KR20110048900A - Shearing system of rubbing cloth and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A rubbing cloth shearing system and a method for manufacturing rubbing cloth are provided to effectively remove foreign material and to enhance productivity. CONSTITUTION: A rubbing cloth shearing system comprises: a shearing unit(50) for shearing pile yarn of rubbing fabric(10a); a foreign material removing unit for removing foreign materials(13a) from the pile yarn. The foreign material removing unit comprises a foreign material separation unit(110) for separating foreign materials from the pile yarn; and an inhaling unit(120) for inhaling foreign materials. A method for manufacturing the rubbing cloth comprises: a step of shearing the rubbing fabric; a step of removing the foreign materials from the pile yarn; and a step of inhaling foreign materials.

Description

러빙포 전모시스템 및 러빙포 제조방법{Shearing System of Rubbing Cloth and Manufacturing Method thereof}Shearing System of Rubbing Cloth and Manufacturing Method

본 발명은 러빙포 전모시스템 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액정표시장치 등의 전자기기에 제조에 사용되는 러빙포의 잔류 이물을 효과적으로 제거할 수 있는 러빙포 전모시스템 및 러빙포 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a rubbing cloth whole system and a manufacturing method thereof, and more particularly, to manufacturing a rubbing cloth whole system and a rubbing cloth which can effectively remove the remaining foreign matter of the rubbing cloth used for manufacturing electronic devices such as liquid crystal display devices. It is about a method.

일반적으로 러빙포(Rubbing cloth)는 액정 분자의 배향을 제어하기 위하여 LCD(액정표시장치) 기판의 표면을 문지르는 러빙 공정에 사용되거나, LCD 광학필름 등과 같은 전자기기용 부품 등의 표면 러빙을 위해 사용되는 섬유소재이다. 그리고 상기 러빙포는 OPC(Organic Photoconducting Cartridge 또는Organic Photoconductor) 드럼 클리너(Drum Cleaner)용 섬유포 등의 용도로도 사용될 수 있다. In general, a rubbing cloth is used for a rubbing process that rubs the surface of an LCD (liquid crystal display) substrate to control the orientation of liquid crystal molecules, or for rubbing surfaces such as electronic components such as LCD optical films. It is a fiber material. The rubbing cloth may also be used for applications such as fiber cloth for organic photoconducting cartridge or organic photoconductor drum cleaner.

상기 액정표시장치는 저전압 구동, 저소비 전력, 풀 칼라 구현, 경박 단소 등의 특징을 가지며, 시계, 계산기, PC용 모니터, 노트북 등으로부터 항공용 모니터, 개인 휴대용 단말기 등에 다양하게 적용되고 있다.The liquid crystal display has characteristics such as low voltage driving, low power consumption, full color, light weight and small size, and has been applied to a variety of applications such as watches, calculators, PC monitors, notebook computers, aviation monitors, personal portable terminals, and the like.

이와 같은 액정표시장치는 크게 화상을 표시하는 액정표시패널과 상기 액정 표시패널을 구동하는 회로부로 나뉘어진다.Such a liquid crystal display device is largely divided into a liquid crystal display panel for displaying an image and a circuit unit for driving the liquid crystal display panel.

여기서, 상기 액정표시패널은 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT) 어레이가 형성된 TFT 기판과 컬러 필터 어레이가 형성된 컬러필터기판(이하 CF기판이라고 약칭함)을 서로 나란하게 미세한 간격을 두고 배치하고, 그 사이에 액정을 주입하거나 적하시킨다.Herein, the liquid crystal display panel includes a TFT substrate on which a thin film transistor (TFT) array is formed and a color filter substrate on which a color filter array is formed (hereinafter abbreviated as CF substrate) are arranged at minute intervals in parallel with each other. The liquid crystal is injected or dropped in between.

상기 TFT 기판의 표면에는 화소 전극으로서 패턴화된 ITO 전극이 형성되며, 상기 ITO 전극의 표면위에는 배향막이 코팅되며, 상기 배향막은 상기 액정과 접촉하게 된다.A patterned ITO electrode is formed on the surface of the TFT substrate as a pixel electrode, an alignment film is coated on the surface of the ITO electrode, and the alignment film comes into contact with the liquid crystal.

그리고 상기 CF 기판의 표면에는 공통 전극으로서 ITO 전극이 위치하며, 상기 TFT 기판과 마찬가지로 상기 ITO 전극의 표면위에 배향막을 코팅 처리하게 된다. 이들 TFT 기판과 CF 기판은 배향막이 서로 마주하도록 하여 배치되며, 두 기판의 배향막은 모두 상기 액정과 접촉하게 된다.An ITO electrode is positioned as a common electrode on the surface of the CF substrate, and the alignment film is coated on the surface of the ITO electrode like the TFT substrate. These TFT substrates and CF substrates are arranged so that the alignment films face each other, and the alignment films of both substrates come into contact with the liquid crystal.

한편, 상기와 같이 구성되는 액정표시장치의 제조공정은, 유리기판 상에 배선패턴이나 박막 트랜지스터 등의 스위칭 소자 등을 형성하는 어레이 공정, 배향처리나 스페이서(spacer) 배치 및 서로 대향하는 기판들 사이에 액정을 봉입하는 셀 공정, 그리고 드라이버(Driver) IC의 부착이나 백 라이트(Back Light) 장착 등을 하는 모듈(Module) 공정에 의하여 제작된다.On the other hand, the manufacturing process of the liquid crystal display device configured as described above is an array process for forming a switching element such as a wiring pattern, a thin film transistor, etc. on a glass substrate, an alignment process or a spacer arrangement and between the substrates facing each other It is manufactured by a cell process of encapsulating liquid crystal in a module, and a module process of attaching a driver IC or attaching a back light.

여기서, 상기 셀 공정은 액정 배향을 유도하기 위한 러빙 공정을 포함하여 기판의 합착, 액정의 주입 등과 같은 일련의 공정을 거쳐 이루어지는데, 상기 러빙공정은 상기 액정 분자의 배향을 유도하기 위해 상기 TFT 기판과 CF 기판의 배향막 을 배향처리하는 공정이다.In this case, the cell process includes a rubbing process for inducing liquid crystal alignment, and a series of processes such as bonding of a substrate, injection of liquid crystal, and the like, wherein the rubbing process is performed to induce the alignment of the liquid crystal molecules. And the alignment film of the CF substrate.

상기와 같은 배향막의 배향처리 방법으로는 러빙포를 이용하여 상기 배향막 표면을 문지르는 러빙법이 주로 이용되고 있다.As the alignment treatment method of the alignment film as described above, a rubbing method of rubbing the surface of the alignment film using a rubbing cloth is mainly used.

도 1을 참조하면, 러빙포(10)는 통상 원통형의 러빙 롤러(1)의 외주면을 감싸도록 상기 러빙 롤러(1)의 표면에 접착되며, 상기 러빙포(10)가 배향막(2) 표면에 접촉된 상태로 상기 러빙 롤러(1)가 회전하면 상기 배향막(2)의 표면이 상기 러빙포(10)에 의해 문질러지면서 상기 러빙공정이 수행된다.Referring to FIG. 1, the rubbing cloth 10 is adhered to the surface of the rubbing roller 1 so as to surround the outer circumferential surface of the cylindrical rubbing roller 1, and the rubbing cloth 10 is attached to the surface of the alignment layer 2. When the rubbing roller 1 rotates in the contacted state, the rubbing process is performed while the surface of the alignment layer 2 is rubbed by the rubbing cloth 10.

한편, 도 2를 참조하면, 상기 러빙포(10)는, 일반적으로 경사(11)와 위사(12)로 이루어진 원단 조직(지조직)에 파일사(13)들을 심은 벨벳 원단의 형태로서 기모공정에 의해 제조된다.Meanwhile, referring to FIG. 2, the rubbing cloth 10 is a raising process in the form of a velvet fabric in which pile yarns 13 are planted in a fabric structure (paper tissue), which is generally composed of a warp yarn 11 and a weft yarn 12. Is prepared by.

상기 러빙포(10)는 파일의 굵기 및 원단에 사용하는 실의 굵기를 변화시킴으로써 파일밀도가 조정되며, 원단에서의 절모 방법에 의해 파일 길이가 결정된다.The rubbing cloth 10 adjusts the pile density by changing the thickness of the pile and the thickness of the yarn used for the fabric, and the pile length is determined by the method of cutting the fabric.

여기서, 상기 파일사(11)로 사용하는 섬유는 레이온 및 나일론 같은 장섬유를 사용한 것과 면과 같은 단섬유를 사용한 것이 있다.Here, the fibers used for the pile yarn 11 may be those using long fibers such as rayon and nylon and short fibers such as cotton.

상기 러빙포의 제조를 위하여, 상기 러빙포용 벨벳직물, 즉 러빙포 원단을 탈호, 정련한 뒤 기모를 위한 브러시 공정을 수행하여 상기 파일사의 방향과 기모각도를 맞춤으로써 상기 파일사에 직립성과 방향성을 부여된다. 그리고 상기 원단조직으로부터 상기 파일사(13)가 탈락되지 않도록, 상기 원단조직의 배면(파일사의 반대면)이 수지로 코팅처리되며, 상기 코팅처리가 수행된 후에 상기 러빙포 원단에 전모공정을 수행하여 상기 파일사(13)의 길이를 균일하게 정리함으로써 상기 러빙 포 원단의 파일 두께가 균일하게 맞춰진다.In order to manufacture the rubbing cloth, the velvet fabric for the rubbing cloth, that is, rubbing the fabric of the rubbing cloth, and then brushing for brushing and brushing for brushing to match the direction and the raising angle of the pile yarn to the pile yarn Is given. And the back surface (opposite side of the pile yarn) of the fabric tissue is coated with a resin so that the pile yarn 13 does not fall off from the fabric tissue, and after the coating treatment is performed, the rubbing cloth fabric is subjected to a hair wool process. By arranging the length of the pile yarn 13 uniformly, the pile thickness of the rubbing cloth fabric is uniformly adjusted.

상기 러빙공정에 사용되는 상기 러빙포의 파일 두께와 상기 파일사(13)의 기모정도 및 상기 파일사의 방향에 의해 배향품질이 달라지게 되며, 특히 상기 파일사(13)들간에 길이 편차가 발생하여 상기 파일 두께가 고르지 못하면 러빙불량에 의해 액정표시장치의 품질이 저하된다.Orientation quality varies depending on the pile thickness of the rubbing cloth used in the rubbing process, the degree of raising of the pile yarn 13 and the direction of the pile yarn, and in particular, a length deviation occurs between the pile yarns 13 If the pile thickness is uneven, the quality of the liquid crystal display is degraded due to poor rubbing.

상기 러빙포 원단의 파일사(13)는 제직 공정에서 불균일한 길이로 절단되기 때문에 생지 전모에서 1차적으로 파일사들간의 길이편차가 줄여지게 된다. 그리고, 상기 러빙포 원단이 수세공정, 브러시 공정 및 코팅 공정등을 거치면서 부분적으로 파일이 눕거나 돌출되는 부분이 발생하는 등 파일두께 편차가 발생하기 때문에, 상기 러빙포 원단은 상기 코팅공정 후에 도 3에 도시되는 전모장치에 의해 재차 전모공정을 거치게 된다.Since the pile yarn 13 of the rubbing cloth fabric is cut to a non-uniform length in the weaving process, the length deviation between pile yarns is primarily reduced in whole hair. In addition, the rubbing cloth fabric is subjected to a washing process, a brush process, and a coating process, so that the file thickness variation occurs, such as a portion of the file lying down or protruding. The hair removal apparatus shown in 3 undergoes the hair removal process again.

그러나, 상기 가공 공정에서 파일사(13)에 부착된 이물, 전모 공정에서 생성되어 상기 러빙포 원단에서 분리되지 않고 파일사(13)에 부착된 파일 이물 등 러빙포 잔류 이물(10a)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 러빙 공정에서 배향막에 탈락되어 기판상에 잔존하게 되므로 액정 구동을 불균일하게 하는 불량으로 작용하게 된다. 특히 액정 표시장치 제조용 러빙포의 경우 상기 파일사로서 비중이 높은 셀롤로스계 파일을 사용함으로써 러빙포 제조 공정중의 일반적인 수세공정에 의해서 상기 러빙포 잔류 이물을 완전히 제거하기는 어렵다.However, the remaining foreign material 10a, such as foreign matter attached to the pile yarn 13 in the processing step, pile foreign matter generated in the whole wool process and not separated from the rubbing cloth fabric, and attached to the pile yarn 13, is illustrated in FIG. As shown in Fig. 4, it is eliminated by the alignment film in the rubbing process and remains on the substrate, thereby acting as a defect that makes the liquid crystal drive uneven. In particular, in the case of a rubbing cloth for manufacturing a liquid crystal display device, it is difficult to completely remove the rubbing cloth residue by a general washing process in a rubbing cloth manufacturing process by using a cellulose-based pile having a high specific gravity as the pile yarn.

따라서 러빙 공정에서는 배향막 러빙 후에 이소프로필알코올과 물을 사용해서 수세공정을 수행함으로써 기판의 러빙시 배향막에 탈락된 이물을 제거해 주게 된다. 이러한 수세 공정은 사용하는 용매의 조성에 따라서 효과가 달라지게 되는데 이소프로필알코올의 농도가 높아지면 잔류 이물의 수세는 잘 되나, 러빙 효과가 떨어져 액정 배향력이 약해지고, 이소프로필알코올의 농도가 낮아지면 잔류 이물이 잘 제거되지 않는 문제점이 발생한다. 또한 수세 공정이 길어질수록 공정 비용이 증가해 액정 표시장치의 제조 비용이 올라가기 때문에 액정 표시장치 제조업체에서는 수세 공정을 줄이고, 이소프로필알코올의 농도를 낮추는 방향으로 공정 개선이 이루어지고 있는 현실이다.Therefore, in the rubbing process, after washing the alignment layer, the washing process is performed using isopropyl alcohol and water to remove foreign substances dropped on the alignment layer during rubbing of the substrate. The effect of this washing process is different depending on the composition of the solvent used. If the concentration of isopropyl alcohol is high, the residual water is washed well, but the rubbing effect is reduced, so that the liquid crystal alignment force is weak, and the concentration of isopropyl alcohol is low. The problem is that residual foreign matters are not easily removed. In addition, the longer the washing process, the higher the process cost and the higher the manufacturing cost of the liquid crystal display. Thus, liquid crystal display manufacturers are improving the process in order to reduce the washing process and lower the concentration of isopropyl alcohol.

이에 본 발명자는 따라서 액정 표시장치 제조용 러빙포에 잔존하는 이물질을 최소화하여 수세 공정에서의 수세 효율을 최대화 할 수 있는 러빙포의 전모 시스템을 개발하게 되었다.Accordingly, the present inventors have developed a rubbing cloth whole system that can maximize the washing efficiency in the washing process by minimizing foreign substances remaining in the rubbing cloth for manufacturing a liquid crystal display device.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 러빙포의 잔류 이물을 효과적으로 제거할 수 있는 러빙포 전모시스템 및 제조방법을 제공하는 데 있다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a rubbing cloth whole system and a manufacturing method that can effectively remove the remaining foreign matter of the rubbing cloth.

본 발명의 다른 목적은, 전모공정후 이물질 제거유닛을 통해 러빙포의 잔류 이물을 효과적으로 제거함으로써 러빙 공정시 러빙포 잔류 이물로 인해 발생하는 액정표시장치의 불량을 방지 또는 최소화할 수 있는 러빙포 전모시스템 및 제조방법을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention, by effectively removing the remaining foreign matter of the rubbing cloth through the foreign matter removal unit after the entire hair process rubbing cloth that can prevent or minimize the defect of the liquid crystal display device caused by the foreign matter remaining in the rubbing process It is to provide a system and a manufacturing method.

본 발명의 또 다른 목적은, 러빙포 잔류 이물을 제거하기 위한 시스템을 단순화하여 공정비용 및 액정 표시장치의 제조비용을 절감할 수 있는 러빙포 전모시스템 및 제조방법을 제공하기 위한 것이다.Still another object of the present invention is to provide a rubbing cloth whole system and a manufacturing method which can reduce the process cost and the manufacturing cost of the liquid crystal display by simplifying the system for removing the remaining rubbing cloth.

상술한 목적을 해결하기 위하여, 본 발명은: 러빙포 원단의 파일사들을 전모하는 전모유닛; 그리고 상기 전모유닛의 하류에 구비되어 상기 전모유닛으로부터 인출되는 러빙포 원단의 파일사에 잔류하는 이물질을 제거하는 이물질 제거유닛을 포함하여 구성되는 러빙포 전모시스템을 제공한다.In order to solve the above object, the present invention includes: a woolen unit for woolen yarns of rubbing cloth fabric; And it is provided on the downstream of the woolen unit provides a rubbing cloth wool system comprising a foreign material removal unit for removing the foreign matter remaining in the pile yarn of the rubbing cloth fabric drawn out from the woolen unit.

상기 이물질 제거유닛은; 상기 러빙포 원단의 파일사로부터 이물질을 분리시키는 이물질 분리부, 그리고 상기 분리된 이물질을 흡입하는 이물질 흡입부를 포함할 수 있다.The foreign material removal unit is; It may include a foreign matter separating unit for separating the foreign matter from the pile yarn of the rubbing cloth fabric, and a foreign material suction unit for sucking the separated foreign matter.

여기서, 상기 이물질 분리부는 상기 러빙포 원단의 파일사에 접촉되어 회전되는 마찰 브러쉬를 포함하여 이루어질 수 있다.Here, the foreign matter separation unit may include a friction brush that is rotated in contact with the pile yarn of the rubbing cloth fabric.

이 때, 상기 마찰 브러쉬의 헤어(hair)는 섬유소재와 금속소재 중 적어도 어느 하나의 소재로 형성될 수 있다.In this case, the hair of the friction brush may be formed of at least one of a fiber material and a metal material.

상기 이물질 분리부가 상기 러빙포 원단의 파일사에 접촉되어 회전방식으로 이물질을 제거하는 마찰 브러쉬로 이루어질 경우, 상기 이물질 흡입부는 상기 마찰 브러쉬가 이물질을 털어내는 측에 구비되어 상기 마찰 브러쉬에 의해 상기 파일사로부터 탈락된 이물질을 흡입하는 것이 바람직하다.When the foreign matter separating unit is made of a friction brush that removes the foreign matter in contact with the pile yarn of the rubbing cloth fabric, the foreign matter suction unit is provided on the side of the friction brush to shake off the foreign matter, the pile by the friction brush It is preferable to inhale foreign matter dropped from the yarn.

그리고, 상기 이물질 분리부는 상기 러빙포 원단에 진동을 가하는 진동체를 포함하여 이루어질 수도 있다.The foreign matter separating unit may include a vibrating body applying vibration to the rubbing cloth fabric.

즉, 상기 이물질 분리부는 상기 러빙포 원단의 지조직에 진동을 가하는 진동체로 이루어져, 상기 파일사를 흔들어 움직임으로써 상기 파일사에 부착된 이물질을 탈락시킬 수도 있다.That is, the foreign matter separating portion may be made of a vibrating body that applies vibration to the paper tissue of the rubbing cloth fabric, and may shake off the foreign matter attached to the pile yarn by shaking the pile yarn.

다른 일 형태로서 본 발명은: 러빙천 원단을 전모하는 전모단계; 그리고 상기 전모단계 이후에 상기 러빙천 원단의 파일사에 잔류하는 이물질을 제거하는 이물질 제거단계를 포함하여 구성되는 러빙포 제조방법을 제공한다.In another aspect, the present invention comprises: a woolen cloth total wool step; And it provides a rubbing cloth manufacturing method comprising a foreign material removal step of removing the foreign matter remaining in the pile yarn of the rubbing cloth fabric after the hair wool step.

여기서, 상기 이물질 제거단계는; 상기 이물질 제거를 위하여, 상기 러빙천 원단을 털어서 상기 이물질을 흡입하는 단계를 포함한다.Here, the foreign material removal step; In order to remove the foreign matter, the step of inhaling the foreign matter by brushing the fabric cloth.

상술한 본 발명에 따른 러빙포 전모시스템 및 전모방법에 따르면 다음과 같 은 효과가 있다.According to the rubbing cloth whole system and the method according to the present invention described above has the following effects.

첫째, 본 발명에 따른 러빙포 전모시스템 및 전모방법에 의하면, 전모공정후 이물질 제거유닛에 의해 러빙포의 잔류 이물을 효과적으로 제거할 수 있다.First, according to the rubbing cloth whole wool system and the method of hair growth according to the present invention, it is possible to effectively remove the remaining foreign matter of the rubbing cloth by the foreign matter removal unit after the hair wool process.

둘째, 본 발명에 따른 러빙포 전모시스템 및 전모방법에 의하면, 러빙포의 잔류 이물을 효과적으로 제거함으로써 러빙 공정시 러빙포 잔류 이물로 인해 발생하는 불량을 방지 또는 최소화하며, 결과적으로 액정표시장치의 불량률 감소하여 생산성을 향상시키고 액정표시장치의 품질이 향상될 수 있다.Second, according to the rubbing cloth whole system and the method of the present invention, by effectively removing the remaining foreign matter in the rubbing cloth to prevent or minimize the defect caused by the remaining foreign matter in the rubbing process, as a result of the defective rate of the liquid crystal display device The productivity can be reduced and the quality of the liquid crystal display device can be improved.

셋째, 본 발명에 따른 러빙포 전모시스템 및 전모방법에 의하면, 러빙포 잔류 이물을 제거하기 위한 장치의 구조를 단순화하여 공정비용을 절감하고, 나아가 액정 표시장치의 제조비용을 절감할 수 있다.Third, according to the rubbing cloth whole system and the method of the present invention, it is possible to simplify the structure of the device for removing the remaining foreign matter on the rubbing cloth to reduce the process cost, and further reduce the manufacturing cost of the liquid crystal display device.

이하, 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention can be specifically realized the object of the present invention. In describing the present embodiment, the same designations and the same reference numerals are used for the same components, and further description thereof will be omitted.

먼저, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 러빙포 전모시스템의 바람직한 일 실시예를 설명한다.First, with reference to the accompanying drawings, it will be described a preferred embodiment of the rubbing cloth whole system according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 러빙포 전모 시스템의 일 실시예를 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 6은 도 5에 도시된 러빙포 전모 시스템에 적용되는 이물질 제거유닛의 일 실시예를 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 7은 러빙포 이물 평가를 위 한 평가방법을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of a rubbing cloth whole system according to the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of a foreign matter removing unit applied to the rubbing cloth whole system shown in FIG. 5. 7 is a view for explaining an evaluation method for rubbing cloth foreign material evaluation.

도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 러빙포 전모시스템은 전모유닛(50)과 이물질 제거유닛(100)을 포함하여 구성된다.5 and 6, the rubbing cloth whole system according to the present invention comprises a full hair unit 50 and the foreign material removal unit 100.

상기 전모유닛(50)은 상기 러빙포 원단(10a)의 파일사들을 일정한 길이로 잘라서 파일 두께를 균일하게 하는 구성부분이며, 상기 이물질 제거유닛(100)은 상기 전모유닛의 하류에 구비되어 전모유닛(50)으로부터 인출되는 러빙포 원단의 파일사에 잔류하는 이물질을 제거하는 구성부분이다.The woolen unit 50 is a component that cuts the pile yarns of the rubbing cloth fabric 10a to a predetermined length to uniformly pile the piles, and the foreign material removing unit 100 is provided downstream of the woolen unit. It is a component for removing foreign matter remaining in the pile yarn of the rubbing cloth fabric drawn out from (50).

상기 전모유닛(50)은 전모 나이프(51)와 전모 베드(52)를 포함하여 구성되는데, 상기 전모 나이프(51)는 상기 러빙포 원단(10a)의 파일사들을 일정길이로 컷팅하며 상기 전모 베드(52)는 상기 러빙포 원단의 배면을 받쳐준다.The woolen unit 50 includes a woolen knife 51 and a woolen bed 52, wherein the woolen knife 51 cuts the pile yarns of the rubbing cloth fabric 10a to a predetermined length and the woolen bed. 52 supports the back of the rubbing cloth fabric.

상기 전모 나이프(51)의 일 예로는 원통형의 회전몸체의 외주면에 나선방향으로 칼날이 형성된 회전 나이프가 있으나 상기 전모 나이프가 이에 한정되는 것은 아니다.An example of the full knife 51 is a rotary knife having a blade formed in a spiral direction on the outer circumferential surface of the cylindrical rotating body, but the full knife is not limited thereto.

그리고, 상기 전모 베드(52)는 대략 삼각단면 형상의 받침부재가 적용될 수 있으며, 상기 러빙포 원단(10a)의 배면이 상기 전모 베드(52)에 접촉되어 받쳐진 상태에서 상기 전모 나이프(51)가 상기 파일사의 단부를 컷팅한다.In addition, the hair bed 52 may be applied with a support member having a substantially triangular cross-sectional shape, and in the state where the back surface of the rubbing cloth fabric 10a is supported in contact with the hair bed 52, the hair knife 51 is supported. Cuts the end of the pile yarn.

한편, 상기 러빙포는 상기 전모공정 전에 수세 공정을 거쳐 원사 및 제직 공정에서 부착된 호제, 이물, 잔류 파일 등을 제거해 주게 되나, 이후 상기 파일사를 세워주기 위한 브러시공정과 코팅공정에서 생성되는 이물이 상기 러빙포 원단(10a)에 부착되어 잔류하게 되고, 상기 전모공정에서도 상기 전모 나이프(51)에 의해 절 단된 파일사 단모가 상기 러빙포 원단(10a)에서 완전히 제거되지 못하고 잔류하게 된다. On the other hand, the rubbing cloth is to remove the glue, foreign matter, residual files, etc. attached in the yarn and weaving process through the water washing process before the woolen process, but the foreign material generated in the brush process and coating process to build the pile yarn after Attached to the rubbing cloth fabric 10a and remaining, the pile yarn short hair cut by the woolen knife 51 is not completely removed from the rubbing cloth fabric 10a even in the hair removal process.

상술한 바와 같이 상기 러빙포 원단(10a)에 잔류하는 이물과 파일사 단모 등의 이물질은 LCD 기판의 러빙 공정중에 상기 러빙포로부터 탈락되어 상기 기판의 배향막에 부착되는데 이는 LCD 구동을 저해하는 불량 원인이 된다.As described above, foreign matters remaining in the rubbing cloth fabric 10a and foreign matter such as pile yarns are dropped from the rubbing cloth during the rubbing process of the LCD substrate and adhered to the alignment layer of the substrate, which is a cause of failure that inhibits LCD driving. Becomes

따라서, 본 발명에 따른 러빙포 전모 시스템은 상기 전모유닛에 의해 전모공정을 거친 상기 러빙포 원단(10a)에 잔류하는 이물 및 절단 단모와 같은 이물질을 제거하기 위하여 상기 전모유닛(50)의 하류 즉, 상기 전모유닛(50)의 러빙포 원단 인출측에 이물질 제거유닛(100)을 구비한다.Accordingly, the rubbing cloth whole hair system according to the present invention is downstream of the hair covering unit 50 in order to remove foreign matters such as foreign matter and cut short hair remaining in the rubbing cloth fabric 10a which has been subjected to the hair removal process by the whole woolen unit. The foreign matter removing unit 100 is provided on the rubbing cloth fabric withdrawing side of the woolen unit 50.

상기 이물질 제거유닛(100)은, 상기 러빙포 원단(10a)의 파일사로부터 이물질(13a)을 분리시키는 이물질 분리부(110)와 상기 이물질 분리부(110)에 의해 분리된 이물질(13a)을 흡입하는 이물질 흡입부(120)를 포함하여 구성된다.The foreign material removing unit 100, the foreign material separating unit 110 for separating the foreign material 13a from the pile yarn of the rubbing cloth fabric (10a) and the foreign material 13a separated by the foreign material separating unit 110 It is configured to include a foreign material suction unit 120 to suck.

본 실시예에 있어서, 상기 이물질 분리부(110)는 상기 러빙천 원단(10a)에서 상기 이물질을 분리시키기 위하여 상기 러빙포 원단(10a)을 털어주는데, 이를 위한 일 예로서 상기 이물질 분리부(110)는 상기 러빙포 원단(10a)의 파일사에 접촉되어 회전되는 적어도 하나 이상의 마찰 브러쉬를 포함할 수 있으며, 이에 따라 상기 마찰 브러쉬가 고속으로 회전하면서 상기 러빙포 원단(10a)을 털어준다.In this embodiment, the foreign matter separating unit 110 shakes the rubbing cloth fabric 10a to separate the foreign matter from the rubbing cloth fabric 10a. As an example, the foreign matter separating unit 110 is provided. ) May include at least one friction brush that is rotated in contact with the pile yarn of the rubbing cloth fabric 10a, and thus, the rubbing brush rotates at a high speed to shake off the rubbing cloth fabric 10a.

그리고, 상기 이물질 흡입부(120)는 진공 흡입 장치를 포함할 수 있으며, 상기 마찰 브러쉬에 의해 상기 러빙포 원단(10a)으로부터 분리되거나 상기 러빙포 원단에 약하게 부착된 이물질(13a)을 진공 흡입하여 제거한다.In addition, the foreign matter suction unit 120 may include a vacuum suction device, and vacuum suction the foreign matter 13a separated from the rubbing cloth fabric 10a or weakly attached to the rubbing cloth fabric by the friction brush. Remove

이 때, 실질적으로 상기 러빙포 원단(10a)으로부터 이물질(13a)을 탈락시키는 상기 마찰 브러쉬의 헤어(hair:111)는 섬유소재와 금속소재 중 적어도 어느 하나의 소재로 형성될 수 있다.At this time, the hair (111) of the friction brush that substantially removes the foreign matter 13a from the rubbing cloth fabric 10a may be formed of at least one of a fiber material and a metal material.

본 실시예에 있어서, 상기 이물질 분리부(110)는 상기 러빙포 원단(10a)의 이송방향을 따라 상호 이격되게 복수개의 상기 마찰 브러쉬 순차적으로 배치되며, 상기 마찰 브러쉬들의 회전축은 상기 러빙천 원단의 이송방향과 실질적으로 직교하나 이에 한정되는 것은 아니다.In the present embodiment, the foreign matter separating unit 110 is sequentially disposed a plurality of the friction brushes spaced apart from each other along the conveying direction of the rubbing cloth fabric (10a), the rotation axis of the friction brushes of the rubbing cloth fabric It is substantially orthogonal to the conveying direction, but is not limited thereto.

그리고 상기 복수의 마찰 브러쉬는 서로 이웃하게 배치되어 서로 반대방향 즉, 정방향과 역방향으로 각각 회전하는 두개의 마찰 브러쉬를 포함한다. 즉, 상기 두개의 마찰브러쉬 중 상류에 위치하는 마찰 브러쉬는 상기 러빙천 원단의 이송방향과 동일한 방향으로 회전하고, 하류에 위치하는 다른 하나는 러빙천 원단의 이송방향의 반대방향으로 회전하면서, 상기 두개의 마찰브러쉬가 그들의 사이공간으로 상기 이물질을 털어낸다.The plurality of friction brushes may be disposed adjacent to each other and include two friction brushes that rotate in opposite directions, that is, forward and reverse directions, respectively. That is, the friction brush located upstream of the two friction brushes rotates in the same direction as the conveying direction of the rubbing cloth fabric, and the other one located downstream moves in the opposite direction to the conveying direction of the rubbing cloth fabric. Two friction brushes shake off the foreign matter into their interspaces.

도 6을 참조하면, 상기 러빙포 원단(10a)의 이물질(13a)을 털어내도록 좌측(상류)에 있는 마찰 브러쉬는 시계반대방향으로 회전되고 우측(하류)에 있는 마찰 브러쉬는 시계방향으로 회전된다.Referring to FIG. 6, the friction brush on the left (upstream) is rotated counterclockwise and the friction brush on the right (downstream) is rotated clockwise to shake off the foreign matter 13a of the rubbing cloth fabric 10a. .

여기서, 상기 이물질 흡입부(120)는 상기 마찰 브러쉬가 털어내는 이물질(13a)을 효과적으로 흡입 제거하기 위하여 상기 마찰 브러쉬가 이물질(13a)을 털어내는 측에 제공된다. 즉 상기 러빙천 원단의 이송방향과 동일한 방향으로 회전하는 마찰 브러쉬의 경우에는 그 하류에 상기 이물질 흡입부가 제공되고, 상기 러빙 천 원단의 이송방향의 반대방향으로 회전하는 마찰 브러쉬의 경우에는 그 상류에 상기 이물질 흡입부가 제공된다. 본 실시예에서는 서로 반대방향으로 회전하는 상기 두개의 마찰 브러쉬들 사이 또는 그들 사이의 상부에 구비된다.Here, the foreign matter suction unit 120 is provided on the side where the friction brush shakes off the foreign matter 13a in order to effectively suction and remove the foreign matter 13a that the friction brush shakes off. That is, in the case of the friction brush which rotates in the same direction as the conveying direction of the rubbing cloth fabric, the foreign material suction unit is provided downstream thereof, and in the case of the friction brush which rotates in the direction opposite to the conveying direction of the rubbing cloth fabric, upstream thereof. The foreign matter suction unit is provided. In this embodiment, it is provided between or between the two friction brushes that rotate in opposite directions to each other.

본 실시예에 있어서, 상기 이물질 분리부(110)와 상기 이물질 흡입부(120)는 별도의 구성부분으로 이루어진 것을 개시하나, 이에 한정되는 것은 아니며 상기 이물질 분리부(110)와 상기 이물질 흡입부(120)가 일체형으로 구성으로 이루어질 수도 있다. 일 예로서, 적어도 하나 이상의 마찰 브러쉬에 진공흡입장치를 설치하여 상기 러빙포 원단(10a)을 털어 이물질(13a)을 탈락시키면서 탈락된 이물질(10a)을 흡입하여 제거할 수도 있다.In this embodiment, the foreign matter separating unit 110 and the foreign matter suction unit 120 is disclosed as being made of a separate component, but is not limited thereto, and the foreign matter separating unit 110 and the foreign substance suction unit ( 120 may be formed in an integral configuration. As an example, a vacuum suction device may be installed on at least one friction brush to shake off the rubbing cloth fabric 10a to inhale and remove the dropped foreign material 10a while dropping the foreign material 13a.

한편, 본 실시예의 이물질 제거유닛(100)은 상기 이물질 분리부(110)로서 러빙포 원단(10a)에 접촉 회전되어 이물질(13a)을 털어내는 브러쉬 형태를 개시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 러빙포 원단(10a)에 외력을 가하여 러빙포 원단(10a)에 잔류하는 이물질을 털어내는 다양한 형태를 갖는 이물질 분리부가 적용될 수 있다. 일 예로서, 상기 러빙포 원단(10a)의 일측에 진동체를 구비하고 상기 진동체에 의해 상기 러빙포 원단(10a)에 진동 또는 충격을 가하여 러빙포 원단으로부터 이물질을 탈락시키고 상기 이물질 흡입부를 통해 탈락된 이물질을 흡입하여 제거하는 형태가 적용될 수도 있다.On the other hand, the foreign material removal unit 100 of the present embodiment has been disclosed in the form of a brush to shake off the foreign material (13a) by rotating in contact with the rubbing cloth fabric (10a) as the foreign material separation unit 110, but is not limited thereto. The foreign matter separation unit having various shapes may be applied by applying an external force to the rubbing cloth fabric 10a to shake off the foreign matter remaining on the rubbing cloth fabric 10a. As an example, provided with a vibrating body on one side of the rubbing cloth fabric (10a) by applying a vibration or shock to the rubbing cloth fabric (10a) by the vibrating body to remove the foreign matter from the rubbing cloth fabric and through the foreign matter suction unit Inhalation and removal of the dropped foreign matter may be applied.

이하에서는 본 발명에 따른 전모시스템에 의한 러빙포의 실시예와 이와 다른 비교예에 의한 러빙포 및 러빙포 잔류 이물에 의한 불량률을 상호 비교하였다. 다 만, 하기 실시예들은 본 발명을 예시한 것에 불과하며, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the failure rate caused by the rubbing cloth and the rubbing cloth remaining foreign material according to the embodiment of the rubbing cloth according to the present invention and other comparative examples were compared with each other. However, the following examples are merely illustrative of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

[비교예 1]Comparative Example 1

경사로 큐프라암모늄 레이온 필라멘트 120d/75f (Asahi産,일본), 위사로 큐프라암모늄 레이온 필라멘트 75d/50f (Asahi産,일본)를 사용하여 경사밀도 60본/inch, 위사밀도 120본/inch로 평직으로 짜서 러빙포의 원단 조직(지조직)을 제직하였다. 파일사로 비스코스레이온 필라멘트 100d/40f(Enka産,독일)를 사용하여 파일밀도 32,000ea/㎠가 되도록 공지의 파일 직기에 의해 W자형으로 파일 직물을 제직하였다. Plain weave with inclination density 60 / inch and weft density 120 / inch using ramp cupra ammonium rayon filament 120d / 75f (Asahi 産, Japan), weft cuproammonium rayon filament 75d / 50f (Asahi 産, Japan) Woven with a weaving cloth fabric (paper tissue) was woven. Using a viscose rayon filament 100d / 40f (Enka®, Germany) as a pile yarn, a pile fabric was woven into a W shape by a known pile loom so as to have a pile density of 32,000ea / cm 2.

상기와 같이 제조된 파일 직물을 공지의 공정으로 정련하여 수지로 처리하고, 브러쉬 및 코팅제로 코팅 처리하였다. 코팅이 끝난 러빙포 원단을 공지의 전모유닛(전모장치)을 사용하여 1.80mm로 전모공정을 수행하였다.The pile fabric prepared as described above was refined by a known process, treated with a resin, and coated with a brush and a coating agent. The coated rubbing cloth fabric was subjected to a hair wool process with 1.80 mm using a known hair wool unit (hair device).

이 때, 상기 전모공정의 조건은 원단 이송속도 5m/min, 11목 전모나이프, 나이프 회전속도는 1,000RPM으로 하였다. 그리고 전모공정이 끝난 러빙포 원단을 외관 검사를 통해 파일 외관을 평가하였고, 이물 탈락 평가를 통해 러빙포에 잔존하는 이물개수를 측정 비교하였다.At this time, the conditions of the woolen step was a fabric feed rate of 5m / min, 11 necked whole knife, knife speed was set to 1,000 RPM. The appearance of piles was evaluated by the appearance inspection of the finished fabric of rubbing cloth, and the number of foreign materials remaining on the rubbing cloth was measured and compared through the evaluation of dropping foreign materials.

[실시예 1]Example 1

비교예 1과 동일한 원단을 사용하여 공지의 공정으로 정련하여 수지 처리하 고, 브러쉬 및 코팅 처리하였다. 코팅이 끝난 러빙포 원단은 전모유닛(전모장치)의 인출부에 이물질 분리부(도트형 돈모 마찰 브러쉬)와 이물질 흡입부(진공 흡입 장치)를 포함하는 이물질 제거유닛이 구비된 본 발명의 전모장치를 사용하여 1.8mm로 전모처리하였다. 상기 마찰 브러쉬는 한 쌍으로 정방향과 역방향으로 각각 회전하며 이물을 탈락시키도록 진행하였다.Using the same fabric as in Comparative Example 1 was refined by a known process to the resin treatment, brush and coating treatment. The coated rubbing cloth fabric has a foreign material removing unit including a foreign material separating unit (dot-type bristle friction brush) and a foreign material suction unit (vacuum suction device) at the lead-out unit of the woolen unit (collar device). It was preprocessed to 1.8mm using. The friction brushes were rotated in a forward direction and a reverse direction, respectively, in a pair to proceed to remove foreign materials.

이 때, 상기 전모공정의 조건은 원단 이송속도 5m/min, 11목 전모 나이프, 나이프 회전속도는 1.000RPM으로 하였다. 그리고, 전모공정 및 이물질 제거공정이 끝난 러빙포 원단을 외관검사를 통해 파일 외관을 평가하였고, 이물 탈락 평가를 통해 러빙포에 잔존하는 이물개수를 측정 비교하였다.At this time, the conditions of the woolen step was a fabric feed rate of 5m / min, 11 neck full knife, the knife rotational speed was 1.000 RPM. In addition, the appearance of the pile was evaluated by the external inspection of the rubbing cloth fabric after the hair removal process and the foreign material removal process, and the number of foreign substances remaining on the rubbing cloth was measured and compared through the evaluation of the foreign material dropping.

위와 같은 비교예 1 및 실시예 1로 제조된 러빙포를 다음과 같은 방법으로 외관 및 잔류 이물을 측정하고, IPS 방식의 액정 표시장치 제조 공정에서 공정 불량율을 비교 평가하여 표 1에 제시하였다.The rubbing cloth prepared in Comparative Example 1 and Example 1 as described above was measured in the following manner, the appearance and residual foreign material, and compared to evaluate the process failure rate in the IPS-type liquid crystal display manufacturing process is shown in Table 1.

* 외관 평가 : 러빙포 원단 44inch * 40M 를 원단 검사 장치를 통과 시키면서 파일 분섬 등의 러빙포 외관을 검사하였다.* Appearance evaluation: The rubbing cloth appearance, such as pile filing, was examined while passing through the fabric inspection device.

* 이물 탈락 평가 : 러빙포 원단을 1M * 1M 크기로 절단하여 진동에 의한 잔류 이물 평가장치(도 7 참조)에 이물을 탈락시킨후 이물 개수를 측정하였다. 상기 잔류이물 평가장치는 러빙천 원단(10a)에 진동충격을 가하여 이물질을 분리하고 분 리된 이물질의 개수를 측정하는 장치로서, 상기 러빙천 원단에서 분리되는 이물질이 집진관(210)을 거쳐 이물 평가판(220)의 표면에 놓이게 된다. * Foreign material dropout evaluation: After the rubbing cloth fabric was cut into 1M * 1M size, the foreign material was dropped in the residual foreign material evaluation device (see FIG. 7) by vibration, and the number of foreign materials was measured. The foreign matter evaluation device is a device for separating foreign matters by applying a vibration shock to the rubbing cloth fabric 10a and measuring the number of the separated foreign materials, the foreign matter separated from the rubbing cloth fabric is a foreign matter evaluation plate through the dust collecting pipe 210. It is placed on the surface of (220).

* 공정 불량률: IPS 방식의 액정 표시장치를 제조하여 상기 액정 표시장치 제조 공정에서 러빙포 잔류 이물로 발생할 수 있는 러빙 불량률을 비교하여 나타내었다.* Process Defect Rate: The manufacturing method of the liquid crystal display of the IPS method was compared with the rubbing defect rate that may be generated by the remaining rubbing cloth in the liquid crystal display manufacturing process.

구분division 비교예 Comparative example 실시예 Example 전모 수세 구분Whole water washing division 없음none 마찰 브러쉬/흡입장치 적용Friction Brush / Suction Device 외관Exterior 이물 개수
(ea/㎡)
Foreign objects
(ea / ㎡)
120120 2626
불량률(이물기인,%)Defective rate (% foreign matter) 0.670.67 0.050.05

* 외관 : ◎ 양호, ○ 보통, △ 나쁨* Appearance: ◎ Good, ○ Normal, △ Bad

위 표에서 전모 수세 구분은 전모단계 후에 이물질 제거단계가 수행되었는가 여부에 따른 것이다. 상기와 같이 본 발명에 따른 러빙포 전모시스템 및 러빙포 제조방법에 의하면, 비교예 1과 비교하여 실시예 1에 의한 러빙포의 잔류 이물 개수가 현저하게 줄어들고 공정불량률이 개선된 것을 알 수 있다.In the above table, the washing of the whole hairs depends on whether the foreign material removal step is performed after the hairsing step. As described above, according to the rubbing cloth whole system and the rubbing cloth manufacturing method according to the present invention, it can be seen that the number of foreign matters remaining in the rubbing cloth according to Example 1 is significantly reduced and the process defect rate is improved as compared with Comparative Example 1.

이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화 될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다.As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described, and the fact that the present invention can be embodied in other specific forms in addition to the above-described embodiments without departing from the spirit or scope thereof has ordinary skill in the art. It is obvious to them.

그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.Therefore, the above-described embodiments should be regarded as illustrative rather than restrictive, and thus, the present invention is not limited to the above description and may be modified within the scope of the appended claims and their equivalents.

도 1은 일반적인 러빙장치를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a general rubbing device.

도 2는 일반적인 러빙포의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.2 is a view schematically showing the configuration of a general rubbing cloth.

도 3은 일반적인 전모유닛을 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing a general woolen unit.

도 4는 러빙공정에서 발생하는 러빙포 잔류 이물의 패턴내 탈락 및 형태를 나타낸 사진이다.Figure 4 is a photograph showing the drop out of the pattern and the pattern of the rubbing cloth residual foreign matter generated in the rubbing process.

도 5는 본 발명에 따른 러빙포 전모 시스템의 일 실시예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of a rubbing cloth full hair system according to the present invention.

도 6은 도 5에 도시된 전모 시스템에 적용되는 이물질 제거유닛의 일 실시예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of a foreign matter removing unit applied to the overall system shown in FIG. 5.

도 7은 러빙포 이물 평가를 위한 평가방법을 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining an evaluation method for rubbing cloth foreign material evaluation.

* 도면의 주요 부호에 대한 설명 *DESCRIPTION OF THE RELATED ART [0002]

10a: 러빙천 원단 50: 전모유닛10a: Loving cloth fabric 50: Whole unit

51: 전모 나이프 52: 전모베드51: full knife 52: full bed

100: 이물질 제거유닛 110: 이물질 분리부100: foreign matter removal unit 110: foreign matter separation unit

120: 이물질 흡입부120: foreign matter suction unit

Claims (7)

러빙포 원단의 파일사들을 전모하는 전모유닛; 그리고A woolen unit for knitting pile yarns of a rubbing cloth fabric; And 상기 전모유닛의 하류에 구비되어 상기 전모유닛으로부터 인출되는 러빙포 원단의 파일사에 잔류하는 이물질을 제거하는 이물질 제거유닛을 포함하여 구성되는 러빙포 전모시스템.And a foreign material removal unit provided downstream of the woolen unit to remove foreign matter remaining in the pile yarn of the rubbing cloth fabric drawn out from the woolen unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이물질 제거유닛은; 상기 러빙포 원단의 파일사로부터 이물질을 분리시키는 이물질 분리부, 그리고 상기 분리된 이물질을 흡입하는 이물질 흡입부를 포함하는 러빙포 전모시스템.The foreign material removal unit is; And a foreign matter separation unit separating the foreign matter from the pile yarn of the rubbing cloth fabric, and a foreign matter suction unit for sucking the separated foreign matter. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 이물질 분리부는 상기 러빙포 원단의 파일사에 접촉되어 회전되는 마찰 브러쉬를 포함하는 러빙포 전모시스템.The foreign matter separating unit includes a rubbing cloth whole system including a friction brush that is rotated in contact with the pile yarn of the rubbing cloth fabric. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 마찰 브러쉬의 헤어(hair)는 섬유소재와 금속소재 중 적어도 어느 하나의 소재로 형성되는 러빙포 전모시스템.Hair of the friction brush (hair) is a rubbing cloth overall system is formed of at least one of a fiber material and a metal material. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 이물질 분리부는 상기 러빙포 원단에 진동을 가하는 진동체를 포함하는 러빙포 전모시스템.The foreign matter separating unit including a rubbing body including a vibrating body for applying vibration to the rubbing cloth fabric. 러빙천 원단을 전모하는 전모단계; 그리고A total step of totaling the rubbing cloth fabric; And 상기 전모단계 이후에 상기 러빙천 원단의 파일사에 잔류하는 이물질을 제거하는 이물질 제거단계를 포함하여 구성되는 러빙포 제조방법.Rubbing cloth manufacturing method comprising a foreign material removal step of removing the foreign matter remaining in the pile yarn of the rubbing cloth fabric after the woolen step. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 이물질 제거단계는;The foreign material removal step; 상기 이물질 제거를 위하여, 상기 러빙천 원단을 털어서 상기 이물질을 흡입하는 단계를 포함하는 러빙포 제조방법.In order to remove the foreign matter, the rubbing cloth manufacturing method comprising the step of inhaling the foreign material by shaking the fabric.
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