금형(1)은 두께가 10mm정도이며, 이 경우, 마스터 금형(1)의 일 면에 도포되는 포토 레지스트(2)의 두께는 1μm 정도이다.As shown in FIG. 2, the photoresist coating step S1 is a step of coating the photoresist 2 on one surface of the master mold 1. In the present embodiment, the master mold 1 has a thickness of about 10 mm, and in this case, the thickness of the photoresist 2 applied to one surface of the master mold 1 is about 1 μm.

상기 포토 레지스트 노광단계(S2)는 도 3에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트(2)가 복수 개의 점 형상으로 경화되도록 복수 개의 점 형상의 투광영역(2b1)이 형성된 포토 마스크(2b)에 광을 투과시켜 포토 레지스트(2)를 노광하는 단계이다. 여기서, 포토 마스크(2b)는 절연 필름상에 복수 개의 점 형상의 투광 영역(2b1)이 형성된 형태이다. 따라서, 노광시에 포토 마스크를 통과하는 광은 복수 개의 점 형상의 투광영역만을 통과하게 된다.In the photoresist exposing step S2, as shown in FIG. 3, light is applied to the photomask 2b in which the plurality of point-shaped light transmitting regions 2b1 are formed so that the photoresist 2 is cured into a plurality of point shapes. It transmits and exposes the photoresist 2. Here, the photomask 2b is a form in which the several light-transmitting area | region 2b1 was formed on the insulating film. Therefore, the light passing through the photomask passes through only a plurality of dot-shaped transmissive regions during exposure.

상기 포토 레지스트 식각단계(S3)는 도 4에 도시된 바와 같이, 노광된 포토 레지스트(2)에 에칭액을 부어 복수 개의 점 형상으로 경화된 부분 이외의 포토 레지스트(2)를 식각하는 단계이다. 그러면, 포토 레지스트(2)는 복수 개의 점 형상 이외의 영역이 식각되어 복수 개의 점 형상의 돌출 형태로 형성된다.As shown in FIG. 4, the photoresist etching step (S3) is a step of etching the photoresist 2 other than a portion cured into a plurality of spots by pouring an etchant into the exposed photoresist 2. Then, the regions other than the plurality of dot shapes are etched in the photoresist 2 to form a plurality of dot-shaped protrusions.

상기 마스터 금형 에칭단계(S4)는 도 5에 도시된 바와 같이, 마스트 금형에 복수 개의 점 형상이 돌기(1a) 형태로 형성되도록 식각된 포토 레지스트(2)에 부식액을 부어 넣어 마스터 금형(1)을 부식시키는 단계이다. 따라서, 마스터 금형(1)은 포토 레지스트(2)의 점 형상 이외의 영역이 부식되어 점 형상 부분이 미세 돌 기(1a)로 형성된다. 이 경우에 형성되는 미세 돌기(1a)는 원기둥 형상으로 형성되며, 지름(D1)이 15μm이고 길이가 25μm정도이다. 또한, 미세 돌기(1a)는 중심간 피치 간격(P1)이 30μm정도에 해당하도록 정배열되어 형성된다.In the master mold etching step (S4), as shown in FIG. 5, a corrosion solution is poured into a photoresist 2 etched such that a plurality of dot shapes are formed in the form of protrusions 1a in the master mold 1. To corrode. Therefore, in the master die 1, regions other than the point shapes of the photoresist 2 are corroded, and the point portions are formed by the fine protrusions 1a. The fine protrusions 1a formed in this case are formed in a cylindrical shape and have a diameter D1 of 15 µm and a length of about 25 µm. In addition, the fine protrusions 1a are formed by regular alignment so that the pitch interval P1 between the centers corresponds to about 30 μm.

상기 포토 레지스트 현상단계(S5)는 도 6에 도시된 바와 같이, 마스터 금형(1)의 돌기(1a)에 잔존하는 포토 레지스트(2)를 현상하기 위하여 상기 마스터 금형(1)에 현상액을 부어 넣어 잔존하는 포토 레지스트(2)를 제거하는 단계이다.In the photoresist developing step (S5), as shown in FIG. 6, a developer is poured into the master mold 1 to develop the photoresist 2 remaining on the protrusion 1a of the master mold 1. This is a step of removing the remaining photoresist 2.

상기 전주 도금단계(S6)는 도 7에 도시된 바와 같이, 금속액을 마스터 금형(1)에 형성된 돌기(1a)를 넘지 않도록 부어넣고 전주도금을 실시하여 금속액을 고착시킴으로서 금속망(3)을 형성하는 단계이다. 본 실시예의 경우, 금속액은 니켈액으로 형성된다. 또한, 금속액은 본 실시예에서 예시한 재질에 한정되지 않고 전주도금을 실하는 경우 니켈액과 같이 액체 상태에서 고체상태로 상변화가 쉬운 재질로 형성될 수 있다.In the electroplating step (S6), as shown in FIG. 7, the metal solution is poured into the metal mold so as not to exceed the protrusions 1a formed in the master mold 1, and the electroplating is performed to fix the metal solution to the metal mesh 3. Forming a step. In the case of this embodiment, the metal liquid is formed of a nickel liquid. In addition, the metal liquid is not limited to the material exemplified in the present embodiment and may be formed of a material which is easy to change phase from a liquid state to a solid state such as nickel liquid when electroplating is performed.

상기 금속망 분리단계(S7)는 도 8에 도시된 바와 같이, 마스터 금형(1)에서 고착된 니켈 재질의 금속망(3)을 분리하는 단계이다. As shown in FIG. 8, the metal mesh separating step S7 is a step of separating the metal mesh 3 of the nickel material fixed from the master mold 1.

상기한 바와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법으로 제조된 재판용 스크린인 금속망(3)은 도 9에 도시된 바와 같이 복수 개의 홀(3a)이 형성되고, 이 경우 홀 지름(D1)은 15μm정도에 홀들의 중심 피치 간격(P1)이 30μm정도로 정배열되는 홀들이 형성된다. 이 경우, 금속망(3)은 두께가 20μm정도로 형성된다. The metal screen 3, which is a trial screen manufactured by the trial screen manufacturing method according to an embodiment of the present invention as described above, is formed with a plurality of holes 3a, as shown in FIG. The diameter D1 is about 15 μm, and holes are formed in which the center pitch interval P1 of the holes is regularly arranged at about 30 μm. In this case, the metal mesh 3 is formed in about 20 micrometers in thickness.

본 실시예에서, 금속망(3)에 형성되는 홀의 지름(D1)은 15μm정도로 설명하 였지만, 홀의 지름(D1)은 10μm 내지 20μm로 형성되는 것이 바람직하다. 이 경우, 홀의 지름(D1)이 10μm 보다 작게 되면 잉크가 잘 스며들지 않아 인쇄 모양이 흐려질 수 있으며, 홀의 지름(D1)이 20μm보다 크면 잉크가 겹쳐져 번지는 현상이 발생할 수 있다. 또한, 본 실시예에서 복수 개의 홀(3a)은 중심간 피치 간격(P1)이 30μm로 예시하였지만, 복수 개의 홀(3a)은 중심간 피치 간격(P1)이 25μm 내지 35μm로 형성되는 것이 바람직하다. 이러한 복수 개의 홀(3a)은 중심간 피치 간격(P1)이 25μm보다 작게 형성되는 경우, 잉크가 겹쳐져 번지는 현상이 발생할 수 있으며, 복수 개의 홀(3a)은 중심간 피치 간격(P1)이 35μm보다 크게 형성되는 경우 잉크가 흘려질 수 있는 현상이 발생될 수 있다.In the present embodiment, the diameter (D1) of the hole formed in the metal mesh 3 is described as about 15μm, the diameter (D1) of the hole is preferably formed of 10μm to 20μm. In this case, when the diameter D1 of the hole is smaller than 10 μm, ink may not penetrate well, and the printing shape may be blurred. When the diameter D1 of the hole is larger than 20 μm, the ink may overlap and bleed. In addition, in the present embodiment, the pitch spacing P1 between centers is exemplified by 30 μm in the plurality of holes 3a, but the pitch spacing P1 between centers is preferably 25 μm to 35 μm. . When the plurality of holes 3a are formed to have a pitch interval P1 between centers smaller than 25 μm, the ink may overlap and spread, and the plurality of holes 3a may have a pitch interval P1 of 35 μm between the centers. When formed larger, a phenomenon may occur in which ink may be spilled.

또한, 본 실시예에서, 금속망(3)의 두께는 20μm정도로 예시하였지만, 금속망(3)의 두께(DT1)는 홀 지름(D1)의 60% 내지 170% 사이의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 이 경우, 금속망(3)의 두께(DT1)는 홀 지름(D1)의 60%보다 작게 형성되는 경우 내구성이 취약해져 크랙(crack)이 발생할 수 있으며, 금속망(3)의 두께(DT1)는 홀 지름(D1)의 170%보다 크게 형성되는 경우 홀의 경로가 길어져 홀에 잉크의 투입이 잘 이루어지지 않아 인쇄 불량이 발생할 수 있게 된다.In addition, in the present embodiment, the thickness of the metal mesh 3 is illustrated as about 20 μm, the thickness DT1 of the metal mesh 3 is preferably formed to a thickness between 60% and 170% of the hole diameter D1. Do. In this case, when the thickness DT1 of the metal mesh 3 is smaller than 60% of the hole diameter D1, the durability may be weak and cracks may occur, and the thickness DT1 of the metal mesh 3 may be reduced. When is formed larger than 170% of the hole diameter (D1) is a long path of the hole is not good injection of ink into the hole may cause a printing failure.

이하에서는 상기한 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법 및 이를 이용하여 금속망(3)을 이용한 스크린 인쇄 방법에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a trial screen manufacturing method and a screen printing method using a metal mesh 3 using the trial screen according to an embodiment of the present invention will be described.

먼저, 상기한 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법으로 제조된 금속망(3)은 홀(3a)이 형성되는데, 이 경우 홀(3a)은 지름(D1)이 15μm정도에 홀(3a)들의 중심 피치 간격(P1)이 30μm정도로 정배열되는 형태로 형성된다.First, the metal mesh 3 manufactured by the trial screen manufacturing method according to the embodiment of the present invention described above is formed with a hole 3a, in which case the hole 3a has a diameter D1 of about 15 μm. The center pitch intervals P1 of (3a) are formed in a form of regular alignment of about 30 μm.

이러한 금속망(3)은 재판용 실크 스크린 대용으로 쓰이게 되는데, 도 10 및 도 11에서는 금속망(3)을 이용하여 사출물(5)의 표면에 인쇄층을 형성하는 공정이 도시되어 있다.This metal mesh 3 is used as a substitute for the trial silk screen. In FIGS. 10 and 11, a process of forming a printing layer on the surface of the injection molding 5 using the metal mesh 3 is illustrated.

도 10은 사출물(5)의 표면에 문자 인쇄를 하기 위하여 감광액인 유제(4)가 일정 부위 코팅된 상태의 금속망(3)을 인쇄대상인 사출물(5)의 표면에 밀착시킨 상태의 부분 사시도이다. 도 11은 도 10에 도시된 사출물(5)에 인쇄가 끝나고 난 후의 인쇄 영역을 표현한 부분 사시도이다.FIG. 10 is a partial perspective view of a metal mesh 3 in a state where a photosensitive liquid emulsion 4 is coated on a surface of an injection molded object 5 in order to print text on the surface of the injection molded product 5. . FIG. 11 is a partial perspective view of a printing area after the printing is finished on the injection molded product 5 shown in FIG. 10.

먼저, 도 10에 도시된 바와 같이, 인쇄 대상인 사출물(5)의 표면에 문자를 인쇄하기 위하여 금속망(3)에 문자와 같은 인쇄 영역이 형성되는 부위 이외에 감광액인 유제(4)를 도포하여 미세홀(3a)을 막게 된다. 본 실시예의 경우, 금속망(3)에 형성되는 인쇄 영역은 'ㄱ'의 글자(3b) 형상이다.First, as shown in FIG. 10, in order to print a character on the surface of the injection molded object 5 to be printed, a fine film is applied to the metal mesh 3 by applying an emulsion 4, which is a photosensitive liquid, in addition to a portion where a print area such as a character is formed. The hole 3a is blocked. In the case of this embodiment, the printing area formed in the metal mesh 3 is in the shape of the letter 3b of "a".

상기한 인쇄 영역의 형태로 인쇄를 하기 위하여 금속망(3)을 사출물(5)의 표면과 밀착시킨 상태로 잉크 도료를 'ㄱ'의 글자(3b) 형상부위에 도포한 상태에서 스크러버(미도시)로 문지르게 되면, 도 11에 도시된 바와 같이, 'ㄱ'의 글자(3b) 형상을 통과한 잉크 도료는 사출물(5)의 표면에 문자 'ㄱ'의 글자(3c) 형상의 이미지로 인쇄된다.In order to print in the form of the above-described print area, a scrubber (not shown) in which the ink coating is applied to the shape of the letter 3b of the letter 'b' while the metal mesh 3 is in close contact with the surface of the injection molded product 5. When rubbed, the ink paint passing through the letter '3' of the letter 'b' is printed in the image of the letter 'c' of the letter 'c' on the surface of the injection molding 5, as shown in FIG. do.

이 경우, 사출물(5)의 표면에는 문자'ㄱ'의 글자(3c) 형상을 확대하여 보면, 지름(D1)이 15μm정도에 중심 피치 간격(P1)이 30μm정도로 정배열되는 점들(3d)로 이루어져 있다. 이때의 해상도는 800dpi급으로 우수한 인쇄 품질을 형성하게 된다.In this case, when the shape of the letter '3' of the letter 'a' is enlarged on the surface of the injection molded product 5, the diameter D1 is composed of points 3d having a diameter D1 of approximately 15 μm and a center pitch interval P1 of approximately 30 μm. have. At this time, the resolution is 800 dpi to form excellent print quality.

만약, 다른 문자 형태로 인쇄를 하고자 하는 경우에는 금속망(3)의 유제(4)에 노광을 실시하고 유제(4)를 현상하여 제거한 후, 인쇄하고자하는 형상을 띄는 또 다른 인쇄 영역 이외에 유제(4)를 도포하여 다시 미세한 홀(3a)을 막게 됨으로써, 다른 형상으로 문자 형태로 인쇄를 실시할 수 있게 된다.If it is desired to print in a different letter form, the emulsion 4 is exposed to the oil 4 of the metal mesh 3, the oil 4 is developed and removed, and then, in addition to another printing area having a shape to be printed, By applying 4), the fine holes 3a are again blocked, whereby printing can be performed in a different shape.

상기한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 금속망(3)은 종래와 같이 금속망(3)에 문자를 새겨 넣는 방식이 아니라 금속망(3)에 복수 개의 미세한 홀(3a)을 형성한 후 인쇄 영역 이외에 미세홀(3a)들을 유제(4)로 막게 되는 형태로 제조됨으로써, 고해상도의 인쇄를 할 수 있게 된다.As described above, the trial screen manufacturing method according to an embodiment of the present invention and the metal mesh 3 manufactured by using the metal mesh 3 are not a method of engraving letters into the metal mesh 3 as in the related art. After forming a plurality of fine holes (3a) in the form is formed in such a way that the fine holes (3a) in addition to the printing area is blocked by the oil agent (4), it is possible to print in high resolution.

이 경우, 금속망(3)은 원형의 미세한 홀(3a)들로 이루어져 있어, 종래의 격자 모양 패턴의 금속망(3)과는 달리 내구성이 월등히 향상되어 거의 영구적으로 이용할 수 있게 된다.In this case, the metal mesh 3 is composed of circular fine holes 3a, and unlike the conventional metal mesh 3 of the conventional grid pattern, the durability is greatly improved and can be used almost permanently.

또한, 종래의 금속망(3)은 가로 대비 세로의 크기 40cm X 40cm 정도의 크기인 경우 1000만원 정도의 제조 비용이 들어가는데, 본 발명의 일 실시예에 따른 금속망(3)은 가로 대비 세로의 크기 40cm X 40cm 정도의 크기인 경우 종래의 1/10인 수준인 100만원 정도만이 들어가게 되어 인쇄 비용이 대폭으로 절감된다.In addition, the conventional metal mesh 3 has a manufacturing cost of about 10 million won in the case of the size of about 40cm X 40cm of the vertical to horizontal, the metal mesh 3 according to an embodiment of the present invention is a vertical When the size of about 40cm x 40cm size is about 1 million won, which is the level of 1/10 of the conventional, the printing cost is greatly reduced.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 금속망(3)은 인쇄 영역을 형성하는 유제(4)를 노광 및 현상한 후, 다시 유제(4)로 다른 인쇄 영역을 형성하여 다른 모양으로 인쇄할 수 있다. 즉, 금속망(3)은 종래와 같이 하나의 인쇄 영역만으로 인쇄할 수 밖에 없는 금속망(3)과는 달리 유제(4)를 노광 및 현상하고 유제(4)를 다시 도포하여 다른 인쇄 영역을 할 수 있게 되므로, 재활용 할 수 있게 된다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 금속망(3)을 이용하게 되면, 인쇄 제조 비용을 더욱 절감시킬 수 있게 된다.In addition, the metal mesh 3 according to an embodiment of the present invention may expose and develop an oil agent 4 forming a print area, and then may form another print area with the oil agent 4 to print in a different shape. have. That is, unlike the metal mesh 3 which can only print with only one printing area as in the prior art, the metal mesh 3 exposes and develops the oil agent 4, and reapplies the oil agent 4 to apply another printing area. You can do it, so you can recycle it. Therefore, by using the metal mesh 3 according to an embodiment of the present invention, it is possible to further reduce the printing manufacturing cost.

더불어, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스터 금형(1)은 금속망(3)의 크기별로 각각 제작하여 보관한 후, 필요에 따라 마스터 금형(1)에서 금속망(3)만을 제조하여 이용할 수 있으므로, 제조 공정이 매우 간편해지며 제조 비용도 감소하게 된다.In addition, the master mold (1) according to an embodiment of the present invention can be manufactured and stored for each size of the metal mesh (3), and can be used to manufacture only the metal mesh (3) in the master mold (1) as needed. Therefore, the manufacturing process is very simple and the manufacturing cost is reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 재판용 스크린 제조 방법의 순서도.1 is a flow chart of a trial screen manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

도 2는 내지 도 8은 도 1에 도시된 재판용 스크린 제조 방법의 각각의 공정에 관한 순서도. 2 to 8 are flowcharts for each process of the trial screen manufacturing method shown in FIG.

도 9는 도 1의 재판용 스크린 제조 방법을 이용하여 제조된 재판용 스크린의 부분 사시도.FIG. 9 is a partial perspective view of a trial screen made using the trial screen manufacturing method of FIG. 1. FIG.

도 10은 인쇄 대상물인 사출물의 표면에 문자 인쇄를 하기 위하여 감광액인 유제가 일정 부위 코팅된 상태의 금속망을 인쇄대상인 사출물의 표면에 밀착시킨 상태의 부분 사시도. FIG. 10 is a partial perspective view of a metal network in which a photoresist emulsion is coated on a surface of an injection target to be printed in order to print text on the surface of the injection target.

도 11은 도 10에 도시된 사출물에 인쇄가 끝나고 난 후의 인쇄 영역을 표현한 부분 사시도.FIG. 11 is a partial perspective view of a printing area after finishing printing on the injection molded product shown in FIG. 10; FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1 ; 마스터 금형 2 ; 포토 레지스트One ; Master mold 2; Photoresist

3 ; 금속망 4 ; 유제 3; Metal mesh 4; emulsion

5 ; 사출물5; Injection

Claims (6)

마스터 금형의 일 면에 포토 레지스트를 코팅하는 포토 레지스트 코팅단계;A photoresist coating step of coating a photoresist on one surface of the master mold; 상기 포토 레지스트가 복수 개의 점 형상으로 경화되도록 복수 개의 점 형상이 형성된 포토 마스크로 상기 포토 레지스트를 노광하는 포토 레지스트 노광단계;A photoresist exposing step of exposing the photoresist with a photomask in which a plurality of point shapes are formed such that the photoresist is cured into a plurality of point shapes; 상기 노광된 포토 레지스트에 에칭액을 부어 상기 복수 개의 점 형상으로 경화된 부분 이외의 포토 레지스트를 식각하는 포토 레지스트 식각단계;A photoresist etching step of etching photoresists other than the portions cured into the plurality of point shapes by pouring an etchant into the exposed photoresist; 상기 마스터 금형에 상기 복수 개의 점 형상이 돌기 형태로 형성되도록 식각된 포토 레지스트에 부식액을 부어 넣어 상기 마스터 금형을 부식시키는 마스터 금형 에칭단계;A master mold etching step of corroding the master mold by pouring a corrosion solution into an etched photoresist such that the plurality of dot shapes are formed in a protrusion shape on the master mold; 상기 마스터 금형에 형성된 돌기에 잔존하는 포토 레지스트를 현상하는 포토 레지스트 현상단계;A photoresist developing step of developing the photoresist remaining on the protrusions formed in the master mold; 니켈액을 상기 마스터 금형에 형성된 돌기를 넘지 않도록 도금액을 부어넣고 전주도금을 실시하여 상기 도금액을 고착시킴으로서 금속망을 형성하는 전주 도금단계; 및A electroplating step of forming a metal network by pouring a plating solution so that the nickel liquid does not exceed the protrusions formed in the master mold and performing electroplating to fix the plating solution; And 상기 마스터 금형에서 상기 고착된 금속망을 분리하는 금속망 분리단계; 를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 재판용 스크린 제조 방법.A metal net separation step of separating the fixed metal net from the master mold; Screen for producing a trial screen, characterized in that it comprises a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금속망 분리단계에서 분리된 상기 금속망에는 홀을 형성하고, 상기 홀 의 지름을 10μm 내지 20μm로 형성하고, 상기 홀의 중심간 피치 간격을 25μm 내지 35μm로 형성하는 것을 특징으로 하는 재판용 스크린 제조 방법.Forming a hole in the metal network separated in the metal network separation step, the screen of the trial characterized in that the diameter of the hole to form a 10μm to 20μm, the pitch interval between the center of the hole to form a 25μm to 35μm Way. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 금속망의 두께를 상기 홀 지름의 60% 내지 170% 사이로 형성하는 것을 특징으로 하는 재판용 스크린 제조 방법.And the thickness of the metal mesh is formed between 60% and 170% of the hole diameter. 복수 개의 홀이 정배열 되어 형성되며, 니켈의 재질로 형성되고, 상기 홀의 지름은 10μm 내지 20μm 형성되며, 상기 홀의 중심간 피치 간격이 25μm 내지 35μm로 형성되는 것을 특징으로 하는 재판용 스크린.A plurality of holes are formed in a regular array, formed of a nickel material, the diameter of the hole is 10μm to 20μm, the pitch screen between the center of the hole is characterized in that the 25μm to 35μm formed. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 금속망의 두께는 홀 지름의 60% 내지 170% 사이로 형성되는 것을 특징으로 하는 재판용 스크린.And the thickness of the metal mesh is formed between 60% and 170% of the hole diameter. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 금속망은 문자나 문양의 인쇄 영역이 상기 복수 개 홀들로 이루어지도록 상기 인쇄 영역 이외에 미세홀들에 도포되는 유제; 를 더 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 재판용 스크린.The metal mesh is an emulsion applied to the fine holes in addition to the printing area so that the printing area of the letter or pattern consists of the plurality of holes; A trial screen, characterized in that it further comprises.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04339650A (en) * 1990-06-18 1992-11-26 Asahi Glass Co Ltd Manufacture of screen plate for printing heating element pattern and formation of heating element to surface of plate glass
KR20020072869A (en) * 2001-03-13 2002-09-19 삼성에스디아이 주식회사 Screen printer and flat display panel fabricated using the same
KR20080039181A (en) * 2006-10-31 2008-05-07 후지츠 히다찌 플라즈마 디스플레이 리미티드 Screen mask
KR20080109014A (en) * 2006-04-07 2008-12-16 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 Method for manufacturing screen printing mask with resin, and screen printing mask with resin

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04339650A (en) * 1990-06-18 1992-11-26 Asahi Glass Co Ltd Manufacture of screen plate for printing heating element pattern and formation of heating element to surface of plate glass
KR20020072869A (en) * 2001-03-13 2002-09-19 삼성에스디아이 주식회사 Screen printer and flat display panel fabricated using the same
KR20080109014A (en) * 2006-04-07 2008-12-16 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 Method for manufacturing screen printing mask with resin, and screen printing mask with resin
KR20080039181A (en) * 2006-10-31 2008-05-07 후지츠 히다찌 플라즈마 디스플레이 리미티드 Screen mask

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