KR20100123987A - Cold cathode field emission device and x-ray generation apparatus using it - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A cold cathode rotation field emission device and an X-ray generator using the same are provided to replace a cathode several times by concentrically arranging a nano emitter array on a circular plate. CONSTITUTION: A substrate(110) forms an emitter array for emitting electrons. A gate electrode(120) is mounted to face a substrate. The gate electrode is adjacently integrated with the emitter array and has an electron inducing unit(121) combined by a combining unit. An X-ray is generated by emitting the electrons to both targets via the electron inducing unit.

Description

냉음극 회전형 전계 방출 소자와 이를 이용한 X선 발생 장치{Cold Cathode Field Emission Device and X-ray Generation Apparatus using it}Cold Cathode Field Emission Device and X-ray Generation Apparatus Using It {Cold Cathode Field Emission Device and X-ray Generation Apparatus using it}

본 발명은 전계 방출 소자에 관한 것으로서, 특히, 양자역학적 전계 방출(Field emission) 원리로 전자빔을 방출하는 전자 방출원(electron emitter)으로서 나노에미터(nano-emitter) 어레이를 원형 기판에 동심원으로 배열되도록 형성하여, 게이트 전극의 전자 유도 부분에 근접된 나노에미터 군을 냉음극으로 이용하여 전자빔을 방출하고, 해당 나노에미터 군의 수명이 다하여 더 이상 제기능을 발휘하지 못하는 경우에 원형 기판을 회전하여 인접한 나노에미터 군으로 음극부를 교체하여 음극부의 재장착 없이도 오랫동안 전자 방출원으로서 이용할 수 있고, 또는 소자의 동작에 필요한 시간 동안, 예를 들어, X선 튜브의 경우에는 X선 발생에 필요한 시간 동안(X선 발생 시간 + 음극부 기동 시간 + 음극부 정지 시간) 나노에미터 음극부를 회전시킴으로써, X선 발생 시간(혹은 전자 방출 시간) 동안 각각의 나노에미터가 전자방출에 기여하는 시간을 줄여 음극부 전체의 수명을 증가시킬 수 있는 회전형 전계 방출 소자 및 이를 이용한 X선 발생 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a field emission device, and in particular, an array of nano-emitters arranged concentrically on a circular substrate as an electron emitter that emits an electron beam on a quantum mechanical field emission principle. And the electron beam is emitted by using the nano-emitter group near the electron induction portion of the gate electrode as the cold cathode, and the circular substrate is removed when the nano-emitter group is no longer functional due to the end of the lifetime of the nano-emitter group. Rotate and replace the cathode with an adjacent group of nano-emitters that can be used as an electron emitter for a long time without the need to reattach the cathode, or for the time required to operate the device, e.g. for X-ray tube generation X-ray generation by rotating the nano-emitter cathode during the time (X-ray generation time + cathode start time + cathode stop time) (Or electron-emitting time) relates to each of the times that the nano-meter can reduce the time that contributes to electron emission to increase the life of the negative electrode unit type field emission device and the X-ray generating apparatus using the same for.

최근에 진단 및 치료 등의 의료 분야 및 비파괴 검사와 같은 산업 분야에서 X선 발생의 성능을 향상시키기 위하여 전자빔 방출을 위한 전자 방출원의 개발이 큰 이슈이다. Recently, the development of electron emission sources for electron beam emission is a major issue to improve the performance of X-ray generation in the medical field, such as diagnosis and treatment, and industrial fields such as non-destructive testing.

일반적으로 종래의 필라멘트 기반 및 탄소나노튜브 기반의 전자 방출원은 복잡하고 비효율적인 구조를 가지거나 음극부의 수명이 짧아 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 많은 연구가 진행되고 있다.In general, the filament-based and carbon nanotube-based electron emission source has a complex and inefficient structure or a short life of the cathode portion has been a lot of research to solve this problem.

예를 들어, 종래의 텅스텐 필라멘트 타입의 열전자 방출원은 원하는 양만큼의 전자 방출을 위하여 음극부의 필라멘트 양단에 전류를 인가하여 필라멘트를 고온으로 만들어줘야 할 뿐만 아니라 양극 쪽으로 가속하는 과정에서 양극이나 음극 쪽에 고전압의 인가가 필요하고, 종래의 탄소나노튜브 기반의 전자 방출원에 있어서도, X선 발생을 위하여 전자를 방출시켜 양극 쪽으로 가속하는 과정에서 양극이나 음극 쪽에 고전압의 인가가 필요하며, 이때 고전압의 사용 환경으로 인해 전기적 아킹(arcing), 음극 역충격(back bombardment) 등의 영향으로 음극부의 수명이 단축되는 문제점이 있으며, 이는 X선 소자나 음극부 교체 비용을 상승시키는 요인이 되고 있다.  For example, the conventional tungsten filament type hot electron emission source has to apply a current to both ends of the filament of the cathode to emit a desired amount of electrons to make the filament hot, and to accelerate the anode toward the anode or cathode side. A high voltage is required, and even in a conventional carbon nanotube-based electron emission source, a high voltage needs to be applied to the anode or the cathode in the process of emitting electrons to accelerate X-rays and accelerating toward the anode. Due to the environment, there is a problem in that the life of the cathode portion is shortened due to the effects of electrical arcing, cathode back bombardment, etc., which increases the cost of replacing the X-ray device or the cathode portion.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은, 전자 방출을 위한 전계 방출 소자를 구성하는 음극부의 짧은 수명으로 인하여 의료 분야 및 비파괴 검사와 같은 산업 분야에서 사업화가 어려워지는 문제점을 극복하기 위하여, 나노에미터 어레이를 이용하여 음극부의 재장착 없이도 오랫동안 전자 방출원으로서 이용할 수 있는 회전형 전계 방출 소자 및 이를 이용한 X 선 발생 장치를 제공하는 데 있다. Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is that it is difficult to commercialize in industrial fields such as medical field and non-destructive inspection due to the short lifetime of the cathode part constituting the field emission device for electron emission. In order to overcome the problem, it is to provide a rotating field emission device that can be used as an electron emission source for a long time without remounting the cathode portion using a nano-emitter array and an X-ray generator using the same.

또한, 본 발명의 다른 목적은, 나노에미터 어레이를 원형 기판에 동심원으로 배열되도록 형성하고, 게이트 전극의 전자 유도 부분에 근접된 나노에미터 군을 냉음극으로 이용하여 전자빔을 방출하고, 해당 나노에미터 군의 수명이 다하여 더 이상 제기능을 발휘하지 못하는 경우에 원형 기판을 회전하여 인접한 나노에미터 군으로 음극부를 교체함으로써 복수회 음극부 교체 효과를 얻을 수 있는 회전형 전계 방출 소자 및 이를 이용한 X 선 발생 장치를 제공하는 데 있다.In addition, another object of the present invention is to form a nanometer array to be arranged concentrically on a circular substrate, to emit an electron beam using a group of nanometers in close proximity to the electron induction portion of the gate electrode as a cold cathode, the nano Rotating field emission device capable of obtaining a plurality of cathode replacement effects by rotating a circular substrate and replacing a cathode part with an adjacent nano-emitter group when the emitter group is no longer functioning due to the end of its life. An X-ray generator is provided.

그리고, 본 발명의 또 다른 목적은, 나노에미터 어레이를 원형 기판에 동심원으로 배열되도록 형성하고, 소자의 동작에 필요한 시간 동안 나노에미터 음극부를 회전시킴으로써 게이트 전극의 전자 유도 부분에 근접된 나노에미터 군에서 전자빔을 방출시킴으로써 음극부 전체 수명을 증가시키는 효과를 얻을 수 있는 회전형 전계 방출 소자 및 이를 이용한 X 선 발생 장치를 제공하는 데 있다.In addition, another object of the present invention is to form a nano-emitter array arranged concentrically on a circular substrate, and to rotate the nano-emitter cathode for the time required for the operation of the device to rotate the nano-emitter in proximity to the electron inducing portion of the gate electrode It is to provide a rotating field emission device and an X-ray generator using the same that can obtain the effect of increasing the lifetime of the cathode part by emitting an electron beam in the meter group.

먼저, 본 발명의 특징을 요약하면, 상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일면에 따른 X 선 발생 장치는, 전자 방출을 위한 에미터 어레이를 형성한 기판; 및 상기 기판에 대향하여 장착되고, 다른 나머지 부분 보다 상기 에미터 어레이에 근접하게 일체로 형성되거나 체결 수단에 의하여 결합된 전자 유도부를 갖는 게이트 전극을 포함하는 전계 방출 소자와; 및 양극 타깃을 포함하고, 상기 기판과 상기 게이트 전극 간의 전압 차이에 기초하여 상기 전자 유도부에 대향한 상기 에미 터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 상기 전자 유도부를 관통하여 상기 양극 타깃 쪽으로 방출하여 X 선을 발생할 수 있다.First, to summarize the features of the present invention, an X-ray generator according to an aspect of the present invention for achieving the above object, a substrate formed with an emitter array for electron emission; And a gate electrode mounted opposite to the substrate, the gate electrode having an electron induction part integrally formed closer to the emitter array than the other part or coupled by a fastening means; And an anode target, and emits electrons generated in a part of the emitter group in the emitter array facing the electron induction part based on the voltage difference between the substrate and the gate electrode through the electron induction part toward the anode target. X-rays can be generated.

상기 에미터 군의 수명이 다한 경우에 상기 기판을 회전 이동시켜 상기 에미터 어레이 중에서 인접한 에미터 군을 이용하여 전자를 방출할 수 있다.When the lifetime of the emitter group ends, the substrate may be rotated to emit electrons using adjacent emitter groups among the emitter arrays.

이와 같은 인접한 나노에미터 군으로의 음극부 교체 효과는 X선 발생에 필요한 시간 동안(X선 발생 시간 + 음극부 기동 시간 + 음극부 정지 시간) 상기 기판을 일정 속도로 회전시키면서 상기 에미터 어레이 중에서 연속적으로 선택되는 상기 전자 유도부에 대향된 에미터 군을 통해 전자를 발생시켜 나감으로써, 각각의 에미터 군이 전체 동작 시간 중 일부 시간에만 동작하는 효과를 통해서도 이루어질 수 있다. This negative electrode replacement effect into adjacent groups of nano-emitters is characterized in that the emitter array is rotated at a constant speed during the time required for X-ray generation (X-ray generation time + cathode start time + cathode stop time). By generating electrons through the emitter group opposite to the electromagnetic induction unit continuously selected, it can also be achieved through the effect that each emitter group operates only for a part of the total operating time.

상기 X 선 발생 장치는, 상기 기판을 소정 축 상에 장착하여 상기 기판을 회전시키기 위한 회전 기구(미도시)를 더 포함한다. 상기 회전 기구를 이용하여 상기 기판을 회전하여 상기 에미터 어레이 중에서 상기 전자 유도부에 대향한 에미터 군을 선택할 수 있다.The X-ray generator further includes a rotating mechanism (not shown) for mounting the substrate on a predetermined axis to rotate the substrate. The substrate may be rotated using the rotation mechanism to select a group of emitters facing the electromagnetic induction part from the emitter array.

상기 기판은 상기 기판의 중심을 관통하는 체결 수단을 통하여 상기 축에 장착되거나 상기 축에 장착된 테이블 위에 장착된 상기 기판을 회전시키기 위하여, 상기 축을 회전시키거나, 상기 축을 고정한 상태로 상기 축에 중심부가 장착된 상기 기판 또는 테이블을 회전시킬 수 있다. The substrate is rotated on the shaft or mounted on the table mounted on the shaft through a fastening means penetrating through the center of the substrate to rotate the shaft or to fix the shaft to the central portion of the shaft. The substrate or the table may be rotated.

여기서, 상기 축이나 중심부를 외부 모터의 회전축에 직결시켜 회전시킬 수 있고, 또는 그 주변에 DC 혹은AC 자기장을 발생시키는 수단을 추가하여, 회전되는 상기 축이나 중심부가 모터의 회전자(rotor)로서 역할 하도록 하고, 위의 자기장 발생 수단이 모터의 고정자(stator) 역할을 하게 할 수 있다. Here, the shaft or the center portion can be rotated in direct connection with the rotary shaft of the external motor, or by adding a means for generating a DC or AC magnetic field around the shaft or the center portion is rotated as a rotor of the motor. The magnetic field generating means may serve as a stator of the motor.

상기 X 선 발생 장치는, 상기 기판과 상기 전자 유도부 사이에 상기 기판과 동일 전압이 인가되는 누설 전류 차단용 전극을 포함하고, 상기 누설 전류 차단용 전극의 개구부 이내에서 상기 발생된 전자를 방출시켜 상기 전자 유도부의 가장자리 부분으로의 전류 흐름을 방지할 수 있다. The X-ray generator includes a leakage current blocking electrode to which the same voltage as the substrate is applied between the substrate and the electromagnetic induction part, and emits the generated electrons within an opening of the leakage current blocking electrode. It is possible to prevent current flow to the edge portion of the electromagnetic induction part.

상기 기판은 원형 기판이고, 상기 에미터 어레이가 동심원 내의 두 직경 내의 범위에 트랙 형태 또는 일정 직경의 원판 형태로 형성된다. The substrate is a circular substrate, and the emitter array is formed in the form of a track or a disk of constant diameter in a range within two diameters in a concentric circle.

상기 X 선 발생 장치는, 상기 기판 상에서 트랙 형태의 상기 에미터 어레이와 동심원을 이루는 트랙 형태의 제2 에미터 어레이를 포함하고, 상기 제2 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 관통하여 방출시키기 위한 제2 전자 유도부를 갖는 제2 게이트 전극을 더 포함하며, 상기 제1 게이트 전극 또는 상기 제2 게이트 전극에 전압 인가에 따라 상기 양극 타깃의 서로 다른 면에서 X 선을 발생할 수 있다.The X-ray generator includes a track-shaped second emitter array concentric with the track-shaped emitter array on the substrate, and penetrates electrons generated by some emitter groups in the second emitter array. And a second gate electrode having a second electron induction part for emitting the same, and may generate X-rays on different surfaces of the anode target according to application of voltage to the first gate electrode or the second gate electrode.

상기 X 선 발생 장치는, 상기 게이트 전극과 다른 위치에 상기 에미터 어레이 중의 다른 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 관통하여 방출시키기 위한 제2 전자 유도부를 갖는 제2 게이트 전극을 더 포함하며, 상기 제1 게이트 전극 또는 상기 제2 게이트 전극에 전압 인가에 따라 상기 양극 타깃의 서로 다른 면에서 X 선을 발생할 수 있다. The X-ray generator further includes a second gate electrode having a second electron induction part for discharging electrons generated by another part of the emitter group in the emitter array at a position different from the gate electrode. As the voltage is applied to the first gate electrode or the second gate electrode, X-rays may be generated on different surfaces of the anode target.

상기 X 선 발생 장치는, 상기 기판 상에서 트랙 형태의 상기 에미터 어레이 와 동심원을 이루는 트랙 형태의 제2 에미터 어레이를 포함하고, 상기 게이트 전극에 결합된 기구물을 이용해 소정 슬라이딩 가이드를 따라 상기 전자 유도부를 수평으로 이동시키고, 상기 제2 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 이동된 상기 전자 유도부를 관통하여 방출시켜서 상기 양극 타깃으로부터 X 선을 발생할 수 있다. The X-ray generator includes a track-type second emitter array concentric with the track-type emitter array on the substrate, and the electromagnetic induction part along a predetermined sliding guide using a mechanism coupled to the gate electrode. X-rays may be generated from the anode target by horizontally moving and emitting electrons generated in some emitter groups in the second emitter array through the moved electron induction part.

상기 에미터 어레이는 CNT, 그라핀(graphene), 나노파이버(nano-fiber), 나노로드(nano-rod), 나노니들(nano-needle), 또는 나노핀(nano-pin)에 기초한 나노에미터로 이루어질 수 있다. The emitter array is based on CNTs, graphene, nanofibers, nanorods, nanoneedles, or nanopins. It may be made of.

또한, 본 발명의 다른 일면에 따른 회전형 전계 방출 소자는, 전자 방출을 위한 에미터 어레이를 형성한 기판; 및 상기 기판에 대향하여 장착되고, 다른 나머지 부분 보다 상기 에미터 어레이에 근접하게 일체로 형성되거나 체결 수단에 의하여 결합된 전자 유도부를 갖는 게이트 전극을 포함하고, 상기 기판과 상기 게이트 전극 간의 전압 차이에 기초하여 상기 전자 유도부에 대향한 상기 에미터 어레이 중에서 선택되는 에미터 군에서 전자를 발생시켜 상기 전자 유도부를 관통하여 양극 타깃 쪽으로 방출할 수 있다. In addition, according to another aspect of the present invention, a rotatable field emission device includes: a substrate on which an emitter array for electron emission is formed; And a gate electrode mounted opposite to the substrate, the gate electrode having an electron induction portion integrally formed closer to the emitter array than the other portion or coupled by a fastening means, wherein the voltage difference between the substrate and the gate electrode is reduced. The electrons may be generated from an emitter group selected from the emitter arrays facing the electron induction unit, and may be emitted through the electron induction unit toward the anode target.

그리고, 본 발명의 또 다른 일면에 따른 X 선 발생 방법은, 에미터 어레이를 형성한 기판과 게이트 전극 사이에 전압을 인가하여, 상기 게이트 전극의 다른 나머지 부분 보다 상기 에미터 어레이에 근접하게 일체로 형성되거나 체결 수단에 의하여 상기 게이트 전극에 결합된 전자 유도부에 대향한 상기 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 그리드 형태의 상기 전자 유도부를 관통하여 양극 타깃 쪽으로 방출시켜 X 선을 발생할 수 있다. In addition, the X-ray generation method according to another aspect of the present invention, by applying a voltage between the substrate and the gate electrode on which the emitter array is formed, integrally closer to the emitter array than the rest of the gate electrode X-rays may be generated by emitting electrons from a part of the emitter group in the emitter array formed or opposed to the electron induction part coupled to the gate electrode by the fastening means to penetrate the electron induction part in a grid toward the anode target. have.

상기 에미터 군의 수명이 다한 경우에 상기 기판을 회전 이동시켜 상기 에미터 어레이 중에서 인접한 에미터 군을 이용하여 전자를 방출할 수 있다. When the lifetime of the emitter group ends, the substrate may be rotated to emit electrons using adjacent emitter groups among the emitter arrays.

상기 기판을 일정 속도로 회전시키면서 상기 에미터 어레이 중에서 연속적으로 선택되는 상기 전자 유도부에 대향된 에미터 군을 통해 전자를 발생시켜 나갈 수도 있다.While rotating the substrate at a constant speed, electrons may be generated through an emitter group opposite to the electron induction unit continuously selected from the emitter array.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자 및 이를 이용하는 X 선 발생 장치에 따르면, 나노에미터 어레이를 원형 기판에 동심원으로 배열되도록 형성하여, 일부 사용되었던 나노에미터 군의 수명이 다하여 더 이상 제기능을 발휘하지 못하는 경우에 원형 기판을 회전하여 인접한 나노에미터 군으로 음극부를 교체함으로써 복수회 음극부 교체 효과를 얻음으로써, 음극부의 재장착 없이도 오랫동안 수명을 연장하여 전자 방출원으로서 이용할 수 있다.As described above, according to the rotatable field emission device and the X-ray generator using the same, the nano-emitter array is formed to be arranged concentrically on a circular substrate, and thus the life of the nano-emitter group, which has been partially used, When no longer functioning, the circular substrate is rotated to replace the cathode part with an adjacent nano-emitter group, thereby obtaining the effect of replacing the cathode part a plurality of times, thereby extending the service life for a long time without remounting the cathode part to be used as an electron emission source. Can be.

또한, 나노에미터 어레이를 원형 기판에 동심원으로 배열되도록 형성하고, 소자의 동작에 필요한 시간 동안 나노에미터 음극부를 회전시켜 게이트 전극의 전자 유도 부분에 근접된 나노에미터 군에서 전자빔이 방출되도록 하여 X선 발생에 필요한 시간 동안(X선 발생 시간 + 음극부 기동 시간 + 음극부 정지 시간) 각각의 나노에미터 군이 전자방출에 기여하는 시간을 줄임으로써 음극부 전체 수명을 증가시키는 효과를 얻을 수 있다. In addition, the nano-emitter array is formed to be arranged concentrically on the circular substrate, and by rotating the nano-emitter cathode for the time required for the operation of the device to emit an electron beam from the group of nano- emitters close to the electron induction portion of the gate electrode During the time required for X-ray generation (X-ray generation time + cathode start time + cathode stop time), the effect of increasing the lifetime of the cathode part can be obtained by reducing the time that each nanometer group contributes to electron emission. have.

이에 따라 의료 분야 및 비파괴 검사와 같은 산업 분야에서 본 발명의 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X 선 발생 장치를 이용하여 사업화가 용이하게 이루어지도록 일조할 수 있다.Accordingly, in the industrial field such as the medical field and the non-destructive inspection, it is possible to facilitate the commercialization by using the X-ray generator to which the rotary field emission device of the present invention is applied.

        본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다. In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 회전형 전계 방출 소자(100)의 기본 개념을 설명하기 위한 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 회전형 전계 방출 소자(100)는 전자 방출을 위한 나노에미터 어레이(NE)를 형성한 기판(110) 및 전자 유도부(121)를 갖는 게이트 전극(120)을 포함한다. 1 is a view for explaining the basic concept of the rotatable field emission device 100 according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a rotatable field emission device 100 according to an embodiment of the present invention includes a gate having a substrate 110 and an electron induction part 121 on which a nano-emitter array NE is formed for electron emission. Electrode 120.

도 2는 다른 구조의 회전 기구를 사용하는 회전형 전계 방출 소자(200)의 구조를 설명하기 위한 도면이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전형 전계 방출 소자(200)는 도 1의 기판(110)과 유사하게 전자 방출을 위한 나노에미터 어레이(NE)를 형성한 기판(210) 및 도 1의 게이트 전극(120)과 유사하게 전자 유도부(221)를 갖는 게이트 전극(220)을 포함한다. 2 is a view for explaining the structure of the rotatable field emission device 200 using the rotating mechanism of another structure. Referring to FIG. 2, the rotatable field emission device 200 according to another embodiment of the present invention has a substrate 210 in which a nano emitter array NE for electron emission is formed similarly to the substrate 110 of FIG. 1. And the gate electrode 220 having the electron induction part 221 similarly to the gate electrode 120 of FIG. 1.

도 1의 구조와 도 2의 구조는 나노에미터 어레이(NE)를 형성한 기판(110/210)을 소정 축(112/212) 상에 장착하고 기판(110/210)을 회전시키기 위한 회전 기구의 구조만을 달리한 구조이다. The structure of FIG. 1 and the structure of FIG. 2 are rotating mechanisms for mounting the substrate 110/210 on which the nano-emitter array NE is formed on a predetermined axis 112/212 and rotating the substrate 110/210. Only the structure of the structure is different.

도 1의 구조는, 기판(110)의 중심을 관통하는 체결 수단(111)을 통하여 기판(110)이 회전축(112)의 중심에 장착되는 구조로서, 회전축(112)을 회전시켜 기판(110)이 동시에 회전 이동할 수 있는 구조이다. 이때, 회전축(112)의 부드러운 움직임을 위하여 회전축(112)의 주변에 베어링을 설치하여 회전축(112)을 회전시키는 것이 바람직하며, 도면에 도시되지는 않았지만, 회전축(112)은 나사 형태의 소정 조정 기구를 수동 조작하여 회전시키거나 소정 전기기기의 회전력을 이용하여 전기적으로 회전시킬 수도 있다. 또한, 도면에 도시되지는 않았지만, 회전축(112)과 일체로된 소정 테이블 위에 기판(110)이 장착되도록 할 수도 있으며, 이때에는 회전축(112)과 일체로된 해당 테이블과 기판(110)이 동시에 회전할 수도 있다. The structure of FIG. 1 is a structure in which the substrate 110 is mounted at the center of the rotation shaft 112 through the fastening means 111 penetrating the center of the substrate 110. The substrate 110 is rotated by rotating the rotation shaft 112. This is a structure that can be rotated at the same time. At this time, in order to smoothly move the rotating shaft 112, it is preferable to rotate the rotating shaft 112 by installing a bearing around the rotating shaft 112. Although not shown in the drawing, the rotating shaft 112 has a predetermined adjustment in the form of a screw. The mechanism may be rotated manually, or may be electrically rotated using a rotational force of a predetermined electric device. In addition, although not shown in the drawings, the substrate 110 may be mounted on a predetermined table integrated with the rotating shaft 112, and at this time, the table 110 and the substrate 110 integrated with the rotating shaft 112 may be simultaneously mounted. It can also rotate.

도 2의 구조는, 기판(210)의 중심부를 관통하는 체결 수단(211)을 통하여 기판(210)이 축(212)의 중심에 장착되는 구조로서, 축(212)이 고정된 상태로 기판(210)의 중심부를 회전시켜 기판(210)만이 회전할 수 있는 구조를 나타낸다. 또한, 도면에 도시되지는 않았지만, 축(212)에 중심부가 장착되어 회전하는 소정 테이블 위에 기판(210)이 장착되도록 할 수도 있으며, 이때에는 축(212)이 고정된 상태로 상기 회전 테이블이 회전하여 기판(210)을 회전시킬 수도 있다. 이때, 기판(210)이나 테이블 아래에 베어링을 설치하여 축(212)에 장착된 기판(210)이나 테이블이 부드럽게 움직이도록 하는 것이 바람직하며, 도면에 도시되지는 않았지만, 축(212)에 장착된 기판(210)이나 테이블은 나사 형태의 소정 조정 기구를 수동 조작하여 회전시키거나 전기기기의 회전력을 이용하여 전기적으로 회전시킬 수도 있다.2 is a structure in which the substrate 210 is mounted at the center of the shaft 212 through the fastening means 211 penetrating the central portion of the substrate 210. The substrate 2 is fixed with the shaft 212 fixed thereto. The central portion of the 210 is rotated so that only the substrate 210 can rotate. In addition, although not shown in the drawings, the center 210 is mounted on the shaft 212 and the substrate 210 may be mounted on a predetermined table that rotates. In this case, the rotating table is rotated with the shaft 212 fixed. The substrate 210 can also be rotated. In this case, it is preferable to install a bearing under the substrate 210 or the table so that the substrate 210 or the table mounted on the shaft 212 moves smoothly, and although not shown in the drawing, the bearing is mounted on the shaft 212. The substrate 210 or the table may be rotated by manually operating a predetermined adjustment mechanism in the form of a screw, or may be electrically rotated using a rotational force of an electric device.

여기서, 회전축(112)이나 축(212)에 장착되는 기판(210)이나 해당 테이블의 중심부 회전 부분을 회전시키기 위하여, 도면에 도시되지는 않았지만, 회전시킬 부분을 외부의 모터의 회전축에 직결하여 회전시킬 수도 있고, 또는 전기 모터의 회전 원리를 이용하여 회전시킬 부분의 주변에 DC(Direct Current) 혹은AC(Alternating Current) 자기장을 인가하여 회전시킬 수도 있다. 예를 들어, 회전축(112)의 주변에 DC 혹은AC 자기장을 발생시키는 수단을 추가하여, 회전축(112)이 모터의 회전자(rotor)로서 역할 하도록 하고, 위의 자기장 발생 수단은 모터의 고정자(stator) 역할을 하게 할 수 있다. Here, in order to rotate the central portion of the substrate 210 mounted on the rotary shaft 112 or the shaft 212 or the corresponding table, although not shown in the drawing, the portion to be rotated is directly connected to the rotary shaft of the external motor. Alternatively, or by rotating the electric motor by applying a direct current (DC) or alternating current (AC) magnetic field around the portion to be rotated using the principle of rotation of the electric motor. For example, by adding a means for generating a DC or AC magnetic field around the rotating shaft 112, the rotating shaft 112 serves as a rotor of the motor, the above magnetic field generating means is a stator of the motor ( stator) role.

한편, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따라 나노에미터 어레이(NE)를 형성한 원형 기판에 대한 평면도이다. 도 3과 같이 전도성의 원형 기판(110/210) 위에 나노에미터 어레이(NE)를 동심원 내의 두 직경 내의 범위에 트랙(track) 형태로 형성하여 사용할 수 있다. 여기서, 나노에미터 어레이(NE)가 두 직경 내의 범위에 트랙 형태로 형성된 것을 예시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니고 일정 직경의 원판 형태로도 형성되는 구조가 될 수도 있다. 3 is a plan view of a circular substrate on which a nano emitter array NE is formed according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the nano-emitter array NE may be formed on a conductive circular substrate 110/210 in a track shape within a range of two diameters within a concentric circle. Here, although the nano-emitter array (NE) is illustrated in the form of a track in the range within the two diameters, it is not limited to this may also be a structure formed in the form of a disc of a certain diameter.

그리드 형태(격자 구조)로 된 전자 유도부(121/221)는 도 1또는 도 2와 같이 게이트 전극(120/220)의 다른 나머지 부분 보다 나노에미터 어레이(NE)에 근접하게 일체로 형성될 수도 있고, 또는 소정 체결 수단에 의하여 홀(hole)이 형성된 게이트 전극(120/220)의 해당 부분에 결합되는 형태가 될 수도 있다. The electromagnetic induction part 121/221 having a grid shape (lattice structure) may be integrally formed closer to the nano emitter array NE than the rest of the gate electrode 120/220 as shown in FIG. 1 or 2. Or may be coupled to a corresponding portion of the gate electrode 120/220 in which a hole is formed by a predetermined fastening means.

이와 같은 회전형 전계 방출 소자(100/200)의 구조에서, 각 회전 기구에 장착된 기판(110/210)을 해당 회전 이동 방식으로 기판(110/210)을 회전시킴으로써, 기판(110/210)에 형성한 나노에미터 어레이(NE) 중에서 전자 유도부(121/221)에 대향한 에미터 군이 선택될 수 있다.In the structure of the rotatable field emission device 100/200, the substrate 110/210 is rotated by rotating the substrate 110/210 on the substrate 110/210 mounted in each rotating mechanism in a corresponding rotational movement manner. The emitter group opposed to the electron induction parts 121/221 may be selected from the nanoemitter arrays NE formed at the.

전자 유도부(121/221)는 나노에미터 어레이(NE)에 근접하게 위치하므로, 기판(110/210)과 게이트 전극 사이에 수 볼트 내지 수 킬로 볼트 등의 소정 전압을 인가하는 경우에, 전자 유도부(121/221)에 대향한 에미터 군에서 전자를 발생시킬 수 있으며, 발생된 전자는 그리드 형태의 전자 유도부(121/221)의 홀들(hole)을 관통하여 방출될 수 있다.Since the electron induction parts 121 and 221 are located close to the nano emitter array NE, in the case of applying a predetermined voltage such as several volts to several kilo volts between the substrate 110/210 and the gate electrode, Electrons may be generated in the emitter group opposite to 121/221, and the generated electrons may be emitted through holes in the grid-shaped electron induction part 121/221.

이와 같이 에미터 군을 냉음극으로 이용하여 전계 방출 원리에 의하여 전자를 발생시키는 경우에, 보통 해당 에미터 군은 몇 시간 내지 수십 시간 후에 수명을 다하여 더 이상 전자를 발생시키지 못하게 된다. 해당 에미터 군에서 더 이상 목적하는 만큼 전자 발생이 이루어지지 않는 경우에, 위와 같은 회전 기구를 이용하여 기판(110/210)을 회전시킴으로써 기판(110/210)에 형성한 나노에미터 어레이(NE) 중에서 위에서 사용된 에미터 군에 인접한 에미터 군이 전자 유도부(121/221)에 대향되도록 위치시킬 수 있다. 이에 따라, 음극부로 이용되고 있는 기판(110/210)의 재조립이나 재장착 없이도 수회 반복하여 인접 에미터 군으로 계속하여 전자 발생을 유지할 수 있게 됨으로써, X선 튜브 교체나 음극부 교체 비용을 줄일 수 있게 된다. As described above, when electrons are generated by the field emission principle using the emitter group as the cold cathode, the emitter group usually does not generate electrons any more after several hours to several tens of hours. In the emitter group, when the electrons are no longer generated as desired, the nano-emitter array formed on the substrate 110/210 by rotating the substrate 110/210 using the above-described rotation mechanism (NE) The emitter group adjacent to the emitter group used above may be positioned to face the electromagnetic induction part 121/221. Accordingly, it is possible to continuously maintain the generation of electrons in the adjacent emitter groups without reassembly or reassembly of the substrate 110/210 used as the cathode part, thereby reducing the cost of replacing the X-ray tube or the cathode part. It becomes possible.

여기서, 전자 방출원으로서 이용되고 있는 나노에미터 어레이(NE)는 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube: CNT), 그라핀(graphene), 나노파이버(nano-fiber), 나노로드(nano-rod), 나노니들(nano-needle), 또는 나노핀(nano-pin)에 기초한 나노에 미터로 이루어질 수 있다.Here, the nano-emitter array (NE) used as the electron emission source is a carbon nanotube (CNT), graphene (graphene), nano-fiber (nano-fiber), nano-rod (nano-rod), Nano-needle, or nano-pin based nanometers can be made.

예를 들어, 스크린프린팅 방법(screen printing method)을 이용하여 전도성 금속 기판(110/210)의 전면에 스프레이건을 이용하여 탄소나노튜브 파우더를 2내지 3회 반복하여 뿌려 적정량의 탄소나노튜브가 기판 위에 도포되도록 할 수 있다. 또는, 탄소나노튜브를 CVD(chemical vapor deposition) 방법을 통하여 제작할 때에는, 위와 같은 금속 기판(110/210) 위에 TiN과 같은 버퍼층(buffer layer)을 도포하고, 그 위에Ni 혹은 Fe와 같은 촉매 물질(catalyst)를 도포한 후, 아르곤이나 헬륨과 같은 가스로 에칭 작업을 하여 시드 입자(seed particle)를 형성하고, 이 후 C2H2와 같은 탄소나노튜브 소스 가스를 주입하여 탄소나노튜브를 성장시킬 수 있다. For example, by spraying the carbon nanotube powder 2 to 3 times repeatedly using a spray gun on the front surface of the conductive metal substrate 110/210 by using a screen printing method, an appropriate amount of carbon nanotube is applied to the substrate. It can be applied on top. Alternatively, when fabricating carbon nanotubes through a chemical vapor deposition (CVD) method, a buffer layer such as TiN is coated on the metal substrate 110/210 as described above, and a catalytic material such as Ni or Fe is applied thereto. After the catalyst is applied, etching is performed with a gas such as argon or helium to form seed particles, and then a carbon nanotube source gas such as C 2 H 2 is injected to grow the carbon nanotubes. Can be.

이와 같은 탄소나노튜브는 탄소 6개로 이루어진 육각형 모양의 결정 격자가 서로 연결되어 관 모양을 이루고 있으며, 관의 지름이 수~수십 나노미터에 불과하여 탄소나노튜브라고 일컬어지게 되었다. 이러한 탄소나노튜브는 직경이 나노미터 크기이며 길이는 수십 나노에서 수십 마이크로미터까지 성장이 가능하므로 전자의 전계방출 능력을 결정하는 파라미터인 β값(field enhancement factor)이 1000이상으로 다른 물질들에 비해 크므로 기존의 텅스텐 필라멘트에서 열전자 방출로 전자를 추출하는 방법보다 훨씬 손쉽게 전자를 방출하는 구조를 가지며, 같은 양의 전자를 추출하는데 있어서 양자역학적인 전계 방출(field emission) 방식을 이용하여 열전자방출방식에 비하여 상대적으로 적은 전력이 소비된다. Carbon nanotubes such as hexagonal crystal lattice consisting of six carbons are connected to each other to form a tubular shape, and the diameter of the tube is only tens to tens of nanometers. Since these carbon nanotubes are nanometers in diameter and can grow from tens of nanometers to tens of micrometers in length, the field enhancement factor, which is a parameter that determines the field emission ability of electrons, is more than 1000, compared to other materials. Since it is large, it has a structure that emits electrons much more easily than the method of extracting electrons by conventional electron emission from tungsten filament, and by using quantum mechanical field emission method to extract the same amount of electrons Relatively less power is consumed.

한편, 기판(110/210)을 회전시켜서 나노에미터 어레이(NE) 중 이미 사용된 에미터 군에 인접한 에미터 군이 전자 유도부(121/221)에 대향되도록 선택해 나가면서 음극부를 교체해 나갈 때, 전자 유도부(121/221)에 대향되는 선택된 에미터 군은 도 4와 같이 사다리꼴로 가정된다. 여기서, 에미터 어레이 트랙의 평균 반경 Rt가 16mm 로서 매우 작은 경우로 가정하였다. 이때, 음극부 교체 시의 회전각 θ를 3.6도라 하면, Rtθ는 0.5mm이고, dR을 2mm라 하면, 전자 유도부(121/221)에 대향되는 에미터 군의 면적은 1mm2이다. 따라서, 360도 회전하기 까지 100번의 에미터 군 교체 효과가 있으며, 면적 1mm2인 에미터가 100시간 사용 가능할 때, 전체적인 음극의 수명시간은 10000시간으로 늘어나는 효과가 있다. 이와 같이 본 발명에서는 원형 기판(110/210)을 회전하여 인접한 나노에미터 군으로 음극부를 교체함으로써 복수회 음극부 교체 효과를 얻음으로써, 음극부의 재장착 없이도 오랫동안 수명을 연장하여 전자 방출원으로서 이용할 수 있게 된다. On the other hand, when rotating the substrate 110/210 to select the emitter group adjacent to the emitter group already used in the nano-emitter array (NE) to oppose the electromagnetic induction unit 121/221 to replace the cathode, The selected group of emitters opposed to the electromagnetic induction portions 121/221 is assumed to be trapezoidal as shown in FIG. Here, it is assumed that the average radius R t of the emitter array track is very small as 16 mm. At this time, if the rotation angle θ at the time of replacing the cathode part is 3.6 degrees, R t θ is 0.5 mm, and dR is 2 mm, the area of the emitter group opposite to the electromagnetic induction part 121/221 is 1 mm 2 . Therefore, there is an effect of replacing the emitter group of 100 times to rotate 360 degrees, when the emitter with an area of 1mm 2 is available for 100 hours, the life time of the overall cathode is increased to 10000 hours. Thus, in the present invention, by rotating the circular substrate (110/210) to replace the cathode portion with the adjacent nano-emitter group to obtain the effect of replacing the cathode portion multiple times, it can be used as an electron emission source by extending the life for a long time without remounting the cathode portion It becomes possible.

이와 같은 인접한 나노에미터 군으로의 음극부 교체 효과는, X 선 튜브에 적용 시에 X선 발생에 필요한 시간 동안(X선 발생 시간 + 음극부 기동 시간 + 음극부 정지 시간) 위와 같은 나노에미터 어레이(NE)가 형성된 기판(110/210)을 회전시키는 것에 의하여 달성될 수 있다. 예를 들어, 기판(110/210)을 회전시키는 동안, 기판(110/210)에 형성한 나노에미터 어레이(NE) 중에서 선택적으로 전자 유도부(121/221)에 근접된 나노에미터 군에서 전자빔이 방출될 수 있고, 이와 같은 연속적인 근접 나노에미터 군의 선택은 기판(110/210)을 회전시키는 동안에 지속적으 로 이루어질 수 있다. 이때 전자 유도부(121/221)에 근접하게 대향되는 나노에미터 군이 시간적으로 연속하여 바뀌게 되어, 각각의 나노에미터 군이 전자방출에 기여하는 시간이 줄어듦으로써, 결국 각각의 나노에미터가 전체 시간 중 일부 시간에만 동작하는 결과로 되어 음극부 전체의 수명을 증가시키는 효과를 얻게 된다. 이때, X선 발생에 필요한 시간 동안에 기판(110/210)이 적절한 회전 속도, 예를 들어, 분당 1회전, 2회전,...등 적용 환경에 따라 일정 속도를 유지하도록 하는 것이 바람직하다. The effect of cathodic replacement to adjacent groups of nanoemitters is such that nanometers can be applied to the X-ray tube for the time required for X-ray generation (X-ray generation time + cathode start time + cathode stop time). It can be achieved by rotating the substrate 110/210 on which the array NE is formed. For example, during the rotation of the substrate 110/210, an electron beam from a group of nano emitters selectively adjacent to the electron induction part 121/221 among the nano-emitter arrays NE formed on the substrate 110/210. Can be released, and such a continuous selection of proximity nanometer groups can be made continuously while rotating the substrate 110/210. At this time, the group of nanometers facing the electron induction part 121/221 is changed continuously in time, so that each nanometer group reduces the time that contributes to the electron emission, so that each nanometer is totally As a result, it operates only for a part of the time, thereby increasing the lifetime of the entire cathode portion. At this time, it is preferable that the substrate 110/210 maintains a constant speed depending on an appropriate rotational speed, for example, one rotation per minute, two rotations, ..., etc. during the time required for X-ray generation.

이하, 도 5 내지 도 15의 도면을 참조하여, 위와 같은 기본 구조의 회전형 전계 방출 소자를 장착하고, 회전형 전계 방출 소자에서 발생한 전자에 의하여 양극 타깃(target)을 통해 X선을 발생시킬 수 있는 본 발명에 따른 다양한 구조의 X선 발생 장치를 설명한다. 여기서, 회전형 전계 방출 소자와 양극 타깃은 절연 재료로 된 하우징(도 5의 131 참조) 내에 실장될 수 있으며, 하우징(housing)(131) 내부 공간은 소정의 진공배기봉착 공정에 의해 진공 상태로 만들어질 수 있거나 소정의 진공 펌프에 의하여 진공 상태가 유지될 수 있음을 밝혀 둔다. 또한, 이하에서 나노에미터 어레이(NE)를 형성한 기판(110/310/410/510)은 도 1 또는 도 2의 구조로 회전 가능하며, 기판(110/310/410/510) 자체의 교체를 위하여 도 1의 회전축(112) 또는 도 2의 축(212)은 소정 회전축 이동장치에 의하여 진공 상태에서 하우징(131) 외부로 이동될 수 있다. 도 1의 회전축(112) 또는 도 2의 축(212)을 이동시키는 방식은 스크류 방식, 랙(rack)과 피니언(pinion)을 이용한 방식, 또는 모터의 회전력을 이용하는 방식 등이 이용될 수 있다. Hereinafter, referring to the drawings of FIGS. 5 to 15, the rotary field emission device having the basic structure as described above may be mounted, and X-rays may be generated through the anode target by electrons generated from the rotational field emission device. An X-ray generator of various structures according to the present invention is described. Here, the rotatable field emission element and the anode target may be mounted in a housing made of an insulating material (see 131 in FIG. 5), and the space inside the housing 131 may be vacuumed by a predetermined vacuum exhaust sealing process. It is noted that the vacuum can be made or maintained by any vacuum pump. Further, hereinafter, the substrate 110/310/410/510 formed with the nano-emitter array NE is rotatable with the structure of FIG. 1 or 2, and the substrate 110/310/410/510 is replaced by itself. For this purpose, the rotating shaft 112 of FIG. 1 or the shaft 212 of FIG. 2 may be moved out of the housing 131 in a vacuum state by a predetermined rotating shaft moving device. As a method of moving the rotating shaft 112 of FIG. 1 or the shaft 212 of FIG. 2, a screw method, a method using a rack and pinion, or a method using a rotational force of a motor may be used.

도 5는 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치의 일례이다. 도 6은 도 5의 회전형 전계 방출 소자 부분의 평면도를 나타내는 도면이다.5 is an example of an X-ray generator to which the rotary field emission device according to the present invention is applied. FIG. 6 is a plan view of a portion of the rotatable field emission device of FIG. 5.

도 5 또는 도 6과 같이, 하우징(131) 내에 실장된 전계 방출 소자의 게이트(120)는 피드 쓰루우(feed through)를 통해 고전압을 공급받을 수 있으며, 이에 따라 나노에미터 어레이(NE)에서 방출된 전자는 양극 타깃(130)의 한 면에 충돌하여 X 선을 발생시켜서 하우징(131)의 한 벽면에 설치한 소정 윈도우를 통하여 X 선을 외부로 방출시킬 수 있다. As shown in FIG. 5 or 6, the gate 120 of the field emission device mounted in the housing 131 may receive a high voltage through a feed through, and thus, in the nano-emitter array NE The emitted electrons may collide with one surface of the anode target 130 to generate X-rays to emit X-rays to the outside through a predetermined window installed on one wall of the housing 131.

여기서는, 특히, 도 5 또는 도 6과 같이, 기판(120)과 전자 유도부(121) 사이에 누설 전류 차단용 전극(140)을 포함할 수 있다. 누설 전류 차단용 전극(140)에는 기판(120)과 같은 전압이 인가될 수 있으며, 도 7과 같이 전자 유도부(121)의 가장자리 부분으로의 전류 흐름을 방지하기 위하여 사각 또는 원형의 개구부 형태일 수 있다. 누설 전류 차단용 전극(140)의 개구부의 사이즈를 전자 유도부(121)의 전자 통로 부분 이하로 만드는 경우에, 도 8과 같이, 나노에미터 어레이(NE)로부터의 방출 전자는 전자 유도부(121)의 가장자리 전도체 부분으로 향하기 어렵게 된다. 그러나, 도 9와 같이 누설 전류 차단용 전극(140)을 사용하지 않는 경우에, 나노에미터 어레이(NE)로부터 방출되는 전자의 일부는 전자 유도부(121)의 가장자리 전도체 부분으로 향하게 되어, 이는 누설 전류의 원인이 되어, 전력 손실뿐만 아니라 X 선의 품질에도 좋지 않은 영향을 미치게 된다. 따라서, 전자 유도부(121)의 가장자리 전도체 부분으로의 누설 전류 흐름을 방지하기 위하여 누설 전류 차단용 전극(140)을 적용하는 것이 바람직하다. Here, in particular, as illustrated in FIG. 5 or 6, the leakage current blocking electrode 140 may be included between the substrate 120 and the electromagnetic induction part 121. A voltage equal to the substrate 120 may be applied to the leakage current blocking electrode 140, and may have a square or circular opening shape to prevent current flow to an edge portion of the electromagnetic induction part 121 as shown in FIG. 7. have. When the size of the opening of the leakage current blocking electrode 140 is made smaller than the portion of the electron passage of the electron induction part 121, as shown in FIG. 8, the emitted electrons from the nano-emitter array NE are the electron induction part 121. It becomes difficult to get to the edge of the conductor portion. However, when the leakage current blocking electrode 140 is not used as shown in FIG. 9, some of the electrons emitted from the nano-emitter array NE are directed to the edge conductor portion of the electron induction part 121, which causes leakage. As a cause of current, not only power loss but also adversely affect the X-ray quality. Therefore, in order to prevent leakage current flow to the edge conductor portion of the electromagnetic induction part 121, it is preferable to apply the leakage current blocking electrode 140.

도 10은 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치(300)의 다른 예이다. 도 11은 도 10의 회전형 전계 방출 소자 부분의 평면도를 나타내는 도면이다.10 is another example of the X-ray generator 300 to which the rotatable field emission device according to the present invention is applied. FIG. 11 is a plan view of a portion of the rotatable field emission device of FIG. 10.

도 10 또는 도 11을 참조하면, 본 발명에 따른 다른 X선 발생 장치(300)는, 기판(310) 상에 형성된 제1 나노에미터 어레이(NE)와 이에 대향하는 게이트 전극(320) 및 기판(310) 상에 형성된 제2 나노에미터 어레이(NE)와 이에 대향하는 게이트 전극(350)을 포함하며, 제1 나노에미터 어레이(NE)와 제2 나노에미터 어레이(NE)는 각각 트랙 형태로 형성되며 같은 동심원 형태로 형성될 수 있다. 여기서도, 기판(310)과 각각의 전자 유도부(321/351) 사이에 누설 전류 차단용 전극(340)을 포함할 수 있고, 누설 전류 차단용 전극(340)에는 기판(310)과 같은 전압이 인가될 수 있다. Referring to FIG. 10 or 11, another X-ray generator 300 according to the present invention includes a first nano emitter array NE formed on the substrate 310, a gate electrode 320 and a substrate opposite thereto. And a second nanometer array NE formed on 310 and a gate electrode 350 opposite thereto, wherein the first nanometer array NE and the second nanometer array NE are each tracked. It is formed in the form and may be formed in the same concentric form. Here, the leakage current blocking electrode 340 may be included between the substrate 310 and each of the electromagnetic induction parts 321/351, and the same voltage as that of the substrate 310 is applied to the leakage current blocking electrode 340. Can be.

제1 나노에미터 어레이(NE)에서 방출된 전자는 누설 전류 차단용 전극(340)의 해당 개구부를 관통하고 게이트 전극(320)의 전자 유도부(321)를 통과하여 양극 타깃(330)의 한 면에 충돌하여 X 선(A)을 발생시킬 수 있고, 제2 나노에미터 어레이(NE)에서 방출된 전자는 누설 전류 차단용 전극(340)의 해당 개구부를 관통하고 게이트 전극(350)의 전자 유도부(351)를 통과하여 양극 타깃(330)의 다른 면에 충돌하여 X 선(B)을 발생시킬 수 있다. 여기서, 게이트 전극(320) 또는 게이트 전극(350) 중 어느 쪽에 전압을 인가하는 지 여부에 따라 도 12와 같이 X 선 A 또는 B를 발생시킬 수 있으며, 경우에 따라서는 양쪽 모두에 전압을 인가하여 X 선 A 와 B를 동시에 발생시키는 것도 가능하다. 예를 들어, 게이트 전극(320)의 높은 전계 방출 전류에 따라 양극 타깃(330)의 각도가 큰 면에 많은 전자를 충돌 시킴으로써 발생된 X 선 A는 대면적 영상으로 활용가능 하며, 게이트 전극(350)의 낮은 전계 방출 전류에 따라 양극 타깃(350)의 각도가 작은 면에 전자를 충돌 시킴으로써 발생된 X 선 B는 소면적 영상으로 활용가능 하다. Electrons emitted from the first nano-emitter array NE pass through the corresponding openings of the leakage current blocking electrode 340 and pass through the electron induction part 321 of the gate electrode 320 to face one surface of the anode target 330. Electrons emitted from the second nano-emitter array NE penetrate the corresponding openings of the leakage current blocking electrode 340 and electron-inducing portions of the gate electrode 350. The X-ray B may be generated by colliding with the other surface of the anode target 330 by passing through 351. Here, X-ray A or B may be generated as shown in FIG. 12 according to whether the voltage is applied to the gate electrode 320 or the gate electrode 350. In some cases, the voltage may be applied to both of the gate electrode 320 or the gate electrode 350. It is also possible to generate X-rays A and B simultaneously. For example, X-ray A generated by colliding a large number of electrons on a surface having a large angle of the anode target 330 according to the high field emission current of the gate electrode 320 can be utilized as a large area image, and the gate electrode 350 X-ray B generated by colliding electrons to the surface of the anode target 350 is small according to the low field emission current of the) can be used as a small area image.

도 13은 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치(400)의 또 다른 예이다. 도 14는 도 13의 회전형 전계 방출 소자 부분의 평면도를 나타내는 도면이다.13 is another example of the X-ray generator 400 to which the rotatable field emission device according to the present invention is applied. FIG. 14 is a plan view of a portion of the rotatable field emission device of FIG. 13.

도 13 또는 도 14을 참조하면, 본 발명에 따른 또 다른 X선 발생 장치(400)는, 기판(410) 상에 형성된 트랙 형태의 나노에미터 어레이(NE)는 하나이고 양측(좌측, 우측)에 각각의 게이트 전극 420, 450을 포함한다. 여기서도, 기판(410)과 전자 유도부(321) 사이에 배치된 누설 전류 차단용 전극(440) 및 기판(410)과 전자 유도부(451) 사이에 배치된 누설 전류 차단용 전극(470)을 포함할 수 있고, 누설 전류 차단용 전극들(440/470)에는 기판(410)과 같은 전압이 인가될 수 있다. Referring to FIG. 13 or 14, another X-ray generator 400 according to the present invention includes one track-shaped nano-emitter array NE formed on the substrate 410 and both sides (left and right). Each gate electrode includes 420 and 450. Here, the leakage current blocking electrode 470 disposed between the substrate 410 and the electromagnetic induction part 321 and the leakage current blocking electrode 470 disposed between the substrate 410 and the electromagnetic induction part 451 may be included. The same voltage as that of the substrate 410 may be applied to the leakage current blocking electrodes 440 and 470.

나노에미터 어레이(NE) 중 좌측 일부 에미터 군에서 방출된 전자는 누설 전류 차단용 전극(440)의 해당 개구부를 관통하고 게이트 전극(420)의 전자 유도부(421)를 통과하여 양극 타깃(430)의 좌측 한 면에 충돌하여 X 선을 발생시킬 수 있고, 나노에미터 어레이(NE) 중 우측의 일부 에미터 군에서 방출된 전자는 누설 전류 차단용 전극(470)의 해당 개구부를 관통하고 게이트 전극(450)의 전자 유도부(451)를 통과하여 양극 타깃(430)의 우측 다른 면에 충돌하여 X 선을 발생시킬 수 있다. 여기서, 게이트 전극(420) 또는 게이트 전극(450) 중 어느 쪽에 전압을 인가하는 지 여부에 따라 양극 타깃(430)의 좌측 또는 우측 면에서 X 선을 발생시킬 수 있으며, 경우에 따라서는 양쪽 모두에 전압을 인가하여 양극 타깃(430)의 좌우측 모두에서 동시에 X 선을 발생시키는 것도 가능하다. Electrons emitted from the left part of the emitter group of the nano-emitter array NE pass through the corresponding opening of the leakage current blocking electrode 440 and pass through the electron induction part 421 of the gate electrode 420 to form the anode target 430. And X-rays may be generated by colliding with one side of the left side, and electrons emitted from some emitter groups on the right side of the nano-emitter array NE pass through the corresponding opening of the leakage current blocking electrode 470, and the gate X-rays may be generated by passing through the electromagnetic induction part 451 of the electrode 450 and colliding with the other right side of the anode target 430. Here, X-rays may be generated on the left or right side of the anode target 430 depending on whether the voltage is applied to the gate electrode 420 or the gate electrode 450, and in both cases, It is also possible to generate X-rays simultaneously on both the left and right sides of the anode target 430 by applying a voltage.

도 15는 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치(500)의 또 다른 예이다.15 is another example of the X-ray generator 500 to which the rotatable field emission device according to the present invention is applied.

도 15를 참조하면, 본 발명에 따른 또 다른 X선 발생 장치(500)는, 도 1과 유사한 게이트 전극(520) 및 누설 전류 차단용 전극(540)을 포함한다. 다만, 기판(510) 상에 나노에미터 어레이(NE)가 트랙 형태로 2개가 형성된 경우에, 게이트 전극(520)을 하나만 이용하여도, 기구물(560)을 조정하여 소정 슬라이딩 가이드(sliding guide)를 따라 전자 유도부(521)를 수평 이동할 수 있도록 함으로써 도 10 또는 도 13과 같이 서로 다른 위치에서 X 선을 발생시킬 수 있게 하였다. Referring to FIG. 15, another X-ray generator 500 according to the present invention includes a gate electrode 520 and a leakage current blocking electrode 540 similar to FIG. 1. However, in the case where two nano-emitter arrays NE are formed in a track shape on the substrate 510, even if only one gate electrode 520 is used, the apparatus 560 is adjusted to adjust a predetermined sliding guide. By allowing the electromagnetic induction part 521 to be moved horizontally, X-rays can be generated at different positions as shown in FIG. 10 or 13.

예를 들어, 나사 형태의 기구물(560)을 조정하면, 전자 유도부(521)가 슬라이딩 가이드를 따라 수평 이동하여 에미터 어레이(NE)의 바깥쪽 또는 안쪽 동심원 트랙의 위치 중 어느 위치에도 위치시킬 수 있다. 이에 따라, 동심원 바깥쪽의 제1 나노에미터 어레이(NE) 또는 동심원 안쪽의 제2 나노에미터 어레이(NE) 중 어느 위치에서라도 해당 에미터 군에서 방출된 전자는 누설 전류 차단용 전극(540)의 해당 개구부를 관통하고 게이트 전극(520)의 전자 유도부(521)를 통과하여 양극 타깃(530)의 한 면에 충돌하여 X 선을 발생시킬 수 있다. For example, adjusting the screw-shaped instrument 560 allows the electromagnetic guide 521 to move horizontally along the sliding guide to position either the outer or inner concentric tracks of the emitter array NE. have. Accordingly, at any position of the first nano emitter array NE outside the concentric circle or the second nano emitter array NE inside the concentric circle, the electrons emitted from the emitter group may leak the leakage current blocking electrode 540. X-rays may be generated by penetrating the corresponding opening of the gate electrode 520 and passing through the electron induction part 521 of the gate electrode 520 to collide with one surface of the anode target 530.

이상에서와 같이 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정 한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 예를 들어, 위에서 언급된 나노에미터에 대한 실시예들을 언급하였으나, 이에 한정되는 것은 아니고 Spindt 형 에미터 팁 형태로도 제작되어 이용될 수 있다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. As described above, optimal embodiments have been disclosed in the drawings and the specification. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention as defined in the claims or the claims. For example, although the embodiments of the above-mentioned nano-emitters have been mentioned, the present invention is not limited thereto, and may also be manufactured and used in the form of Spindt-type emitter tips. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 회전형 전계 방출 소자의 기본 개념을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining the basic concept of a rotatable field emission device according to an embodiment of the present invention.

도 2는 다른 구조의 회전 기구를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining a rotating mechanism of another structure.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따라 나노에미터를 형성한 원형 기판에 대한 평면도이다. 3 is a plan view of a circular substrate on which a nano emitter is formed according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 트랙형 에미터 어레이 구조를 설명하기 위한 도면이다.4 is a diagram illustrating a track type emitter array structure according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치의 일례이다.5 is an example of an X-ray generator to which the rotary field emission device according to the present invention is applied.

도 6은 도 5의 회전형 전계 방출 소자 부분의 평면도를 나타내는 도면이다.FIG. 6 is a plan view of a portion of the rotatable field emission device of FIG. 5.

도 7은 도 5의 누설 전류 차단용 전극의 평면도를 나타내는 도면이다.FIG. 7 is a plan view illustrating the leakage current blocking electrode of FIG. 5.

도 8은 도 5의 A 부분의 확대도이다.FIG. 8 is an enlarged view of a portion A of FIG. 5.

도 9는 누설 전류 차단용 전극이 없을 때의 누설 전류를 설명하기 위한 도면이다.9 is a view for explaining a leakage current when there is no leakage current blocking electrode.

도 10은 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치의 다른 예이다.10 is another example of the X-ray generator to which the rotary field emission device according to the present invention is applied.

도 11은 도 10의 회전형 전계 방출 소자 부분의 평면도를 나타내는 도면이다.FIG. 11 is a plan view of a portion of the rotatable field emission device of FIG. 10.

도 12는 도 10의 양극 타깃에서의 X 선 방출을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 12 is a diagram for explaining X-ray emission from the anode target of FIG. 10.

도 13은 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치의 또 다른 예이다.13 is another example of the X-ray generator to which the rotational field emission device according to the present invention is applied.

도 14는 도 13의 회전형 전계 방출 소자 부분의 평면도를 나타내는 도면이다.FIG. 14 is a plan view of a portion of the rotatable field emission device of FIG. 13.

도 15는 본 발명에 따른 회전형 전계 방출 소자를 적용한 X선 발생 장치의 또 다른 예이다.15 is another example of the X-ray generator to which the rotational field emission device according to the present invention is applied.

Claims (23)

전자 방출을 위한 에미터 어레이를 형성한 기판;A substrate forming an emitter array for electron emission; 상기 기판에 대향하여 장착되고, 다른 나머지 부분 보다 상기 에미터 어레이에 근접하게 일체로 형성되거나 체결 수단에 의하여 결합된 전자 유도부를 갖는 게이트 전극; 및 A gate electrode mounted opposite the substrate, the gate electrode having an electron induction part integrally formed closer to the emitter array than the other part or coupled by a fastening means; And 양극 타깃을 포함하고,Including the anode target, 상기 기판과 상기 게이트 전극 간의 전압 차이에 기초하여 상기 전자 유도부에 대향한 상기 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 상기 전자 유도부를 관통하여 상기 양극 타깃 쪽으로 방출하여 X 선을 발생하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.Based on the voltage difference between the substrate and the gate electrode, electrons generated in a group of emitters in the emitter array facing the electron induction part are emitted through the electron induction part toward the anode target to generate X-rays X-ray generator characterized in. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에미터 군의 수명이 다한 경우에 상기 기판을 회전 이동시켜 상기 에미터 어레이 중에서 인접한 에미터 군을 이용하여 전자를 방출하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.And when the lifetime of the emitter group ends, the substrate is rotated to emit electrons using adjacent emitter groups in the emitter array. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기판을 일정 속도로 회전시키면서 상기 에미터 어레이 중에서 연속적으로 선택되는 상기 전자 유도부에 대향된 에미터 군을 통해 전자를 발생시켜 나가는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.And generating electrons through an emitter group opposed to the electromagnetic induction unit continuously selected from the emitter arrays while rotating the substrate at a constant speed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판을 소정 축 상에 장착하여 상기 기판을 회전시키기 위한 회전 기구Rotation mechanism for mounting the substrate on a predetermined axis to rotate the substrate 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.X-ray generator, characterized in that it further comprises. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 회전 기구를 이용하여 상기 기판을 회전하여 상기 에미터 어레이 중에서 상기 전자 유도부에 대향한 에미터 군을 선택하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.And the emitter group opposing the electromagnetic induction part from the emitter array by rotating the substrate using the rotation mechanism. 제4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 기판은 상기 기판의 중심을 관통하는 체결 수단을 통하여 상기 축에 장착되거나 상기 축에 장착된 테이블 위에 장착된 상기 기판을 회전시키기 위하여, 상기 축을 회전시키거나, 상기 축을 고정한 상태로 상기 축에 중심부가 장착된 상기 기판 또는 테이블을 회전시키는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.The substrate is rotated on the shaft or mounted on the table mounted on the shaft through a fastening means penetrating through the center of the substrate to rotate the shaft or to fix the shaft to the central portion of the shaft. X-ray generator, characterized in that for rotating the substrate or the table. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 축이나 중심부를 외부 모터의 회전축에 직결시켜 회전시키거나,The shaft or the central portion is rotated in direct connection with the rotary shaft of the external motor, 상기 축이나 중심부의 주변에 DC 혹은AC 자기장을 발생시키는 고정자 수단을 추가하여, 상기 축이나 중심부가 회전자로서 회전되도록 하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.And a stator means for generating a DC or AC magnetic field around the shaft or central portion, such that the shaft or central portion is rotated as a rotor. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기판과 상기 전자 유도부 사이에 상기 기판과 동일 전압이 인가되는 누설 전류 차단용 전극을 포함하고, A leakage current blocking electrode applied with the same voltage as the substrate between the substrate and the electromagnetic induction part, 상기 누설 전류 차단용 전극의 개구부 이내에서 상기 발생된 전자를 방출시켜 상기 전자 유도부의 가장자리 부분으로의 전류 흐름을 방지하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.X-ray generator, characterized in that to prevent the current flow to the edge portion of the electromagnetic induction part by emitting the generated electrons within the opening of the leakage current blocking electrode. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기판은 원형 기판이고, 상기 에미터 어레이가 동심원 내의 두 직경 내의 범위에 트랙 형태로 형성되거나 일정 직경의 원판 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.And said substrate is a circular substrate, wherein said emitter array is formed in the form of a track in the range of two diameters within concentric circles or in the form of a disk of constant diameter. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기판 상에서 트랙 형태의 상기 에미터 어레이와 동심원을 이루는 트랙 형태의 제2 에미터 어레이를 포함하고,A second emitter array in track form concentric with the emitter array in track form on the substrate, 상기 제2 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 관통하여 방출시키기 위한 제2 전자 유도부를 갖는 제2 게이트 전극을 더 포함하며, And a second gate electrode having a second electron induction part for releasing through electrons generated in some emitter groups in the second emitter array, 상기 제1 게이트 전극 또는 상기 제2 게이트 전극에 전압 인가에 따라 상기 양극 타깃의 서로 다른 면에서 X 선을 발생하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.The X-ray generator of claim 1, wherein the X-rays are generated on different surfaces of the anode target according to the voltage applied to the first gate electrode or the second gate electrode. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 게이트 전극과 다른 위치에 상기 에미터 어레이 중의 다른 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 관통하여 방출시키기 위한 제2 전자 유도부를 갖는 제2 게이트 전극을 더 포함하며, And a second gate electrode having a second electron inducing part for releasing through electrons generated in another part of the emitter group in the emitter array at a position different from the gate electrode, 상기 제1 게이트 전극 또는 상기 제2 게이트 전극에 전압 인가에 따라 상기 양극 타깃의 서로 다른 면에서 X 선을 발생하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.The X-ray generator of claim 1, wherein the X-rays are generated on different surfaces of the anode target according to the voltage applied to the first gate electrode or the second gate electrode. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기판 상에서 트랙 형태의 상기 에미터 어레이와 동심원을 이루는 트랙 형태의 제2 에미터 어레이를 포함하고,A second emitter array in track form concentric with the emitter array in track form on the substrate, 상기 게이트 전극에 결합된 기구물을 이용해 소정 슬라이딩 가이드를 따라 상기 전자 유도부를 수평으로 이동시키고,By moving the electromagnetic induction unit horizontally along a sliding guide using a mechanism coupled to the gate electrode, 상기 제2 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 이동된 상기 전자 유도부를 관통하여 방출시켜서 상기 양극 타깃으로부터 X 선을 발생하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.And generating an X-ray from the anode target by emitting electrons generated in a part of the emitter group in the second emitter array through the moved electron induction part. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에미터 어레이는 CNT, 그라핀(graphene), 나노파이버(nano-fiber), 나노로드(nano-rod), 나노니들(nano-needle), 또는 나노핀(nano-pin)에 기초한 나노에미터로 이루어지는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 장치.The emitter array is based on CNTs, graphene, nanofibers, nanorods, nanoneedles, or nanopins. X-ray generator, characterized in that consisting of. 전자 방출을 위한 에미터 어레이를 형성한 기판; 및A substrate forming an emitter array for electron emission; And 상기 기판에 대향하여 장착되고, 다른 나머지 부분 보다 상기 에미터 어레이에 근접하게 일체로 형성되거나 체결 수단에 의하여 결합된 전자 유도부를 갖는 게이트 전극을 포함하고,A gate electrode mounted opposite the substrate, the gate electrode having an electron induction portion integrally formed or coupled by a fastening means closer to the emitter array than the other portions, 상기 기판과 상기 게이트 전극 간의 전압 차이에 기초하여 상기 전자 유도부에 대향한 상기 에미터 어레이 중에서 선택되는 에미터 군에서 전자를 발생시켜 상기 전자 유도부를 관통하여 양극 타깃 쪽으로 방출하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 소자.Field emission based on a voltage difference between the substrate and the gate electrode, generating electrons from an emitter group selected from the emitter array facing the electron induction part and emitting the electrons through the electron induction part toward an anode target device. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 기판을 소정 축 상에 장착하여 상기 기판을 회전시키기 위한 회전 기구Rotation mechanism for mounting the substrate on a predetermined axis to rotate the substrate 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 소자.The field emission device further comprises. 제14항에 있어서, The method of claim 14, 상기 기판과 상기 전자 유도부 사이에 상기 기판과 동일 전압이 인가되는 누설 전류 차단용 전극을 포함하고, A leakage current blocking electrode applied with the same voltage as the substrate between the substrate and the electromagnetic induction part, 상기 누설 전류 차단용 전극의 개구부 이내에서 상기 발생된 전자를 방출시켜 상기 전자 유도부의 가장자리 부분으로의 전류 흐름을 방지하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 소자.And emits the generated electrons within the opening of the leakage current blocking electrode to prevent current flow to the edge portion of the electromagnetic induction part. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 기판은 원형 기판이고, 상기 에미터 어레이가 동심원 내의 두 직경 내의 범위에 트랙 형태로 형성되거나 일정 직경의 원판 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 전계 방출 소자.And said substrate is a circular substrate, wherein said emitter array is formed in the form of a track in the range of two diameters within concentric circles or in the form of a disk of constant diameter. 제14항에 있어서, The method of claim 14, 상기 기판 상에서 트랙 형태의 상기 에미터 어레이와 동심원을 이루는 트랙 형태의 제2 에미터 어레이를 포함하고,A second emitter array in track form concentric with the emitter array in track form on the substrate, 상기 제2 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 관통하여 방출시키기 위한 제2 전자 유도부를 갖는 제2 게이트 전극을 더 포함하며, And a second gate electrode having a second electron induction part for releasing through electrons generated in some emitter groups in the second emitter array, 상기 제1 게이트 전극 또는 상기 제2 게이트 전극에 전압 인가에 따라 선택적으로 해당 트랙의 에미터 군에서 전자를 발생하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 소자.And generating electrons from a group of emitters of a corresponding track selectively in response to the application of a voltage to the first gate electrode or the second gate electrode. 제14항에 있어서, The method of claim 14, 상기 게이트 전극과 다른 위치에 상기 에미터 어레이 중의 다른 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 관통하여 방출시키기 위한 제2 전자 유도부를 갖는 제2 게이트 전극을 더 포함하며,And a second gate electrode having a second electron inducing part for releasing through electrons generated in another part of the emitter group in the emitter array at a position different from the gate electrode, 상기 제1 게이트 전극 또는 상기 제2 게이트 전극에 전압 인가에 따라 선택적으로 해당 에미터 군에서 전자를 발생하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 소자.And generating electrons from a group of emitters selectively according to the application of voltage to the first gate electrode or the second gate electrode. 제14항에 있어서, The method of claim 14, 상기 기판 상에서 트랙 형태의 상기 에미터 어레이와 동심원을 이루는 트랙 형태의 제2 에미터 어레이를 포함하고,A second emitter array in track form concentric with the emitter array in track form on the substrate, 상기 게이트 전극에 결합된 기구물을 이용해 소정 슬라이딩 가이드를 따라 상기 전자 유도부를 수평으로 이동시키고,By moving the electromagnetic induction unit horizontally along a sliding guide using a mechanism coupled to the gate electrode, 상기 제2 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 이동된 상기 전자 유도부를 관통하여 방출시키는 것을 특징으로 하는 전계 방출 소자.And emit electrons generated in a part of the emitter group in the second emitter array through the moved electron induction part. 에미터 어레이를 형성한 기판과 게이트 전극 사이에 전압을 인가하여,A voltage is applied between the substrate and the gate electrode on which the emitter array is formed, 상기 게이트 전극의 다른 나머지 부분 보다 상기 에미터 어레이에 근접하게 일체로 형성되거나 체결 수단에 의하여 상기 게이트 전극에 결합된 전자 유도부에 대향한 상기 에미터 어레이 중의 일부 에미터 군에서 발생하는 전자를 그리드 형태의 상기 전자 유도부를 관통하여 양극 타깃 쪽으로 방출시켜 X 선을 발생하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 방법.Electrons generated in some emitter groups in the emitter array formed integrally with the emitter array closer to the emitter array than the rest of the gate electrode or opposed to the electron inducing portion coupled to the gate electrode by a fastening means are grid-shaped. X-ray generation method characterized in that the X-rays are generated by passing through the electromagnetic induction portion of the positive electrode target. 제21항에 있어서, The method of claim 21, 상기 에미터 군의 수명이 다한 경우에 상기 기판을 회전 이동시켜 상기 에미터 어레이 중에서 인접한 에미터 군을 이용하여 전자를 방출하는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 방법.And discharging electrons using adjacent emitter groups in the emitter array by rotating the substrate when the emitter group reaches the end of its life. 제21항에 있어서, The method of claim 21, 상기 기판을 일정 속도로 회전시키면서 상기 에미터 어레이 중에서 연속적으로 선택되는 상기 전자 유도부에 대향된 에미터 군을 통해 전자를 발생시켜 나가는 것을 특징으로 하는 X 선 발생 방법.And generating electrons through a group of emitters opposed to the electromagnetic induction unit continuously selected from the emitter arrays while rotating the substrate at a constant speed.
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