KR20110024718A

KR20110024718A - 활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대

Info

Publication number: KR20110024718A
Application number: KR1020090082834A
Authority: KR
Inventors: 박정일
Original assignee: 박정일
Priority date: 2009-09-03
Filing date: 2009-09-03
Publication date: 2011-03-09

Abstract

활성 라디칼 발생장치를 씽크대에 구비하여 활성 라디칼을 함유한 물을 만들어 피접촉물을 세정하고 살균하며, 이 살균수를 배수구로 흘려보내 배수구에서 세균 및 미생물의 증식을 억제해 냄새 제거 및 친환경적인 주방 환경을 만드는 씽크대를 제공한다.

본 발명에 의한 씽크대에 있어서, 활성 라디칼 발생장치(300)는 일정 간격으로 이격되는 한 쌍의 전극(311,312)과 전원을 공급하는 전원공급부(400)와 전원을 제어하는 제어부(410)를 포함하여 구성된다.

상기 한 쌍의 전극의 성분은 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것이다.

본 발명에 의한 활성 라디칼 발생장치(300)에선 전극(311,312)을 새로운 재질과 형상으로 구성하고 씽크대에서 살균수를 발생시켜 즉시 사용이 가능하도록 했다.

라디칼, 전기분해, 살균, 살균수

Description

활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대 { Sink with Active radical generator }

본 발명은 살균수를 이용하여 피접촉물의 세균 및 미생물을 살균하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대에 관한 것으로, 더 상세하게는 싱크대에 활성 라디칼 발생장치를 구비하여 살균수를 만들고 피접촉물의 표면에 존재하는 세균 및 미생물을 살균하여 개인 위생과 주방 위생을 개선시킬 수 있도록 구성되는 씽크대에 관한 것이다.

현재 가정에서 살균 소독 방법으로 가장 많이 이용되고 있는 방법은 고온으로 삶는 방법이다. 하지만 이 살균 소독법은 고온의 물을 사용하기 때문에 부주의한 사용으로 인한 사고의 원인이 되기도 한다. 다음으로 이용되는 방법은 태양을 이용하는 방법으로 태양의 자외선을 이용하는 것이다. 하지만 장마철등 태양이 들지 않으면 이 방법도 소용이 없다.

그래서, 차선책으로 살균 세정제 등의 화학약품을 구매하여 사용하기도 한다. 하지만, 이러한 약품의 사용에서 중요한 사항은 약품의 세척이다. 다시말해, 한 번 더 물에 세척을 해야 한다는 불편이 있는 것이다. 그리고, 살균 약품은 매번 사용하기엔 고가의 제품이 대부분이고 또한 소비자가 약품이 떨어질 경우엔 약품 재구매시까지 세정 및 살균을 하지 못하는 어려움이 있다.

본 발명은 상기와 같은 단점을 해결, 보완하기 위하여 제안한 것으로,

활성 라디칼 발생장치를 이용하여 살균수를 만들어 피접촉물의 표면에 존재하는 세균 및 미생물을 세정 및 살균하여 위생을 개선시킬 수 있도록 구성되는 씽크대를 제공하는데 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 씽크대에 있어서,

활성 라디칼 발생장치(300)는 씽크대(200) 바닥 혹은 측면에 삽입되고, 일정 간격을 유지하는 상부 전극(311)과 하부 전극(312)을 포함하는 적어도 한 쌍의 전극에 전원을 인가하는 전원공급부(400)와 그 전원을 제어하는 제어부(410)를 포함하여 구성된다.

상기 한 쌍의 전극의 성분은 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것일 수 있다.

상기 전극 표면의 일부 또는 전체에 코팅층이 형성되고, 상기 코팅층의 성분은 백금화합물, 이리듐화합물, 주석화합물, 티타늄화합물, 팔라듐화합물, 탄탈륨화합물, 로듐화합물 , 루테늄화합물 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선 택된 것임을 특징으로 한다.

상기 전극의 코팅층의 두께는 1 내지 5㎛의 범위이고, 상기 한 쌍의 전극의 간격은 0.9 내지 1.1㎜의 범위인 것을 특징으로 한다.

상기 전극은, 다수의 홀이 형성된 평판형, 그물형, 원통형 중 어느 하나의 형태인 것을 특징으로 한다.

상기 전원공급부(400)에선 직류 전원을 공급하고 이를 제어하기 위한 제어패널 또는 작동 버튼등 포함한 제어부(410)를 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의한 씽크대는, 살균수로 세균 및 미생물을 세정 및 살균하며 사용이 용이하며 일반 물을 사용하므로 별도의 세정액으로 세정시 소요되는 비용을 절감하는 것과 유지 보수는 활성 라디칼 발생장치만 교환함으로써 가능하다는 장점이 있다.

본 발명에선 씽크대에서 발생하는 세균과 미생물을 효과적으로 억제할 수 있다.

이하에서는 상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 살균수를 만들어 사용하는 씽크대의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 구체적인 실시예에 의한 활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대의 개략적인 구성을 나타내는 구성도이다. 도 3는 본 발명의 구체적인 실시 예를 구성하는 한 쌍의 전극을 나타내는 평면도이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 구체적인 실시예에 의한 씽크대는 적어도 한 쌍의 전극(311,312)과 이 전극을 일정 간격으로 유지시켜 주는 지지부재(317)와 전원을 인가하는 전원공급부(400) 그리고 전원을 제어하는 제어부(410)를 포함하여 구성된다.

상기 한 쌍의 전극의 성분은 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된다.

씽크대의 바닥 혹은 측부에 구비된 활성 라디칼 발생장치(300)는 전기분해 방식을 이용하여 물 내에 함유된 세균이나 오염물질을 살균하도록 구성된다. 전기 분해 반응은 직류 전류가 상기 한 쌍의 전극(311,312)에 공급됨으로써 발생한다.

전기분해 반응이 진행되면, 물에 함유되어있는 세균 및 미생물이 직접 산화되는 반응과 아울러 염소, 오존, OH 라디칼, 산소 라디칼 등의 다양한 활성 라디칼이 생성되어 간접산화 및 살균되는 반응이 동시에 이루어지데, 이러한 반응이 씽크대에서 일어나므로 씽크대 세척뿐만 아니라 세정 및 살균까지 이루어지므로 추가 오염의 우려가 없어진다.

상기 직류전류는 전원공급부(400)에 의해 공급되고 제어부(410)에 의해 제어된다. 본 발명의 구체적인 실시 예에 의한 활성 라디칼 발생장치(300)에서는, 상기 전원공급부(400)에 의해 직류 전류가 공급되는 것으로 설명하였으나, 상기 전원공급부(400)에 의해 공급되는 전원은 반드시 직류 전압으로 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 전원공급부(400)는 펄스(pulse)전압, 구형파(Square wave) 펄스전압, 또는 시분제어(Squence control)되는 펄스전압, 교번되는 펄스전압을 상기 전극(311,312)에 공급함으로써 전기분해반응이 일어나도록 할 수 있다.

상기 한 쌍의 전극(311,312)은 두께가 상대적으로 얇은 정사각형의 판상으로 구성된다. 상기 한 쌍의 전극(311,312)은 양극 전극(311) 및 음극 전극(312)으로 구성되고, 상기 양극 전극(311) 및 음극 전극(312)의 형상은 서로 마주보는 면이 대칭이 되도록 형성된다. 상기 양극 전극(311) 및 음극 전극(312)에는 다수 개의 홀(315)이 일정한 간격으로 형성된다. 상기 다수 개의 홀(315)은 물이 순환하기 위한 통로의 역할을 함으로써, 전기분해반응의 효과를 향상시킨다. 본 발명의 구체적인 실시 예에서는 전극(311,312)이 다수 개의 홀이 형성된 평판형인 것으로 설명하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 전극(311,312)은 다수 개의 홀이 형성된 그물(mesh)형 또는 원통형으로 형성될 수 있다.

상기 한 쌍의 전극(311,312)은 0.9 내지 1.1㎜의 간격으로 형성된다.

상기 전극(311,312)의 표면에는 일부 또는 전체에 코팅층이 형성된다. 상기 코팅층은 백금화합물, 이리듐화합물, 주석화합물, 티타늄화합물, 팔라듐화합물, 탄탈륨화합물, 로듐화합물, 루테늄화합물 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 성분으로 형성된다. 이때, 상기 코팅층의 두께는 마모 발생을 방지하고, 전극 표면의 방울에 의한 코팅층의 탈착현상을 방지하기 위해 5㎛ 이내로 형성된다.

상기 전원공급부(400)를 구동시키기 위한 제어패드 또는 작동버튼을 구비한 다. 또한, 상기 전극(311,312)의 침식 문제를 해결하기 위하여 상기 제어부(410)를 통해 전류의 방향을 번갈아 가며 구동되도록 할 수 있다.

본 발명의 구체적인 실시예에서는 한 쌍의 전극(311,312)이 구비되는 것으로 설명하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 설계조건 및 수처리 공정의 필요에 따라 한 쌍 이상의 전극으로 구성될 수 있다.

본 발명의 구체적인 실시예에 의한 활성 라디칼 발생장치(300)의 작용은 거품구조이론(Bubble Mechanism)으로 설명된다.

먼저, 상기 전원공급부(400)로부터 공급된 DC전압 Vd는 한 쌍의 전극(311,312)에 인가된다. 즉, 상기 전원공급부(400)는 음극 전극(312)에 캐소드 전원을 인가하고, 양극 전극(311)에 애노드 전원을 인가한다. 이때, 상기 양극 전극(311) 및 음극 전극(312)은 서로 d (㎜)의 간격으로 이격된 상태로 물 속에 잠긴 상태이고, 상기 전원공급부(400)에 의해 전압 Vd가 가해지면 전기장이 형성된다.

그리고 형성된 전기장이 애벌런치(Avalanche) 매커니즘의 임계치를 넘으면, 전극점에 이온화된 불순물, 전해 분해되어 이온화된 OH^- 등이 음극 전극(312)의 셀 영역에 핵심 생성 부위를 형성한다.

다음으로, 극히 높은 전기장 영역이 국부적으로 형성되고, 이것이 국부 가열을 유발하여 물 분자가 증발하면서 미세 거품이 형성된다. 상기 미세 거품은 음극 전극(312)으로부터 양극 전극(311)의 방향으로 확대되면서 상기 두 전극(311,312) 사이에 전기의 전도 경로가 형성된다.

이어서, 상기 두 전극(311,312) 사이에 형성된 전기의 전도 경로에 의해 물 분자가 분해되어 O^-, OH^-, O₃ ^-HOCl, H₂O₂ 등 살균제 및 산화제가 생성된다.

수중에 존재하는 미생물은 생성된 산화체에 의하여 불활성화되거나 제거된다. 즉, 박테리아는 전기적 흡착(electrosorption)에 의해 제거되고, 기타 미생물은 e^-과의 반응에 의한 직접적인 전기분해반응으로 제거된다.

이러한 반응에 의해, 씽크대의 미생물과 세균의 발생을 억제 및 제거가 가능하고, 이러한 기능을 가진 살균수를 피접촉물과 접촉 및 반응시켜 피접촉물의 표면에서 미생물과 세균의 발생을 억제 및 제거하는 효과를 보게 된다. 나아가 살균수가 손 표면의 세균 및 미생물까지 세정 및 살균해주어 각종 질환으로부터 예방도 가능하게 해준다.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시 예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.

도 1은 본 발명의 구체적인 실시예에 의한 활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대의 구성도.

도 2는 본 발명의 구체적인 실시예를 구성하는 한 쌍의 전극을 나타내는 평면도.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

200: 씽크대

300: 활성 라디칼 발생장치

310: 활성 라디칼 발생장치 보호 커버

311: 상부 전극 312: 하부 전극

313: 전극 볼트 315: 홀

317: 지지부재 318: 결합볼트

400: 전원공급부 410: 제어부

Claims

씽크대의 바닥 또는 측면에 설치되고, 일정 간격을 유지하고 상부 전극(311)과 하부 전극(312)을 포함하는 적어도 한 쌍의 전극과

상기 한 쌍의 전극에 전원을 인가하는 전원공급부(400)와 제어를 하는 제어부(410)을 포함하여 구성된 것임을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치(300)를 구비한 씽크대에 있어서

상기 한 쌍의 전극의 성분은 카본, 티타늄나이트라이드(질화티타늄), 세라믹, 탄탈럼, 니켈, 주석, 팔라듐, 로듐, 루테늄, 스테인레스강 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대.
제 1 항에 있어서,

상기 전극 표면의 일부 또는 전체에 코팅층이 형성되고, 상기 코팅층의 성분은 백금화합물, 이리듐화합물, 주석화합물, 티타늄화합물, 팔라듐화합물, 탄탈륨화합물, 로듐화합물 , 루테늄화합물 또는 이들의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대.
제 2 항에 있어서

상기 전극의 코팅층의 두께는 1 내지 5㎛의 범위이고, 상기 한 쌍의 전극의 간격은 0.9 내지 1.1㎜의 범위인 것을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치를 구비한 씽크대.
제1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서

상기 전원공급부는 직류 전압을 교번하여 상기 한 쌍의 전극에 인가하는 것을 특징으로 하는 활성 라디칼 발생장치 구비한 씽크대.