KR20110029944A - Device for preventing drop of temperature of cdq plant - Google Patents

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KR20110029944A
KR20110029944A KR1020090087828A KR20090087828A KR20110029944A KR 20110029944 A KR20110029944 A KR 20110029944A KR 1020090087828 A KR1020090087828 A KR 1020090087828A KR 20090087828 A KR20090087828 A KR 20090087828A KR 20110029944 A KR20110029944 A KR 20110029944A
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KR
South Korea
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gas
charging chute
cdq
injection
combustion
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KR1020090087828A
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허강수
이기연
이천우
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주식회사 포스코
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10BDESTRUCTIVE DISTILLATION OF CARBONACEOUS MATERIALS FOR PRODUCTION OF GAS, COKE, TAR, OR SIMILAR MATERIALS
    • C10B39/00Cooling or quenching coke
    • C10B39/02Dry cooling outside the oven
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10BDESTRUCTIVE DISTILLATION OF CARBONACEOUS MATERIALS FOR PRODUCTION OF GAS, COKE, TAR, OR SIMILAR MATERIALS
    • C10B45/00Other details

Abstract

PURPOSE: A temperature drop preventing apparatus for a CDQ(Coke Dry Quenching) facility is provided to maintain a proper temperature in a furnace by compensating the reduction of combustible gas in circulating gas, caused by the opening delay of a chamber. CONSTITUTION: A temperature drop preventing apparatus for a CDQ facility comprises a gas duct(10), an injection nozzle, and a supply line. The gas duct is installed along the outer periphery of a charging chute located on the upper side of the chamber of the CDQ facility. The injection nozzle is connected to the inside of the charging chute and sprays sealing gas into the charging chute. The supply line is connected to one side of the gas duct in order to provide the sealing gas.

Description

CDQ설비의 온도 하락 방지 장치{DEVICE FOR PREVENTING DROP OF TEMPERATURE OF CDQ PLANT}DEVICE FOR PREVENTING DROP OF TEMPERATURE OF CDQ PLANT}

본 발명은 CDQ 설비에 관한 것이다. 더욱 상세하게 본 발명은 장입구 개방에 따른 로내 온도의 급격한 저하를 방지할 수 있도록 된 온도 하락 방지 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a CDQ facility. More specifically, the present invention relates to a temperature drop prevention device that can prevent a sudden drop in the furnace temperature due to the opening of the charging hole.

일반적으로 CDQ(Coke Dry Quenching) 설비는 코크스 오븐에서 압출된 적열 코크스를 건식 소화하는 설비이다. CDQ 설비는 적열코크스가 장입되는 챔버를 포함하며, 챔버의 상부에 형성된 장입구 상에는 장입슈트가 설치된다.In general, CDQ (Coke Dry Quenching) equipment is a facility for dry extinguishing the red-light coke extruded from the coke oven. The CDQ facility includes a chamber into which the red coke is charged, and a charging chute is installed on the charging hole formed in the upper portion of the chamber.

코크스 오븐에서 압출된 적열코크스는 크레인으로 이송되는 버켓에 담겨져 상기 챔버 상단의 장입구로 이송된다. 장입구 커버가 개방되면 장입슈트가 연동되어 장입구 상부로 이동하게 된다. 챔버의 장입구와 장입슈트 및 버켓의 위치가 일치하면 크레인에 의해 버켓이 다운되어 적열코크스의 장입이 실시된다.The red coke extruded from the coke oven is contained in a bucket which is transferred to a crane and transferred to the charging hole at the top of the chamber. When the charging inlet cover is opened, the charging chute is interlocked and moved to the upper entrance. When the charging slot of the chamber and the positions of the charging chute and the bucket coincide, the bucket is down by the crane and charging of the coke is carried out.

상기와 같은 장입과정에서 위치센서 등의 설비 불량에 의해 설비 트러블시 챔버 내부의 급격한 온도 하락으로 내화물 손상 등의 문제가 발생된다.Problems such as refractory damage due to a sudden temperature drop inside the chamber due to equipment failure such as a position sensor in the charging process as described above.

즉, 챔버의 장입구 상에 장입슈트가 위치하여 장입구 커버가 개방된 상태에 서 설비 트러블이 발생되는 경우, 장입구가 장시간 개방됨에 따라 로 내부 온도가 급격하게 저하된다. 이와같이 내부 온도의 저하에 따라 챔버 내부의 내화물이 손상되는 등의 문제점이 발생된다.In other words, when equipment trouble occurs in a state where the charging chute is located on the charging inlet of the chamber and the charging cover is open, the furnace internal temperature is drastically lowered as the charging inlet is opened for a long time. As such, a decrease in the internal temperature may cause problems such as damage to the refractory in the chamber.

이에 설비트러블에 의해 장입구가 장시간 개방되더라도 챔버 내부의 온도 저하를 최소화하여 로 온도의 급격한 변화를 방지할 수 있도록 된 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치를 제공한다.Therefore, even if the charging opening is opened for a long time by the equipment trouble, it provides a device for preventing the temperature drop of the CDQ equipment to minimize the temperature drop inside the chamber to prevent a sudden change in furnace temperature.

이를 위해 본 장치는 CDQ 설비의 챔버 상부에 위치하는 장입슈트에 설치되어 장입슈트의 관로를 선택적으로 차단하는 차단부를 포함할 수 있다.To this end, the device may be installed in a charging chute located above the chamber of the CDQ facility may include a blocking unit for selectively blocking the pipeline of the charging chute.

상기 차단부는 상기 장입슈트의 외주면을 따라 설치되는 가스덕트와, 상기 가스덕트를 따라 간격을 두고 설치되고 상기 장입슈트 내부로 연통되어 장입슈트 내부로 실링용 가스를 분사하는 분사노즐, 상기 가스덕트 일측에 연결되어 실링용 가스를 공급하는 공급라인을 포함할 수 있다.The blocking unit is a gas duct installed along the outer circumferential surface of the charging chute, the injection nozzle is installed at intervals along the gas duct and communicated into the charging chute to inject a sealing gas into the charging chute, one side of the gas duct It may be connected to the supply line for supplying a sealing gas.

여기서 상기 실링용 가스는 공기일 수 있다.Here, the sealing gas may be air.

또한, 상기 차단부는 상기 공급라인이 CDQ 설비에 연결되어 CDQ 설비로부터 발생되는 고온의 순환가스를 공급받는 구조일 수 있다.In addition, the blocking unit may have a structure in which the supply line is connected to the CDQ facility to receive a high temperature circulating gas generated from the CDQ facility.

또한, 상기 분사노즐은 상기 장입슈트의 방사방향에 대해 각도를 두고 일측으로 기울어져 실링용 가스를 분사하는 구조일 수 있다. 이에 분사노즐에 의해 분사된 실링용 가스는 장입슈트 내에서 원주방향을 따라 회전하면서 중앙으로 모아져 각 분사노즐로부터 분사되는 실링용가스의 충돌에 의한 손실을 방지하게 된다.In addition, the injection nozzle may be inclined to one side at an angle with respect to the radial direction of the charging chute to have a structure for injecting the sealing gas. The sealing gas injected by the injection nozzle is gathered to the center while rotating along the circumferential direction in the charging chute to prevent the loss due to the collision of the sealing gas injected from each injection nozzle.

또한, 상기 분사노즐은 수평면을 기준으로 실링용 가스의 일부를 수평면에서 각도를 두고 위쪽으로 분사하고 나머지는 수평면에서 각도를 두고 아래쪽으로 분사하는 구조일 수 있다.In addition, the injection nozzle may be a structure in which a portion of the sealing gas is sprayed upward at an angle from the horizontal plane relative to the horizontal plane, and the remainder is injected downward at an angle from the horizontal plane.

여기서 상기 위쪽으로 분사되는 분사량은 전체 분사량의 5 ~ 15%일 수 있다.Herein, the injection amount injected upward may be 5 to 15% of the total injection amount.

또한, 본 장치는 챔버 내부의 온도 유지를 위한 연소부를 더 포함할 수 있다.In addition, the apparatus may further include a combustion unit for maintaining the temperature inside the chamber.

상기 연소부는 상기 장입슈트의 외주면을 따라 설치되는 분사덕트와, 이 분사덕트를 따라 간격을 두고 설치되고 상기 장입슈트 내부로 연통되어 장입슈트 내부로 연소용 가스를 분사하는 분사노즐, 상기 분사덕트 일측에 연결되어 연소용 가스를 공급하는 공급부를 포함한다.The combustion unit is an injection duct installed along the outer circumferential surface of the charging chute, an injection nozzle installed at intervals along the injection duct and communicating with the charging chute to inject combustion gas into the charging chute, and one side of the injection duct. It is connected to include a supply for supplying a gas for combustion.

상기 공급부는 분사덕트에 연결된 에어라인 상에 설치되는 인젝터와, 상기 인젝터에 연결되어 물을 공급하는 물탱크와, 상기 인젝터에 연결되어 물탱크의 물을 미세한 상태로 분무시키기 위해 고압의 에어를 공급하는 에어탱크를 포함할 수 있다.The supply unit supplies an injector installed on an air line connected to the injection duct, a water tank connected to the injector to supply water, and a high pressure air connected to the injector to atomize the water in the water tank in a fine state. It may include an air tank.

이에 물이 미세하게 장입슈트 내부로 분무되어 수성의 수소가스를 생성 공급함으로써 수소가스의 연소에 의해 로 온도를 계속 유지시킬 수 있게 된다.Accordingly, the water is finely sprayed into the charging chute to generate and supply aqueous hydrogen gas, thereby maintaining the furnace temperature by burning the hydrogen gas.

상기 분사덕트는 상기 가스덕트보다 아래쪽에 이격되어 설치될 수 있다.The injection duct may be spaced apart below the gas duct.

또한, 상기 연소부의 분사노즐은 상기 장입슈트의 방사방향으로 배치되어 장입슈트의 중심부를 향해 연소용 가스를 분사하는 구조일 수 있다.In addition, the injection nozzle of the combustion unit may be arranged in the radial direction of the charging chute to inject a combustion gas toward the center of the charging chute.

또한, 상기 분사노즐은 수평면을 기준으로 연소용 가스를 수평면 아래쪽으로 분사하는 구조일 수 있다.In addition, the injection nozzle may have a structure that injects the combustion gas to the lower side of the horizontal plane based on the horizontal plane.

또한, 상기 차단부에 의한 실링용 가스층과 연소부에 의한 연소가스층 사이에 공간층이 형성될 수 있다.In addition, a space layer may be formed between the sealing gas layer by the blocking unit and the combustion gas layer by the combustion unit.

이와 같이 본 장치는 설비트러블로 챔버의 장입구 커버가 장시간 개방되는 경우 장입 슈트의 관로를 에어커튼 구조로 차단함으로써 챔버 내부 온도 저하를 방지할 수 있게 된다.In this way, the apparatus can prevent the internal temperature of the chamber by blocking the conduit of the charging chute with an air curtain structure when the charging cover of the chamber is opened for a long time.

또한, 챔버의 장입구 개방시간 지연에 따라 순환가스내의 가연성 가스가 줄어드는 경우 연소용가스를 공급하여 연소시킴으로써 로 온도 하락을 방지하고 로 온도를 적정하게 유지할 수 있게 된다. In addition, when the flammable gas in the circulating gas is reduced according to the delay of the opening time of the chamber, the combustion gas is supplied and combusted to prevent the furnace temperature from dropping and maintain the furnace temperature appropriately.

이에 로온도의 급격한 변화에 따른 내화물 등의 설비 손상을 방지할 수 있게 된다. Accordingly, it is possible to prevent equipment damages such as refractory due to a sudden change in furnace temperature.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

도면들은 개략적이고 축적에 맞게 도시되지 않았다는 것을 일러둔다. 도면에 있는 부분들의 상대적인 치수 및 비율은 도면에서의 명확성 및 편의를 위해 그 크기에 있어 과장되거나 감소되어 도시되었으며 임의의 치수는 단지 예시적인 것이지 한정적인 것은 아니다. 그리고 둘 이상의 도면에 나타나는 동일한 구조물, 요소 또 는 부품에는 동일한 참조 부호가 다른 실시예에서 대응하거나 유사한 특징을 나타내기 위해 사용된다.The drawings are schematic and illustrate that they are not drawn to scale. The relative dimensions and ratios of the parts in the figures have been exaggerated or reduced in size for clarity and convenience in the figures and any dimensions are merely exemplary and not limiting. And the same structure, element or part that appears in more than one figure the same reference numerals are used in different embodiments to indicate corresponding or similar features.

여기서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms “a,” “an,” and “the” include plural forms as well, unless the phrases clearly indicate the opposite. As used herein, the term "comprising" embodies a particular characteristic, region, integer, step, operation, element, and / or component, and other specific characteristics, region, integer, step, operation, element, component, and / or group. It does not exclude the presence or addition of.

사시도를 참조하여 설명된 본 발명의 실시예는 본 발명의 이상적인 실시예를 구체적으로 나타낸다. 그 결과, 도해의 다양한 변형, 예를 들면 제조 방법 및/또는 사양의 변형이 예상된다. 따라서 실시예는 도시한 영역의 특정 형태에 국한되지 않으며, 예를 들면 제조에 의한 형태의 변형도 포함한다. 도면에 도시된 영역은 원래 대략적인 것에 불과하며, 이들의 형태는 영역의 정확한 형태를 도시하도록 의도된 것이 아니고, 본 발명의 범위를 좁히려고 의도된 것이 아니다.Embodiments of the invention described with reference to a perspective view specifically illustrate an ideal embodiment of the invention. As a result, various variations of the illustration, for example variations in the manufacturing method and / or specification, are expected. Thus, the embodiment is not limited to any particular form of the depicted area, but includes modifications of the form, for example, by manufacture. The regions shown in the figures are only approximate in nature, and their forms are not intended to depict the exact form of the regions and are not intended to narrow the scope of the invention.

도 1은 본 실시예에 따른 온도 하락 방지 장치를 구비한 CDQ 설비를 도시하고 있다.1 shows a CDQ installation having a temperature drop prevention apparatus according to the present embodiment.

도시된 바와 같이 CDQ 설비를 이루는 챔버(100)의 장입구(110) 상부에는 장입슈트(200)가 설치된다. 상기 장입슈트(200) 상부로 크레인에 의해 이동되는 버켓(300)이 위치한다. 또한, 상기 CDQ 설비는 일측에 공정 중 발생되는 가스를 챔버(100) 내부로 재 순환시키는 순환가스 처리설비(400)가 구비된다.As shown, the charging chute 200 is installed at the top of the charging hole 110 of the chamber 100 constituting the CDQ facility. The bucket 300 which is moved by the crane to the charging chute 200 is located. In addition, the CDQ facility is provided with a circulating gas treatment facility 400 for recirculating the gas generated during the process into the chamber 100 on one side.

이에 코크스 오븐에서 압출된 적열코크스는 크레인으로 이송되는 버켓(300)에 담겨져 상기 챔버(100) 상단의 장입구(110)로 이송된다. 장입구 커버가 개방되면 장입슈트(200)가 연동되어 장입구(110) 상부로 이동하게 된다. 챔버(100)의 장입구(110)와 장입슈트(200) 및 버켓(300)의 위치가 일치하면 크레인에 의해 버켓이 다운되어 적열코크스의 장입이 실시된다.The red coke extruded from the coke oven is contained in the bucket 300 is transferred to the crane is transferred to the charging hole 110 of the top of the chamber 100. When the charging inlet cover is opened, the charging chute 200 is interlocked to move to the upper charging inlet 110. When the positions of the charging inlet 110 and the charging chute 200 and the bucket 300 of the chamber 100 coincide with each other, the bucket is down by the crane to charge the coke.

여기서 본 장치는 상기 장입슈트(200)에 설치되어 설비 트러블시 장입구 커버가 장시간 개방되는 경우 장입슈트(200)의 내부 관로를 차단하여 로 내부 온도가 급격하게 저하되는 것을 방지하는 구조로 되어 있다.In this case, the device is installed in the charging chute 200 to block the internal pipe of the charging chute 200 to prevent the furnace temperature from suddenly lowered when the charging cover is opened for a long time when equipment trouble. .

도 1과 도 2에 도시된 바와 같이 본 장치는 상기 장입슈트(200) 외주면을 따라 장입슈트(200)를 둘러싸고 설치되는 가스덕트(10)와, 상기 가스덕트(10)를 따라 간격을 두고 설치되고 상기 장입슈트(200) 내부로 연통되어 장입슈트(200) 내부로 실링용 가스를 분사하는 분사노즐(12), 상기 가스덕트(10) 일측에 연결되어 실링용 가스를 공급하는 공급라인(14)을 포함한다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the apparatus is installed at intervals along the gas duct 10 and a gas duct 10 installed surrounding the charging chute 200 along an outer circumferential surface of the charging chute 200. And a supply nozzle 14 connected to one side of the charging chute 200 to inject the sealing gas into the charging chute 200 and connected to one side of the gas duct 10 to supply a sealing gas. ).

이에 장입슈트(200) 내부 관로는 내주면을 따라 분사되는 가스에 위해 에어커튼이 쳐져 차단된다. 따라서 챔버(100)의 장입구(110)가 개방되어 있더라도 챔버(100) 내부를 외기와 단열시킬 수 있게 된다.In this case, the charge chute 200 inner pipe is blocked by the air curtain hit the gas injected along the inner circumferential surface. Therefore, even when the charging inlet 110 of the chamber 100 is open, the inside of the chamber 100 can be insulated from outside air.

상기 가스덕트(10)는 링 형태의 파이프 구조물로, 장입슈트(200)의 중간부분에 외주면을 둘러싸고 설치된다. 상기 분사노즐(12)은 가스덕트(10)를 따라 간격을 두고 설치된다. 상기 분사노즐(12)은 분사된 실링용 가스에 의해 장입슈트(200)의 관로 상에 에어커튼이 형성될 수 있는 정도의 개수로 설치될 수 있다. 상기 분사노 즐(12)의 설치 개수나 설치 간격에 대해서는 특별히 한정되지 않는다. The gas duct 10 is a ring-shaped pipe structure, and is installed to surround the outer circumferential surface in the middle of the charging chute 200. The injection nozzles 12 are installed at intervals along the gas duct 10. The injection nozzle 12 may be installed in such a number that the air curtain can be formed on the pipeline of the charging chute 200 by the injected sealing gas. The number and spacing of the injection nozzles 12 are not particularly limited.

본 실시예에서 상기 공급라인(14)은 CDQ 설비의 순환가스 처리설비(400)에 연결된 구조로 되어 있다. 도 1에 도시된 바와 같이 상기 공급라인(14)은 순환가스 처리설비(400)의 압력조절파이프(410) 상에 연결된다. 따라서 상기 공급라인(14)은 순환가스 처리설비(400)로부터 고온의 순환가스를 공급받게 된다. 여기서 순환가스라 함은 CDQ 설비로부터 발생되는 고온의 가스를 지칭한다. 상기 순환가스는 온도가 약 170℃ 정도이다. 이와같이 고온의 순환가스를 실링용 가스로 사용하여 장입슈트(200) 관로에 분사함으로써 실링용 가스에 의해 장입구(110) 주변이 냉각되는 것을 방지할 수 있게 된다.In this embodiment, the supply line 14 has a structure connected to the circulating gas treatment facility 400 of the CDQ facility. As shown in FIG. 1, the supply line 14 is connected to the pressure control pipe 410 of the circulating gas treatment facility 400. Therefore, the supply line 14 receives the high temperature circulating gas from the circulating gas treatment facility 400. Here, the circulating gas refers to the hot gas generated from the CDQ facility. The circulating gas has a temperature of about 170 ° C. In this way, by using the high-temperature circulating gas as the sealing gas to be injected into the charging chute 200 pipe line it is possible to prevent the surrounding of the charging port 110 is cooled by the sealing gas.

또한, 본 장치는 챔버(100)의 장입구(110)가 장시간 개방되는 경우 챔버(100) 내부의 온도 유지 위한 연소부를 더 포함한다. 챔버(100)의 장입구(110)가 장시간 개방되는 경우 설비가 정상적으로 가동되지 않아 순환가스 내의 가연성 가스인 수소의 함량이 점차적으로 낮아지게 된다. 이와같이 가연성 가스의 함량이 낮아지면 챔버(100) 내부 온도를 유지시키기 위해 종래와 같이 연소용 에어를 챔버(100) 내로 공급하여 수소를 연소시킬 수 없게 된다.In addition, the apparatus further includes a combustion unit for maintaining the temperature inside the chamber 100 when the charging inlet 110 of the chamber 100 is opened for a long time. When the charging inlet 110 of the chamber 100 is opened for a long time, the equipment does not operate normally, and the content of hydrogen, which is a combustible gas in the circulating gas, is gradually lowered. As such, when the content of the combustible gas is lowered, in order to maintain the internal temperature of the chamber 100, the combustion air is supplied into the chamber 100 as in the related art, and thus hydrogen cannot be combusted.

이에 본 연소부는 순환가스 처리설비(400)로부터 순환 공급되는 순환가스에 포함된 가연성분이 점차적으로 줄어드는 경우 챔버(100) 내부로 연소용 가스를 공급하여 연소시키는 구조로 되어 있다. Accordingly, the combustion unit is configured to supply and burn combustion gas into the chamber 100 when the combustible components included in the circulating gas circulated and supplied from the circulating gas processing facility 400 gradually decrease.

이를 위해 상기 연소부는 상기 장입슈트(200)의 외주면을 따라 설치되는 분사덕트(20)와, 이 분사덕트(20)를 따라 간격을 두고 설치되고 상기 장입슈트(200) 내부로 연통되어 장입슈트(200) 내부로 연소용 가스를 분사하는 분사노즐(22), 상기 분사덕트(20) 일측에 연결되어 연소용 가스를 공급하는 공급부를 포함한다.To this end, the combustion unit is installed along the injection duct 20 along the outer circumferential surface of the charging chute 200, is installed at intervals along the injection duct 20 and communicated to the charging chute 200 inside the charging chute ( 200, an injection nozzle 22 for injecting combustion gas into the inside and a supply part connected to one side of the injection duct 20 to supply the combustion gas.

그리고 상기 공급부는 분사덕트(20)와 연결된 에어라인(24) 상에 설치되는 인젝터(30)와, 상기 인젝터(30)에 연결되어 물을 공급하는 물탱크(32)와, 상기 인젝터(30)에 연결되어 물탱크(32)의 물을 미세한 상태로 분무시키기 위해 고압의 에어를 공급하는 에어탱크(34)를 포함한다.The supply unit includes an injector 30 installed on an air line 24 connected to the injection duct 20, a water tank 32 connected to the injector 30 to supply water, and the injector 30. It is connected to the air tank 34 to supply a high-pressure air to atomize the water in the water tank 32 in a fine state.

인젝터(30)는 고압의 에어를 이용하여 물을 미세 입자화시켜 수성 수소 성분이 포함된 연소용 가스를 분사덕트(20)로 공급하게 된다. 이에 분사덕트(20)의 분사노즐(22)을 통해 미세 입자화된 수성 수소가스가 장입슈트(200) 내부로 분사된다. 가연 성분인 수소가스가 장입슈트(200)를 통해 공급됨으로써 수소가스의 연소에 의해 로 온도는 계속 유지될 수 있다.The injector 30 finely granulates water by using high pressure air to supply a combustion gas containing an aqueous hydrogen component to the injection duct 20. Accordingly, the finely granulated aqueous hydrogen gas is injected into the charging chute 200 through the injection nozzle 22 of the injection duct 20. By supplying the hydrogen gas as a combustible component through the charging chute 200, the furnace temperature may be maintained by the combustion of the hydrogen gas.

에어에 포함되는 수소성분의 조절은 물탱크(32)로부터 인젝터(30)로 연결되는 수관(36) 상에 설치되는 밸브(38)를 제어함으로써 이루어진다.The adjustment of the hydrogen component contained in the air is achieved by controlling the valve 38 installed on the water pipe 36 connected to the injector 30 from the water tank 32.

상기 분사덕트(20)는 링 형태의 파이프 구조물로, 장입슈트(200)의 중간부분에 외주면을 둘러싸고 설치된다. 상기 분사노즐(22)은 분사덕트(20)를 따라 간격을 두고 설치된다. 상기 분사노즐(22)의 설치 개수나 설치 간격에 대해서는 특별히 한정되지 않는다. The injection duct 20 is a ring-shaped pipe structure, is installed surrounding the outer peripheral surface in the middle portion of the charging chute 200. The injection nozzles 22 are installed at intervals along the injection duct 20. The number and spacing of the injection nozzles 22 are not particularly limited.

도 3은 상기 장입슈트를 내부에 실링용 가스와 연소용 가스가 분사된 상태를 도시하고 있다.3 illustrates a state in which the sealing gas and the combustion gas are injected into the charging chute.

도시된 바와 같이 장입슈트(200)의 내주면을 따라 분사노즐(12,22)이 각각 간격을 두고 배치되어 중심쪽으로 실링용 가스와 연소용 가스를 분사하게 된다. 도 3에서 상기 실링용 가스의 분사방향과 연소용 가스의 분사방향은 상이한데 이에 대해서는 뒤에서 다시 설명하도록 한다.As shown, the injection nozzles 12 and 22 are disposed at intervals along the inner circumferential surface of the charging chute 200 to inject the sealing gas and the combustion gas toward the center. In FIG. 3, the injection direction of the sealing gas and the injection direction of the combustion gas are different, which will be described later.

본 실시예에서 상기 분사덕트(20)는 상기 가스덕트(10)보다 아래쪽에 이격되어 설치된다. 즉, 도 1에서 Y축 방향을 따라 위쪽에 분사덕트(20)가 위치하고 아래쪽에 가스덕트(10)가 배치된다. 상기 분사덕트(20)와 가스덕트(10)의 배치 간격에 대해서는 특별히 한정되지 않는다. 상기한 배치구조에 의해 챔버(100) 장입구로부터 상대적으로 위쪽에서 장입슈트(200)를 실링용 에어로 차단하고, 그 아래쪽에서 필요시 챔버(100) 내부로 연소용 가스를 공급하여 연소시킬 수 있게 된다.In the present embodiment, the injection duct 20 is spaced apart below the gas duct 10. That is, in FIG. 1, the injection duct 20 is positioned along the Y-axis direction and the gas duct 10 is disposed below. The spacing between the injection duct 20 and the gas duct 10 is not particularly limited. By the arrangement structure described above, the charging chute 200 is blocked with the sealing air at a relatively upper side from the charging opening of the chamber 100, and if necessary, the combustion gas is supplied into the chamber 100 at the lower side and combusted. do.

여기서 도 4와 도 5는 상기 차단부의 분사노즐에 의한 실링용 가스 분사 구조를 예시하고 있다.4 and 5 illustrate a sealing gas injection structure by the injection nozzle of the blocking unit.

도시된 바와 같이 복수개의 분사노즐(12)이 장입슈트(200)의 내주면을 따라 배치되어 있다. 분사노즐(12)로부터 분사된 실링용 가스는 장입슈트(200)의 전체 내주면에서 중심쪽으로 분사되어 장입슈트(200)의 관로에 가스층을 형성하게 된다. 이 가스층이 에어커튼 역할을 하여 장입슈트(200)의 관로를 차단하게 되는 것이다.As shown, a plurality of injection nozzles 12 are arranged along the inner circumferential surface of the charging chute 200. The sealing gas injected from the injection nozzle 12 is injected toward the center from the entire inner circumferential surface of the charging chute 200 to form a gas layer in the pipeline of the charging chute 200. The gas layer serves as an air curtain to block the conduit of the charging chute 200.

본 실시예에서 상기 차단부의 각 분사노즐(12)은 상기 장입슈트(200)의 방사방향에서 각도를 두고 일측으로 기울어져 실링용 가스를 분사하는 구조로 되어 있다. 즉, 상기 분사노즐(12)은 장입슈트(200)의 중심에 대해 측면쪽을 향하여 실링용 가스를 분사하는 구조로 되어 있다. In this embodiment, each injection nozzle 12 of the blocking part is inclined to one side at an angle in the radial direction of the charging chute 200 to inject a sealing gas. That is, the injection nozzle 12 is configured to inject the sealing gas toward the side surface with respect to the center of the charging chute 200.

이에 분사노즐(12)에 의해 분사된 실링용 가스는 장입슈트(200) 내에서 원주 방향을 따라 회전하면서 장입슈트(200)의 가장자리에서 중앙으로 모아진다. 이러한 흐름은 각 분사노즐(12)로부터 분사되는 실링용가스의 직접적인 충돌을 최소화하여 충돌에 의한 가스 누출로 실링 불량이 발생되는 것을 방지하게 된다.The sealing gas injected by the injection nozzle 12 is collected in the center of the charging chute 200 while rotating along the circumferential direction in the charging chute 200. This flow minimizes direct collision of the sealing gas injected from the respective injection nozzles 12, thereby preventing the sealing defect from occurring due to the gas leakage caused by the collision.

또한, 도 6에 도시된 바와 같이 상기 분사노즐(12)은 수평면인 X축을 기준으로 실링용 가스의 일부를 수평면에서 각도를 두고 위쪽으로 분사하고 나머지는 수평면에서 각도를 두고 아래쪽으로 분사하는 구조일 수 있다.In addition, as shown in FIG. 6, the injection nozzle 12 is a structure in which a part of the sealing gas is sprayed upward at an angle in the horizontal plane based on the X axis, which is a horizontal plane, and the others are sprayed downward at an angle in the horizontal plane. Can be.

수평면에서 위쪽으로 분사되는 실링용 가스는 외부의 공기를 장입슈트(200) 바깥으로 밀어내어 외부의 공기가 챔버(100) 내부로 유입되는 것을 방지하는 작용을 하게 된다. 그리고 수평면에서 아래쪽으로 분사되는 나머지 실링용 가스는 챔버(100) 내부로 회전을 하면서 들어가게 되므로 챔버(100) 내부의 고열이 외부로 방출되는 것을 방지하는 작용을 하게 된다.The sealing gas injected upward in the horizontal plane pushes the outside air out of the charging chute 200 to prevent the outside air from flowing into the chamber 100. In addition, the remaining sealing gas injected downward from the horizontal plane enters the inside of the chamber 100 while rotating, thereby preventing the high heat inside the chamber 100 from being released to the outside.

본 실시예에서 수평면인 X축을 기준으로 위쪽으로 분사되는 분사량은 분사노즐(12)을 통한 실링용가스 전체 분사량의 5 ~ 15%일 수 있다.In the present embodiment, the injection amount injected upward based on the horizontal X axis may be 5 to 15% of the total injection amount of the sealing gas through the injection nozzle 12.

수평면 위쪽으로 분사되는 실링용가스의 분사량이 5% 이하인 경우에는 외부 공기가 챔버(100) 내부로 침입할 우려가 있다. 수평면 위쪽으로 분사되는 실링용가스의 분사량이 15% 이상인 경우에는 실링용 가스의 낭비요인이 되며 챔버(100)쪽으로 유입되는 양이 줄어 챔버(100) 내부 고열의 유출 우려가 있다.When the injection amount of the sealing gas injected above the horizontal plane is 5% or less, there is a fear that outside air may intrude into the chamber 100. When the injection amount of the sealing gas injected above the horizontal plane is 15% or more, it becomes a wasteful factor of the sealing gas and the amount of the gas flowing into the chamber 100 decreases, and there is a fear of high heat inside the chamber 100.

또한, 도 6과 도 7은 상기 연소부의 분사노즐에 의한 연소용 가스 분사 구조를 예시하고 있다.6 and 7 illustrate a gas injection structure for combustion by the injection nozzle of the combustion unit.

도시된 바와 같이 복수개의 분사노즐(22)이 장입슈트(200)의 내주면을 따라 배치되어 있다. 분사노즐(22)로부터 분사된 연소용 가스는 장입슈트(200)의 전체 내주면에서 중심쪽으로 분사된다. As shown, a plurality of injection nozzles 22 are disposed along the inner circumferential surface of the charging chute 200. The combustion gas injected from the injection nozzle 22 is injected toward the center from the entire inner circumferential surface of the charging chute 200.

본 실시예에서 상기 연소부의 분사노즐(22)은 상기 장입슈트(200)의 방사방향으로 배치되어 장입슈트(200)의 중심부를 향해 연소용 가스를 분사하는 구조로 되어 있다.In this embodiment, the injection nozzle 22 of the combustion unit is arranged in the radial direction of the charging chute 200 to inject a combustion gas toward the center of the charging chute 200.

또한, 도 7에 도시된 바와 같이 상기 분사노즐(22)은 수평면인 X축을 기준으로 연소용 가스를 수평면 아래쪽으로 분사하는 구조로 되어 있다.In addition, as illustrated in FIG. 7, the injection nozzle 22 is configured to inject a combustion gas to a lower side of the horizontal plane based on the X axis, which is a horizontal plane.

이와같이 연소용 가스가 수평면보다 위쪽으로는 분사되지 않게 되어 위쪽의 차단부에 의한 실링용가스 층의 실링 상태를 간섭하지 않게 된다. 또한, 연소용 가스는 상기 실링용 가스층의 하부에서 연소용 가스층을 형성함으로써 실링용 가스층과 연소가스층 사이에 공간층(G)이 형성된다. 이러한 공간층은 챔버(100)의 로온 하락 방지 효과를 더욱 높이게 된다.In this way, the combustion gas is not injected above the horizontal plane so that the combustion gas does not interfere with the sealing state of the sealing gas layer by the upper blocking portion. In addition, the combustion gas forms a combustion gas layer under the sealing gas layer to form a space layer G between the sealing gas layer and the combustion gas layer. Such a space layer further increases the effect of preventing the lowering of the temperature of the chamber 100.

본 실시예에서 상기 연소용 가스는 수평면인 X축을 기준으로 위쪽으로는 분사되지 않고 하방향으로만 분사된다.In the present embodiment, the combustion gas is not injected upward based on the horizontal X axis, but only downward.

이하 본 장치의 작용에 대해 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of the apparatus will be described.

버켓이 장입슈트(200) 상부로 이동되고 챔버(100)의 장입구(110) 커버가 개방되면 적열코크스가 장입슈트(200)를 통해 챔버(100) 내부로 장입된다.When the bucket is moved to the charging chute 200 and the cover of the charging port 110 of the chamber 100 is opened, the glowing coke is charged into the chamber 100 through the charging chute 200.

이 과정에서 챔버(100)의 장입구(110) 커버가 개방된 상태에서 설비 트러블이 발생되면 장입구(110)의 개방된 상태가 지속된다.In this process, if the equipment trouble occurs in the state in which the charging inlet 110 of the chamber 100 is opened, the opening of the charging inlet 110 continues.

이 경우 장입슈트(200)에 설치된 본 장치가 구동되어 장입슈트(200)의 관로 를 차단함으로써 챔버(100) 내부의 온도를 최대한 유지시키게 된다.In this case, the apparatus installed in the charging chute 200 is driven to block the conduit of the charging chute 200 to maintain the maximum temperature inside the chamber 100.

즉, 순환가스 처리설비(400)에 연결된 공급라인(14)의 밸브(40)가 개방되어 순환가스가 공급라인(14)으로 공급된다.That is, the valve 40 of the supply line 14 connected to the circulating gas treatment facility 400 is opened so that the circulating gas is supplied to the supply line 14.

순환가스는 공급라인(14)에 연결된 가스덕트(10)로 유입되어 가스덕트(10)에 설치된 분사노즐(12)을 통해 장입슈트(200)의 내주면으로 분사된다.The circulating gas flows into the gas duct 10 connected to the supply line 14 and is injected to the inner circumferential surface of the charging chute 200 through the injection nozzle 12 installed in the gas duct 10.

장입슈트(200)의 내주면에서 중심쪽으로 분사되는 순환가스는 장입슈트(200)에 실링용 가스층을 형성하게 된다. 이에 이 실링용 가스층이 에어커튼 작용을 하여 장입슈트(200)의 관로를 차단하게 된다. 따라서 장입구(110) 커버가 개방되어 있더라도 외기가 장입구(110)로 유입되거나 로내 고열이 외부로 빠져나가는 것을 방지하여 로 내 온도가 하락되는 것을 방지할 수 있게 된다.The circulating gas injected toward the center from the inner circumferential surface of the charging chute 200 forms a sealing gas layer on the charging chute 200. Accordingly, the sealing gas layer acts as an air curtain to block the pipeline of the charging chute 200. Therefore, even if the charging inlet 110 is open, it is possible to prevent the outside air from flowing into the charging inlet 110 or the high temperature in the furnace from escaping to the outside, thereby preventing the furnace temperature from falling.

한편, 장입슈트(200)를 순환가스로 차단한 상태에서 장입구(110) 개방상태가 계속되면 로 내부로 공급되는 순환가스 내에 가연 성분이 저하된다. 이에 로 온도가 저하된다. On the other hand, if the charge opening 110 is continued in the state in which the charging chute 200 is blocked with circulating gas, the combustible component is lowered in the circulating gas supplied into the furnace. As a result, the furnace temperature is lowered.

상기와 같이 로 온도가 관리 범위 이하로 내려가는 경우 본 장치는 로 내부로 가연 성분이 포함된 연소용 가스를 공급함으로써, 로 내부 온도 저하를 방지하고 로 내부 온도를 유지하게 된다.As described above, when the furnace temperature falls below the management range, the apparatus supplies combustion gas containing combustible components into the furnace, thereby preventing the furnace internal temperature from falling and maintaining the furnace internal temperature.

로 온도가 저하되는 경우 순환가스를 연소시키기 위해 공급하는 연소 에어의 공급을 차단한다. 정상 가동시 연소 에어는 순환가스의 연소를 위해 공급된다. 그러나 순환가스 내에 연소성분이 저하된 상태에서 연소 가스를 공급하게 되면, 연소 가스에 의해 챔버 내의 온도가 급격히 하락된다. 이에 먼저 연소 에어를 챔버(100) 로 공급하기 위한 에어관(120)의 밸브(130)를 차단하여 연소 에어의 공급을 중단한다.When the furnace temperature is lowered, the supply of the combustion air to burn the circulating gas is cut off. In normal operation, combustion air is supplied for combustion of the circulating gas. However, when the combustion gas is supplied in a state where the combustion component is lowered in the circulating gas, the temperature in the chamber is drastically reduced by the combustion gas. First, the supply of combustion air is stopped by blocking the valve 130 of the air pipe 120 for supplying combustion air to the chamber 100.

그리고 인젝터(30)가 설치된 에어라인(24)의 밸브(42)를 개방하게 되면 에어탱크(34) 내의 고압이 인젝터(30)에 의해 분사되어 에어라인(24)을 통해 분사덕트(20)로 유입된다. 이 과정에서 상기 인젝터(30)에 연결되어 있는 물탱크(32)의 물이 에어의 분사압에 의해 빨려올라가 에어와 함께 미세 입자화되어 분무된다. 이에 분사덕트(20)로 유입된 가스에는 가연 성분인 미세화된 수성의 수소 성분이 포함된다.When the valve 42 of the air line 24 having the injector 30 is opened, the high pressure in the air tank 34 is injected by the injector 30 to the injection duct 20 through the air line 24. Inflow. In this process, the water in the water tank 32 connected to the injector 30 is sucked up by the injection pressure of the air and is finely atomized and sprayed with the air. Accordingly, the gas introduced into the injection duct 20 includes the refined aqueous hydrogen component, which is a combustible component.

이와같이 수소성분이 포함된 연소용 가스는 분사덕트(20)에 설치된 분사노즐(22)을 통해 장입슈트(200) 내부로 분사된다. 장입슈트(200)로 분사된 연소용 가스는 개방된 장입구(110)를 통해 챔버(100) 내부로 유입되어 연소된다. 이에 수소가스의 연소에 의해 로 온도가 상승되어 계속 유지될 수 있는 것이다.As such, the combustion gas containing the hydrogen component is injected into the charging chute 200 through the injection nozzle 22 installed in the injection duct 20. Combustion gas injected into the charging chute 200 is introduced into the chamber 100 through the open charging port 110 and burned. The furnace temperature is raised by the combustion of hydrogen gas can be maintained continuously.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Of course.

도 1은 본 실시예에 따른 온도 하락 방지 장치가 설치된 CDQ 설비를 도시한 개략적인 도면이다.1 is a schematic diagram illustrating a CDQ facility in which a temperature drop prevention apparatus according to the present embodiment is installed.

도 2는 본 실시예에 따라 장입슈트에 설치되는 온도하락 방지 장치의 구성을 도시한 개략적인 도면이다.2 is a schematic diagram showing the configuration of a temperature drop prevention apparatus installed in a charging chute according to the present embodiment.

도 3은 본 실시예에 따른 온도하락 방지 장치의 작용을 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.3 is a schematic plan view for explaining the operation of the temperature drop prevention apparatus according to the present embodiment.

도 4와 도 5는 본 실시예에 따른 온도하락 방지 장치에 의한 순환가스 분사구조를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.4 and 5 are schematic views for explaining the circulating gas injection structure by the temperature drop prevention apparatus according to the present embodiment.

도 6과 도 7은 본 실시예에 따른 온도하락 방지 장치에 의한 수성 가스 분사구조를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.6 and 7 are schematic views for explaining the water gas injection structure by the temperature drop prevention apparatus according to the present embodiment.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10 : 가스덕트 12 : 분사노즐10 gas duct 12 injection nozzle

14 : 공급라인 20 : 분사덕트14: supply line 20: injection duct

22 : 분사노즐 24 : 에어라인22: injection nozzle 24: air line

30 : 인젝터 32 : 물탱크30: injector 32: water tank

34 : 에어탱크 36 : 수관34: air tank 36: water pipe

38,40,42 : 밸브38,40,42: valve

Claims (10)

CDQ 설비의 챔버 상부에 위치하는 장입슈트의 외주면을 따라 설치되는 가스덕트와, 상기 가스덕트를 따라 간격을 두고 설치되고 상기 장입슈트 내부로 연통되어 장입슈트 내부로 실링용 가스를 분사하는 분사노즐, 상기 가스덕트 일측에 연결되어 실링용 가스를 공급하는 공급라인을 포함하는 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.A gas duct installed along the outer circumferential surface of the charging chute located above the chamber of the CDQ facility, and an injection nozzle installed at intervals along the gas duct and communicating with the charging chute to inject a sealing gas into the charging chute; A device for preventing temperature drop of a CDQ facility comprising a supply line connected to one side of the gas duct to supply a sealing gas. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공급라인은 CDQ 설비에 연결되어 CDQ 설비로부터 발생되는 순환가스를 공급받는 구조의 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The supply line is connected to the CDQ facility to prevent the temperature drop of the CDQ facility of the structure that receives the circulating gas generated from the CDQ facility. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 각 분사노즐은 상기 장입슈트의 방사방향에 대해 각도를 두고 일측으로 기울어져 장입슈트의 내주면쪽으로 실링용 가스를 분사하는 구조의 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The respective injection nozzles are inclined to one side at an angle with respect to the radial direction of the charging chute to inject the sealing gas toward the inner peripheral surface of the charging chute structure of the CDQ facility. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 분사노즐은 수평면을 기준으로 실링용 가스의 일부를 수평면에서 위쪽으로 분사하고 나머지는 수평면에서 아래쪽으로 분사하는 구조의 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The injection nozzle is a device for preventing the temperature drop of the CDQ equipment of the structure that injects a portion of the sealing gas on the horizontal plane to the upper side in the horizontal plane and the other side to the downward in the horizontal plane. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 분사노즐은 수평면을 기준으로 위쪽으로 분사되는 분사량이 전체 분사량의 5 ~ 15%인 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The spray nozzle is a temperature drop prevention device of the CDQ facility is 5 to 15% of the total amount of the injection sprayed upward on the horizontal plane. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,6. The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 챔버 내부의 온도 유지를 위한 연소부를 더 포함하고, Further comprising a combustion unit for maintaining the temperature inside the chamber, 상기 연소부는 상기 장입슈트의 외주면을 따라 설치되는 분사덕트와, 이 분사덕트를 따라 간격을 두고 설치되고 상기 장입슈트 내부로 연통되어 장입슈트 내부로 연소용 가스를 분사하는 분사노즐, 상기 분사덕트 일측에 연결되어 연소용 가스를 공급하는 공급부를 포함하는 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The combustion unit is an injection duct installed along the outer circumferential surface of the charging chute, an injection nozzle installed at intervals along the injection duct and communicating with the charging chute to inject combustion gas into the charging chute, and one side of the injection duct. A device for preventing a temperature drop of a CDQ installation comprising a supply connected to supply the gas for combustion. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 공급부는 분사덕트에 연결된 에어라인 상에 설치되는 인젝터와, 상기 인젝터에 연결되어 물을 공급하는 물탱크와, 상기 인젝터에 연결되어 물탱크의 물을 미세한 상태로 분무시키기 위해 고압의 에어를 공급하는 에어탱크를 포함하는 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The supply unit supplies an injector installed on an airline connected to an injection duct, a water tank connected to the injector to supply water, and a high pressure air connected to the injector to atomize the water in the water tank in a fine state. Preventing the temperature drop of the CDQ equipment including an air tank. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 연소부의 분사노즐은 상기 장입슈트의 방사방향으로 배치되어 장입슈트의 중심부를 향해 연소용 가스를 분사하는 구조의 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The injection nozzle of the combustion unit is disposed in the radial direction of the charging chute to prevent the temperature drop of the CDQ equipment of the structure to inject the combustion gas toward the center of the charging chute. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 분사노즐은 수평면을 기준으로 연소용 가스를 수평면 아래쪽으로 분사하는 구조의 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.The injection nozzle is a temperature drop prevention device of the CDQ equipment having a structure for injecting the combustion gas to the horizontal plane below the horizontal plane. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 차단부에 의한 실링용 가스층과 연소부에 의한 연소가스층 사이가 이격되어 공간층을 형성하는 CDQ설비의 온도 하락 방지 장치.A device for preventing temperature drop of a CDQ facility, wherein the sealing gas layer by the blocking unit and the combustion gas layer by the combustion unit are spaced apart to form a space layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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