KR20100060087A - 세라믹 돔 구조체 및 이를 이용하는 플라즈마 처리 장치 - Google Patents

세라믹 돔 구조체 및 이를 이용하는 플라즈마 처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 세라믹 돔 구조체 및 이를 이용하는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다. 세라믹 돔 구조체는 멀티 기능을 갖는다. 즉, 세라믹 돔 구조체는 챔버를 덮어서 밀폐하고, 안테나 코일을 장착하며 그리고 공정 가스를 공급하도록 제공된다. 세라믹 돔 구조체는 하부가 개방된 돔 형상의 몸체 상부면이 플레이트 형상으로 돌출되어 안테나 코일이 장착되는 복수 개의 홈들을 갖는 고정부와, 고정부 상부를 덮어서 안테나 코일이 이탈되는 것을 방지하는 커버 플레이트 및, 몸체 상부면의 가장자리를 따라 균일하게 배치되고, 가스 노즐이 삽입 설치되는 복수 개의 노즐 삽입구들을 포함한다. 본 발명에 의하면, 다양한 기능을 갖는 세라믹 돔 구조체를 구비하는 플라즈마 처리 장치의 제품 차별화를 얻을 수 있다.
플라즈마 처리 장치, 세라믹 돔 구조체, 고정부, 가스 배분 링, 멀티 기능

Description

세라믹 돔 구조체 및 이를 이용하는 플라즈마 처리 장치{CERAMIC DOME STRUCTURE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS WITH IT}
본 발명은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 상부에 가스 공급과, 안테나 지지 및 보호를 위한 멀티기능의 세라믹 돔 구조체 및 이를 이용하는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.
플라즈마 공정을 처리하는 플라즈마 처리 장치는 챔버 내부에 형성된 플라즈마에 의해 기판의 불필요한 부분을 제거하는 식각 공정, 기판 표면에 원하는 막을 증착하는 증착 공정 등을 처리한다. 플라즈마는 일반적으로 챔버 내부에 공급된 공정 가스에 전자기장을 형성하여 생성된다. 예를 들어, 챔버의 상부 및 하부에 전극을 제공하고, 상부 및 하부 전극에 고주파 전원을 인가하여 내부의 공급된 공정 가스를 이온화하여 반도체 기판이 처리되는 면의 상부에 플라즈마 분위기를 형성한다. 이러한 플라즈마 처리 장치는 챔버 상부를 덮는 커버 예컨대, 세라믹 돔(ceramic dome)을 갖는다. 세라믹 돔은 단순히 챔버 상부를 덮어서 챔버 내부를 진공 상태로 유지하는 커버 역할을 한다. 또 플라즈마 장치는 챔버 내부에 플라즈마 분위기를 형성하기 위하여, 공정 가스를 공급, 분사하는 탑 노즐(top nozzle)과 복수 개의 사이드 노즐(side nozzle)들을 구비한다.
도 1을 참조하면, 플라즈마 처리 장치(10)는 공정 처리를 위해 내부 공간을 제공하는 챔버(2)와, 챔버(2) 상부를 덮는 세라믹 돔(4)과, 챔버(2) 내부에 전자기장을 형성하는 안테나 코일(18)과, 안테나 코일(18)을 고정 설치하는 고정부재(20) 및, 챔버(2) 내부에 구비되어 웨이퍼(W)가 안착되는 정전척(14)을 포함한다. 플라즈마 처리 장치(10)는 세라믹 돔(4) 중앙에 관통되어 챔버(2) 내부로 공정 가스를 공급하는 탑 노즐(12)과, 세라믹 돔(4)과 챔버(2) 사이에 구비되어, 챔버(2) 내부로 공정 가스를 분사하는 복수 개의 사이드 노즐(8)들이 설치되는 가스 링(6)을 포함한다. 가스 링(6)에는 가스 유로(16)가 설치되어 가스 공급원(미도시됨)으로부터 공정 가스를 공급받아서 복수 개의 사이드 노즐(8)로 공정 가스를 공급한다.
세라믹 돔(4)은 도 2a에 도시된 바와 같이, 상부면이 평편하고 측벽이 하부 방향으로 연장되어 돔 형상을 갖는다. 세라믹 돔(4)은 챔버(2) 상부에 결합되어 챔버(2) 내부를 밀폐한다.
플라즈마 처리 장치(10)는 고주파 전원을 안테나 코일(14)로 인가한다. 안테나 코일(18)은 세라믹 돔(4) 상부에 고정, 설치되도록 고정부재(20)에 장착된다. 고정부재(20)는 플레이트(plate) 형상으로 구비된다. 고정부재(20)는 도 2b에 도시된 바와 같이, 세라믹 돔(4)과 접촉하는 하부면에 안테나 코일(18)을 고정하기 위한 복수 개의 홈(22)들을 제공한다. 홈(22)들은 적어도 하나의 나선형의 안테나 코일이 삽입되도록 나선형으로 연결된다. 그리고 고정부재(20)는 도 2c에 도시된 바와 같이, 안테나 코일(18)이 홈(22)들에 장착되고 외부로 이탈되지 않도록 홈(22) 들이 제공되는 하부면이 세라믹 돔(4)의 상부면에 결합된다. 예를 들어, 고정부재(20)는 질화 알루미늄(Aluminum Nitride : ALN) 재질로 구비된다.
안테나 코일(14)은 고주파 전원을 공급받아서 챔버(2) 내부에 전자기장을 유도한다. 이와 동시에, 플라즈마 처리 장치(10)는 동일 또는 서로 다른 공정 가스가 탑 노즐(12) 및 복수 개의 사이드 노즐(14)들을 통해 챔버(2) 내부로 유입되며, 유도된 전자기장은 공정 가스를 이온화시켜 챔버(2) 내에서 플라즈마를 형성한다. 이렇게 형성된 플라즈마는 정전척(14)에 안착된 기판(W) 표면과 반응하여 식각 또는 증착 공정을 처리한다. 또 플라즈마 처리 장치(10)는 이온 충돌을 위한 음의 직류 바이어스 전압을 제공하기 위해 안테나 코일(18)에 인가된 것과는 다른 고주파가 일반적으로 정전척(14)에 구비되는 하부 전극(미도시됨)에 인가된다.
이러한 플라즈마 처리 장치(10)는 플라즈마를 발생하기 위해, 세라믹 돔(4)을 이용하여 챔버(2) 내부를 진공 상태로 유지하도록 단순히 커버(cover) 역할만 한다.
또 플라즈마 처리 장치(10)의 고정부재(20)는 고주파 에너지가 챔버(2) 내부로 전달되도록 절연체, 즉, 질화 알루미늄(ALN) 재질로 만들기 때문에, 가공성이 낮다. 이로 인해 고정부재(20)는 가공 불량이 빈번히 발생하고, 가공시 파손될 우려가 높다. 또 질화 알루미늄(ALN) 재질은 고가이기 때문에 제조 단가가 증가된다.
본 발명의 목적은 안테나 코일을 고정하는 세라믹 돔 구조체 및 이를 구비하는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 가스 공급 기능을 구비하는 세라믹 돔 구조체 및 이를 구비하는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 멀티 기능의 세라믹 돔 구조체 및 이를 구비하여 제조 원가를 줄일 수 있는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것이다.
상기 목적들을 달성하기 위한, 본 발명의 세라믹 돔 구조체는 멀티 기능을 위한 구조를 제공하는데 그 한 특징이 있다. 이와 같은 특징의 세라믹 돔 구조체는 챔버 내부를 덮고 안테나 코일을 고정하며, 그리고 가스를 공급할 수 있다.
이 특징의 세라믹 돔 구조체는, 상부면이 평편하고 하부가 개방된 돔 형상의 몸체와; 상기 상부면이 플레이트 형상으로 돌출되고, 돌출된 상부에 안테나 코일이 삽입, 장착되는 복수 개의 홈들을 갖는 고정부 및; 상기 안테나 코일이 상기 홈들에 삽입된 상기 고정부의 상부를 덮는 커버 플레이트를 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 세라믹 돔 구조체는; 상기 고정부의 측면에 배치되고, 상기 몸체의 상기 상부면에 결합되며, 그리고 내부에 공정 가스를 공급하는 가스 공급원과 연결되는 가스 유로를 제공하는 가스 분배 링 및; 상기 몸체에 장착되고, 상기 가스 유로와 연결되는 복수 개의 가스 노즐들을 더 포함한다. 여기서 상기 몸체는 상기 가스 노즐들이 각각 삽입, 설치되는 복수 개의 노즐 삽입구들을 제공한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 노즐 삽입구들은 상기 몸체의 상기 상부면의 가장자리에 균일한 간격으로 관통된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 고정부와 상기 커버 플레이트는 동일한 형상으로 제공된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 노즐 삽입구들 각각은 상기 가스 노즐이 상기 몸체의 하부 방향으로 일정 각도를 갖도록 조절 가능하게 제공한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 멀티 기능의 세라믹 돔 구조체를 구비하는 플라즈마 처리 장치가 제공된다. 이와 같은 본 발명의 플라즈마 처리 장치는 챔버 내부를 덮고 안테나 코일을 고정하며, 그리고 가스를 공급할 수 있는 멀티 기능을 제공하여, 복수 개의 사이드 노즐들이 필요없으며, 안테나 코일을 고정하기 위한 파트의 제조가 용이하고, 제조 단가를 줄일 수 있다.
이 특징의 플라즈마 처리 장치는, 상부가 개방된 챔버와; 상기 챔버 내부에 배치되어 기판이 안착되는 기판 지지부재와; 고주파 전원을 공급받아서 상기 챔버 내부로 전자기장을 유도하는 안테나 코일과; 상기 챔버의 상부를 덮어서 상기 챔버 내부를 밀폐하고, 상기 안테나 코일이 장착되는 고정부가 일체형으로 제공되는 세라믹 돔 구조체 및; 상기 세라믹 돔 구조체의 중앙에 관통 설치되어 상기 챔버 내부로 공정 가스를 공급하는 샤워 노즐을 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 세라믹 돔 구조체는; 상부면이 평편하고 하부가 개방된 돔 형상의 몸체와; 상기 상부면이 플레이트 형상으로 돌출되고, 돌출된 상부에 상기 안테나 코일이 삽입, 장착되는 복수 개의 홈들을 갖는 상기 고정부 및; 상기 안테나 코일이 상기 홈들에 삽입된 상기 고정부의 상부를 덮는 커버 플레이트를 포함한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 세라믹 돔 구조체는; 상기 고정부의 측면에 배치되고, 상기 몸체의 상기 상부면에 결합되며, 그리고 내부에 공정 가스를 공급하는 가스 공급원과 연결되는 가스 유로를 제공하는 가스 분배 링 및; 상기 몸체에 장착되고, 상기 가스 유로와 연결되어 상기 샤워 노즐의 가장자리에서 상기 기판 지지부재에 안착된 기판의 상부로 복수 개의 가스 노즐들을 더 포함한다. 여기서 상기 몸체는 상기 가스 노즐들이 각각 삽입, 설치되는 복수 개의 노즐 삽입구들을 제공한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 노즐 삽입구들은 상기 몸체의 상기 상부면의 가장자리에 균일한 간격으로 관통된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 노즐 삽입구들은 각각 상기 가스 노즐이 상기 기판 지지부재에 안착된 기판 방향으로 조절 가능하게 제공한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 플라즈마 처리 장치는; 상기 가스 분배 링과 상기 챔버 사이에 제 1 결합부재를 더 포함한다. 상기 가스 분배 링은 상기 고정부 및 상기 제 1 결합부재 사이에 고정된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 플라즈마 처리 장치는; 상기 커버 플레이트와 상기 가스 분배 링 상부에 제 2 결합부재를 더 포함한다. 상기 제 2 결합부재는 상기 커버 플레이트와 상기 가스 분배 링을 상부에서 고정한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 세라믹 돔 구조체는 챔버 커버 기능, 안테나 코일 고정 기능 및, 가스 공급 기능과 같이 멀티 기능을 가짐으로써, 이를 구비하는 플라즈마 처리 장치의 제품 차별화를 부각시킬 수 있다.
또 세라믹 돔 구조체는 안테나 코일을 장착하기 위하여 몸체 상부에 일체형의 고정부를 제공함으로써, 고정부를 덮는 커버 플레이트의 형상을 단순하게 가공할 수 있어, 제조 단가를 절감할 수 있다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
이하 첨부된 도 3 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 처리 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 플라즈마 처리 장치(100)는 멀티 기능을 갖는 세라믹 돔 구조체(110)를 포함한다. 세라믹 돔 구조체(110)는 챔버(102, 104) 상부를 덮고, 안테나 코일(114)을 고정하며, 그리고 챔버(102, 104) 내부로 가스를 공급한다.
구체적으로 플라즈마 처리 장치(100)는 웨이퍼(W)를 공정 처리하기 위한 공간을 제공하는 챔버(102, 104)와, 웨이퍼(W)를 지지하는 기판 지지부재(106) 및, 챔버(102, 104) 내부로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부재(108, 124)를 포함한다. 또 플라즈마 처리 장치(100)는 세라믹 돔 구조체(110)의 상부에 고정 설치되는 안테나 코일(114)과, 안테나 코일의 상부를 덮는 커버 플레이트(116)를 구비한다.
챔버(102, 104)는 상부가 개방된 원통형의 하부 챔버(102)와, 하부 챔버(102)의 상부에 결합되는 상부 챔버(104) 및, 챔버(102, 104)의 개방된 상부를 덮는 세라믹 돔 구조체(110)를 갖는다. 세라믹 돔 구조체(110)는 챔버(102, 104) 상부를 덮어서 챔버(102, 104)의 내부 공간을 밀폐한다.
기판 지지부재(106)은 정전기력을 이용하여 웨이퍼(W)를 고정할 수 있는 정전척(ESC)으로 구비된다. 기판 지지부재(106)은 기계적인 구조를 통하여 클램핑이 가능한 기계척 또는 진공으로 웨이퍼(W)를 흡착하는 진공척으로 구비될 수 있다. 예를 들어, 기판 지지부재(106)는 복수 개의 지지핀(미도시됨)들이 기판 지지부재(106)의 상부로 이동하여 웨이퍼(W)의 하면을 지지하고, 지지핀들에 웨이퍼(W)가 안착되면, 지지핀들이 기판 지지부재(106)의 하부로 이동하여 웨이퍼(W)가 기판 지지부재(106)의 상부면에 안착된다. 또 기판 지지부재(106)는 하부에 구동축과 연결되며, 구동축은 하부에 모터 등과 같은 구동기(미도시됨)에 연결된다. 구동기는 회전력을 발생시켜서, 구동축과 기판 지지부재(106)를 회전시킨다. 따라서 기판 지지부재(106)에 안착된 웨이퍼(W)는 기판 지지부재(106)와 함께 회전한다.
가스 공급부재(108, 124)는 세라믹 돔 구조체(110)의 중앙에 관통 설치되어 공정 가스를 챔버(102, 104) 내부로 공급하는 샤워 노즐(108)과, 세라믹 돔 구조체(110)의 상부면 가장자리에 배치되어 챔버(102, 104) 내부 전체로 공정 가스를 균일하게 공급하는 복수 개의 가스 노즐(124)들을 포함한다. 샤워 노즐(108)과 가스 노즐(124)들은 공정 레서피에 대응하여 동일하거나 서로 다른 공정 가스를 분사한다.
그리고 세라믹 돔 구조체(110)는 안테나 코일(114)을 고정하는 고정부(110b)와, 복수 개의 가스 노즐(124)들이 장착되는 복수 개의 노즐 삽입구(124a)들을 구비한다. 고정부(110b)는 안테나 코일(114)이 삽입 장착되는 복수 개의 홈(112)들이 제공된다. 안테나 코일(114)은 고주파 전원을 공급받아서 챔버(102, 104) 내부에 전자기장을 형성한다. 고정부(110b)의 상부에는 홈(112)들을 덮는 커버 플레이트(116)가 구비된다. 또 노즐 삽입구(124a)들은 가스 분배 링(120)에 연결된다. 가스 분배 링(120)은 고정부(110b)의 가장자리 일측에 배치되고, 가스 공급원(미도시됨)으로부터 공정 가스를 공급받아서 가스 노즐(124)들로 제공한다. 가스 노즐(124)들은 챔버(102, 104) 내부로 공정 가스를 공급한다.
또 가스 분배 링(120)과 상부 챔버(104) 사이에는 제 1 결합부재(126)가 구비된다. 제 1 결합부재(126)는 링 형상으로 세라믹 돔 구조체(110)와 상부 챔버(104) 사이에 삽입되어 가스 분배 링(120)을 고정부(110b)와 상부 챔버(104) 사이에 고정시킨다. 또 커버 플레이트(116)와 가스 분배 링(120) 상부에는 제 2 결합부재(118)가 구비된다. 제 2 결합부재(118)는 플레이트 형상으로 커버 플레이트(116)와 가스 분배 링(120)을 상부에서 고정시킨다.
본 발명의 플라즈마 처리 장치(100)는 공정 가스가 샤워 노즐(108)과 세라믹 돔 구조체(110)에 장착된 복수 개의 가스 노즐(124)들을 통해 챔버(102, 104) 내부로 공급된다. 이 때, 가스 노즐(124)들은 세라믹 돔 구조체(110)의 상부에 배치되는 가스 분배 링(120)을 통해 공정 가스를 공급받는다. 또 세라믹 돔 구조체(110)의 고정부(110b)에 장착된 안테나 코일(114)에 의해 유도된 전자기장은 공정 가스를 이온화시켜 챔버(102, 104) 내부에 플라즈마 분위기를 형성한다. 이렇게 형성된 플라즈마는 기판 지지부재(106)에 안착된 웨이퍼(W) 표면과 반응하여 식각 또는 증착 공정을 처리한다.
구체적으로 도 4 내지 도 6을 참조하여 세라믹 돔 구조체의 구성을 상세히 설명한다.
도 4a는 도 3에 도시된 세라믹 돔 구조체의 구성을 나타내는 사시도이고, 도 4b는 도 3에 도시된 커버 플레이트의 구성을 나타내는 사시도, 그리고 도 4c는 도 4a와 도 4b에 도시된 세라믹 돔 구조체와 커버 플레이트의 결합 상태를 나타내는 사시도이다. 또 도 5는 도 3에 도시된 세라믹 돔 구조체의 저면도이고, 도 6은 도 3에 도시된 가스 분배 링의 구성을 도시한 도면이다.
도 3 및 도 4a를 참조하면, 세라믹 돔 구조체(110)는 상부면이 원 형상으로 평편하고, 하부가 개방된 돔(dome) 형상의 몸체(110a)를 가지며, 상부에 안테나 코일(112)을 고정하는 고정부(110b)와, 내부에 가스 공급원과 연결되는 가스 유로가 형성되는 가스 분배 링(120)이 제공된다. 가스 분배 링(120)은 고정부(110b)의 가 장자리 측면에 배치된다. 또 세라믹 돔 구조체(110)는 중앙에 공정 가스를 공급하는 샤워 노즐(또는 탑 노즐)(108)이 관통 장착된다.
고정부(110b)는 세라믹 돔 구조체(110)의 상부면과 일체형으로, 상부면이 플레이트 형상으로 돌출된다. 고정부(110b)는 세라믹 돔 구조체(110)의 상부면 보다 작은 직경을 갖는다. 고정부(110b)는 상부면에 복수 개의 홈(112)들을 제공한다. 홈(112)들은 적어도 하나의 나선형으로 연결되어, 내부에 안테나 코일(114)이 삽입, 장착된다. 고정부(110b)의 상부에는 커버 플레이트(116)가 구비된다.
커버 플레이트(116)는 도 4b 및 도 4c에 도시된 바와 같이, 고정부(110b)와 동일한 크기로 제공되며, 고정부(110b)의 상부면을 덮는다. 커버 플레이트(116)는 고정부(110b)의 홈(112)들에 장착된 안테나 코일(114)이 홈(112)들로부터 이탈되지 않도록 고정부(110b)를 덮는다. 커버 플레이트(116)는 안테나 코일에 의해 유도된 고주파 에너지가 챔버(102, 104) 내부로 전달되도록 절연체 예를 들어, 질화 알루미늄(ALN) 재질로 구비된다. 질화 알루미늄 재질의 커버 플레이트(116)는 가공이 용이하도록 단순한 플레이트 형상으로 제공된다.
또 세라믹 돔 구조체(110)는 고정부(110b)와 커버 플레이트(116)의 가장자리 측면에 가스 분배 링(120)이 제공된다. 가스 분배 링(120)은 도 6에 도시된 바와 같이, 내부에 공정 가스를 공급하는 가스 공급원(미도시됨)과 연결되는 가스 유로(122, 122a)가 형성된다. 가스 분배 링(120)은 일측면에 고정부(110b)와 커버 플레이트(116)가 배치되고, 하부면이 세라믹 돔 구조체(110)의 상부면에 결합된다. 가스 유로(122, 122a)는 고정부(110b)와 커버 플레이트(116)가 배치되는 측면의 반 대측 즉, 가스 분배 링(120)의 외측면에서 가스 공급원과 연결되며, 하부면에서 세라믹 돔 구조체에 제공되는 복수 개의 노즐 삽입구(124a)들과 연결된다. 노즐 삽입구(124a)들은 각각 챔버(102, 104) 내부로 공정 가스를 공급하는 복수 개의 가스 노즐(124)들과 연결된다. 이를 위해 세라믹 돔 구조체(110)는 상부면에 가스 노즐(124)들이 각각 장착되는 복수 개의 노즐 삽입구(124a)들을 구비한다. 노즐 삽입구(124a)들은 가스 분배 링(120)의 가스 유로(122, 122a)와 연결되도록 세라믹 돔 구조체(110)의 상부면을 상하로 관통한다.
노즐 삽입구(124a)들은 도 5에 도시된 바와 같이, 가스 분배 링(120)의 가스 유로(122)에 대응해서 세라믹 돔 구조체(110)의 상부면 가장자리를 따라 일정 간격으로 배치된다. 또 노즐 삽입구(124a)들은 각각에 삽입된 가스 노즐(124)들이 기판 지지부재(106)에 안착된 기판을 향하도록 일정 각도를 갖는다. 이러한 각도는 가스 노즐(124)들로부터 공급되는 공정 가스가 챔버(102, 104)의 내부 전체로 균일하게 분사되도록 다양하게 조절될 수 있다. 예를 들어, 플라즈마 처리 장치(100)는 웨이퍼(W) 증착 공정 시, 증착될 막이 균일하게 증착될 수 있도록 각각의 가스 노즐(124)들의 방향을 조절 가능하다.
이상에서, 본 발명에 따른 세라믹 돔 구조체 및 이를 구비하는 플라즈마 처리 장치의 구성 및 작용을 상세한 설명과 도면에 따라 도시하였지만, 이는 실시예를 들어 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다.
도 1은 일반적인 플라즈마 처리 장치의 구성을 도시한 도면;
도 2a 내지 도 2c는 도 1에 도시된 세라믹 돔 구조체의 구성을 도시한 사시도들;
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 처리 장치의 구성을 도시한 도면;
도 4a는 도 3에 도시된 세라믹 돔 구조체의 구성을 나타내는 사시도;
도 4b는 도 3에 도시된 커버 플레이트의 구성을 나타내는 사시도;
도 4c는 도 4a와 도 4b에 도시된 세라믹 돔 구조체와 커버 플레이트의 결합 상태를 나타내는 사시도;
도 5는 도 3에 도시된 세라믹 돔 구조체의 저면도; 그리고
도 6은 도 3에 도시된 가스 분배 링의 구성을 도시한 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *
100 : 플라즈마 처리 장치 102 ~ 104 : 챔버
106 : 기판 지지부재 108 : 샤워 노즐
110 : 세라믹 돔 구조체 110a : 몸체
110b : 고정부 112 : 홈
114 : 안테나 코일 116 : 커버 플레이트
120 : 가스 분배 링 122, 122a : 가스 유로
124 : 가스 노즐 124a : 노즐 삽입구

Claims (12)

  1. 세라믹 돔 구조체에 있어서:
    상부면이 평편하고 하부가 개방된 돔 형상의 몸체와;
    상기 상부면이 플레이트 형상으로 돌출되고, 돌출된 상부에 안테나 코일이 삽입, 장착되는 복수 개의 홈들을 갖는 고정부 및;
    상기 안테나 코일이 상기 홈들에 삽입된 상기 고정부의 상부를 덮는 커버 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 돔 구조체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 세라믹 돔 구조체는;
    상기 고정부의 측면에 배치되고, 상기 몸체의 상기 상부면에 결합되며, 그리고 내부에 공정 가스를 공급하는 가스 공급원과 연결되는 가스 유로를 제공하는 가스 분배 링 및;
    상기 몸체에 장착되고, 상기 가스 유로와 연결되는 복수 개의 가스 노즐들을 더 포함하되;
    상기 몸체는 상기 가스 노즐들이 각각 삽입, 설치되는 복수 개의 노즐 삽입구들을 제공하는 것을 특징으로 하는 세라믹 돔 구조체.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 노즐 삽입구들은 상기 몸체의 상기 상부면의 가장자리에 균일한 간격으로 관통되는 것을 특징으로 하는 세라믹 돔 구조체.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 고정부와 상기 커버 플레이트는 동일한 형상으로 제공되는 것을 특징으로 하는 세라믹 돔 구조체.
  5. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 노즐 삽입구들 각각은 상기 가스 노즐이 상기 몸체의 하부 방향으로 일정 각도를 갖도록 조절 가능하게 제공하는 것을 특징으로 하는 세라믹 돔 구조체.
  6. 플라즈마 처리 장치에 있어서:
    상부가 개방된 챔버와;
    상기 챔버 내부에 배치되어 기판이 안착되는 기판 지지부재와;
    고주파 전원을 공급받아서 상기 챔버 내부로 전자기장을 유도하는 안테나 코일과;
    상기 챔버의 상부를 덮어서 상기 챔버 내부를 밀폐하고, 상기 안테나 코일이 장착되는 고정부가 일체형으로 제공되는 세라믹 돔 구조체 및;
    상기 세라믹 돔 구조체의 중앙에 관통 설치되어 상기 챔버 내부로 공정 가스를 공급하는 샤워 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 세라믹 돔 구조체는;
    상부면이 평편하고 하부가 개방된 돔 형상의 몸체와;
    상기 상부면이 플레이트 형상으로 돌출되고, 돌출된 상부에 상기 안테나 코일이 삽입, 장착되는 복수 개의 홈들을 갖는 상기 고정부 및;
    상기 안테나 코일이 상기 홈들에 삽입된 상기 고정부의 상부를 덮는 커버 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 세라믹 돔 구조체는;
    상기 고정부의 측면에 배치되고, 상기 몸체의 상기 상부면에 결합되며, 그리고 내부에 공정 가스를 공급하는 가스 공급원과 연결되는 가스 유로를 제공하는 가스 분배 링 및;
    상기 몸체에 장착되고, 상기 가스 유로와 연결되어 상기 샤워 노즐의 가장자리에서 상기 기판 지지부재에 안착된 기판의 상부로 복수 개의 가스 노즐들을 더 포함하되;
    상기 몸체는 상기 가스 노즐들이 각각 삽입, 설치되는 복수 개의 노즐 삽입구들을 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 노즐 삽입구들은 상기 몸체의 상기 상부면의 가장자리에 균일한 간격으로 관통되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 노즐 삽입구들은 각각 상기 가스 노즐이 상기 기판 지지부재에 안착된 기판 방향으로 조절 가능하게 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
  11. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리 장치는;
    상기 가스 분배 링과 상기 챔버 사이에 제 1 결합부재를 더 포함하되;
    상기 가스 분배 링은 상기 고정부 및 상기 제 1 결합부재 사이에 고정되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리 장치는;
    상기 커버 플레이트와 상기 가스 분배 링 상부에 제 2 결합부재를 더 포함하되;
    상기 제 2 결합부재는 상기 커버 플레이트와 상기 가스 분배 링을 상부에서 고정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
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