KR20100118842A - Atomspheric pressure plasma apparatus and atomspheric pressure plasma contamination processing apparatus - Google Patents

Atomspheric pressure plasma apparatus and atomspheric pressure plasma contamination processing apparatus Download PDF

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Abstract

PURPOSE: An atmospheric pressure plasma apparatus and a contaminant processing apparatus using atmospheric pressure plasma are provided to protect environment by reducing the used amount of water and detergent. CONSTITUTION: A first electrode(14) includes a tapered part(14a) which is symmetric in a first direction. A second electrode(12) is arranged around the tapered part of the first electrode. The second electrode includes a plasma outlet(17) in the first direction. Power supply(18) is in connection with the first electrode. A gap between the tapered part and the second electrode are constant. The gap provides a discharging space(23).

Description

대기압 플라즈마 장치 및 대기압 플라즈마 오염물 처리 장치{ATOMSPHERIC PRESSURE PLASMA APPARATUS AND ATOMSPHERIC PRESSURE PLASMA CONTAMINATION PROCESSING APPARATUS}ATOMSPHERIC PRESSURE PLASMA APPARATUS AND ATOMSPHERIC PRESSURE PLASMA CONTAMINATION PROCESSING APPARATUS}

본 발명의 플라즈마 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로 대기압 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma apparatus, and more particularly to an atmospheric pressure plasma apparatus.

본 발명은 산업자원부의 산업기술개발사업의 일환으로 수행한 연구로부터 도출된 것이다[과제명: 반도체 진공공정 실시간 측정기술 개발].The present invention is derived from a study conducted as part of the industrial technology development project of the Ministry of Commerce, Industry and Energy [project name: development of real-time measurement technology of semiconductor vacuum process].

세탁이란 의류에 묻어 있는 오물이나 더러운 때를 충격, 마찰, 진동 등의 기계적인 힘과 세제의 화학작용에 의해 분리시켜 의류 본래의 아름다움과 위생적 기능을 회복시키는 동시에 의류의 원형을 회복하여 내구성을 향상시켜 주는 것이다. 물만으로 세탁을 할 경우, 수용성 오염물은 의류로부터 분리시킬 수 있다. 그러나,유용성 오염물은 물에 녹지 않기 때문에 세탁이 잘 이루어지지 않는다. 세제를 물에 첨가하여 세탁을 하게 되면, 세제는 물과 비슷한 (혹은 물을 좋아하는, hydrophilic) 성질과 기름과 비슷한 (혹은 물을 싫어하고, hydrophobic) 성질을 동시에 지닌 양친매성 (amphiphilic) 물질로서, 계면활성제 (surfactant) 역할을 한 다. 세제는 유용성 오염물질을 감싸 물에 녹임으로써 섬유로부터 유용성 오염물질을 제거할 수 있다. 이때, 세탁기의 기계적인 힘은 세제를 섬유 깊숙이 흡수시켜 오염물을 빨리 섬유로부터 떨어질 수 있도록 돕는 역할을 한다. 이러한 기본적인 세탁 기작은 모든 세탁기에 적용될 수 있다. 최근에 개발된 버블 세탁기의 경우, 버블은 세제 전달력이 뛰어나므로 섬유에 넓은 면적으로 빠르게 흡수되어 소멸되므로 세탁력 향상과 헹굼 성능을 향상시킬 수 있다. 따라서, 시간과 에너지 절약이 가능하다. 그리고 스팀 기능 및/또는 삶는 기능 등을 추가하여 살균 효과를 가진 세탁기들도 출시되고 있다. 이러한 고온을 가하여 살균하는 방식은 섬유 손상 및 높은 전력 소모의 문제점을 안고 있다. 뿐만 아니라, 합성 세제를 사용하는 세탁은 환경 오염을 유발할 수 있다. 합성 세제는 미생물에 의해서 잘 분해되지 않으며, 물속으로 통과하는 빛을 가로막아 수생식물의 광합성을 저해하고, 산소공급을 차단해 하천의 자정능력을 현저히 저하시킨다. 그리고 합성 세제에 들어있는 세척촉진제인 인산염은 식물성 플랑크톤의 영양소로 작용해 하천의 부영양화 현상을 초래하여 물고기뿐만 아니라 다른 수생식물마저도 죽게 되는 적조현상을 야기할 수 있다. 세탁은 세탁력 향상과 세탁과 헹굼 시 소비되는 물과 전력량 절약을 요구하고, 또한, 세탁은 환경 친화적일 것을 요구한다. Washing separates dirt and dirt from clothing by mechanical force such as shock, friction and vibration and chemical action of detergent, restoring the original beauty and hygienic function of clothing and at the same time recovering the original shape of clothing to improve durability. It is to let you. In case of washing only with water, water-soluble contaminants can be separated from clothes. However, since the oil-soluble contaminants are insoluble in water, the washing is difficult. When washing with detergent added to water, the detergent is an amphiphilic substance that has both water-like (or water-loving, hydrophilic) and oil-like (or water-dislike, hydrophobic) properties. It acts as a surfactant. Detergents can remove oil-soluble contaminants from fibers by wrapping them in water and dissolving in water. At this time, the mechanical force of the washing machine serves to absorb the detergent deep into the fiber so that the contaminants can be quickly removed from the fiber. This basic washing mechanism can be applied to all washing machines. In the case of the recently developed bubble washing machine, since the bubble has excellent detergent delivery power, the bubble is quickly absorbed and dissipated in a large area of the fiber and thus disappears, thereby improving washing power and rinsing performance. Thus, time and energy savings are possible. In addition, washing machines that have a sterilizing effect by adding steam function and / or boil function are also on the market. The sterilization method by applying high temperature has problems of fiber damage and high power consumption. In addition, laundry using synthetic detergents can cause environmental pollution. Synthetic detergents are not easily degraded by microorganisms, blocking the light passing through the water, inhibiting photosynthesis of aquatic plants, blocking oxygen supply, and significantly lowering the river's self-cleaning ability. In addition, phosphate, a cleaning promoter in synthetic detergents, acts as a nutrient for phytoplankton, causing eutrophication of streams, causing red tide that kills not only fish but also other aquatic plants. Washing requires improvement in washing power and saving of water and power consumed during washing and rinsing, and washing is also required to be environmentally friendly.

세탁기뿐만 아니라 청소기에도 사용되고 있는 스팀 기능은, 물을 전기 에너지를 이용하여 가열, 기화시켜 열전달을 통해 살균 기능을 한다. 이때 열의 효과적인 전달이 이루어지지 않으므로 살균 효과의 한계가 존재한다. 그리고 전기소모량이 높아 효율적이지 못하다. The steam function, which is used in not only a washing machine but also a cleaner, heats and vaporizes water using electric energy and sterilizes it through heat transfer. At this time, there is a limit of bactericidal effect because no effective heat transfer. In addition, the electricity consumption is not efficient.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 대기압 플라즈마 장치를 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable atmospheric pressure plasma apparatus by adjusting the distance between the electrodes.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 대기압 플라즈마 오염물 처리 장치를 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable atmospheric pressure plasma contaminant treatment apparatus by adjusting the distance between the electrodes.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 제1 방향으로 대칭적인 테이퍼 형상을 가지는 테이퍼부를 포함하는 제1 전극, 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부의 둘레에 배치되고 상기 제1 방향으로 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극, 및 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원을 포함하되, 상기 테이퍼부와 상기 제2 전극 사이의 간격은 균일하게 유지되고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다.An atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a first electrode including a tapered portion having a tapered shape symmetrically in a first direction, disposed around the tapered portion of the first electrode, and providing a plasma outlet in the first direction. And a second electrode, and a power source electrically connected to the first electrode, wherein a distance between the tapered portion and the second electrode is maintained uniformly, and the gap may provide a discharge space.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 간격을 조절하는 간격 조절부를 더 포함하되, 상기 간격의 조절은 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a gap adjusting unit for adjusting the gap, the adjustment of the gap can provide a stable plasma.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 플라즈마 및 상기 플라즈마에 의하여 생성된 부산물은 상기 플라즈마 출구를 통하여 피처리체에 제공되어 상기 피처리체를 친수성화시킬 수 있다.In one embodiment of the present invention, the plasma and by-products generated by the plasma may be provided to the object through the plasma outlet to hydrophilize the object.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 전극의 표면에 배치되는 제1 전극 절연막을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it may further include a first electrode insulating film disposed on the surface of the first electrode.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it may further include a fluid supply for supplying a fluid to the discharge space.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 전극과 상기 제1 방향으로 이격되어 배치된 제3 전극을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it may further include a third electrode spaced apart from the second electrode in the first direction.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 전극에 결합하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 지지하는 몸체부를 더 포함하되, 상기 제2 전극과 상기 몸체부는 축전기를 형성하여 변위전류를 제공할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a body portion coupled to the first electrode to support the first electrode and the second electrode, the second electrode and the body portion to form a capacitor to provide a displacement current can do.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 테이퍼부는 원뿔 형상 또는 절두 원뿔 형상일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the tapered portion may be a cone shape or truncated cone shape.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 전극과 분리 결합하는 몸체부를 더 포함하되, 상기 제1 전극은 상기 테이퍼부에서 연장되어 일정한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부를 더 포함하고, 상기 몸체부는 상기 제2 전극 몸체부는 서로 고정 결합할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a body portion separated and coupled to the second electrode, the first electrode further includes a first electrode body portion having a constant cross-section extending from the tapered portion, the body portion The second electrode body may be fixedly coupled to each other.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 간격을 조절하는 간결 조절부를 더 포함하되, 상기 간격 조절부는 상기 몸체부와 상기 제2 전극의 어느 하나에 형성된 볼트부, 및 상기 몸체부와 상기 제2 전극의 다른 하나에 형성된 너트부를 포함하고, 상기 볼트부와 상기 너트부는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a short adjusting portion for adjusting the gap, wherein the gap adjusting portion bolt portion formed in any one of the body portion and the second electrode, and the body portion and the second electrode It includes a nut portion formed in the other, the bolt portion and the nut portion can be combined with each other to adjust the gap.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 테이퍼부를 포함하는 제1 전극, 상기 제1 전극의 표면에 배치된 제1 전극 절연막, 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부를 감싸도록 배치되고 상기 테이퍼부의 단면이 감소하는 영역에 배치된 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극, 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원, 상기 제2 전극과 상기 테이퍼부는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부, 상기 제2 전극 및 상기 제1 전극을 지지하는 몸체부, 및 상기 간격에 의하여 제공되는 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 포함하되, 상기 간격 조절부는 상기 간격을 가변시키어 안정적인 플라즈마 방전을 제공할 수 있다.An atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a first electrode including a tapered portion, a first electrode insulating layer disposed on a surface of the first electrode, and a taper portion of the first electrode disposed to surround the tapered portion. A second electrode including a plasma outlet disposed in the decreasing region, a power source electrically connected to the first electrode, the second electrode and the taper portion having a uniform gap and a gap adjusting part for adjusting the gap; And a fluid supply part supplying a fluid to the discharge space provided by the gap, wherein the body part supports the second electrode and the first electrode, and the gap adjusting part is configured to vary the gap to provide stable plasma discharge. Can be.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 유체공급부는 상기 제2 전극에 형성되어 상기 방전 공간에 상기 유체를 공급할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the fluid supply unit may be formed in the second electrode to supply the fluid to the discharge space.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 전극은 테이퍼부, 균일한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부, 상기 테이퍼부와 상기 제1 전극 몸체부를 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하고, 상기 제1 전극 연결부는 상기 제2 전극과 상기 제1 전극 연결부 사이에 버퍼 공간을 제공할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first electrode includes a tapered portion, a first electrode body portion having a uniform cross section, a first electrode connecting portion connecting the tapered portion and the first electrode body portion, The first electrode connector may provide a buffer space between the second electrode and the first electrode connector.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 몸체부는 상기 제1 전극을 지지하는 지지부 및 상기 제2 전극과 연결되는 연결부를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the body portion may include a support portion for supporting the first electrode and a connection portion connected to the second electrode.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 제1 방향으로 테이퍼 형상을 포함하는 제1 전극들, 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 배열된 상기 제1 전극들이 삽입되는 제2 전극, 상기 제1 전극들에 전기적으로 연결되는 전원을 포함하되, 상기 제1 전극들과 상기 제2 전극은 균일한 간격을 유지하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a first electrode having a tapered shape in a first direction, a second electrode in which the first electrodes arranged in a second direction crossing the first direction is inserted, And a power source electrically connected to the first electrodes, wherein the first electrodes and the second electrode maintain a uniform interval, and the interval may provide a discharge space.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 오염물 처리 장치는 테이퍼부를 포함하는 제1 전극, 상기 제1 전극의 둘레에 배치된 제1 전극 절연막, 상기 테이퍼부의 둘레에 배치되고 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극, 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원, 상기 제2 전극과 상기 테이퍼부는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부, 및 상기 제1 전극과 결합하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 지지하는 몸체부를 포함하되, 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부와 상기 제2 전극 사이의 간격은 균일하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma contaminant treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is a first electrode including a tapered portion, a first electrode insulating film disposed around the first electrode, a second disposed around the tapered portion and includes a plasma outlet An electrode, a power source electrically connected to the first electrode, the second electrode and the tapered portion maintain a uniform gap, and a gap adjusting part for adjusting the gap, and in combination with the first electrode, the first electrode and the It includes a body portion for supporting a second electrode, wherein the interval between the tapered portion of the first electrode and the second electrode is uniform, the interval may provide a discharge space.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 더 포함하되, 상기 유체 공급부는 상기 몸체부에 형성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a fluid supply for supplying a fluid to the discharge space, the fluid supply may be formed in the body portion.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 몸체부는 내부 원통 및 외부 원통을 포함하는 이중 원통 형상이고, 상기 유체 공급부는 상기 내부 원통과 상기 외부 원통 사이의 공간에 의하여 제공될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the body portion is a double cylinder shape including an inner cylinder and an outer cylinder, the fluid supply may be provided by a space between the inner cylinder and the outer cylinder.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마는 기존의 세탁 기작의 보완으로 세탁력을 향상시키면서 물, 세제 사용량을 감소시켜 환경 친화적인 세탁을 가능하게 할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마는 살균력의 향상을 가져오고 이것은 세탁기 뿐아니라 청소기에도 적용 가능하다. Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable plasma by adjusting the distance between the electrodes. The atmospheric plasma may enable environmentally friendly washing by reducing the amount of water and detergent while improving washing power by supplementing existing washing mechanisms. The atmospheric plasma results in an increase in sterilization power, which is applicable to cleaners as well as washing machines.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 기존의 세제와 물리적인 힘을 사용하는 세탁 기작의 보완으로 대기압 플라즈마를 사용하여 세탁력 향상, 살균 효과 증진과 더불어 환경 친화적 세탁을 제공할 수 있다. 그리고 상기 대기압 플라즈마 장치는 대기압에서 플라즈마를 형성하여 세탁기 이외에 청소기 등에도 응용이 가능하다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide an environmentally friendly laundry with improved washing power, sterilization effect by using atmospheric pressure plasma to complement the washing mechanism using the conventional detergent and physical force. In addition, the atmospheric pressure plasma apparatus may be applied to a vacuum cleaner in addition to a washing machine by forming a plasma at atmospheric pressure.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 대기압 플라즈마를 이용하여 표면 처리 효과, 살균 효과 등을 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마 장치는 대기압 플라즈마 처리를 통하여 섬유에 남아있는 오염 물질의 표면특성을 친수성화시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 섬유의 세탁 효과는 증가할 수 있고, 세제 사용량과 헹굼 시 소비되는 물의 양은 감소할 수 있다. 또한, 상기 섬유의 상기 플라즈마 처리는 친환경적인 세탁을 제공할 수 있다. 또한 상기 플라즈마 처리는 자외선 복사, 열, 화학적 활성화 종들(라디칼), 및 전하 입자들에 의한 복합적인 작용에 의하여 효과적으로 박테리아를 비활성화시킬 수 있다. 상기 플라즈마 처리는 통삭적인 세탁기의 오직 열에 의한 살균 효과를 개선할 수 있다. 또한 상기 플라즈마 처리는 스팀 청소기 또는 밥솥에도 적용 가능하다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a surface treatment effect, sterilization effect and the like using the atmospheric plasma. The atmospheric plasma apparatus may hydrophilize the surface characteristics of the contaminants remaining in the fiber through the atmospheric plasma treatment. Accordingly, the washing effect of the fiber can be increased, the amount of detergent used and the amount of water consumed during rinsing can be reduced. In addition, the plasma treatment of the fibers can provide environmentally friendly washing. The plasma treatment can also effectively inactivate bacteria by the combined action of ultraviolet radiation, heat, chemically activated species (radicals), and charge particles. The plasma treatment can improve the heat sterilization effect of the conventional washing machine only. In addition, the plasma treatment may be applied to a steam cleaner or a rice cooker.

세제의 계면활성제 기능과 세탁기의 기계적인 힘을 이용한 기본적인 세탁 기작의 한계와 문제점을 플라즈마 처리를 사용하여 보완 개선할 수 있다. 즉, 플라즈마 처리를 통하여 오염물은 친수성화되어 물에 잘 용해될 수 있다. 상기 플라즈마 처리는 세제량을 줄이면서도 높은 세탁력 향상 효과를 제공할 수 있다. 또한 상기 플라즈마 처리는 활성종들에 의한 살균 효과가 탁월하여 기존의 열에 의한 살균작용을 보완한다. 즉, 세제와 물, 전력 소비량을 줄여 환경 친화적 세탁을 가능케 한다. The limitations and problems of the basic washing mechanism using the detergent function of the detergent and the mechanical power of the washing machine can be supplemented and improved by using plasma treatment. In other words, the contaminants may be hydrophilized through plasma treatment and dissolved in water. The plasma treatment may provide a high washing power improvement effect while reducing the amount of detergent. In addition, the plasma treatment is excellent in the sterilization effect by the active species to complement the conventional heat sterilization action. In other words, it reduces the consumption of detergents, water and power, enabling environmentally friendly laundry.

본 명세서에서 대기압이라 함은 엄밀한 의미의 대기압 이외에도 그와 유사한 대기압 부근의 압력을 포함한다. In the present specification, the atmospheric pressure includes a pressure in the vicinity of the atmospheric pressure in addition to the atmospheric pressure in the strict sense.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극들 사이의 거리 조절이 가능함으로써 여러 가지 가스 사용에 의한 다양한 매칭 컨디션을 충족시킬 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can adjust the distance between the electrodes can satisfy a variety of matching conditions by the use of various gases.

본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 오염물을 친수성화 처리할 수 있다. 즉, 상기 친수성화 처리는 플라즈마 및/또는 상기 플라즈마에 의하여 생성된 활성종(라디칼)들에 의해 이루어질 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can hydrophilize the contaminants. That is, the hydrophilization treatment may be performed by plasma and / or active species (radicals) generated by the plasma.

통상적인, 고주파를 사용하는 방전의 안정성은 부하의 특성에 의존할 수 있다. 상기 부하의 특성은 사용가스, 사용 압력, 전극 사이의 거리 등에 의존할 수 있다. 그러나, 통상적인 대기압 플라즈마 장치는 사용 가스나 사용 압력이 변경되는 경우 플라즈마의 안정성이 확보되기 어렵다. 본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. Conventional, the stability of the discharge using high frequency may depend on the characteristics of the load. The nature of the load may depend on the gas used, the pressure used, the distance between the electrodes, and the like. However, the conventional atmospheric plasma apparatus is difficult to ensure the stability of the plasma when the use gas or use pressure is changed. Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable plasma by adjusting the distance between the electrodes.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(10)는 제1 방향으로 대칭적인 테이퍼부(14a)를 포함하는 제1 전극(14), 상기 제1 전극(14)의 상기 테이퍼부(14a) 둘레에 배치되고 상기 제1 방향으로 플라즈마 출구(17)를 포함하는 제2 전극(12), 및 상기 제1 전극(14)에 전기적으로 연결되는 전원(18)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)와 상기 제2 전극(12)의 간격(d1)은 균일하게 유지되고, 상기 간격(d1)은 방전 공간(23)을 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마 장치(10)는 상기 간격(d1)을 조절하는 간격 조절부(15)를 포함할 수 있다. 상기 간격의 조절은 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다.Referring to FIG. 1, the atmospheric pressure plasma apparatus 10 includes a first electrode 14 including a tapered portion 14a symmetrically in a first direction, and a circumference of the tapered portion 14a of the first electrode 14. It may include a second electrode 12 which is disposed in and includes a plasma outlet 17 in the first direction, and a power source 18 electrically connected to the first electrode 14. The gap d1 of the tapered portion 14a and the second electrode 12 may be maintained uniformly, and the gap d1 may provide a discharge space 23. The atmospheric pressure plasma apparatus 10 may include an interval adjusting unit 15 that adjusts the interval d1. Adjusting the spacing can provide a stable plasma.

상기 제1 전극(14)은 도전성 물질일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)는 상기 제1 전극(14)의 중심축을 기준으로 상기 제1 방향으로 진행함에 따라 상기 테이퍼부(14a)의 단면적은 감소할 수 있다. 상기 테이퍼부는 원뿔 형상 또는 절두 원뿔 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 중심축과 테이퍼 면 사이의 테이퍼 각은 일정할 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)는 상기 중심축을 중심으로 대칭적일 수 있다. 상기 제1 전극(14)의 표면에 제1 전극 절연막(13)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(13)은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제1 절연막(13)은 금속산화막, 금속산화질화막, 유전체막, 고무, 아크릴, 폴리이미드, 및 폴리머 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(13)의 두께는 수십 um 내지 수 mm 일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c)은 상기 플라즈마 출구(17)를 향하여 배치될 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c)은 곡선 형상을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 곡선 형상은 전계(또는 전기장)의 집중에 의한 아크 방전을 감소시킬 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(113)은 복층 구조일 수 있다. 상기 제1 전 극 절연막(113)은 알루미늄 산화막/폴리막의 이중 구조일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c)의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 제1 전극(14)은 제1 전극 몸체부(14b)를 포함할 수 있다.The first electrode 14 may be a conductive material. As the tapered portion 14a travels in the first direction with respect to the central axis of the first electrode 14, the cross-sectional area of the tapered portion 14a may decrease. The tapered portion may be conical or truncated conical. The taper angle between the central axis and the tapered surface of the tapered portion 14a may be constant. The tapered portion 14a may be symmetrical about the central axis. The first electrode insulating layer 13 may be disposed on the surface of the first electrode 14. The first electrode insulating layer 13 may suppress arc generation during discharge. The first insulating layer 13 may include at least one of a metal oxide layer, a metal oxynitride layer, a dielectric layer, rubber, acryl, polyimide, and a polymer. The thickness of the first electrode insulating layer 13 may be several tens of um to several mm. One end 14c of the tapered portion 14a may be disposed toward the plasma outlet 17. One end 14c of the tapered portion 14a may have a curved shape. Thus, the curved shape can reduce the arc discharge due to the concentration of the electric field (or electric field). The first electrode insulating layer 113 may have a multilayer structure. The first electrode insulating layer 113 may have a double structure of an aluminum oxide film / poly film. The shape of one end 14c of the tapered portion 14a may be variously modified. The first electrode 14 may include a first electrode body portion 14b.

상기 테이퍼부(14a)는 표면에 형성된 그루브(19)를 포함할 수 있다. 상기 그루브(19)는 전계의 형태를 바꾸어 할로우 케소드 방전을 유도할 수 있다. 이에 따라, 상기 할로우 케소드 방전은 플라즈마(21) 및 부산물의 생성율을 증가시킬 수 있다. 본 발명의 변형된 실시예에 따르면, 상기 그루브(19)는 상기 테이퍼부를 마주보는 상기 제2 전극(12)의 표면에 형성될 수 있다.The tapered portion 14a may include a groove 19 formed on the surface. The groove 19 may induce a hollow cathode discharge by changing the shape of the electric field. Accordingly, the hollow cathode discharge may increase the production rate of the plasma 21 and by-products. According to a modified embodiment of the present invention, the groove 19 may be formed on the surface of the second electrode 12 facing the tapered portion.

상기 제2 전극(12)은 상기 제1 전극(14)의 주위에 배치될 수 있다. 또는 상기 제2 전극(12)은 상기 제1 전극(14)의 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(12)은 상기 제1 전극(14)과 일정한 간격을 유지하도록 테이퍼 홀(12a)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)는 상기 테이퍼 홀(12a)에 삽입될 수 있다. 상기 테이퍼 홀(12a) 상에 제2 전극 절연막(미도시)이 배치될 수 있다. 상기 제2 전극 절연막은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제2 전극(12)은 플라즈마 출구(17)를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 출구(17)는 상기 테이퍼부(14a)의 중심축 상에 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(17)는 상기 테이퍼 홀(12a)과 연속적으로 이어서 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(17)의 단면적은 상기 테이퍼 홀(12a)의 단면적보다 작을 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)과 상기 제2 전극(12) 사이에 플라즈마(21)가 발생될 수 있다. 상기 플라즈마(21)는 상기 플라즈마 출구(17)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)과 상기 제2 전극(12)의 상기 간격(d1)은 가변 될 수 있다. 상기 제2 전극(12)이 상기 제1 방향으로 이동하면서 상기 간격(d1)은 변경될 수 있다. 상기 간격(d1)은 플라즈마 방전에 사용되는 가스 및 공정에 따라 조절될 수 있다. 상기 제2 전극(12)는 접지될 수 있다.The second electrode 12 may be disposed around the first electrode 14. Alternatively, the second electrode 12 may be disposed around the first electrode 14. The second electrode 12 may include a tapered hole 12a to maintain a constant distance from the first electrode 14. The tapered portion 14a may be inserted into the tapered hole 12a. A second electrode insulating layer (not shown) may be disposed on the tapered hole 12a. The second electrode insulating layer may suppress generation of arc during discharge. The second electrode 12 may include a plasma outlet 17. The plasma outlet 17 may be disposed on the central axis of the tapered portion 14a. The plasma outlet 17 may be disposed in succession with the tapered hole 12a. The cross-sectional area of the plasma outlet 17 may be smaller than the cross-sectional area of the tapered hole 12a. Plasma 21 may be generated between the tapered portion 14a and the second electrode 12. The plasma 21 may diffuse through the plasma outlet 17. The gap d1 of the tapered portion 14a and the second electrode 12 may vary. The interval d1 may be changed while the second electrode 12 moves in the first direction. The interval d1 may be adjusted according to a gas and a process used for plasma discharge. The second electrode 12 may be grounded.

몸체부(16)는 상기 제1 전극(14)의 타단에 인접하여 배치될 수 있다. 상기 몸체부(16)는 상기 제1 전극 몸체부(14b)을 감싸도록 배치될 수 있다. 상기 몸체부(16)는 상기 제1 전극(14)에 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(16)는 상기 제1 전극(14) 및 상기 제2 전극(12)을 지지할 수 있다. 상기 몸체부(16)와 상기 제1 전극(14) 사이에 제1 전극 절연막(13)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(13)은 위치에 따라 다른 두께를 가질 수 있다. 상기 테이퍼부(14a) 상의 제1 전극 절연막(13)의 두께는 상기 몸체부(16)와 대향하여 배치된 제1 전극 절연막(13)의 두께보다 클 수 있다. 상기 테이퍼부(14a) 상의 제1 전극 절연막(13)은 폴리머/알루마늄 산화막의 복층 구조를 가질 수 있다. 상기 폴리머는 상기 플라즈마(21)에 손상되어 교체될 수 있다. 상기 몸체부(16)와 상기 제1 전극 몸체부(14b)는 서로 전기적으로 절연되어 축전기를 구성할 수 있다. 상기 축전기를 통하여 변위전류가 흐를 수 있다. 상기 전원(18)에 공급되는 전류는 상기 축전기를 통하여 흐르는 상기 변위 전류와 상기 플라즈마(21)를 통하여 흐르는 플라즈마 전류를 포함할 수 있다. 상기 변위 전류는 상기 플라즈마 전류보다 클 수 있다. 상기 변위 전류가 클수록 상기 플라즈마는 안정적으로 동작할 수 있다. 상기 축전기의 정전 용량을 증가시키기 위하여 상기 제1 전극(14)의 타단과 이에 대응하는 상기 몸체부(16)의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 몸체부(16)는 접지될 수 있다.The body portion 16 may be disposed adjacent to the other end of the first electrode 14. The body portion 16 may be disposed to surround the first electrode body portion 14b. The body portion 16 may be fixedly coupled to the first electrode 14. The body portion 16 may support the first electrode 14 and the second electrode 12. A first electrode insulating layer 13 may be disposed between the body portion 16 and the first electrode 14. The first electrode insulating layer 13 may have a different thickness according to a position. The thickness of the first electrode insulating layer 13 on the tapered portion 14a may be greater than the thickness of the first electrode insulating layer 13 disposed to face the body portion 16. The first electrode insulating layer 13 on the tapered portion 14a may have a multilayer structure of a polymer / aluminum oxide layer. The polymer may be damaged by the plasma 21 and replaced. The body portion 16 and the first electrode body portion 14b may be electrically insulated from each other to constitute a capacitor. Displacement current may flow through the capacitor. The current supplied to the power source 18 may include the displacement current flowing through the capacitor and the plasma current flowing through the plasma 21. The displacement current may be greater than the plasma current. As the displacement current increases, the plasma may operate stably. In order to increase the capacitance of the capacitor, the other end of the first electrode 14 and the shape of the body portion 16 corresponding thereto may be variously modified. The body portion 16 may be grounded.

상기 간격 조절부(15)는 상기 몸체부(16)와 상기 제2 전극(12) 사이에 배치될 수 있다. 또는 상기 간격 조절부(15)는 상기 몸체부(16) 및/또는 상기 제2 전극(12)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(15)는 상기 테이퍼부(14a)와 상기 테이퍼부(14a)와 마주보고 있는 상기 제2 전극(12)의 간격을 조절할 수 있는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 간격 조절부(15)는 상기 제2 전극(12)을 상기 제1 방향으로 상기 제1 전극(14)에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있다. 상기 플라즈마(21)가 불안정한 경우, 상기 간절 조절부(15)는 상기 간격(d1)을 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. 대기압 처리 공정은 대기중의 수증기, 피처리물에서 탈착되는 물질 등이 상기 방전 공간에 유입되어 공정 조건이 변할 수 있다. 따라서, 고정된 간격을 가진 대기압 플라즈마 장치는 아크 방전 및 플라즈마 불안정성을 제거시는 것에 한계가 있다.The gap adjuster 15 may be disposed between the body 16 and the second electrode 12. Alternatively, the gap adjusting part 15 may be formed in the body part 16 and / or the second electrode 12. The gap controller 15 may be variously modified as long as the gap controller 15 may adjust the gap between the taper unit 14a and the second electrode 12 facing the taper unit 14a. The gap adjuster 15 may move the second electrode 12 relative to the first electrode 14 in the first direction. When the plasma 21 is unstable, the cut adjustment unit 15 may provide a stable plasma by adjusting the interval d1. In the atmospheric pressure treatment process, water vapor in the atmosphere, a substance desorbed from an object to be processed, and the like may be introduced into the discharge space, thereby changing process conditions. Thus, atmospheric plasma apparatuses with fixed spacing have limitations in eliminating arc discharge and plasma instability.

유체 공급부(28)는 상기 방전 공간(23)에 유체를 공급할 수 있다. 상기 유체는 케리어 가스 및/또는 반응 가스를 포함할 수 있다. 상기 케리어 가스는 헬륨, 아르곤 등의 불화성 가스, 및 질소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 반응 가스는 공정에 따라 다를 수 있다. 친수성화 처리용 반응 가스는 산소를 포함하는 가스일 수 있다. 예를 들어, 반응 가스는 산소, 이산화탄소, 및 일산화탄소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 친수성화 처리는 산화 과정을 통해서 피처리물(26)에 형성되는 산소 포함 그룹 (Oxygen-containing groups, -OH, -OOH )에 기인할 수 있다. 따라서, C=O 분자를 많이 형성하는 반응 가스가 바람직할 수 있다. 상기 플라즈마(21) 및 상기 플라즈마(21)에 의하여 생성된 부산물은 상기 플라즈마 출구(17)를 통하여 상기 피처리물(26)에 제공되어 상기 피처리물(26)을 친수성화시킬 수 있다. 상기 유체 공급부(28)는 상기 몸체부(14) 내에 형성될 수 있다.The fluid supply unit 28 may supply a fluid to the discharge space 23. The fluid may comprise a carrier gas and / or a reactant gas. The carrier gas may include at least one of a fluorine gas such as helium and argon, and nitrogen. The reaction gas may vary depending on the process. The reaction gas for the hydrophilization treatment may be a gas containing oxygen. For example, the reaction gas may include at least one of oxygen, carbon dioxide, and carbon monoxide. The hydrophilization treatment may be attributable to oxygen-containing groups (-OH, -OOH) formed in the workpiece 26 through oxidation. Therefore, a reaction gas that forms a large number of C═O molecules may be desirable. The plasma 21 and by-products generated by the plasma 21 may be provided to the object 26 through the plasma outlet 17 to hydrophilize the object 26. The fluid supply part 28 may be formed in the body part 14.

제3 전극(24)은 상기 제1 전극(14)으로부터 상기 제1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(24)과 상기 제1, 제2 전극(14,12) 사이에 상기 피처리물(26)이 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(24)은 접지될 수 있다. 상기 피처리물(26)은 섬유, 기판, 폴리머, 반도체, 또는 금속일 수 있다. 상기 피처리물(26)은 상기 플라즈마 출구(17)를 통과한 플라즈마 및/또는 부산물에 의하여 처리될 수 있다. 상기 피처리물(26)과 상기 제1 전극(14)의 테이퍼부(14a)의 일단(14c) 사이에 보조 플라즈마(25)가 생성될 수 있다. 상기 보조 플라즈마(25)의 유효 면적은 상기 플라즈마(21)의 유효 면적보다 작을 수 있다. 상기 보조 플라즈마(21)의 유효면적이 상기 플라즈마(21)의 유효면적보다 큰 경우, 상기 보조 플라즈마(21)는 방전 조건에 따라 불안정하고 아크 방전을 유발할 수 있다. 상기 제3 전극(24)과 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c) 사이의 거리는 상기 제1 전극(14)의 테이퍼부(14a)와 상기 제2 전극(12) 사이의 거리보다 클 수 있다. The third electrode 24 may be spaced apart from the first electrode 14 in the first direction. The workpiece 26 may be disposed between the third electrode 24 and the first and second electrodes 14 and 12. The third electrode 24 may be grounded. The workpiece 26 may be a fiber, a substrate, a polymer, a semiconductor, or a metal. The workpiece 26 may be treated by plasma and / or by-products passing through the plasma outlet 17. An auxiliary plasma 25 may be generated between the workpiece 26 and one end 14c of the tapered portion 14a of the first electrode 14. An effective area of the auxiliary plasma 25 may be smaller than an effective area of the plasma 21. When the effective area of the auxiliary plasma 21 is larger than the effective area of the plasma 21, the auxiliary plasma 21 may be unstable according to discharge conditions and cause arc discharge. The distance between the third electrode 24 and one end 14c of the tapered portion 14a may be greater than the distance between the tapered portion 14a of the first electrode 14 and the second electrode 12. .

상기 전원(18)은 라디오 주파수(radio frequency: RF) 전원, AC 전원, 또는 DC 전원일 수 있다. 상기 전원이 RF 전원인 경우, 상기 전원(18)과 상기 제1 전극(14) 사이에 매칭 네트워크(미도시)가 배치될 수 있다.The power source 18 may be a radio frequency (RF) power source, an AC power source, or a DC power source. When the power source is an RF power source, a matching network (not shown) may be disposed between the power source 18 and the first electrode 14.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다. 도 2b는 도 2a의 I-I'선을 따라 자른 단면도이다.2A and 2B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2A.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(100)는 테이퍼 부(110a)를 포함하는 제1 전극(110), 상기 제1 전극(110)의 표면에 배치된 제1 전극 절연막(112), 상기 제1 전극(110)의 상기 테이퍼부(110a)를 감싸도록 배치되고 상기 테이퍼부(110a)의 단면이 감소하는 영역에 배치된 플라즈마 출구(124)를 포함하는 제2 전극(122), 상기 제1 전극(110)에 전기적으로 연결되는 전원(164), 상기 제2 전극(122)과 상기 테이퍼부(110a)는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부(170), 상기 제2 전극(122) 및 상기 제1 전극(110)을 지지하는 몸체부(133), 및 상기 간격에 의하여 제공되는 방전 공간(123)에 유체를 공급하는 유체 공급부(182)를 포함한다. 상기 간격 조절부(170)는 상기 간격을 가변시키어 안정적인 플라즈마 방전을 제공할 수 있다.2A and 2B, the atmospheric pressure plasma apparatus 100 includes a first electrode 110 including a tapered portion 110a and a first electrode insulating layer 112 disposed on a surface of the first electrode 110. ), A second electrode 122 including a plasma outlet 124 disposed to surround the tapered portion 110a of the first electrode 110 and disposed in a region where the cross section of the tapered portion 110a is reduced. In addition, the power supply 164 electrically connected to the first electrode 110, the second electrode 122 and the tapered portion (110a) is to maintain a uniform interval and the interval adjusting unit 170 to adjust the interval And a body part 133 supporting the second electrode 122 and the first electrode 110, and a fluid supply part 182 supplying a fluid to the discharge space 123 provided by the gap. . The spacing controller 170 may vary the spacing to provide stable plasma discharge.

상기 테이퍼부(110a)는 원뿔 형상일 수 있다. 상기 제1 전극(110)은 상기 테이퍼부(110a)에서 연장되어 일정한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부(110b)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 몸체부(110b)는 원기둥 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)는 한 몸일 수 있다. 상기 제1 전극(110)은 상기 전원(164)에 연결되어 대기압 플라즈마를 생성할 수 있다.The tapered portion 110a may have a conical shape. The first electrode 110 may include a first electrode body part 110b extending from the tapered part 110a and having a constant cross section. The first electrode body 110b may have a cylindrical shape. The tapered portion 110a and the first electrode body portion 110b may be one body. The first electrode 110 may be connected to the power source 164 to generate an atmospheric plasma.

상기 제1 전극 절연막(112)은 상기 제1 전극(110)의 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(112)의 두께는 상기 테이퍼부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)에서 서로 다를 수 있다. 상기 테이퍼부(110a) 상의 상기 제1 전극 절연막(112)의 두께는 상기 제1 전극 몸체부(110b) 상의 제1 전극 절연막(112)의 두께보다 클 수 있다.The first electrode insulating layer 112 may be disposed around the first electrode 110. The thickness of the first electrode insulating layer 112 may be different from each other in the tapered portion 110a and the first electrode body portion 110b. The thickness of the first electrode insulating layer 112 on the tapered part 110a may be greater than the thickness of the first electrode insulating layer 112 on the first electrode body part 110b.

상기 제2 전극(122)은 중심에 구멍을 가진 고깔 형태일 수 있다. 상기 구멍 은 플라즈마 출구(124)일 수 있다. 상기 제2 전극(122)과 상기 테이퍼부(110a) 사이의 공간은 방전 공간(123)을 제공할 수 있다. 상기 제2 전극(122)의 형태는 상기 테이퍼부(110a)와 일정한 간격을 유지하는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 제2 전극(122)은 테이퍼 홀(122a)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼 홀(122a)의 각도는 일정할 수 있다. 상기 테이퍼 홀(122a)의 각도와 상기 테이퍼부의 각도는 같을 수 있다. 상기 플라즈마 출구(124)의 지름은 상기 테이퍼 홀(122a)의 지름보다 작을 수 있다. 상기 방전 공간(123)에 생성된 플라즈마는 상기 플라즈마 출구(124)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 제2 전극(122)은 접지될 수 있다.The second electrode 122 may have a solid shape having a hole in the center thereof. The hole may be a plasma outlet 124. The space between the second electrode 122 and the tapered portion 110a may provide a discharge space 123. The shape of the second electrode 122 may be variously modified as long as it maintains a constant distance from the tapered portion 110a. The second electrode 122 may include a tapered hole 122a. The angle of the tapered hole 122a may be constant. An angle of the tapered hole 122a and an angle of the tapered part may be the same. The diameter of the plasma outlet 124 may be smaller than the diameter of the tapered hole 122a. The plasma generated in the discharge space 123 may be diffused through the plasma outlet 124. The second electrode 122 may be grounded.

몸체부(133)는 상기 제2 전극(122)과 분리 결합할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 원통 형상일 수 있다. 상기 몸체부(133)의 내 반경은 상기 테이퍼 홀(122a)의 최대 반경과 실질적으로 일치할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제1 전극 몸체부(110b)와 서로 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 상기 몸체부(133)는 중심축을 중심으로 두 분으로 분리되어, 서로 결합하면서 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 지지할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제1 전극 몸체부(110b)와 축전기를 구성할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제2 전극(110)과 결합하는 연결 몸체부(132)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 지지하는 지지부(134)를 포함할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 접지될 수 있다.The body portion 133 may be separated and coupled to the second electrode 122. The body portion 133 may have a cylindrical shape. The inner radius of the body portion 133 may substantially coincide with the maximum radius of the tapered hole 122a. The body portion 133 may be fixedly coupled to the first electrode body portion 110b. The body portion 133 may be disposed to surround the first electrode body portion 110b. The body portion 133 may be separated into two around a central axis, and may support the first electrode body portion 110b while being coupled to each other. The body portion 133 may configure a capacitor with the first electrode body portion 110b. The body part 133 may include a connection body part 132 coupled to the second electrode 110 and a support part 134 supporting the first electrode body part 110b. The body portion 133 may be grounded.

상기 간격 조절부(170)는 상기 몸체부(133)와 상기 제2 전극(122)의 어느 하나에 형성된 볼트부(174), 및 상기 몸체부(133)와 상기 제2 전극(122)의 다른 하나 에 형성된 너트부(172)를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(174)와 상기 너트부(172)는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다. 상기 너트부(172)는 상기 제2 전극(122)의 하단에 형성될 수 있다. 상기 너트부(172)는 나사산과 결합하는 그루브를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(174)는 상기 나사산을 포함할 수 있다. 상기 볼트부(172)는 상기 연결 몸체부(132)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(170)는 나사결합 구조 이외에 다른 구조로 변경될 수 있다.The gap adjusting part 170 may include a bolt part 174 formed on one of the body part 133 and the second electrode 122, and another part of the body part 133 and the second electrode 122. It may include a nut portion 172 formed on one. The bolt part 174 and the nut part 172 may be coupled to each other to adjust the gap. The nut part 172 may be formed at a lower end of the second electrode 122. The nut part 172 may include a groove coupled with a thread. The bolt portion 174 may include the thread. The bolt part 172 may be formed in the connection body part 132. The gap adjusting unit 170 may be changed to another structure in addition to the screw coupling structure.

상기 유체 공급부(182)는 상기 몸체부(133) 내부에 형성될 수 있다. 상기 유체 공급부(182)는 상기 지지부(134)의 중심축 방향으로 나란히 진행하는 복수의 유체 관통홀들(182b)을 포함할 수 있다. 상기 유체 관통홀들(182b)은 상기 지지부(134)의 중심축을 기준으로 일정한 각도를 유지하며 배치될 수 있다.The fluid supply part 182 may be formed inside the body part 133. The fluid supply part 182 may include a plurality of fluid through holes 182b running in parallel in the direction of the central axis of the support part 134. The fluid through holes 182b may be disposed while maintaining a constant angle with respect to the central axis of the support part 134.

상기 유체 관통홀(182b)은 상기 테이퍼부(110a)와 상기 연결부(132)가 서로 마주보는 영역에 인접하여 배치된 노즐(182a)과 연결될 수 있다. 상기 노즐(182a)은 유체를 상기 방전 공간(123)에 제공할 수 있다. 뚜껑(152)은 상기 몸체부(133)의 하단에 배치될 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 상기 몸체부(133)와 결합할 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 도전성 또는 절연성 물질일 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 지름이 감소함에 따라 두께가 감소하는 두 개의 턱들(155b,155a)을 포함할 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 중심 영역에 절연 관통홀(153)을 포함할 수 있다. 상기 절연 관통홀(153)의 지름은 상기 제1 전극 몸체부(110b)의 지름보다 클 수 있다. 절연판(154)은 상기 절연 관통홀(153) 상에서 안쪽의 제1 턱(155a)에 배치될 수 있다. 제2 턱(155b)과 상기 절연판(154)은 유체 혼합 공간(182c)을 제공할 수 있다. 상기 유체 혼합 공간(182c)은 상기 관통홀들(182b)에게 연결될 수 있다. 유량 조절부(146)는 상기 유체 혼합 공간(182c)에 연결될 수 있다. 상기 유량 조절부(146)는 유로를 통하여 공급되는 유량을 조절할 수 있다. 상기 유량 조절부(146)는 복수 개일 수 있다. 상기 유량 조절부(146)는 복수의 유체의 유량을 조절할 수 있다.The fluid through hole 182b may be connected to a nozzle 182a disposed adjacent to an area in which the tapered portion 110a and the connecting portion 132 face each other. The nozzle 182a may provide a fluid to the discharge space 123. The lid 152 may be disposed at the lower end of the body portion 133. The lid 152 may be coupled to the body portion 133. The lid 152 may be a conductive or insulating material. The lid 152 may include two jaws 155b and 155a whose thickness decreases as the diameter decreases. The lid 152 may include an insulating through hole 153 in the center area. The diameter of the insulating through hole 153 may be larger than the diameter of the first electrode body part 110b. The insulating plate 154 may be disposed on the inner side of the first jaw 155a on the insulating through hole 153. The second jaw 155b and the insulating plate 154 may provide a fluid mixing space 182c. The fluid mixing space 182c may be connected to the through holes 182b. The flow rate controller 146 may be connected to the fluid mixing space 182c. The flow rate controller 146 may adjust the flow rate supplied through the flow path. The flow rate controller 146 may be a plurality. The flow rate controller 146 may adjust the flow rates of the plurality of fluids.

상기 절연판(154)의 중심에는 전극 플러그(166)가 배치될 수 있다. 상기 전극 플러그(166)는 상기 제1 전극(110)과 전기적으로 연결하는 수단일 수 있다. 상기 전극 플러그(166)에 상기 전원(164)이 연결될 수 있다. 매칭 네트워크(162)는 상기 전원(164)과 상기 전극 플러그(166) 사이에 배치될 수 있다.An electrode plug 166 may be disposed at the center of the insulating plate 154. The electrode plug 166 may be a means for electrically connecting with the first electrode 110. The power source 164 may be connected to the electrode plug 166. The matching network 162 may be disposed between the power source 164 and the electrode plug 166.

제3 전극(125)은 상기 제1 전극(110)으로부터 상기 제1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(125)과 상기 제1(110) 사이에 피처리물이 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(125)은 접지될 수 있다.The third electrode 125 may be spaced apart from the first electrode 110 in the first direction. An object to be processed may be disposed between the third electrode 125 and the first 110. The third electrode 125 may be grounded.

도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다. 도 2a 및 도 2b에서 설명한 부분과 중복되는 설명은 생략한다.3 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. Descriptions overlapping with those described in FIGS. 2A and 2B will be omitted.

도 3을 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(100)는 테이퍼부(110a)를 포함하는 제1 전극(110), 상기 제1 전극(110)의 표면에 배치된 제1 전극 절연막(112), 상기 제1 전극(110)의 상기 테이퍼부(110a)를 감싸도록 배치되고 상기 테이퍼부(110a)의 단면이 감소하는 영역에 배치된 플라즈마 출구(124)를 포함하는 제2 전극(122), 상기 제1 전극(110)에 전기적으로 연결되는 전원(164), 상기 제2 전극(122)과 상기 테이퍼부(110a)는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부(170), 상기 제2 전극(122) 및 상기 제1 전극(110)을 지지하는 몸체부(133), 및 상기 간격에 의하여 제공되는 방전 공간(123)에 유체를 공급하는 유체 공급부(182)를 포함한다. 상기 간격 조절부(170)는 상기 간격을 가변시키어 안정적인 플라즈마 방전을 제공할 수 있다.Referring to FIG. 3, the atmospheric pressure plasma apparatus 100 includes a first electrode 110 including a tapered portion 110a, a first electrode insulating layer 112 disposed on a surface of the first electrode 110, and the A second electrode 122 including the plasma outlet 124 disposed to surround the tapered portion 110a of the first electrode 110 and disposed in an area where the cross section of the tapered portion 110a is decreased, The power supply 164 electrically connected to the first electrode 110, the second electrode 122, and the tapered portion 110a maintain a uniform interval and adjust the interval 170, and adjust the gap. A second electrode 122, a body portion 133 for supporting the first electrode 110, and a fluid supply unit 182 for supplying a fluid to the discharge space 123 provided by the gap. The spacing controller 170 may vary the spacing to provide stable plasma discharge.

상기 제1 전극(110)은 테이퍼부(110a), 균일한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부(110b), 및 상기 테이퍼부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 연결하는 제1 전극 연결부(110c)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 연결부(110c)는 상기 제2 전극(122)과 상기 제1 전극 연결부(110c) 사이에 버퍼 공간(102)을 제공할 수 있다. 상기 테이퍼부(110a), 상기 제1 전극 몸체부(110b), 및 상기 제1 전극 연결부(110c)는 한 몸일 수 있다. 상기 버퍼 공간(102)은 유체의 혼합 공간일 수 있다. 또한, 상기 버퍼 공간(102)은 상기 테이퍼 홀(122a)의 가장자리와 상기 테이퍼부(110a) 사이의 불필요한 이상 방전(abnormal discharge)을 억제할 수 있다.The first electrode 110 has a tapered portion 110a, a first electrode body portion 110b having a uniform cross section, and a first connecting the tapered portion 110a and the first electrode body portion 110b. The electrode connection part 110c may be included. The first electrode connector 110c may provide a buffer space 102 between the second electrode 122 and the first electrode connector 110c. The taper part 110a, the first electrode body part 110b, and the first electrode connection part 110c may be one body. The buffer space 102 may be a mixing space of the fluid. In addition, the buffer space 102 may suppress unnecessary abnormal discharge between the edge of the tapered hole 122a and the tapered portion 110a.

본 발명의 변형된 실시예에 따르면, 상기 제1 전극 연결부(110c)는 절연체일 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 전극 연결부(110b)는 내부에 도전성 전선(미도시)을 포함할 수 있다. 상기 도전성 전선은 상기 테이부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 서로 전기적으로 연결할 수 있다.According to a modified embodiment of the present invention, the first electrode connection part 110c may be an insulator. Accordingly, the first electrode connection part 110b may include a conductive wire (not shown) therein. The conductive wire may electrically connect the table portion 110a and the first electrode body portion 110b to each other.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(200)는 테이퍼부(210a)를 포함하는 제1 전극(210), 상기 제1 전극(210)의 둘레에 배치된 제1 전극 절연막(212), 상기 테이퍼부(210a)의 둘레에 배치되고 플라즈마 출구(224)를 포함하는 제2 전극(222), 상기 제1 전극(210)에 전기적으로 연결되는 전원(264), 상기 제1 전극(210a)과 결합하여 상기 제1 전극(210) 및 상기 제2 전극(222)을 지지하는 몸체부(233)를 포함한다. 상기 제1 전극(210)의 상기 테이퍼부(210a)와 상기 제2 전극(222) 사이의 간격은 균일하고, 상기 간격은 방전 공간(223)을 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마 장치(200)는 상기 방전 공간(223)에 유체를 공급하는 유체 공급부(282)를 포함할 수 있다. 상기 유체 공급부(282)는 상기 몸체부(233)에 형성될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 내부 원통 및 외부 원통을 포함하는 이중 원통 형상이고, 상기 유체 공급부(233)는 상기 내부 원통과 상기 외부 원통 사이의 공간에 의하여 제공될 수 있다.Referring to FIG. 4, the atmospheric pressure plasma apparatus 200 includes a first electrode 210 including a tapered portion 210a, a first electrode insulating layer 212 disposed around the first electrode 210, and the A second electrode 222 disposed around the tapered portion 210a and including a plasma outlet 224, a power source 264 electrically connected to the first electrode 210, and the first electrode 210a; In combination with the body portion 233 to support the first electrode 210 and the second electrode 222. An interval between the tapered portion 210a of the first electrode 210 and the second electrode 222 may be uniform, and the interval may provide a discharge space 223. The atmospheric plasma apparatus 200 may include a fluid supply part 282 supplying a fluid to the discharge space 223. The fluid supply part 282 may be formed in the body part 233. The body portion 233 may have a double cylindrical shape including an inner cylinder and an outer cylinder, and the fluid supply part 233 may be provided by a space between the inner cylinder and the outer cylinder.

상기 제1 전극(210)은 도전성 물질일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 상기 제1 전극(210)의 중심축을 방향 또는 제1 방향으로 진행함에 따라 상기 테이퍼부(210a)의 단면적은 감소할 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 원뿔 형상 또는 절두 원뿔(truncated cone) 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 중심축과 테이퍼 면 사이의 테이퍼 각은 일정할 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 상기 중심축을 중심으로 대칭적일 수 있다. 상기 제1 전극(210)의 표면에 제1 전극 절연막(212)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제1 절연막(212)은 금속산화막, 금속산화질화막, 유전체막, 고무, 아크릴, 폴리이미드, 및 폴리머 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)의 두께는 수십 um 내지 수 mm 일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 일단은 상기 플라즈마 출구(224)를 향하여 배치될 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 일단은 곡선 형상을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 곡선 형상은 전계(또는 전기장)의 집중에 의한 아크 방전을 감소시킬 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 복층 구조일 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 알루미늄 산화막/폴리막의 이중 구조일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 일단의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 제1 전극(210)은 제1 전극 몸체부(210b)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 몸체부(210b)는 일정한 단면을 가질 수 있다.The first electrode 210 may be a conductive material. The tapered portion 210a may decrease in cross-sectional area of the tapered portion 210a as the central axis of the first electrode 210 extends in the direction or the first direction. The tapered portion 210a may have a conical shape or a truncated cone shape. The taper angle between the central axis and the tapered surface of the tapered portion 210a may be constant. The tapered portion 210a may be symmetrical about the central axis. The first electrode insulating layer 212 may be disposed on the surface of the first electrode 210. The first electrode insulating layer 212 may suppress arc generation during discharge. The first insulating layer 212 may include at least one of a metal oxide layer, a metal oxynitride layer, a dielectric layer, rubber, acryl, polyimide, and a polymer. The thickness of the first electrode insulating layer 212 may be several tens of um to several mm. One end of the tapered portion 210a may be disposed toward the plasma outlet 224. One end of the tapered portion 210a may include a curved shape. Thus, the curved shape can reduce the arc discharge due to the concentration of the electric field (or electric field). The first electrode insulating layer 212 may have a multilayer structure. The first electrode insulating film 212 may have a dual structure of an aluminum oxide film / poly film. The shape of one end of the tapered portion 210a may be variously modified. The first electrode 210 may include a first electrode body 210b. The first electrode body 210b may have a constant cross section.

상기 제2 전극(222)은 상기 테이퍼부(210a)의 주위에 배치될 수 있다. 또는 상기 제2 전극(222)은 상기 테이퍼부(210a)의 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(222)은 상기 테이퍼부(210a)과 일정한 간격을 유지하도록 테이퍼 홀(222a)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 상기 테이퍼 홀(222a)에 삽입될 수 있다. 상기 테이퍼 홀(222a) 상에 제2 전극 절연막(미도시)이 배치될 수 있다. 상기 제2 전극 절연막은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제2 전극(222)은 플라즈마 출구(224)를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 출구(224)는 상기 테이퍼부(210a)의 중심축 상에 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(224)는 상기 테이퍼 홀(222a)과 연속적으로 이어서 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(224)의 단면적은 상기 테이퍼 홀(222a)의 단면적보다 작을 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)과 상기 제2 전극(222) 사이에 플라즈마가 발생될 수 있다. 상기 플라즈마는 상기 플라즈마 출구(224)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)과 상기 제2 전극(222)의 상기 간격은 가변될 수 있다. 상기 제2 전극(222)이 상기 제1 방향으로 이동하면서 상기 간격은 변경될 수 있다. 상기 간격은 플라즈마 방전에 사용되는 가스 및 공정 에 따라 조절될 수 있다. 상기 제2 전극(222)은 접지될 수 있다.The second electrode 222 may be disposed around the tapered portion 210a. Alternatively, the second electrode 222 may be disposed around the tapered portion 210a. The second electrode 222 may include a tapered hole 222a to maintain a constant distance from the tapered portion 210a. The taper 210a may be inserted into the taper hole 222a. A second electrode insulating layer (not shown) may be disposed on the taper hole 222a. The second electrode insulating layer may suppress generation of arc during discharge. The second electrode 222 may include a plasma outlet 224. The plasma outlet 224 may be disposed on a central axis of the tapered portion 210a. The plasma outlet 224 may be continuously disposed after the tapered hole 222a. The cross-sectional area of the plasma outlet 224 may be smaller than the cross-sectional area of the tapered hole 222a. Plasma may be generated between the tapered portion 210a and the second electrode 222. The plasma may diffuse through the plasma outlet 224. The gap between the taper 210a and the second electrode 222 may vary. The gap may be changed while the second electrode 222 moves in the first direction. The interval may be adjusted according to the gas and the process used for the plasma discharge. The second electrode 222 may be grounded.

몸체부(233)는 상기 제1 전극(222)의 타단에 인접하여 배치될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 상기 제1 전극 몸체부(210b)를 감싸도록 배치될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 상기 제1 전극(210)에 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(233)는 상기 제1 전극(210) 및 상기 제2 전극(222)을 지지할 수 있다. 상기 몸체부(233)와 상기 제1 전극(210) 사이에 제1 전극 절연막(212)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 위치에 따라 다른 두께를 가질 수 있다. 상기 테이퍼부(210a) 상의 제1 전극 절연막(212)의 두께는 상기 제1 전극 몸체부(210b) 상의 제1 전극 절연막(212)의 두께보다 클 수 있다. 상기 테이퍼부(210a) 상의 제1 전극 절연막(212)은 폴리머/알루마늄 산화막의 복층 구조를 가질 수 있다. 상기 폴리머는 상기 플라즈마에 손상되어 교체될 수 있다. 상기 몸체부(233)와 상기 제1 전극 몸체부(210b)는 서로 전기적으로 절연되어 축전기를 구성할 수 있다. 상기 축전기를 통하여 변위전류가 흐를 수 있다. 상기 전원(264)에서 공급되는 전류는 상기 축전기를 통하여 흐르는 상기 변위 전류와 상기 플라즈마를 통하여 흐르는 플라즈마 전류를 포함할 수 있다. 상기 변위 전류는 상기 플라즈마 전류보다 클 수 있다. 상기 변위 전류가 클수록 상기 플라즈마는 안정적으로 동작할 수 있다. 상기 축전기의 정전 용량을 증가시키기 위하여 상기 제1 전극 몸체부(210b)와 이에 대응하는 상기 몸체부(233)의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 접지될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 연결부(232), 지지부(234a), 및 보조 지지부(234b)를 포함할 수 있다. 상기 보조 지지부(234b)는 상기 연결부(232)와 상기 지지부(234a) 사이에 배치될 수 있다. 상기 지지부(234a)는 이중 원통 형상일 수 있다. 상기 지지부(234a)의 내부 원통(234d) 내에 상기 제1 전극 몸체부(210b)가 배치될 수 있다. 상기 보조 지지부(234b)는 상기 지지부(234a)의 외부 원통(234c)에 삽입되는 링 형상일 수 있다. 상기 보조 지지부(234b)는 상기 연결부(232)의 홈을 통하여 서로 고정될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 투껑(252)을 포함할 수 있다. 상기 뚜껑(252)은 상기 지지부(234b)의 내부 원통(234d)과 외부 원통(234c) 사이의 공간을 덥도록 배치될 수 있다. 상기 뚜껑(252) 상에 절연부(268)가 배치될 수 있다. 상기 절연부(268)를 관통하여 전원 플러그(266)가 배치될 수 있다. 상기 전원 플러그(266)는 상기 제1 전극(210)과 전기적으로 연결될 수 있다. The body portion 233 may be disposed adjacent to the other end of the first electrode 222. The body portion 233 may be disposed to surround the first electrode body portion 210b. The body portion 233 may be fixedly coupled to the first electrode 210. The body portion 233 may support the first electrode 210 and the second electrode 222. A first electrode insulating layer 212 may be disposed between the body portion 233 and the first electrode 210. The first electrode insulating layer 212 may have a different thickness according to a position. The thickness of the first electrode insulating layer 212 on the tapered portion 210a may be greater than the thickness of the first electrode insulating layer 212 on the first electrode body portion 210b. The first electrode insulating layer 212 on the tapered portion 210a may have a multilayer structure of a polymer / aluminum oxide layer. The polymer may be damaged by the plasma and replaced. The body 233 and the first electrode body 210b may be electrically insulated from each other to constitute a capacitor. Displacement current may flow through the capacitor. The current supplied from the power source 264 may include the displacement current flowing through the capacitor and the plasma current flowing through the plasma. The displacement current may be greater than the plasma current. As the displacement current increases, the plasma may operate stably. In order to increase the capacitance of the capacitor, the shape of the first electrode body portion 210b and the body portion 233 corresponding thereto may be variously modified. The body portion 233 may be grounded. The body part 233 may include a connection part 232, a support part 234a, and an auxiliary support part 234b. The auxiliary support part 234b may be disposed between the connection part 232 and the support part 234a. The support part 234a may have a double cylindrical shape. The first electrode body 210b may be disposed in the inner cylinder 234d of the support part 234a. The auxiliary support 234b may have a ring shape inserted into the outer cylinder 234c of the support 234a. The auxiliary support part 234b may be fixed to each other through the groove of the connection part 232. The body portion 233 may include a lid 252. The lid 252 may be disposed to cover a space between the inner cylinder 234d and the outer cylinder 234c of the support 234b. An insulation part 268 may be disposed on the lid 252. The power plug 266 may be disposed through the insulating part 268. The power plug 266 may be electrically connected to the first electrode 210.

상기 간격 조절부(270)는 상기 몸체부(233) 및/또는 상기 제2 전극(222)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 상기 테이퍼부(210a)와 상기 테이퍼부(210a)와 마주보고 있는 상기 제2 전극(222)의 간격을 조절할 수 있는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 상기 제2 전극(222)을 상기 제1 방향으로 상기 제1 전극(210)에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있다. 상기 플라즈마가 불안정한 경우, 상기 간절 조절부(270)는 상기 간격을 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 상기 몸체부(233)와 상기 제2 전극(222)의 어느 하나에 형성된 볼트부(274), 및 상기 몸체부(233)와 상기 제2 전극(222)의 다른 하나에 형성된 너트부(272)를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(274)와 상기 너트부(272)는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다. 상기 너트부(272)는 상기 제2 전극(222)의 하단에 형성될 수 있다. 상기 너트부(272)는 나사산과 결 합하는 그루브를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(274)는 상기 나사산을 포함할 수 있다. 상기 볼트부(272)는 상기 연결부(232)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 나사결합 구조 이외에 다른 구조로 변경될 수 있다.The gap controller 270 may be formed in the body 233 and / or the second electrode 222. The gap controller 270 may be variously modified as long as the gap controller 270 may adjust the gap between the taper 210a and the second electrode 222 facing the taper 210a. The gap controller 270 may move the second electrode 222 relative to the first electrode 210 in the first direction. When the plasma is unstable, the cut adjustment unit 270 may provide a stable plasma by adjusting the interval. The gap adjusting part 270 is a bolt part 274 formed on one of the body part 233 and the second electrode 222, and the other of the body part 233 and the second electrode 222. It may include a nut portion 272 formed in one. The bolt part 274 and the nut part 272 may be coupled to each other to adjust the gap. The nut part 272 may be formed at a lower end of the second electrode 222. The nut part 272 may include a groove that engages with a thread. The bolt portion 274 may include the thread. The bolt part 272 may be formed at the connection part 232. The gap adjusting unit 270 may be changed to another structure in addition to the screw coupling structure.

유체 공급부(282)는 상기 지지부(234a)의 외부 원통과 내부 원통 사이의 공간(282b) 및 상기 방전 공간(223)에 유체를 공급하는 노즐(282a)을 포함할 수 있다. 상기 노즐(282a)은 상기 지지부(234a)의 외부 원통과 내부 원통 사이의 공간(282b)으로부터 연결될 수 있다. 상기 노즐(282a)은 상기 연결부(232)에 형성될 수 있다. 상기 노즐(282a)은 제1 방향에 대하여 비스듬하게 배치될 수 있다. 상기 노즐(282)은 상기 연결부(232)의 중심축에 대하여 일정한 각도마다 규칙적으로 배치될 수 있다. 유량 조절부(246)은 상기 외부 원통과 내부 원통 사이의 공간(282b)에 유체를 공급할 수 있다.The fluid supply part 282 may include a space 282b between the outer cylinder and the inner cylinder of the support part 234a and a nozzle 282a for supplying a fluid to the discharge space 223. The nozzle 282a may be connected from the space 282b between the outer cylinder and the inner cylinder of the support 234a. The nozzle 282a may be formed in the connection portion 232. The nozzle 282a may be disposed obliquely with respect to the first direction. The nozzle 282 may be regularly arranged at a predetermined angle with respect to the central axis of the connection portion 232. The flow rate controller 246 may supply a fluid to the space 282b between the outer cylinder and the inner cylinder.

상기 유체는 케리어 가스 및/또는 반응 가스를 포함할 수 있다. 상기 케리어 가스는 헬륨, 아르곤 등의 불화성 가스, 및 질소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 반응 가스는 공정에 따라 다를 수 있다. 친수성화 처리용 반응 가스는 산소를 포함하는 가스일 수 있다. 예를 들어, 반응 가스는 산소, 이산화탄소, 및 일산화탄소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 친수성화 처리는 산화 과정을 통해서 피처리물()에 형성되는 산소 포함 그룹 (Oxygen-containing groups, -OH, -OOH )에 기인할 수 있다. 따라서, C=O 분자를 많이 형성하는 반응 가스가 바람직할 수 있다. 상기 플라즈마 및 상기 플라즈마에 의하여 생성된 부산물은 상기 플라즈마 출구(224)를 통하여 상기 피처리물에 제공되어 상기 피처리물을 친수성화시킬 수 있다. 상기 유체 공급부(282)는 상기 몸체부(233) 내에 형성될 수 있다. 상기 유체 공급부(282)는 유량 조절수단(246)에 연결될 수 있다.The fluid may comprise a carrier gas and / or a reactant gas. The carrier gas may include at least one of a fluorine gas such as helium and argon, and nitrogen. The reaction gas may vary depending on the process. The reaction gas for the hydrophilization treatment may be a gas containing oxygen. For example, the reaction gas may include at least one of oxygen, carbon dioxide, and carbon monoxide. The hydrophilization treatment may be attributable to oxygen-containing groups (-OH, -OOH) formed in the object to be treated through oxidation. Therefore, a reaction gas that forms a large number of C═O molecules may be desirable. The plasma and by-products generated by the plasma may be provided to the workpiece through the plasma outlet 224 to hydrophilize the workpiece. The fluid supply part 282 may be formed in the body part 233. The fluid supply part 282 may be connected to the flow rate adjusting means 246.

제3 전극(225)은 상기 제1 전극(222)으로부터 상기 제1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(225)과 상기 제1, 제2 전극(210,222) 사이에 상기 피처리물(미도시)이 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(225)은 접지될 수 있다. 상기 피처리물은 섬유, 기판, 폴리머, 반도체, 또는 금속일 수 있다. 상기 피처리물은 상기 플라즈마 출구(224)를 통과한 플라즈마 및/또는 부산물에 의하여 처리될 수 있다. 상기 피처리물과 상기 테이퍼부(210a)의 일단 사이에 보조 플라즈마가 생성될 수 있다. 상기 보조 플라즈마의 유효 면적은 상기 플라즈마의 유효면적보다 작을 수 있다. 상기 제3 전극(225)과 상기 테이퍼부(210a)의 일단 사이의 거리는 상기 테이퍼부(210a)와 상기 제2 전극(222) 사이의 거리보다 클 수 있다.The third electrode 225 may be spaced apart from the first electrode 222 in the first direction. The workpiece (not shown) may be disposed between the third electrode 225 and the first and second electrodes 210 and 222. The third electrode 225 may be grounded. The workpiece may be a fiber, a substrate, a polymer, a semiconductor, or a metal. The workpiece may be treated by plasma and / or byproducts that have passed through the plasma outlet 224. An auxiliary plasma may be generated between the workpiece and one end of the tapered portion 210a. The effective area of the auxiliary plasma may be smaller than the effective area of the plasma. The distance between the third electrode 225 and one end of the tapered portion 210a may be greater than the distance between the tapered portion 210a and the second electrode 222.

상기 전원(264)은 라디오 주파수(radio frequency: RF) 전원, AC 전원, 또는 DC 전원일 수 있다. 상기 전원이 RF 전원인 경우, 상기 전원(264)과 상기 제1 전극(210) 사이에 매칭 네트워크(262)가 배치될 수 있다.The power source 264 may be a radio frequency (RF) power source, an AC power source, or a DC power source. When the power source is an RF power source, a matching network 262 may be disposed between the power source 264 and the first electrode 210.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다. 도 5b는 도 5a의 II-II'선을 따라 자른 단면도이다.5A and 5B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 5A.

도 5a 및 도 5b를 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(300)는 제1 방향으로 테이퍼 형상을 포함하는 제1 전극들(310), 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 배열된 상기 제1 전극들(310)이 삽입되는 제2 전극(322), 상기 제1 전극들(310)에 전기적으로 연결되는 전원(364)을 포함하되, 상기 제1 전극들(310) 과 상기 제2 전극(322)은 균일한 간격을 유지하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다. 5A and 5B, the atmospheric pressure plasma apparatus 300 includes first electrodes 310 having a tapered shape in a first direction, and the first electrodes arranged in a second direction crossing the first direction. A second electrode 322 into which the electrodes 310 are inserted, and a power source 364 electrically connected to the first electrodes 310, wherein the first electrodes 310 and the second electrode ( 322 maintains a uniform gap, which may provide a discharge space.

상기 제1 전극은 테이퍼부(310a)를 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(310a)는 원뿔 형상일 수 있다. 상기 제1 전극(310)은 상기 테이퍼부(310a)에서 연장되어 일정한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부(310b)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 몸체부(310b)는 원기둥 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(310a)와 상기 제1 전극 몸체부(310b)는 한 몸일 수 있다. 상기 제1 전극(310)은 상기 전원(364)에 연결되어 대기압 플라즈마를 생성할 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(312)은 상기 제1 전극(310)의 둘레에 배치될 수 있다.The first electrode may include a tapered portion 310a. The tapered portion 310a may have a conical shape. The first electrode 310 may include a first electrode body 310b extending from the tapered portion 310a and having a constant cross section. The first electrode body 310b may have a cylindrical shape. The tapered portion 310a and the first electrode body 310b may be one body. The first electrode 310 may be connected to the power source 364 to generate an atmospheric plasma. The first electrode insulating layer 312 may be disposed around the first electrode 310.

상기 제2 전극(122)은 매트릭스 형태로 배열된 복수의 테이퍼 홀들을 포함하는 판형일 수 있다. 상기 테이퍼 홀들은 플라즈마 출구(324)와 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(322)과 상기 테이퍼부(310a) 사이의 공간은 방전 공간(323)을 제공할 수 있다. 상기 제2 전극(122)의 형태는 상기 테이퍼부(310a)와 일정한 간격을 유지하는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 테이퍼 홀(322a)의 각도는 일정할 수 있다. 상기 테이퍼 홀(322a)의 각도와 상기 테이퍼부의 각도는 같을 수 있다. 상기 플라즈마 출구(324)의 지름은 상기 테이퍼 홀(322a)의 지름보다 작을 수 있다. 상기 방전 공간(323)에 생성된 플라즈마는 상기 플라즈마 출구(324)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 제2 전극(322)은 접지될 수 있다.The second electrode 122 may have a plate shape including a plurality of tapered holes arranged in a matrix form. The tapered holes may be connected to the plasma outlet 324. The space between the second electrode 322 and the tapered portion 310a may provide a discharge space 323. The shape of the second electrode 122 may be variously modified as long as it maintains a constant distance from the tapered portion 310a. The angle of the tapered hole 322a may be constant. An angle of the tapered hole 322a and an angle of the tapered part may be the same. The diameter of the plasma outlet 324 may be smaller than the diameter of the tapered hole 322a. The plasma generated in the discharge space 323 may be diffused through the plasma outlet 324. The second electrode 322 may be grounded.

몸체부(333)는 상기 제2 전극(322)과 분리 결합할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 원통 형상일 수 있다. 상기 몸체부(333)의 내 반경은 상기 테이퍼 홀(322a)의 최대 반경과 실질적으로 일치할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 상기 제1 전극 몸체부(310b)와 서로 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 상기 제1 전극 몸체부(310b)를 둘러싸도록 배치될 수 있다.The body portion 333 may be separately coupled to the second electrode 322. The body portion 333 may have a cylindrical shape. An inner radius of the body portion 333 may substantially coincide with a maximum radius of the tapered hole 322a. The body portion 333 may be fixedly coupled to the first electrode body portion 310b. The body portion 333 may be disposed to surround the first electrode body portion 310b.

상기 몸체부(333)는 상기 제1 전극 몸체부(310b)와 축전기를 구성할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 상기 제2 전극(310)과 결합하는 연결 몸체부(332)와 상기 제1 전극 몸체부(310b)를 지지하는 지지부(334)를 포함할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 접지될 수 있다.The body portion 333 may constitute a capacitor with the first electrode body portion 310b. The body part 333 may include a connection body part 332 coupled to the second electrode 310 and a support part 334 supporting the first electrode body part 310b. The body portion 333 may be grounded.

상기 간격 조절부(370)는 상기 몸체부(333)와 상기 제2 전극(322)의 어느 하나에 형성된 볼트부(374), 및 상기 몸체부(333)와 상기 제2 전극(322)의 다른 하나에 형성된 너트부(372)를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(374)와 상기 너트부(372)는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다. 상기 너트부(372)는 상기 제2 전극(322)에 형성될 수 있다. 상기 너트부(372)는 나사산과 결합하는 그루브를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(374)는 상기 나사산을 포함할 수 있다. 상기 볼트부(372)는 상기 연결 몸체부(332)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(370)는 나사결합 구조 이외에 다른 구조로 변경될 수 있다.The gap adjusting part 370 is a bolt part 374 formed at any one of the body part 333 and the second electrode 322, and the other of the body part 333 and the second electrode 322. It may include a nut portion 372 formed on one. The bolt part 374 and the nut part 372 may be coupled to each other to adjust the gap. The nut part 372 may be formed on the second electrode 322. The nut part 372 may include a groove coupled with a thread. The bolt part 374 may include the screw thread. The bolt part 372 may be formed in the connection body part 332. The gap adjusting unit 370 may be changed to another structure in addition to the screw coupling structure.

상기 유체 공급부(382)는 상기 몸체부(333) 내부에 형성될 수 있다. 상기 유체 공급부(382)는 상기 지지부(334)의 중심축 방향으로 나란히 진행하는 복수의 유체 관통홀들(382b)을 포함할 수 있다. 상기 유체 관통홀들(382b)은 상기 지지부(334)의 중심축을 기준으로 일정한 각도를 유지하며 배치될 수 있다.The fluid supply part 382 may be formed in the body part 333. The fluid supply part 382 may include a plurality of fluid through holes 382b running side by side in the direction of the central axis of the support part 334. The fluid through holes 382b may be disposed while maintaining a constant angle with respect to the central axis of the support part 334.

상기 유체 관통홀(382b)은 상기 테이퍼부(310a)와 상기 연결부(332)가 서로 마주보는 영역에 인접하여 배치된 노즐(382a)과 연결될 수 있다. 상기 노즐(382a)은 유체를 상기 방전 공간(323)에 제공할 수 있다. 뚜껑(352)은 상기 몸체부(333)일단에 배치될 수 있다. 상기 뚜껑(352)은 상기 몸체부(333)와 결합할 수 있다. 상기 뚜껑(352)은 도전성 또는 절연성 물질일 수 있다. 절연판(354)은 상기 뚜껑(352)에 삽입되어 배치될 수 있다. 상기 절연판(354)과 상기 몸체부(33)는 유체 혼합 공간(382c)을 제공할 수 있다. 상기 유체 혼합 공간(382c)은 상기 관통홀들(382b)에게 연결될 수 있다. 상기 절연판(354)의 중심에는 전극 플러그(366)가 배치될 수 있다. 상기 전극 플러그(366)는 상기 제1 전극(310)과 전기적으로 연결하는 수단일 수 있다. 상기 전극 플러그(366)에 상기 전원(364)이 연결될 수 있다. 매칭 네트워크(362)는 상기 전원(364)과 상기 전극 플러그(366) 사이에 배치될 수 있다.The fluid through hole 382b may be connected to a nozzle 382a disposed adjacent to an area where the tapered portion 310a and the connection portion 332 face each other. The nozzle 382a may provide a fluid to the discharge space 323. The lid 352 may be disposed at one end of the body portion 333. The lid 352 may be coupled to the body portion 333. The lid 352 may be a conductive or insulating material. The insulating plate 354 may be inserted into the lid 352 and disposed. The insulating plate 354 and the body portion 33 may provide a fluid mixing space 382c. The fluid mixing space 382c may be connected to the through holes 382b. An electrode plug 366 may be disposed at the center of the insulating plate 354. The electrode plug 366 may be a means for electrically connecting with the first electrode 310. The power source 364 may be connected to the electrode plug 366. The matching network 362 may be disposed between the power source 364 and the electrode plug 366.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다.2A and 2B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다. 5A and 5B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.

Claims (18)

제1 방향으로 대칭적인 테이퍼 형상을 가지는 테이퍼부를 포함하는 제1 전극;A first electrode including a taper having a tapered shape symmetric in a first direction; 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부의 둘레에 배치되고 상기 제1 방향으로 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극; 및A second electrode disposed around the tapered portion of the first electrode and including a plasma outlet in the first direction; And 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원을 포함하되,Include a power source electrically connected to the first electrode, 상기 테이퍼부와 상기 제2 전극 사이의 간격은 균일하게 유지되고, 상기 간격은 방전 공간을 제공하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.Wherein the gap between the tapered portion and the second electrode is maintained uniformly, the gap providing a discharge space. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 간격을 조절하는 간격 조절부를 더 포함하되, 상기 간격의 조절은 안정적인 플라즈마를 제공하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.And a spacing controller for adjusting the spacing, wherein the spacing of the spacing provides a stable plasma. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 플라즈마 및 상기 플라즈마에 의하여 생성된 부산물은 상기 플라즈마 출구를 통하여 피처리체에 제공되어 상기 피처리체를 친수성화시키는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.And the plasma and by-products generated by the plasma are provided to the workpiece through the plasma outlet to hydrophilize the workpiece. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 상기 제1 전극의 표면에 배치되는 제1 전극 절연막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.Atmospheric pressure plasma apparatus further comprises a first electrode insulating film disposed on the surface of the first electrode. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.Atmospheric pressure plasma apparatus further comprises a fluid supply for supplying a fluid to the discharge space. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제2 전극과 상기 제1 방향으로 이격되어 배치된 제3 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.And a third electrode spaced apart from the second electrode in the first direction. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제1 전극에 결합하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 지지하는 몸체부를 더 포함하되,Further comprising a body portion coupled to the first electrode to support the first electrode and the second electrode, 상기 제2 전극과 상기 몸체부는 축전기를 형성하여 변위전류를 제공하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.And the second electrode and the body portion form a capacitor to provide a displacement current. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 테이퍼부는 원뿔 형상 또는 절두 원뿔 형상인 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.The tapered portion is atmospheric pressure plasma apparatus, characterized in that the conical shape or truncated cone shape. 제8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 제2 전극과 분리결합하는 몸체부를 더 포함하되,Further comprising a body portion to be separated and coupled to the second electrode, 상기 제1 전극은 상기 테이퍼부에서 연장되어 일정한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부를 더 포함하고,The first electrode further includes a first electrode body portion extending from the tapered portion and having a constant cross section. 상기 몸체부는 상기 제2 전극 몸체부는 서로 고정 결합하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.The body portion atmospheric pressure plasma apparatus, characterized in that the second electrode body portion fixed to each other. 제9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 간격을 조절하는 간결 조절부를 더 포함하되,Further comprising a short adjusting unit for adjusting the spacing, 상기 간격 조절부는:The gap adjusting unit: 상기 몸체부와 상기 제2 전극의 어느 하나에 형성된 볼트부; 및A bolt portion formed on one of the body portion and the second electrode; And 상기 몸체부와 상기 제2 전극의 다른 하나에 형성된 너트부를 포함하고, A nut part formed on the other of the body part and the second electrode, 상기 볼트부와 상기 너트부는 서로 결합하여 상기 간격을 조절하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.Atmospheric pressure plasma apparatus characterized in that the bolt portion and the nut portion are coupled to each other to adjust the gap. 테이퍼부를 포함하는 제1 전극;A first electrode including a tapered portion; 상기 제1 전극의 표면에 배치된 제1 전극 절연막;A first electrode insulating film disposed on the surface of the first electrode; 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부를 감싸도록 배치되고 상기 테이퍼부의 단면이 감소하는 영역에 배치된 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극; A second electrode disposed to surround the tapered portion of the first electrode and including a plasma outlet disposed in an area where a cross section of the tapered portion decreases; 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원;A power source electrically connected to the first electrode; 상기 제2 전극과 상기 테이퍼부는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부;A spacing controller configured to maintain a uniform spacing and adjust the spacing between the second electrode and the tapered portion; 상기 제2 전극 및 상기 제1 전극을 지지하는 몸체부; 및A body part supporting the second electrode and the first electrode; And 상기 간격에 의하여 제공되는 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 포함하되,It includes a fluid supply for supplying a fluid to the discharge space provided by the gap, 상기 간격 조절부는 상기 간격을 가변시키어 안정적인 플라즈마 방전을 제공하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.The gap adjusting unit may vary the gap to provide stable plasma discharge. 제11 항에 있어서, 12. The method of claim 11, 상기 유체공급부는 상기 제2 전극에 형성되어 상기 방전 공간에 상기 유체를 공급하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.And the fluid supply part is formed at the second electrode to supply the fluid to the discharge space. 제11 항에 있어서, 12. The method of claim 11, 상기 제1 전극은 테이퍼부, 균일한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부, 상기 테이퍼부와 상기 제1 전극 몸체부를 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하고,The first electrode includes a tapered portion, a first electrode body portion having a uniform cross section, and a first electrode connection portion connecting the tapered portion and the first electrode body portion. 상기 제1 전극 연결부는 상기 제2 전극과 상기 제1 전극 연결부 사이에 버퍼 공간을 제공하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.And the first electrode connector provides a buffer space between the second electrode and the first electrode connector. 제11 항에 있어서, 12. The method of claim 11, 상기 몸체부는 상기 제1 전극을 지지하는 지지부 및 상기 제2 전극과 연결되는 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.The body portion includes an atmospheric pressure plasma apparatus comprising a support portion for supporting the first electrode and a connection portion connected to the second electrode. 제1 방향으로 테이퍼 형상을 포함하는 제1 전극들;First electrodes having a tapered shape in a first direction; 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 배열된 상기 제1 전극들이 삽입되는 제2 전극;A second electrode into which the first electrodes arranged in a second direction crossing the first direction are inserted; 상기 제1 전극들에 전기적으로 연결되는 전원을 포함하되,A power source electrically connected to the first electrodes, 상기 제1 전극들과 상기 제2 전극은 균일한 간격을 유지하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.And the first electrodes and the second electrode maintain a uniform gap, and the gap provides a discharge space. 테이퍼부를 포함하는 제1 전극;A first electrode including a tapered portion; 상기 제1 전극의 둘레에 배치된 제1 전극 절연막;A first electrode insulating film disposed around the first electrode; 상기 테이퍼부의 둘레에 배치되고 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극; A second electrode disposed around the tapered portion and including a plasma outlet; 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원;A power source electrically connected to the first electrode; 상기 제2 전극과 상기 테이퍼부는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부; 및A spacing controller configured to maintain a uniform spacing and adjust the spacing between the second electrode and the tapered portion; And 상기 제1 전극과 결합하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 지지하는 몸체부를 포함하되,A body part coupled to the first electrode to support the first electrode and the second electrode, 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부와 상기 제2 전극 사이의 간격은 균일하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 오염물 처 리 장치.And the gap between the tapered portion of the first electrode and the second electrode is uniform and the gap provides a discharge space. 제 16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 더 포함하되,Further comprising a fluid supply for supplying a fluid to the discharge space, 상기 유체 공급부는 상기 몸체부에 형성되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 오염물 처리 장치.And said fluid supply part is formed in said body portion. 제 17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 몸체부는 내부 원통 및 외부 원통을 포함하는 이중 원통 형상이고, 상기 유체 공급부는 상기 내부 원통과 상기 외부 원통 사이의 공간에 의하여 제공되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 오염물 처리 장치.The body portion is a double-cylindrical shape including an inner cylinder and an outer cylinder, wherein the fluid supply portion is provided by the space between the inner cylinder and the outer cylinder, atmospheric pressure plasma contaminant treatment apparatus.
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