KR20110024721A

KR20110024721A - 활성 라디칼 발생 장치를 구비한 아기 욕조

Info

Publication number: KR20110024721A
Application number: KR1020090082838A
Authority: KR
Inventors: 박정일
Original assignee: 박정일
Priority date: 2009-09-03
Filing date: 2009-09-03
Publication date: 2011-03-09

Abstract

본 발명은 아기 욕조에 사용하는 물을 살균수로 변화시켜 아기 피부에 자극을 적게 주고 아기 피부 표면에 존재하는 세균 및 미생물 등을 분해 및 제거하여 쾌적한 목욕 환경을 제공하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 아기 욕조에 관한 것이다.

이를 위해 본 발명은 아기 욕조에 활성 라디칼 발생장치를 설치하여 일반 가정의 배관에서 나오는 물을 아기 욕조에 담아 활성 라디칼을 다량 함유한 살균수로 변화시켜 아기 피부에 자극을 주지 않도록 만들고 나아가 아기 피부 표면의 세균이나 미생물을 살균시키는 구조이다.

상기 한 쌍의 전극의 성분을 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것이다.

라디칼, 전기분해, 아기 욕조, 살균

Description

활성 라디칼 발생 장치를 구비한 아기 욕조 {Baby's bath with Active Radical Generator}

본 발명은 활성 라디칼을 다량 함유한 살균수를 사용하여 아기 피부 표면의 세균 및 미생물을 제거하는 기능을 제공하는 활성 라디칼 발생장치를 구비하는 아기 욕조에 관한 것으로, 더 상세하게는 아기 욕조에 활성 라디칼 발생장치를 구비해서 노후된 배관을 통해 나온 물을 살균수로 만들어 아기에게 유해한 세균 및 미생물을 제거 및 살균 효과를 제공할 수 있도록 구성되는 아기 욕조에 관한 것이다.

본 발명은 아기 욕조에 설치하는 살균수 제조 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 가정에서 사용하는 물이 오래된 배관에서 나오기 때문에 아기가 사용하기엔 자극적이나 기타 부적절한 세균이나 미생물이 있기 때문에 이를 제거 할 필요가 있고, 나아가 아기 피부 표면의 세균 및 미생물을 제거하기 위하여 아기 욕조에 담긴 물을 살균수로 변화시키는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 아기 욕조에 관한 것으로 효과적으로 세균과 미생물을 제거 할 수 있어 쾌적하게 목욕을 할 수 있는, 쉽고 편리한 살균수 제조 장치를 구비한 아기 욕조를 제공코자 하는 것이다.

주거 생활 수준이 향상되고 수도가 각 가정에 보급이 되면서 개인 위생이 상 당히 개선이 되고 있으나, 각 가정의 수도 배관은 한 번 설치가 되면 교체가 사실상 불가능해 수돗물이 배관으로 인해 세균과 미생물에 노출이 되는 불안감은 있어 왔다.

이러한 가정의 배관이 노후되면서 예상하지 못한 세균이나 미생물이 존재할 가능성이 높아지고 있고, 어른의 경우보단 어린 아이의 경우에 때에 따라선 치명적인 경우도 될 수 있다. 따라서, 이에 대한 대책이 더욱 절실히 요구되고 있으나 대책은 미비하거나 전무한 형편이다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결, 보완하기 위하여 제안한 것으로,

활성 라디칼을 포함한 살균수를 만들어 배관에서 나온 수돗물의 냄새를 제거하고, 또한 배관을 거치면서 수돗물에 남은 잔여물을 제거해서 사용자에게 깨끗한 물을 제공해 주고, 이러한 기능을 가진 아기 욕조를 만들어 아기 목욕에 사용 할 수 있도록 하며, 이 기능을 유지 보수하는데 드는 비용을 낮추는데 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에선 활성 라디칼을 다량 함유한 살균수를 만드는 활성 라디칼 발생장치를 구비하는 아기 욕조에 있어서,

한 쌍의 전극(311,312)으로 구성된 활성 라디칼 발생장치(300)를 아기 욕조(200)에 설치하고, 상기 한 쌍의 전극의 성분은 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또 는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것일 수 있다.

상기 활성 라디칼 발생장치(300)의 한 쌍의 전극(311,312)에 직류 전류가 공급됨으로써 전기분해가 발생하며, 상기 전기분해 방식을 이용하여 물에 함유된 세균이나 오염 물질을 제거 및 살균하도록 구성된다. 전기분해 반응이 진행되면, 물에 함유되어있는 세균 및 미생물이 직접 산화되는 반응과 아울러 염소, 오존, OH 라디칼, 산소 라디칼 등의 다양한 활성 라디칼이 생성되어 간접산화 및 살균되는 반응이 동시에 이루어지고, 이에 따라 활성 라디칼을 포함한 살균수와 접촉하여 직간접 산화에 의해 살균까지 이루어지므로 물을 살균하여 정화할 수 있다.

상기 직류전류는 전원연결부(350)를 통해 공급된다.

상기 한 쌍의 전극(311,312)은 서로 마주보는 면이 대칭이 되고 얇은 사각형 판상으로 구성된다. 본 발명의 구체적인 실시 예에서는 전극(311,312)이 다수 개의 홀이 형성된 평판형인 것으로 설명하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 전극(311,312)은 다수 개의 홀이 형성된 그물(mesh)형 또는 원통형으로 형성될 수 있다.

상기 한 쌍의 전극(311,312)은 0.9 내지 1.1㎜의 간격으로 형성된다.

상기 전극(311,312)의 표면에는 일부 또는 전체에 코팅층이 형성된다. 상기 코팅층은 백금화합물, 이리듐화합물, 주석화합물, 티타늄화합물, 팔라듐화합물, 탄탈륨화합물, 로듐화합물, 루테늄화합물 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 성분으로 형성된다. 이때, 상기 코팅층의 두께는 마모 발생을 방지하고, 전극 표면의 방울에 의한 코팅층의 탈착현상을 방지하기 위해 5㎛ 이내로 형성된다.

상기 직류 전원에 의한 활성 라디칼 발생장치(300)의 작동은 제어보드 또는 버튼에 의해 구동된다. 또한, 상기 전극(311,312)의 침식 문제를 해결하기 위하여 상기 제어보드를 통해 전류의 방향을 번갈아 가며 구동되도록 할 수 있다.

본 발명에 의한 아기 욕조(200)는, 우선 아기가 사용하는 물을 정화하여 아기 목욕에 안심하고 사용할 수 있고, 나아가 아기 피부 표면에 있는 세균 및 미생물들을 제거하는 기능을 제공하며, 활성 라디칼 발생장치(300)의 교환으로 살균 기능을 유지할 수 있어 유지 보수가 용이하도록 해 비용을 절감시킬 수 있다는 장점이 있다.

이하에서는 상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 활성 라디칼을 다량 함유한 살균수를 만드는 활성 라디칼 발생장치를 구비하는 아기 욕조의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 구체적인 실시예에 의한 아기 욕조의 개략적인 구성을 나타내는 구성도이다. 도 2는 본 발명의 구체적인 실시예를 구성하는 한 쌍의 전극을 나타내는 평면도이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 구체적인 실시예에 의한 활성 라디칼 발생장치(300)는 일반 물을 살균수로 변화시키는 수처리 공정이 진행되는 아기 욕조(200)에 삽입하여 구성된다.

활성 라디칼 발생장치(300)의 한 쌍의 전극(311,312)은 두께가 얇은 사각형 판상으로 구성된다. 상기 전극(311,312)엔 다수 개의 홀(315)이 일정한 간격으로 형성되며 마주보는 한 쌍의 전극의 홀들은 일치하게 배열한다. 상기 홀(315)들은 아기 욕조안에서 물이 마이크로 버블에 의한 유동을 돕는 역할을 하는데 전기분해반응의 효과를 향상시킨다.

본 발명의 구체적인 실시 예에서는 전극(311,312)이 다수 개의 홀이 형성된 평판형인 것으로 설명하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 전극(311,312)은 다수 개의 홀이 형성된 그물(mesh)형 또는 원통형으로 형성될 수 있다.

상기 한 쌍의 전극의 성분은 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된다.

상기 활성 라디칼 발생장치(300)에 직류 전류가 전극 볼트(313)를 통해 상기 한 쌍의 전극(311,312)에 공급됨으로써 전기분해가 발생하며, 상기 전기분해 방식을 이용하여 물 내에 함유된 세균이나 오염 물질을 살균 및 제거하도록 구성된다. 전기분해 반응이 진행되면, 물에 함유되어있는 세균 및 미생물이 직접 산화되는 반응과 아울러 염소, 오존, OH 라디칼, 산소 라디칼 등의 다양한 활성 라디칼이 생성되어 간접산화 및 살균되는 반응이 동시에 이루어지고, 이에 따라 활성 라디칼을 포함한 살균수와 냄새 분자가 접촉하여 직간접 산화에 의해 살균까지 이루어지므로 아기 욕조의 물을 살균하여 정화한다.

상기 직류 전류는 전원연결부(350)를 통해 제어부(410)를 거쳐 전원공급부(400)에서 공급된다.

상기 한 쌍의 전극(311,312)은 0.9 내지 1.1㎜의 간격으로 형성된다. 상기 전극(311,312) 사이의 간격은 지지부재(317)에 의해 유지된다. 또한 이 지지부재(317)는 상기 한 쌍의 전극(311,312)이 하나의 모양을 가지면서도 90도 회전을 하여 마주보면서 상기에서 서술한 간격을 형성하도록 한다.

상기 직류전원은 제어부(410)의 제어보드에 의해 구동된다. 그리고 상기 제어부(410)를 별도로 구동시키기 위한 제어패드 또는 작동버튼을 구비한다. 또한, 상기 전극(311,312)의 침식 문제를 해결하기 위하여 상기 제어보드를 통해 전류의 방향을 번갈아 가며 구동되도록 할 수 있다.

본 발명의 구체적인 실시예에서는 한 쌍의 전극(311,312)이 구비되는 것으로 설명하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 설계조건 및 수처리 공정의 필요에 따라 한 쌍 이상의 전극으로 구성될 수 있다.

본 발명의 구체적인 실시예에 의한 활성 라디칼 발생장치의 작용은 거품구조 이론(Bubble Mechanism)으로 설명된다.

먼저, 전원공급부(400)에서 제어부(410)를 통해 공급된 DC전압 Vd는 한 쌍의 전극(311,312)에 인가된다. 즉, 제어부(410)는 음극 전극(312)에 캐소드 전원을 인가하고, 양극 전극(311)에 애노드 전원을 인가한다. 이때, 상기 양극 전극(311) 및 음극 전극(312)은 서로 d (㎜)의 간격으로 이격된 상태로 물 속에 잠긴 상태이고, 상기 제어부(410)에 의해 전압 Vd가 가해지면 전기장이 형성된다.

그리고 형성된 전기장이 애벌런치(Avalanche) 매커니즘의 임계치를 넘으면, 전극점에 이온화된 불순물, 전해 분해되어 이온화된 OH^- 등이 음극 전극(312)의 셀 영역에 핵심 생성 부위를 형성한다.

다음으로, 극히 높은 전기장 영역이 국부적으로 형성되고, 이것이 국부 가열을 유발하여 물 분자가 증발하면서 미세 거품이 형성된다. 상기 미세 거품은 음극 전극(312)으로부터 양극 전극(311)의 방향으로 확대되면서 상기 두 전극(311,312) 사이에 전기의 전도 경로가 형성된다.

이어서, 상기 두 전극(311,312) 사이에 형성된 전기의 전도 경로에 의해 물 분자가 분해되어 O^-, OH^-, O₃ ^-HOCl, H₂O₂ 등 살균제 및 산화제가 생성된다.

수중에 존재하는 미생물은 생성된 산화체에 의하여 불활성화되거나 제거된다. 즉, 박테리아는 전기적 흡착(electrosorption)에 의해 제거되고, 기타 미생물은 e^-과의 반응에 의한 직접적인 전기분해반응으로 제거된다.

이러한 반응에 의해, 아기 욕조(200) 물속의 미생물과 세균의 발생을 억제 및 제거가 가능하고, 전기분해 반응이 진행되면서, 물에 함유되어있는 세균 및 미생물이 직접 산화되는 반응과 아울러 염소, 오존, OH 라디칼, 산소 라디칼 등의 다양한 활성 라디칼이 생성되어 간접산화 및 살균되는 반응이 동시에 이루어지고, 활성 라디칼을 포함한 살균수와 세균 및 미생물이 접촉하여 직간접 산화에 의해 살균까지 이루어지므로 일반 가정의 배관에서 나온 물을 정화한다.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.

도 1은 본 발명의 구체적인 실시예에 의한 아기 욕조의 구성도.

도 2는 본 발명의 구체적인 실시예를 구성하는 한 쌍의 전극을 나타내는 평면도.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

200: 아기 욕조

300: 활성 라디칼 발생장치

311: 상부 전극 312: 하부 전극

313: 전극 볼트

315: 홀 317: 지지부재

350: 전원연결부

400: 전원공급부 410: 제어부

Claims

수처리 공정이 진행되는 아기 욕조(200)와

이 아기 욕조(200)에 삽입되고, 상부 전극(311)과 하부 전극(312)을 포함하는 적어도 한 쌍의 전극과 상기 한 쌍의 전극에 전원을 인가하는 전원연결부(350)를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치(300)를 구비한 아기 욕조(200)에 있어서

상기 한 쌍의 전극의 성분은 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치(300)를 구비한 아기 욕조.
제 1 항에 있어서,

상기 전극 표면의 일부 또는 전체에 코팅층이 형성되고, 상기 코팅층의 성분은 백금화합물, 이리듐화합물, 주석화합물, 티타늄화합물, 팔라듐화합물, 탄탈륨화합물, 로듐화합물 , 루테늄화합물 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 아기 욕조.
제 2 항에 있어서

상기 전극의 코팅층의 두께는 1 내지 5㎛의 범위이고, 상기 한 쌍의 전극의 간격은 0.9 내지 1.1㎜의 범위인 것을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 아기 욕조.
제1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서

상기 전극의 모양은 하나이며 이를 90도 회전을 하여 마주보게 장착되며 이를 위한 지지부재의 모양과 전극의 구조를 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 아기 욕조.
제1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서

상기 한 쌍의 전극에 공급되는 직류 전압을 교번하여 상기 전극에 인가하는 것을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 아기 욕조.