KR20100072274A - Apparatus and methods for ambient air abatement of electronic device manufacturing effluent - Google Patents

Apparatus and methods for ambient air abatement of electronic device manufacturing effluent Download PDF

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로버트 베르메우렌
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유스세프 롤디제이
레네 티. 코레아
다니엘 에스. 브라운
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Abstract

An abatement system is provided which includes an abatement unit adapted to abate effluent; and an ambient air supply system comprising an air moving device, wherein the ambient air supply system is adapted to supply ambient air to the abatement unit for use as an oxidant. Numerous other aspects are provided.

Description

전자 장치 제조 폐기물의 대기 공기 정화를 위한 방법 및 장치 {APPARATUS AND METHODS FOR AMBIENT AIR ABATEMENT OF ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING EFFLUENT}TECHNICAL APPARATUS AND APPARATUS FOR AIR AIR CLEANING OF ELECTRONIC DEVICES WASTE {APPARATUS AND METHODS FOR AMBIENT

본 발명은 "반도체 장치 제조 폐기물의 정화 중에 대기 공기를 사용하기 위한 방법 및 장치 (METHODS AND APPARATUS FOR USING AMBIENT AIR DURING ABATEMENT OF SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING EFFLUENTS)"라는 제목으로 2007년 9월 20일에 출원된 미국 특허 가출원 번호 제60/973,977호(대리인 서류 번호 12779/L)에 대해 우선권을 주장하는, "전자 장치 제조 폐기물의 대기 공기 정화를 위한 방법 및 장치 (APPARATUS AND METHODS FOR AMBIENT AIR ABATEMENT OF ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING EFFLUENT)"라는 명칭으로 2008년 3월 21일 출원된 미국 특허 출원 번호 제12/053,480호(대리인 서류 번호 12779)에 대해 우선권을 주장한다.The present invention is filed on September 20, 2007, entitled "METHODS AND APPARATUS FOR USING AMBIENT AIR DURING ABATEMENT OF SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING EFFLUENTS." `` APPARATUS AND METHODS FOR AMBIENT AIR ABATEMENT OF ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING EFFLUENT, which claims priority to Patent Provisional Application No. US Patent Application No. 12 / 053,480 (Representative Document No. 12779) filed March 21, 2008, entitled "

본 발명은 전자 장치 제조, 보다 구체적으로는 대기 공기를 산화체(oxidant)로서 사용하는, 위험한 및/또는 바람직하지 않은 화합물 정화 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to the manufacture of electronic devices, and more particularly to hazardous and / or undesirable compound purification systems using atmospheric air as an oxidant.

종래의 전자 장치 제조 폐기물 정화 시스템은 통상적으로 산화체로서 세정 건조 공기(clean dry air; "CDA")를 사용한다. CDA는, 그 명칭이 암시하듯이, 건조되고 고도로 필터링된 공기이며, CDA의 준비와 관련한 비용이 소요된다. 전자 장치 제조 설비에서, CDA는 통상적으로, 약 90 psi 정도일 수 있는 비교적 높은 압력에서 설비(facility)를 통해 공급된다. 정화 시스템(abatement system)과 같이, 특정 전자 장치 제조 설비 시스템에서 사용하기 위하여, 설비 CDA의 압력은 특정 시스템에 의해 요구되는 압력으로 감소된다. CDA의 가압은 장비와 에너지를 필요로 한다. CDA 압력의 감소에는 적어도 장비가 필요하다.Conventional electronics manufacturing waste purification systems typically use clean dry air (“CDA”) as the oxidant. CDA, as its name implies, is dry, highly filtered air and costs money associated with the preparation of the CDA. In electronic device manufacturing facilities, CDA is typically supplied through a facility at relatively high pressures, which may be on the order of about 90 psi. As with an abatement system, for use in a particular electronic device manufacturing facility system, the pressure in the installation CDA is reduced to the pressure required by the particular system. Pressurization of the CDA requires equipment and energy. Reduction of CDA pressure requires at least equipment.

따라서, 정화 유닛에서 CDA의 사용과 관련된 비용을 감소시키기 위한 방법 및 장치가 바람직하다.Thus, a method and apparatus for reducing the costs associated with the use of CDA in a purification unit is desirable.

일 태양에서는 정화 시스템으로서, 1) 폐기물을 정화시키도록 구성된 정화 유닛; 및 2) 공기 이동 장치를 포함하는 대기 공기 공급 시스템을 포함하고, 상기 대기 공기 공급 시스템이 산화체로서 사용하기 위하여 대기 공기를 상기 정화 유닛으로 공급하도록 구성되는 정화 시스템이 제공된다.In one aspect there is provided a purification system comprising: 1) a purification unit configured to purify waste; And 2) an atmospheric air supply system including an air moving device, wherein the atmospheric air supply system is configured to supply atmospheric air to the purification unit for use as an oxidant.

다른 태양에서는, 정화 유닛에 산화체로서의 사용을 위한 대기 공기를 공급하기 위한 대기 공기 공급 시스템으로서, 1) 공기 이동 장치; 및 2) 상기 공기 이동 장치에 결합되고 상기 정화 유닛에 공기를 공급하도록 구성되는 매니폴드를 포함하고, 상기 공기 이동 장치 및 매니폴드가 대기 공기의 공급원으로부터 공기를 수용하도록 구성되는 대기 공기 공급 시스템이 제공된다.In another aspect, an atmospheric air supply system for supplying atmospheric air for use as an oxidant to a purification unit, comprising: 1) an air moving device; And 2) a manifold coupled to the air mover and configured to supply air to the purifying unit, wherein the air mover and manifold are configured to receive air from a source of atmospheric air; Is provided.

또 다른 태양에서는, 대기 공기를 산화체로서 사용하여 폐기물을 정화시키기 위한 방법으로서, 1) 전자 장치 제조 프로세스 툴로부터의 폐기물을 정화시키도록 구성되는 정화 유닛을 제공하는 단계; 2) 공기 이동 장치를 포함하는 대기 공기 공급 시스템을 제공하는 단계로서, 상기 대기 공기 공급 시스템이 상기 정화 유닛으로 대기 공기를 제공하도록 구성되는, 대기 공기 공급 시스템 제공 단계; 및 3) 상기 대기 공기 공급 시스템에 의하여 공급되는 대기 공기로 상기 정화 유닛 내에서 폐기물을 정화시키는 단계를 포함하는 폐기물 정화 방법이 제공된다. 본 발명의 이러한 및 다른 태양에 따라 다양한 다른 태양들이 제공된다. 본 발명의 다른 특징 및 태양들은 이하의 상세한 설명, 첨부된 청구범위 및 첨부된 도면으로부터 보다 완전히 이해될 수 있을 것이다.In another aspect, a method for purifying waste using atmospheric air as an oxidant, the method comprising: 1) providing a purge unit configured to purify waste from an electronic device manufacturing process tool; 2) providing an atmospheric air supply system comprising an air moving device, wherein the atmospheric air supply system is configured to provide atmospheric air to the purifying unit; And 3) purifying the waste in the purifying unit with the atmospheric air supplied by the atmospheric air supply system. Various other aspects are provided in accordance with these and other aspects of the invention. Other features and aspects of the invention will be more fully understood from the following detailed description, the appended claims, and the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 정화 시스템의 개략적인 도면이다.
도 2는 도 1의 정화 시스템의 제2 실시예의 개략적인 도면이다.
도 3은 본 발명의 대기 공기 공급 시스템의 개략적인 도면이다.
도 4는 본 발명의 대기 공기 공급 시스템의 대안적인 실시예의 개략적인 도면이다.
도 5A 및 5B는 본 발명에 유용한 공기 증폭기의 측단면도를 도시한다.
도 6은 본 발명에 따른 정화 유닛을 작동시키는 방법을 묘사하는 순서도이다.
1 is a schematic diagram of a purification system of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram of a second embodiment of the purification system of FIG. 1.
3 is a schematic diagram of an atmospheric air supply system of the present invention.
4 is a schematic diagram of an alternative embodiment of the atmospheric air supply system of the present invention.
5A and 5B show side cross-sectional views of air amplifiers useful in the present invention.
6 is a flow chart depicting a method of operating a purge unit according to the invention.

전기 장치 제조 프로세스는 다양한 반응물을 사용하며, 일부 반응물은 사용되지 않은 상태로 프로세스 툴(process tools)을 통과할 수 있다. 이와 같이 사용되지 않은 반응물은, 만약 이들이 공장 배출 시스템을 간단히 거친다면, 환경에 유해할 수 있거나, 또는 화재나 폭발 위험이 있을 수 있다. 또한, 전기 장치 제조 프로세스는 이와 유사한 유해성이나 위험성을 가지는 부산물을 생성할 수도 있다. 용이한 참조를 위해, 본 명세서에서는 유해성, 유독성, 가연성 및/또는 폭발성의 비사용-반응물 및 부산물이 '유해 폐기물(undesirable effluent)' 또는 단순히 '폐기물(effluent)'로서 언급될 수 있다.The electrical device manufacturing process uses various reactants, some of which may pass through process tools unused. Reactants that are not used as such may be harmful to the environment if they simply pass through the factory discharge system or may be at risk of fire or explosion. In addition, the electrical device manufacturing process may produce byproducts with similar hazards or hazards. For ease of reference, herein, hazardous, toxic, flammable and / or explosive unused reactants and by-products may be referred to as 'undesirable effluent' or simply 'effluent'.

환경에 대한 유해성 및, 종업원이나 대중에 대한 위험을 방지하기 위해, 전자 장치 제조 산업은 유해 폐기물을 정화(abatement)시키기로 하였다. 유해 폐기물의 정화는 여러 형태를 취할 수 있으나, 궁극적으로 정화는 유해 폐기물을 전혀 또는 덜 유해하거나 위험한 물질로 변환시킨다. 유해 폐기물의 정화 방법 중 하나는 산소와 같은 산화체(oxidant)를 이용하여 정화 반응기 또는 유닛에서 폐기물을 산화시키는 것이다. 정화 유닛에 사용된 산화체의 용이한 공급원은, 보통 설비 CDA 소스(facility CDS source)로부터 얻어질 수 있는 CDA 이다.In order to avoid environmental hazards and risks to employees and the public, the electronics manufacturing industry has decided to clean up hazardous wastes. The purification of hazardous waste can take many forms, but ultimately, the purification converts the hazardous waste into no or less harmful or dangerous substances. One method of purifying hazardous waste is to oxidize the waste in a purification reactor or unit using an oxidant such as oxygen. An easy source of oxidant used in the purification unit is CDA, which can usually be obtained from a facility CDS source.

그러나 그 비용으로 인해서, 많은 설비에 있어서 CDA의 사용에 대해 예산을 잡거나 제한이 가해진다. 예를 들어, 일부 설비는 종래 정화 시스템이 약 360 표준 리터/분(slm)의 CDA를 사용하도록만 예산을 잡거나 허가한다. 그러나 일부 종래 정화 시스템은 폐기물을 정화시키기 위해 1000 slm 또는 그보다 많은 CDA를 필요로 할 수 있다. 예를 들어, 태양 전지판(solar panel) 제조를 위한 프로세스는 다량의 사용되지 않은 수소 및 실란(silane) 반응물을 배출할 수 있다. 이들 다량의 가연성 및/또는 폭발성 가스는 정화를 위해 다량의 산화체를 필요로 한다. 따라서 종래의 정화 시스템은 일부 설비의 CDA 예산 요건에 맞지 않을 수 있으며, 따라서 소비자가 선택하지 않을 수 있다.However, due to the cost, many facilities budget or restrict the use of the CDA. For example, some installations only budget or permit conventional purification systems to use about 360 standard liters / minute of CDA. However, some conventional purification systems may require 1000 slm or more CDA to purify the waste. For example, processes for manufacturing solar panels can release large amounts of unused hydrogen and silane reactants. These large amounts of flammable and / or explosive gases require large amounts of oxidant for purification. Thus, conventional purification systems may not meet the CDA budget requirements of some installations and may therefore not be selected by the consumer.

위에서 설명한 바와 같이, 설비 CDA는 압력하에서, 통상적으로는 모든 설비 시스템 중에서 가장 높은 압력 조건을 가지는 설비 시스템의 요구를 충족시키기에 충분히 높은 압력에서 설비를 통과한다. 이 압력은 약 90 psi 정도이다. 정화 시스템(이는 설비 내에서 생산되는 모든 CDA의 약 45% 내지 80% 까지를 소비할 수 있다)을 포함하여 다른 모든 설비 시스템에서의 사용에 있어서, CDA의 압력이 그렇게 높을 필요는 없다. 정화 유닛은 이와 같이 높은 압력의 공기를 요구하지 않으므로, 수송을 위해 CDA를 가압시키는 것은 정화 유닛을 작동시키는 비용을 불필요하게 상승시킨다. 마찬가지로, 산화체가 건조될 필요가 없는 정화 유닛에서 사용하기 위해 CDA를 건조시키는 것도 작동 비용을 불필요하게 상승시킨다. 따라서 건조, 높은 필터링 및 공기 압축과 관련된 비용을 피하면서 정화 유닛을 작동시키는 것이 바람직하다.As described above, the plant CDA is passed through the plant under pressure, typically at a pressure high enough to meet the needs of the plant system having the highest pressure condition of all plant systems. This pressure is about 90 psi. For use in all other plant systems, including purification systems (which may consume up to about 45% to 80% of all CDAs produced in the plant), the pressure of the CDA need not be so high. Since the purifying unit does not require such high pressure air, pressurizing the CDA for transportation unnecessarily increases the cost of operating the purifying unit. Likewise, drying the CDA for use in a purification unit in which the oxidant does not need to be dried also unnecessarily increases operating costs. It is therefore desirable to operate the purification unit while avoiding the costs associated with drying, high filtering and air compression.

일부 실시예에서, 본 발명은 대기 공기 공급 시스템(ambient air supply system)을 통해 정화 유닛으로 대기 공기를 제공함으로써 CDA의 사용을 줄이거나 피할 수 있다. 대기 공기는 정화 유닛을 수용하는 공간(room) 내부에서 얻어지거나, 또는 설비 내의 다른 공간으로부터 얻어질 수 있다. 예를 들어 플랜트 외부로부터의 공기 또는 재생 설비 공기(recycled facility air)와 같이 적절한 대기 공기의 다른 공급원이 사용될 수도 있다.In some embodiments, the present invention can reduce or avoid the use of CDA by providing atmospheric air to the purification unit through an atmospheric air supply system. Atmospheric air can be obtained inside a room containing a purification unit, or from another space in the installation. Other sources of suitable atmospheric air may be used, such as, for example, air from outside the plant or recycled facility air.

본 발명의 일부 실시예에서는, 자연 흡출식 공기 시스템(naturally aspirated air system; NAAS) 등에 의하여 정화 유닛으로 공기가 공급될 수 있다. NAAS는 정화 유닛이 정화 유닛 내부로 공기를 끌어들일 수 있게 하면서도 공기를 능동적으로 이동시키지는 않는 시스템이다. NAAS는 대략 대기압인 대기 공기에 개방된 유입구 및 정화 시스템(및/또는 정화 시스템의 하위 시스템)에 결합할 수 있는 배출구를 구비할 수 있다. 이러한 실시예에서는 정화 시스템이 대기압 아래의 압력에서 작동될 수 있다. 예를 들어, 반응기 내부의 압력은 대기압에 비해 약 -1.2" 내지 -5"의 물(또는 다른 적절한 압력)일 수 있다. 이러한 경우에, 공기는 정화 시스템 내부의 가스 및 대기 공기 사이의 압력차에 의해서 자연적으로 정화 시스템 및/또는 하위 시스템 내부로 끌어들여 질 수 있다. 이러한 방식으로, 외부 공기로부터 반응기에 산소가 공급될 수 있다. 대기 공기는 대기압 위 또는 아래를 포함하여 다른 압력에 놓일 수 있다. NAAS가 작동하도록 하기 위해서는, 정화 유닛을 통해 유동하는 폐기물을 원하는 정화 수준으로 정화시키기에 충분한 산소를 제공하는 속도에서 정화 유닛으로 공기를 끌어들여 지도록, 압력차가 충분히 커야 한다.In some embodiments of the invention, air may be supplied to the purifying unit by a naturally aspirated air system (NAAS) or the like. NAAS is a system that allows the purge unit to draw air into the purge unit but does not actively move the air. The NAAS may have an inlet that is open to atmospheric air at approximately atmospheric pressure and an outlet that can be coupled to a purification system (and / or subsystem of the purification system). In such an embodiment, the purge system may be operated at a pressure below atmospheric pressure. For example, the pressure inside the reactor may be about -1.2 "to -5" water (or other suitable pressure) relative to atmospheric pressure. In this case, air can be drawn into the purification system and / or subsystem naturally by the pressure difference between the gas inside the purification system and the atmospheric air. In this way, oxygen can be supplied to the reactor from the outside air. Atmospheric air may be at different pressures, including above or below atmospheric pressure. In order for the NAAS to work, the pressure differential must be large enough to draw air into the purge unit at a rate that provides sufficient oxygen to purge the waste flowing through the purge unit to the desired purge level.

다른 실시예에서 NAAS는 원하는 정도로 폐기물을 정화시키는데 요구되는 모든 공기를 제공하지 못할 수 있다. 원하는 정화 수준으로 폐기물을 정화시키는 한가지 방식은 정화 유닛으로 최소량의 공기를 유동시키는 것이다. 이러한 최소량의 공기는 정화될 폐기물의 속성 및 정화될 폐기물의 질량 유량을 평가함으로써 쉽게 결정될 수 있다. 대기 공기의 압력과 정화 유닛의 압력 사이의 차이가 너무 작으면, 폐기물을 효과적으로 정화시키기에 충분한 공기가 정화 유닛으로 흡입되지 않을 것이다. 이러한 경우에는, 정화 유닛으로 더 많은 공기를 밀어넣거나 끌어들여야 한다. 이러한 다른 실시예에서는 대기 공기 공급 시스템이 충분한 공기를 정화 시스템 및/또는 그 하위 시스템으로 밀어넣고/밀어넣거나 끌어들이기 위해서 송풍기(air blower) 또는 공기 증폭기(air amplifier)와 같은 공기 이동 장치(air moving device)를 포함할 수 있다.In other embodiments, NAAS may not provide all the air required to purify the waste to the desired extent. One way of purifying waste to the desired level of purge is to flow the least amount of air into the purge unit. This minimum amount of air can be readily determined by evaluating the nature of the waste to be cleaned and the mass flow rate of the waste to be cleaned. If the difference between the pressure of the atmospheric air and the pressure of the purifying unit is too small, enough air will not be sucked into the purifying unit to effectively purify the waste. In this case, more air must be pushed in or drawn into the purification unit. In another such embodiment, an air moving system, such as an air blower or an air amplifier, is used to allow the atmospheric air supply system to push / push or draw enough air into the purification system and / or its subsystems. device).

또 다른 실시예에서는, 대기 공기와 정화 유닛 사이에 충분한 (즉, 폐기물을 효과적으로 정화시키기에 충분한 공기를 정화 유닛으로 흡입할 수 있기에 충분한) 압력차가 존재할 수 있음에도 불구하고, 정화 시스템으로 공기를 밀어넣고/밀어넣거나 끌어들이기 위해서 송풍기(air blower) 또는 공기 증폭기(air amplifier)와 같은 공기 이동 장치를 여전히 포함할 수 있다. 대기 공기 공급 시스템에 이와 같은 공기 이동 장치를 포함시킴으로써, 대기 공기의 압력이나 정화 유닛의 작동 압력에서의 일시적 변화에 의해 야기될 수 있는 대기 공기의 어떠한 일시적 부족도 다소 해결할 수 있게 된다.In yet another embodiment, although there may be a sufficient pressure differential between the atmospheric air and the purifying unit (i.e., sufficient to inhale sufficient air into the purifying unit to effectively purify the waste), the air is forced into the purifying system and It may still include an air moving device such as an air blower or an air amplifier to push / retract it. By including such an air moving device in the atmospheric air supply system, it is possible to somewhat resolve any temporary lack of atmospheric air which may be caused by a temporary change in the atmospheric air pressure or the operating pressure of the purification unit.

도 1은 본 발명의 대기 공기 정화 시스템(100)의 일례에 대한 개략적인 다이어그램이다. 정화 시스템(100)은 하나 또는 다수의 프로세스 툴(104)로부터 배출된 폐기물을 정화시키도록 구성될 수 있는 정화 유닛(102)을 구비할 수 있다. 폐기물은 프로세스 툴(104)로부터 도관(106)을 통해 정화 유닛(102)으로 유동할 수 있다. 정화 유닛(102)은 폐기물을 산소와 반응시킴으로써 폐기물을 정화시키도록 구성될 수 있다. 산소는 대기 공기의 성분으로서 정화 유닛(102)에 공급될 수 있으며, 이는 대기 공기 공급 시스템(108)에 의하여 도관(107)을 통해 정화 유닛(102)으로 공급될 수 있다. 대기 공기 공급 시스템(108)은 대기 공기 유입구(110)를 통해 대기 공기 공급원(112)에 연결될 수 있으며, 이 대기 공급 공급원으로부터 대기 공기 공급 시스템(108)이 대기 공기를 빨아들일 수 있다. 단지 하나의 대기 공기 공급 시스템(108)이 도시되었으나, 하나보다 많은, 예를 들어 2, 3, 4 또는 그보다 많은 대기 공기 공급 시스템이 사용될 수 있다. 일부 실시예에서는, 정화 유닛(102)이 폐기물이 산소와 반응할 온도를 생성하기 위해 연료를 연소시킬 수 있다. 따라서, 정화 유닛(102)은 도관(116)을 통해서 연료 공급부(114)에 결합할 수 있다. 정화된 폐기물은 배출구(118)를 통해서 정화 유닛(102)으로부터 배출될 수 있으며, 여기서부터 사용 현장이나 하우스 집진기(house scrubber)와 같은 추가 정화 장치나 대기로 이동할 수 있다.1 is a schematic diagram of an example of an atmospheric air purification system 100 of the present invention. Purification system 100 may have a purification unit 102 that may be configured to purify waste discharged from one or multiple process tools 104. Waste may flow from the process tool 104 through the conduit 106 to the purification unit 102. Purification unit 102 may be configured to purify the waste by reacting the waste with oxygen. Oxygen may be supplied to the purification unit 102 as a component of atmospheric air, which may be supplied to the purification unit 102 through the conduit 107 by the atmospheric air supply system 108. The atmospheric air supply system 108 may be connected to the atmospheric air source 112 through the atmospheric air inlet 110, from which the atmospheric air supply system 108 may draw atmospheric air. Although only one atmospheric air supply system 108 is shown, more than one, for example 2, 3, 4 or more atmospheric air supply systems may be used. In some embodiments, purifying unit 102 may burn fuel to generate a temperature at which waste will react with oxygen. Thus, the purifying unit 102 may couple to the fuel supply 114 through the conduit 116. The purified waste may be discharged from the purification unit 102 through the outlet 118, from which it may be transferred to the use site or to further purification devices such as house scrubbers or the atmosphere.

정화 유닛(102)은 폐기물을 처리하도록 구성된 반응기일 수 있다. 이러한 반응기는, 예를 들어 캘리포니아 산타 클라라에 소재하는 Applied Materials, Inc.가 제조하는 Marathon Abatement System 과 같은 연료 연소 열 정화 유닛일 수 있다. 대안적으로 정화 유닛은 전기적으로 가열되거나 다른 적절한 방법에 의해 가열될 수 있다. 폐기물 자체가 가연성인 경우와 같이 몇몇 경우에는 정화 유닛이 폐기물을 정화시키기 위해 가열될 필요가 없을 수 있다.Purification unit 102 may be a reactor configured to process waste. Such a reactor may be, for example, a fuel combustion heat purification unit such as Marathon Abatement System manufactured by Applied Materials, Inc., Santa Clara, California. Alternatively the purifying unit may be heated electrically or by other suitable methods. In some cases, the purification unit may not need to be heated to purify the waste, such as when the waste itself is flammable.

프로세스 툴(104)은 정화 유닛(102)에 의해 정화되는 폐기물을 생성시키는 프로세스 챔버(도시되지 않음)를 포함하는 시스템일 수 있다. 예를 들어, 프로세스 툴(104)은 정화 유닛(102)이 정화시킬 수 있는 폐기물을 배출하는 증착 챔버나 기타 처리 챔버일 수 있다. 태양 전지판 제조 설비에서, 프로세스 챔버는 다량의 수소 및/또는 실란을 배출할 수 있다.Process tool 104 may be a system that includes a process chamber (not shown) that produces waste that is purged by purge unit 102. For example, the process tool 104 may be a deposition chamber or other processing chamber that discharges waste that the purifying unit 102 can purify. In solar panel manufacturing facilities, the process chamber may release large amounts of hydrogen and / or silane.

위에서 설명한 바와 같이, 대기 공기 공급 시스템(108)은 대기 공급 공급원(112)으로부터 정화 유닛(102)으로 대기 공기를 공급할 수 있다. 대기 공기 공급 시스템(108)의 구조 및 작동은 이하에서 도 3 및 4를 참조하여 더욱 상세하게 설명된다.As described above, the atmospheric air supply system 108 may supply atmospheric air from the atmospheric supply source 112 to the purification unit 102. The structure and operation of the atmospheric air supply system 108 is described in more detail with reference to FIGS. 3 and 4 below.

대기 공기 공급원(112)은 정화 시스템(100)을 둘러싸는 대기 공기일 수 있 으나, 다른 적절한 공기 공급원이 사용될 수도 있다. 예를 들어, 공기는 제조 설비에서 통상적으로 사용되는 HEPA 필터에 의해 필터링되는 대기 공기일 수 있다. 이러한 공기는 공기를 정화 유닛(102)에 전달하기에 앞서 다시 필터링될 필요가 있거나 그렇지 않을 수 있다. 이러한 실시예에서는, 대기 공기 공급 시스템(108)의 유입구가 정화 시스템(100)을 둘러싸는 대기 공기에 개방되도록, 대기 공기 공급 시스템(108)이 대기 공기 정화 시스템(100)의 구조에 결합될 수 있다. 대안적으로, 대기 공기 공급원(112)은 설비 외부로부터 공급되는 공기일 수 있다. 이러한 실시예에서는, 대기 공기 공급 시스템(108)이 폐기물을 효과적으로 정화시키기에 충분한 양으로 설비 외부로부터 정화 유닛(102)으로 공기를 운반하도록 구성된 배관 또는 기타 도관 시스템을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 사용될 때, 용어 '공기(air)'는 대기 공기 공급원(112)이 공급하는 가스상 화합물의 온도, 압력, 조성 등에 대해 제한을 두지 않는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, 용어 '공기'는, 비록 어떠한 적절한 가스상 화합물의 공급원도 사용될 수 있기는 하나, 대기에서 통상적으로 발견되는 산소, 질소 등의 어떠한 조성도 포함할 수 있는 것으로 이해되어야 한다.The atmospheric air source 112 may be atmospheric air surrounding the purification system 100, although other suitable air sources may be used. For example, the air can be atmospheric air filtered by a HEPA filter commonly used in manufacturing facilities. Such air may or may not need to be filtered again prior to delivering air to the purification unit 102. In such embodiments, the atmospheric air supply system 108 may be coupled to the structure of the atmospheric air purification system 100 such that the inlet of the atmospheric air supply system 108 opens to the atmospheric air surrounding the purification system 100. have. Alternatively, the atmospheric air source 112 may be air supplied from outside of the installation. In such embodiments, the atmospheric air supply system 108 may include piping or other conduit systems configured to deliver air from the outside of the installation to the purification unit 102 in an amount sufficient to effectively purify the waste. As used herein, the term 'air' is to be understood not to limit the temperature, pressure, composition, etc., of the gaseous compounds supplied by the atmospheric air source 112. For example, it is to be understood that the term 'air' may include any composition normally found in the atmosphere, such as oxygen, nitrogen, although any suitable source of gaseous compound may be used.

연료 공급부(114)는 정화 유닛(102)으로 연료만을 또는 연료와 공기의 혼합물을 공급할 수 있다. 연료는 수소, 메탄, 천연가스, 메탄 또는 LPG일 수 있으나, 적절한 어떠한 연료도 사용될 수 있다. 정화 유닛(102)으로 공급되는 연료의 압력은 약 0.2 psi 내지 약 10 psi일 수 있으나, 적절한 어떠한 압력도 사용될 수 있다. 연료 공급부(114)는 예를 들어 유체를 이송시키도록 구성된 스테인리스 스틸 배관에 의해 정화 유닛(102)에 결합될 수 있으나, 연료를 이송하기에 적절한 어떠한 수단도 사용될 수 있다. 본 발명에 따라 제공된 실시예가 반드시 연료 공급부(114)에 결합될 필요는 없다는 것을 이해해야 한다. 예를 들어, 정화 유닛(102)은 (폐기물이 가연성이며 단지 점화 소스 및 공기 공급원만 필요로 하는 경우에는) 무연료(fuel-less) 반응기일 수 있다.The fuel supply 114 may supply only fuel or a mixture of fuel and air to the purifying unit 102. The fuel may be hydrogen, methane, natural gas, methane or LPG, but any suitable fuel may be used. The pressure of the fuel supplied to the purification unit 102 may be between about 0.2 psi and about 10 psi, but any suitable pressure may be used. The fuel supply 114 may be coupled to the purifying unit 102 by, for example, stainless steel tubing configured to transfer fluid, but any means suitable for transferring fuel may be used. It is to be understood that the embodiment provided in accordance with the present invention is not necessarily coupled to the fuel supply 114. For example, the purifying unit 102 may be a fuel-less reactor (if the waste is flammable and only requires an ignition source and an air source).

일부 실시예에서는, 정화 유닛(102), 및/또는 (연료 공급부(114)를 제외한) 대기 공기 정화 시스템(100)의 어떠한 부분도 대기 공기 공급원(112)의 압력보다 낮은 압력에서 작동되어 압력차 또는 변량(delta)을 형성할 수 있다. 도 1에 프로세스 툴(104)이 도시되어 있으나, 이것이 정화 시스템(100)의 일부를 형성하는 것은 아니라는 점을 주목해야 한다. 이러한 압력차는 대기 공기가 자연적으로 대기 공기 공급 시스템(108)을 통해 정화 유닛(102)으로 유동하게 할 수 있다. 압력차가 충분히 크다면, 충분한 대기 공기가 대기 공기 공급 시스템(108)을 통해 흡입되어 정화 유닛(102)으로 들어갈 수 있다. 대기 공기 공급 시스템(108)의 작동에 대해서는 이하에서 더욱 상세하게 설명될 것이다.In some embodiments, the purifying unit 102 and / or any portion of the atmospheric air purification system 100 (except for the fuel supply 114) is operated at a pressure lower than the pressure of the atmospheric air source 112 to produce a pressure differential. Or a delta. Although the process tool 104 is shown in FIG. 1, it should be noted that this does not form part of the purification system 100. This pressure difference can cause atmospheric air to flow naturally through the atmospheric air supply system 108 to the purification unit 102. If the pressure difference is large enough, sufficient atmospheric air may be sucked through the atmospheric air supply system 108 and enter the purification unit 102. Operation of the atmospheric air supply system 108 will be described in more detail below.

다른 실시예에서는, 정화 유닛(102) 및/또는 정화 시스템(100)의 임의의 부분이, 앞서 설명한 바와 같이, 대기 공기 공급원(112)으로부터 대기 공기 공급 시스템(108)을 통해 정화 유닛(102)으로 충분한 공기를 이동시키는 압력차를 형성하기에 너무 큰 압력에서 작동할 수 있다. 이러한 실시예에서는, 대기 공기 공급 시스템(108)이, 도 4 및 5를 참조하여 이하에서 더욱 상세하게 설명되는 바와 같이, 송풍기 또는 공기 증폭기와 같은 공기 이동 장치를 포함할 수 있다.In other embodiments, the purifying unit 102 and / or any portion of the purifying system 100 may be purged from the atmospheric air supply 112 via the atmospheric air supply system 108, as described above. It can operate at pressures that are too large to create a pressure differential that moves enough air. In such embodiments, the atmospheric air supply system 108 may include an air moving device, such as a blower or an air amplifier, as described in more detail below with reference to FIGS. 4 and 5.

또 다른 실시예에서는, 대기 공기 공급원(112)의 대기 공기 압력보다 낮은 압력에서 작동되면서도 불충분한 양의 공기가 대기 공기 공급원(112)으로부터 대기 공기 공급 시스템(108)을 통해 정화 유닛(102)으로 이동할 수 있다. 이는 정화 유닛(102)을 통해 유동하는 폐기물의 속성 및 부피에 기인할 수 있다. 이러한 경우에도, 대기 공기 공급 시스템(108)이 송풍기나 공기 증폭기와 같은 공기 이동 장치를 포함할 수 있다.In another embodiment, insufficient amount of air is operated from atmospheric air supply 112 to atmospheric purification system 102 via atmospheric air supply system 108 while operating at a pressure lower than atmospheric air pressure of atmospheric air source 112. I can move it. This may be due to the nature and volume of the waste flowing through the purifying unit 102. Even in this case, the atmospheric air supply system 108 may include an air moving device such as a blower or an air amplifier.

또 다른 실시예에서는, 정화 유닛(102)이, 평균적으로, 대기 공기 공급 시스템(108)을 통해 정화 유닛(102)으로 충분한 양의 공기를 이동시키도록 대기 공기 공급원(112)의 압력보다 충분히 낮은 압력에서 작동될 수 있기는 하나, 일시적으로 불충분한 공기가 정화 유닛(102)으로 유동하게 하는, 정화 유닛(102)의 작동 압력에서의 변동(fluctuation)이 존재할 수 있다. 이는 허용될 수 없는 양의 정화되지 않은 폐기물이 정화 유닛(102)을 빠져나가게 할 수 있다. 이러한 실시예에서도, 대기 공기 공급 시스템(108)은, 정화 유닛(102)으로의 공기 유동을 고르게 하기 위하여, 송풍기나 공기 증폭기와 같은 공기 이동 장치를 포함할 수 있다.In another embodiment, the purifying unit 102, on average, is sufficiently lower than the pressure of the atmospheric air source 112 to move a sufficient amount of air through the atmospheric air supply system 108 to the purifying unit 102. Although actuated at pressure, there may be a fluctuation in the operating pressure of the purifying unit 102, which temporarily causes insufficient air to flow into the purifying unit 102. This may allow an unacceptable amount of unpurified waste to exit purge unit 102. Even in this embodiment, the atmospheric air supply system 108 may include an air moving device, such as a blower or an air amplifier, to even the air flow to the purification unit 102.

도 2에 도시된 정화 시스템(200)은 도 1의 정화 시스템(100)의 대안적인 실시예이다. 도 1 및 2의 도면 부호는 참조를 용이하게 하기 위하여 서로 상응한다. 예를 들어, 도 1의 정화 유닛은 도면 부호 102이고 도 2의 정화 유닛은 도면 부호 202이다.The purification system 200 shown in FIG. 2 is an alternative embodiment of the purification system 100 of FIG. 1. 1 and 2 correspond to each other for ease of reference. For example, the purifying unit of FIG. 1 is indicated at 102 and the purifying unit of FIG. 2 is denoted at 202.

대기 공기 정화 시스템(200)은 정화 시스템(100)과 유사하지만, 이하의 차이점을 가진다. 정화 시스템(100)의 대기 공기 공급 시스템(108)이 하나의 도관(107)을 통해서 정화 유닛(102)에 연결되는 반면, 정화 시스템(200)의 대기 공기 공급 시스템(208)은 5개의 도관(207)을 통해서 정화 유닛(202)에 연결된다. 또한, 도관(207)은 계속해서 5개의 대기 공기 유입구(220)를 통해 정화 유닛(202)에 연결된다. 5개의 도관(207) 및 대기 공기 유입구(220)가 도시되어 있기는 하나, 5개의 도관(207) 및 대기 공기 유입구(220)보다 더 적거나 많은 개수가 사용될 수 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 공기 유입구를 정화 유닛의 반대 측면상에 배치하거나 그 주위에 대칭적으로 배치함으로써 정화 유닛(202) 내에 보다 균일한 연소 영역을 발생시킬 수 있다.The atmospheric air purification system 200 is similar to the purification system 100 but has the following differences. The atmospheric air supply system 108 of the purification system 100 is connected to the purification unit 102 through one conduit 107, while the atmospheric air supply system 208 of the purification system 200 is connected to five conduits ( It is connected to the purification unit 202 via 207. In addition, conduit 207 is subsequently connected to purifying unit 202 through five atmospheric air inlets 220. Although five conduits 207 and atmospheric air inlet 220 are shown, fewer or more than five conduits 207 and atmospheric air inlet 220 may be used. As shown in FIG. 2, a more uniform combustion region within the purifying unit 202 can be generated by placing the air inlet on or on the opposite side of the purifying unit symmetrically.

또한, 정화 시스템(100)의 단일 대기 공기 공급 시스템(108) 및 단일 대기 공기 공급원과 비교하여, 정화 시스템(200)은 3개의 독립된 대기 공기 공급 시스템(208), 및 3개의 독립된 대기 공기 공급원(212)을 가지는 것으로 도시되어 있다. 본 발명을 실시하는데 있어서는 원하는 어떠한 개수의 대기 공기 공급 시스템(208) 및 대기 공기 공급원(212)도 사용될 수 있다는 것을 주목해야 한다. 따라서, n개 또는 n개보다 적은 대기 공기 공급 시스템(208)에 의하여 대기 공기가 공급될 수 있는, n개의 공기 유입구(220)가 있을 수 있다. 역으로, n개의 공기 유입구(220)에 n개보다 많은 대기 공기 공급 시스템(208)에 의해 대기 공기가 공급될 수 있다. 공기 유입구(220)는, 대기 공기 공급 시스템(208)에 의해 선택된 압력에서 대기 공기가 공급될 때, 각각이 단위 시간당 원하는 공기 질량을 유동시키도록 선택된 내부 오리피스 지름을 가지도록 구성될 수 있다. 대안적으로, 각각의 공기 유입구(220)가 서로 다른 공기 유입구(220)와 동일한 크기일 수도 있다.Further, in comparison with a single atmospheric air supply system 108 and a single atmospheric air source of the purification system 100, the purification system 200 includes three independent atmospheric air supply systems 208, and three independent atmospheric air sources ( 212). It should be noted that any number of atmospheric air supply systems 208 and atmospheric air sources 212 may be used in practicing the present invention. Thus, there may be n air inlets 220, through which atmospheric air may be supplied by n or less than n atmospheric air supply systems 208. Conversely, atmospheric air may be supplied to the n air inlets 220 by more than n atmospheric air supply systems 208. The air inlet 220 may be configured such that when atmospheric air is supplied at a pressure selected by the atmospheric air supply system 208, each has an internal orifice diameter selected to flow a desired air mass per unit time. Alternatively, each air inlet 220 may be the same size as the other air inlet 220.

이러한 경우에 원하는 질량 유량을 얻기 위하여, 대기 공기 공급 시스템(208)이, 이하에서 더욱 상세하게 설명되는 바와 같이, 각각의 공기 유입구(220)에 개별적으로 선택된 질량유량의 공기를 제공하도록, 또는 각각의 공기 유입구(220)에 개별적으로 선택된 압력에서 공기를 제공하도록 구성될 수 있다.In this case, in order to obtain the desired mass flow rate, the atmospheric air supply system 208 may provide air of individually selected mass flow rate to each air inlet 220, or as described in more detail below. May be configured to provide air at an individually selected pressure to the air inlet 220 of the.

작동에 있어서, 정화 유닛(202)은 정화 유닛(202)의 상부에 있는 폐기물 유입구(222)를 통해 폐기물을 수용할 수 있다. 각각의 폐기물 유입구(222)를 둘러싸는 정화 유닛(202)의 내부에는 다수의 버너 제트(burner jets)(도시되지 않음)가 존재할 수 있다. 버너 제트는 정화 유닛(202)에서 아래 방향으로 지향된 화염 및 열을 공급할 수 있으며, 폐기물은 정화 유닛(202)을 통해 아래로 이동함에 따라 정화, 예를 들어 산화될 수 있다. 일부 실시예에서는, 다수의 위치에서 그리고 상기 위치 중 하나 또는 다수에서 선택된 상이한 압력 또는 질량 유량으로 정화 유닛(202)에 공기를 유입시키는 것이 바람직할 수 있도록, 정화 유닛(202)이 구성될 수 있다. 예를 들어, 일부 실시예에서는, 연료 풍부(fuel rich)(즉, 산소 희박) 상태에서 정화 유닛(202)의 상부에서 산화 반응을 실행하고 이후 정화 유닛(202)의 하부에서 나머지 정화되지 않은 폐기물을 효과적으로 정화시키기에 충분할 수 있는 산소 풍부 환경을 형성하기에 충분한 공기로 산화 반응을 실행하는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 구성은 질소 산화물 및 황 산화물의 형성을 감소시키는데 도움이 될 수 있다. 각각의 공기 유입구(220)에서 상이한 압력이나 질량 유량을 제공하는 것은 도 3 및 도 4를 참조하여 이하에서 설명되는 바와 같이 임의의 적절한 방식으로 이루어질 수 있다.In operation, the purification unit 202 may receive waste through the waste inlet 222 at the top of the purification unit 202. There may be multiple burner jets (not shown) inside the purification unit 202 surrounding each waste inlet 222. The burner jet may supply flame and heat directed downward in the purifying unit 202, and waste may be purged, for example oxidized, as it moves down through the purifying unit 202. In some embodiments, the purifying unit 202 may be configured such that it may be desirable to introduce air to the purifying unit 202 at multiple locations and at different pressures or mass flow rates selected at one or multiple of the locations. . For example, in some embodiments, an oxidation reaction is performed at the top of the purification unit 202 in a fuel rich (ie, oxygen lean) state and then remaining unpurified waste at the bottom of the purification unit 202. It may be desirable to carry out the oxidation reaction with sufficient air to create an oxygen rich environment that may be sufficient to effectively purify the membrane. This configuration can help to reduce the formation of nitrogen oxides and sulfur oxides. Providing different pressures or mass flow rates at each air inlet 220 may be done in any suitable manner as described below with reference to FIGS. 3 and 4.

도 3에 도시된 대기 공기 공급 시스템(300)은 도 1 및 2에 각각 도시된 대기 공기 공급 시스템(108) 및 대기 공기 공급 시스템(208)에 상응한다.The atmospheric air supply system 300 shown in FIG. 3 corresponds to the atmospheric air supply system 108 and the atmospheric air supply system 208 shown in FIGS. 1 and 2, respectively.

대기 공기 공급 시스템(300)은 대기 공기 공급원(304)으로부터 대기 공기를 끌어들일 수 있는 공기 흡입구(302)를 포함할 수 있다. 대기 공기는 공기 흡입구(302)를 통과하여, 차단 밸브(306)를 통해 에어박스(airbox)(308) 내부로 들어갈 수 있다. 이후 대기 공기는 에어박스(308)로부터 도관(310) 및 유동 제어 밸브(312)를 통해 매니폴드(314)로 들어갈 수 있다. 매니폴드(314)는 대기 공기 배출구(316)를 통해 대기 공기를 정화 유닛(도시되지 않음)으로 운반할 수 있는 도관(도시되지 않음)으로 대기 공기를 분배할 수 있다. 제어기(318)는 통신 링크(320 및 322)를 통해서 차단 밸브(306) 유동 제어 밸브(312)의 개폐를 제어하기에 적절한, 임의의 마이크로 컴퓨터, 마이크로프로세서, 논리 회로, 하드웨어와 소프트웨어의 조합 등일 수 있다.The atmospheric air supply system 300 may include an air inlet 302 that may draw atmospheric air from the atmospheric air source 304. Atmospheric air may pass through the air inlet 302 and enter the airbox 308 through the shutoff valve 306. Atmospheric air may then enter the manifold 314 from the air box 308 through the conduit 310 and the flow control valve 312. Manifold 314 may distribute atmospheric air through conduit (not shown) that may carry atmospheric air to a purification unit (not shown) through atmospheric air outlet 316. The controller 318 may be any microcomputer, microprocessor, logic circuit, combination of hardware and software, etc. suitable for controlling the opening and closing of the shutoff valve 306 flow control valve 312 via the communication links 320 and 322. Can be.

대기 공기 공급원(304)은 위에서 설명한 바와 같이 대기 공기의 적절한 어떠한 공급원일 수도 있다. 공기 흡입구(302)는 3인치 스테인리스 스틸 또는 PVC 진공 배관일 수 있으나, 임의의 적절한 형태의 적절한 어떠한 도관도 사용될 수 있다.The atmospheric air source 304 may be any suitable source of atmospheric air as described above. The air inlet 302 may be three inch stainless steel or PVC vacuum tubing, but any suitable conduit of any suitable form may be used.

차단 밸브(306)는 게이트 밸브 또는 공기 흡입구(302)를 통과하는 대기 공기 경로를 개폐하기에 적절한 임의의 밸브일 수 있다. 도시된 바와 같이, 차단 밸브(306)는 HVH, LLC에 의해 제공될 수 있는 솔레노이드 또는 공압 작동식 게이트 밸브일 수 있으나, 적절한 어떠한 밸브도 사용될 수 있다. 차단 밸브(306)는 대기 공기 공급원(304)으로부터의 공기가 조절될 수 있도록 개폐되게 구성될 수 있다. 예를 들어, 대기 공기 공급원(304)으로부터 정화 시스템으로의 공기 유동을 완전히 폐쇄시키는 것이 바람직할 수 있다. 따라서, 차단 밸브(306)는 공기 흡입구(302)로부터 에어박스(308)로 공기가 운반되는 것을 방지하기 위하여 폐쇄(예를 들어 공기 경로를 폐쇄시키기 위해 평평한 디스크를 연장)될 수 있다. 이와 같이 폐쇄된 상태에서는 에어박스(308)가 대기 공기 공급원(304)으로부터 정화 시스템으로 어떠한 공기도 운반할 수 없을 것이다. 차단 밸브(306)는 또한 대기 공기 공급원(304)을 향해 폐기물이 유동하는 것을 방지하도록 구성될 수도 있다. 예를 들어, 차단 밸브(306)는 정화 유닛 내의 압력이 바람직하지 않은 압력(예를 들어, 대기압, 대기 공기 압력보다 더 큰 압력 등등)으로 증가할 때 폐쇄되도록 구성될 수 있다.The shutoff valve 306 may be any valve suitable for opening and closing the atmospheric air path through the gate valve or the air inlet 302. As shown, the shutoff valve 306 may be a solenoid or pneumatically actuated gate valve that may be provided by HVH, LLC, although any suitable valve may be used. The shutoff valve 306 can be configured to open and close so that air from the atmospheric air source 304 can be regulated. For example, it may be desirable to completely close the air flow from the atmospheric air source 304 to the purification system. Thus, the shutoff valve 306 may be closed (eg, extending a flat disc to close the air path) to prevent air from being transported from the air inlet 302 to the air box 308. In this closed state, the air box 308 will not be able to carry any air from the atmospheric air source 304 to the purification system. The shutoff valve 306 may also be configured to prevent waste from flowing towards the atmospheric air source 304. For example, shutoff valve 306 may be configured to close when the pressure in the purifying unit increases to an undesirable pressure (eg, atmospheric pressure, pressure greater than atmospheric air pressure, etc.).

에어박스(308)는 공기 상자(air box)일 수 있으나, 적절한 어떠한 저장 용기(containment vessel)도 사용될 수 있다. 도시된 바와 같이, 에어 박스(308)는 공기 압력에서의 변동을 완충시켜서 대기 공기의 유동을 제어하기 위한 대기 공기 공급 시스템(300)의 능력을 향상시키는데 사용될 수 있는 공기 저장부를 제공할 수 있다. 도 3에 에어 박스(308)가 도시되어 있기는 하나, 일부 실시예에서는 에어 박스(308)가 사용되지 않는 것도 가능하다. 또한, 도시된 바와 같이 에어 박스(308)는 직사각형 상자이나, 적절한 어떠한 형태(예를 들어, 원통형, 육각형 등)도 사용될 수 있다. 에어 박스(308)의 크기는 대기 공기 공급 시스템(300)을 통해 유동하도록 구성된 대기 공기의 체적 및 속도와 같은 인자에 기초하여 선택될 수 있다.The air box 308 may be an air box, but any suitable containment vessel may be used. As shown, the air box 308 may provide an air reservoir that can be used to cushion the fluctuations in air pressure to enhance the ability of the atmospheric air supply system 300 to control the flow of atmospheric air. Although air box 308 is shown in FIG. 3, it is also possible in some embodiments not to use air box 308. Also, as shown, the air box 308 may be a rectangular box, or any suitable form (eg, cylindrical, hexagonal, etc.) may be used. The size of the air box 308 may be selected based on factors such as volume and speed of atmospheric air configured to flow through the atmospheric air supply system 300.

유동 제어 밸브(12)는 버터플라이 밸브일 수 있으나, 적절한 어떠한 밸브도 사용될 수 있다. 도시된 바와 같이, 유동 제어 밸브(312)는 제어기(318)에 의해 제어될 수 있는 솔레노이드(solenoid) 또는 공압 작동식 밸브(pneumatically actuated valve)일 수 있다. 유동 제어 밸브(312)는 대기 공기 공급원(304)으로부터 정화 시스템으로 운반되는 공기가 통과하여 유동하는 개구를 증가시키거나 감소시키도록 회전하는 플랩(flap)을 유동 제어 밸브(312)의 본체 내에 가질 수 있다. 따라서, 공기가 높거나 낮은 속도(예를 들어 분당 표준 리터(standard liters per minute))에서 유동하도록 제어될 수 있어서, 대기 공기 공급원(304)으로부터 정화 시스템으로의 유동을 조절할 수 있다.Flow control valve 12 may be a butterfly valve, but any suitable valve may be used. As shown, the flow control valve 312 can be a solenoid or pneumatically actuated valve that can be controlled by the controller 318. The flow control valve 312 has a flap in the body of the flow control valve 312 that rotates to increase or decrease the opening through which air delivered from the atmospheric air source 304 to the purification system flows. Can be. Thus, air can be controlled to flow at high or low speeds (eg, standard liters per minute) to regulate the flow from the atmospheric air source 304 to the purification system.

차단 밸브(306) 및 유동 제어 밸브(312)의 기능이 스로틀링(throttling) 게이트 밸브나 계량식(metering) 차단 밸브와 같은 단일 밸브(도시되지 않음)에 의하여 실행될 수 있다는 것을 주목해야 한다. 그러나 이러한 다기능 밸브는 고가이며, 이를 사용하는 것은 이러한 기능들을 제공하기 위한 더 비싼 방식일 수 있다.It should be noted that the function of the shutoff valve 306 and the flow control valve 312 may be performed by a single valve (not shown), such as a throttling gate valve or a metering shutoff valve. However, such multifunctional valves are expensive and using them may be a more expensive way to provide these functions.

매니폴드(314)는 유동 제어 밸브(312)에 의해 조절되는 공기를 분배하도록 사용되는 상자일 수 있다. 도시된 바와 같이, 매니폴드(314)는 6개의 대기 공기 배출구(316)를 구비하는 상자이다. 비록 도 3에는 6개의 대기 공기 배출구(316)가 도시되어 있으나, 더 많거나 적은 대기 공기 배출구가 사용될 수도 있다. 또한, 각각의 대기 공기 배출구(316)는 정화 시스템상의 하나 또는 다수의 유입구(도시되지 않음)에 결합될 수 있다. 각각의 대기 공기 배출구(316)는 서로 다른 대기 공기 배출구(316)와 독립적으로 크기가 정해질 수 있어서, 대기 공기 배출구(316)를 통해서 정화 유닛 내의 특정 위치로 선택된 양의 공기가 유동할 수 있다.Manifold 314 may be a box used to distribute air regulated by flow control valve 312. As shown, manifold 314 is a box with six atmospheric air outlets 316. Although six atmospheric air outlets 316 are shown in FIG. 3, more or fewer atmospheric air outlets may be used. In addition, each atmospheric air outlet 316 may be coupled to one or multiple inlets (not shown) on the purification system. Each atmospheric air outlet 316 can be sized independently of the different atmospheric air outlets 316 such that a selected amount of air can flow through the atmospheric air outlet 316 to a specific location within the purification unit. .

작동에 있어서, 대기 공기 공급 시스템(300) 실시예는, 위에서 설명한 바와 같이, 폐기물을 효과적으로 정화시키기에 충분한 공기를 대기 공기 공급 시스템(300)을 통해 정화 유닛 내부로 이동시키도록 충분한 압력차를 형성하기 위해 대기 공기 공급원(304)의 압력보다 충분히 낮은 압력에서 작동되는 정화 시스템에 유용할 수 있다. 이러한 경우에, 대기 공기 공급원(304)과 정화 유닛의 작동 압력 사이의 압력차는 충분한 공기가 대기 공기 공급 시스템을 통해 정화 유닛 내부로 유동하게 할 수 있다. 유동 제어 밸브(312)는 대기 공기 공급 시스템(300)을 통해 정화 유닛으로 공급될 수 있는 전체 공기량을 선택하는데 사용될 수 있다.In operation, the atmospheric air supply system 300 embodiment, as described above, creates a sufficient pressure differential to move sufficient air through the atmospheric air supply system 300 into the purification unit, as described above. To a purge system that operates at a pressure sufficiently lower than the pressure of the atmospheric air source 304. In such a case, the pressure difference between the atmospheric air source 304 and the operating pressure of the purifying unit can cause sufficient air to flow through the atmospheric air supply system into the purifying unit. Flow control valve 312 can be used to select the total amount of air that can be supplied to the purification unit via atmospheric air supply system 300.

도 4에 도시된 대기 공기 공급 시스템(400)은 도 3에 도시된 대기 공기 공급 시스템(300)과 유사하지만 이하의 차이점을 가진다. 대기 공기 공급 시스템(400)은 송풍기, 공기 증폭기, 또는 기타 적절한 공기 이동 장치를 포함할 수 있다. 제어기(418)는 공기 이동 장치(424)가 대기 공기 공급 시스템(400)을 통해 대기 공기를 이동시키는 속도를 제어할 수 있다.The atmospheric air supply system 400 shown in FIG. 4 is similar to the atmospheric air supply system 300 shown in FIG. 3 but has the following differences. The atmospheric air supply system 400 may include a blower, an air amplifier, or other suitable air moving device. The controller 418 can control the speed at which the air movement device 424 moves atmospheric air through the atmospheric air supply system 400.

공기 이동 장치(424)는 특정 정화 시나리오에 의해 요구될 수 있는 것과 같이 충분한 단위 시간당 공기 질량을 이동시킬 수 있는 임의의 송풍기일 수 있다. 예를 들어, 공기 이동 장치(424)는 다람쥐장 모양의 선풍기 팬(squirrel cage fan), 블레이드 팬(bladed fan), 터보 팬, 또는 루츠 송풍기(roots blower) 등 일 수 있으나, 적절한 어떠한 송풍기나 팬도 사용될 수 있다.The air moving device 424 may be any blower capable of moving enough air mass per unit time, as may be required by a particular purge scenario. For example, the air mover 424 may be a squirrel cage fan, blade fan, turbo fan, or roots blower, but may be any suitable blower or fan. May also be used.

작동에 있어서, 대기 공기 공급 시스템(400)은 폐기물을 효과적으로 정화시키기에 충분한 공기가 대기 공기 공급 시스템(400)을 통해 정화 유닛으로 이동하는 것을 보장하기에 너무 높은, 즉 대기 공기 공급원(404)의 압력보다 충분히 낮지 않은 압력에서 작동하는 본 발명의 정화 시스템에 유용할 수 있다. 다른 실시예에서는, 정화 시스템이 폐기물을 정화시키기에 충분한 공기를 대기 공기 공급 시스템(400)을 통하여 정화 유닛으로 수동적으로 이동시키도록 대기 공기 공급원(404)의 압력보다 충분히 낮은 압력에서 작동하는 경우에도, 정화 유닛의 작동 압력에서 발생할 수 있는 어떠한 압력 변동에도 불구하고 대기 공기의 일정한 유동을 보장하기 위해 공기 이동 장치(424)가 사용될 수 있다. 이러한 압력 변동은 정화 유닛을 통해 폐기물을 끌어들이는 원동력일 수 있는 하우스 배기 시스템(house exhaust system)의 압력 변동에 기인하여 발생할 수 있다.In operation, the atmospheric air supply system 400 is too high, i.e., of the atmospheric air source 404, to ensure that enough air is moved to the purification unit through the atmospheric air supply system 400 to effectively purify the waste. It may be useful for the purification system of the present invention operating at a pressure not lower than pressure. In another embodiment, the purge system operates even at a pressure sufficiently lower than the pressure of the atmospheric air source 404 to manually move sufficient air to purify the waste through the atmospheric air supply system 400 to the purge unit. For example, the air moving device 424 may be used to ensure a constant flow of atmospheric air despite any pressure fluctuations that may occur at the operating pressure of the purification unit. This pressure fluctuation may occur due to pressure fluctuations in the house exhaust system, which may be the driving force for drawing waste through the purification unit.

도 5A 및 5B를 참조하면, 공기 증폭기(500)는 에어 앰플리파이어(air amplifier)일 수 있으나, 대기 공기 공급원(512)으로부터 정화 유닛(502)으로 공기를 밀어넣거나 끌어들이기에 적절한 어떠한 수단도 사용될 수 있다. 도시된 바와 같이, 공기 증폭기(500)는 원통형이나, 적절한 어떠한 형태도 사용될 수 있다. 공기 증폭기(500)는 대기 공기 공급원(512)에 의해 제공되는 공기의 공급원에 대해 개방되는 유입구를 포함하는 것으로 도시되어 있다. 공기 증폭기(500)는 또한 정화 유닛(502)으로 개방된 배출구를 포함하는 것으로 도시되어 있다. 공기 증폭기(500)는 스테인리스 스틸로 이루어질 수 있으나, 적절한 어떠한 재료도 사용될 수 있다.5A and 5B, the air amplifier 500 may be an air amplifier, but any means suitable for pushing or drawing air from the atmospheric air source 512 to the purification unit 502 may be used. have. As shown, the air amplifier 500 is cylindrical, but any suitable form may be used. The air amplifier 500 is shown to include an inlet that is open to the source of air provided by the atmospheric air source 512. The air amplifier 500 is also shown to include an outlet opening to the purification unit 502. The air amplifier 500 may be made of stainless steel, but any suitable material may be used.

대기 공기 공급원(512)에 의해 제공되는 공기의 유동은 공기 증폭기(500) 내부에 위치하며 대기 공기 공급원(512)으로부터 정화 유닛(502)으로의 방향으로 향하는 다수의 화살표(528)에 의해 표시된다. 공기 증폭기(500)는 대기 공기 공급원(512)에 의해 공급되는 공기를 끌어들이거나 및/또는 밀어내도록 구성될 수 있다. 도시된 바와 같이, 대기 공기 공급원(512)에 의하여 공급되는 공기는 CDA 공급원(530)으로부터의 CDA 공급에 의하여 공기 증폭기(500)를 통해 끌어들여질 수 있다. 이러한 본 발명의 대기 공기 공급 시스템의 실시예에서는 CDA가 사용되기는 하나, 대기 공기 공급원(512)으로부터 더 많은 부피의 공기를 이동시키기 위해 비교적 적은 양의 CDA가 사용되므로 CDA의 사용은 감축된다.The flow of air provided by the atmospheric air source 512 is indicated by a number of arrows 528 located inside the air amplifier 500 and directed in the direction from the atmospheric air source 512 to the purification unit 502. . The air amplifier 500 may be configured to draw in and / or push out air supplied by the atmospheric air source 512. As shown, air supplied by atmospheric air source 512 may be drawn through air amplifier 500 by CDA supply from CDA source 530. Although CDA is used in this embodiment of the atmospheric air supply system, the use of CDA is reduced because relatively small amounts of CDA are used to move more volume of air from the atmospheric air source 512.

본 발명에 따른 폐기물 정화 방법(600)이 도 6에 제공된다. 이러한 방법은 단계(602)에서 시작하여 전자 장치 제조 프로세스 툴로부터의 폐기물을 정화시키도록 구성된 정화 유닛이 제공되는 단계(604)로 진행한다. 이러한 방법은 공기 이동 장치를 포함하는 대기 공기 공급 시스템이 제공되며 대기 공기 공급 시스템이 정화 유닛으로 대기 공기를 공급하도록 구성되는 단계(606)를 포함한다. 단계(604) 및 단계(606)는 임의의 순서로 실행될 수 있다. 또한 상기 방법은 폐기물이 대기 공기 공급 시스템에 의하여 제공되는 대기 공기에 의해 산화되는 단계(608)를 포함한다. 상기 방법은 단계(610)에서 종료된다.A waste purification method 600 according to the present invention is provided in FIG. 6. The method begins at step 602 and proceeds to step 604 where a purge unit is provided configured to purify waste from the electronic device manufacturing process tool. This method includes a step 606 in which an atmospheric air supply system is provided that includes an air moving device and the atmospheric air supply system is configured to supply atmospheric air to the purifying unit. Steps 604 and 606 may be executed in any order. The method also includes a step 608 in which waste is oxidized by atmospheric air provided by an atmospheric air supply system. The method ends at step 610.

전술한 설명은 본 발명의 예시적인 실시예를 설명할 뿐이다. 본 발명의 범위 내에 속하는 앞서 개시된 장치 및 방법의 수정은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 쉽게 알 수 있을 것이다.The foregoing description merely illustrates exemplary embodiments of the invention. Modifications of the above disclosed apparatus and methods which fall within the scope of the invention will be readily apparent to those skilled in the art.

따라서, 본 발명이 그 예시적인 실시예와 관련하여 설명되었으나, 다른 실시예도 이하에 청구범위에서 한정되는 바와 같이 본 발명의 사상 및 범위 내에 포함될 수 있다는 것을 이해해야 한다.Accordingly, while the invention has been described in connection with exemplary embodiments thereof, it should be understood that other embodiments may be included within the spirit and scope of the invention as defined in the following claims.

Claims (15)

정화 시스템으로서,
폐기물을 정화시키도록 구성된 정화 유닛; 및
공기 이동 장치를 포함하는 대기 공기 공급 시스템;을 포함하고,
상기 대기 공기 공급 시스템이 산화체로서 사용하기 위하여 대기 공기를 상기 정화 유닛으로 공급하도록 구성되는,
정화 시스템.
As a purification system,
A purifying unit configured to purify the waste; And
An atmospheric air supply system including an air moving device;
The atmospheric air supply system is configured to supply atmospheric air to the purification unit for use as an oxidant,
Purification system.
제1항에 있어서,
상기 공기 이동 장치가 송풍기를 포함하는,
정화 시스템.
The method of claim 1,
The air moving device comprises a blower,
Purification system.
제1항에 있어서,
상기 대기 공기 공급 시스템이 선택된 질량 유량으로 대기 공기를 상기 정화 유닛으로 공급하도록 구성되는,
정화 시스템.
The method of claim 1,
The atmospheric air supply system is configured to supply atmospheric air to the purification unit at a selected mass flow rate,
Purification system.
제1항에 있어서,
상기 대기 공기 공급 시스템이 선택된 압력에서 대기 공기를 상기 정화 유닛으로 공급하도록 구성되는,
정화 시스템.
The method of claim 1,
The atmospheric air supply system is configured to supply atmospheric air to the purification unit at a selected pressure,
Purification system.
제4항에 있어서,
상기 대기 공기 공급 시스템이 상기 정화 유닛으로 공급되는 공기의 압력 변동을 감소시키도록 구성되는,
정화 시스템.
The method of claim 4, wherein
The atmospheric air supply system is configured to reduce pressure fluctuations of air supplied to the purifying unit,
Purification system.
제1항에 있어서,
상기 정화 유닛이 하나보다 많은 공기 유입구를 통해 상기 대기 공기 공급 시스템으로부터 대기 공기를 수용하도록 구성되며,
상기 대기 공기 공급 시스템이 선택된 질량 유량으로 각각의 공기 유입구를 통해 대기 공기를 유동시키도록 구성되며,
각각의 공기 유입구에 대해 선택된 질량 유량이 임의의 다른 공기 유입구에 대해 선택된 질량 유량과 동일하거나 상이할 수 있는,
정화 시스템.
The method of claim 1,
The purifying unit is configured to receive atmospheric air from the atmospheric air supply system through more than one air inlet,
The atmospheric air supply system is configured to flow atmospheric air through each air inlet at a selected mass flow rate,
The mass flow rate selected for each air inlet may be the same or different than the mass flow rate selected for any other air inlet,
Purification system.
제1항에 있어서,
상기 정화 유닛이 하나보다 많은 공기 유입구를 통해 상기 대기 공기 공급 시스템으로부터 대기 공기를 수용하도록 구성되며,
각각의 공기 유입구가 오리피스를 포함하고, 상기 오리피스의 지름이 선택된 질량 유량에서 상기 정화 유닛으로 공기를 유동시킬 수 있도록 선택되며,
각각의 공기 유입구에 대해 선택된 질량 유량이 임의의 다른 공기 유입구에 대해 선택된 질량 유량과 동일하거나 상이할 수 있는,
정화 시스템.
The method of claim 1,
The purifying unit is configured to receive atmospheric air from the atmospheric air supply system through more than one air inlet,
Each air inlet comprises an orifice, the diameter of the orifice is selected to allow air to flow into the purge unit at a selected mass flow rate,
The mass flow rate selected for each air inlet may be the same or different than the mass flow rate selected for any other air inlet,
Purification system.
정화 유닛에 산화체로서의 사용을 위한 대기 공기를 공급하기 위한 대기 공기 공급 시스템으로서,
공기 이동 장치; 및
상기 공기 이동 장치에 결합되고 상기 정화 유닛에 공기를 공급하도록 구성되는 매니폴드;를 포함하고,
상기 공기 이동 장치 및 매니폴드가 대기 공기의 공급원으로부터 공기를 수용하도록 구성되는,
대기 공기 공급 시스템.
An atmospheric air supply system for supplying atmospheric air for use as an oxidant to a purification unit,
Air moving device; And
A manifold coupled to the air moving device and configured to supply air to the purifying unit;
The air mover and manifold are configured to receive air from a source of atmospheric air,
Atmospheric air supply system.
제8항에 있어서,
상기 공기 이동 장치가 송풍기를 포함하는,
대기 공기 공급 시스템.
The method of claim 8,
The air moving device comprises a blower,
Atmospheric air supply system.
제8항에 있어서,
상기 대기 공기 공급 시스템이 선택된 질량 유량으로 상기 정화 유닛에 대기 공기를 공급하도록 추가로 구성되는,
대기 공기 공급 시스템.
The method of claim 8,
The atmospheric air supply system is further configured to supply atmospheric air to the purification unit at a selected mass flow rate,
Atmospheric air supply system.
제8항에 있어서,
상기 대기 공기 공급 시스템이 선택된 압력에서 상기 정화 유닛에 대기 공기를 공급하도록 추가로 구성되는,
대기 공기 공급 시스템.
The method of claim 8,
The atmospheric air supply system is further configured to supply atmospheric air to the purification unit at a selected pressure,
Atmospheric air supply system.
제11항에 있어서,
상기 정화 유닛에 공급되는 대기 공기의 압력 변동을 감소시키도록 추가로 구성되는,
대기 공기 공급 시스템.
The method of claim 11,
Further configured to reduce pressure fluctuations of atmospheric air supplied to the purifying unit,
Atmospheric air supply system.
제8항에 있어서,
상기 대기 공기 공급 시스템이 하나보다 많은 공기 유입구를 통해 상기 정화 유닛으로 대기 공기를 공급하도록 추가로 구성되는,
대기 공기 공급 시스템.
The method of claim 8,
The atmospheric air supply system is further configured to supply atmospheric air to the purification unit through more than one air inlet,
Atmospheric air supply system.
제13항에 있어서,
상기 대기 공기 공급 시스템이 선택된 질량 유량으로 각각의 공기 유입구를 통해 대기 공기를 유동시키도록 구성되고,
상기 대기 공기 공급 시스템이 임의의 다른 공기 유입구의 질량 유량과 동일하거나 상이한 질량 유량으로 각각의 공기 유입구를 통해 대기 공기를 유동시키도록 구성되는,
대기 공기 공급 시스템.
The method of claim 13,
The atmospheric air supply system is configured to flow atmospheric air through each air inlet at a selected mass flow rate,
Wherein the atmospheric air supply system is configured to flow atmospheric air through each air inlet at a mass flow rate equal to or different from that of any other air inlet,
Atmospheric air supply system.
대기 공기를 산화체로서 사용하여 폐기물을 정화시키기 위한 방법으로서,
전자 장치 제조 프로세스 툴로부터의 폐기물을 정화시키도록 구성되는 정화 유닛을 제공하는 단계;
공기 이동 장치를 포함하는 대기 공기 공급 시스템을 제공하는 단계로서, 상기 대기 공기 공급 시스템이 상기 정화 유닛으로 대기 공기를 제공하도록 구성되는, 대기 공기 공급 시스템 제공 단계; 및
상기 대기 공기 공급 시스템에 의하여 공급되는 대기 공기로 상기 정화 유닛 내에서 폐기물을 정화시키는 단계;를 포함하는,
폐기물 정화 방법.
A method for purifying waste by using atmospheric air as an oxidant,
Providing a purifying unit configured to purify waste from the electronic device manufacturing process tool;
Providing an atmospheric air supply system comprising an air moving device, wherein the atmospheric air supply system is configured to provide atmospheric air to the purifying unit; And
And purifying the waste in the purification unit with atmospheric air supplied by the atmospheric air supply system.
How to clean up waste.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000035573A1 (en) * 1998-12-15 2000-06-22 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and method for point-of-use treatment of effluent gas streams
US7569193B2 (en) * 2003-12-19 2009-08-04 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants
JP4177782B2 (en) * 2004-04-05 2008-11-05 大陽日酸株式会社 Combustion exhaust gas treatment equipment
FR2881209B1 (en) * 2005-01-21 2015-04-24 Snecma Moteurs GAS INCINERATOR INSTALLED ON A LIQUEFIED GAS TRANSPORT VESSEL
GB0509944D0 (en) * 2005-05-16 2005-06-22 Boc Group Plc Gas combustion apparatus
JP2007232308A (en) * 2006-03-02 2007-09-13 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Gas treating apparatus

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