KR20110026918A - Gas monitoring system with cleaning unit for sampling ports - Google Patents

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KR20110026918A KR1020090084774A KR20090084774A KR20110026918A KR 20110026918 A KR20110026918 A KR 20110026918A KR 1020090084774 A KR1020090084774 A KR 1020090084774A KR 20090084774 A KR20090084774 A KR 20090084774A KR 20110026918 A KR20110026918 A KR 20110026918A
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Abstract

PURPOSE: A gas monitoring system is provided to obtain reliable measurement data by rapidly discharging sampling air from a sampling tube. CONSTITUTION: A plurality of sampling ports(1100) suction sampling air. A detector(1200) is connected to at least one selected sampling port and measures the suctioned sampling air. A sampling pump(1300) suctions the sampling air to the sampling port connected to the detector. A cleaning pump(1400) suctions the sampling air to the sampling ports except for the sampling port connected to the detector. A controller(1500) controls the operation of the detector and the sampling port.

Description

샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템{Gas Monitoring system with cleaning unit for sampling ports}Gas monitoring system with cleaning unit for sampling ports

본 발명은 복수 개의 샘플링 포트를 순차적으로 변화시켜 측정 포트에서 샘플링 에어를 측정하고 나머지의 샘플링 포트에는 클리닝 작업을 수행하는 가스 모니터링 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a gas monitoring system that sequentially changes a plurality of sampling ports to measure sampling air at a measurement port, and performs cleaning on the remaining sampling ports.

도 7 은 종래의 가스 분석 장치를 나타내는 구성도를 나타낸다.7 shows a configuration diagram showing a conventional gas analyzer.

도 7 을 참조하면 종래의 가스 분석 장치는 복수의 가스 샘플 라인 배관을 전환 밸브를 이용하고 분석계(4)에 접속하는 가스 샘플링(gas sampling) 분석 장치에 있어서, 복수의 가스 샘플 라인 배관(11,12,13,14)에 각각 설치한 삼방변(21,22,23,24)의 다른 2개의 포트를, 각각 인접하는 타의 삼방변(21,22,23,24)의 포트에 접속하고, 삼방변(21,22,23,24)을 연속적으로 접속하는 것과 동시에, 분석 합(4)에 가까운 측의 단부가 되는 삼방변(21,22,23,24)이 남는 포트에 분석계(4)를 접속한 것을 특징으로 하고 있다.Referring to FIG. 7, a conventional gas analyzing apparatus includes a plurality of gas sample line piping 11, in a gas sampling analysis apparatus for connecting a plurality of gas sample line piping to a analyzer 4 using a switching valve. The other two ports of the three sides 21, 22, 23, and 24 provided in the 12, 13, and 14, respectively, are connected to the ports of the other three sides 21, 22, 23, and 24 adjacent to each other. The analyzer 21 is continuously connected to the sides 21, 22, 23 and 24, and the analyzer 4 is connected to a port where the three sides 21, 22, 23 and 24, which become the end of the side close to the analysis sum 4, remain. It is characterized by being connected.

도 7 에 도시된 가스 분석 장치를 비롯한 종래의 가스 분석 장치에서 샘플링 포트를 확장하는 방법은 단순히 솔레노이드 밸브를 연결하거나, 매니 폴더를 이용하여 원하는 지역의 샘플링 에어를 흡입하여 측정하는 방법으로써 여러 가지 문제점들이 보고되고 있다.In the conventional gas analyzer including the gas analyzer shown in FIG. 7, the method of extending the sampling port is simply a method of connecting a solenoid valve or using a manifold to inhale and measure sampling air in a desired region. Are being reported.

이러한 종래의 다채널 샘플링 포트를 사용할 경우,When using such a conventional multichannel sampling port,

첫째, 샘플링 튜브에서 배출되지 못하고 정체되어 있는 샘플링 에어로 인해 샘플링 포트의 농도를 실시간으로 측정할 수 없는 문제가 있다.First, there is a problem in that the concentration of the sampling port cannot be measured in real time due to stagnant sampling air that cannot be discharged from the sampling tube.

둘째, 샘플링 튜브에서 가스의 흡착과 아웃 가스에 의한 간섭으로 가스 농도 측정시 신뢰성이 떨어지는 단점이 있다.Second, there is a disadvantage in that the reliability of the gas concentration measurement due to the adsorption of the gas in the sampling tube and the interference by the out gas.

셋째, 샘플링 에어의 유량을 증가시켜 샘플링 튜브의 정체된 에어를 제거하는 방식을 사용할 경우 샘플링 에어의 유량과 샘플링 튜브의 내경 및 길이에 의한 압력 손실은 비례하기 때문에, 샘플링 튜브의 정체된 에어를 제거하는데 한계가 있다. 즉, 유량을 증가시키면 압력 손실이 발생되는데, 튜브 내경이 작을수록 압력 손실이 크게 나타나므로 충분한 유량을 확보하기 어렵다. 이를 보완하기 위해서는 튜브 내경을 크게 사용하여야 하는데, 튜브 내경이 클 경우 튜브 단면적과 부피의 증가로 인하여 정체되는 에어의 양이 증가하고, 튜브 아웃 가스량도 증가되는 문제가 있다.Third, when using the method of removing the stagnant air of the sampling tube by increasing the flow rate of the sampling air, the pressure loss due to the flow rate of the sampling air and the inner diameter and length of the sampling tube is proportional, thus eliminating the stagnant air of the sampling tube. There is a limit to this. In other words, if the flow rate is increased, a pressure loss occurs. As the inner diameter of the tube decreases, the pressure loss appears large, so that a sufficient flow rate is difficult to secure. In order to compensate for this, the inner diameter of the tube should be large. If the inner diameter of the tube is large, the amount of stagnant air increases due to the increase in the tube cross-sectional area and volume, and the amount of gas out of the tube increases.

넷째, 측정기들은 측정 가스 포집 효율과 가스 분석 조건을 고려하여 최적의 유량으로 설정되어 있으므로 클리닝을 위해 최적화된 유량을 변경하기 어려운 단점이 있다.Fourth, since the measuring devices are set to an optimum flow rate in consideration of measurement gas collection efficiency and gas analysis conditions, it is difficult to change the optimized flow rate for cleaning.

따라서 샘플링 튜브에서 발생된 아웃 가스를 지속적으로 배출하고 샘플링 튜브에 샘플링 에어가 정체되는 것을 방지하여 신뢰성 있는 측정 결과를 얻을 수 있는 다채널 샘플링 포트의 가스 모니터링 시스템 개발이 시급한 실정이다.Therefore, there is an urgent need to develop a gas monitoring system of a multi-channel sampling port that can continuously discharge out gas generated from the sampling tube and prevent stagnant sampling air in the sampling tube to obtain reliable measurement results.

본 발명은 다수개의 샘플링 포트를 구비하고 측정 포트와 클리닝 포트를 구분하여 측정하지 않는 포트를 클리닝 하는 가스 모니터링 시스템을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a gas monitoring system having a plurality of sampling ports and cleaning a port that is not measured by separating a measurement port and a cleaning port.

본 발명은 측정하지 않는 포트를 클리닝할 때 샘플링 에어를 일정 유속으로 공급하되, 측정 포트를 제외한 모든 포트에 연속적으로 공급하거나 또는 차회 측정을 위한 준비 단계의 포트에만 샘플링에어를 공급하는 가스 모니터링 시스템을 제공하고자 한다.The present invention provides a gas monitoring system for supplying sampling air at a constant flow rate when cleaning a port that is not measured, and continuously supplying all ports except the measurement port or supplying sampling air only to a port in preparation for the next measurement. To provide.

본 발명은 샘플링 에어(1600)를 흡입하는 다수 개의 샘플링 포트(1100); 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택되는 적어도 하나에 연결되어 흡입되는 상기 샘플링 에어(1600)를 측정하는 검출부(1200); 상기 검출부(1200)에 연결된 상기 샘플링 포트(1100)로 상기 샘플링 에어(1600)를 흡입시키는 샘플링 펌프(1300); 상기 검출부(1200)에 연결된 상기 샘플링 포트(1100)를 제외한 나머지의 상기 샘플링 포트(1100)로 상기 샘플링 에어(1600)를 흡입시키는 적어도 하나 이상의 클리닝 펌프(1400); 및 상기 샘플링 포트(1100)와 상기 검출부(1200)의 동작을 컨트롤하는 제어부(1500); 를 포함하여 이루어지되, 상기 샘플링 포트(1100)는 상기 검출부(1200)가 연결되는 측정 포트(1110)와 상기 검출부(1200)가 연결되지 않는 클리 닝 포트(1120)로 구분되며, 상기 제어부(1500)는 상기 측정 포트(1110) 및 상기 클리닝 포트(1120)의 선택을 순차적으로 변화시키는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a plurality of sampling ports 1100 for sucking sampling air 1600; A detector 1200 connected to at least one selected from the sampling port 1100 and measuring the sampling air 1600 suctioned; A sampling pump 1300 which sucks the sampling air 1600 to the sampling port 1100 connected to the detector 1200; At least one cleaning pump (1400) for sucking the sampling air (600) to the remaining sampling ports (1100) except for the sampling port (1100) connected to the detector (1200); And a controller 1500 that controls operations of the sampling port 1100 and the detector 1200. The sampling port 1100 is divided into a measurement port 1110 to which the detection unit 1200 is connected and a cleaning port 1120 to which the detection unit 1200 is not connected, and the control unit 1500. ) Sequentially changes the selection of the measurement port 1110 and the cleaning port 1120.

또한, 본 발명은 상기 샘플링 포트(1100)에 공급되는 상기 샘플링 에어(1600)의 유량을 취합하여 조절하는 유량 조절 장치(1130)를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention is characterized in that it comprises a flow rate adjusting device 1130 for collecting and adjusting the flow rate of the sampling air 1600 supplied to the sampling port 1100.

본 발명은 다수 개의 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택되는 상기 측정 포트(1110)로 상기 샘플링 펌프(1300)를 연결하고 나머지인 상기 클리닝 포트(1120)로 상기 클리닝 펌프(1400)를 연결하도록, 상기 제어부(1500)에 의해 컨트롤되는 솔레노이드 밸브(1140) 또는 멀티포지션 밸브(1141) 중 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention connects the sampling pump 1300 to the measurement port 1110 selected from among the plurality of sampling ports 1100 and the cleaning pump 1400 to the remaining cleaning port 1120. It characterized in that it comprises any one selected from the solenoid valve 1140 or the multi-position valve 1141 controlled by the controller 1500.

한편, 본 발명은 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택된 상기 측정 포트(1110)에서 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정하는 동안, 상기 측정 포트(1110)를 제외한 나머지인 상기 클리닝 포트(1120) 각각에는 상기 클리닝 펌프(1400)에 의해 상기 샘플링 에어(1600)가 연속적으로 공급되어 클리닝 작업이 수행되는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the present invention, while measuring the concentration of the contaminants contained in the sampling air 1600 in the selected measurement port 1110 of the sampling port 1100, the cleaning port remaining except the measurement port 1110 Each of the ports 1120 may be continuously supplied with the sampling air 1600 by the cleaning pump 1400 to perform a cleaning operation.

본 발명은 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택된 상기 측정 포트(1110)에서 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정하는 동안, 상기 측정 포트(1110)를 제외한 나머지인 상기 클리닝 포트(1120) 중 차회 측정을 위한 준비 단계를 갖는 하나의 상기 클리닝 포트(1120)인 측정 대기 포트(1121)에는 상기 클리닝 펌프(1400)에 의해 상기 샘플링 에어(1600)가 연속적으로 공급되는 것을 특징으 로 한다.According to the present invention, while the concentration of the contaminant contained in the sampling air 1600 is measured at the measurement port 1110 selected from the sampling port 1100, the cleaning port (except the measurement port 1110) The sampling air 1600 is continuously supplied to the measurement standby port 1121, which is one of the cleaning ports 1120 having the preparation step for the next measurement, from 1120 by the cleaning pump 1400. do.

본 발명에 의한 가스 모니터링 시스템은,Gas monitoring system according to the present invention,

첫째, 다수 개의 포트들을 이용하여 가스를 측정함에 있어서 샘플링 튜브에 정체된 샘플링 에어를 배출하여 신뢰성 있는 측정 데이터를 얻을 수 있는 장점이 있다.First, in measuring gas using a plurality of ports, there is an advantage that reliable measurement data can be obtained by discharging the sampling air stagnant in the sampling tube.

둘째, 종래에 저농도 가스를 측정함에서 신뢰성 있는 측정 데이터를 신속하게 도출하기 어려운 문제가 있었으나 포트를 클리닝하여 샘플링 튜브의 간섭 영향을 최소화할 수 있다.Second, there is a problem that it is difficult to quickly obtain reliable measurement data in the conventional low concentration gas measurement, but by cleaning the port can minimize the interference effect of the sampling tube.

반도체 산업, 디스플레이 산업 핵심 공정에는 매우 다양한 유해성 가스들을 필수적으로 사용하고 있으며, 이러한 유해성 가스들은 불소계, 염소계, 브롬계, 질산계, 황산계와 같은 산성가스와 암모니아, 아민류와 같은 염기성 가스, 유기성 화합물 등이 있다. 일반적으로 이들의 성질은 유독하고 산화력이 매우 강하여 제품의 패턴 이상이나 표면의 과산화 등을 유발하여 제품의 불량을 일으킨다. 특히 대기 중의 암모니아는 포토레지스터 변형과 광학 현미경의 백탁 현상 등으로 반도체 생산 수율과 밀접한 관계를 지니고 있기 때문에 지속적인 모니터링과 관리가 요구되고 있다. 특히 반도체, FPD 산업에서는 고집적화, 패턴의 미세화 됨에 제품 불량을 방지하고 생산 수율 향상을 위하여 오염 물질을 pptv-ppbv의 매우 낮은 수준으로 관리하고 있다. 최근 이러한 극저농도의 농도를 효율적으로 관리하기 위해서 자동 모니터링 시스템들이 연구되고 있다.In the core process of the semiconductor industry and display industry, a wide variety of hazardous gases are indispensable. These harmful gases are acidic gases such as fluorine, chlorine, bromine, nitric acid and sulfuric acid, and basic gases such as ammonia and amines, and organic compounds. Etc. In general, their properties are toxic and very oxidative, causing product defects or surface peroxides. In particular, ammonia in the air has a close relationship with semiconductor production yield due to photoresistor deformation and optical microscope clouding, which requires continuous monitoring and management. In particular, the semiconductor and FPD industries manage pollutants at very low levels of pptv-ppbv in order to prevent product defects and improve production yields due to high integration and finer patterns. Recently, automatic monitoring systems have been studied to efficiently manage such extremely low concentrations.

이러한 환경 모니터링에 있어서 다른 여러 지역의 농도를 측정할 때 통상 샘플링 튜브를 사용하게 된다. 그러나 샘플링 튜브를 사용할 경우 샘플링 에어 잔류 현상이 발생되며, 농도가 급변할 경우 튜브의 흡착과 탈착 등의 간섭으로 인하여 정확한 농도 측정에 한계를 나타내는 문제가 있다. 특히, 반도체/FPD 클린룸의 경우 각 공정마다 농도에 대한 관리 기준을 가지고 있다. 이러한 관리 기준 수치를 초과할 경우 강제배기를 시키거나 필터를 교체하는 등 관리 기준 수치 이하의 농도를 유지하기 위하여 많은 비용과 노력들이 요구된다. 예를 들면 반도체 클린룸의 경우 포토존은 1 ppbv 이하의 극미량을 관리하는데, 케미컬 리크(chemical leak)가 발생되어 수백 ppbv 이상의 고농도 오염이 확인될 경우 공정의 가동 중지와 함께 강제 배기가 실행되어 클린룸의 오염 물질을 제거한다. 다시 클린룸 농도가 1 ppbv 이하로 유지되면 강제배기를 멈추고 공정을 재가동하게 된다. 상술한 바와 같이 오염 물질 제거를 위한 가동 중단시 이에 따른 비용 손실이 매우 커서 비효율적이다. 따라서 관리 수치내의 농도 범위를 유지하도록 농도 이상의 경우 적정 농도로 신속히 회복시키고, 농도 변화에 대한 정확한 모니터링을 하는 것이 매우 중요하다. 그러나 고농도의 환경에서 리크(leak)가 발생될 경우 고농도가 통과된 튜브는 가스들의 흡착이 발생되어 포토존 환경의 농도가 저감되어도 흡착된 튜브에서 오염 물질이 탈착되어 실제 환경에 비하여 빠르게 감응하지 못하는 문제점이 있다. 따라서 저농도의 경우에 비해 오랜 시간동안 공정의 가동 중지및 강제 배기가 요구된다. 따라서 샘플링 튜브를 사용하는 모니터링 시스템에서 신뢰성 있는 환경 측정과 이를 통한 관리를 위해서는, 정확하고 신속한 샘플링 튜브의 농도 간섭 배제 기술이 매우 중요한 문제이다.In these environmental monitoring, sampling tubes are commonly used to measure concentrations in different regions. However, when the sampling tube is used, the sampling air residual phenomenon occurs, and when the concentration changes rapidly, there is a problem in that it shows a limitation in accurate concentration measurement due to interference such as adsorption and desorption of the tube. Especially in the case of semiconductor / FPD clean rooms, each process has a control standard for concentration. Exceeding these control levels requires a lot of cost and effort to maintain concentrations below the control levels, such as forced exhaust or replacement of filters. For example, in the case of semiconductor clean rooms, the photo zone manages a very small amount of 1 ppbv or less.In the case of chemical leaks and high concentration contamination of more than several hundred ppbv is identified, forced exhaust is performed along with the process stoppage. Removes contaminants. Again, if the clean room concentration remains below 1 ppbv, forced exhaust is stopped and the process is restarted. As described above, when the downtime for the removal of contaminants is reduced, the cost loss is very large and inefficient. Therefore, it is very important to quickly recover to an appropriate concentration and to accurately monitor the change in concentration to maintain the concentration range within the control value. However, if a leak occurs in a high concentration environment, the tube passed with a high concentration may cause adsorption of gases, resulting in desorption of contaminants from the adsorbed tube, resulting in a less rapid response than the actual environment. There is this. Therefore, process downtime and forced evacuation are required for a long time compared with low concentration. Therefore, accurate and rapid sampling tube concentration interference rejection technology is a very important problem for reliable environmental measurement and management in a monitoring system using a sampling tube.

자동 측정 장비는 크게 이동성에 따라 현장으로 운반하여 측정할 수 있는 포터블 타입(핸드 캐리어 타입)과 이동이 어려운 거치형(설치형) 타입으로 나눌 수 있다. 보편적으로 포터블 타입의 경우에는 가격이 저렴하고, 이동성이 편리하나 거치형에 비하여 안정성이 떨어지고, 측정 감도와 신뢰성이 낮기 때문에 리크 센서로 주로 사용된다. 포터블 타입의 경우 샘플링 튜브를 사용하지 않거나, 매우 짧게 샘플링 튜브를 사용하기 때문에 샘플링 튜브의 영향을 배제할 수 있는 장점이 있다. 이에 반하여 거치형은 신뢰도와 안정성이 좋기 때문에 반도체, FPD와 같은 고정밀, 고신뢰성이 요구되는 환경에서 정도 관리를 위해 많이 활용되나 이동상에 제약이 수반되기 때문에 샘플링 튜브를 연결하여 멀리 떨어진 지역을 클린룸 에어를 흡입함으로써 농도를 측정하게 된다. 이동상의 제약 때문에 여러 장소를 측정하기 위하여 다채널 샘플링 포트를 구비하여 원하는 측정 장소까지 샘플링 튜브를 측정기에 연결함으로써 농도를 측정하게 되는데, 이러한 샘플링 튜브의 길이는 짧게는 수 M에서 수백 M까지 사용하게 된다.Automated measuring equipment can be divided into portable type (hand carrier type) which can be carried and measured on site according to mobility, and stationary type (installation type) which is difficult to move. In general, the portable type is mainly used as a leak sensor because it is inexpensive, convenient to move, but less stable than a stationary type, and has low measurement sensitivity and reliability. The portable type does not use a sampling tube or uses a very short sampling tube, so the influence of the sampling tube can be eliminated. On the other hand, the stationary type is widely used for quality control in environments requiring high precision and high reliability such as semiconductors and FPDs because of its high reliability and stability. The concentration is measured by inhaling. Due to mobile constraints, multichannel sampling ports are provided to measure concentrations by connecting a sampling tube to the measuring device to the desired measuring location. The length of the sampling tube is short, ranging from several M to several hundred M. do.

그러나 샘플링 튜브를 사용할 경우 샘플링 튜브 자체에서 오염 물질(아웃가스)이 발생되거나 샘플링 튜브에서 흡착 등이 발생되기 때문에 샘플링 에어의 이송과정에서 농도 변화가 발생되어 정확한 농도 측정이 어렵게 된다. 그럼에도 불구하 고 종래에는 미량 측정을 위한 분석기술을 중심으로 개발이 진행되었으며, 에어 운송 수단인 샘플링 튜브의 아웃 가스나 흡착으로 인한 데이터의 영향들은 간과되었다.However, when the sampling tube is used, contaminants (outgases) are generated in the sampling tube itself or adsorption occurs in the sampling tube. Therefore, concentration change occurs during the transfer of sampling air, making accurate concentration measurement difficult. Nevertheless, in the past, the development was mainly focused on analytical techniques for measuring trace amounts, and the influence of data due to the outgassing or adsorption of the sampling tube, which is an air vehicle, was overlooked.

이러한 종래의 문제점들을 해결하기 위해 이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 대하여 상세히 설명한다.In order to solve these conventional problems, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 은 본 발명에 의한 샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템의 구성도를, 도 2 는 본 발명에 의한 멀티포지션 밸브가 구비된 가스 모니터링 시스템의 구성도를, 도 3 은 클리닝 포트에 샘플링 에어가 연속적으로 공급되어 지속적인 클리닝을 하는 실시예의 구성도를, 도 4 는 측정 대기중인 클리닝 포트만을 클리닝하는 실시예의 구성도를, 도 5 는 샘플링 포트의 클리닝에 따른 아웃가스의 분포를 나타내는 그래프를, 도 6 은 샘플링 포트의 클리닝에 따른 흡착도의 분포를 나타내는 그래프를 나타낸다.1 is a block diagram of a gas monitoring system having a sampling port cleaning means according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a gas monitoring system equipped with a multi-position valve according to the present invention, and FIG. 4 is a configuration diagram of an embodiment in which air is continuously supplied to perform continuous cleaning, FIG. 4 is a configuration diagram of an embodiment of cleaning only a cleaning port waiting to be measured, and FIG. 5 is a graph showing an outgas distribution according to cleaning of a sampling port. 6 is a graph showing a distribution of adsorption degree according to cleaning of a sampling port.

도 1 을 참조하면 상기 가스 모니터링 시스템(1000)은 샘플링 포트(1100), 검출부(1200), 샘플링 펌프(1300), 클리닝 펌프(1400), 제어부(1500)를 포함할 수 있다. 상기 샘플링 포트(1100)는 측정 포트(1110)와 클리닝 포트(1120)로 순차적으로 선택될 수 있고 상기 클리닝 포트(1120) 중 일부는 실시예에 따라 측정 대기 포트(1121)가 될 수 있다. 이하에서 구체적으로 살펴보기로 한다.Referring to FIG. 1, the gas monitoring system 1000 may include a sampling port 1100, a detector 1200, a sampling pump 1300, a cleaning pump 1400, and a controller 1500. The sampling port 1100 may be sequentially selected as the measurement port 1110 and the cleaning port 1120, and some of the cleaning ports 1120 may be measurement standby ports 1121 according to embodiments. It will be described in detail below.

대기 중의 오염 물질을 샘플링할 때 다채널의 샘플링 포트를 구성하여 여러 방향으로 샘플링 튜브를 연결하고 특정 포트를 샘플링할 때 나머지 포트는 클리닝을 수행할 수 있다. 도 1 을 참조하면 상기 샘플링 포트(1100)는 샘플링 에어(1600)를 흡입하는 다수 개로 구비될 수 있고 상기 샘플링 포트(1100) 각각에는 샘플링 튜브(도면번호 미부여)가 연결될 수 있다. 상기 샘플링 포트(1100)는 흡입되는 상기 샘플링 에어(1600)를 측정하는 검출부(1200)가 연결되는 측정 포트(1110)와 상기 검출부(1200)가 연결되지 않는 나머지의 상기 샘플링 포트(1100)의 집합인 클리닝 포트(1120)로 구분될 수 있다. 상기 측정 포트(1110)와 클리닝 포트(1120)의 구분은 가변적인 것으로 제어부(1500)에 의해 순차적으로 변환되는 것이 바람직하다.When sampling airborne contaminants, multi-channel sampling ports can be configured to connect sampling tubes in multiple directions and the remaining ports can be cleaned when sampling specific ports. Referring to FIG. 1, a plurality of sampling ports 1100 may be provided to suck sampling air 1600, and sampling tubes (not shown) may be connected to each of the sampling ports 1100. The sampling port 1100 is a collection of the measurement port 1110 to which the detection unit 1200 for measuring the sampling air 1600 that is sucked is connected and the remaining sampling port 1100 to which the detection unit 1200 is not connected. It may be divided into the in cleaning port 1120. The division of the measurement port 1110 and the cleaning port 1120 is variable and may be sequentially converted by the controller 1500.

도 1 을 참조하면 상기 샘플링 포트(1100)중 선택된 상기 측정 포트(1110)는 밸브를 개방하여 상기 샘플링 에어(1600)를 샘플러(도면번호 미부여)로 유입시켜 오염 물질들을 포집하여 상기 검출부(1200)에서 오염 물질의 농도를 측정하거나, 상기 샘플러(도면번호 미부여)를 구비하지 않고 직접 상기 검출부(1200)로 유입시켜 오염 물질의 농도를 측정할 수 있다. 상기 측정 포트(1110)에 상기 샘플링 에어(1600)를 흡입시키기 위해 상기 샘플링 펌프(1300)가 구비되는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 1, the measurement port 1110 selected from the sampling port 1100 opens a valve to introduce the sampling air 1600 into a sampler (not shown) to collect contaminants to detect the contaminants 1200. ) To measure the concentration of the pollutant, or to directly enter the detection unit 1200 without the sampler (not shown) to measure the concentration of the pollutant. The sampling pump 1300 may be provided to suck the sampling air 1600 to the measurement port 1110.

도 1 을 참조하면 상기 측정 포트(1110)로 선택된 상기 샘플링 포트(1100)를 제외한 나머지의 상기 샘플링 포트(1100)는 클리닝 포트(1120)로 구분될 수 있다. 상기 클리닝 포트(1120)는 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 클리닝 과정을 수행한다. 상기 클리닝 포트(1120)는 차후 상기 측정 포트(1110)로 선택되어 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정하게 될 때 간섭 영향을 배제 하기 위해 상기 클리닝 펌프(1400)를 이용하여 상기 샘플링 에어(1600)를 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)로 순환시킨다. 클리닝을 수행하기 위해 질소 가스를 이용하는 실시예도 고려할 수 있으나 상기 샘플링 에어(1600)를 유동시키는 것이 더욱 바람직하다.Referring to FIG. 1, the remaining sampling ports 1100 except for the sampling port 1100 selected as the measurement port 1110 may be divided into cleaning ports 1120. The cleaning port 1120 performs a cleaning process to solve the above-described conventional problem. The cleaning port 1120 is subsequently selected as the measurement port 1110 to use the cleaning pump 1400 to exclude the interference effect when measuring the concentration of contaminants included in the sampling air 1600. The sampling air 1600 is circulated to the sampling tube (not shown). Although an embodiment using nitrogen gas to perform cleaning may be considered, it is more preferable to flow the sampling air 1600.

상기 클리닝 포트(1120)에 상기 샘플링 에어(1600)를 흡입시키기 위해 상기 클리닝 펌프(1400)가 적어도 하나 이상 구비되는 것이 바람직하다. 설계에 따라 상기 클리닝 포트(1120) 각각에 상기 클리닝 펌프(1400)가 구비되는 실시예와, 상기 클리닝 포트(1120) 전체를 취합하여 상기 샘플링 에어(1600)를 공급하는 하나의 상기 클리닝 펌프(1400)가 구비되는 실시예를 고려할 수 있다.At least one cleaning pump 1400 may be provided to suck the sampling air 1600 to the cleaning port 1120. According to a design, an embodiment in which the cleaning pump 1400 is provided in each of the cleaning ports 1120 and one cleaning pump 1400 for collecting the entire cleaning port 1120 and supplying the sampling air 1600. Consider an embodiment provided with).

도 3 및 도 4 는 상기 클리닝 포트(1120)를 클리닝하는 두 가지의 실시예를 나타낸다. 도 3 을 참조하면 상기 측정 포트(1110)에서 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정하는 동안, 상기 측정 포트(1110)를 제외한 나머지인 상기 클리닝 포트(1120) 각각에는 상기 클리닝 펌프(1400)에 의해 상기 샘플링 에어(1600)가 연속적으로 공급되어 클리닝 작업이 수행되는 실시예를 나타내고 있다. 이러한 실시예의 경우 상기 클리닝 포트(1120)는 상기 측정 포트(1110)로 선택되어 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정을 완료한 후 부터 차회에 상기 측정 포트(1110)로 선택되어 다시 측정하게 될 때까지 클리닝 작업을 수행하게 된다.3 and 4 illustrate two embodiments of cleaning the cleaning port 1120. Referring to FIG. 3, while the measurement port 1110 measures the concentration of contaminants contained in the sampling air 1600, each of the cleaning ports 1120 except for the measurement port 1110 may be disposed in the cleaning port 1120. The sampling air 1600 is continuously supplied by the pump 1400 and thus the cleaning operation is performed. In this embodiment, the cleaning port 1120 is selected as the measurement port 1110 and selects the concentration of the pollutant contained in the sampling air 1600 as the measurement port 1110 after the completion of the measurement. Until it is measured again.

도 4 를 참조하면 상기 측정 포트(1110)에서 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정하는 동안, 상기 측정 포트(1110)를 제외한 나머지인 상기 클리닝 포트(1120) 중 차회 측정이 예정된 하나의 상기 클리닝 포트(1120)가 상기 측정 대기 포트(1121)로 선택될 수 있다. 상기 측정 대기 포트(1121)는 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 차회에 측정하기 위한 준비 단계를 갖는 포트로 상기 클리닝 펌프(1400)에 의해 상기 샘플링 에어(1600)가 연속적으로 공급되어 클리닝 작업이 수행되는 실시예이다. 이러한 실시예의 경우 상기 클리닝 포트(1120)는 상기 측정 포트(1110)로 선택되어 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정을 완료한 후 클리닝 작업을 수행하지 않고 대기하다 차회 측정 대상이 되는 상기 측정 대기 포트(1121)로 선택되면 상술한 클리닝 작업을 수행하게 된다. 상기 클리닝 포트(1120) 중 상기 측정 대기 포트(1121)의 선택은 상기 제어부(1500)에 의해 선택되는 것이 바람직하다. 도 4 에 도시된 실시예의 경우 클리닝 작업을 수행하지 않는 대기 시간이 존재하므로 상기 측정 대기 포트(1121)에는 단시간에 많은 양의 상기 샘플링 에어(1600)를 주입하여 클리닝 작업을 수행하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 4, while the measurement port 1110 measures the concentration of contaminants contained in the sampling air 1600, the next measurement of the cleaning port 1120 except for the measurement port 1110 is performed. One predetermined cleaning port 1120 may be selected as the measurement standby port 1121. The measurement standby port 1121 is a port having a preparation step for measuring the concentration of contaminants contained in the sampling air 1600 next time, and the sampling air 1600 is continuously operated by the cleaning pump 1400. In this embodiment, the cleaning operation is performed. In this embodiment, the cleaning port 1120 is selected as the measurement port 1110 and after the measurement of the concentration of the contaminants contained in the sampling air 1600 is completed without performing a cleaning operation, the next measurement object When the measurement wait port 1121 is selected, the above-described cleaning operation is performed. The selection of the measurement waiting port 1121 among the cleaning ports 1120 may be selected by the controller 1500. In the embodiment shown in FIG. 4, since there is a waiting time for not performing a cleaning operation, it is preferable to perform a cleaning operation by injecting a large amount of the sampling air 1600 into the measurement waiting port 1121 in a short time.

상기 클리닝 포트(1120)를 클리닝하는 과정은 연속적으로 작업을 수행하는 것이 좋으며, 도 4 에 도시된 바와 같이 상기 측정 포트(1110)로 선택되어 가스 농도를 측정한 후 대기하다 차회 측정을 위해 상기 측정 대기 포트(1121)로 선택되어 클리닝 작업을 하더라도 충분한 시간적 여유를 두고 상기 측정 대기 포트(1121)로 선정하여 아웃 가스를 제거하는 것이 바람직하다. 도 7 에 도시된 종래의 가스 분석 장치에서 가스 측정 전에 배관내의 잔존 가스를 방출시키더라도, 각 포트에 구비되는 샘플링과 클리닝이 동일한 유로를 가지고 있기 때문에 반드시 측정 직전에 클리닝을 진행하여야 하며, 샘플링과 동시에 클리닝을 할 수 없기 때문에 잔존 가스를 완전히 방출시키기 위해 매우 오랜 시간이 소요되게 된다. 따라서, 잔존 가스로 인해 오류가 있는 데이터를 얻게 되거나, 잔존 가스 제거를 위해 긴 시간동안 대기하게 되어 신속한 측정이 어렵다. 본 발명에서는 샘플링과 동시에 상시 클리닝을 하는 방법으로 상기 샘플링 에어(1600)를 흡입 유동시켜 클리닝하거나, 측정전의 단계에서만 클리닝 하더라도 상기 클리닝 펌프(1400)가 적어도 하나 이상 구비되어 신속하게 아웃 가스를 제거할 수 있는 효과가 있다.The cleaning of the cleaning port 1120 may be performed continuously. As shown in FIG. 4, the cleaning port 1120 may be selected as the measuring port 1110 to measure a gas concentration, and then wait for the next measurement. Even if the cleaning operation is selected as the standby port 1121, it is preferable to select the measurement standby port 1121 to remove the outgas with sufficient time margin. In the conventional gas analyzer shown in FIG. 7, even if the residual gas in the pipe is discharged before the gas measurement, the cleaning and sampling must be performed immediately before the measurement because the sampling and the cleaning provided in each port have the same flow path. At the same time, cleaning cannot be performed, which takes a very long time to completely discharge the remaining gas. Therefore, faulty data may be obtained due to the remaining gas, or waiting for a long time to remove the remaining gas, which makes it difficult to measure quickly. According to the present invention, at least one cleaning pump 1400 is provided to suck out the sampling air 1600 in a method of cleaning at the same time as sampling, or to clean the sampling air 1600 at a time prior to measurement. It can be effective.

또한, 클리닝을 수행하는 포트간 균일성이 유지되어야 하는데, 도 7 에 도시된 종래의 가스 분석 장치의 경우 솔레노이드 밸브를 연속적으로 통과하게 되어 솔레노이드 밸브로 인한 압력 손실이 매우 크며, 이에 따라 클리닝을 균일하게 수행할 수 없는 문제가 있다. 본 발명에서는 클리닝부와 샘플링부를 분리하고 모든 포트를 동일한 구조로 구비하여 샘플링 포트 상호간 균일성의 문제를 해결하였다.In addition, uniformity between ports for performing cleaning should be maintained. In the case of the conventional gas analyzer shown in FIG. 7, the solenoid valve is continuously passed, so the pressure loss due to the solenoid valve is very large. There is a problem that cannot be done. In the present invention, the cleaning unit and the sampling unit are separated and all ports are provided in the same structure to solve the problem of uniformity between sampling ports.

도 1 및 도 2 를 참조하면 상기 제어부(1500)는 상기 샘플링 포트(1100)와 상기 검출부(1200)의 동작을 컨트롤할 수 있다. 또한 상기 제어부(1500)는 상기 측정 포트(1110)와 상기 클리닝 포트(1120)의 선택을 순차적으로 변환시킬 수 있으며, 상기 측정 대기 포트(1121)의 선택도 순차적으로 변환시킬 수 있다.1 and 2, the controller 1500 may control operations of the sampling port 1100 and the detector 1200. In addition, the controller 1500 may sequentially change the selection of the measurement port 1110 and the cleaning port 1120, and may sequentially convert the selection of the measurement waiting port 1121.

도 1 을 참조하면 상기 샘플링 포트(1100)에 공급되는 상기 샘플링 에어(1600)의 유량을 취합하여 조절하기 위해 유량 조절 장치(1130)가 구비될 수 있다. 상기 유량 조절 장치(1130)는 유량계, MFC, 오리피스 또는 니들 밸브일 수 있으며, 상기 클리닝 포트(1120)의 클리닝 작업을 수행할 때 상기 샘플링 튜브(도면 번호 미부여)의 길이와 꺾임 정도, 내경의 변화에 따른 압력 손실 정도를 고려하여 상기 샘플링 에어(1600)의 유동량을 조절하는 역할을 수행한다. 상기 유량 조절 장치(1130)는 다수 개의 상기 샘플링 포트(1100) 별로 상기 샘플링 에어(1600)의 유동량을 조절할 수도 있다. 상기 유량 조절 장치(1130)가 없는 경우 상술한 압력 손실에 따라 상기 샘플링 포트(1100) 중 특정 포트에만 상기 샘플링 에어(1600)가 유입될 수 있으므로 이를 방지하기 위해 상기 유량 조절 장치(1130)를 구비하는 것이 바람직하며, 이에 의해 상기 샘플링 포트(1100) 모두에 균일하게 클리닝 작업을 수행할 수 있게 된다.Referring to FIG. 1, a flow rate adjusting device 1130 may be provided to collect and adjust a flow rate of the sampling air 1600 supplied to the sampling port 1100. The flow regulating device 1130 may be a flow meter, an MFC, an orifice, or a needle valve, and when the cleaning operation of the cleaning port 1120 is performed, the length, the degree of bending, the inner diameter of the sampling tube The flow rate of the sampling air 1600 is adjusted in consideration of the degree of pressure loss due to the change. The flow rate adjusting device 1130 may adjust the flow amount of the sampling air 1600 for each of the plurality of sampling ports 1100. If the flow rate control device 1130 does not exist, the sampling air 1600 may flow into only a specific port of the sampling port 1100 according to the above-described pressure loss, so that the flow rate control device 1130 is provided to prevent this. Preferably, the cleaning operation may be uniformly performed on all the sampling ports 1100.

도 1 및 도 2 를 참조하면 상기 측정 포트(1110)로 상기 샘플링 펌프(1300)를 연결하고 나머지인 상기 클리닝 포트(1120)로 상기 클리닝 펌프(1400)를 연결하도록 솔레노이드 밸브(1140) 또는 상기 멀티포지션 밸브(1141)가 구비될 수 있다. 상기 솔레노이드 밸브(1140) 또는 상기 멀티포지션 밸브(1141)는 상기 제어부(1500)에 의해 컨트롤되는 것이 바람직하다. 상기 솔레노이드 밸브(1140) 또는 상기 멀티포지션 밸브(1141)는 가스 솔레노이드 밸브를 비롯하여 설계에 따라 다양한 밸브를 활용할 수 있음은 물론이다. 도 2 에서는 상기 멀티포지션 밸브(1141) 중 샘플링 하고자하는 지역에 위치한 밸브만 개방되어 상기 샘플링 펌프(1300)에 의해 상기 샘플링 에어(1600)가 공급되고, 나머지 지역의 밸브는 적어도 하나 이상으로 구비되는 상기 클리닝 펌프(1400)에 연결되어 상기 샘플링 에어(1600)의 공급에 의해 클리닝 작업을 수행하도록 하는 예시를 도시하였다. 상기 제어부(1500)는 상기 솔레노이드 밸브(1140) 또는 상기 멀티포지션 밸브(1141)의 동작을 컨트롤하 며, 이에 따라 상기 샘플링 펌프(1300)와 상기 클리닝 펌프(1400)를 제어할 수 있다. 즉, 상기 제어부(1500)는 상기 솔레노이드 밸브(1140) 또는 상기 멀티포지션 밸브(1141)에 연결된 각 포트를 제어하여 상기 샘플링 펌프(1300)와 상기 클리닝 펌프(1400)의 동작을 제어할 수 있다. 또한, 설계에 따라 상기 샘플링 펌프(1300)와 상기 클리닝 펌프(1400)의 동작을 컨트롤하는 별도의 제어 장치가 부가되는 실시예도 고려할 수 있다.1 and 2, the solenoid valve 1140 or the multi to connect the sampling pump 1300 to the measurement port 1110 and the cleaning pump 1400 to the remaining cleaning port 1120. Position valve 1141 may be provided. The solenoid valve 1140 or the multiposition valve 1141 may be controlled by the control unit 1500. Of course, the solenoid valve 1140 or the multi-position valve 1141 may utilize various valves according to a design including a gas solenoid valve. In FIG. 2, only the valve located in the region to be sampled of the multi-position valve 1141 is opened so that the sampling air 1600 is supplied by the sampling pump 1300, and at least one valve in the remaining region is provided. An example is connected to the cleaning pump 1400 to perform a cleaning operation by supplying the sampling air 1600. The controller 1500 may control the operation of the solenoid valve 1140 or the multiposition valve 1141, and thus control the sampling pump 1300 and the cleaning pump 1400. That is, the controller 1500 may control operations of the sampling pump 1300 and the cleaning pump 1400 by controlling each port connected to the solenoid valve 1140 or the multiposition valve 1141. In addition, an embodiment in which a separate control device for controlling the operations of the sampling pump 1300 and the cleaning pump 1400 is added according to a design may be considered.

도 5 는 100 M 의 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)가 연결된 다수 개의 상기 샘플링 포트(1100)를 구비한 상기 가스 모니터링 시스템(1000)에서 클리닝 작업의 수행 여부에 따른 아웃가스의 분포를 나타낸다. 조건(C)의 그래프는 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)를 연결하지 않은 상태에서 상기 샘플링 포트(1100)의 F- 측정 결과이다. 조건(C)의 그래프를 비교 대상으로 하여 종래의 측정 방식에 의해 클리닝 작업을 수행한 결과가 조건(A)의 그래프이다. 이는 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)의 아웃 가스로 인하여 상기 샘플링 에어(1600)의 농도에 적절히 반응하지 못한 결과이다. 조건(B)의 그래프는 100 M 의 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)가 연결된 다수 개의 상기 샘플링 포트(1100)를 구비한 상기 가스 모니터링 시스템(1000)에서 본 발명에 의한 클리닝 작업을 수행한 결과를 나타낸다. 조건(B)의 그래프는 조건(A)의 그래프와 동일한 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)를 연결하였음에도 F- 측정 결과는 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)를 연결하지 않은 조건(C)의 그래프와 유사하다. 따라서 본 발명에 의한 클리닝 작업을 수행시 F- 농도가 현저하게 감소하는 것을 확인할 수 있다.FIG. 5 shows the distribution of outgas according to whether or not a cleaning operation is performed in the gas monitoring system 1000 having a plurality of sampling ports 1100 connected to 100 M of sampling tubes (not shown). The graph of condition (C) is the F-measurement result of the sampling port 1100 without the sampling tube (not shown) connected. The result of performing the cleaning operation by a conventional measuring method using the graph of condition (C) as a comparison target is the graph of condition (A). This is a result of not properly reacting to the concentration of the sampling air 1600 due to the out gas of the sampling tube (not shown). The graph of condition (B) shows the result of performing the cleaning operation according to the present invention in the gas monitoring system 1000 having a plurality of sampling ports 1100 connected to 100 M of sampling tubes (not shown). Indicates. Although the graph of condition (B) is connected to the same sampling tube (not numbered) as the graph of condition (A), the F-measurement results are obtained for condition (C) without connecting the sampling tube (not numbered). Similar to the graph. Therefore, it can be seen that the F- concentration is significantly reduced when the cleaning operation according to the present invention is performed.

도 6 은 상기 가스 모니터링 시스템(1000)을 이용하여 고농도 지역을 측정한 후 0.1 ppbv 의 저농도 지역을 측정하는 방법으로 클리닝에 따른 흡착도 분포를 나타낸다. 조건(C)의 그래프는 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)를 연결하지 않은 상태에서 상기 샘플링 포트(1100)의 NH3 측정 결과이다. 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)를 연결하지 않아 고농도 지역을 측정한 후 저농도 지역을 측정하더라도 큰 영향이 없음을 알 수 있다. 클리닝 작업을 수행하지 않은 조건(A)의 그래프는 10시간이 경과한 후에도 약 0.8 ppbv 정도의 고농도를 유지하므로 0.1 ppbv 의 저농도 측정에 부적합함을 알 수 있다. 이는 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)에 NH3 가스가 흡착되기 때문이다. 반면에 본 발명에 의한 클리닝 작업을 수행한 조건(B)의 그래프는 약 2 시간이 경과한 후 조건(C)의 그래프와 유사해지므로 상기 샘플링 튜브(도면번호 미부여)내에 이온의 흡착에 의한 간섭 영향을 최소화할 수 있음을 알 수 있다.6 shows the adsorption distribution according to cleaning by measuring a high concentration region using the gas monitoring system 1000 and then measuring a low concentration region of 0.1 ppbv. The graph of condition (C) is the NH3 measurement result of the sampling port 1100 without the sampling tube (not shown) connected. It can be seen that there is no significant effect even if the low concentration area is measured after measuring the high concentration area without connecting the sampling tube (not given the drawing number). The graph of the condition (A) without performing the cleaning operation maintains a high concentration of about 0.8 ppbv even after 10 hours has elapsed, so it can be seen that it is not suitable for low concentration measurement of 0.1 ppbv. This is because NH3 gas is adsorbed to the sampling tube (not shown). On the other hand, the graph of the condition (B) which performed the cleaning operation according to the present invention becomes similar to the graph of the condition (C) after about 2 hours has elapsed, so that the adsorption of ions in the sampling tube (not shown) It can be seen that the effect of interference can be minimized.

본 발명의 상기한 실시예에 한정하여 기술적 사상을 해석해서는 안 된다. 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당업자의 수준에서 다양한 변형 실시가 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 당업자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 된다.The technical idea should not be interpreted as being limited to the above-described embodiment of the present invention. Various modifications may be made at the level of those skilled in the art without departing from the spirit of the invention as claimed in the claims. Therefore, such improvements and modifications fall within the protection scope of the present invention as long as it is obvious to those skilled in the art.

도 1 은 본 발명에 의한 샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템의 구성도.1 is a configuration diagram of a gas monitoring system having a sampling port cleaning means according to the present invention.

도 2 는 본 발명에 의한 솔레노이드 밸브가 구비된 가스 모니터링 시스템의 구성도.2 is a block diagram of a gas monitoring system equipped with a solenoid valve according to the present invention.

도 3 은 클리닝 포트에 샘플링 에어가 연속적으로 공급되어 지속적인 클리닝을 하는 실시예의 구성도.3 is a block diagram of an embodiment in which sampling air is continuously supplied to a cleaning port to perform continuous cleaning.

도 4 는 측정 대기 중인 클리닝 포트만을 클리닝하는 실시예의 구성도.4 is a configuration diagram of an embodiment of cleaning only a cleaning port waiting to be measured.

도 5 는 샘플링 포트의 클리닝에 따른 아웃가스의 분포를 나타내는 그래프.5 is a graph showing the distribution of outgas according to cleaning of the sampling port.

도 6 은 샘플링 포트의 클리닝에 따른 흡착도의 분포를 나타내는 그래프.6 is a graph showing a distribution of adsorption degree according to cleaning of a sampling port.

도 7 은 종래의 가스 분석 장치를 나타내는 구성도.7 is a block diagram showing a conventional gas analyzer.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

4 : 분석계 11,12,13,14 : 입구측 배관4: analyzer 11, 12, 13, 14: inlet pipe

21,22,23,24 : 삼방변21,22,23,24: trilateral

1000 : 가스 모니터링 시스템1000: Gas Monitoring System

1100 : 샘플링 포트 1110 : 측정 포트1100: sampling port 1110: measurement port

1120 : 클리닝 포트 1121 : 측정 대기 포트1120 cleaning port 1121 measurement standby port

1130 : 유량 조절 장치 1140 : 솔레노이드 밸브1130: flow control device 1140: solenoid valve

1141 : 멀티포지션 밸브 1200 : 검출부1141: multi-position valve 1200: detector

1300 : 샘플링 펌프 1400 : 클리닝 펌프1300: sampling pump 1400: cleaning pump

1500 : 제어부 1600 : 샘플링 에어1500 control unit 1600 sampling air

Claims (5)

샘플링 에어(1600)를 흡입하는 다수 개의 샘플링 포트(1100);A plurality of sampling ports 1100 for sucking sampling air 1600; 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택되는 적어도 하나에 연결되어 흡입되는 상기 샘플링 에어(1600)를 측정하는 검출부(1200);A detector 1200 connected to at least one selected from the sampling port 1100 and measuring the sampling air 1600 suctioned; 상기 검출부(1200)에 연결된 상기 샘플링 포트(1100)로 상기 샘플링 에어(1600)를 흡입시키는 샘플링 펌프(1300);A sampling pump 1300 which sucks the sampling air 1600 to the sampling port 1100 connected to the detector 1200; 상기 검출부(1200)에 연결된 상기 샘플링 포트(1100)를 제외한 나머지의 상기 샘플링 포트(1100)로 상기 샘플링 에어(1600)를 흡입시키는 적어도 하나 이상의 클리닝 펌프(1400); 및At least one cleaning pump (1400) for sucking the sampling air (600) to the remaining sampling ports (1100) except for the sampling port (1100) connected to the detector (1200); And 상기 샘플링 포트(1100)와 상기 검출부(1200)의 동작을 컨트롤하는 제어부(1500);A controller 1500 that controls operations of the sampling port 1100 and the detector 1200; 를 포함하여 이루어지되,, &Lt; / RTI &gt; 상기 샘플링 포트(1100)는 상기 검출부(1200)가 연결되는 측정 포트(1110)와 상기 검출부(1200)가 연결되지 않는 클리닝 포트(1120)로 구분되며, 상기 제어부(1500)는 상기 측정 포트(1110) 및 상기 클리닝 포트(1120)의 선택을 순차적으로 변화시키는 것을 특징으로 하는 샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템.The sampling port 1100 is divided into a measurement port 1110 to which the detection unit 1200 is connected and a cleaning port 1120 to which the detection unit 1200 is not connected, and the control unit 1500 is the measurement port 1110. And a sampling port cleaning means, characterized in that to sequentially change the selection of the cleaning port (1120). 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 샘플링 포트(1100)에 공급되는 상기 샘플링 에어(1600)의 유량을 취합하여 조절하는 유량 조절 장치(1130)를 포함하는 것을 특징으로 하는 샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템.And a flow rate adjusting device (1130) for collecting and adjusting the flow rate of the sampling air (1600) supplied to the sampling port (1100). 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 다수 개의 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택되는 상기 측정 포트(1110)로 상기 샘플링 펌프(1300)를 연결하고 나머지인 상기 클리닝 포트(1120)로 상기 클리닝 펌프(1400)를 연결하도록, 상기 제어부(1500)에 의해 컨트롤되는 솔레노이드 밸브(1140) 또는 멀티포지션 밸브(1141) 중 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템.The controller 1500 to connect the sampling pump 1300 to the measurement port 1110 selected from among the plurality of sampling ports 1100 and to connect the cleaning pump 1400 to the remaining cleaning port 1120. Gas monitoring system with a sampling port cleaning means, characterized in that it comprises any one selected from the solenoid valve (1140) or the multi-position valve (1141) controlled by. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택된 상기 측정 포트(1110)에서 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정하는 동안, 상기 측정 포트(1110)를 제외한 나머지인 상기 클리닝 포트(1120) 각각에는 상기 클리닝 펌프(1400)에 의해 상기 샘플링 에어(1600)가 연속적으로 공급되어 클리닝 작업이 수행되는 것을 특징으로 하는 샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템.Each of the cleaning ports 1120 except for the measurement port 1110 while measuring the concentration of the pollutant contained in the sampling air 1600 in the measurement port 1110 selected among the sampling ports 1100, respectively. And a sampling port (1600) is continuously supplied to the cleaning pump (1400) to perform a cleaning operation. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 샘플링 포트(1100) 중 선택된 상기 측정 포트(1110)에서 상기 샘플링 에어(1600)에 포함된 오염 물질의 농도를 측정하는 동안, 상기 측정 포트(1110)를 제외한 나머지인 상기 클리닝 포트(1120) 중 차회 측정을 위한 준비 단계를 갖는 하나의 상기 클리닝 포트(1120)인 측정 대기 포트(1121)에는 상기 클리닝 펌프(1400)에 의해 상기 샘플링 에어(1600)가 연속적으로 공급되는 것을 특징으로 하는 샘플링 포트 클리닝 수단을 구비한 가스 모니터링 시스템.Of the cleaning ports 1120 except for the measurement port 1110 while measuring the concentration of the pollutant contained in the sampling air 1600 in the measurement port 1110 selected from the sampling port 1100. Sampling port cleaning, characterized in that the sampling air 1600 is continuously supplied to the measurement standby port 1121, which is one of the cleaning ports 1120 having a preparation step for the next measurement, by the cleaning pump 1400. Gas monitoring system with means.
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