KR20110047453A - The method and apparatus to treat municipal and industrial wastewater - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: Treatment method and apparatus for sewage and wastewater are provided to effectively treating the sewage and wastewater by discharging reactor-treated water with the minimum pollutant concentration. CONSTITUTION: A treatment apparatus for sewage and wastewater comprises a reactor lower part(4), a reactor upper part(8), and a reactor processed water outlet(9). A surfactant inside the sewage and wastewater flowing into a reactor, is attached to air bubbles and oxygen bubbles generated from the reactor lower part. The bubbles attached to the surfactant are elevated to the reactor upper part by the density difference of air and the sewage and wastewater, to be re-dissolved to the surface of water.

Description

하.폐수의 처리방법 및 장치{The method and apparatus to treat municipal and industrial wastewater}The method and apparatus to treat municipal and industrial wastewater

계면활성제를 함유한 하.폐수의 대표적인 경우는 염색공단에서 배출되는 종합염색폐수이다. 섬유/염색가공산업은 다른 산업에 비해 상대적으로 노동집약적 산업으로 단위 작업장의 규모가 비교적 중소형에 속한다. 그러므로 생산지원을 위해 기본적인 인프라와 단위작업장의 폐수 처리 설비가 매우 부실한 곳이 많으며 이를 해결하기 위해 대부분 염색가공 사업장들은 하나의 공단을 형성하고 공단에서 종합적으로 폐수처리를 하고 있다. 따라서 이러한 지역적 염색산업의 특성상 일반적으로 종합염색폐수라 함은 염색가공공정에서 배출된 모든 종류의 폐수가 혼합된 폐수이다. 즉 염색가공 폐수, 감량가공 폐수, 호발, 정련가공 폐수 등의 혼합폐수로써 여러 종류의 염료를 포함 할 뿐만 아니라 계면활성제, 표백제, 염류, PVA, 알카리, TPA(Terephthalic acid)-2Na 염 및 EG(Ethylene Glycol)등이 다량 포함되어 그 중에서 계면활성제가 종합염색폐수의 BOD 및 COD의 상당부분을 차지하고 있다.Representative cases of sewage and wastewater containing surfactants are synthetic dye wastewater discharged from the dyeing complex. The textile / dye processing industry is a labor-intensive industry compared to other industries, and the unit workplace is relatively small and medium. Therefore, there are many places where the basic infrastructure and wastewater treatment facilities of the unit workplace are very poor to support the production. To solve this problem, most dyeing and processing sites form one industrial complex and comprehensively treat the wastewater in the industrial complex. Therefore, in general, synthetic dyeing wastewater is a wastewater mixed with all kinds of wastewater discharged from the dyeing process. In other words, it is a mixed wastewater such as dyeing wastewater, weight loss wastewater, decanting, refining wastewater, etc. It contains not only various dyes but also surfactants, bleaches, salts, PVA, alkali, TPA (Terephthalic acid) -2Na salt and EG ( Ethylene Glycol) is contained in a large amount, and among them, surfactants make up a large part of BOD and COD of synthetic dye wastewater.

본 발명은 종합염색폐수와 같이 계면활성제를 함유하거나 하폐수나 계면활성제를 함유하지 않은 하폐수의 처리를 위하여, 반응기에 슬러지 및 유동상 담체를 충전하 고 반응기 하부로부터 폭기에 의해서 슬러지 또는 생물막 유동상이 형성되고 반응기의 상부 및 하부의 경계에서 반응기처리수를 배출하여 하폐수의 유무기물 제거 및 질소 제거와 같은 고도처리를 수행하며, 하폐수에 용존하거나 micelle 형태로 존재하는 계면활성제가 공기 또는 산소 버블의, 공기와 하폐수의 계면으로 전이하고 또한 상기 버블과 함께 용존 오염원 등이 부상함에 따라서 반응기 상부에서 종래기술에서 요구되는 반응기 상부 수면에 발생한 거품의 분리포집 및 분리 포집된 거품에 대한 별도의 2차 처리 없이 계면활성제 및 용존 오염원이 산화 또는 분해 처리되고 반응기 하부에서는 잔류 유기물 및 무기물의 산화 또는 분해 처리를 수행하는 방법 및 반응기 장치에 관한 것이다. The present invention is to charge sludge and fluidized bed carrier in the reactor and to treat sludge or fluidized bed fluidized bed, such as synthetic dyeing wastewater, and to form sludge or biofilm fluidized bed by aeration from the bottom of the reactor. And discharge the reactor treated water at the upper and lower boundary of the reactor to perform advanced treatment such as the removal of inorganic and inorganic matter from the wastewater and the removal of nitrogen, and the surfactant dissolved in the wastewater or present in the micelle form is air or oxygen bubble. As a transition to the interface between the wastewater and the sewage, and also the dissolved pollutant and the like rises together with the bubble, the interface without separation and separation of bubbles generated on the upper surface of the reactor required by the prior art at the reactor top and separate secondary processing for the separated collected bubbles Active and dissolved contaminants are oxidized or decomposed The lower part relates to a method and reactor apparatus for carrying out oxidation or decomposition treatment of residual organics and inorganics.

한국특허등록 제 163659호에는 표면활성제와 포수제를 인위적으로 혼합한 혼합물로 인위적으로 미세한 미세기포를 기포발생기에서 임의로 발생시키고 이 미세기포를 하폐수처리장치에 지속적으로 공급하여 하폐수 속의 불순물과 미세기포가 물리화학적으로 이온결합하게 하여 단일부상조의 하폐수 수면으로 강제 부상 분리시켜서 하폐수내의 고형물을 처리하는 기술이다. 또한 이와 유사하게 미국특허 제 4,203,837호에는 하폐수 중의 부유성 고형물과 용존성 물질을 계면활성제를 인위적으로 사용하여 제조한 미세기포를 이용하여 제거하는 방법이 개시된다.Korean Patent Registration No. 163659 is a mixture of a surface active agent and a catcher, which artificially generates fine micro bubbles in a bubble generator, and continuously supplies these micro bubbles to a sewage treatment system, so that impurities and micro bubbles in the sewage water It is a technology that treats solids in sewage water by physically and chemically ionizing and forcibly separating them from the surface of sewage water in a single flotation tank. Similarly, U.S. Patent No. 4,203,837 discloses a method for removing suspended solids and dissolved substances in sewage using microbubbles prepared by using artificially surfactants.

한편 공개특허공보 특2003-0024455는 한국특허등록 제 163659호와 유사하며, 계면활성제만으로 미세기포를 발생하여 하폐수에 공급하고 여러 개의 독립된 부상조에 하폐수와 미세기포를 순차적으로 연속공정으로 통과시키고 폐기포 포집장치로서 포 집하여 하폐수를 처리하는 기술에 관한 것이다. 또한 공개특허공보 특2002-0005864는 오염된 호수와 하천등의 오염수계에 거품이 부상하도록 하고 U형수로 또는 배플 등으로 거품을 분리하여 부상분리된 거품을 별도의 하폐수처리장으로 이송하여 처리하고, 오염된 호수와 하천등의 오염수계를 생물막에 의하여 정화하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 지금까지 열거한 종래기술들은 계면활성제 등을 함유한 거품을 부상 분리시켜서 폐기포 포집장치, U형수로 또는 배플 등으로 분리포집하나 분리포집된 폐기포로 인하여 2차오염의 가능성이 있으며 이에 대한 2차 처리를 위한 추가설비가 요구된다.On the other hand, Published Patent Publication No. 2003-0024455 is similar to Korean Patent Registration No. 163659, which generates microbubbles with only surfactant and supplies them to the wastewater, and passes the wastewater and microbubbles in a continuous process sequentially through several independent floating tanks and discards them. The present invention relates to a technology for treating sewage water by collecting it as a collecting device. In addition, Patent Publication No. 2002-0005864 discloses bubbles in contaminated water systems such as contaminated lakes and streams, and separates bubbles into U-shaped waterways or baffles, and transfers the separated bubbles to sewage treatment plants. The present invention relates to a method and apparatus for purifying a contaminated water system such as a contaminated lake and a river by a biofilm. The prior arts enumerated so far separate the bubbles containing the surfactants and separate them into a waste collecting device, a U-water channel or a baffle, but there is a possibility of secondary pollution due to the separated collected waste papers. Additional equipment for treatment is required .

한편 하폐수처리장에서 전통적으로 채택되어지는 미생물 폭기에 의한 활성오니법에 의하여 기존에 설치된 폭기 반응조는 일반적으로 폭기에 의하여 하폐수에 용해된 계면활성제가 버블에 농축되어 수면으로 부상하기 때문에 수면에서 계면활성제를 포함한 오염원 농도가 수중보다 크고, 반응조 처리수가 수면에서의 overflow에 의하여 다음 공정으로 넘어가기 때문에 하폐수 처리효율이 비효율적이다. On the other hand , conventionally installed aeration reactors by the activated sludge method of microbial aeration, which has been traditionally adopted in sewage treatment plants, generally use surfactants in the water because surfactants dissolved in the wastewater due to aeration are concentrated in bubbles and float to the surface. Wastewater treatment efficiency is inefficient because the pollutant concentrations included are larger than underwater and the treated water is transferred to the next process due to overflow from the surface .

종래기술들은 계면활성제 등을 함유한 거품을 부상 분리시켜서 폐기포 포집장치, U형수로 또는 배플 등으로 분리포집하나 분리포집된 폐기포로 인하여 2차오염의 가능성이 있으며 이에 대한 2차 처리를 위한 추가설비가 요구된다. 한편 하폐수처리장에서 전통적으로 채택되어지는 미생물 폭기에 의한 활성오니법에 의하여 기존에 설치된 폭기 반응조는 일반적으로 폭기에 의하여 하폐수에 용해된 계면활성제가 버블에 농축되어 수면으로 부상하기 때문에 수면에서 계면활성제를 포함한 오염원 농도가 수중보다 크고, 반응조 처리수가 수면에서의 overflow에 의하여 다음 공정으로 넘어가기 때문에 하폐수 처리효율이 비효율적이다. 또한 기존에 설치된 전통적인 폭기반응조는 수면 위에 발생한 계면활성제 거품의 포집을 위하여 계면활성제 거품의 포집장치 및 2차 처리를 위한 추가설비가 요구될 뿐 아니라, 전통적인 폭기 반응조는 반응조 내부에서 버블이 수직으로 부상하는 반면에 하폐수의 흐름은 수평으로 처리되기 때문에 수면이 넓은 면적을 차지한다. 따라서 설치비가 많이 소요되고 수면 위에 발생한 계면활성제 거품의 계면활성제 거품의 포집 및 처리가 매우 어렵다. The prior art separates and collects bubbles containing surfactants with a waste trap collecting device, a U-water canal or a baffle, but there is a possibility of secondary pollution due to the collected waste waste. Equipment is required . On the other hand , conventionally installed aeration reactors by the activated sludge method of microbial aeration, which has been traditionally adopted in sewage treatment plants, generally use surfactants in the water because surfactants dissolved in the wastewater due to aeration are concentrated in bubbles and float to the surface. Wastewater treatment efficiency is inefficient because the pollutant concentrations included are larger than underwater and the treated water is transferred to the next process due to overflow from the surface . In addition, traditional aeration reaction tank surfactant for capture of bubbles additional facility is not only required for a collecting device and a secondary treatment of the surface active agent foam, conventional aeration tank occurs on the surface on an existing installation is a bubble portion vertically within the reaction tank On the other hand, the wastewater stream is treated horizontally, so the water surface occupies a large area. Therefore, the installation cost is high and it is very difficult to collect and treat the surfactant foam of the surfactant foam generated on the water surface.

본 발명은 하폐수 BOD 및 COD의 부분을 차지하는 계면활성제를 함유하거나 함유하지 않은 하.폐수를 처리대상으로 하여, 계면활성제를 함유하지 않은 경우에는 계면활성제를 하폐수 원수에 첨가하고, 하폐수 원수가 반응기의 하부로 인입이 되고 하 폐수 흐름이 upflow로 처리가 되면서 반응기의 상부 및 하부의 경계에서 반응기처리수가 배출된다. 공기 또는 산소 버블이 반응기 하부로부터 부상하면서 반응기 상부 수면 위에 계면활성제 거품이 생성하고 쌓이고, 이 쌓인 거품이 작은 체개방공을 가지는 복수의 스크린에 의하여 깨지고 생성하고를 반복하면서 생성된 계면활성제를 포함한 액적이 위에 쌓인 계면활성제 거품 자중에 의하여 하강하여 반응기 상부 수면위로 하강하여 회수되면서 재 용해된 계면활성제를 반응기 상부에서 산화 또는 분해 처리한다. 따라서 반응기처리수가 배출되는 반응기의 상부 및 하부 경계에서의 반응기처리수 농도가 반응기 상부 수면의 농도보다 작게 된다. 이와 같이 본 발명은 종래기술에서 요구되는 반응기 상부 수면에 발생한 거품의 분리포집 및 분리 포집된 거품에 대한 별도의 2차 처리 없이, 재 용해된 계면활성제 및 버블과 함께 부상한 용존오염원를 반응기 상부에서 산화 또는 분해 처리하고, 한편 반응기 하부에서는 잔류 유기물 및 무기물의 산화 또는 분해 처리를 수행하여 반응기의 상부 및 하부의 경계에 위치한 반응조처리수 배출구에서, 반응조 높이에 대한 하폐수 오염원 농도분포 중에서 최소오염원농도의 반응기처리수를 배출하고 계류조를 거쳐서 방류하는 효율적인 하폐수 처리방법 및 반응기 장치에 관한 것이다. The present invention is to treat sewage and wastewater that contains or does not contain a surfactant that occupies a part of sewage BOD and COD, and when surfactant is not contained , a surfactant is added to the sewage raw water, and the sewage raw water is Reactor treated water is discharged from the upper and lower boundary of the reactor as it enters the bottom and the wastewater stream is treated as an upflow. Surfactant bubbles are generated and accumulated on the surface of the reactor top as air or oxygen bubbles rise from the bottom of the reactor, and these accumulated bubbles are broken up by a plurality of screens having small openings, and the resulting liquid containing the surfactant is repeated. As the enemy descends due to the self-surfacing surfactant bubble weight and descends to the upper surface of the reactor, the redissolved surfactant is oxidized or decomposed at the top of the reactor. Therefore , the concentration of the reactor treated water at the upper and lower boundary of the reactor from which the reactor treated water is discharged is smaller than the concentration of the upper surface of the reactor. As described above, the present invention oxidizes the dissolved pollutant floating with the re-dissolved surfactant and the bubble at the top of the reactor , without separate secondary treatment of the bubbles generated on the upper surface of the reactor and the separate collected bubbles required in the prior art. Or at the bottom of the reactor, while performing the oxidation or decomposition treatment of residual organic and inorganic materials at the bottom of the reactor, at the reactor treatment water outlet located at the boundary of the upper and lower portions of the reactor, the reactor having the minimum source concentration in the wastewater source concentration distribution for the reactor height. The present invention relates to an efficient wastewater treatment method and a reactor apparatus for discharging treated water and discharging it through a mooring tank.

본 발명의 효과는 계면활성제를 활용하는 하폐수처리에 있어서, 종래기술에서 요구되는 반응기 상부 수면에 발생한 거품의 분리포집 및 분리 포집된 거품에 대한 별도의 2차 처리 없이, 계면활성제 및 버블과 함께 부상한 용존오염원를 반응기 상부에서 산화 또는 분해 처리하고, 한편 반응기 하부에서는 잔류 유기물 및 무기물의 산화 또는 분해 처리를 수행하여 반응기의 상부 및 하부의 경계에 위치한 반응조처리수 배출구에서, 반응조 높이에 대한 하폐수 오염원 농도분포 중에서 최소오염원농도의 반응기처리수를 배출하여 효율적으로 하폐수를 처리할 수 있다는 것이다.The effect of the present invention is to treat the sewage waste water using the surfactant , without the separate collection of the bubbles generated on the water surface of the reactor required in the prior art and separate secondary treatment for the separated collected bubbles, floating together with the surfactant and bubbles One dissolved source is oxidized or decomposed at the top of the reactor, while the bottom of the reactor is subjected to the oxidation or decomposition of residual organics and inorganics, so that the concentration of sewage contaminants with respect to the height of the reactor at the reactor treated water outlet located at the upper and lower boundary of the reactor. The wastewater can be treated efficiently by discharging the reactor treated water of the minimum pollution concentration in the distribution .

또한 본 발명은 하폐수 원수를 반응기 하부 밑에서부터 인입하여 upflow 방식으로 처리하는 반응기로서 1) 반응기가 차지하는 부지면적이, 반응조 내에서 하폐수의 흐름이 수평인 하폐수처리장의 전통적인 폭기반응조 보다 훨씬 작아서 경제적이고; 2) 반응조 상부의 수면위는 5mm X 5mm 이하의 체개방공을 가지는 복수의 스크린이 존재하여, 반응조 상부의 수면 위에 생성된 계면활성제 거품이 복수의 스크린을 통과하면서 거품이 깨지거나 작아지고, 생성된 계면활성제를 포함한 액적이 위에 쌓인 계면활성제 거품 자중에 의하여 하강하여 반응기 상부 수면위로 회수되면서 재 용해된 계면활성제를 반응기 상부에서 산화 또는 분해 처리하는 효과가 있다.In addition, the present invention is a reactor in which raw sewage water is introduced from the bottom of the reactor and treated in an upflow manner, 1) the land area occupied by the reactor is much smaller than that of the conventional aeration reactor in a wastewater treatment plant where the flow of wastewater in the reactor is horizontal; 2) The surface of the upper part of the reactor has a plurality of screens having a body opening hole of 5mm x 5mm or less, the surfactant bubbles generated on the surface of the upper part of the reactor passes through the plurality of screens, the bubbles break or become small, The droplets containing the surfactants are lowered by the weight of the surfactant bubbles accumulated on them and recovered to the upper surface of the reactor, thereby oxidizing or decomposing the re-dissolved surfactants at the top of the reactor .

본 발명은 처리코자하는 하폐수가 계면활성제를 함유하고 있지 않은 경우에는 반응기 외부에서 반응기 내부로 계면활성제를 주입해주거나 또는 적정량의 계면활성제를 처리코자하는 하폐수에 인위적으로 주입하고, 종합염색폐수와 같이 하폐수 BOD 및 COD의 부분을 차지하는 계면활성제를 함유한 하.폐수의 경우에는 계면활성제의 인위적인 주입 없이, 하폐수 처리를 위하여 반응기에 슬러지 및 유동상 담체를 충전하고 반응기 하부로부터 폭기에 의해서 슬러지 또는 생물막 유동상이 형성되고 반응기의 상부 및 하부의 경계에 위치한 반응조처리수 배출구에서, 반응조 높이에 대한 하폐수 오염원 농도분포 중에서 최소오염원농도의 반응기처리수를 배출하고 계류조를 거쳐서 방류하여 하폐수의 유무기물 제거 및 질소 제거와 같은 효율적인 고도처리를 수행하며;According to the present invention, when the wastewater to be treated does not contain a surfactant, the surfactant is injected into the reactor from the outside of the reactor or artificially injected into the wastewater to be treated with the appropriate amount of the surfactant. In the case of sewage and wastewater containing surfactants, which occupy part of the waste water BOD and COD, sludge and fluidized bed flow is filled with sludge and fluidized bed carrier in the reactor for sewage treatment, without artificial injection of surfactant and by aeration from the bottom of the reactor. At the reactor treatment water outlet formed at the phase and located at the upper and lower boundary of the reactor , the reactor treatment water of minimum source concentration is discharged from the wastewater source concentration distribution to the reactor height and discharged through the mooring tank to remove organic matter and waste nitrogen from the wastewater. Efficient altitude treatment, such as removal And perform;

하폐수에 용존하거나 micelle 형태로 존재하는 계면활성제가 공기 또는 산소 버블의 공기와 하폐수의 계면으로 전이하고 또한 상기 버블이 반응조 하부로부터 부상하면서 반응조 상부의 수면 위에 계면활성제 거품이 생성되고;Surfactant bubbles dissolved or present in micelle form in the sewage water transition to the interface between the air of the air or oxygen bubble and the waste water, and the bubbles rise from the bottom of the reaction vessel to form surfactant bubbles on the water surface above the reaction vessel;

반응조 상부의 수면위는 5mm X 5mm 이하의 체개방공을 가지는 복수의 스크린이 존재하여, 생성된 계면활성제 거품이 상기 복수의 스크린을 통과하면서 거품이 깨지거나 작아지고, 이때 생성된 계면활성제를 포함한 액적이 하강하여 반응기 상부 수면위로 회수되면서 재 용해된 계면활성제를 반응기 상부에서 산화 또는 분해 처리하고, 반응기 하부에서는 잔류 유기물 및 무기물의 산화 또는 분해 처리를 수행하는 방법 및 반응기 장치에 관한 것이다. 따라서 본 발명은 반응기 상부 수면에 발생한 거품의 분리포집 및 분리 포집된 거품에 대한 별도의 2차 처리 없이 하폐수 처리를 수행한다는 점에서, 계면활성제를 활용한 종래기술과 크게 다르다. The surface of the upper part of the reactor has a plurality of screens having a body opening hole of 5mm x 5mm or less, so that the resulting surfactant bubbles are broken or small as the bubbles pass through the plurality of screens, including the generated surfactant The present invention relates to a method and a reactor apparatus for oxidizing or decomposing a re-dissolved surfactant at the top of a reactor while the droplets are dropped and recovered to the top of the reactor, and at the bottom of the reactor, for oxidizing or decomposing residual organics and inorganics. Therefore, the present invention is significantly different from the prior art using a surfactant in that sewage treatment is performed without separate secondary treatment of the bubbles generated on the upper surface of the reactor and the separated and collected bubbles .

본 발명의 장치는 하폐수처리를 위하여 도 1 및 도 2와 같이 1) 하폐수 원수(19) 유입구(1), 공기 또는 산소 미세 bubble(20)을 생성하는 산기관(2) 및 유동상담체가 통과 못하는 천공된 칸막이(3)로 구성된 반응기 하부(4)와; 2)복수의 스크린(5), 스크린 지지체(24), 공기출구(6), 슬러지 배출구(7) 및 유동상담체가 통과 못하는 천공된 칸막이(3)로 구성된 반응기 상부(8) 및; 3) 반응기 하부(4)와 반응기 상부(8)의 경계에 위치한 반응기처리수 출구(9)로 이루어진 반응기(26), 상기 반응기처리수 출구(9) 위치보다 계류조유입구(11)가 위에 위치한 계류조(10), 계류조 슬러지펌프(12), 반송조(13), 반송조 슬러지펌프(14), 하폐수 원수 주입펌프(15), 산기관에 공기 또는 산소를 공급하는 블러워(16), 계면활성제 주입조(17) 및 공기출구와 연결된 vacuum suction 장치(18)로 구성되어 있다. 도 1에서와 같은 스크린(5)의 설치방법 대신에, 도 2는 액적(22)이 스크린지지체 경사면(27)을 타고 하강하여 액적하강공(25)을 통해서 반응기 상부(8) 수면(28)으로 재용해하여 회수하는, 반응기(26)에 설치된 스크린지지체(24)를 도시하고 있다.The apparatus of the present invention, as shown in Figure 1 and 2 for the treatment of wastewater 1) the wastewater raw water 19 inlet (1), the air diffuser (2) and the fluid carrier to produce the air or oxygen fine bubble (20) can not pass through A reactor bottom 4 composed of perforated partitions 3; 2) a reactor top 8 composed of a plurality of screens 5, screen supports 24, air outlets 6, sludge outlets 7 and perforated partitions 3 through which the fluid carrier cannot pass; 3) A reactor 26 consisting of a reactor treated water outlet 9 located at the boundary between the reactor lower part 4 and the reactor upper part 8, wherein the mooring tank inlet 11 is located above the reactor treated water outlet 9 position. Mooring tank 10, mooring tank sludge pump 12, conveying tank 13, conveying tank sludge pump 14, wastewater raw water injection pump 15, blower 16 for supplying air or oxygen to the diffuser , A surfactant injection tank 17 and a vacuum suction device 18 connected to the air outlet. Instead of the installation method of the screen 5 as in FIG. 1, FIG. 2 shows that the droplet 22 descends on the screen support inclined surface 27 and the upper surface of the reactor 8 through the droplet lower hole 25. The screen support 24 provided in the reactor 26 which is redissolved and collect | recovered is shown.

본 발명의 공정은 1) 반응기로 인입되는 하폐수 원수가 계면활성제를 함유하지 않은 하폐수 원수의 경우에는 반응기 외부에서 반응기 내부로 계면활성제를 주입해주거나, 반응기로 인입되는 하폐수 원수에 계면활성제를 첨가하는 공정; 2) 반응기의 하부 밑으로부터 반응기 내부로 인입된 하폐수에 용해되어 있거나 micelle 형태로 존재하는 계면활성제가, 반응조 하부에서 발생시킨 공기 bubble 또는 산소 bubble과 하폐수의 계면에 물질전달에 의하여 흡착 농축되고, 공기와 하폐수의 밀도차로 인하여 계면활성제가 흡착된 bubble이 반응기 상부로 부상하는 공정; 3) 반응기 상부에서 수면 위에 생성된 계면활성제 거품이 수면에 재 용해되거나, 용존 또는 micelle 형태의 계면활성제가 산화 또는 분해 처리되는 공정; 4) 반응기 하부에서는 잔류 유기물 및 무기물의 산화 또는 분해 처리가 수행되는 공정; 5) 반응기의 상부와 하부의 경계에 설치된 반응기처리수 출구에서, 반응기 높이에 대한 하폐수의 오염원농도분포 중에서 최소오염원 농도의 반응기처리수를 배출하는 공정; 6) 반응기와 연결된 상기 계류조에서 외부 방류수와 미생물 슬러지로 구성된 현탁입자로 분리하여 미생물슬러지를 반응기 하부로 반송하는 공정; 7) 반응기의 공기출구는 간헐적으로 vacuum suction과 연결하여 상기 반응기 상부 위의 계면활성제 거품을 간헐적으로 제거하는 공정; 8) 반응기의 상부 수면 위는 스크린으로 각각 분리한 복수의 빈 단을 형성하여, 계면활성제 거품이 복수의 스크린을 통과하면서 거품이 깨지거나 작아지고 이 때 생성된 계면활성제를 포함한 액적이 하강하여 상기 반응기 상부의 수면 위로 회수되는 공정; 9) 반응기의 상부 수면 또는 그 아래에서 슬러지가 배출되어, 반응기의 하부로 반송되거나 상기 반응기와 연결된 반송조 유입구로 유입되어 반송조에서 슬러지를 반응기 하부로 반송하는 공정으로 구성된다.The process of the present invention 1) in the case of raw wastewater that is introduced into the reactor does not contain a surfactant, the surfactant is injected into the reactor from the outside of the reactor, or the surfactant is added to the raw wastewater introduced into the reactor fair; 2) The surfactant dissolved in the sewage water introduced into the reactor from the bottom of the reactor or in the form of micelle is adsorbed and concentrated by mass transfer to the interface between the air bubble or oxygen bubble generated in the bottom of the reactor and the waste water, Surfactant-adsorbed bubbles rise to the top of the reactor due to the density difference between the wastewater and sewage; 3) a process in which the surfactant bubbles generated on the surface of the reactor at the top of the reactor are redissolved on the surface of the water, or the surfactant in dissolved or micelle form is oxidized or decomposed; 4) oxidizing or decomposing the remaining organics and inorganics at the bottom of the reactor; 5) discharging the reactor treated water of the minimum pollution concentration in the pollutant concentration distribution of the wastewater to the reactor height at the reactor treated water outlet installed at the boundary between the upper and lower portions of the reactor; 6) separating the microbial sludge into the lower part of the reactor by separating the suspended particles consisting of external discharge water and microbial sludge in the mooring tank connected to the reactor; 7) the air outlet of the reactor is intermittently connected with vacuum suction to intermittently remove the surfactant bubbles on the reactor top; 8) The upper surface of the reactor forms a plurality of empty stages, each separated by a screen, so that the bubbles are broken or small as the surfactant bubbles pass through the plurality of screens, and the droplets containing the surfactants generated at this time are lowered. Recovering above the surface of the reactor; 9) The sludge is discharged from the upper surface of the reactor or below the reactor, and is returned to the lower part of the reactor or flows into the tank inlet connected to the reactor and returns the sludge to the bottom of the reactor.

한편 본 발명의 공정 및 장치 특징은 1) 반응기처리수는 상기 반응기처리수 출구의 높이보다 위에 있는, 상기 반응기와 연결된 계류조 유입구로 수두차를 이용하여 유입이 되고; 2) 반응기는 100 내지 30,000 mg/L MLSS 농도의 MLSS를 포함하거나 유동상 미생물 담체로 충전되고; 3) 반응기는 충전된 유동상 미생물담체가 통과하지 못하는 천공된 칸막이로 분리된 각각의 단으로 구성되고; 4) 스크린은 5mm x 5mm 이하 크기의 체개방공을 가지고, 수동 또는 자동 진동 장치에 의하여 간헐적 진동운동이 수행되는 스크린인 것이다.Meanwhile, the process and apparatus of the present invention are characterized in that 1) the reactor treated water is introduced using a water head into the mooring tank inlet connected to the reactor, which is above the height of the reactor treated water outlet; 2) the reactor comprises MLSS at a concentration of 100 to 30,000 mg / L MLSS or is charged with a fluidized bed microbial carrier; 3) the reactor consists of each stage separated by a perforated partition through which the packed fluidized bed microbial carrier cannot pass; 4) The screen is a screen having an opening of a size of 5mm x 5mm or less and the intermittent vibration movement is performed by manual or automatic vibration device.

도 1은 계면활성제를 함유한 하폐수처리를 위한 공정 및 장치를 도시한 도면1 shows a process and apparatus for sewage treatment containing surfactants

도 2는 반응기에 설치된 스크린지지체를 도시한 도면2 is a view showing a screen support installed in the reactor

* 도면의 주요부분에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1. 하폐수 원수 유입구1. Sewage raw water inlet

2. 공기 또는 산소 bubble 발생 산기관2. Air or oxygen bubble generating diffuser

3. 유동상담체가 통과 못하는 천공된 칸막이3. Perforated divider that fluid carrier cannot pass through

4. 반응기 하부4. Reactor bottom

5. 스크린5. Screen

6. 공기출구6. Air outlet

7. 슬러지 배출구7. Sludge Outlet

8. 반응기 상부8. Reactor Top

9. 반응기처리수 출구9. Reactor treated water outlet

10. 계류조10. Mooring tanks

11. 계류조 유입구11. Mooring Inlet

12. 계류조 슬러지펌프12. Mooring Sludge Pump

13. 반송조13. Return tank

14. 반송조 슬러지펌프14. Carrier tank sludge pump

15. 하폐수원수 주입펌프15. Sewage water supply pump

16.블러워16. Blur

17. 계면활성제 주입장치17. Surfactant injection device

18. vacuum suction 장치18. vacuum suction device

19. 하폐수원수19. Wastewater Source

20. 공기 또는 산소 bubble20. Air or oxygen bubble

21. 계면활성제 거품21. Surfactant Foam

22. 액적22. Drops

23. 유동상 미생물담체23. Fluidized Bed Microbial Carriers

24. 스크린지지체24. Screen Support

25. 액적하강공25. Droplet Downhole

26. 반응기26. Reactor

27. 스크린지지체 경사면27. Screen support slope

28. 반응기 상부 수면 28. Reactor top water surface

29. 방류수29. Effluents

Claims (19)

반응기 내부로 인입된 하폐수에 함유되어 있는 계면활성제가, 반응조 하부에서 발생시킨 공기 bubble 또는 산소 bubble과 하폐수의 계면에 물질전달에 의하여 흡착되고;The surfactant contained in the wastewater introduced into the reactor is adsorbed by mass transfer to the interface between the air bubble or oxygen bubble generated in the lower part of the reactor and the wastewater; 공기와 하폐수의 밀도차로 인하여 계면활성제를 흡착한 bubble이 반응기 상부로 부상하면서,Due to the density difference between the air and the wastewater, the bubble adsorbed to the surfactant floats to the top of the reactor, 반응기 상부에서 수면 위에 생성된 계면활성제 거품이 수면에 재 용해되거나, 용존 또는 micelle 형태의 계면활성제가 산화 또는 분해 처리되고;Surfactant bubbles generated on the water surface at the top of the reactor are redissolved on the water, or dissolved or decomposed surfactants in the form of dissolved or micelle; 반응기 하부에서는 잔류 유기물 및 무기물의 산화 또는 분해 처리가 수행되어;At the bottom of the reactor, oxidation or decomposition treatment of residual organics and inorganics is carried out; 반응기 높이에 대한 하폐수의 오염원농도분포 중에서 최소오염원 농도의 반응기처리수를, 반응기의 상부와 하부의 경계에 설치된 반응기처리수 출구에서 배출하는 것을;Discharging the reactor treated water of the minimum source concentration in the source concentration distribution of the wastewater to the reactor height at the reactor treated water outlet installed at the upper and lower boundary of the reactor; 특징으로 하는 하폐수 처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항에 있어서 상기 반응기처리수는 상기 반응기처리수 출구의 높이보다 위에 있는, 상기 반응기와 연결된 계류조 유입구로 수두차를 이용하여 유입이 되는 것을;The method of claim 1, wherein the reactor treated water is introduced using a water head difference into a mooring tank inlet connected to the reactor above the height of the reactor treated water outlet; 특징으로 하는 하폐수 처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 2항에 있어서 상기 반응기와 연결된 상기 계류조에서 외부 방류수와 미생물 슬러지로 구성된 현탁입자로 분리하는 것을;3. The method of claim 2, further comprising: separating the suspended particles consisting of external discharge water and microbial sludge in the mooring tank connected to the reactor; 특징으로 하는 하폐수 처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 3항에 있어서 상기 미생물 슬러지로 구성된 현탁입자는 상기 반응기 하부로 반송되는 것을;4. The method of claim 3, wherein the suspended particles composed of the microbial sludge are returned to the bottom of the reactor; 특징으로 하는 하폐수 처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서 상기 반응기는 100 내지 30,000 mg/L MLSS 농도의 MLSS를 포함하거나 유동상 미생물 담체로 충전된 것을;The reactor according to any one of claims 1 to 4, wherein the reactor comprises MLSS at a concentration of 100 to 30,000 mg / L MLSS or is filled with a fluidized bed microbial carrier; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서 상기 반응기는 충전된 유동상 미생물담체가 통과하지 못하는 천공된 칸막이로 분리된 각각의 단으로 구성된 것을;The reactor according to any one of claims 1 to 4, wherein the reactor consists of each stage separated by a perforated partition through which the packed fluidized bed microbial carrier cannot pass; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서 계면활성제 거품이 복수의 스크린을 통과하면서 거품이 깨지거나 작아지고 이 때 생성된 계면활성제를 포함한 액적이 하강하여 상기 반응기 상부의 수면 위로 회수되는 것을;The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the surfactant bubbles break or become small as they pass through the plurality of screens, and the droplets containing the surfactant generated therefrom are lowered and recovered above the surface of the reactor. ; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서 상기 반응기의 공기출구는 간헐적으로 vacuum suction 장치와 연결하여 상기 반응기 상부 위의 계면활성제 거품을 제거하는 것을;The reactor of claim 1, wherein the air outlet of the reactor is intermittently connected with a vacuum suction device to remove surfactant bubbles on the top of the reactor; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 7항에 있어서 상기 스크린은, 액적을 스크린지지체 경사면을 타고 하강시켜서 액적하강공을 통해서 반응기 상부 수면으로 재용해하여 회수시키는 스크린지지체에 수평으로 복수 설치되거나;8. The screen of claim 7, wherein the plurality of screens are installed horizontally on a screen support for lowering the droplets down the inclined surface of the screen support and re-dissolving and recovering the liquid through the drop downhole to the upper surface of the reactor; 상기 반응기 상부 수면 위에 스크린으로 각각 수평으로 분리된 복수의 빈 단을 형성하도록 설치된 것을;Installed to form a plurality of empty stages each horizontally separated by a screen on the upper surface of the reactor; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 7항에 있어서 상기 스크린은 5mm x 5mm 이하 크기의 체개방공을 가지는 스크린인 것을;8. The method of claim 7, wherein the screen is a screen having a body opening of a size of 5mm x 5mm or less; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 7항에 있어서 상기 스크린은 수동 또는 자동 진동 장치에 의하여 간헐적 진동운동이 수행되는 스크린인 것을;8. The method of claim 7, wherein the screen is a screen on which the intermittent vibration movement is performed by a manual or automatic vibration device; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서 상기 반응기의 상부 수면 또는 그 아래에서 슬러지가 배출되어,The sludge according to any one of claims 1 to 4, wherein sludge is discharged from or below the upper surface of the reactor, 상기 반응기의 하부로 반송되거나 상기 반응기와 연결된 반송조 유입구로 유입되는 것을;Being returned to the bottom of the reactor or introduced into a vessel inlet connected to the reactor; 특징으로 하는 하폐수 처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 12항에 있어서 상기 반송조에서 상기 슬러지를 상기 반응기 하부로 반송하는 것을;13. The method of claim 12, wherein the conveying tank conveys the sludge to the lower portion of the reactor; 특징으로 하는 하폐수 처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서 상기 반응기의 하부 밑으로부터 하폐수 처리를 위한 하폐수 원수가 반응기로 인입되는 것을;5. The process of any one of claims 1 to 4, wherein raw wastewater for sewage treatment is introduced into the reactor from below the reactor; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서 상기 반응기로 인입되는 하폐수 원수가 계면활성제를 함유하지 않은 하폐수 원수의 경우에는;The wastewater raw water according to any one of claims 1 to 4, wherein the raw wastewater introduced into the reactor does not contain a surfactant; 반응기 외부에서 반응기 내부로 계면활성제를 주입해주거나, 상기 반응기로 인입되는 하폐수 원수에 계면활성제를 첨가하는 것을;Injecting a surfactant from outside the reactor into the reactor or adding a surfactant to the sewage raw water introduced into the reactor; 특징으로 하는 하폐수처리방법.Wastewater treatment method characterized in that. 하폐수 원수 유입구, 공기 또는 산소 bubble 산기관 및 유동상담체가 통과 못하는 천공된 칸막이로 구성된 반응기 하부와;A lower part of the reactor including a sewage raw water inlet, an air or oxygen bubble diffuser, and a perforated partition through which the fluid carrier cannot pass; 복수의 스크린, 공기출구, 슬러지 배출구 및 유동상담체가 통과 못하는 천공된 칸막이로 구성되거나, 스크린지지체가 추가되어 구성된 반응기 상부 및;A reactor top composed of a plurality of screens, air outlets, sludge outlets and perforated partitions through which the fluid carrier cannot pass, or wherein screen support is added; 반응기처리수 출구로 반응기가 이루어지고,The reactor is made to the reactor treated water outlet, 상기 반응기처리수 출구가 반응기 하부와 상부의 경계에 위치한 것을;The reactor treated water outlet is located at a boundary between a lower part and an upper part of the reactor; 특징으로 하는 하폐수처리장치Sewage water treatment device 제 16항의 상기 반응기에 부가하여;In addition to the reactor of claim 16; 상기 반응기처리수 출구 위치보다 계류조유입구가 위에 위치한 계류조, 계류조 슬러지펌프, 반송조, 반송조 슬러지펌프, 하폐수 원수 주입펌프, 블러워 및 공기출구와 연결된 vacuum suction 장치로 구성되거나 계면활성제 주입장치가 추가되어 구성된 것을;Mooring tank, mooring tank sludge pump, conveying tank, conveying tank sludge pump, sewage water feed pump, blower and vacuum suction device connected to air outlet or surfactant injection The device is additionally configured; 특징으로 하는 하폐수처리장치 Sewage water treatment device 제 16항에 있어서 상기 스크린지지체는 스크린지지체 경사면과 액적하강공으로 구성되어 상부 구멍 면적이 하부 구멍 면적보다 좁은 것을;17. The method of claim 16, wherein the screen support is composed of the screen support inclined surface and the drop down hole, the upper hole area is narrower than the lower hole area; 특징으로 하는 하폐수처리장치 Sewage water treatment device 제 16항 및 제 18항 중 어느 한 항에 있어서 상기 스크린은, 상기 반응기의 상부 수면 위의 복수의 빈 단을 각각 수평으로 분리하도록 설치되거나 상기 스크린 지지체에 수평으로 복수로 설치된 것을;19. The screen according to any one of claims 16 and 18, wherein the screen is installed so as to horizontally separate a plurality of empty stages on the upper surface of the reactor, respectively, or a plurality of horizontally installed on the screen support; 특징으로 하는 하폐수처리장치Sewage water treatment device
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KR101371191B1 (en) * 2011-07-30 2014-03-10 대구대학교 산학협력단 Apparatus of multi-staged fluidized biofilter

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