KR20100118842A - Atomspheric pressure plasma apparatus and atomspheric pressure plasma contamination processing apparatus - Google Patents
Atomspheric pressure plasma apparatus and atomspheric pressure plasma contamination processing apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100118842A KR20100118842A KR1020090037752A KR20090037752A KR20100118842A KR 20100118842 A KR20100118842 A KR 20100118842A KR 1020090037752 A KR1020090037752 A KR 1020090037752A KR 20090037752 A KR20090037752 A KR 20090037752A KR 20100118842 A KR20100118842 A KR 20100118842A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrode
- plasma
- tapered portion
- gap
- body portion
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32541—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32091—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being capacitively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
- H01J37/32183—Matching circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32559—Protection means, e.g. coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32568—Relative arrangement or disposition of electrodes; moving means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/4645—Radiofrequency discharges
- H05H1/466—Radiofrequency discharges using capacitive coupling means, e.g. electrodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
본 발명의 플라즈마 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로 대기압 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma apparatus, and more particularly to an atmospheric pressure plasma apparatus.
본 발명은 산업자원부의 산업기술개발사업의 일환으로 수행한 연구로부터 도출된 것이다[과제명: 반도체 진공공정 실시간 측정기술 개발].The present invention is derived from a study conducted as part of the industrial technology development project of the Ministry of Commerce, Industry and Energy [project name: development of real-time measurement technology of semiconductor vacuum process].
세탁이란 의류에 묻어 있는 오물이나 더러운 때를 충격, 마찰, 진동 등의 기계적인 힘과 세제의 화학작용에 의해 분리시켜 의류 본래의 아름다움과 위생적 기능을 회복시키는 동시에 의류의 원형을 회복하여 내구성을 향상시켜 주는 것이다. 물만으로 세탁을 할 경우, 수용성 오염물은 의류로부터 분리시킬 수 있다. 그러나,유용성 오염물은 물에 녹지 않기 때문에 세탁이 잘 이루어지지 않는다. 세제를 물에 첨가하여 세탁을 하게 되면, 세제는 물과 비슷한 (혹은 물을 좋아하는, hydrophilic) 성질과 기름과 비슷한 (혹은 물을 싫어하고, hydrophobic) 성질을 동시에 지닌 양친매성 (amphiphilic) 물질로서, 계면활성제 (surfactant) 역할을 한 다. 세제는 유용성 오염물질을 감싸 물에 녹임으로써 섬유로부터 유용성 오염물질을 제거할 수 있다. 이때, 세탁기의 기계적인 힘은 세제를 섬유 깊숙이 흡수시켜 오염물을 빨리 섬유로부터 떨어질 수 있도록 돕는 역할을 한다. 이러한 기본적인 세탁 기작은 모든 세탁기에 적용될 수 있다. 최근에 개발된 버블 세탁기의 경우, 버블은 세제 전달력이 뛰어나므로 섬유에 넓은 면적으로 빠르게 흡수되어 소멸되므로 세탁력 향상과 헹굼 성능을 향상시킬 수 있다. 따라서, 시간과 에너지 절약이 가능하다. 그리고 스팀 기능 및/또는 삶는 기능 등을 추가하여 살균 효과를 가진 세탁기들도 출시되고 있다. 이러한 고온을 가하여 살균하는 방식은 섬유 손상 및 높은 전력 소모의 문제점을 안고 있다. 뿐만 아니라, 합성 세제를 사용하는 세탁은 환경 오염을 유발할 수 있다. 합성 세제는 미생물에 의해서 잘 분해되지 않으며, 물속으로 통과하는 빛을 가로막아 수생식물의 광합성을 저해하고, 산소공급을 차단해 하천의 자정능력을 현저히 저하시킨다. 그리고 합성 세제에 들어있는 세척촉진제인 인산염은 식물성 플랑크톤의 영양소로 작용해 하천의 부영양화 현상을 초래하여 물고기뿐만 아니라 다른 수생식물마저도 죽게 되는 적조현상을 야기할 수 있다. 세탁은 세탁력 향상과 세탁과 헹굼 시 소비되는 물과 전력량 절약을 요구하고, 또한, 세탁은 환경 친화적일 것을 요구한다. Washing separates dirt and dirt from clothing by mechanical force such as shock, friction and vibration and chemical action of detergent, restoring the original beauty and hygienic function of clothing and at the same time recovering the original shape of clothing to improve durability. It is to let you. In case of washing only with water, water-soluble contaminants can be separated from clothes. However, since the oil-soluble contaminants are insoluble in water, the washing is difficult. When washing with detergent added to water, the detergent is an amphiphilic substance that has both water-like (or water-loving, hydrophilic) and oil-like (or water-dislike, hydrophobic) properties. It acts as a surfactant. Detergents can remove oil-soluble contaminants from fibers by wrapping them in water and dissolving in water. At this time, the mechanical force of the washing machine serves to absorb the detergent deep into the fiber so that the contaminants can be quickly removed from the fiber. This basic washing mechanism can be applied to all washing machines. In the case of the recently developed bubble washing machine, since the bubble has excellent detergent delivery power, the bubble is quickly absorbed and dissipated in a large area of the fiber and thus disappears, thereby improving washing power and rinsing performance. Thus, time and energy savings are possible. In addition, washing machines that have a sterilizing effect by adding steam function and / or boil function are also on the market. The sterilization method by applying high temperature has problems of fiber damage and high power consumption. In addition, laundry using synthetic detergents can cause environmental pollution. Synthetic detergents are not easily degraded by microorganisms, blocking the light passing through the water, inhibiting photosynthesis of aquatic plants, blocking oxygen supply, and significantly lowering the river's self-cleaning ability. In addition, phosphate, a cleaning promoter in synthetic detergents, acts as a nutrient for phytoplankton, causing eutrophication of streams, causing red tide that kills not only fish but also other aquatic plants. Washing requires improvement in washing power and saving of water and power consumed during washing and rinsing, and washing is also required to be environmentally friendly.
세탁기뿐만 아니라 청소기에도 사용되고 있는 스팀 기능은, 물을 전기 에너지를 이용하여 가열, 기화시켜 열전달을 통해 살균 기능을 한다. 이때 열의 효과적인 전달이 이루어지지 않으므로 살균 효과의 한계가 존재한다. 그리고 전기소모량이 높아 효율적이지 못하다. The steam function, which is used in not only a washing machine but also a cleaner, heats and vaporizes water using electric energy and sterilizes it through heat transfer. At this time, there is a limit of bactericidal effect because no effective heat transfer. In addition, the electricity consumption is not efficient.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 대기압 플라즈마 장치를 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable atmospheric pressure plasma apparatus by adjusting the distance between the electrodes.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 대기압 플라즈마 오염물 처리 장치를 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable atmospheric pressure plasma contaminant treatment apparatus by adjusting the distance between the electrodes.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 제1 방향으로 대칭적인 테이퍼 형상을 가지는 테이퍼부를 포함하는 제1 전극, 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부의 둘레에 배치되고 상기 제1 방향으로 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극, 및 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원을 포함하되, 상기 테이퍼부와 상기 제2 전극 사이의 간격은 균일하게 유지되고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다.An atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a first electrode including a tapered portion having a tapered shape symmetrically in a first direction, disposed around the tapered portion of the first electrode, and providing a plasma outlet in the first direction. And a second electrode, and a power source electrically connected to the first electrode, wherein a distance between the tapered portion and the second electrode is maintained uniformly, and the gap may provide a discharge space.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 간격을 조절하는 간격 조절부를 더 포함하되, 상기 간격의 조절은 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a gap adjusting unit for adjusting the gap, the adjustment of the gap can provide a stable plasma.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 플라즈마 및 상기 플라즈마에 의하여 생성된 부산물은 상기 플라즈마 출구를 통하여 피처리체에 제공되어 상기 피처리체를 친수성화시킬 수 있다.In one embodiment of the present invention, the plasma and by-products generated by the plasma may be provided to the object through the plasma outlet to hydrophilize the object.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 전극의 표면에 배치되는 제1 전극 절연막을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it may further include a first electrode insulating film disposed on the surface of the first electrode.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it may further include a fluid supply for supplying a fluid to the discharge space.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 전극과 상기 제1 방향으로 이격되어 배치된 제3 전극을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it may further include a third electrode spaced apart from the second electrode in the first direction.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 전극에 결합하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 지지하는 몸체부를 더 포함하되, 상기 제2 전극과 상기 몸체부는 축전기를 형성하여 변위전류를 제공할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a body portion coupled to the first electrode to support the first electrode and the second electrode, the second electrode and the body portion to form a capacitor to provide a displacement current can do.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 테이퍼부는 원뿔 형상 또는 절두 원뿔 형상일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the tapered portion may be a cone shape or truncated cone shape.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 전극과 분리 결합하는 몸체부를 더 포함하되, 상기 제1 전극은 상기 테이퍼부에서 연장되어 일정한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부를 더 포함하고, 상기 몸체부는 상기 제2 전극 몸체부는 서로 고정 결합할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a body portion separated and coupled to the second electrode, the first electrode further includes a first electrode body portion having a constant cross-section extending from the tapered portion, the body portion The second electrode body may be fixedly coupled to each other.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 간격을 조절하는 간결 조절부를 더 포함하되, 상기 간격 조절부는 상기 몸체부와 상기 제2 전극의 어느 하나에 형성된 볼트부, 및 상기 몸체부와 상기 제2 전극의 다른 하나에 형성된 너트부를 포함하고, 상기 볼트부와 상기 너트부는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a short adjusting portion for adjusting the gap, wherein the gap adjusting portion bolt portion formed in any one of the body portion and the second electrode, and the body portion and the second electrode It includes a nut portion formed in the other, the bolt portion and the nut portion can be combined with each other to adjust the gap.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 테이퍼부를 포함하는 제1 전극, 상기 제1 전극의 표면에 배치된 제1 전극 절연막, 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부를 감싸도록 배치되고 상기 테이퍼부의 단면이 감소하는 영역에 배치된 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극, 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원, 상기 제2 전극과 상기 테이퍼부는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부, 상기 제2 전극 및 상기 제1 전극을 지지하는 몸체부, 및 상기 간격에 의하여 제공되는 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 포함하되, 상기 간격 조절부는 상기 간격을 가변시키어 안정적인 플라즈마 방전을 제공할 수 있다.An atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a first electrode including a tapered portion, a first electrode insulating layer disposed on a surface of the first electrode, and a taper portion of the first electrode disposed to surround the tapered portion. A second electrode including a plasma outlet disposed in the decreasing region, a power source electrically connected to the first electrode, the second electrode and the taper portion having a uniform gap and a gap adjusting part for adjusting the gap; And a fluid supply part supplying a fluid to the discharge space provided by the gap, wherein the body part supports the second electrode and the first electrode, and the gap adjusting part is configured to vary the gap to provide stable plasma discharge. Can be.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 유체공급부는 상기 제2 전극에 형성되어 상기 방전 공간에 상기 유체를 공급할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the fluid supply unit may be formed in the second electrode to supply the fluid to the discharge space.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 전극은 테이퍼부, 균일한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부, 상기 테이퍼부와 상기 제1 전극 몸체부를 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하고, 상기 제1 전극 연결부는 상기 제2 전극과 상기 제1 전극 연결부 사이에 버퍼 공간을 제공할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first electrode includes a tapered portion, a first electrode body portion having a uniform cross section, a first electrode connecting portion connecting the tapered portion and the first electrode body portion, The first electrode connector may provide a buffer space between the second electrode and the first electrode connector.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 몸체부는 상기 제1 전극을 지지하는 지지부 및 상기 제2 전극과 연결되는 연결부를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the body portion may include a support portion for supporting the first electrode and a connection portion connected to the second electrode.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 제1 방향으로 테이퍼 형상을 포함하는 제1 전극들, 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 배열된 상기 제1 전극들이 삽입되는 제2 전극, 상기 제1 전극들에 전기적으로 연결되는 전원을 포함하되, 상기 제1 전극들과 상기 제2 전극은 균일한 간격을 유지하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a first electrode having a tapered shape in a first direction, a second electrode in which the first electrodes arranged in a second direction crossing the first direction is inserted, And a power source electrically connected to the first electrodes, wherein the first electrodes and the second electrode maintain a uniform interval, and the interval may provide a discharge space.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 오염물 처리 장치는 테이퍼부를 포함하는 제1 전극, 상기 제1 전극의 둘레에 배치된 제1 전극 절연막, 상기 테이퍼부의 둘레에 배치되고 플라즈마 출구를 포함하는 제2 전극, 상기 제1 전극에 전기적으로 연결되는 전원, 상기 제2 전극과 상기 테이퍼부는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부, 및 상기 제1 전극과 결합하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 지지하는 몸체부를 포함하되, 상기 제1 전극의 상기 테이퍼부와 상기 제2 전극 사이의 간격은 균일하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다.Atmospheric pressure plasma contaminant treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is a first electrode including a tapered portion, a first electrode insulating film disposed around the first electrode, a second disposed around the tapered portion and includes a plasma outlet An electrode, a power source electrically connected to the first electrode, the second electrode and the tapered portion maintain a uniform gap, and a gap adjusting part for adjusting the gap, and in combination with the first electrode, the first electrode and the It includes a body portion for supporting a second electrode, wherein the interval between the tapered portion of the first electrode and the second electrode is uniform, the interval may provide a discharge space.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 방전 공간에 유체를 공급하는 유체 공급부를 더 포함하되, 상기 유체 공급부는 상기 몸체부에 형성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, further comprising a fluid supply for supplying a fluid to the discharge space, the fluid supply may be formed in the body portion.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 몸체부는 내부 원통 및 외부 원통을 포함하는 이중 원통 형상이고, 상기 유체 공급부는 상기 내부 원통과 상기 외부 원통 사이의 공간에 의하여 제공될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the body portion is a double cylinder shape including an inner cylinder and an outer cylinder, the fluid supply may be provided by a space between the inner cylinder and the outer cylinder.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마는 기존의 세탁 기작의 보완으로 세탁력을 향상시키면서 물, 세제 사용량을 감소시켜 환경 친화적인 세탁을 가능하게 할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마는 살균력의 향상을 가져오고 이것은 세탁기 뿐아니라 청소기에도 적용 가능하다. Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable plasma by adjusting the distance between the electrodes. The atmospheric plasma may enable environmentally friendly washing by reducing the amount of water and detergent while improving washing power by supplementing existing washing mechanisms. The atmospheric plasma results in an increase in sterilization power, which is applicable to cleaners as well as washing machines.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 기존의 세제와 물리적인 힘을 사용하는 세탁 기작의 보완으로 대기압 플라즈마를 사용하여 세탁력 향상, 살균 효과 증진과 더불어 환경 친화적 세탁을 제공할 수 있다. 그리고 상기 대기압 플라즈마 장치는 대기압에서 플라즈마를 형성하여 세탁기 이외에 청소기 등에도 응용이 가능하다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide an environmentally friendly laundry with improved washing power, sterilization effect by using atmospheric pressure plasma to complement the washing mechanism using the conventional detergent and physical force. In addition, the atmospheric pressure plasma apparatus may be applied to a vacuum cleaner in addition to a washing machine by forming a plasma at atmospheric pressure.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 대기압 플라즈마를 이용하여 표면 처리 효과, 살균 효과 등을 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마 장치는 대기압 플라즈마 처리를 통하여 섬유에 남아있는 오염 물질의 표면특성을 친수성화시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 섬유의 세탁 효과는 증가할 수 있고, 세제 사용량과 헹굼 시 소비되는 물의 양은 감소할 수 있다. 또한, 상기 섬유의 상기 플라즈마 처리는 친환경적인 세탁을 제공할 수 있다. 또한 상기 플라즈마 처리는 자외선 복사, 열, 화학적 활성화 종들(라디칼), 및 전하 입자들에 의한 복합적인 작용에 의하여 효과적으로 박테리아를 비활성화시킬 수 있다. 상기 플라즈마 처리는 통삭적인 세탁기의 오직 열에 의한 살균 효과를 개선할 수 있다. 또한 상기 플라즈마 처리는 스팀 청소기 또는 밥솥에도 적용 가능하다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a surface treatment effect, sterilization effect and the like using the atmospheric plasma. The atmospheric plasma apparatus may hydrophilize the surface characteristics of the contaminants remaining in the fiber through the atmospheric plasma treatment. Accordingly, the washing effect of the fiber can be increased, the amount of detergent used and the amount of water consumed during rinsing can be reduced. In addition, the plasma treatment of the fibers can provide environmentally friendly washing. The plasma treatment can also effectively inactivate bacteria by the combined action of ultraviolet radiation, heat, chemically activated species (radicals), and charge particles. The plasma treatment can improve the heat sterilization effect of the conventional washing machine only. In addition, the plasma treatment may be applied to a steam cleaner or a rice cooker.
세제의 계면활성제 기능과 세탁기의 기계적인 힘을 이용한 기본적인 세탁 기작의 한계와 문제점을 플라즈마 처리를 사용하여 보완 개선할 수 있다. 즉, 플라즈마 처리를 통하여 오염물은 친수성화되어 물에 잘 용해될 수 있다. 상기 플라즈마 처리는 세제량을 줄이면서도 높은 세탁력 향상 효과를 제공할 수 있다. 또한 상기 플라즈마 처리는 활성종들에 의한 살균 효과가 탁월하여 기존의 열에 의한 살균작용을 보완한다. 즉, 세제와 물, 전력 소비량을 줄여 환경 친화적 세탁을 가능케 한다. The limitations and problems of the basic washing mechanism using the detergent function of the detergent and the mechanical power of the washing machine can be supplemented and improved by using plasma treatment. In other words, the contaminants may be hydrophilized through plasma treatment and dissolved in water. The plasma treatment may provide a high washing power improvement effect while reducing the amount of detergent. In addition, the plasma treatment is excellent in the sterilization effect by the active species to complement the conventional heat sterilization action. In other words, it reduces the consumption of detergents, water and power, enabling environmentally friendly laundry.
본 명세서에서 대기압이라 함은 엄밀한 의미의 대기압 이외에도 그와 유사한 대기압 부근의 압력을 포함한다. In the present specification, the atmospheric pressure includes a pressure in the vicinity of the atmospheric pressure in addition to the atmospheric pressure in the strict sense.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극들 사이의 거리 조절이 가능함으로써 여러 가지 가스 사용에 의한 다양한 매칭 컨디션을 충족시킬 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can adjust the distance between the electrodes can satisfy a variety of matching conditions by the use of various gases.
본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 오염물을 친수성화 처리할 수 있다. 즉, 상기 친수성화 처리는 플라즈마 및/또는 상기 플라즈마에 의하여 생성된 활성종(라디칼)들에 의해 이루어질 수 있다.Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can hydrophilize the contaminants. That is, the hydrophilization treatment may be performed by plasma and / or active species (radicals) generated by the plasma.
통상적인, 고주파를 사용하는 방전의 안정성은 부하의 특성에 의존할 수 있다. 상기 부하의 특성은 사용가스, 사용 압력, 전극 사이의 거리 등에 의존할 수 있다. 그러나, 통상적인 대기압 플라즈마 장치는 사용 가스나 사용 압력이 변경되는 경우 플라즈마의 안정성이 확보되기 어렵다. 본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치는 전극 사이의 거리를 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. Conventional, the stability of the discharge using high frequency may depend on the characteristics of the load. The nature of the load may depend on the gas used, the pressure used, the distance between the electrodes, and the like. However, the conventional atmospheric plasma apparatus is difficult to ensure the stability of the plasma when the use gas or use pressure is changed. Atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention can provide a stable plasma by adjusting the distance between the electrodes.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(10)는 제1 방향으로 대칭적인 테이퍼부(14a)를 포함하는 제1 전극(14), 상기 제1 전극(14)의 상기 테이퍼부(14a) 둘레에 배치되고 상기 제1 방향으로 플라즈마 출구(17)를 포함하는 제2 전극(12), 및 상기 제1 전극(14)에 전기적으로 연결되는 전원(18)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)와 상기 제2 전극(12)의 간격(d1)은 균일하게 유지되고, 상기 간격(d1)은 방전 공간(23)을 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마 장치(10)는 상기 간격(d1)을 조절하는 간격 조절부(15)를 포함할 수 있다. 상기 간격의 조절은 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다.Referring to FIG. 1, the atmospheric
상기 제1 전극(14)은 도전성 물질일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)는 상기 제1 전극(14)의 중심축을 기준으로 상기 제1 방향으로 진행함에 따라 상기 테이퍼부(14a)의 단면적은 감소할 수 있다. 상기 테이퍼부는 원뿔 형상 또는 절두 원뿔 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 중심축과 테이퍼 면 사이의 테이퍼 각은 일정할 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)는 상기 중심축을 중심으로 대칭적일 수 있다. 상기 제1 전극(14)의 표면에 제1 전극 절연막(13)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(13)은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제1 절연막(13)은 금속산화막, 금속산화질화막, 유전체막, 고무, 아크릴, 폴리이미드, 및 폴리머 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(13)의 두께는 수십 um 내지 수 mm 일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c)은 상기 플라즈마 출구(17)를 향하여 배치될 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c)은 곡선 형상을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 곡선 형상은 전계(또는 전기장)의 집중에 의한 아크 방전을 감소시킬 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(113)은 복층 구조일 수 있다. 상기 제1 전 극 절연막(113)은 알루미늄 산화막/폴리막의 이중 구조일 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c)의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 제1 전극(14)은 제1 전극 몸체부(14b)를 포함할 수 있다.The
상기 테이퍼부(14a)는 표면에 형성된 그루브(19)를 포함할 수 있다. 상기 그루브(19)는 전계의 형태를 바꾸어 할로우 케소드 방전을 유도할 수 있다. 이에 따라, 상기 할로우 케소드 방전은 플라즈마(21) 및 부산물의 생성율을 증가시킬 수 있다. 본 발명의 변형된 실시예에 따르면, 상기 그루브(19)는 상기 테이퍼부를 마주보는 상기 제2 전극(12)의 표면에 형성될 수 있다.The tapered
상기 제2 전극(12)은 상기 제1 전극(14)의 주위에 배치될 수 있다. 또는 상기 제2 전극(12)은 상기 제1 전극(14)의 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(12)은 상기 제1 전극(14)과 일정한 간격을 유지하도록 테이퍼 홀(12a)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)는 상기 테이퍼 홀(12a)에 삽입될 수 있다. 상기 테이퍼 홀(12a) 상에 제2 전극 절연막(미도시)이 배치될 수 있다. 상기 제2 전극 절연막은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제2 전극(12)은 플라즈마 출구(17)를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 출구(17)는 상기 테이퍼부(14a)의 중심축 상에 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(17)는 상기 테이퍼 홀(12a)과 연속적으로 이어서 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(17)의 단면적은 상기 테이퍼 홀(12a)의 단면적보다 작을 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)과 상기 제2 전극(12) 사이에 플라즈마(21)가 발생될 수 있다. 상기 플라즈마(21)는 상기 플라즈마 출구(17)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 테이퍼부(14a)과 상기 제2 전극(12)의 상기 간격(d1)은 가변 될 수 있다. 상기 제2 전극(12)이 상기 제1 방향으로 이동하면서 상기 간격(d1)은 변경될 수 있다. 상기 간격(d1)은 플라즈마 방전에 사용되는 가스 및 공정에 따라 조절될 수 있다. 상기 제2 전극(12)는 접지될 수 있다.The
몸체부(16)는 상기 제1 전극(14)의 타단에 인접하여 배치될 수 있다. 상기 몸체부(16)는 상기 제1 전극 몸체부(14b)을 감싸도록 배치될 수 있다. 상기 몸체부(16)는 상기 제1 전극(14)에 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(16)는 상기 제1 전극(14) 및 상기 제2 전극(12)을 지지할 수 있다. 상기 몸체부(16)와 상기 제1 전극(14) 사이에 제1 전극 절연막(13)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(13)은 위치에 따라 다른 두께를 가질 수 있다. 상기 테이퍼부(14a) 상의 제1 전극 절연막(13)의 두께는 상기 몸체부(16)와 대향하여 배치된 제1 전극 절연막(13)의 두께보다 클 수 있다. 상기 테이퍼부(14a) 상의 제1 전극 절연막(13)은 폴리머/알루마늄 산화막의 복층 구조를 가질 수 있다. 상기 폴리머는 상기 플라즈마(21)에 손상되어 교체될 수 있다. 상기 몸체부(16)와 상기 제1 전극 몸체부(14b)는 서로 전기적으로 절연되어 축전기를 구성할 수 있다. 상기 축전기를 통하여 변위전류가 흐를 수 있다. 상기 전원(18)에 공급되는 전류는 상기 축전기를 통하여 흐르는 상기 변위 전류와 상기 플라즈마(21)를 통하여 흐르는 플라즈마 전류를 포함할 수 있다. 상기 변위 전류는 상기 플라즈마 전류보다 클 수 있다. 상기 변위 전류가 클수록 상기 플라즈마는 안정적으로 동작할 수 있다. 상기 축전기의 정전 용량을 증가시키기 위하여 상기 제1 전극(14)의 타단과 이에 대응하는 상기 몸체부(16)의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 몸체부(16)는 접지될 수 있다.The
상기 간격 조절부(15)는 상기 몸체부(16)와 상기 제2 전극(12) 사이에 배치될 수 있다. 또는 상기 간격 조절부(15)는 상기 몸체부(16) 및/또는 상기 제2 전극(12)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(15)는 상기 테이퍼부(14a)와 상기 테이퍼부(14a)와 마주보고 있는 상기 제2 전극(12)의 간격을 조절할 수 있는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 간격 조절부(15)는 상기 제2 전극(12)을 상기 제1 방향으로 상기 제1 전극(14)에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있다. 상기 플라즈마(21)가 불안정한 경우, 상기 간절 조절부(15)는 상기 간격(d1)을 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. 대기압 처리 공정은 대기중의 수증기, 피처리물에서 탈착되는 물질 등이 상기 방전 공간에 유입되어 공정 조건이 변할 수 있다. 따라서, 고정된 간격을 가진 대기압 플라즈마 장치는 아크 방전 및 플라즈마 불안정성을 제거시는 것에 한계가 있다.The
유체 공급부(28)는 상기 방전 공간(23)에 유체를 공급할 수 있다. 상기 유체는 케리어 가스 및/또는 반응 가스를 포함할 수 있다. 상기 케리어 가스는 헬륨, 아르곤 등의 불화성 가스, 및 질소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 반응 가스는 공정에 따라 다를 수 있다. 친수성화 처리용 반응 가스는 산소를 포함하는 가스일 수 있다. 예를 들어, 반응 가스는 산소, 이산화탄소, 및 일산화탄소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 친수성화 처리는 산화 과정을 통해서 피처리물(26)에 형성되는 산소 포함 그룹 (Oxygen-containing groups, -OH, -OOH )에 기인할 수 있다. 따라서, C=O 분자를 많이 형성하는 반응 가스가 바람직할 수 있다. 상기 플라즈마(21) 및 상기 플라즈마(21)에 의하여 생성된 부산물은 상기 플라즈마 출구(17)를 통하여 상기 피처리물(26)에 제공되어 상기 피처리물(26)을 친수성화시킬 수 있다. 상기 유체 공급부(28)는 상기 몸체부(14) 내에 형성될 수 있다.The
제3 전극(24)은 상기 제1 전극(14)으로부터 상기 제1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(24)과 상기 제1, 제2 전극(14,12) 사이에 상기 피처리물(26)이 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(24)은 접지될 수 있다. 상기 피처리물(26)은 섬유, 기판, 폴리머, 반도체, 또는 금속일 수 있다. 상기 피처리물(26)은 상기 플라즈마 출구(17)를 통과한 플라즈마 및/또는 부산물에 의하여 처리될 수 있다. 상기 피처리물(26)과 상기 제1 전극(14)의 테이퍼부(14a)의 일단(14c) 사이에 보조 플라즈마(25)가 생성될 수 있다. 상기 보조 플라즈마(25)의 유효 면적은 상기 플라즈마(21)의 유효 면적보다 작을 수 있다. 상기 보조 플라즈마(21)의 유효면적이 상기 플라즈마(21)의 유효면적보다 큰 경우, 상기 보조 플라즈마(21)는 방전 조건에 따라 불안정하고 아크 방전을 유발할 수 있다. 상기 제3 전극(24)과 상기 테이퍼부(14a)의 일단(14c) 사이의 거리는 상기 제1 전극(14)의 테이퍼부(14a)와 상기 제2 전극(12) 사이의 거리보다 클 수 있다. The
상기 전원(18)은 라디오 주파수(radio frequency: RF) 전원, AC 전원, 또는 DC 전원일 수 있다. 상기 전원이 RF 전원인 경우, 상기 전원(18)과 상기 제1 전극(14) 사이에 매칭 네트워크(미도시)가 배치될 수 있다.The
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다. 도 2b는 도 2a의 I-I'선을 따라 자른 단면도이다.2A and 2B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2A.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(100)는 테이퍼 부(110a)를 포함하는 제1 전극(110), 상기 제1 전극(110)의 표면에 배치된 제1 전극 절연막(112), 상기 제1 전극(110)의 상기 테이퍼부(110a)를 감싸도록 배치되고 상기 테이퍼부(110a)의 단면이 감소하는 영역에 배치된 플라즈마 출구(124)를 포함하는 제2 전극(122), 상기 제1 전극(110)에 전기적으로 연결되는 전원(164), 상기 제2 전극(122)과 상기 테이퍼부(110a)는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부(170), 상기 제2 전극(122) 및 상기 제1 전극(110)을 지지하는 몸체부(133), 및 상기 간격에 의하여 제공되는 방전 공간(123)에 유체를 공급하는 유체 공급부(182)를 포함한다. 상기 간격 조절부(170)는 상기 간격을 가변시키어 안정적인 플라즈마 방전을 제공할 수 있다.2A and 2B, the atmospheric
상기 테이퍼부(110a)는 원뿔 형상일 수 있다. 상기 제1 전극(110)은 상기 테이퍼부(110a)에서 연장되어 일정한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부(110b)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 몸체부(110b)는 원기둥 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)는 한 몸일 수 있다. 상기 제1 전극(110)은 상기 전원(164)에 연결되어 대기압 플라즈마를 생성할 수 있다.The tapered
상기 제1 전극 절연막(112)은 상기 제1 전극(110)의 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(112)의 두께는 상기 테이퍼부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)에서 서로 다를 수 있다. 상기 테이퍼부(110a) 상의 상기 제1 전극 절연막(112)의 두께는 상기 제1 전극 몸체부(110b) 상의 제1 전극 절연막(112)의 두께보다 클 수 있다.The first
상기 제2 전극(122)은 중심에 구멍을 가진 고깔 형태일 수 있다. 상기 구멍 은 플라즈마 출구(124)일 수 있다. 상기 제2 전극(122)과 상기 테이퍼부(110a) 사이의 공간은 방전 공간(123)을 제공할 수 있다. 상기 제2 전극(122)의 형태는 상기 테이퍼부(110a)와 일정한 간격을 유지하는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 제2 전극(122)은 테이퍼 홀(122a)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼 홀(122a)의 각도는 일정할 수 있다. 상기 테이퍼 홀(122a)의 각도와 상기 테이퍼부의 각도는 같을 수 있다. 상기 플라즈마 출구(124)의 지름은 상기 테이퍼 홀(122a)의 지름보다 작을 수 있다. 상기 방전 공간(123)에 생성된 플라즈마는 상기 플라즈마 출구(124)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 제2 전극(122)은 접지될 수 있다.The
몸체부(133)는 상기 제2 전극(122)과 분리 결합할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 원통 형상일 수 있다. 상기 몸체부(133)의 내 반경은 상기 테이퍼 홀(122a)의 최대 반경과 실질적으로 일치할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제1 전극 몸체부(110b)와 서로 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 상기 몸체부(133)는 중심축을 중심으로 두 분으로 분리되어, 서로 결합하면서 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 지지할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제1 전극 몸체부(110b)와 축전기를 구성할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 상기 제2 전극(110)과 결합하는 연결 몸체부(132)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 지지하는 지지부(134)를 포함할 수 있다. 상기 몸체부(133)는 접지될 수 있다.The
상기 간격 조절부(170)는 상기 몸체부(133)와 상기 제2 전극(122)의 어느 하나에 형성된 볼트부(174), 및 상기 몸체부(133)와 상기 제2 전극(122)의 다른 하나 에 형성된 너트부(172)를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(174)와 상기 너트부(172)는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다. 상기 너트부(172)는 상기 제2 전극(122)의 하단에 형성될 수 있다. 상기 너트부(172)는 나사산과 결합하는 그루브를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(174)는 상기 나사산을 포함할 수 있다. 상기 볼트부(172)는 상기 연결 몸체부(132)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(170)는 나사결합 구조 이외에 다른 구조로 변경될 수 있다.The gap adjusting part 170 may include a
상기 유체 공급부(182)는 상기 몸체부(133) 내부에 형성될 수 있다. 상기 유체 공급부(182)는 상기 지지부(134)의 중심축 방향으로 나란히 진행하는 복수의 유체 관통홀들(182b)을 포함할 수 있다. 상기 유체 관통홀들(182b)은 상기 지지부(134)의 중심축을 기준으로 일정한 각도를 유지하며 배치될 수 있다.The
상기 유체 관통홀(182b)은 상기 테이퍼부(110a)와 상기 연결부(132)가 서로 마주보는 영역에 인접하여 배치된 노즐(182a)과 연결될 수 있다. 상기 노즐(182a)은 유체를 상기 방전 공간(123)에 제공할 수 있다. 뚜껑(152)은 상기 몸체부(133)의 하단에 배치될 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 상기 몸체부(133)와 결합할 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 도전성 또는 절연성 물질일 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 지름이 감소함에 따라 두께가 감소하는 두 개의 턱들(155b,155a)을 포함할 수 있다. 상기 뚜껑(152)은 중심 영역에 절연 관통홀(153)을 포함할 수 있다. 상기 절연 관통홀(153)의 지름은 상기 제1 전극 몸체부(110b)의 지름보다 클 수 있다. 절연판(154)은 상기 절연 관통홀(153) 상에서 안쪽의 제1 턱(155a)에 배치될 수 있다. 제2 턱(155b)과 상기 절연판(154)은 유체 혼합 공간(182c)을 제공할 수 있다. 상기 유체 혼합 공간(182c)은 상기 관통홀들(182b)에게 연결될 수 있다. 유량 조절부(146)는 상기 유체 혼합 공간(182c)에 연결될 수 있다. 상기 유량 조절부(146)는 유로를 통하여 공급되는 유량을 조절할 수 있다. 상기 유량 조절부(146)는 복수 개일 수 있다. 상기 유량 조절부(146)는 복수의 유체의 유량을 조절할 수 있다.The fluid through
상기 절연판(154)의 중심에는 전극 플러그(166)가 배치될 수 있다. 상기 전극 플러그(166)는 상기 제1 전극(110)과 전기적으로 연결하는 수단일 수 있다. 상기 전극 플러그(166)에 상기 전원(164)이 연결될 수 있다. 매칭 네트워크(162)는 상기 전원(164)과 상기 전극 플러그(166) 사이에 배치될 수 있다.An
제3 전극(125)은 상기 제1 전극(110)으로부터 상기 제1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(125)과 상기 제1(110) 사이에 피처리물이 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(125)은 접지될 수 있다.The
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다. 도 2a 및 도 2b에서 설명한 부분과 중복되는 설명은 생략한다.3 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. Descriptions overlapping with those described in FIGS. 2A and 2B will be omitted.
도 3을 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(100)는 테이퍼부(110a)를 포함하는 제1 전극(110), 상기 제1 전극(110)의 표면에 배치된 제1 전극 절연막(112), 상기 제1 전극(110)의 상기 테이퍼부(110a)를 감싸도록 배치되고 상기 테이퍼부(110a)의 단면이 감소하는 영역에 배치된 플라즈마 출구(124)를 포함하는 제2 전극(122), 상기 제1 전극(110)에 전기적으로 연결되는 전원(164), 상기 제2 전극(122)과 상기 테이퍼부(110a)는 균일한 간격을 유지하고 상기 간격을 조절하는 간격 조절부(170), 상기 제2 전극(122) 및 상기 제1 전극(110)을 지지하는 몸체부(133), 및 상기 간격에 의하여 제공되는 방전 공간(123)에 유체를 공급하는 유체 공급부(182)를 포함한다. 상기 간격 조절부(170)는 상기 간격을 가변시키어 안정적인 플라즈마 방전을 제공할 수 있다.Referring to FIG. 3, the atmospheric
상기 제1 전극(110)은 테이퍼부(110a), 균일한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부(110b), 및 상기 테이퍼부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 연결하는 제1 전극 연결부(110c)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 연결부(110c)는 상기 제2 전극(122)과 상기 제1 전극 연결부(110c) 사이에 버퍼 공간(102)을 제공할 수 있다. 상기 테이퍼부(110a), 상기 제1 전극 몸체부(110b), 및 상기 제1 전극 연결부(110c)는 한 몸일 수 있다. 상기 버퍼 공간(102)은 유체의 혼합 공간일 수 있다. 또한, 상기 버퍼 공간(102)은 상기 테이퍼 홀(122a)의 가장자리와 상기 테이퍼부(110a) 사이의 불필요한 이상 방전(abnormal discharge)을 억제할 수 있다.The
본 발명의 변형된 실시예에 따르면, 상기 제1 전극 연결부(110c)는 절연체일 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 전극 연결부(110b)는 내부에 도전성 전선(미도시)을 포함할 수 있다. 상기 도전성 전선은 상기 테이부(110a)와 상기 제1 전극 몸체부(110b)를 서로 전기적으로 연결할 수 있다.According to a modified embodiment of the present invention, the first
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(200)는 테이퍼부(210a)를 포함하는 제1 전극(210), 상기 제1 전극(210)의 둘레에 배치된 제1 전극 절연막(212), 상기 테이퍼부(210a)의 둘레에 배치되고 플라즈마 출구(224)를 포함하는 제2 전극(222), 상기 제1 전극(210)에 전기적으로 연결되는 전원(264), 상기 제1 전극(210a)과 결합하여 상기 제1 전극(210) 및 상기 제2 전극(222)을 지지하는 몸체부(233)를 포함한다. 상기 제1 전극(210)의 상기 테이퍼부(210a)와 상기 제2 전극(222) 사이의 간격은 균일하고, 상기 간격은 방전 공간(223)을 제공할 수 있다. 상기 대기압 플라즈마 장치(200)는 상기 방전 공간(223)에 유체를 공급하는 유체 공급부(282)를 포함할 수 있다. 상기 유체 공급부(282)는 상기 몸체부(233)에 형성될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 내부 원통 및 외부 원통을 포함하는 이중 원통 형상이고, 상기 유체 공급부(233)는 상기 내부 원통과 상기 외부 원통 사이의 공간에 의하여 제공될 수 있다.Referring to FIG. 4, the atmospheric
상기 제1 전극(210)은 도전성 물질일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 상기 제1 전극(210)의 중심축을 방향 또는 제1 방향으로 진행함에 따라 상기 테이퍼부(210a)의 단면적은 감소할 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 원뿔 형상 또는 절두 원뿔(truncated cone) 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 중심축과 테이퍼 면 사이의 테이퍼 각은 일정할 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 상기 중심축을 중심으로 대칭적일 수 있다. 상기 제1 전극(210)의 표면에 제1 전극 절연막(212)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제1 절연막(212)은 금속산화막, 금속산화질화막, 유전체막, 고무, 아크릴, 폴리이미드, 및 폴리머 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)의 두께는 수십 um 내지 수 mm 일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 일단은 상기 플라즈마 출구(224)를 향하여 배치될 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 일단은 곡선 형상을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 곡선 형상은 전계(또는 전기장)의 집중에 의한 아크 방전을 감소시킬 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 복층 구조일 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 알루미늄 산화막/폴리막의 이중 구조일 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)의 일단의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 제1 전극(210)은 제1 전극 몸체부(210b)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 몸체부(210b)는 일정한 단면을 가질 수 있다.The
상기 제2 전극(222)은 상기 테이퍼부(210a)의 주위에 배치될 수 있다. 또는 상기 제2 전극(222)은 상기 테이퍼부(210a)의 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(222)은 상기 테이퍼부(210a)과 일정한 간격을 유지하도록 테이퍼 홀(222a)을 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)는 상기 테이퍼 홀(222a)에 삽입될 수 있다. 상기 테이퍼 홀(222a) 상에 제2 전극 절연막(미도시)이 배치될 수 있다. 상기 제2 전극 절연막은 방전시 아크 발생을 억제할 수 있다. 상기 제2 전극(222)은 플라즈마 출구(224)를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 출구(224)는 상기 테이퍼부(210a)의 중심축 상에 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(224)는 상기 테이퍼 홀(222a)과 연속적으로 이어서 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 출구(224)의 단면적은 상기 테이퍼 홀(222a)의 단면적보다 작을 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)과 상기 제2 전극(222) 사이에 플라즈마가 발생될 수 있다. 상기 플라즈마는 상기 플라즈마 출구(224)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 테이퍼부(210a)과 상기 제2 전극(222)의 상기 간격은 가변될 수 있다. 상기 제2 전극(222)이 상기 제1 방향으로 이동하면서 상기 간격은 변경될 수 있다. 상기 간격은 플라즈마 방전에 사용되는 가스 및 공정 에 따라 조절될 수 있다. 상기 제2 전극(222)은 접지될 수 있다.The
몸체부(233)는 상기 제1 전극(222)의 타단에 인접하여 배치될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 상기 제1 전극 몸체부(210b)를 감싸도록 배치될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 상기 제1 전극(210)에 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(233)는 상기 제1 전극(210) 및 상기 제2 전극(222)을 지지할 수 있다. 상기 몸체부(233)와 상기 제1 전극(210) 사이에 제1 전극 절연막(212)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(212)은 위치에 따라 다른 두께를 가질 수 있다. 상기 테이퍼부(210a) 상의 제1 전극 절연막(212)의 두께는 상기 제1 전극 몸체부(210b) 상의 제1 전극 절연막(212)의 두께보다 클 수 있다. 상기 테이퍼부(210a) 상의 제1 전극 절연막(212)은 폴리머/알루마늄 산화막의 복층 구조를 가질 수 있다. 상기 폴리머는 상기 플라즈마에 손상되어 교체될 수 있다. 상기 몸체부(233)와 상기 제1 전극 몸체부(210b)는 서로 전기적으로 절연되어 축전기를 구성할 수 있다. 상기 축전기를 통하여 변위전류가 흐를 수 있다. 상기 전원(264)에서 공급되는 전류는 상기 축전기를 통하여 흐르는 상기 변위 전류와 상기 플라즈마를 통하여 흐르는 플라즈마 전류를 포함할 수 있다. 상기 변위 전류는 상기 플라즈마 전류보다 클 수 있다. 상기 변위 전류가 클수록 상기 플라즈마는 안정적으로 동작할 수 있다. 상기 축전기의 정전 용량을 증가시키기 위하여 상기 제1 전극 몸체부(210b)와 이에 대응하는 상기 몸체부(233)의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 접지될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 연결부(232), 지지부(234a), 및 보조 지지부(234b)를 포함할 수 있다. 상기 보조 지지부(234b)는 상기 연결부(232)와 상기 지지부(234a) 사이에 배치될 수 있다. 상기 지지부(234a)는 이중 원통 형상일 수 있다. 상기 지지부(234a)의 내부 원통(234d) 내에 상기 제1 전극 몸체부(210b)가 배치될 수 있다. 상기 보조 지지부(234b)는 상기 지지부(234a)의 외부 원통(234c)에 삽입되는 링 형상일 수 있다. 상기 보조 지지부(234b)는 상기 연결부(232)의 홈을 통하여 서로 고정될 수 있다. 상기 몸체부(233)는 투껑(252)을 포함할 수 있다. 상기 뚜껑(252)은 상기 지지부(234b)의 내부 원통(234d)과 외부 원통(234c) 사이의 공간을 덥도록 배치될 수 있다. 상기 뚜껑(252) 상에 절연부(268)가 배치될 수 있다. 상기 절연부(268)를 관통하여 전원 플러그(266)가 배치될 수 있다. 상기 전원 플러그(266)는 상기 제1 전극(210)과 전기적으로 연결될 수 있다. The
상기 간격 조절부(270)는 상기 몸체부(233) 및/또는 상기 제2 전극(222)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 상기 테이퍼부(210a)와 상기 테이퍼부(210a)와 마주보고 있는 상기 제2 전극(222)의 간격을 조절할 수 있는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 상기 제2 전극(222)을 상기 제1 방향으로 상기 제1 전극(210)에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있다. 상기 플라즈마가 불안정한 경우, 상기 간절 조절부(270)는 상기 간격을 조절하여 안정적인 플라즈마를 제공할 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 상기 몸체부(233)와 상기 제2 전극(222)의 어느 하나에 형성된 볼트부(274), 및 상기 몸체부(233)와 상기 제2 전극(222)의 다른 하나에 형성된 너트부(272)를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(274)와 상기 너트부(272)는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다. 상기 너트부(272)는 상기 제2 전극(222)의 하단에 형성될 수 있다. 상기 너트부(272)는 나사산과 결 합하는 그루브를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(274)는 상기 나사산을 포함할 수 있다. 상기 볼트부(272)는 상기 연결부(232)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(270)는 나사결합 구조 이외에 다른 구조로 변경될 수 있다.The
유체 공급부(282)는 상기 지지부(234a)의 외부 원통과 내부 원통 사이의 공간(282b) 및 상기 방전 공간(223)에 유체를 공급하는 노즐(282a)을 포함할 수 있다. 상기 노즐(282a)은 상기 지지부(234a)의 외부 원통과 내부 원통 사이의 공간(282b)으로부터 연결될 수 있다. 상기 노즐(282a)은 상기 연결부(232)에 형성될 수 있다. 상기 노즐(282a)은 제1 방향에 대하여 비스듬하게 배치될 수 있다. 상기 노즐(282)은 상기 연결부(232)의 중심축에 대하여 일정한 각도마다 규칙적으로 배치될 수 있다. 유량 조절부(246)은 상기 외부 원통과 내부 원통 사이의 공간(282b)에 유체를 공급할 수 있다.The
상기 유체는 케리어 가스 및/또는 반응 가스를 포함할 수 있다. 상기 케리어 가스는 헬륨, 아르곤 등의 불화성 가스, 및 질소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 반응 가스는 공정에 따라 다를 수 있다. 친수성화 처리용 반응 가스는 산소를 포함하는 가스일 수 있다. 예를 들어, 반응 가스는 산소, 이산화탄소, 및 일산화탄소 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 친수성화 처리는 산화 과정을 통해서 피처리물()에 형성되는 산소 포함 그룹 (Oxygen-containing groups, -OH, -OOH )에 기인할 수 있다. 따라서, C=O 분자를 많이 형성하는 반응 가스가 바람직할 수 있다. 상기 플라즈마 및 상기 플라즈마에 의하여 생성된 부산물은 상기 플라즈마 출구(224)를 통하여 상기 피처리물에 제공되어 상기 피처리물을 친수성화시킬 수 있다. 상기 유체 공급부(282)는 상기 몸체부(233) 내에 형성될 수 있다. 상기 유체 공급부(282)는 유량 조절수단(246)에 연결될 수 있다.The fluid may comprise a carrier gas and / or a reactant gas. The carrier gas may include at least one of a fluorine gas such as helium and argon, and nitrogen. The reaction gas may vary depending on the process. The reaction gas for the hydrophilization treatment may be a gas containing oxygen. For example, the reaction gas may include at least one of oxygen, carbon dioxide, and carbon monoxide. The hydrophilization treatment may be attributable to oxygen-containing groups (-OH, -OOH) formed in the object to be treated through oxidation. Therefore, a reaction gas that forms a large number of C═O molecules may be desirable. The plasma and by-products generated by the plasma may be provided to the workpiece through the
제3 전극(225)은 상기 제1 전극(222)으로부터 상기 제1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(225)과 상기 제1, 제2 전극(210,222) 사이에 상기 피처리물(미도시)이 배치될 수 있다. 상기 제3 전극(225)은 접지될 수 있다. 상기 피처리물은 섬유, 기판, 폴리머, 반도체, 또는 금속일 수 있다. 상기 피처리물은 상기 플라즈마 출구(224)를 통과한 플라즈마 및/또는 부산물에 의하여 처리될 수 있다. 상기 피처리물과 상기 테이퍼부(210a)의 일단 사이에 보조 플라즈마가 생성될 수 있다. 상기 보조 플라즈마의 유효 면적은 상기 플라즈마의 유효면적보다 작을 수 있다. 상기 제3 전극(225)과 상기 테이퍼부(210a)의 일단 사이의 거리는 상기 테이퍼부(210a)와 상기 제2 전극(222) 사이의 거리보다 클 수 있다.The
상기 전원(264)은 라디오 주파수(radio frequency: RF) 전원, AC 전원, 또는 DC 전원일 수 있다. 상기 전원이 RF 전원인 경우, 상기 전원(264)과 상기 제1 전극(210) 사이에 매칭 네트워크(262)가 배치될 수 있다.The
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다. 도 5b는 도 5a의 II-II'선을 따라 자른 단면도이다.5A and 5B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 5A.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 상기 대기압 플라즈마 장치(300)는 제1 방향으로 테이퍼 형상을 포함하는 제1 전극들(310), 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 배열된 상기 제1 전극들(310)이 삽입되는 제2 전극(322), 상기 제1 전극들(310)에 전기적으로 연결되는 전원(364)을 포함하되, 상기 제1 전극들(310) 과 상기 제2 전극(322)은 균일한 간격을 유지하고, 상기 간격은 방전 공간을 제공할 수 있다. 5A and 5B, the atmospheric
상기 제1 전극은 테이퍼부(310a)를 포함할 수 있다. 상기 테이퍼부(310a)는 원뿔 형상일 수 있다. 상기 제1 전극(310)은 상기 테이퍼부(310a)에서 연장되어 일정한 단면을 가지는 제1 전극 몸체부(310b)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전극 몸체부(310b)는 원기둥 형상일 수 있다. 상기 테이퍼부(310a)와 상기 제1 전극 몸체부(310b)는 한 몸일 수 있다. 상기 제1 전극(310)은 상기 전원(364)에 연결되어 대기압 플라즈마를 생성할 수 있다. 상기 제1 전극 절연막(312)은 상기 제1 전극(310)의 둘레에 배치될 수 있다.The first electrode may include a tapered
상기 제2 전극(122)은 매트릭스 형태로 배열된 복수의 테이퍼 홀들을 포함하는 판형일 수 있다. 상기 테이퍼 홀들은 플라즈마 출구(324)와 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(322)과 상기 테이퍼부(310a) 사이의 공간은 방전 공간(323)을 제공할 수 있다. 상기 제2 전극(122)의 형태는 상기 테이퍼부(310a)와 일정한 간격을 유지하는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 테이퍼 홀(322a)의 각도는 일정할 수 있다. 상기 테이퍼 홀(322a)의 각도와 상기 테이퍼부의 각도는 같을 수 있다. 상기 플라즈마 출구(324)의 지름은 상기 테이퍼 홀(322a)의 지름보다 작을 수 있다. 상기 방전 공간(323)에 생성된 플라즈마는 상기 플라즈마 출구(324)를 통하여 확산될 수 있다. 상기 제2 전극(322)은 접지될 수 있다.The
몸체부(333)는 상기 제2 전극(322)과 분리 결합할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 원통 형상일 수 있다. 상기 몸체부(333)의 내 반경은 상기 테이퍼 홀(322a)의 최대 반경과 실질적으로 일치할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 상기 제1 전극 몸체부(310b)와 서로 고정 결합할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 상기 제1 전극 몸체부(310b)를 둘러싸도록 배치될 수 있다.The
상기 몸체부(333)는 상기 제1 전극 몸체부(310b)와 축전기를 구성할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 상기 제2 전극(310)과 결합하는 연결 몸체부(332)와 상기 제1 전극 몸체부(310b)를 지지하는 지지부(334)를 포함할 수 있다. 상기 몸체부(333)는 접지될 수 있다.The
상기 간격 조절부(370)는 상기 몸체부(333)와 상기 제2 전극(322)의 어느 하나에 형성된 볼트부(374), 및 상기 몸체부(333)와 상기 제2 전극(322)의 다른 하나에 형성된 너트부(372)를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(374)와 상기 너트부(372)는 서로 결합하여 상기 간격을 조절할 수 있다. 상기 너트부(372)는 상기 제2 전극(322)에 형성될 수 있다. 상기 너트부(372)는 나사산과 결합하는 그루브를 포함할 수 있다. 상기 볼트부(374)는 상기 나사산을 포함할 수 있다. 상기 볼트부(372)는 상기 연결 몸체부(332)에 형성될 수 있다. 상기 간격 조절부(370)는 나사결합 구조 이외에 다른 구조로 변경될 수 있다.The
상기 유체 공급부(382)는 상기 몸체부(333) 내부에 형성될 수 있다. 상기 유체 공급부(382)는 상기 지지부(334)의 중심축 방향으로 나란히 진행하는 복수의 유체 관통홀들(382b)을 포함할 수 있다. 상기 유체 관통홀들(382b)은 상기 지지부(334)의 중심축을 기준으로 일정한 각도를 유지하며 배치될 수 있다.The
상기 유체 관통홀(382b)은 상기 테이퍼부(310a)와 상기 연결부(332)가 서로 마주보는 영역에 인접하여 배치된 노즐(382a)과 연결될 수 있다. 상기 노즐(382a)은 유체를 상기 방전 공간(323)에 제공할 수 있다. 뚜껑(352)은 상기 몸체부(333)일단에 배치될 수 있다. 상기 뚜껑(352)은 상기 몸체부(333)와 결합할 수 있다. 상기 뚜껑(352)은 도전성 또는 절연성 물질일 수 있다. 절연판(354)은 상기 뚜껑(352)에 삽입되어 배치될 수 있다. 상기 절연판(354)과 상기 몸체부(33)는 유체 혼합 공간(382c)을 제공할 수 있다. 상기 유체 혼합 공간(382c)은 상기 관통홀들(382b)에게 연결될 수 있다. 상기 절연판(354)의 중심에는 전극 플러그(366)가 배치될 수 있다. 상기 전극 플러그(366)는 상기 제1 전극(310)과 전기적으로 연결하는 수단일 수 있다. 상기 전극 플러그(366)에 상기 전원(364)이 연결될 수 있다. 매칭 네트워크(362)는 상기 전원(364)과 상기 전극 플러그(366) 사이에 배치될 수 있다.The fluid through
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다.2A and 2B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대기압 플라즈마 장치를 설명하는 도면들이다. 5A and 5B are diagrams illustrating an atmospheric pressure plasma apparatus according to another embodiment of the present invention.
Claims (18)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090037752A KR101059962B1 (en) | 2009-04-29 | 2009-04-29 | Atmospheric Plasma Apparatus and Atmospheric Plasma Contaminant Treatment Apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090037752A KR101059962B1 (en) | 2009-04-29 | 2009-04-29 | Atmospheric Plasma Apparatus and Atmospheric Plasma Contaminant Treatment Apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100118842A true KR20100118842A (en) | 2010-11-08 |
KR101059962B1 KR101059962B1 (en) | 2011-08-26 |
Family
ID=43405026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090037752A KR101059962B1 (en) | 2009-04-29 | 2009-04-29 | Atmospheric Plasma Apparatus and Atmospheric Plasma Contaminant Treatment Apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101059962B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101218861B1 (en) * | 2011-01-06 | 2013-01-08 | 한밭대학교 산학협력단 | Method of hydrophilic treating for plastic fiber using atmospheric pressure plasma and plastic fiber fabricated by the same |
KR101337047B1 (en) * | 2012-01-11 | 2013-12-06 | 강원대학교산학협력단 | Atomspheric pressure plasma apparatus |
KR20220043536A (en) * | 2020-09-29 | 2022-04-05 | 배준형 | Gate System with Plasma Shower |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103710936B (en) * | 2013-12-25 | 2016-08-31 | 韦小凤 | A kind of plasma washing machine |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100817038B1 (en) | 2005-10-10 | 2008-04-07 | (주) 플라즈닉스 | Methods and apparatus for treating the surface of materials by atmospheric pressure plasma |
-
2009
- 2009-04-29 KR KR1020090037752A patent/KR101059962B1/en active IP Right Grant
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101218861B1 (en) * | 2011-01-06 | 2013-01-08 | 한밭대학교 산학협력단 | Method of hydrophilic treating for plastic fiber using atmospheric pressure plasma and plastic fiber fabricated by the same |
KR101337047B1 (en) * | 2012-01-11 | 2013-12-06 | 강원대학교산학협력단 | Atomspheric pressure plasma apparatus |
KR20220043536A (en) * | 2020-09-29 | 2022-04-05 | 배준형 | Gate System with Plasma Shower |
KR20220123606A (en) * | 2020-09-29 | 2022-09-08 | 배준형 | Gate System with Plasma Shower |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101059962B1 (en) | 2011-08-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5884074B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
KR101059962B1 (en) | Atmospheric Plasma Apparatus and Atmospheric Plasma Contaminant Treatment Apparatus | |
JP5142984B2 (en) | Apparatus and method for the purification and sterilization of liquid, solid or gaseous substances | |
JP6097942B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
JP2009519799A (en) | Article disinfection method and apparatus | |
KR20120011370A (en) | Multi channel plasma jet generator | |
JP4630874B2 (en) | Atmospheric pressure large area glow plasma generator | |
KR20140101266A (en) | Apparatus for generating remote plasma | |
JP2007059385A (en) | Atmospheric pressure plasma generating apparatus of electrode structure for inhibiting useless electric discharge | |
JP2017205755A (en) | Liquid treatment device and liquid treatment method | |
JP4212215B2 (en) | Surface treatment equipment | |
KR100904663B1 (en) | Scrubber which uses plasma arc torch | |
JP2009505342A (en) | Plasma generating apparatus and plasma generating method | |
CN109429494A (en) | Liquid handling device | |
US20150136673A1 (en) | Liquid treatment unit, toilet seat with washer, washing machine, and liquid treatment apparatus | |
US20170152164A1 (en) | Liquid treatment unit, toilet seat with washer, washing machine, and liquid treatment apparatus | |
KR100787880B1 (en) | Apparatus for generating plasma utilizing atmospheric pressure plasma and plasma jet plate | |
JP2015223528A (en) | Liquid treatment device and liquid treatment method | |
JP2011108615A (en) | Plasma treatment device | |
KR101049971B1 (en) | Development of atmospheric pressure plasma sterilization and cleaning for medical application | |
KR102340857B1 (en) | Plasma water treatmemt apparatus using bubbles in water | |
CN113117109B (en) | System and method for quickly killing surface pathogenic microorganisms by array jet plasma | |
KR101479261B1 (en) | Water Feeder and Plasma Water Treatment Apparatus using the Same | |
KR100488361B1 (en) | Atmospheric Pressure Parallel Plate Plasma generator | |
JP5879530B2 (en) | Liquid processing equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140708 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150803 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160722 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161118 Year of fee payment: 18 |