JP7145030B2 - Measuring method and measuring device - Google Patents

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Description

本発明は、測定方法及び測定装置に関し、例えば、試料の凹凸のある測定面の3次元形状を測定する測定方法及び測定装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a measuring method and a measuring device, and more particularly to a measuring method and a measuring device for measuring a three-dimensional shape of an uneven measurement surface of a sample.

共焦点顕微鏡は、共焦点光学系を有している。共焦点光学系は、対物レンズの焦点位置と共役な位置にピンホール等を配置することで、焦点のあった位置のみの光を検出する。これにより、共焦点顕微鏡は、試料の測定面における対物レンズの焦点があった部分のみの情報を得ることができる。 A confocal microscope has a confocal optical system. A confocal optical system detects light only at a focused position by arranging a pinhole or the like at a position conjugate to the focal position of an objective lens. As a result, the confocal microscope can obtain information only on the portion of the sample measurement surface where the objective lens was focused.

特開2013-222109号公報JP 2013-222109 A 特開2017-090634号公報JP 2017-090634 A

共焦点顕微鏡を用いて、凹凸のある測定面の3次元形状を測定するためには、試料または対物レンズを光軸方向に沿って移動させ、輝度のピーク位置に基づいて3次元形状を測定する。よって、試料または対物レンズを光軸方向に沿って移動させる必要があり、3次元形状の取得に長時間を要していた。 In order to measure the three-dimensional shape of an uneven measurement surface using a confocal microscope, the sample or objective lens is moved along the optical axis direction, and the three-dimensional shape is measured based on the brightness peak position. . Therefore, it was necessary to move the sample or the objective lens along the optical axis direction, and it took a long time to acquire the three-dimensional shape.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、試料の測定面の形状を迅速に測定することができる測定方法及び測定装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a measuring method and a measuring apparatus capable of rapidly measuring the shape of a measurement surface of a sample.

本発明に係る測定方法は、共焦点光学系を用いた測定方法であって、試料の測定面を照明する照明光が前記測定面で反射した反射光を対物レンズにより集光するステップと、前記対物レンズにより集光した前記反射光を、プリズムの第1反射面及び第2反射面を含む角部に入射させ、前記反射光を分割するステップと、分割された前記反射光のうち前記第1反射面で反射した第1反射光を、前記角部に入射した前記反射光の光軸及び前記第1反射光の光軸を含む平面内において、前記第1反射光の光軸に直交した方向に並んだ第1チャンネル及び第2チャンネルを含むバンドルファイバに入射させるステップと、前記第1反射光のうち前記第1チャンネルを透過した光の第1強度及び前記第1反射光のうち前記第2チャンネルを透過した光の第2強度を検出するステップと、前記第1強度及び前記第2強度に基づいて、前記対物レンズの焦点に対する前記測定面の位置を測定するステップと、を備える。このような構成により、試料の測定面の形状を迅速に測定することができる。 A measuring method according to the present invention is a measuring method using a confocal optical system, comprising the step of condensing, with an objective lens, the reflected light of illumination light that illuminates a measurement surface of a sample and is reflected by the measurement surface; making the reflected light condensed by an objective lens incident on a corner portion including a first reflecting surface and a second reflecting surface of a prism to split the reflected light; A direction orthogonal to the optical axis of the first reflected light within a plane containing the optical axis of the first reflected light and the optical axis of the first reflected light incident on the corner portion of the first reflected light reflected by the reflecting surface. a first intensity of the light transmitted through the first channel out of the first reflected light and the second out of the first reflected light detecting a second intensity of light transmitted through the channel; and measuring the position of the measurement plane with respect to the focus of the objective lens based on the first intensity and the second intensity. With such a configuration, the shape of the measurement surface of the sample can be measured quickly.

また、本発明に係る測定装置は、共焦点光学系と、測定処理部と、を備えた測定装置であって、前記共焦点光学系は、試料の測定面を照明する照明光が前記測定面で反射した反射光を集光する対物レンズと、第1反射面及び第2反射面を含む角部を有し、前記角部に入射した前記反射光を分割するプリズムと、分割された前記反射光のうち前記第1反射面で反射した第1反射光が入射するバンドルファイバであって、前記角部に入射した前記反射光の光軸及び前記第1反射光の光軸を含む平面内において、前記第1反射光の光軸に直交した方向に並んだ第1チャンネル及び第2チャンネルを含む前記バンドルファイバと、前記第1反射光のうち前記第1チャンネルを透過した光の第1強度及び前記第1反射光のうち前記第2チャンネルを透過した光の第2強度を検出する受光素子と、を含み、前記測定処理部は、前記第1強度及び前記第2強度に基づいて、前記対物レンズの焦点に対する前記測定面の位置を測定する。このような構成により、試料の測定面の形状を迅速に測定することができる。 Further, a measuring apparatus according to the present invention is a measuring apparatus comprising a confocal optical system and a measurement processing section, wherein the confocal optical system is configured such that illumination light for illuminating a measurement surface of a sample is directed to the measurement surface. an objective lens for condensing the reflected light reflected by, a prism having a corner portion including a first reflecting surface and a second reflecting surface, dividing the reflected light incident on the corner portion, and the divided reflection A bundle fiber into which a first reflected light of light reflected by the first reflecting surface is incident, wherein in a plane including an optical axis of the reflected light incident on the corner and an optical axis of the first reflected light , the bundle fiber including a first channel and a second channel arranged in a direction perpendicular to the optical axis of the first reflected light; a light receiving element that detects a second intensity of light transmitted through the second channel out of the first reflected light, and the measurement processing unit detects the objective light based on the first intensity and the second intensity. Measure the position of the measurement plane with respect to the focus of the lens. With such a configuration, the shape of the measurement surface of the sample can be measured quickly.

さらに、本発明に係る測定装置は、共焦点光学系と、測定処理部と、を備えた測定装置であって、前記共焦点光学系は、試料の測定面を照明する照明光が前記測定面で反射した反射光を集光する対物レンズと、前記測定面に対する前記対物レンズの焦点を検出するフォーカス検出手段と、を含み、前記測定処理部は、前記フォーカス検出手段により検出した前記焦点に基づいて、前記測定面の位置を測定する。このような構成により、試料の測定面の形状を迅速に測定することができる。 Further, a measuring apparatus according to the present invention is a measuring apparatus comprising a confocal optical system and a measurement processing section, wherein the confocal optical system is configured such that illumination light for illuminating a measurement surface of a sample is directed to the measurement surface. and focus detection means for detecting the focus of the objective lens with respect to the measurement surface, wherein the measurement processing unit detects the focus detected by the focus detection means. to measure the position of the measurement surface. With such a configuration, the shape of the measurement surface of the sample can be measured quickly.

本発明によれば、試料の測定面の形状を迅速に測定することができる測定方法及び測定装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the measuring method and measuring device which can measure the shape of the measuring surface of a sample rapidly can be provided.

実施形態1に係る測定装置を例示した斜視図である。1 is a perspective view illustrating a measuring device according to Embodiment 1; FIG. 実施形態1に係る測定装置を例示した構成図である。1 is a configuration diagram illustrating a measuring device according to Embodiment 1; FIG. (a)は、実施形態1に係る測定装置において、ナイフエッジプリズム及びバンドルファイバの配置を例示した構成図であり、(b)は、バンドルファイバの端面を例示した図である。(a) is a configuration diagram illustrating the arrangement of a knife-edge prism and a bundle fiber in the measuring apparatus according to the first embodiment, and (b) is a diagram illustrating an end surface of the bundle fiber. 実施形態1に係る測定装置において、試料の測定面が対物レンズの焦点に位置する場合の反射光を例示した図である。4 is a diagram illustrating reflected light when the measurement surface of the sample is positioned at the focal point of the objective lens in the measurement apparatus according to Embodiment 1; FIG. (a)及び(b)は、実施形態1に係る測定装置において、試料の測定面が対物レンズの焦点よりも対物レンズ側に位置する場合の反射光を例示した図であり、ナイフエッジプリズムにより第2反射光が遮光された場合の第1反射光を示す。(a) and (b) are diagrams exemplifying reflected light when the measurement surface of the sample is positioned closer to the objective lens than the focal point of the objective lens in the measurement apparatus according to the first embodiment, and The first reflected light is shown when the second reflected light is blocked. (a)及び(b)は、実施形態1に係る測定装置において、試料の測定面が対物レンズの焦点よりも対物レンズと反対側に位置する場合の反射光を例示した図であり、ナイフエッジプリズムにより第2反射光が遮光された場合の第1反射光を示す。4(a) and 4(b) are diagrams exemplifying reflected light when the measurement surface of the sample is located on the side opposite to the objective lens with respect to the focal point of the objective lens in the measurement apparatus according to the first embodiment; The first reflected light is shown when the second reflected light is blocked by the prism. (a)は、実施形態1に係る測定装置のナイフエッジプリズム及びバンドルファイバに入射する反射光を例示した図であり、試料の測定面が対物レンズの焦点に位置する場合を示し、(b)は、(a)におけるバンドルファイバの各チャンネルの受光状態を例示した図である。(a) is a diagram illustrating reflected light incident on a knife-edge prism and a bundle fiber of the measurement apparatus according to Embodiment 1, showing a case where the measurement surface of the sample is positioned at the focus of the objective lens; These are the figures which illustrated the light reception state of each channel of the bundle fiber in (a). (a)は、実施形態1に係る測定装置のナイフエッジプリズム及びバンドルファイバに入射する反射光を例示した図であり、試料の測定面が対物レンズの焦点よりも対物レンズ側に位置する場合を示し、(b)は、(a)におけるバンドルファイバの各チャンネルの受光状態を例示した図である。(a) is a diagram exemplifying reflected light incident on a knife-edge prism and a bundle fiber of the measurement apparatus according to Embodiment 1, and shows a case in which the measurement surface of the sample is positioned closer to the objective lens than the focal point of the objective lens; and (b) is a diagram illustrating the light receiving state of each channel of the bundle fiber in (a). (a)は、実施形態1に係る測定装置のナイフエッジプリズム及びバンドルファイバに入射する反射光を例示した図であり、試料の測定面が対物レンズの焦点よりも対物レンズと反対側に位置する場合を示し、(b)は、(a)におけるバンドルファイバの各チャンネルの受光状態を例示した図である。(a) is a diagram exemplifying reflected light incident on a knife-edge prism and a bundle fiber of the measurement apparatus according to Embodiment 1, where the measurement surface of the sample is located on the opposite side of the objective lens from the focal point of the objective lens; (b) is a diagram illustrating the light receiving state of each channel of the bundle fiber in (a). 実施形態1に係る測定装置において、各チャンネルを透過した第1反射光の強度を例示した図であり、縦軸は、上から第1チャンネル39a、第3チャンネル39c及び第2チャンネル39bを透過した反射光を示す。In the measuring device according to the first embodiment, FIG. Shows reflected light. (a)は、実施形態1に係る各チャンネルを透過した第1反射光の強度を例示したグラフであり、横軸は、対物レンズの焦点に対する測定面の位置を示し、縦軸は、第1強度、第2強度及び第3強度を示し、(b)は、第2強度(A)及び第1強度(B)の差(A-B)を、第2強度及び第1強度の和(A+B)で割った値Iを例示したグラフであり、横軸は、対物レンズの焦点に対する測定面の位置を示し、縦軸は、値Iを示す。(a) is a graph exemplifying the intensity of the first reflected light transmitted through each channel according to Embodiment 1, where the horizontal axis indicates the position of the measurement plane with respect to the focus of the objective lens, and the vertical axis indicates the first Intensity, second intensity and third intensity are shown, (b) is the difference (AB) between the second intensity (A) and the first intensity (B), the sum of the second intensity and the first intensity (A+B ), where the horizontal axis indicates the position of the measurement plane with respect to the focus of the objective lens, and the vertical axis indicates the value I. FIG. 実施形態1に係る測定方法を例示したフローチャート図である。2 is a flow chart diagram illustrating a measurement method according to Embodiment 1. FIG. (a)及び(b)は、実施形態1に係る測定方法において、試料の測定面を例示した平面図である。4(a) and 4(b) are plan views illustrating the measurement surface of the sample in the measurement method according to the first embodiment. FIG. (a)及び(b)は、実施形態1に係る測定方法において、試料を例示した断面図である。4A and 4B are cross-sectional views illustrating samples in the measurement method according to the first embodiment; FIG. (a)は、実施形態1に係るナイフエッジプリズムを例示した斜視図であり、(b)は、実施形態1の変形例1に係る四角錐のプリズムを例示した斜視図である。1A is a perspective view illustrating a knife-edge prism according to Embodiment 1, and FIG. 1B is a perspective view illustrating a four-sided pyramid prism according to Modification 1 of Embodiment 1. FIG. (a)~(h)は、実施形態1の変形例2に係るバンドルファイバの端面及び受光素子を例示した図である。8(a) to 8(h) are diagrams illustrating an end face of a bundle fiber and a light receiving element according to Modification 2 of Embodiment 1. FIG. 実施形態2に係る測定装置を例示した構成図である。2 is a configuration diagram illustrating a measuring device according to Embodiment 2. FIG. 実施形態3に係る測定装置を例示した構成図である。FIG. 11 is a configuration diagram illustrating a measuring device according to Embodiment 3; 実施形態4に係る測定装置を例示した構成図である。FIG. 11 is a configuration diagram illustrating a measuring device according to Embodiment 4;

以下、本実施形態の具体的構成について図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施の形態を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施の形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。 A specific configuration of the present embodiment will be described below with reference to the drawings. The following description shows preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. In the following description, items with the same reference numerals indicate substantially similar contents.

(実施形態1)
実施形態1に係る測定装置を説明する。まず、測定装置の構成と測定原理を説明する。その後、測定装置を用いた測定方法を説明する。
(Embodiment 1)
A measuring device according to Embodiment 1 will be described. First, the configuration and measurement principle of the measuring device will be described. After that, the measuring method using the measuring device will be described.

<測定装置の構成>
実施形態1に係る測定装置の構成を説明する。図1は、実施形態1に係る測定装置を例示した斜視図である。図2は、実施形態1に係る測定装置を例示した構成図である。図2では、構成を簡潔にするため、同一平面上に光学部品を配置している。なお、他の図でも構成を簡潔にするため、適宜、同一平面上に光学部品を配置する場合がある。図1及び図2に示すように、測定装置1は、光源10、共焦点光学系20及び測定処理部41を備えている。測定装置1は、試料50の測定面51の形状を測定する。測定装置1は、例えば、共焦点光学系20を備えた共焦点顕微鏡を用いている。
<Configuration of measuring device>
The configuration of the measuring device according to Embodiment 1 will be described. FIG. 1 is a perspective view illustrating a measuring device according to Embodiment 1. FIG. FIG. 2 is a configuration diagram illustrating the measuring device according to the first embodiment. In FIG. 2, the optical components are arranged on the same plane to simplify the configuration. Note that optical components may be arranged on the same plane as appropriate in order to simplify the configuration in other drawings as well. As shown in FIGS. 1 and 2, the measurement apparatus 1 includes a light source 10, a confocal optical system 20, and a measurement processing section 41. FIG. The measurement device 1 measures the shape of the measurement surface 51 of the sample 50 . The measuring device 1 uses, for example, a confocal microscope equipped with a confocal optical system 20 .

光源10は、照明光11を生成する。光源10は、例えば、波長405nmの半導体レーザを用いる。なお、半導体レーザの波長は405nmに限定しなくてもよい。また、半導体レーザ以外のレーザでもよい。また、連続スペクトルに複数の輝線を含む水銀キセノンランプ、紫外から赤外域(185nm~2000nm)に幅広い連続スペクトルを有するキセノンランプ、白色ダイオード、白色レーザ等を用いて、バンドパスフィルタで特定域の波長の光を取り出してもよい。 A light source 10 generates illumination light 11 . The light source 10 uses, for example, a semiconductor laser with a wavelength of 405 nm. Note that the wavelength of the semiconductor laser need not be limited to 405 nm. Lasers other than semiconductor lasers may also be used. In addition, using a mercury-xenon lamp with multiple emission lines in the continuous spectrum, a xenon lamp with a wide continuous spectrum from ultraviolet to infrared (185 nm to 2000 nm), a white diode, a white laser, etc., a band-pass filter can be used to detect wavelengths in a specific range. of light can be extracted.

共焦点光学系20は、アナモルフィックプリズム21、ビームエキスバンダ22、偏光ビームスプリッタ23、ミラー24、ガルバノミラーX25、レンズ26~29、ガルバノミラーY31、λ/4板32、ダイクロイックミラー33、対物レンズ34、可変焦点レンズ35、ナイフエッジプリズム36、バンドルファイバ39、受光素子40、駆動部34k(50k)を含んでいる。ガルバノミラーX25及びガルバノミラーY31を走査部ともいう。 The confocal optical system 20 includes an anamorphic prism 21, a beam expander 22, a polarizing beam splitter 23, a mirror 24, a galvanomirror X25, lenses 26 to 29, a galvanomirror Y31, a λ/4 plate 32, a dichroic mirror 33, and an objective. It includes a lens 34, a variable focus lens 35, a knife edge prism 36, a bundle fiber 39, a light receiving element 40, and a drive section 34k (50k). The galvanomirror X25 and the galvanomirror Y31 are also called a scanning unit.

光源10で生成された照明光11は、光源10から出射する。光源10から出射した照明光11は、アナモルフィックプリズム21に入射する。アナモルフィックプリズム21は、入射した照明光11の形状を成形する。例えば、アナモルフィックプリズム21は、照明光11の光軸に直交する断面の形状を真円状に成形する。 Illumination light 11 generated by the light source 10 is emitted from the light source 10 . Illumination light 11 emitted from the light source 10 enters the anamorphic prism 21 . The anamorphic prism 21 shapes the shape of the incident illumination light 11 . For example, the anamorphic prism 21 shapes the shape of the cross section orthogonal to the optical axis of the illumination light 11 into a perfect circle.

アナモルフィックプリズム21によって成形された照明光11は、ビームエキスバンダ22によって拡大される。ビームエキスバンダ22は、照明光11の真円状の断面の直径をより大きな直径の円となるように拡大させる。 The illumination light 11 shaped by the anamorphic prism 21 is expanded by the beam expander 22 . The beam expander 22 expands the diameter of the perfect circular cross section of the illumination light 11 so as to form a circle with a larger diameter.

ビームエキスバンダ22によって拡大された照明光11は、偏光ビームスプリッタ23に入射する。偏光ビームスプリッタ23は、入射した照明光11の一部を透過させ、一部を反射させる。偏光ビームスプリッタ23を透過した照明光11は、ミラー24で反射する。 The illumination light 11 expanded by the beam expander 22 enters the polarizing beam splitter 23 . The polarizing beam splitter 23 transmits part of the incident illumination light 11 and reflects part of it. The illumination light 11 transmitted through the polarization beam splitter 23 is reflected by the mirror 24 .

ミラー24で反射した照明光11は、ガルバノミラーX25に入射する。ガルバノミラーX25は、試料50の測定面51を照明光11で走査(スキャン)させる。測定面51をXY平面とした場合に、例えば、X軸方向にスキャンさせる。ガルバノミラーX25をガルバノミラーY31とともに走査部という。ガルバノミラーX25で反射した照明光11は、レンズ26によって、一次像を形成された後、レンズ27によって、平行光に戻される。 The illumination light 11 reflected by the mirror 24 enters the galvanomirror X25. The galvanometer mirror X25 scans the measurement surface 51 of the sample 50 with the illumination light 11 . If the measurement plane 51 is the XY plane, for example, scanning is performed in the X-axis direction. The galvanomirror X25 is called a scanning part together with the galvanomirror Y31. The illumination light 11 reflected by the galvanomirror X25 forms a primary image by the lens 26 and then is returned to parallel light by the lens 27 .

レンズ27を透過した照明光11は、ガルバノミラーY31に入射する。ガルバノミラーY31は、試料50の測定面51を照明光11で走査(スキャン)させる。測定面51をXY平面とした場合に、例えば、Y軸方向にスキャンさせる。したがって、ガルバノミラーX25及びガルバノミラーY31の走査部により、試料50の測定面51を2次元的にスキャンすることができる。ガルバノミラーY31で反射された照明光11は、レンズ28によって、一次像を形成された後、レンズ29によって、平行光に戻される。 The illumination light 11 transmitted through the lens 27 is incident on the galvanomirror Y31. The galvanomirror Y31 scans the measurement surface 51 of the sample 50 with the illumination light 11 . If the measurement surface 51 is the XY plane, for example, scanning is performed in the Y-axis direction. Therefore, it is possible to two-dimensionally scan the measurement surface 51 of the sample 50 by the scanning part of the galvanometer mirror X25 and the galvanometer mirror Y31. The illumination light 11 reflected by the galvanomirror Y31 forms a primary image by the lens 28 and then is returned to parallel light by the lens 29 .

レンズ29を透過した照明光11は、λ/4板32に入射する。λ/4板32は、偏光状態を変化させる。例えば、λ/4板32は、直線偏光の照明光を円偏光に変える。λ/4板32によって偏光状態が変化された照明光11は、ダイクロイックミラー33で反射する。ダイクロイックミラー33は、照明光11における特定の波長の光を反射し、その他の波長の光を透過させる。 The illumination light 11 transmitted through the lens 29 is incident on the λ/4 plate 32 . The λ/4 plate 32 changes the polarization state. For example, the λ/4 plate 32 converts linearly polarized illumination light into circularly polarized light. The illumination light 11 whose polarization state has been changed by the λ/4 plate 32 is reflected by the dichroic mirror 33 . The dichroic mirror 33 reflects light of a specific wavelength in the illumination light 11 and transmits light of other wavelengths.

ダイクロイックミラー33で反射した照明光11は、対物レンズ34で集光され、試料50の測定面51を照明する。ガルバノミラーX25及びY31によって、測定面51をXY方向に照明光11でスキャンさせながら、試料50の測定面51を照明する。測定面51を照明した照明光11は、測定面51で反射する。 The illumination light 11 reflected by the dichroic mirror 33 is collected by the objective lens 34 and illuminates the measurement surface 51 of the sample 50 . The measurement surface 51 of the sample 50 is illuminated while the measurement surface 51 is scanned in the XY directions with the illumination light 11 by the galvanometer mirrors X25 and Y31. The illumination light 11 that illuminates the measurement surface 51 is reflected by the measurement surface 51 .

測定面51で反射した反射光12は、対物レンズ34によって集光される。このように、対物レンズ34は、試料50の測定面51を照明する照明光11が測定面51で反射した反射光12を集光する。なお、対物レンズ34は、照明光11により測定面51から発生した蛍光を集光してもよい。その場合には、反射光12は、蛍光を含む意味で用いる。 The reflected light 12 reflected by the measurement surface 51 is collected by the objective lens 34 . In this way, the objective lens 34 collects the reflected light 12 that is reflected by the measurement surface 51 of the illumination light 11 that illuminates the measurement surface 51 of the sample 50 . Note that the objective lens 34 may condense fluorescence generated from the measurement surface 51 by the illumination light 11 . In that case, the reflected light 12 is used in a sense including fluorescence.

対物レンズ34には、対物レンズ34を照明光11の光軸11j方向に移動させる駆動部34kが取り付けられてもよい。なお、駆動部34kの代わりに、試料50を光軸11j方向に移動させる駆動部50kが、試料50を載置させるステージに取付けられてもよい。駆動部34k及び50kは、試料50または対物レンズ34を照明光11の光軸11j方向に間隔を空けて複数回移動させてもよい。これにより、光軸11j方向にスキャンさせることができる。対物レンズ34で集光された反射光12は、偏光ビームスプリッタ23まで逆の光路をたどる。 The objective lens 34 may be provided with a drive section 34k that moves the objective lens 34 in the direction of the optical axis 11j of the illumination light 11. FIG. Instead of the drive section 34k, a drive section 50k that moves the sample 50 in the direction of the optical axis 11j may be attached to the stage on which the sample 50 is placed. The driving units 34k and 50k may move the sample 50 or the objective lens 34 a plurality of times in the direction of the optical axis 11j of the illumination light 11 at intervals. This enables scanning in the direction of the optical axis 11j. The reflected light 12 condensed by the objective lens 34 follows the reverse optical path to the polarizing beam splitter 23 .

すなわち、反射光12は、ダイクロイックミラー33、λ/4板32、レンズ29、レンズ28、ガルバノミラーY31、レンズ27、レンズ26、ガルバノミラーX25、ミラー24を経て、偏光ビームスプリッタ23に入射する。偏光ビームスプリッタ23で反射した反射光12は、可変焦点レンズ35を透過する。可変焦点レンズ35を透過した反射光12は、ナイフエッジプリズム36に入射する。 That is, the reflected light 12 passes through the dichroic mirror 33, the λ/4 plate 32, the lens 29, the lens 28, the galvanometer mirror Y31, the lens 27, the lens 26, the galvanometer mirror X25, and the mirror 24, and enters the polarization beam splitter 23. The reflected light 12 reflected by the polarizing beam splitter 23 is transmitted through the varifocal lens 35 . The reflected light 12 that has passed through the varifocal lens 35 enters a knife-edge prism 36 .

ナイフエッジプリズム36は、例えば、直角二等辺三角形を2つの対向する底面とする三角柱状のプリズムである。ナイフエッジプリズム36は、ナイフエッジ部36eを有している。ナイフエッジ部36eは、各底面を構成する直角二等辺三角形の直角の各頂点を結ぶ稜線に形成されている。したがって、ナイフエッジ部36eは、一方向に延在している。 The knife-edge prism 36 is, for example, a triangular column-shaped prism having two opposing bottom surfaces that are right-angled isosceles triangles. The knife edge prism 36 has a knife edge portion 36e. The knife edge portion 36e is formed on a ridge line connecting right-angled vertices of isosceles right triangles forming the bottom surfaces. Therefore, the knife edge portion 36e extends in one direction.

ナイフエッジ部36eは、ナイフエッジプリズム36において、隣り合う側面が角を形成する角部の一つである。ナイフエッジ部36eを挟む隣り合う側面は直角をなしている。直角をなす隣り合う側面を第1反射面36a及び第2反射面36bとする。このように、ナイフエッジプリズム36は、第1反射面36a及び第2反射面36bを含む角部を有している。具体的には、ナイフエッジプリズム36は、第1反射面36a及び第2反射面36bにより構成されたナイフエッジ部36eを角部として有している。 The knife-edge portion 36e is one of the corner portions of the knife-edge prism 36 in which adjacent side surfaces form an angle. Adjacent side surfaces sandwiching the knife edge portion 36e form a right angle. Adjacent side surfaces forming a right angle are defined as a first reflecting surface 36a and a second reflecting surface 36b. Thus, the knife-edge prism 36 has corners including the first reflecting surface 36a and the second reflecting surface 36b. Specifically, the knife edge prism 36 has a knife edge portion 36e formed by a first reflecting surface 36a and a second reflecting surface 36b as a corner portion.

可変焦点レンズ35を透過した反射光12の光軸は、ナイフエッジ部36eの延在方向に直交する。また、反射光12の光軸は、第1反射面36a及び第2反射面36bとのなす角が等しくなるような方向から、ナイフエッジ部36eに入射する。よって、第1反射面36a及び第2反射面36bに対する反射光12の入射角は等しい。 The optical axis of the reflected light 12 transmitted through the varifocal lens 35 is perpendicular to the extension direction of the knife edge portion 36e. Also, the optical axis of the reflected light 12 enters the knife edge portion 36e from a direction in which the angles formed by the first reflecting surface 36a and the second reflecting surface 36b are equal. Therefore, the incident angles of the reflected light 12 with respect to the first reflecting surface 36a and the second reflecting surface 36b are equal.

ナイフエッジプリズム36は、ナイフエッジ部36eに入射した反射光12を分割する。ナイフエッジ部36eに入射した反射光12は、第1反射面36aで反射した第1反射光12a及び第2反射面36bで反射した第2反射光12bに分割される。分割された反射光12のうち第1反射光12aは、一方のバンドルファイバ39に入射する。また、分割された反射光12のうち第2反射光12bは、他方のバンドルファイバ39に入射する。 The knife edge prism 36 splits the reflected light 12 incident on the knife edge portion 36e. The reflected light 12 incident on the knife edge portion 36e is split into a first reflected light 12a reflected by the first reflecting surface 36a and a second reflected light 12b reflected by the second reflecting surface 36b. A first reflected light 12 a of the split reflected light 12 enters one bundle fiber 39 . Also, the second reflected light 12 b of the split reflected light 12 enters the other bundle fiber 39 .

図3(a)は、実施形態1に係る測定装置1において、ナイフエッジプリズム36及びバンドルファイバ39の配置を例示した構成図であり、(b)は、バンドルファイバ39の端面を例示した図である。図3(a)に示すように、反射光12は、ナイフエッジプリズム36のナイフエッジ部36eに入射する。ナイフエッジ部36eに入射した反射光12は、第1反射光12a及び第2反射光12bに分割される。 3A is a configuration diagram illustrating the arrangement of the knife edge prism 36 and the bundle fiber 39 in the measurement apparatus 1 according to Embodiment 1, and FIG. 3B is a diagram illustrating the end face of the bundle fiber 39. FIG. be. As shown in FIG. 3( a ), the reflected light 12 is incident on the knife edge portion 36 e of the knife edge prism 36 . The reflected light 12 incident on the knife edge portion 36e is split into a first reflected light 12a and a second reflected light 12b.

図3(b)に示すように、バンドルファイバ39は、第1チャンネル39a、第2チャンネル39b及び第3チャンネル39cを含んでいる。バンドルファイバ39は、第1チャンネル39aと第2チャンネル39bとの間に配置された第3チャンネル39cを含んでいる。各チャンネルは、例えば、ファイバを含んでいる。よって、バンドルファイバ39は、複数のファイバが束になったものである。 As shown in FIG. 3(b), the bundle fiber 39 includes a first channel 39a, a second channel 39b and a third channel 39c. Bundle fiber 39 includes a third channel 39c located between first channel 39a and second channel 39b. Each channel contains, for example, a fiber. Therefore, the bundle fiber 39 is a bundle of a plurality of fibers.

第1チャンネル39a、第2チャンネル39b及び第3チャンネル39cは、角部に入射した反射光12の光軸12j及び第1反射光12aの光軸12ajを含む平面内において、第1反射光12aの光軸12ajに直交した方向に並んでいる。角度がナイフエッジ部36eの場合には、第1チャンネル39a、第2チャンネル39b及び第3チャンネル39cは、第1反射光12aの光軸12aj、及び、ナイフエッジ部36eの延在方向、に直交する方向に並んでいる。 The first channel 39a, the second channel 39b, and the third channel 39c are arranged within a plane including the optical axis 12j of the reflected light 12 incident on the corner and the optical axis 12aj of the first reflected light 12a. They are arranged in a direction perpendicular to the optical axis 12aj. When the angle is the knife edge portion 36e, the first channel 39a, the second channel 39b, and the third channel 39c are orthogonal to the optical axis 12aj of the first reflected light 12a and the extending direction of the knife edge portion 36e. lined up in the direction of

各チャンネルのジャケットの外径は、例えば、φ250[μm]である。第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bのコア径及びクラッド径は、例えば、φ105[μm]及びφ125[μm]である。第3チャンネル39cのコア径及びクラッド径は、φ50[μm]及びφ125[μm]である。 The outer diameter of the jacket of each channel is, for example, φ250 [μm]. The core diameter and clad diameter of the first channel 39a and the second channel 39b are, for example, φ105 [μm] and φ125 [μm]. The core diameter and clad diameter of the third channel 39c are φ50 [μm] and φ125 [μm].

各バンドルファイバ39は、第1反射光12a及び第2反射光12bを透過させる。各バンドルファイバ39に入射した各反射光12は、各チャンネルを介して受光素子40により検出される。第1反射光12aのうち第1チャンネル39aを透過した光の強度を第1強度といい、第1反射光12aのうち第2チャンネル39bを透過した光の強度を第2強度という。第1反射光12aのうち第3チャンネル39cを透過した光の強度を第3強度という。受光素子40は、第1強度、第2強度、及び、第3強度を出力する。 Each bundle fiber 39 transmits the first reflected light 12a and the second reflected light 12b. Each reflected light 12 incident on each bundle fiber 39 is detected by a light receiving element 40 via each channel. The intensity of the light that has passed through the first channel 39a out of the first reflected light 12a is called the first intensity, and the intensity of the light out of the first reflected light 12a that has passed through the second channel 39b is called the second intensity. The intensity of the light transmitted through the third channel 39c out of the first reflected light 12a is called the third intensity. The light receiving element 40 outputs a first intensity, a second intensity and a third intensity.

試料50の測定面51を照明光11でスキャンすることにより、受光素子40が出力した測定面51における反射光の第1強度、第2強度及び第3強度と、ガルバノミラーX25及びガルバノミラーY31の振り角を測定処理部41で処理し、測定面51における反射光の第1強度、第2強度及び第3強度の分布を算出する。 By scanning the measurement surface 51 of the sample 50 with the illumination light 11, the first intensity, the second intensity, and the third intensity of the reflected light on the measurement surface 51 output by the light receiving element 40, and the galvanometer mirror X25 and the galvanometer mirror Y31. The swing angle is processed by the measurement processing unit 41, and distributions of the first intensity, the second intensity, and the third intensity of the reflected light on the measurement surface 51 are calculated.

測定処理部41は、駆動部34kまたは駆動部50kに取り付けられたスケールから対物レンズ34と測定面51の相対位置を取得する。また、測定処理部41は、測定面51を照明光11で走査させた場合の測定面51における反射光の第1強度、第2強度及び第3強度の分布を算出する。これにより、測定処理部41は、測定面51の3次元形状を測定する。なお、測定処理部41は、第1強度及び第2強度に基づいて、対物レンズ34の焦点に対する測定面51の位置を測定してもよい。 The measurement processing unit 41 acquires the relative positions of the objective lens 34 and the measurement surface 51 from the scale attached to the driving unit 34k or the driving unit 50k. The measurement processing unit 41 also calculates distributions of the first intensity, the second intensity, and the third intensity of the reflected light on the measurement surface 51 when the measurement surface 51 is scanned with the illumination light 11 . Thereby, the measurement processing unit 41 measures the three-dimensional shape of the measurement surface 51 . Note that the measurement processing unit 41 may measure the position of the measurement plane 51 with respect to the focal point of the objective lens 34 based on the first intensity and the second intensity.

さらに、測定処理部41は、駆動部50kが試料50を、または、駆動部34kが対物レンズ34を移動させる度に、測定面51を照明光11で走査させた場合の反射光の第1強度、第2強度及び第3強度の分布を取得する。そして、測定処理部41は、取得した複数の反射光の強度分布に基づいて、測定面51に焦点53が位置したときの試料50または対物レンズ34の位置を導出し、測定面51の3次元形状を測定する。測定処理部41は、例えば、汎用的なPCである。 Further, the measurement processing unit 41 scans the measurement surface 51 with the illumination light 11 each time the driving unit 50k moves the sample 50 or the driving unit 34k moves the objective lens 34, and the first intensity of the reflected light is , the distribution of the second intensity and the third intensity. Then, the measurement processing unit 41 derives the position of the sample 50 or the objective lens 34 when the focal point 53 is positioned on the measurement plane 51 based on the acquired intensity distributions of the reflected lights, and calculates the three-dimensional position of the measurement plane 51. Measure the shape. The measurement processing unit 41 is, for example, a general-purpose PC.

<測定原理>
次に、実施形態1に係る測定装置1において、試料50の測定面51の3次元形状を測定する原理を説明する。まず、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53に位置する場合を説明する。
<Measurement principle>
Next, the principle of measuring the three-dimensional shape of the measurement surface 51 of the sample 50 in the measurement device 1 according to the first embodiment will be described. First, the case where the measurement surface 51 of the sample 50 is positioned at the focal point 53 of the objective lens 34 will be described.

図4は、実施形態1に係る測定装置1において、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53に位置する場合の反射光12を例示した図である。図4に示すように、測定面51が対物レンズ34の焦点53に位置する場合には、照明光11が測定面51で反射した反射光12は対物レンズ34で集光された後、可変焦点レンズ35によって集光され、受光素子40上で焦点を結ぶ。 FIG. 4 is a diagram illustrating the reflected light 12 when the measurement surface 51 of the sample 50 is positioned at the focal point 53 of the objective lens 34 in the measurement apparatus 1 according to Embodiment 1. FIG. As shown in FIG. 4, when the measurement surface 51 is positioned at the focal point 53 of the objective lens 34, the reflected light 12 of the illumination light 11 reflected by the measurement surface 51 is condensed by the objective lens 34 and then is varifocal. The light is collected by the lens 35 and focused on the light receiving element 40 .

ここで、反射光12の光軸方向をZ軸方向とし、Z軸方向に直交する面上にX軸方向及びY軸方向を規定する。受光素子40において、反射光12が焦点を結んだ点から+Y軸方向側を受光素子40aとし、-Y軸方向側を受光素子40bとする。 Here, the optical axis direction of the reflected light 12 is defined as the Z-axis direction, and the X-axis direction and the Y-axis direction are defined on a plane orthogonal to the Z-axis direction. In the light-receiving element 40, the +Y-axis direction side from the point where the reflected light 12 is focused is defined as a light-receiving element 40a, and the -Y-axis direction side is defined as a light-receiving element 40b.

次に、試料50の測定面51が対物レンズ34側に突出している場合、すなわち、測定面51と対物レンズ34とが近づいて、測定面51が対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34側に位置する場合を説明する。 Next, when the measurement surface 51 of the sample 50 protrudes toward the objective lens 34 side, that is, when the measurement surface 51 and the objective lens 34 approach each other, the measurement surface 51 is closer to the objective lens 34 than the focal point 53 of the objective lens 34 is. will be described.

図5(a)及び(b)は、実施形態1に係る測定装置1において、試料50の測定面51が、対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34側に位置する場合の反射光12を例示した図であり、ナイフエッジプリズム36により第2反射光12bが遮光された場合の第1反射光12aを示す。 5A and 5B show the reflected light 12 when the measurement surface 51 of the sample 50 is positioned closer to the objective lens 34 than the focal point 53 of the objective lens 34 in the measurement apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 10 is an exemplary view showing the first reflected light 12a when the second reflected light 12b is blocked by the knife-edge prism 36;

図5(a)及び(b)に示すように、ナイフエッジ部36eの延在方向をX軸方向とする。試料50の測定面51が、対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34側に位置する場合には、第1反射光12aは、受光素子40a上で広がっており、受光素子40aよりも後側(+Z軸方向側)で焦点を結ぶ。ナイフエッジプリズム36により第2反射光12bが遮光された場合には、-Y軸方向側の反射光を遮光し、+Y軸方向側の反射光のみを受光する状態となっている。 As shown in FIGS. 5A and 5B, the extension direction of the knife edge portion 36e is the X-axis direction. When the measurement surface 51 of the sample 50 is positioned closer to the objective lens 34 than the focal point 53 of the objective lens 34, the first reflected light 12a spreads on the light receiving element 40a, and extends to the rear side of the light receiving element 40a. (+Z-axis direction side) is focused. When the second reflected light 12b is blocked by the knife-edge prism 36, the reflected light in the -Y-axis direction is blocked and only the reflected light in the +Y-axis direction is received.

すなわち、受光素子40aが受光していれば、試料50の測定面51は、焦点53よりも対物レンズ34側に位置している。そして、測定面51が対物レンズ34側に近づくほど、スポット径が大きくなっている。よって、測定面51が対物レンズ34側に位置するほど、受光素子40aが受光する輝度が減少する。 That is, if the light receiving element 40a receives light, the measurement surface 51 of the sample 50 is located closer to the objective lens 34 than the focal point 53 is. The spot diameter increases as the measurement surface 51 approaches the objective lens 34 side. Therefore, the closer the measurement surface 51 is to the objective lens 34 side, the lower the luminance received by the light receiving element 40a.

次に、試料50の測定面51が対物レンズ34とは反対側に遠のいている場合、すなわち、測定面51と対物レンズ34とが離れて、測定面51が焦点53よりも対物レンズ34とは反対側に位置する場合を説明する。 Next, when the measurement surface 51 of the sample 50 is farther away from the objective lens 34 , that is, when the measurement surface 51 and the objective lens 34 are separated, the measurement surface 51 is farther from the objective lens 34 than the focal point 53 is. A case of being positioned on the opposite side will be described.

図6(a)及び(b)は、実施形態1に係る測定装置1において、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34と反対側に位置する場合の反射光12を例示した図であり、ナイフエッジプリズム36により第2反射光12bが遮光された場合の第1反射光12aを示す。 6A and 6B show the reflected light 12 when the measurement surface 51 of the sample 50 is located on the opposite side of the objective lens 34 from the focal point 53 of the objective lens 34 in the measurement apparatus 1 according to Embodiment 1. and shows the first reflected light 12a when the second reflected light 12b is blocked by the knife-edge prism 36. FIG.

図6(a)及び(b)に示すように、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34と反対側に位置する場合には、第1反射光12aは、受光素子40よりも前側(-Z軸方向側)で焦点を結ぶ。ナイフエッジプリズム36により第2反射光12bが遮光された場合には、+Y軸方向側の反射光を遮光し、-Y軸方向側の反射光のみを受光する状態となっている。 As shown in FIGS. 6A and 6B, when the measurement surface 51 of the sample 50 is located on the opposite side of the objective lens 34 from the focal point 53 of the objective lens 34, the first reflected light 12a is received It is focused on the front side (−Z axis direction side) of the element 40 . When the second reflected light 12b is blocked by the knife-edge prism 36, the reflected light in the +Y-axis direction is blocked and only the reflected light in the -Y-axis direction is received.

すなわち、受光素子40bが受光していれば、試料50の測定面51は、対物レンズ34の焦点53よりも遠くに位置している。そして、測定面51が対物レンズ34から離れるほど、スポット径が大きくなっている。よって、測定面51が対物レンズ34と反対側に位置するほど、受光素子40bが受光する輝度が減少する。 That is, if the light receiving element 40b receives light, the measurement surface 51 of the sample 50 is located farther than the focal point 53 of the objective lens 34. FIG. The spot diameter increases as the measurement surface 51 is further away from the objective lens 34 . Therefore, the luminance received by the light receiving element 40b decreases as the measurement surface 51 is located on the opposite side of the objective lens 34. FIG.

このように、試料50の測定面51が焦点53よりも対物レンズ34側に位置するのか対物レンズ34とは反対側に位置するかによって、ナイフエッジ部36eによって分割された反射光12の到達位置と収束具合が異なる。よって、ナイフエッジ部36eによって分割された反射光12の到達位置と収束具合から対物レンズ34の焦点53に対する測定面51の位置を検出することができる。 Thus, the arrival position of the reflected light 12 divided by the knife edge portion 36e depends on whether the measurement surface 51 of the sample 50 is positioned closer to the objective lens 34 than the focal point 53 or to the opposite side of the objective lens 34. and convergence are different. Therefore, the position of the measurement surface 51 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34 can be detected from the arrival position and the degree of convergence of the reflected light 12 divided by the knife edge portion 36e.

図7(a)は、実施形態1に係る測定装置1のナイフエッジプリズム36及びバンドルファイバ39に入射する反射光12を例示した図であり、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53に位置する場合を示し、(b)は、(a)におけるバンドルファイバの各チャンネルの受光状態を例示した図である。図(a)及び(b)に示すように、測定面51が対物レンズ34の焦点53に位置する場合には、第1反射光12aは、バンドルファイバ39の第3チャンネル39cを主に透過する。 FIG. 7A is a diagram illustrating the reflected light 12 incident on the knife-edge prism 36 and the bundle fiber 39 of the measurement apparatus 1 according to Embodiment 1. The measurement surface 51 of the sample 50 is the focus 53 of the objective lens 34. FIG. (b) is a diagram illustrating the light receiving state of each channel of the bundle fiber in (a). As shown in FIGS. (a) and (b), when the measurement surface 51 is positioned at the focal point 53 of the objective lens 34, the first reflected light 12a is mainly transmitted through the third channel 39c of the bundle fiber 39. .

図8(a)は、実施形態1に係る測定装置1のナイフエッジプリズム36及びバンドルファイバ39に入射する反射光を例示した図であり、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34側に位置する場合を示し、(b)は、(a)におけるバンドルファイバ39の各チャンネルの受光状態を例示した図である。図8(a)及び(b)に示すように、試料50の測定面51が、対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34側に位置する場合には、第1反射光12aは、バンドルファイバ39の第2チャンネル39bを主に透過する。 FIG. 8(a) is a diagram illustrating reflected light incident on the knife-edge prism 36 and the bundle fiber 39 of the measurement apparatus 1 according to Embodiment 1. (b) is a diagram illustrating the light receiving state of each channel of the bundle fiber 39 in (a). As shown in FIGS. 8A and 8B, when the measurement surface 51 of the sample 50 is positioned closer to the objective lens 34 than the focal point 53 of the objective lens 34, the first reflected light 12a is the bundle fiber. The second channel 39b of 39 is mainly transmitted.

図9(a)は、実施形態1に係る測定装置1のナイフエッジプリズム36及びバンドルファイバ39に入射する反射光を例示した図であり、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34と反対側に位置する場合を示し、(b)は、(a)におけるバンドルファイバ39の各チャンネルの受光状態を例示した図である。図9(a)及び(b)に示すように、試料50の測定面51が対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34と反対側に位置する場合には、第1反射光12aは、バンドルファイバ39の第1チャンネル39aを主に透過する。 FIG. 9A is a diagram illustrating reflected light incident on the knife-edge prism 36 and the bundle fiber 39 of the measurement apparatus 1 according to Embodiment 1. (b) is a diagram illustrating the light receiving state of each channel of the bundle fiber 39 in (a). As shown in FIGS. 9A and 9B, when the measurement surface 51 of the sample 50 is located on the opposite side of the objective lens 34 from the focal point 53 of the objective lens 34, the first reflected light 12a is a bundle It primarily passes through the first channel 39a of the fiber 39;

図10は、実施形態1に係る測定装置1において、各チャンネルを透過した第1反射光12aの強度を例示した図であり、横軸は、対物レンズ34の焦点53に対する測定面51の位置を示し、縦軸は、上から第1チャンネル39a、第3チャンネル39c及び第2チャンネル39bを透過した反射光を示す。照明光11の光軸11j方向をZ軸方向とした場合に、対物レンズ34の焦点53の位置を0とし、焦点53から対物レンズ34側の向きを+Z軸方向、焦点53から対物レンズ34と反対側の向きを-Z軸方向とする。 FIG. 10 is a diagram exemplifying the intensity of the first reflected light 12a transmitted through each channel in the measurement apparatus 1 according to Embodiment 1. The horizontal axis represents the position of the measurement surface 51 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34. , and the vertical axis indicates reflected light transmitted through the first channel 39a, the third channel 39c, and the second channel 39b from the top. When the direction of the optical axis 11j of the illumination light 11 is the Z-axis direction, the position of the focal point 53 of the objective lens 34 is 0, the direction from the focal point 53 to the objective lens 34 side is the +Z-axis direction, and the direction from the focal point 53 to the objective lens 34 is 0. Let the direction of the opposite side be the -Z-axis direction.

図10に示すように、位置Z=0[μm]の場合には、第3チャンネル39cを透過した第1反射光12aの強度(第3強度)が大きく、第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bを透過した第1反射光12aの強度(第1強度及び第2強度)は小さい。位置Z=+10~+20[μm]の場合には、第2強度が大きく、第1強度及び第3強度は小さい。位置Z=-10~-20[μm]の場合には、第1強度が大きく、第2強度及び第3強度は小さい。 As shown in FIG. 10, when the position Z=0 [μm], the intensity (third intensity) of the first reflected light 12a transmitted through the third channel 39c is large, and the first channel 39a and the second channel 39b The intensity (first intensity and second intensity) of the first reflected light 12a transmitted through is small. When the position Z=+10 to +20 [μm], the second intensity is large and the first and third intensities are small. When the position Z=-10 to -20 [μm], the first intensity is large and the second and third intensities are small.

図11(a)は、実施形態1に係る各チャンネルを透過した第1反射光12aの強度を例示したグラフであり、横軸は、対物レンズ34の焦点53に対する測定面51の位置を示し、縦軸は、第1強度、第2強度及び第3強度を示す。図11(a)に示すように、測定面51が対物レンズ34の焦点53に位置している場合には、第3強度が最も大きい。また、第1強度と第2強度とは、同程度の強度となっている。 FIG. 11(a) is a graph illustrating the intensity of the first reflected light 12a transmitted through each channel according to Embodiment 1. The horizontal axis indicates the position of the measurement plane 51 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34, The vertical axis indicates the first intensity, the second intensity and the third intensity. As shown in FIG. 11A, when the measurement surface 51 is positioned at the focal point 53 of the objective lens 34, the third intensity is the highest. Also, the first intensity and the second intensity are approximately the same intensity.

一方、測定面51が対物レンズ34の焦点53よりも対物レンズ34側に位置している場合には、第2強度が第1強度及び第3強度よりも大きくなるピークが存在する。また、測定面51が焦点53よりも対物レンズ34と反対側に位置している場合には、第1強度が第2強度及び第3強度よりも大きくなるピークが存在する。 On the other hand, when the measurement surface 51 is positioned closer to the objective lens 34 than the focal point 53 of the objective lens 34, there is a peak where the second intensity is greater than the first intensity and the third intensity. Also, when the measurement plane 51 is located on the opposite side of the objective lens 34 from the focal point 53, there is a peak where the first intensity is greater than the second intensity and the third intensity.

図11(b)は、第2強度(A)及び第1強度(B)の差(A-B)を、第2強度及び第1強度の和(A+B)で割った値Iを例示したグラフであり、横軸は、対物レンズ34の焦点53に対する測定面51の位置を示し、縦軸は、値Iを示す。図11(b)に示すように、値I=(A-B)/(A+B)は、-Z軸方向側では負の値であり、Z=0に近づくにつれて大きくなる。また、Z=0に近づくにつれ0に近づく。そして、Z=0では、不可避な誤差を除いて、値Iは0になる。+Z軸方向側では、値Iは正の値となり、大きくなる。本実施形態では、第1強度及び第2強度の差を用いて、値I=0となるZを測定面51が対物レンズの焦点53に合った位置として決定するので、精度よく測定面51の位置を測定することができる。 FIG. 11(b) is a graph illustrating the value I obtained by dividing the difference (AB) between the second intensity (A) and the first intensity (B) by the sum of the second intensity and the first intensity (A+B). where the horizontal axis indicates the position of the measurement plane 51 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34, and the vertical axis indicates the value I. As shown in FIG. 11(b), the value I=(A−B)/(A+B) is a negative value on the −Z axis direction side and increases as Z=0 approaches. Moreover, it approaches 0 as Z=0 approaches. Then, at Z=0, the value I is 0, except for unavoidable errors. On the +Z-axis direction side, the value I becomes a positive value and increases. In this embodiment, the difference between the first intensity and the second intensity is used to determine Z at which the value I=0 as the position where the measurement plane 51 is aligned with the focal point 53 of the objective lens. Position can be measured.

特に、低倍率の対物レンズ34を使用した場合には、測定面51の位置Zの変化に対して、反射光強度の変化が小さい。よって、輝度のピークから測定面51の位置を測定することが困難である。しかしながら、本実施形態では、第1強度及び第2強度の差を用いるので、測定面51に焦点53が一致した位置を精度よく測定することができる。 In particular, when the low-magnification objective lens 34 is used, the change in the reflected light intensity is small with respect to the change in the position Z of the measurement surface 51 . Therefore, it is difficult to measure the position of the measurement surface 51 from the luminance peak. However, in this embodiment, since the difference between the first intensity and the second intensity is used, the position where the focal point 53 coincides with the measurement surface 51 can be accurately measured.

このようにして、測定装置1は、第1強度及び第2強度、または、第1強度~第3強度に基づいて、対物レンズ34の焦点53位置に対する測定面51の位置を測定する。そして、測定面51を照明光11で走査することにより、測定面51の3次元形状を測定する。以上が本実施形態における3次元形状を検出する原理である。 In this way, the measurement device 1 measures the position of the measurement plane 51 with respect to the focal point 53 position of the objective lens 34 based on the first and second intensities or the first to third intensities. By scanning the measurement surface 51 with the illumination light 11, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 is measured. The above is the principle of detecting a three-dimensional shape in this embodiment.

(測定方法)
次に、実施形態1に係る共焦点光学系を用いた測定方法を説明する。図12は、実施形態1に係る測定方法を例示したフローチャート図である。
(Measuring method)
Next, a measurement method using the confocal optical system according to Embodiment 1 will be described. FIG. 12 is a flow chart diagram illustrating the measurement method according to the first embodiment.

図12のステップS11に示すように、反射光12を対物レンズ34により集光する。具体的には、試料50の測定面51を照明する照明光11が測定面51で反射した反射光を対物レンズ34により集光する。 As shown in step S11 of FIG. 12, the reflected light 12 is condensed by the objective lens . Specifically, the objective lens 34 collects the reflected light of the illumination light 11 that illuminates the measurement surface 51 of the sample 50 and is reflected by the measurement surface 51 .

次に、ステップS12に示すように、反射光12を分割する。具体的には、対物レンズ34により集光した反射光12を、プリズムの第1反射面36a及び第2反射面36bを含む角部に入射させ、反射光12を分割する。例えば、プリズムは、第1反射面36a及び第2反射面36bにより構成されたナイフエッジ部36eを角部として有したナイフエッジプリズム36である。 Next, as shown in step S12, the reflected light 12 is split. Specifically, the reflected light 12 condensed by the objective lens 34 is made incident on corners including the first reflecting surface 36a and the second reflecting surface 36b of the prism, and the reflected light 12 is split. For example, the prism is a knife-edge prism 36 having a knife-edge portion 36e formed by a first reflecting surface 36a and a second reflecting surface 36b as a corner portion.

次に、ステップS13に示すように、分割された反射光12をバンドルファイバ39に入射させる。具体的には、分割された反射光12のうち第1反射面36aで反射した第1反射光12aを、第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bを含むバンドルファイバ39に入射させる。ここで、第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bは、角部に入射した反射光12の光軸12j及び第1反射光12aの光軸12ajを含む平面内において、第1反射光12aの光軸12ajに直交した方向に並んでいる。 Next, as shown in step S 13 , the split reflected light 12 is made incident on the bundle fiber 39 . Specifically, the first reflected light 12a reflected by the first reflecting surface 36a among the divided reflected lights 12 is caused to enter the bundle fiber 39 including the first channel 39a and the second channel 39b. Here, the first channel 39a and the second channel 39b correspond to the optical axis of the first reflected light 12a in a plane including the optical axis 12j of the reflected light 12 entering the corner and the optical axis 12aj of the first reflected light 12a. 12aj are lined up in a direction orthogonal to 12aj.

次に、ステップS14に示すように、第1反射光12aのうち第1チャンネル39aを通過した光の強度である第1強度を検出し、第1反射光12aのうち第2チャンネル39bを通過した光の強度である第2強度を検出する。また、第1反射光12aのうち第3チャンネル39cを通過した光の強度である第3強度を検出する。 Next, as shown in step S14, the first intensity, which is the intensity of the light that has passed through the first channel 39a of the first reflected light 12a, is detected, and the intensity of the light that has passed through the second channel 39b of the first reflected light 12a is detected. A second intensity is detected, which is the intensity of the light. Also, the third intensity, which is the intensity of the light that has passed through the third channel 39c in the first reflected light 12a, is detected.

次に、ステップS15に示すように、第1強度、第2強度及び第3強度に基づいて、対物レンズ34の焦点53に対する試料50の測定面51の位置を測定する。これにより、測定面51の位置を迅速に測定することができる。 Next, as shown in step S15, the position of the measurement plane 51 of the sample 50 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34 is measured based on the first intensity, the second intensity and the third intensity. Thereby, the position of the measurement surface 51 can be measured quickly.

次に、ステップS16に示すように、強度分布を取得するとともに、試料50の測定面51の3次元形状を測定する。具体的には、ガルバノミラーX25及びガルバノミラーY31等の走査部により、試料50の測定面51を照明光11で走査させる。そして、測定面51の第1強度及び第2強度の分布を取得する。これにより、測定面51の3次元形状を測定する。このようにして、試料50の測定面51の3次元形状を測定することができる。 Next, as shown in step S16, the intensity distribution is acquired and the three-dimensional shape of the measurement surface 51 of the sample 50 is measured. Specifically, the measurement surface 51 of the sample 50 is scanned with the illumination light 11 by the scanning unit such as the galvanometer mirror X25 and the galvanometer mirror Y31. Then, the distribution of the first intensity and the second intensity on the measurement surface 51 is acquired. Thereby, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 is measured. Thus, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 of the sample 50 can be measured.

ステップS16における測定面51の3次元形状を測定する際には、測定面51における所定の部分の走査をスキップしてもよい。図13(a)及び(b)は、実施形態1に係る測定方法において、試料50の測定面51を例示した平面図である。 When measuring the three-dimensional shape of the measurement surface 51 in step S16, scanning of a predetermined portion of the measurement surface 51 may be skipped. 13A and 13B are plan views illustrating the measurement surface 51 of the sample 50 in the measurement method according to the first embodiment.

図13(a)に示すように、例えば、測定面51を、照明光11の光軸11jに直交するXY平面で走査する。その場合に、図13(b)に示すように、高精度の測定が不要な所定の部分52に対しては、X軸方向及びY軸方向の走査をスキップしてもよい。具体的には、走査部は測定面51における所定の部分52の走査をスキップする。 As shown in FIG. 13( a ), for example, the measurement surface 51 is scanned on the XY plane perpendicular to the optical axis 11 j of the illumination light 11 . In that case, as shown in FIG. 13B, scanning in the X-axis direction and the Y-axis direction may be skipped for a predetermined portion 52 that does not require high-precision measurement. Specifically, the scanning unit skips scanning of a predetermined portion 52 on the measurement surface 51 .

また、ステップS16における測定面51の3次元形状を測定する際には、測定面51を照明光11で走査させ、測定面51の第1強度~第3強度の分布を取得するステップと、試料50または対物レンズ34を照明光11の光軸方向に間隔を空けて移動させるステップと、を複数回繰り返してもよい。具体的には、走査部によるXY平面のスキャンの後に、駆動部50k等により、光軸11j方向(Z軸方向)に試料50または対物レンズ34を、間隔を空けて移動する。移動した後で、再び、走査部によるXY平面のスキャンを行う。これを複数回繰り返す。 Further, when measuring the three-dimensional shape of the measurement surface 51 in step S16, the measurement surface 51 is scanned with the illumination light 11 to acquire the distribution of the first to third intensities of the measurement surface 51; 50 or the step of moving the objective lens 34 at intervals in the optical axis direction of the illumination light 11 may be repeated multiple times. Specifically, after the scanning unit scans the XY plane, the driving unit 50k or the like moves the sample 50 or the objective lens 34 in the direction of the optical axis 11j (Z-axis direction) with a gap. After the movement, the XY plane is scanned again by the scanning unit. Repeat this several times.

そして、取得した複数の強度分布に基づいて、測定面51に焦点53が位置したときの試料50または対物レンズ34の位置を導出する。これにより、測定面51の3次元形状を測定してもよい。 Then, the position of the sample 50 or the objective lens 34 when the focal point 53 is positioned on the measurement plane 51 is derived based on the acquired plurality of intensity distributions. Thereby, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 may be measured.

なお、照明光11の光軸11j方向に間隔を空けて移動させる際に、光軸11j方向に移動させる間隔を変化させてもよい。図14(a)及び(b)は、実施形態1に係る測定方法において、試料50を例示した断面図である。図14(a)に示すように、光軸11j方向(Z軸方向)に間隔を空けて移動させ、複数回、XY平面のスキャンを行う場合に、図14(b)に示すように、段差等の所定の部分54の間隔を、他の部分の間隔よりも大きくしてもよい。具体的には、駆動部50k等は、照明光11の光軸11j方向における所定の部分54の間隔を、他の部分の間隔よりも大きくする。これにより、単調な形状で合って高精度な測定の不要な部分の測定をスキップすることができ、迅速に測定することができる。 When the illumination light 11 is moved in the direction of the optical axis 11j at intervals, the interval of movement in the direction of the optical axis 11j may be changed. 14A and 14B are cross-sectional views illustrating the sample 50 in the measurement method according to the first embodiment. As shown in FIG. 14(a), when moving in the direction of the optical axis 11j (Z-axis direction) at intervals and scanning the XY plane a plurality of times, as shown in FIG. The interval of the predetermined portion 54 such as the interval may be larger than the interval of the other portions. Specifically, the drive unit 50k and the like make the interval of the predetermined portion 54 in the direction of the optical axis 11j of the illumination light 11 larger than the interval of other portions. As a result, it is possible to skip the measurement of portions that are monotonous and do not require high-precision measurement, so that the measurement can be performed quickly.

次に、本実施形態の効果を説明する。本実施形態の測定装置1は、第1強度及び第2強度、または、第1強度~第3強度に基づいて、対物レンズ34の焦点53に対する試料50の測定面51の位置を測定する。よって、照明光11の光軸11j方向に対物レンズ34または試料50を移動させる必要がないので、迅速に試料50の測定面51の位置を測定することができる。 Next, the effects of this embodiment will be described. The measurement apparatus 1 of this embodiment measures the position of the measurement plane 51 of the sample 50 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34 based on the first and second intensities, or the first to third intensities. Therefore, since there is no need to move the objective lens 34 or the sample 50 in the direction of the optical axis 11j of the illumination light 11, the position of the measurement surface 51 of the sample 50 can be measured quickly.

また、照明光11の光軸に垂直な面内(X軸方向及びY軸方向)を照明光11で一度走査させることにより、試料50の測定面51の3次元形状を測定することができる。具体的には、第1強度~第3強度の分布を取得することにより、測定面51の3次元形状を測定することができる。よって、迅速に、測定面51の3次元形状を測定することができる。 In addition, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 of the sample 50 can be measured by scanning the plane perpendicular to the optical axis of the illumination light 11 (the X-axis direction and the Y-axis direction) once with the illumination light 11 . Specifically, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 can be measured by obtaining the distribution of the first to third intensities. Therefore, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 can be measured quickly.

第1強度~第3強度は、共焦点光学系20の瞳位置で反射光12を分割し、分割させた反射光12を複数のチャンネルに透過させて検出している。よって、照明光11の光軸方向に対物レンズ34または試料50を移動させる必要がないので、一度の走査で、測定面51の3次元形状を測定することができる。 The first to third intensities are detected by dividing the reflected light 12 at the pupil position of the confocal optical system 20 and transmitting the divided reflected light 12 through a plurality of channels. Therefore, since there is no need to move the objective lens 34 or the sample 50 in the optical axis direction of the illumination light 11, the three-dimensional shape of the measurement surface 51 can be measured in one scan.

さらに、高精度で測定面51の3次元形状を得るためには、照明光11の光軸11j方向に対物レンズ34または試料50を移動させてもよい。すなわち、試料50または対物レンズ34を照明光11の光軸11j方向に間隔を空けて複数回移動させ、測定面51の第1強度~第3強度の複数の分布に基づいて測定面51の3次元形状を測定する。これにより、精度よく3次元形状を測定することができる。 Furthermore, in order to obtain the three-dimensional shape of the measurement surface 51 with high accuracy, the objective lens 34 or the sample 50 may be moved in the direction of the optical axis 11j of the illumination light 11. FIG. That is, the sample 50 or the objective lens 34 is moved a plurality of times in the direction of the optical axis 11j of the illumination light 11 at intervals, and based on a plurality of distributions of the first to third intensities of the measurement plane 51, three Measure dimensional shapes. As a result, the three-dimensional shape can be measured with high accuracy.

平面または段差等の単調な形状であって、高精度な測定が不要な部分については、X軸方向及びY軸方向の走査、または、Z軸方向への移動を、スキップすることにより、測定に係る時間を短縮することができる。 For parts that are monotonous, such as planes or steps, and do not require high-precision measurement, scanning in the X-axis and Y-axis directions or movement in the Z-axis direction can be skipped for measurement. The time required can be shortened.

上記のスキップする手法は、従来の測定方法の前に実施することにより、従来の測定時間の短縮にも用いることができる。すなわち、試料50または対物レンズ34をZ軸方向に沿って移動させ、輝度の高い時の試料50または対物レンズ34の位置に基づいて3次元形状を測定する従来方法において、平面または段差等の単調な形状であって、高精度な測定が不要な部分については、X軸方向及びY軸方向の走査、または、Z軸方向への移動を、スキップすることができ、迅速に測定することができる。 The skipping technique described above can also be used to reduce the conventional measurement time by performing it before the conventional measurement method. That is, in the conventional method of moving the sample 50 or the objective lens 34 along the Z-axis direction and measuring the three-dimensional shape based on the position of the sample 50 or the objective lens 34 when the brightness is high, monotonous surfaces such as planes or steps are used. For parts that do not require high-precision measurement, scanning in the X-axis direction and Y-axis direction or movement in the Z-axis direction can be skipped, enabling quick measurement. .

また、従来方法において、低倍率の対物レンズ34を用いた場合には、試料50または対物レンズ34を光軸方向に移動させた場合の輝度の変化が緩やかである。試料50または対物レンズ34の光軸方向の可動範囲において、輝度がほとんど変化せず、輝度の高い時の試料50または対物レンズ34の位置を決定することが困難である。本実施形態では、第1強度及び第2強度の差を用いて、測定面51が対物レンズ34の焦点53に合った位置を決定するので、低倍率の対物レンズ34を使用したときの高さ測定の精度を向上させることができる。 Further, in the conventional method, when the low-magnification objective lens 34 is used, the change in luminance is moderate when the sample 50 or the objective lens 34 is moved in the optical axis direction. It is difficult to determine the position of the sample 50 or the objective lens 34 when the brightness is high because the brightness hardly changes in the movable range of the sample 50 or the objective lens 34 in the optical axis direction. In this embodiment, the difference between the first intensity and the second intensity is used to determine where the measurement plane 51 is at the focal point 53 of the objective lens 34, so that the height when using a low power objective lens 34 Measurement accuracy can be improved.

(変形例1)
次に、実施形態1の変形例1を説明する。本変形例は、ナイフエッジプリズム36に代えて、四角錐の形状をしたプリズムを用いる。
(Modification 1)
Next, Modification 1 of Embodiment 1 will be described. In this modified example, instead of the knife-edge prism 36, a quadrangular pyramid-shaped prism is used.

図15(a)は、実施形態1に係るナイフエッジプリズム36を例示した斜視図であり、(b)は、実施形態1の変形例1に係る四角錐のプリズム136を例示した斜視図である。図15(a)に示すナイフエッジプリズム36の場合には、プリズムは、第1反射面36a及び第2反射面36bにより構成されたナイフエッジ部36eを角部として有するナイフエッジプリズムである。 15A is a perspective view illustrating a knife-edge prism 36 according to Embodiment 1, and FIG. 15B is a perspective view illustrating a square-pyramidal prism 136 according to Modification 1 of Embodiment 1. FIG. . In the case of the knife-edge prism 36 shown in FIG. 15(a), the prism is a knife-edge prism having a knife-edge portion 36e formed by a first reflecting surface 36a and a second reflecting surface 36b as corner portions.

図15(b)に示すように、変形例1に係る四角錐のプリズム136は、第1反射面36a、第2反射面36bの他、第3反射面36c及び第4反射面36dを側面とした四角錐の形状であり、四角錐の頂点を角部として有する。各反射面で反射した各反射光を各バンドルファイバ39に入射させる。各バンドルファイバ39は、角部に入射した反射光の光軸及び各反射光の光軸を含む面内において、各反射光の光軸に直交した方向に並んだ複数のチャンネルを含んでいる。 As shown in FIG. 15B, the quadrangular pyramidal prism 136 according to Modification 1 has a first reflecting surface 36a, a second reflecting surface 36b, a third reflecting surface 36c and a fourth reflecting surface 36d as side surfaces. It has the shape of a quadrangular pyramid with the vertexes of the quadrangular pyramid as corners. Each reflected light reflected by each reflecting surface is caused to enter each bundle fiber 39 . Each bundle fiber 39 includes a plurality of channels arranged in a direction orthogonal to the optical axis of each reflected light within a plane including the optical axis of the reflected light incident on the corner and the optical axis of each reflected light.

試料50の測定面51が傾いている場合に、第1反射面36a及び第2反射面36bに入射する反射光12のバランスが偏り、精度よく測定できないことが考えられる。そのような場合には、四角錐のプリズム136を用いることによって、第3反射面36cと第4反射面36dに入射する反射光12を用いて測定面51の形状を測定する。これにより、傾いた測定面51を精度よく測定することができる。なお、プリズムは、ナイフエッジプリズム36、四角錐のプリズム136に限らず、三角錐状、六角錐状または八角錐状のプリズムを用いてもよい。 When the measurement surface 51 of the sample 50 is tilted, it is conceivable that the reflected light 12 incident on the first reflecting surface 36a and the second reflecting surface 36b is out of balance and accurate measurement cannot be performed. In such a case, by using a quadrangular pyramid prism 136, the shape of the measurement surface 51 is measured using the reflected light 12 incident on the third reflecting surface 36c and the fourth reflecting surface 36d. As a result, the tilted measurement surface 51 can be measured with high accuracy. The prism is not limited to the knife-edge prism 36 and the quadrangular pyramid prism 136, and a triangular pyramid, hexagonal pyramid, or octagonal pyramid prism may be used.

(変形例2)
次に、実施形態1の変形例2を説明する。本変形例は、バンドルファイバ39に含まれるチャンネルを、3本以外の本数とする。
(Modification 2)
Next, Modification 2 of Embodiment 1 will be described. In this modification, the number of channels included in the bundle fiber 39 is other than three.

図16(a)~(h)は、実施形態1の変形例2に係るバンドルファイバ及び受光素子の端面を例示した図である。図16(a)に示すように、バンドルファイバ39は、第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bの他、第4チャンネル39d、第5チャンネル39e、第6チャンネル39f、第7チャンネル39gが第3チャンネル39cの周りを取り囲んでいる。第4チャンネル39d~第7チャンネル39gのコア径、クラッド径及びジャケットの径は、第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bと同様である。 16A to 16H are diagrams illustrating end faces of a bundle fiber and a light receiving element according to Modification 2 of Embodiment 1. FIG. As shown in FIG. 16(a), the bundle fiber 39 includes a first channel 39a, a second channel 39b, a fourth channel 39d, a fifth channel 39e, a sixth channel 39f, and a seventh channel 39g as third channels. It surrounds 39c. The core diameter, clad diameter and jacket diameter of the fourth channel 39d to the seventh channel 39g are the same as those of the first channel 39a and the second channel 39b.

図16(b)に示すように、バンドルファイバ39は、第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bの2つのチャンネルを含んでもよい。また、図16(c)に示すように、バンドルファイバ39は、第1チャンネル39a及び第2チャンネル39bの他、複数のチャンネルが、第3チャンネル39cの周りを取り囲んでもよい。 As shown in FIG. 16(b), the bundle fiber 39 may include two channels, a first channel 39a and a second channel 39b. Also, as shown in FIG. 16(c), the bundle fiber 39 may have a plurality of channels surrounding a third channel 39c in addition to the first channel 39a and the second channel 39b.

図16(d)に示すように、第1チャンネル39a、第2チャンネル39b及び第3チャンネル39cが並ぶ方向に複数のチャンネルが並んでもよい。なお、この場合のコア径、クラッド径及びジャケット径は、それぞれ、φ40[μm]、φ56[μm]及び68[μm]でもよい。 As shown in FIG. 16(d), a plurality of channels may be arranged in the direction in which the first channel 39a, the second channel 39b and the third channel 39c are arranged. The core diameter, clad diameter and jacket diameter in this case may be φ40 [μm], φ56 [μm] and 68 [μm], respectively.

さらに、図16(e)に示すように、第1チャンネル39a、第2チャンネル39b及び第3チャンネル39cと同一方向に並んだ複数のチャンネルが積み重なってもよい。また、図16(f)に示すように、積み重なった複数のチャンネルが型及び蓋により収納されてもよい。 Furthermore, as shown in FIG. 16(e), a plurality of channels aligned in the same direction as the first channel 39a, the second channel 39b and the third channel 39c may be stacked. Also, as shown in FIG. 16(f), a plurality of stacked channels may be contained by a mold and lid.

また、図16(g)に示すように、チャンネルを介さずに受光素子40a、40b及び40cに直接受光させてもよい。さらに、図16(h)に示すように、複数の受光素子が受光素子40cの周りを取り囲んでもよい。 Further, as shown in FIG. 16(g), the light may be directly received by the light receiving elements 40a, 40b and 40c without passing through the channels. Furthermore, as shown in FIG. 16(h), a plurality of light receiving elements may surround the light receiving element 40c.

(実施形態2)
次に、実施形態2に係る測定装置を説明する。実施形態2は、フォーカス検出手段が実施形態1と異なっている。実施形態2のフォーカス検出手段は、光てこ方式である。
(Embodiment 2)
Next, a measuring device according to Embodiment 2 will be described. The second embodiment differs from the first embodiment in focus detection means. The focus detection means of the second embodiment is an optical lever system.

図17は、実施形態2に係る測定装置を例示した構成図である。図17に示すように、測定装置2は、光源10、共焦点光学系20及び測定処理部41を備えており、共焦点光学系20は、アナモルフィックプリズム21、ビームエキスバンダ22、偏光ビームスプリッタ23、ミラー24、ガルバノミラーX25、レンズ26~29、ガルバノミラーY31、λ/4板32、ダイクロイックミラー33、対物レンズ34、可変焦点レンズ35、ファイバ37、受光素子40、駆動部34k(50k)、半導体レーザLD、ビームスプリッタ45、レンズ46、2分割センサ47を含んでいる。 FIG. 17 is a configuration diagram illustrating a measuring device according to Embodiment 2. FIG. As shown in FIG. 17, the measurement apparatus 2 includes a light source 10, a confocal optical system 20, and a measurement processing unit 41. The confocal optical system 20 includes an anamorphic prism 21, a beam expander 22, a polarized beam Splitter 23, mirror 24, galvanomirror X25, lenses 26-29, galvanomirror Y31, λ/4 plate 32, dichroic mirror 33, objective lens 34, varifocal lens 35, fiber 37, light receiving element 40, driver 34k (50k ), a semiconductor laser LD, a beam splitter 45 , a lens 46 and a two-split sensor 47 .

光源10より出射した照明光11がアナモルフィックプリズム21から対物レンズ34を経て測定面51まで導かれる光路、及び、測定面51で反射した反射光12が対物レンズ34から可変焦点レンズ35まで導かれる光路は、実施形態1と同様である。本実施形態では、可変焦点レンズ35を透過した反射光12は、ファイバ37に入射し受光素子40により検出される。 The illumination light 11 emitted from the light source 10 is guided from the anamorphic prism 21 to the measurement surface 51 via the objective lens 34, and the reflected light 12 reflected by the measurement surface 51 is guided from the objective lens 34 to the variable focus lens 35. The optical path to be reflected is the same as in the first embodiment. In this embodiment, the reflected light 12 transmitted through the varifocal lens 35 enters the fiber 37 and is detected by the light receiving element 40 .

一方、半導体レーザLDを出射したレーザ光は、ミラー24とガルバノミラーX25との間に配置されたビームスプリッタ45で反射する。ビームスプリッタ45で反射したレーザ光は、ガルバノミラーX25、レンズ26、レンズ27、ガルバノミラーY31、レンズ28、レンズ29、λ/4板32、ダイクロイックミラー33を経て、対物レンズ34の瞳の端に入射し、対物レンズ34で集光され、試料50の測定面51に入射する。ガルバノミラーX25及びY31によって、測定面51をXY方向にレーザ光でスキャンさせる。測定面51に入射したレーザ光は、測定面51で反射する。 On the other hand, the laser light emitted from the semiconductor laser LD is reflected by the beam splitter 45 arranged between the mirror 24 and the galvanomirror X25. The laser light reflected by the beam splitter 45 passes through the galvanomirror X25, the lens 26, the lens 27, the galvanomirror Y31, the lens 28, the lens 29, the λ/4 plate 32, and the dichroic mirror 33, and reaches the end of the pupil of the objective lens 34. It is incident, condensed by the objective lens 34 , and incident on the measurement surface 51 of the sample 50 . Galvanometer mirrors X25 and Y31 scan the measurement surface 51 in the XY directions with laser light. The laser beam incident on the measurement surface 51 is reflected by the measurement surface 51 .

測定面51で反射したレーザ光は、対物レンズ34の瞳の端に入射し、対物レンズ34で集光される。対物レンズ34で集光されたレーザ光は、ビームスプリッタ45まで逆の光路をたどる。ビームスプリッタ45で反射したレーザ光は、レンズ46で集光され、2分割センサ47に入射する。 The laser light reflected by the measurement surface 51 enters the end of the pupil of the objective lens 34 and is condensed by the objective lens 34 . The laser light condensed by the objective lens 34 follows the reverse optical path to the beam splitter 45 . The laser light reflected by the beam splitter 45 is condensed by the lens 46 and enters the two-split sensor 47 .

本実施形態の共焦点光学系20は、測定面51に対する対物レンズ34の焦点53の位置を検出するフォーカス検出手段を備えている。フォーカス検出手段は、例えば、光てこ方式である。そして、測定処理部41は、フォーカス検出手段により検出した対物レンズ34の焦点53に基づいて、測定面51の位置を測定する。また、走査部が試料面51をレーザ光で走査させることにより、測定処理部41は、測定面51の3次元形状を測定する。 The confocal optical system 20 of this embodiment includes focus detection means for detecting the position of the focal point 53 of the objective lens 34 with respect to the measurement plane 51 . The focus detection means is, for example, an optical lever system. Then, the measurement processing unit 41 measures the position of the measurement plane 51 based on the focal point 53 of the objective lens 34 detected by the focus detection means. Moreover, the measurement processing unit 41 measures the three-dimensional shape of the measurement surface 51 by causing the scanning unit to scan the sample surface 51 with laser light.

本実施形態によれば、測定面51をレーザ光で1度走査することにより、対物レンズ34の焦点53に対する測定面51の位置を測定することができる。よって、迅速に3次元形状を測定することができる。実施形態2におけるその他の構成及び効果は実施形態1の記載に含まれている。 According to this embodiment, the position of the measurement surface 51 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34 can be measured by scanning the measurement surface 51 once with the laser beam. Therefore, the three-dimensional shape can be measured quickly. Other configurations and effects in the second embodiment are included in the description of the first embodiment.

(実施形態3)
次に、実施形態3に係る測定装置を説明する。実施形態3のフォーカス検出手段は、位置検出素子(PSD)である。
(Embodiment 3)
Next, a measuring device according to Embodiment 3 will be described. The focus detection means of the third embodiment is a position detection device (PSD).

図18は、実施形態3に係る測定装置を例示した構成図である。図18に示すように、測定装置3は、光源10、共焦点光学系20及び測定処理部41を備えており、共焦点光学系20は、アナモルフィックプリズム21、ビームエキスバンダ22、偏光ビームスプリッタ23、ミラー24、ガルバノミラーX25、レンズ26~29、ガルバノミラーY31、λ/4板32、ダイクロイックミラー33、対物レンズ34、可変焦点レンズ35、ファイバ37、受光素子40、駆動部34k(50k)、半導体レーザLD、ビームスプリッタ45、位置検出素子PSDを含んでいる。 FIG. 18 is a configuration diagram illustrating a measuring device according to Embodiment 3. FIG. As shown in FIG. 18, the measurement apparatus 3 includes a light source 10, a confocal optical system 20, and a measurement processing unit 41. The confocal optical system 20 includes an anamorphic prism 21, a beam expander 22, a polarized beam Splitter 23, mirror 24, galvanomirror X25, lenses 26-29, galvanomirror Y31, λ/4 plate 32, dichroic mirror 33, objective lens 34, varifocal lens 35, fiber 37, light receiving element 40, driver 34k (50k ), a semiconductor laser LD, a beam splitter 45, and a position detection element PSD.

光源10より出射した照明光11がアナモルフィックプリズム21から対物レンズ34を経て試料面51まで導かれる光路、及び、測定面51で反射した反射光12が対物レンズ34からファイバ37まで導かれる光路は、実施形態2と同様である。 An optical path along which the illumination light 11 emitted from the light source 10 is guided from the anamorphic prism 21 through the objective lens 34 to the sample surface 51, and an optical path along which the reflected light 12 reflected by the measurement surface 51 is guided from the objective lens 34 to the fiber 37. are the same as in the second embodiment.

また、半導体レーザLDを出射したレーザ光が、ビームスプリッタ45から対物レンズ34を経て試料面51まで導かれる光路、及び、測定面51で反射したレーザ光が対物レンズ34からビームスプリッタ45まで戻る光路は、実施形態2と同様である。ビームスプリッタ45で反射したレーザ光は、位置検出素子PSDに入射する。 An optical path along which the laser light emitted from the semiconductor laser LD is guided from the beam splitter 45 to the sample surface 51 via the objective lens 34, and an optical path through which the laser light reflected by the measurement surface 51 returns from the objective lens 34 to the beam splitter 45. are the same as in the second embodiment. The laser light reflected by the beam splitter 45 enters the position detection element PSD.

本実施形態の共焦点光学系20は、測定面51に対する対物レンズ34の焦点53の位置を検出するフォーカス検出手段を備えている。フォーカス検出手段は、例えば、位置検出素子PSDである。そして、測定処理部41は、フォーカス検出手段により検出した対物レンズ34の焦点53に基づいて、測定面51の位置を測定する。また、走査部が試料面51をレーザ光で走査させることにより、測定処理部41は、測定面51の3次元形状を測定する。 The confocal optical system 20 of this embodiment includes focus detection means for detecting the position of the focal point 53 of the objective lens 34 with respect to the measurement plane 51 . The focus detection means is, for example, the position detection element PSD. Then, the measurement processing unit 41 measures the position of the measurement plane 51 based on the focal point 53 of the objective lens 34 detected by the focus detection means. Moreover, the measurement processing unit 41 measures the three-dimensional shape of the measurement surface 51 by causing the scanning unit to scan the sample surface 51 with laser light.

本実施形態によれば、測定面51をレーザ光で1度走査することにより、対物レンズ34の焦点53に対する測定面51の位置を測定することができる。よって、迅速に3次元形状を測定することができる。実施形態3におけるその他の構成及び効果は実施形態1及び2の記載に含まれている。 According to this embodiment, the position of the measurement surface 51 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34 can be measured by scanning the measurement surface 51 once with the laser beam. Therefore, the three-dimensional shape can be measured quickly. Other configurations and effects of the third embodiment are included in the descriptions of the first and second embodiments.

(実施形態4)
次に、実施形態4に係る測定装置を説明する。実施形態4のフォーカス検出手段は、前ピン後ピン方式である。
(Embodiment 4)
Next, a measuring device according to Embodiment 4 will be described. The focus detection means of the fourth embodiment is a front focus/rear focus method.

図19は、実施形態4に係る測定装置を例示した構成図である。図19に示すように、測定装置4は、光源10、共焦点光学系20及び測定処理部41を備えており、共焦点光学系20は、アナモルフィックプリズム21、ビームエキスバンダ22、偏光ビームスプリッタ23、ミラー24、ガルバノミラーX25、レンズ26~29、ガルバノミラーY31、λ/4板32、ダイクロイックミラー33、対物レンズ34、ファイバ37a~37c、受光素子40、駆動部34k(50k)、ビームスプリッタ48a~48b、ミラー49、レンズ46a~46cを含んでいる。 FIG. 19 is a configuration diagram illustrating a measuring device according to Embodiment 4. FIG. As shown in FIG. 19, the measurement apparatus 4 includes a light source 10, a confocal optical system 20, and a measurement processing unit 41. The confocal optical system 20 includes an anamorphic prism 21, a beam expander 22, a polarized beam Splitter 23, mirror 24, galvanomirror X25, lenses 26-29, galvanomirror Y31, λ/4 plate 32, dichroic mirror 33, objective lens 34, fibers 37a-37c, light receiving element 40, driver 34k (50k), beam It includes splitters 48a-48b, mirror 49, and lenses 46a-46c.

光源10より出射した照明光11がアナモルフィックプリズム21から対物レンズ34を経て試料面51まで導かれる光路、及び、測定面51で反射した反射光12が対物レンズ34から偏光ビームスプリッタ23まで導かれる光路は、実施形態1と同様である。本実施形態では、偏光ビームスプリッタ23で反射した反射光12は、ビームスプリッタ48aに入射する。ビームスプリッタ48aを透過した反射光12は、レンズ46a及びファイバ37aを透過して受光素子40により検出される。 The illumination light 11 emitted from the light source 10 is guided from the anamorphic prism 21 to the sample surface 51 via the objective lens 34, and the reflected light 12 reflected by the measurement surface 51 is guided from the objective lens 34 to the polarizing beam splitter 23. The optical path to be reflected is the same as in the first embodiment. In this embodiment, the reflected light 12 reflected by the polarization beam splitter 23 enters the beam splitter 48a. The reflected light 12 that has passed through the beam splitter 48a passes through the lens 46a and the fiber 37a and is detected by the light receiving element 40. FIG.

また、ビームスプリッタ48aで反射した反射光12は、ビームスプリッタ48bに入射する。ビームスプリッタ48bで反射した反射光12は、レンズ46b及びファイバ37bを透過して受光素子40により検出される。さらに、ビームスプリッタ48bを透過した反射光12は、ミラー49に入射する。ミラー49で反射した反射光12は、レンズ46c及びファイバ37cを透過して受光素子40により検出される。 Also, the reflected light 12 reflected by the beam splitter 48a enters the beam splitter 48b. The reflected light 12 reflected by the beam splitter 48b passes through the lens 46b and the fiber 37b and is detected by the light receiving element 40. FIG. Further, the reflected light 12 transmitted through the beam splitter 48b is incident on the mirror 49. As shown in FIG. The reflected light 12 reflected by the mirror 49 is detected by the light receiving element 40 after passing through the lens 46c and the fiber 37c.

本実施形態の共焦点光学系20は、測定面51に対する対物レンズ34の焦点53の位置を検出するフォーカス検出手段を備えている。フォーカス検出手段は、例えば、前ピン後ピン方式である。そして、測定処理部41は、フォーカス検出手段により検出した対物レンズ34の焦点53に基づいて、測定面51の位置を測定する。また、走査部が試料面51をレーザ光で走査させることにより、測定処理部41は、測定面51の3次元形状を測定する。 The confocal optical system 20 of this embodiment includes focus detection means for detecting the position of the focal point 53 of the objective lens 34 with respect to the measurement plane 51 . The focus detection means is, for example, a front focus/rear focus system. Then, the measurement processing unit 41 measures the position of the measurement plane 51 based on the focal point 53 of the objective lens 34 detected by the focus detection means. Moreover, the measurement processing unit 41 measures the three-dimensional shape of the measurement surface 51 by causing the scanning unit to scan the sample surface 51 with laser light.

本実施形態によれば、測定面51を照明光11で1度走査することにより、対物レンズ34の焦点53に対する測定面51の位置を測定することができる。よって、迅速に3次元形状を測定することができる。実施形態4におけるその他の構成及び効果は実施形態1~3の記載に含まれている。 According to this embodiment, the position of the measurement surface 51 with respect to the focal point 53 of the objective lens 34 can be measured by scanning the measurement surface 51 once with the illumination light 11 . Therefore, the three-dimensional shape can be measured quickly. Other configurations and effects of the fourth embodiment are included in the descriptions of the first to third embodiments.

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明はその目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含み、更に、上記の実施形態による限定は受けない。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention includes appropriate modifications that do not impair its objects and advantages, and is not limited by the above embodiments.

1、2、3、4 測定装置
10 光源
11 照明光
11j 光軸
12 反射光
12j 光軸
12a 第1反射光
12aj 光軸
12b 第2反射光
20 共焦点光学系
21 アナモルフィックプリズム
22 ビームエキスバンダ
23 偏光ビームスプリッタ
24 ミラー
25 ガルバノミラーX
26、27、28、29 レンズ
31 ガルバノミラーY
32 λ/4板
33 ダイクロイックミラー
34 対物レンズ
34k 駆動部
35 可変焦点レンズ
36 ナイフエッジプリズム
36a 第1反射面
36b 第2反射面
36c 第3反射面
36d 第4反射面
36e ナイフエッジ部
37、37a、37b、37c ファイバ
39 バンドルファイバ
39a、39b、39c、39d、39e、39f、39g チャンネル
40、40a、40b 受光素子
41 測定処理部
45 ビームスプリッタ
46、46a、46b、46c レンズ
47 2分割センサ
48a、48b ビームスプリッタ
49 ミラー
50 試料
50k 駆動部
51 測定面
52 所定の部分
53 焦点
54 所定の部分
136 プリズム
1, 2, 3, 4 measuring device 10 light source 11 illumination light 11j optical axis 12 reflected light 12j optical axis 12a first reflected light 12aj optical axis 12b second reflected light 20 confocal optical system 21 anamorphic prism 22 beam expander 23 polarizing beam splitter 24 mirror 25 galvanomirror X
26, 27, 28, 29 Lens 31 Galvanomirror Y
32 λ/4 plate 33 dichroic mirror 34 objective lens 34k driving section 35 variable focus lens 36 knife edge prism 36a first reflecting surface 36b second reflecting surface 36c third reflecting surface 36d fourth reflecting surface 36e knife edge portions 37, 37a, 37b, 37c Fiber 39 Bundle fiber 39a, 39b, 39c, 39d, 39e, 39f, 39g Channels 40, 40a, 40b Light receiving element 41 Measurement processing unit 45 Beam splitter 46, 46a, 46b, 46c Lens 47 Split sensor 48a, 48b Beam splitter 49 Mirror 50 Sample 50k Driving unit 51 Measuring surface 52 Predetermined portion 53 Focus 54 Predetermined portion 136 Prism

Claims (18)

共焦点光学系を用いた測定方法であって、
試料の測定面を照明する照明光が前記測定面で反射した反射光を対物レンズにより集光するステップと、
前記対物レンズにより集光した前記反射光を、プリズムの第1反射面及び第2反射面を含む角部に入射させ、前記反射光を分割するステップと、
分割された前記反射光のうち前記第1反射面で反射した第1反射光を、前記角部に入射した前記反射光の光軸及び前記第1反射光の光軸を含む平面内において、前記第1反射光の光軸に直交した方向に並んだ第1チャンネル及び第2チャンネルを含むバンドルファイバに入射させるステップと、
前記第1反射光のうち前記第1チャンネルを透過した光の第1強度及び前記第1反射光のうち前記第2チャンネルを透過した光の第2強度を検出するステップと、
前記第1強度が前記第2強度よりも大きいか、小さいか、同じかに基づいて、前記対物レンズの焦点に対する前記測定面の位置を測定するステップと、
を備えた測定方法。
A measurement method using a confocal optical system,
a step of condensing, with an objective lens, light reflected from the measurement surface of the illumination light that illuminates the measurement surface of the sample;
a step of causing the reflected light condensed by the objective lens to enter a corner portion including a first reflecting surface and a second reflecting surface of a prism to split the reflected light;
In a plane including the optical axis of the reflected light incident on the corner portion and the optical axis of the first reflected light, the first reflected light reflected by the first reflecting surface among the divided reflected light is divided into the A step of inputting the first reflected light into a bundle fiber including a first channel and a second channel arranged in a direction orthogonal to the optical axis;
detecting a first intensity of light transmitted through the first channel of the first reflected light and a second intensity of light transmitted through the second channel of the first reflected light;
measuring the position of the measurement plane with respect to the focal point of the objective lens based on whether the first intensity is greater than, less than or equal to the second intensity ;
measurement method with
前記測定面を前記照明光で走査させ、前記測定面の前記第1強度及び前記第2強度の分布を取得することにより、前記測定面の3次元形状を測定するステップをさらに備えた、
請求項1に記載の測定方法。
measuring the three-dimensional shape of the measurement surface by scanning the measurement surface with the illumination light and obtaining distributions of the first intensity and the second intensity of the measurement surface;
The measuring method according to claim 1.
前記測定面の3次元形状を測定するステップにおいて、
前記測定面における所定の部分の走査をスキップする、
請求項2に記載の測定方法。
In the step of measuring the three-dimensional shape of the measurement surface,
skipping scanning of a predetermined portion of the measurement surface;
The measuring method according to claim 2.
前記測定面の3次元形状を測定するステップは、
前記測定面を前記照明光で走査させ、前記測定面の前記第1強度及び前記第2強度の前記分布を取得するステップと、
前記試料または前記対物レンズを前記照明光の光軸方向に間隔を空けて移動させるステップと、
を複数回繰り返し、取得した複数の前記分布に基づいて、前記測定面に前記焦点が位置したときの前記試料または前記対物レンズの位置を導出し、前記測定面の3次元形状を測定する、
請求項2または3に記載の測定方法。
The step of measuring the three-dimensional shape of the measurement surface includes:
scanning the measurement surface with the illumination light to obtain the distribution of the first intensity and the second intensity of the measurement surface;
moving the sample or the objective lens at intervals in the optical axis direction of the illumination light;
is repeated a plurality of times, and based on the obtained plurality of distributions, the position of the sample or the objective lens when the focus is positioned on the measurement surface is derived, and the three-dimensional shape of the measurement surface is measured.
The measuring method according to claim 2 or 3.
前記照明光の光軸方向に間隔を空けて移動させるステップにおいて、
前記照明光の光軸方向における所定の部分の前記間隔を、他の部分の前記間隔よりも大きくする、
請求項4に記載の測定方法。
In the step of moving at intervals in the optical axis direction of the illumination light,
making the interval of a predetermined portion in the optical axis direction of the illumination light larger than the interval of other portions;
The measuring method according to claim 4.
前記プリズムは、前記第1反射面及び前記第2反射面により構成されたナイフエッジ部を前記角部として有するナイフエッジプリズムであり、
前記第1チャンネル及び前記第2チャンネルは、前記第1反射光の光軸、及び、前記ナイフエッジ部の延在方向、に直交する方向に並ぶ、
請求項1~5のいずれか一項に記載の測定方法。
The prism is a knife-edge prism having a knife-edge portion formed by the first reflecting surface and the second reflecting surface as the corner portion,
The first channel and the second channel are arranged in a direction orthogonal to the optical axis of the first reflected light and the extending direction of the knife edge portion,
The measuring method according to any one of claims 1 to 5.
前記プリズムは、前記第1反射面、前記第2反射面の他、第3反射面及び第4反射面を側面とした四角錐の形状であり、前記四角錐の頂点を角部として有する、
請求項1~5のいずれか一項に記載の測定方法。
The prism has the shape of a quadrangular pyramid with the first reflecting surface, the second reflecting surface, the third reflecting surface and the fourth reflecting surface as side surfaces, and the apex of the quadrangular pyramid as a corner,
The measuring method according to any one of claims 1 to 5.
前記バンドルファイバは、前記第1チャンネルと前記第2チャンネルとの間に配置された第3チャンネルをさらに含む、
請求項1~7のいずれか一項に記載の測定方法。
the bundle fiber further includes a third channel disposed between the first channel and the second channel;
The measuring method according to any one of claims 1 to 7.
前記バンドルファイバは、前記第1チャンネル及び前記第2チャンネルの他、少なくとも第4チャンエル、第5チャンネル、第6チャンネル、第7チャンネルが前記第3チャンネルの周りを取り囲む、
請求項8に記載の測定方法。
In the bundle fiber, in addition to the first channel and the second channel, at least a fourth channel, a fifth channel, a sixth channel, and a seventh channel surround the third channel,
The measuring method according to claim 8.
共焦点光学系と、測定処理部と、を備えた測定装置であって、
前記共焦点光学系は、
試料の測定面を照明する照明光が前記測定面で反射した反射光を集光する対物レンズと、
第1反射面及び第2反射面を含む角部を有し、前記角部に入射した前記反射光を分割するプリズムと、
分割された前記反射光のうち前記第1反射面で反射した第1反射光が入射するバンドルファイバであって、前記角部に入射した前記反射光の光軸及び前記第1反射光の光軸を含む平面内において、前記第1反射光の光軸に直交した方向に並んだ第1チャンネル及び第2チャンネルを含む前記バンドルファイバと、
前記第1反射光のうち前記第1チャンネルを透過した光の第1強度及び前記第1反射光のうち前記第2チャンネルを透過した光の第2強度を検出する受光素子と、
を含み、
前記測定処理部は、前記第1強度が前記第2強度よりも大きいか、小さいか、同じかに基づいて、前記対物レンズの焦点に対する前記測定面の位置を測定する測定装置。
A measuring device comprising a confocal optical system and a measurement processing unit,
The confocal optical system is
an objective lens for condensing light reflected by the measurement surface of the illumination light that illuminates the measurement surface of the sample;
a prism having a corner portion including a first reflecting surface and a second reflecting surface and splitting the reflected light incident on the corner portion;
A bundle fiber into which a first reflected light reflected by the first reflecting surface among the divided reflected lights is incident, wherein the optical axis of the reflected light and the optical axis of the first reflected light incident on the corner portion The bundle fiber including a first channel and a second channel arranged in a direction perpendicular to the optical axis of the first reflected light in a plane including
a light receiving element for detecting a first intensity of light transmitted through the first channel out of the first reflected light and a second intensity of light transmitted through the second channel out of the first reflected light;
including
The measurement processing unit measures the position of the measurement plane with respect to the focal point of the objective lens based on whether the first intensity is greater than, less than, or equal to the second intensity .
前記測定面を前記照明光で走査させる走査部をさらに備え、
前記測定処理部は、前記測定面を前記照明光で走査させた場合の前記測定面の前記第1強度及び前記第2強度の分布を取得することにより、前記測定面の3次元形状を測定する、
請求項10に記載の測定装置。
further comprising a scanning unit that scans the measurement surface with the illumination light,
The measurement processing unit measures the three-dimensional shape of the measurement surface by acquiring distributions of the first intensity and the second intensity of the measurement surface when the measurement surface is scanned with the illumination light. ,
The measuring device according to claim 10.
前記走査部は、前記測定面における所定の部分の走査をスキップする、
請求項11に記載の測定装置。
The scanning unit skips scanning of a predetermined portion of the measurement surface.
12. The measuring device according to claim 11.
前記試料または前記対物レンズを前記照明光の光軸方向に間隔を空けて複数回移動させる駆動部をさらに備え、
前記測定処理部は、前記試料または前記対物レンズを移動させる度に、前記測定面を前記照明光で走査させた場合の前記分布を取得し、
前記測定処理部は、複数の前記分布に基づいて、前記測定面に前記焦点が位置したときの前記試料または前記対物レンズの位置を導出し、前記測定面の3次元形状を測定する、
請求項11または12に記載の測定装置。
further comprising a driving unit that moves the sample or the objective lens a plurality of times at intervals in the optical axis direction of the illumination light,
The measurement processing unit acquires the distribution when the measurement surface is scanned with the illumination light each time the sample or the objective lens is moved,
The measurement processing unit derives the position of the sample or the objective lens when the focus is positioned on the measurement surface based on the plurality of distributions, and measures the three-dimensional shape of the measurement surface.
13. The measuring device according to claim 11 or 12.
前記駆動部は、前記照明光の光軸方向における所定の部分の前記間隔を、他の部分の前記間隔よりも大きくする、
請求項13に記載の測定装置。
The driving unit makes the interval of the predetermined portion in the optical axis direction of the illumination light larger than the interval of other portions.
14. The measuring device according to claim 13.
前記プリズムは、前記第1反射面及び第2反射面により構成されたナイフエッジ部を前記角部として有するナイフエッジプリズムであり、
前記第1チャンネル及び前記第2チャンネルは、前記第1反射光の光軸、及び、前記ナイフエッジ部の延在方向、に直交する方向に並ぶ、
請求項10~14のいずれか一項に記載の測定装置。
The prism is a knife-edge prism having a knife-edge portion formed by the first reflecting surface and the second reflecting surface as the corner portion,
The first channel and the second channel are arranged in a direction orthogonal to the optical axis of the first reflected light and the extending direction of the knife edge portion,
The measuring device according to any one of claims 10-14.
前記プリズムは、前記第1反射面、前記第2反射面の他、第3反射面及び第4反射面を側面とした四角錐の形状であり、前記四角錐の頂点を角部として有する、
請求項10~14のいずれか一項に記載の測定装置。
The prism has the shape of a quadrangular pyramid with the first reflecting surface, the second reflecting surface, the third reflecting surface and the fourth reflecting surface as side surfaces, and the apex of the quadrangular pyramid as a corner,
The measuring device according to any one of claims 10-14.
前記バンドルファイバは、前記第1チャンネルと前記第2チャンネルとの間に配置された第3チャンネルをさらに含む、
請求項10~16のいずれか一項に記載の測定装置。
the bundle fiber further includes a third channel disposed between the first channel and the second channel;
The measuring device according to any one of claims 10-16.
前記バンドルファイバは、前記第1チャンネル及び前記第2チャンネルの他、少なくとも第4チャンエル、第5チャンネル、第6チャンネル、第7チャンネルが前記第3チャンネルの周りを取り囲む、
請求項17に記載の測定装置。
In the bundle fiber, in addition to the first channel and the second channel, at least a fourth channel, a fifth channel, a sixth channel, and a seventh channel surround the third channel,
18. The measuring device according to claim 17.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115930829B (en) * 2022-12-27 2023-06-23 深圳市中图仪器股份有限公司 Reconstruction method of confocal microscope

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050092893A1 (en) 2003-08-08 2005-05-05 Wallac Oy Method and arrangement for focusing in an optical measurement
JP2008152011A (en) 2006-12-18 2008-07-03 Lasertec Corp Confocal microscope and method for picking up confocal image
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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6225210A (en) * 1985-07-25 1987-02-03 Matsushita Electric Works Ltd Distance detecting equipment
JPH07103729A (en) * 1991-12-26 1995-04-18 Hitachi Ltd Apparatus for measuring surface shape

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050092893A1 (en) 2003-08-08 2005-05-05 Wallac Oy Method and arrangement for focusing in an optical measurement
JP2008152011A (en) 2006-12-18 2008-07-03 Lasertec Corp Confocal microscope and method for picking up confocal image
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