KR20110030143A - Interferometer system using point source and measurement method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An interferometer system using a point source and a measurement method thereof are provided to enable a reference beam to be measured at a high precision in spite of the change of surrounding environment since the reference beam is a point source type. CONSTITUTION: An interferometer system using a point source comprises a laser device(110), a beam splitter(120), and a mirror. The laser device generates a given size of laser beams. The beam splitter splits a laser beam to a first laser beam and a second laser beam, which have different paths. The mirror reflects the first laser beam to send it to a pin hole.

Description

포인트 소스를 이용한 간섭계 및 그 측정 방법{Interferometer System using Point Source and Measurement Method thereof}Interferometer using point source and measuring method

본 발명은 간섭계 및 그 측정 방법에 관한 것으로서, 특히, 레이저빔을 마이크로미터 급(예를 들어, 1마이크로미터)의 핀홀(pinhole)에 통과시킨 포인트 소스 형태의 빔을 기준 빔으로 이용함으로써, 이러한 포인트 소스 형태의 완벽한 기준 빔이 측정 빔과 간섭 무늬를 형성할 때 주위 온도나 진동 등의 주변 환경의 변화에도 민감하지 않게 안정적이고 높은 정밀도로 측정이 가능하고 고가의 정밀 광학계 없이도 저렴하게 구성할 수 있는 간섭계 및 그 측정 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an interferometer and a method of measuring the same, in particular, by using as a reference beam a beam in the form of a point source passed through the pinhole of the micrometer class (for example, 1 micrometer) When a complete reference beam in the form of a point source forms an interference fringe with a measurement beam, it is stable and highly accurate, and is insensitive to changes in the surrounding environment such as ambient temperature or vibration, and can be constructed inexpensively without expensive precision optics. Interferometer and measuring method thereof.

간섭계는 정밀 측정이 필요한 광학부품 소자 가공 산업, 다이아몬드 연마 공정, 정밀 기계 가공, 반도체 노광 장비 등 정밀 분야에서 많이 사용되고 있다. 특히, 레이저를 간섭계의 광원으로 이용하는 레이저 간섭계는 더욱 다양한 분야에서 더욱 정밀한 측정을 가능하게 만들었다. 레이저 간섭계를 이용하여 1마이크로미터 이하의 미소 변위까지 측정이 요구되는 경우의 예로서, 반도체 노광 장비에 있어서 마스크와 웨이퍼의 정렬을 위해 스테이지의 변위를 정확히 측정해야 하는 경우, 원자 현미경(AFM: Atomic Force Microscopy) 또는 근접 현미경(SNOM: Scanning Near- field Optical Microscopy)과 같은 나노측정 장비의 스테이지의 이동을 측정해야 하는 경우, 나노미터 단위의 오차 범위 내에서의 위치 추적이 필요한 광자기 디스크의 헤드 스캔 위치를 모니터링 하는 경우 등이 있다.Interferometers are widely used in the precision field, such as the optical component processing industry, the diamond polishing process, precision machining, and semiconductor exposure equipment that require precise measurement. In particular, laser interferometers, which use lasers as the light source for interferometers, enable more accurate measurements in a wider variety of fields. As an example where measurement is required up to a micro displacement of less than 1 micrometer using a laser interferometer, an atomic microscope (AFM: Atomic) is used when semiconductor displacement equipment must accurately measure the displacement of the stage for alignment of the mask and wafer. Head scans of magneto-optical disks that need to be tracked within nanometer tolerances, when it is necessary to measure the movement of the stage of a nanometering instrument such as force microscopy (SNOM) or scanning near-field optical microscopy (SNOM) Such as monitoring location.

레이저 간섭계를 이용한 정밀 측정의 원리는 레이저빔을 기준 빔과 측정 빔으로 분리하고, 측정 빔이 측정 대상체를 경유하여 나올 때의 빔과 기준 빔에 의하여 형성되는 간섭 무늬를 분석하는 과정에 의하여 이루어질 수 있다. The principle of precise measurement using a laser interferometer can be achieved by separating a laser beam into a reference beam and a measurement beam, and analyzing the interference fringe formed by the beam and the reference beam when the measurement beam exits through the measurement object. have.

이와 같은 레이저 간섭계를 이용한 정밀 측정에 의하여 현미경과 같은 광학계나 렌즈 등의 광 부품을 평가할 수 있는데, 기존의 레이저 간섭계에서는 레이저 빔을 광원으로 하여 정밀 광학계를 이용한 기준 빔(reference beam)을 만들고 광학계나 광 부품의 평가를 위하여 고가의 다양한 초점 길이(focal length)를 가진 대물렌즈를 필요로 한다. 즉, 기존의 레이저 간섭계는 많은 정밀 보조 광학계로 구성되며 주위 온도나 진동 등의 주변 환경에 민감한 특성을 가지고 있어 사용장소에 제한이 있다. 최근 이러한 주변 환경에 대하여 영향이 적은 간섭계들이 개발되고 있지만 가격이 매우 비싸다는 단점이 있다.Optical components such as microscopes and optical components such as lenses can be evaluated by precise measurement using a laser interferometer. In a conventional laser interferometer, a laser beam is used as a light source to make a reference beam using a precision optical system and For the evaluation of optical components, expensive objective lenses with various focal lengths are required. In other words, the existing laser interferometer is composed of many precision auxiliary optical system and has a characteristic that is sensitive to the surrounding environment such as ambient temperature or vibration, there is a limit to the use place. Recently, interferometers have been developed that have little influence on the surrounding environment, but have a disadvantage of being very expensive.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은, 주위 온도나 진동 등의 주변 환경의 변화에도 민감하지 않게 안정적이고 높은 정밀도로 측정이 가능하고 고가의 정밀 광학계 없이도 저렴하게 구성할 수 있도록 하기 위하여, 레이저빔을 마이크로미터 급(예를 들어, 1마이크로미터)의 핀 홀(pinhole)에 통과시킨 포인트 소스 형태의 완벽한 빔을 기준 빔으로 이용하여 광학계나 광 부품의 평가에 사용할 수 있는 간섭계 및 그 측정 방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention is to solve the above-described problems, the object of the present invention is to be stable and high accuracy without being sensitive to changes in the surrounding environment, such as ambient temperature or vibration, and inexpensive without expensive precision optical system In order to be able to construct, a reference beam is used for the evaluation of an optical system or an optical component by using a perfect beam in the form of a point source having a laser beam passed through a pinhole of a micrometer (for example, 1 micrometer). It is to provide an interferometer and a measuring method thereof that can be used.

먼저, 본 발명의 특징을 요약하면, 본 발명의 일면에 따른 간섭계는, 핀홀을 갖는 미러를 이용해 레이저 빔을 상기 핀홀에 통과시킨 포인트 소스 형태의 기준 빔과 레이저 빔이 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔을 발생하여 상기 기준 빔과 상기 측정 빔의 간섭 패턴을 형성하기 위한 것을 특징으로 한다.First, to summarize the features of the present invention, the interferometer according to an aspect of the present invention, the reference beam in the form of a point source, the laser beam is passed through the pinhole using a mirror having a pinhole and the measuring beam is reflected from the measurement object It is characterized in that for generating an interference pattern of the reference beam and the measurement beam.

상기 핀홀의 직경은 마이크로미터 급(예를 들어, 0.1 내지 3 마이크로미터)를 포함한다.The diameter of the pinholes includes a micrometer class (eg, 0.1 to 3 micrometers).

상기 간섭계는, 일정 스폿 사이즈의 레이저 빔을 발생하는 레이저 장치; 상기 레이저 장치로부터의 레이저 빔을 서로 다른 경로의 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔으로 분리하는 빔 분리기; 및 상기 제1 레이저 빔을 반사시켜 상기 핀홀로 입사시키기 위한 복수의 미러들을 포함하고, 상기 제1 레이저 빔이 상기 핀홀을 통과한 빔을 상기 기준 빔으로 이용하고, 상기 제2 레이저 빔이 직접 상기 핀홀을 통과한 빔을 상기 측정 대상체로 입사하는 측정 빔으로 이용한다.The interferometer includes: a laser device for generating a laser beam of a predetermined spot size; A beam splitter separating the laser beam from the laser device into a first laser beam and a second laser beam in different paths; And a plurality of mirrors for reflecting the first laser beam to enter the pinhole, wherein the first laser beam uses the beam passing through the pinhole as the reference beam, and the second laser beam directly The beam passing through the pinhole is used as a measurement beam incident on the measurement object.

상기 제2 레이저 빔이 상기 측정 대상체로 입사된 후 상기 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔은 상기 핀홀을 갖는 미러의 하부면에서 반사되어 상기 기준 빔과 한점에서 모이도록 작동한다.The measuring beam reflected from the measuring object after the second laser beam is incident on the measuring object is operated to be reflected at the lower surface of the mirror having the pinhole and converge at one point with the reference beam.

상기 복수의 미러들은 입사되는 빔을 수직 방향으로 순차 반사시키기 위한 두 개의 미러들을 포함한다.The plurality of mirrors include two mirrors for sequentially reflecting the incident beam in the vertical direction.

상기 간섭계는, 상기 복수의 미러들과 상기 핀홀을 갖는 미러 사이에 배치되고, 상기 복수의 미러들에서 반사되는 상기 제1 레이저 빔의 초점을 조절하여 상기 핀홀로 입사시키기 위한 제1 포커싱 렌즈; 및 상기 빔 분리기와 상기 핀홀을 갖는 미러 사이에 배치되고, 상기 빔 분리기로부터의 상기 제2 레이저 빔의 초점을 조절하여 상기 핀홀로 입사시키기 위한 제2 포커싱 렌즈를 더 포함할 수 있다.The interferometer includes: a first focusing lens disposed between the plurality of mirrors and the mirror having the pinhole, and configured to adjust the focus of the first laser beam reflected by the plurality of mirrors and to enter the pinhole; And a second focusing lens disposed between the beam splitter and the mirror having the pinhole, and configured to adjust the focus of the second laser beam from the beam splitter to enter the pinhole.

상기 기준 빔과 상기 측정 빔의 간섭 패턴을 촬영하여 해당 영상 신호를 생성하는 광검출기를 포함한다.And a photodetector for photographing the interference patterns of the reference beam and the measurement beam to generate a corresponding image signal.

또한, 본 발명의 다른 일면에 따른 간섭계의 측정 방법은, 핀홀을 갖는 미러를 이용해 레이저 빔을 상기 핀홀에 통과시킨 포인트 소스 형태의 기준 빔과 레이저 빔이 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔을 발생하여 상기 기준 빔과 상기 측정 빔의 간섭 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the measuring method of the interferometer according to another aspect of the present invention, by generating a reference beam in the form of a point source in which a laser beam is passed through the pinhole using a mirror having a pinhole and a measuring beam in which the laser beam is reflected from the measurement object And forming an interference pattern between the reference beam and the measurement beam.

상기 간섭계의 측정 방법은, 광학계의 성능 측정이나 광학계 부품의 특성 측정에 이용될 수 있다. The measuring method of the interferometer can be used for measuring the performance of the optical system or the characteristics of the optical system components.

본 발명에 따른 간섭계 및 그 측정 방법에 따르면, 레이저빔을 마이크로미터 급(예를 들어, 1마이크로미터)의 핀홀(pinhole)에 통과시킨 포인트 소스 형태의 완벽한 빔을 기준 빔으로 이용하여, 광학계나 광 부품의 평가 측정 시에 주위 온도나 진동 등의 주변 환경의 변화에도 민감하지 않게 안정적이고 높은 정밀도로 측정이 가능하고 고가의 정밀 광학계 없이도 저렴하게 구성할 수 있다.According to the interferometer according to the present invention and a measuring method thereof, an optical system or a beam is used as a reference beam by using a perfect beam in the form of a point source having a laser beam passed through a pinhole of a micrometer (for example, 1 micrometer). When measuring and evaluating optical components, the sensor can be measured with high accuracy and stability without being sensitive to changes in the surrounding environment such as ambient temperature or vibration, and can be inexpensively configured without expensive precision optics.

이하 첨부 도면들 및 첨부 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout. Like reference numerals in the drawings denote like elements.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 간섭계(100)를 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining an interferometer 100 according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 간섭계(100)는, 레이저 장치(110), 빔 분리기(beam splitter)(120), 제1 미러(mirror)(130), 제2 미러(140), 핀홀(pinhole)을 갖는 미러(150), 및 광 검출기(160)를 포함한다. Referring to FIG. 1, an interferometer 100 according to an embodiment of the present invention may include a laser device 110, a beam splitter 120, a first mirror 130, and a second mirror ( 140, a mirror 150 with pinholes, and a photo detector 160.

레이저 장치(110)는 레이저 광을 발생하는 레이저 발생기(111)와 빔 확장기(beam expander)(112)를 포함한다. 레이저 발생기(111)는 He과 Ne의 혼합가스를 이용하여 레이저 광을 발생시킬 수 있다. 경우에 따라서는 레이저 발생기(111)는 레이저 반도체 소자를 이용하여 레이저 광을 발생시킬 수도 있다. 빔 확장기(112)는 레이저 발생기(111)에서 발생되는 레이저 광을 적절한 빔 스폿(spot) 사이즈가 되도록 빔의 직경을 확대시킨 레이저 빔을 출력할 수 있다. The laser device 110 includes a laser generator 111 and a beam expander 112 for generating laser light. The laser generator 111 may generate laser light using a mixed gas of He and Ne. In some cases, the laser generator 111 may generate laser light using a laser semiconductor device. The beam expander 112 may output a laser beam in which the diameter of the beam is enlarged so that the laser light generated by the laser generator 111 may have an appropriate beam spot size.

빔 분리기(120)는 이와 같이 레이저 장치(110)를 통해 적절한 빔 직경으로 방출되는 레이저 빔을 서로 다른 경로의 두 개의 레이저 빔으로 분리할 수 있다.In this way, the beam splitter 120 may split the laser beam emitted through the laser device 110 at an appropriate beam diameter into two laser beams of different paths.

빔 분리기(120)에서 분리된 두 개의 레이저 빔 중 제1 레이저 빔은 제1 미러(130) 및 제2 미러(140)를 통해 각각 입사 방향에 수직 방향으로 순차 반사된 후, 핀홀을 갖는 미러(150)의 핀홀로 입사될 수 있다. 이에 따라 핀홀을 갖는 미 러(150)의 핀홀을 통과하는 포인트 소스 형태의 기준 빔(151)이 만들어 질 수 있다. 여기서, 핀홀의 직경은 마이크로미터 급의 관통 홀로서, 예를 들어, 0.1 내지 3 마이크로미터의 직경을 갖는 홀일 수 있으며, 핀홀의 직경을 1 마이크로미터로 하는 것이 바람직하다. Among the two laser beams separated from the beam splitter 120, the first laser beam is sequentially reflected in the direction perpendicular to the incident direction through the first mirror 130 and the second mirror 140, and then includes a mirror having a pinhole ( 150 may be incident to the pinhole. Accordingly, the reference beam 151 in the form of a point source passing through the pinhole of the mirror 150 having the pinhole may be made. Herein, the diameter of the pinhole may be a hole having a diameter of, for example, 0.1 to 3 micrometers, and the diameter of the pinhole is 1 micrometer.

또한, 빔 분리기(120)에서 분리된 두 개의 레이저 빔 중 제2 레이저 빔은 핀홀을 갖는 미러(150)의 핀홀을 통과해 측정 대상체로 입사될 수 있고, 이에 따라 핀홀로 통과된 후 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔(152)이 발생될 수 있다. 이와 같이 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔(152)은 핀홀을 갖는 미러(150)의 하부면(예를 들어, 핀홀의 바로 옆)에서 반사되어 기준 빔(151)과 한점에서 모이도록 작동한다In addition, the second laser beam of the two laser beams separated from the beam splitter 120 may enter the measurement object through the pinhole of the mirror 150 having the pinhole, and thus, after passing through the pinhole, from the measurement object Reflected measurement beam 152 may be generated. As such, the measurement beam 152 reflected from the measurement object is reflected at the lower surface of the mirror 150 having the pinhole (for example, right next to the pinhole) and operates to converge at one point with the reference beam 151.

도면에는 도시되지 않았으나, 제2 미러(140)와 핀홀을 갖는 미러(150) 사이에 포커싱 렌즈(focusing lens)를 배치하여, 제2 미러(140)에서 반사되는 상기 제1 레이저 빔의 초점을 조절하여 미러(150)의 핀홀로 입사되도록 할 수 있다. 또한, 빔 분리기(120)와 핀홀을 갖는 미러(150) 사이에 다른 포커싱 렌즈를 배치하여, 빔 분리기(120)로부터의 상기 제2 레이저 빔의 초점을 조절하여 미러(150)의 핀홀로 입사되도록 할 수 있다.Although not shown in the drawing, a focusing lens is disposed between the second mirror 140 and the mirror 150 having the pinhole to adjust the focus of the first laser beam reflected from the second mirror 140. As a result, the light may be incident to the pinhole of the mirror 150. In addition, another focusing lens is disposed between the beam splitter 120 and the mirror 150 having the pinhole to adjust the focus of the second laser beam from the beam splitter 120 to be incident on the pinhole of the mirror 150. can do.

이와 같이, 기준 빔(151)과 측정 빔(152)이 한점에서 모아져 간섭 패턴을 형성하도록 작동하면, 광검출기(160)는 해당 간섭 패턴을 촬영하여 해당 영상 신호, 예를 들어, 디지털 신호를 생성할 수 있다. 광검출기(160)는 CCD(Charge Coupled Device) 등을 이용하여 영상을 촬영할 수 있으며, 광검출기(160)로부터 출력되는 영상 신호는 컴퓨터 등 신호 분석 장치에 의하여 분석 되어 측정 대상체의 성능이나 특성이 파악될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일실시예에 따른 간섭계(100)는, 원자 현미경(AFM: Atomic Force Microscopy), 근접 현미경(SNOM: Scanning Near-field Optical Microscopy)과 같은 각종 광학계의 성능 측정에 활용될 수 있고, 이와 같은 광학계에 구비되는 렌즈 등의 부품의 특성 측정에 활용될 수 있다. As such, when the reference beam 151 and the measurement beam 152 are operated at one point to form an interference pattern, the photodetector 160 photographs the interference pattern to generate a corresponding image signal, for example, a digital signal. can do. The photodetector 160 may capture an image using a charge coupled device (CCD) or the like, and the image signal output from the photodetector 160 may be analyzed by a signal analysis device such as a computer to determine performance or characteristics of a measurement object. Can be. For example, the interferometer 100 according to an embodiment of the present invention may be used to measure the performance of various optical systems such as atomic force microscopy (AFM) and scanning near-field optical microscopy (SNOM). It may be used to measure the characteristics of components, such as a lens provided in such an optical system.

도 2는 도 1의 간섭계(100)를 이용한 광학계의 성능 평가를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the performance evaluation of the optical system using the interferometer 100 of FIG.

도 2와 같이, 예를 들어, 원자 현미경, 근접 현미경과 같은 각종 광학계의 성능 평가를 위하여 간섭계(100)의 미러(150) 하부에 해당 광학계를 설치하고, 해당 광학계의 하부에는 측정 빔(152)의 반사를 위한 미러를 배치할 수 있다.As shown in FIG. 2, for example, the optical system is installed under the mirror 150 of the interferometer 100 to evaluate the performance of various optical systems such as an atomic microscope and a proximity microscope, and the measurement beam 152 is provided below the optical system. You can place a mirror for the reflection of.

레이저 장치(110)에서 일정 스폿 사이즈의 레이저 빔이 발생되면, 빔 분리기(120)에서 분리된 제1 레이저 빔은 제1 미러(130)와 제2 미러(140)를 경유하여 미러(150)의 핀홀로 통과된 후 포인트 소스 형태의 기준 빔(151)이 된다. 빔 분리기(120)에서 분리된 제2 레이저 빔은 미러(150)의 핀홀로 통과된 후, 평가될 해당 광학계를 통과하여 하부의 미러에서 반사된 후 다시 상기 광학계를 투과하여 미러(150) 하부면의 핀홀 바로 옆에서 반사되어 측정 빔(152)으로 나온다. When a laser beam having a predetermined spot size is generated in the laser device 110, the first laser beam separated by the beam splitter 120 may be formed in the mirror 150 via the first mirror 130 and the second mirror 140. After passing through the pinhole it becomes a reference beam 151 in the form of a point source. The second laser beam separated by the beam splitter 120 passes through the pinhole of the mirror 150, passes through the corresponding optical system to be evaluated, is reflected by the lower mirror, and then passes through the optical system again to pass through the optical system. Is reflected right next to the pinhole and exits the measurement beam 152.

이와 같은 기준 빔(151)과 측정 빔(152)은 한 점에서 모아져 특성 평가 대상 광학계의 성능(예를 들어, 굴절율, 투과율, 반사율 등)에 따른 간섭 패턴을 형성하게 되고, 이때 광검출기(160)는 해당 간섭 패턴을 촬영하여 해당 광학계의 성능 평가를 위한 분석에 이용될 영상 신호를 출력할 수 있다.The reference beam 151 and the measurement beam 152 are collected at one point to form an interference pattern according to the performance (eg, refractive index, transmittance, reflectance, etc.) of the optical system to be evaluated, and at this time, the photodetector 160 ) May output the image signal to be used in the analysis for performance evaluation of the optical system by photographing the interference pattern.

도 3은 도 1의 간섭계를 이용한 오목 렌즈의 평가를 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining evaluation of a concave lens using the interferometer of FIG.

도 3과 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 간섭계(100)는, 간섭계(100)의 미러(150) 하부에 오목 렌즈 등 각종 시료를 놓고 측정 함으로써 시료의 광학 특성을 파악하는데 활용될 수도 있다.As shown in FIG. 3, the interferometer 100 according to an exemplary embodiment of the present invention may be utilized to determine optical characteristics of a sample by measuring various samples such as concave lenses under the mirror 150 of the interferometer 100. .

도 3에서도, 레이저 장치(110)에서 일정 스폿 사이즈의 레이저 빔이 발생되면, 빔 분리기(120)에서 분리된 제1 레이저 빔은 제1 미러(130)와 제2 미러(140)를 경유하여 미러(150)의 핀홀로 통과된 후 포인트 소스 형태의 기준 빔(151)이 된다. 빔 분리기(120)에서 분리된 제2 레이저 빔은 미러(150)의 핀홀로 통과된 후, 평가될 해당 시료에 입사되고 시료의 표면에서 반사된 후 미러(150) 하부면의 핀홀 바로 옆에서 반사되어 측정 빔(152)으로 나온다. Also in FIG. 3, when a laser beam having a predetermined spot size is generated in the laser device 110, the first laser beam separated by the beam splitter 120 is mirrored via the first mirror 130 and the second mirror 140. After passing through the pinhole of 150 is a reference beam 151 in the form of a point source. The second laser beam separated by the beam splitter 120 passes through the pinhole of the mirror 150 and then enters the sample to be evaluated and reflects off the surface of the sample and then reflects directly next to the pinhole on the bottom surface of the mirror 150. To the measuring beam 152.

이와 같은 기준 빔(151)과 측정 빔(152)은 한 점에서 모아져 시료, 예를 들어, 렌즈의 표면 특성에 따른 간섭 패턴을 형성하게 되고, 이때 광검출기(160)는 해당 간섭 패턴을 촬영하여 해당 광학계의 성능 평가를 위한 분석에 이용될 영상 신호를 출력할 수 있다.The reference beam 151 and the measurement beam 152 are collected at one point to form an interference pattern according to the surface characteristics of a sample, for example, a lens. In this case, the photodetector 160 photographs the interference pattern. An image signal to be used for analysis for performance evaluation of the optical system may be output.

이와 같이 본 발명에 따른 간섭계(100)에서는 레이저빔을 마이크로미터 급(예를 들어, 1마이크로미터)의 핀홀(pinhole)에 통과시킨 포인트 소스 형태의 빔을 기준 빔으로 이용한다. 이에 따라, 포인트 소스 형태의 완벽한 기준 빔이 측정 빔과 간섭 무늬를 형성할 때 주위 온도나 진동 등의 주변 환경의 변화에도 민감하지 않게 안정적이고 높은 정밀도로 측정이 가능하도록 할 수 있으며, 고가의 정밀 광 학계 없이도 저렴하게 구성하여 각종 정밀 측정에 활용할 수 있다.As described above, in the interferometer 100 according to the present invention, a beam in the form of a point source having a laser beam passed through a pinhole of a micrometer level (for example, 1 micrometer) is used as a reference beam. As a result, when a perfect reference beam in the form of a point source forms an interference fringe with a measurement beam, it is possible to make the measurement highly stable and accurate without being sensitive to changes in the surrounding environment such as ambient temperature or vibration. It can be configured inexpensively without using an optical system and can be used for various precision measurements.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As described above, the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, but the present invention is not limited to the above embodiments, and those skilled in the art to which the present invention pertains various modifications and variations from such descriptions. This is possible. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined not only by the claims below but also by the equivalents of the claims.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 간섭계를 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining an interferometer according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 간섭계를 이용한 광학계 평가를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 2 is a diagram for describing optical system evaluation using the interferometer of FIG. 1.

도 3은 도 1의 간섭계를 이용한 오목 렌즈의 평가를 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining evaluation of a concave lens using the interferometer of FIG.

Claims (6)

핀홀을 갖는 미러를 이용해 레이저 빔을 상기 핀홀에 통과시킨 포인트 소스 형태의 기준 빔과 A reference beam in the form of a point source that passes a laser beam through the pinhole using a mirror having a pinhole; 레이저 빔이 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔을 발생하여 상기 기준 빔과 상기 측정 빔의 간섭 패턴을 형성하기 위한 간섭계.An interferometer for generating a measurement beam in which a laser beam is reflected from a measurement object to form an interference pattern of the reference beam and the measurement beam. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 핀홀의 직경은 0.1 내지 3 마이크로미터를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계.The pinhole diameter of the interferometer, characterized in that it comprises 0.1 to 3 micrometers. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 일정 스폿 사이즈의 레이저 빔을 발생하는 레이저 장치;A laser device for generating a laser beam of a constant spot size; 상기 레이저 장치로부터의 레이저 빔을 서로 다른 경로의 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔으로 분리하는 빔 분리기; 및A beam splitter separating the laser beam from the laser device into a first laser beam and a second laser beam in different paths; And 상기 제1 레이저 빔을 반사시켜 상기 핀홀로 입사시키기 위한 복수의 미러들을 포함하고,A plurality of mirrors for reflecting the first laser beam to enter the pinhole, 상기 제1 레이저 빔이 상기 핀홀을 통과한 빔을 상기 기준 빔으로 이용하고, Using the beam passed through the pinhole by the first laser beam as the reference beam, 상기 제2 레이저 빔이 상기 핀홀을 통과한 빔을 상기 측정 대상체로 입사하는 측정 빔으로 이용하는 것을 특징으로 하는 간섭계.The interferometer according to claim 2, wherein the second laser beam passes through the pinhole as a measuring beam incident on the measuring object. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 제2 레이저 빔이 상기 측정 대상체로 입사된 후 상기 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔은 상기 핀홀을 갖는 미러의 하부면에서 반사되어 상기 기준 빔과 한점에서 모이는 것을 특징으로 하는 간섭계.And a measurement beam reflected from the measurement object after the second laser beam is incident on the measurement object is reflected at a lower surface of the mirror having the pinhole and converged at one point with the reference beam. 핀홀을 갖는 미러를 이용해 레이저 빔을 상기 핀홀에 통과시킨 포인트 소스 형태의 기준 빔과 A reference beam in the form of a point source that passes a laser beam through the pinhole using a mirror having a pinhole; 레이저 빔이 측정 대상체로부터 반사되는 측정 빔을 발생하여 상기 기준 빔과 상기 측정 빔의 간섭 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 간섭계의 측정 방법.And a measuring beam reflecting a laser beam from the measuring object to form an interference pattern between the reference beam and the measuring beam. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 광학계의 성능 측정이나 광학계 부품의 특성 측정에 이용하는 것을 특징으로 하는 간섭계의 측정 방법.A method for measuring an interferometer, which is used for measuring performance of an optical system or measuring characteristics of an optical component.
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