KR20090126621A - Uneri measurement device and measurement method - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A uneri measurement device and a measuring method thereof are provided to distinguish a side of a glass substrate where the uneri is generated. CONSTITUTION: A uneri measurement device comprises a chamber(205), a light source(220), a fluorescent screen(250), a measurement glass substrate(240) and camera(260). The chamber secludes the external light. The light source generates ultraviolet ray in one side inside the chamber. The fluorescent screen is parallel with the light source. The measurement glass substrate is parallel with the room between the light source and fluorescent screen. The camera is located in one side discrete from the fluorescent screen.

Description

우네리 측정 장비 및 측정 방법{Uneri Measurement Device and Measurement Method}Uneri Measurement Device and Measurement Method

본 발명은 우네리 측정 장비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 글래스 기판의 표면에 미세란 굴곡으로 나타나는 우네리의 종류를 사전에 판별할 수 있는 우네리 측정 장비에 관한 것이다.The present invention relates to a uneori measuring equipment, and more particularly, to a uneori measuring equipment that can determine in advance the kind of uneori that appears as a fine egg bend on the surface of the glass substrate.

일반적으로, 액정표시장치의 구동원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하는 바, 상기 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다.In general, the driving principle of the liquid crystal display device uses the optical anisotropy and polarization property of the liquid crystal. The liquid crystal has a long and thin structure, and thus has a directivity in the arrangement of molecules. Can be controlled.

따라서, 상기 액정의 분자배열 방향을 임의로 조절하면, 액정의 분자배열이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의하여 상기 액정의 분자배열 방향으로 빛이 굴절하여 화상정보를 표현할 수 있다.Accordingly, when the molecular arrangement direction of the liquid crystal is arbitrarily adjusted, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, and light is refracted in the molecular arrangement direction of the liquid crystal due to optical anisotropy to express image information.

현재에는 박막트랜지스터와 상기 박막트랜지스터에 연결된 화소 전극이 행렬 방식으로 배열된 능동행렬 액정표시장치(Active Matrix LCD : AM-LCD)가 해상도 및 동영상 구현능력이 우수하여 가장 주목받고 있다.Currently, active matrix LCDs (AM-LCDs) in which thin film transistors and pixel electrodes connected to the thin film transistors are arranged in a matrix manner have attracted the most attention because of their excellent resolution and video performance.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 종래에 따른 액정표시장치에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, a liquid crystal display according to the related art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래에 따른 액정표시장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to the related art.

도시한 바와 같이, 종래에 따른 액정표시장치(95)는 일정한 셀 갭(d)을 갖고 대향 합착된 제 1 기판(5) 및 제 2 기판(10)과, 상기 제 1 기판(5) 및 제 2 기판(10)의 이격된 사이 공간에 개재된 액정층(15)과, 상기 제 2 기판(10)과 이격된 배면에 위치하는 백라이트 유닛(90)을 포함한다. 이때, 상기 제 1 및 제 2 기판(5, 10)과 액정층(15)을 포함하여 액정 패널(30)이라 한다.As shown in the drawing, the liquid crystal display 95 according to the related art has a first cell 5 and a second substrate 10 which have a predetermined cell gap d and are opposed to each other, and the first substrate 5 and the first substrate. The liquid crystal layer 15 is disposed in the spaced apart space of the second substrate 10, and the backlight unit 90 is disposed on the back surface spaced apart from the second substrate 10. In this case, the first and second substrates 5 and 10 and the liquid crystal layer 15 may be referred to as a liquid crystal panel 30.

상기 제 1 기판(5)은 화상을 구현하는 액티브 영역(AA)과, 이를 제외한 비액티브 영역(NAA)으로 구분된 제 1 글래스 기판(1)과, 상기 제 1 글래스 기판(1) 하부 면의 비액티브 영역(NAA)에 대응된 블랙 매트릭스(12)와, 상기 블랙 매트릭스(12)를 경계로 순차적으로 패턴된 적(R), 녹(G), 청(B) 서브 컬러필터(16a, 16b, 미도시)를 포함하는 컬러필터층(16)과, 상기 컬러필터층(16)의 하부 전면에 구성된 공통 전극(80)을 포함한다.The first substrate 5 may include a first glass substrate 1 divided into an active region AA that implements an image, an inactive region NAA, and a lower surface of the first glass substrate 1. Red (R), green (G), and blue (B) sub color filters 16a and 16b sequentially patterned on the black matrix 12 corresponding to the inactive region NAA and the black matrix 12 is bounded. And a color filter layer 16 including a common electrode 80 formed on the entire lower surface of the color filter layer 16.

도면으로 제시하지는 않았지만, 상기 컬러필터층(16)과 공통 전극(80)의 사이 공간에는 컬러 안료의 혼색 및 평탄화를 위한 목적으로 오버 코트층(미도시)이 더욱 구성될 수 있다.Although not shown in the drawings, an overcoat layer (not shown) may be further configured in the space between the color filter layer 16 and the common electrode 80 for the purpose of mixing and planarizing color pigments.

한편, 상기 제 2 기판(10)은 화소 영역(P)과 스위칭 영역(S)을 포함하는 액 티브 영역(AA)과, 이를 제외한 비액티브 영역(NAA)으로 구분된 제 2 글래스 기판(2)과, 상기 제 2 글래스 기판(2) 상부 면의 일 방향으로 구성된 게이트 배선(미도시)과, 상기 게이트 배선에서 연장된 게이트 전극(25)과, 상기 게이트 배선과 게이트 전극(25)의 상부 전면을 덮는 게이트 절연막(45)과, 상기 게이트 절연막(45) 상의 게이트 전극(25)과 중첩된 반도체층(40)과, 상기 반도체층(40) 상부에 위치하고 상기 게이트 배선과 수직 교차하여 화소 영역(P)을 정의하는 데이터 배선(미도시)과, 상기 데이터 배선에서 연장되고 반도체층(40)과 접촉된 소스 전극(32)과, 상기 소스 전극(32)과 이격된 드레인 전극(34)과, 상기 데이터 배선과 소스 및 드레인 전극(32, 34)을 덮으며 상기 드레인 전극(34)의 일부를 노출하는 드레인 콘택홀(CH1)을 포함하는 보호막(55)과, 상기 드레인 콘택홀(CH1)을 통해 드레인 전극(34)과 연결된 화소 전극(70)을 포함한다.Meanwhile, the second substrate 10 may include an active region AA including a pixel region P and a switching region S, and a second glass substrate 2 divided into an inactive region NAA. A gate wiring (not shown) configured in one direction of the upper surface of the second glass substrate 2, a gate electrode 25 extending from the gate wiring, and an upper front surface of the gate wiring and the gate electrode 25. A gate insulating layer 45 covering the semiconductor layer 45, a semiconductor layer 40 overlapping the gate electrode 25 on the gate insulating layer 45, and a pixel region disposed on the semiconductor layer 40 and vertically intersecting with the gate wiring. A data line (not shown) defining P), a source electrode 32 extending from the data line and in contact with the semiconductor layer 40, a drain electrode 34 spaced apart from the source electrode 32, One of the drain electrodes 34 covering the data line and the source and drain electrodes 32 and 34. To include a pixel electrode 70 connected to the drain electrode 34 via the protective film 55 and the drain contact hole (CH1) containing the drain contact hole (CH1) of exposure.

전술한 구성을 갖는 액정표시장치(95)를 제작하기 위해서는 두 장의 글래스 기판, 즉 제 1 및 제 2 글래스 기판(1, 2)을 반드시 필요로 하고 있다. 이때, 상기 제 1 및 제 2 글래스 기판(1, 2)은 1.1mm의 두께가 주로 사용되어 왔으나, 최근에는 박형화 및 경량화로 0.7mm의 두께가 대세를 이루고 있다. 이러한 제 1 및 제 2 글래스 기판(1, 2)은 플로팅법이나 퓨전공법을 통해 제작되는 것이 보편화되어 있다.In order to manufacture the liquid crystal display device 95 having the above-described configuration, two glass substrates, that is, first and second glass substrates 1 and 2, are necessarily required. In this case, the first and second glass substrates 1 and 2 have been mainly used with a thickness of 1.1 mm, but in recent years, the thickness of 0.7 mm has become popular due to thinning and weight reduction. The first and second glass substrates 1 and 2 are generally manufactured by a floating method or a fusion method.

그러나, 제 1 및 제 2 글래스 기판(1, 2)의 제조 공정 상의 문제로 제 1 및 제 2 글래스 기판(1, 2)의 표면에 미세한 굴곡이 띠를 이루며 나타나는 우네리(굴곡을 이룸, 물결 침 등을 의미)가 종종 발생하고 있다.However, due to problems in the manufacturing process of the first and second glass substrates (1, 2), unevenness appears in the form of bands on the surface of the first and second glass substrates (1, 2) Saliva, etc.) often occurs.

도 2a는 우네리가 발생된 글래스 기판을 나타낸 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절단하여 나타낸 단면도로, 이를 참조하여 상세히 설명하도록 한다.FIG. 2A is a plan view illustrating a glass substrate on which a unary is generated, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 2A, and will be described in detail with reference to the drawing.

도 2a와 도 2b에 도시한 바와 같이, 액정표시장치(도 1의 95)의 제 1 또는 제 2 글래스 기판(도 1의 1 또는 2)의 모태가 되는 대형의 글래스 기판(100)을 나타내고 있다. 상기 글래스 기판(100) 상의 점선으로 표시된 부분(F)은 글래스 기판(100) 상에 증착, 노광, 현상 및 식각 공정을 포함하는 사진식각 공정으로 어레이 소자 또는 컬러필터 소자를 제작하고 나서 스크라이브 및 커팅 공정으로 절단하여 개개의 제 1 또는 제 2 글래스 기판으로 분리될 영역이다.As shown in FIG. 2A and FIG. 2B, the large glass substrate 100 used as the base of the 1st or 2nd glass substrate (1 or 2 of FIG. 1) of a liquid crystal display device (95 of FIG. 1) is shown. . The portion F indicated by the dotted line on the glass substrate 100 is a photolithography process including a deposition, exposure, development, and etching process on the glass substrate 100 to produce an array element or a color filter element, and then scribe and cut The area to be cut by the process and separated into individual first or second glass substrates.

이때, 제조 공정 상의 불량으로 글래스 기판(100)의 표면에 미세한 굴곡인 우네리(uneri, 110)가 발생된 상태를 나타내고 있다. 상기 우네리(110)는 글래스 기판(100)의 제조 공정에서 발생하는 불량 중 하나로서 글래스 기판(100)의 표면으로부터 일정한 높이(H)로 스트라이프 모양(stripe pattern)의 굴곡이 발생된 것을 말한다.In this case, a fine curvature unery (uneri) 110 is generated on the surface of the glass substrate 100 due to a defect in the manufacturing process. The unery 110 is one of defects generated in the manufacturing process of the glass substrate 100 and refers to the occurrence of stripe pattern bending at a predetermined height H from the surface of the glass substrate 100.

즉, 도 2b에 도시한 바와 같이, 우레리(110)는 글래스 기판(100)의 노출된 표면을 따라 규칙 또는 불규칙적으로 돌출된 패턴이 반복적으로 나타나는 것을 말한다. 이러한 우네리(110)는 글래스 기판(100)의 노출된 어느 한쪽 표면에 발생되는 스트릭과 글래스 기판(100)의 양쪽 표면에 발생되는 코드 불량으로 구분될 수 있다.That is, as shown in FIG. 2B, the uriri 110 refers to a pattern in which a regular or irregularly protruding pattern repeatedly appears along the exposed surface of the glass substrate 100. The unery 110 may be classified into streaks generated on one exposed surface of the glass substrate 100 and code defects generated on both surfaces of the glass substrate 100.

이때, 상기 우레리(110)는 그 단면에 있어서, 글래스 기판(100)의 표면으로 부터 삼각형 형상, 반원 형상 등 다양한 형태로 발생되고 있다.At this time, the uriri 110 is generated in various forms such as a triangular shape, a semi-circular shape from the surface of the glass substrate 100 in the cross section.

상기 우네리(110)는 글래스 기판(100)의 제조 공정 특성 상 띠 형상으로 글래스 기판(100)의 가로 또는 세로 방향을 따라 전 표면에 발생된다. 이러한 우네리(110)는 글래스 기판(100)의 표면에 극히 미세하게 발생함에도 불구하고 액정표시장치를 제작 완성하고 검사 공정을 진행할 경우, 선형의 얼룩으로 발현되어 휘도 불균일에 따른 화질 저하 문제를 발생시키고 있다.The unery 110 is formed on the entire surface of the glass substrate 100 along the horizontal or vertical direction of the glass substrate 100 in the form of a band due to the manufacturing process characteristics of the glass substrate 100. Although the unery 110 is extremely finely generated on the surface of the glass substrate 100, when the fabrication of the liquid crystal display device is completed and the inspection process is performed, the unery 110 is expressed as a linear unevenness, causing a problem of deterioration in image quality due to uneven brightness. I'm making it.

특히, 상기 우네리(110)는 액정표시장치 제조 공정의 시작 단계일 뿐만 아니라 제조 단가의 큰 비중을 차지하는 글래스 기판(100)에 발생한다는 점을 고려해 볼 때, 사전에 우네리(110)의 발생 유무를 검출할 수 있는 시스템을 마련하는 것이 시급한 상황이다. 하지만, 상기 우네리(110)는 극히 미세한 스케일에서 발생된다는 점에서 문제 해결이 쉽지 않아 생산 수율에 큰 타격을 입히고 있다.In particular, in consideration of the fact that the unery 110 is generated at the glass substrate 100 which occupies a large portion of the manufacturing cost as well as at the beginning of the manufacturing process of the liquid crystal display device, the unery 110 is generated in advance. It is urgent to provide a system that can detect the presence or absence. However, since the unery 110 is generated at an extremely fine scale, it is not easy to solve the problem, thus causing a great impact on the production yield.

이러한 우네리(110)의 불량 유무를 측정하는 방식에는 접촉식 방식과 비접촉식 방식이 있다. 접촉식 방식은 하이트(height) 방식과 웨이비(waviness) 방식이 있는데, 이러한 접촉식 방식은 측정 신뢰성이 우수한 반면 글래스 기판(100)의 표면을 마모시키는 공정으로 글래스 기판(100) 자체에 손상을 입힐 수 있다는 단점을 갖고 있다.There is a contact method and a non-contact method for measuring the presence or absence of such defects of the uneri (110). The contact method has a height method and a wavyness method. The contact method has excellent measurement reliability while damaging the surface of the glass substrate 100 by damaging the surface of the glass substrate 100. It has the disadvantage of being coated.

이에 반해, 비접촉식 방식으로는 광학식 방식이 있다. 이러한 광학식 방식은 제논 램프(Xe-Lamp)를 사용하는 것이 보편화되어 있으며, 이러한 제논 램프를 이용한 광학식 방식은 비파괴 방식으로 손쉽게 우네리(110)의 발생 유무를 측정할 수 있는 장점이 있다.In contrast, there is an optical system as a non-contact system. Such an optical method is generally used to use a xenon lamp (Xe-Lamp), the optical method using such a xenon lamp has an advantage that can easily measure the presence or absence of the Uneri 110 in a non-destructive manner.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 종래에 따른 제논 램프를 이용한 광학식 방식에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, an optical method using a xenon lamp according to the related art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 종래에 따른 제논 램프를 이용한 우네리 측정 장비를 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing a uniori measuring equipment using a xenon lamp according to the prior art.

도시한 바와 같이, 종래에 따른 우네리 측정 장비(150)는 제논 램프(155)와, 상기 제논 램프(155)와 이격된 스크린(170)과, 상기 제논 램프(155)와 스크린(170)의 사이 공간에 위치하고 360도 회전이 가능한 스테이지(165)와, 상기 스테이지(165) 상부 면에 고정된 측정 글래스 기판(160)을 포함한다.As shown in the drawing, the conventional unary measuring apparatus 150 may include a xenon lamp 155, a screen 170 spaced apart from the xenon lamp 155, and the xenon lamp 155 and the screen 170. And a stage 165 positioned in an interspace and capable of rotating 360 degrees, and a measurement glass substrate 160 fixed to an upper surface of the stage 165.

이때, 상기 측정 글래스 기판(160)은 스크린(170)과 수직을 이루는 방향, 즉 제논 램프(155)의 조사 방향이 측정 글래스 기판(160)의 두께면(T)과 평행한 방향으로 조사될 수 있도록 제논 램프(155)와 측정 글래스 기판(160)과 스크린(170)을 정렬하게 된다.In this case, the measurement glass substrate 160 may be irradiated in a direction perpendicular to the screen 170, that is, the irradiation direction of the xenon lamp 155 is parallel to the thickness plane T of the measurement glass substrate 160. The xenon lamp 155, the measuring glass substrate 160, and the screen 170 are aligned.

이러한 구성을 갖는 우네리 측정 장비(150)는 제논 램프(155)를 작동시켜 측정 글래스 기판(160)에 빛을 조사하고, 측정 글래스 기판(160)을 통과한 빛이 스크린(170)에 상이 맺히도록 하는 원리를 이용한 것이다.The unery measuring device 150 having such a configuration operates the xenon lamp 155 to irradiate light onto the measuring glass substrate 160, and the light passing through the measuring glass substrate 160 forms a difference on the screen 170. The principle is to use it.

즉, 종래에 따른 우네리 측정 장비(150)에 있어서, 제논 램프(155)와 측정 글래스 기판(160)의 두께면(T)을 일렬로 배치한 상태에서는 제논 램프(155)로부터 조사된 빛이 측정 글래스 기판(160)의 두께면(T)에 의해 빛이 투과되지 못해 스크린(170)에 상이 맺히지 않게 되나, 스테이지(165)를 시계 또는 반시계 방향으로 서서히 틀어 각도 변화를 주게 되면, 제논 램프(155)로부터 조사된 빛이 측정 글래스 기판(160)의 평탄한 표면을 통과하여 스크린(170)에 상이 맺히게 된다.That is, in the conventional uneri measuring equipment 150, in the state where the thickness plane T of the xenon lamp 155 and the measurement glass substrate 160 are arranged in a line, the light irradiated from the xenon lamp 155 is When light is not transmitted by the thickness T of the measuring glass substrate 160 to prevent image formation on the screen 170, the stage 165 is gradually turned clockwise or counterclockwise to change the angle of the xenon lamp. Light irradiated from 155 passes through the flat surface of the measuring glass substrate 160 to form an image on the screen 170.

이때, 상기 스테이지(165)에 의한 측정 글래스 기판(160)의 각도 변화와 스크린(170)에 맺힌 상의 상관관계를 통해 우네리의 발생 여부를 검출할 수 있게 된다. 즉, 상기 스테이지(165)의 각도 변화에 따라 측정 글래스 기판(160)으로 조사되는 빛의 투과율 차이를 이용한 방법이라 할 수 있다.At this time, it is possible to detect whether the unori is generated through the correlation between the angle change of the measurement glass substrate 160 by the stage 165 and the image formed on the screen 170. That is, it may be referred to as a method using a difference in transmittance of light irradiated onto the measurement glass substrate 160 according to the angle change of the stage 165.

그러나, 종래의 우네리 측정 장비(150)는 육안에 의해 측정이 진행되므로 측정자에 의존적일 수 밖에 없기 때문에 우네리가 측정 글래스 기판(160)의 어느 위치에 발생된 것인 가에 대해서만 탐지할 수 있을 뿐 우네리가 측정 글래스 기판(160)의 어느 면에 발생된 것인지에 대한 판별이 불가능하다는 문제가 있다.However, since the conventional Uneri measuring equipment 150 is measured by the naked eye, it can only detect the position of the Uneri generated in the measuring glass substrate 160 because it is dependent on the measurer. In addition, there is a problem in that it is impossible to determine which side of the unery is generated on the measurement glass substrate 160.

즉, 측정 글래스 기판(160)의 어느 한쪽 표면에 우네리가 발생되는 스트릭(streak)과, 측정 글래스 기판(160)의 양쪽 표면에 발생되는 코드(cord)는 구조 및 스케일에 있어서 그 차이가 발생되는 바, 이러한 차이로 인해 액정표시장치의 양산 적용시 문제를 유발하는 경향성이 다르게 나타난다.That is, a streak in which a uni-ri occurs on one surface of the measurement glass substrate 160 and a cord generated on both surfaces of the measurement glass substrate 160 are different in structure and scale. Due to such a difference, the tendency to cause problems in mass production of the liquid crystal display device is different.

일 예로, 측정 글래스 기판(160)에 스트릭이 발생하였다고 가정했을 때, 액정표시장치의 제조 공정시 스트릭이 발생된 면을 액정층 외부에 배치시킬 경우에는 화질에 영향을 미치지 않고 있으나, 액정층의 내부에 배치시킬 경우에 액정층 내부의 굴절율에 기인하여 화질 불량 문제를 유발하고 있다.For example, assuming that streaks are generated in the measurement glass substrate 160, when the side where streaks are generated during the manufacturing process of the liquid crystal display device is disposed outside the liquid crystal layer, the image quality is not affected. In the case of being disposed inside, a problem of poor image quality is caused due to the refractive index inside the liquid crystal layer.

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로, 우네리의 종류 뿐만 아니라 글래스 기판의 어느 면에 우네리가 발생된 것인가를 판별할 수 있는 우네리 측정 장비를 제공하는 것을 통해 생산 수율을 향상하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and improves the production yield by providing a uneori measuring equipment that can determine not only the kind of uniri but also on which side of the glass substrate. For the purpose of

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비는 외부의 빛을 차단하는 챔버와; 상기 챔버 내부의 일 측에서 자외선을 생성하는 광원과; 상기 광원과 평행하게 이격된 형광 스크린과; 상기 광원 및 형광 스크린의 이격된 사이 공간에 평행하게 배치된 측정 글래스 기판과; 상기 형광 스크린과 이격된 일 측에 위치하고, 상기 광원으로부터의 자외선을 측정 글래스 기판에 조사하여 상기 측정 글래스 기판의 어느 면에 우네리가 존재하는 가를 탐지하는 측정 카메라를 포함한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a unitary measuring apparatus comprising: a chamber for blocking external light; A light source generating ultraviolet rays from one side of the chamber; A fluorescent screen spaced in parallel with the light source; A measurement glass substrate disposed parallel to the spaced space between the light source and the fluorescent screen; Located on one side spaced apart from the fluorescent screen, and irradiated with ultraviolet light from the light source to the measurement glass substrate includes a measurement camera to detect which side of the unery on the measurement glass substrate.

상기 자외선은 300 ~ 400nm의 파장대를 가지는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 자외선은 야광 램프와 포충용 자외선 램프를 포함하는 자외선 램프인 것을 특징으로 한다.The ultraviolet light is characterized in that it has a wavelength range of 300 ~ 400nm. In this case, the ultraviolet light is characterized in that the ultraviolet lamp including a luminous lamp and an insect repellent ultraviolet lamp.

또한, 상기 형광 스크린은 상기 자외선에 의해 발광하는 형광 물질이 도포된 것을 특징으로 한다.In addition, the fluorescent screen is characterized in that the fluorescent material is emitted by the ultraviolet light is coated.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 방법은 제논 램프를 이용한 우네리 측정 장비로 상기 측정 글래스 기판에서의 우네리 발생 지점을 확인하는 단계와; 상기 광원으로부터의 자외선을 상기 측정 글래스 기 판의 우네리 발생 지점에 조사하여 상기 우네리에 의한 굴절 패턴을 상기 형광 스크린 및 측정 카메라로 판별하는 단계를 포함한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for measuring unery according to a first embodiment of the present invention. Irradiating ultraviolet rays from the light source to the unery generation point of the measurement glass substrate to determine the refractive pattern of the unery by the fluorescent screen and the measurement camera.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 2 실시예에 따른 우네리 측정 장비는 외부의 빛을 차단하는 챔버와; 상기 챔버 내부의 일 측에서 자외선을 생성하는 광원과; 상기 광원과 평행하게 이격 배치된 측정 글래스 기판과; 상기 측정 글래스 기판과 평행하게 이격 배치되고, 상기 광원으로부터의 자외선을 상기 측정 글래스 기판에 조사하여 상기 측정 글래스 기판의 어느 면에 우네리가 존재하는 가를 탐지하는 전류 검출기를 포함한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a unitary measuring apparatus comprising: a chamber for blocking external light; A light source generating ultraviolet rays from one side of the chamber; A measurement glass substrate spaced apart from and parallel to the light source; And a current detector disposed parallel to the measurement glass substrate and detecting ultraviolet light from the light source on the measurement glass substrate to detect which side of the measurement glass substrate exists.

본 발명에서는 첫째, 글래스 기판에 발생되는 우네리의 종류를 손쉽게 판별할 수 있어 액정표시장치의 양산 시 불량 감소에 따른 생산 수율을 개선할 수 있다.In the present invention, first, it is possible to easily determine the type of unori generated on the glass substrate, thereby improving the production yield due to the reduction of defects during mass production of the liquid crystal display device.

둘째, 비파괴 및 광학식 방식으로 측정 글래스 기판에 손상이 가해질 염려없이 우네리의 종류를 손쉽게 판별할 수 있다.Second, the non-destructive and optical method can easily determine the type of unery without fear of damage to the measurement glass substrate.

--- 제 1 실시예 ------ First Embodiment ---

본 발명은 자외선 램프와 형광 스크린을 이용하여 우네리의 종류를 손쉽게 구별할 수 있는 우네리 측정 장비를 제공하는 것을 특징으로 한다.The present invention is characterized by providing a unitary measuring equipment that can easily distinguish the type of unery using an ultraviolet lamp and a fluorescent screen.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings it will be described with respect to the unery measuring equipment according to a first embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비를 개략적으로 나타낸 도면으로, 보다 상세하게는 우네리의 종류를 판별할 수 있는 우네리 측정 장비에 관한 것이고, 도 5a와 도 5b는 스트릭과 코드를 설명하기 위한 도면이다.4 is a view schematically illustrating the unori measuring apparatus according to the first embodiment of the present invention, and more particularly, relates to the uneri measuring apparatus capable of determining the type of uneri, and FIGS. 5A and 5B A diagram for explaining the trick and code.

우선 도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비(200)는 외부의 빛을 차단하는 챔버(205)와, 상기 챔버(205)의 내부 일 측에서 자외선(UV)을 생성하는 광원(220)과, 상기 광원(220)과 평행하게 이격된 형광 스크린(250)과, 상기 광원(220) 및 형광 스크린(250)의 이격된 사이 공간에 평행하게 배치된 측정 글래스 기판(240)과, 상기 형광 스크린(250)의 일 측으로 측정 글래스 기판(240)을 통과하는 자외선(UV)의 패턴을 형광 스크린(250)을 통해 촬영 및 관측하는 측정 카메라(260)를 포함한다.First, as shown in FIG. 4, the unary measuring apparatus 200 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes a chamber 205 for blocking external light, and an ultraviolet (UV) light at one inner side of the chamber 205. A light source 220 generating UV), a fluorescent screen 250 spaced in parallel with the light source 220, and a measurement disposed in parallel to the spaced space between the light source 220 and the fluorescent screen 250 And a glass camera 240 and a measurement camera 260 for photographing and observing a pattern of ultraviolet light (UV) passing through the measurement glass substrate 240 to one side of the fluorescent screen 250 through the fluorescent screen 250. do.

상기 챔버(205)는 외부의 빛을 차단하여 외부의 빛에 의한 간섭 효과에 의한 노이즈의 발생을 방지하는 역할을 한다.The chamber 205 blocks external light to prevent generation of noise due to interference effects caused by external light.

상기 측정 글래스 기판(240)은 360도 회전이 가능한 스테이지(230) 상부에 놓이게 되는 바, 상기 스테이지(230)를 통해 측정 글래스 기판(240)을 원하는 방향 및 위치로 이동시킬 수 있게 된다.The measurement glass substrate 240 is placed on the stage 230 that can be rotated 360 degrees, it is possible to move the measurement glass substrate 240 in the desired direction and position through the stage 230.

이때, 상기 광원(220)은 단파장의 빛을 조사할 수 있는 자외선 램프가 이용된다. 즉, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비(250)는 자외선을 이용한 광학식 및 비촉식 방식이다.In this case, the light source 220 is an ultraviolet lamp that can irradiate light of a short wavelength. That is, the unary measuring apparatus 250 according to the first embodiment of the present invention is an optical and non-tactile method using ultraviolet rays.

일반적으로, 300nm 이하의 초 단파장의 자외선(ultra-violet: UV)은 측정 글래스 기판(240)에 모두 흡수될 수 있으므로, 300 ~ 400nm 범위의 파장대를 가지는 자외선 램프를 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 자외선 램프로는 야광 램프(BLB: Blacklight Blue Light)와 포충용 자외선 램프(BL: Blacklight Lamp)가 있다. 특히, 상기 야광 램프를 적용할 경우에는 광 필터를 이용하여 352nm의 파장대를 추출하여 사용하게 된다.In general, since ultra-violet (UV) light having an ultra-short wavelength of 300 nm or less may be absorbed by the measurement glass substrate 240, it is preferable to use an ultraviolet lamp having a wavelength range of 300 to 400 nm. Such ultraviolet lamps include blacklight blue light (BLB) and blacklight lamps (BL). In particular, when the luminous lamp is applied, a wavelength band of 352 nm is extracted using an optical filter.

이러한 자외선(UV)은 가시광선과 달리 육안으로 식별하는 것이 불가능하므로, 자외선(UV)의 조사시 빛을 발하는 형광 물질이 도포된 형광 스크린(250)을 이용한다. 따라서, 광원(220)으로부터 방출된 자외선(UV)은 측정 글래스 기판(240)을 통과한 후 형광 스크린(250)에 의해 발광되는 바, 측정 글래스 기판(240)을 통과한 자외선(UV) 중 각 위치에서 발광되는 자외선(UV)의 패턴을 측정 카메라(260)를 통해 판별할 수 있을 뿐만 아니라, 측정 카메라(260)로 탐지된 정보를 수집하는 것을 통해 재현성을 확보할 수 있게 된다.Since the ultraviolet (UV) is not visible to the naked eye unlike the visible light, the fluorescent screen 250 coated with a fluorescent material that emits light when irradiated with ultraviolet (UV) is used. Therefore, the ultraviolet (UV) emitted from the light source 220 is emitted by the fluorescent screen 250 after passing through the measuring glass substrate 240, each of the ultraviolet (UV) passing through the measuring glass substrate 240 The pattern of ultraviolet (UV) light emitted from the position may be determined through the measurement camera 260, and reproducibility may be secured by collecting information detected by the measurement camera 260.

이때, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비(200)는 종래의 제논 램프(도 3의 155)를 이용하여 우네리(210)가 존재하는 위치를 확인한 후, 우네리(210)의 종류, 즉 측정 글래스 기판(240)의 어느 한쪽 표면에 우네리(210)가 발생하는 스트릭(streak) 또는 측정 글래스 기판(240)의 양쪽 표면에 우네리(210)가 모두 발생하는 코드(cord)인가를 판별하기 위한 목적으로 사용하게 된다.At this time, the unery measuring apparatus 200 according to the first embodiment of the present invention checks the location of the unery 210 using the conventional xenon lamp 155 of FIG. Type, that is, a streak where the unori 210 is generated on one surface of the measurement glass substrate 240 or a cord in which the unori 210 is generated on both surfaces of the measurement glass substrate 240. It is used for the purpose of determining the authorization.

이러한 우네리(210)는 통상 0.7mm의 두께(t)를 갖는 측정 글래스 기판(240)의 표면에서 20nm이하의 높이(H)를 가지며 띠 형태로 발생된다. 이때, 도 5a는 측 정 글래스 기판(240)의 노출된 어느 한 표면에서 불규칙적으로 돌출된 형태의 우네리(210)가 발생된 스트릭(streak)을 나타낸 것이고, 도 5b는 측정 글래스 기판(240)의 노출된 양쪽 표면에서 규칙 또는 불규칙적으로 돌출된 형태의 우네리(210)가 발생된 코드(cord)를 나타낸 것이다.The unery 210 has a height H of 20 nm or less on the surface of the measurement glass substrate 240 having a thickness t of 0.7 mm and is generated in the form of a band. In this case, FIG. 5A illustrates a streak in which the unery 210 protrudes irregularly from one exposed surface of the measurement glass substrate 240, and FIG. 5B illustrates the measurement glass substrate 240. It shows the cord (cord) is generated in the regular or irregularly protruding unire 210 on both exposed surfaces of the.

이러한 스트릭은 10~20nm의 높이(H), 10~20nm의 폭(W)으로, 코드는 10nm 이하의 높이(H), 5nm 이하의 폭(W)으로 각각 발생되고 있다.These streaks are generated with a height H of 10-20 nm, a width W of 10-20 nm, and a cord having a height H of 10 nm or less and a width W of 5 nm or less, respectively.

도 6a, 도 6b, 도 6c는 스트릭과 코드의 검출 예시를 설명하기 위한 각각의 도면으로, 도 4와 연계하여 설명하도록 한다.6A, 6B, and 6C are diagrams for describing detection of streaks and codes, respectively, and will be described with reference to FIG. 4.

전술한 도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비(200)를 이용한 측정 방법은 종래의 제논 램프를 이용한 우네리 측정 장비를 통해 우네리(210)가 존재하는 위치를 확인한 후, 광원(220)과 스테이지(230) 상부에 위치하는 측정 글래스 기판(240)과 형광 스크린(250)을 평행하게 배치시키게 된다. 이때, 상기 광원(220)으로부터 방출되는 자외선(UV)을 측정 글래스 기판(240)의 우네리(210)가 존재하는 위치에 조사한 후, 측정 글래스 기판(240)을 통과한 자외선(UV)을 형광 스크린(250)과 측정 카메라(260)를 이용하여 우네리(210)의 종류를 판별하게 된다.As shown in FIG. 4, the measuring method using the unery measuring device 200 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes the unery 210 through the unery measuring device using a conventional xenon lamp. After confirming the position, the light source 220 and the measurement glass substrate 240 and the fluorescent screen 250 positioned on the stage 230 are disposed in parallel. In this case, after irradiating the ultraviolet (UV) emitted from the light source 220 to the position where the unery 210 of the measurement glass substrate 240 is present, the ultraviolet (UV) passing through the measurement glass substrate 240 is fluorescent The screen 250 and the measurement camera 260 are used to determine the type of the unery 210.

이를 상세히 설명하면, 측정 글래스 기판(240)의 어느 한쪽 표면에 10nm의 높이를 가지는 우네리(210)가 존재한다고 가정할 때, 632.8nm의 파장대를 가지는 레이저(Laser)를 적용할 경우에는 10nmm/632.8nm = 0.0158(1.58%)가 되고, 0.0158*360 = 5.69도의 위상차가 발생하게 된다.To explain this in detail, assuming that there is a uni 210 having a height of 10 nm on one surface of the measurement glass substrate 240, when applying a laser having a wavelength band of 632.8 nm, 10 nmm / 632.8 nm = 0.0158 (1.58%), and a phase difference of 0.0158 * 360 = 5.69 degrees occurs.

이와 달리, 300 내지 400nm, 보다 구체적으로는 352nm의 파장대를 가지는 자외선(UV)을 적용할 경우에는 10nm/352nm = 0.0284(2.84%)가 되고, 0.0284*360 = 10.23도의 위상차가 발생하게 된다.On the other hand, when applying ultraviolet (UV) having a wavelength band of 300 to 400nm, more specifically 352nm, 10nm / 352nm = 0.0284 (2.84%), a phase difference of 0.0284 * 360 = 10.23 degrees occurs.

이러한 이유로, 레이저에 비해 단파장을 가지는 자외선(UV)을 적용한다면, 우네리(210)의 굴곡에 의한 굴절 효과를 극대화할 수 있게 되는 바, 이러한 빛의 경로 변화의 편차를 형광 스크린(250)과 측정 카메라(260)로 검출하는 것이 용이해지는 장점이 있다.For this reason, when applying ultraviolet (UV) having a shorter wavelength than the laser, it is possible to maximize the refraction effect of the bending of the Woori 210, the variation of the path change of light and the fluorescent screen 250 There is an advantage that it is easy to detect with the measurement camera 260.

따라서, 본 발명의 제 1 실시예에서는 우네리(210)의 크기와 유사한 스케일의 파장대를 가지는 자외선(UV)을 광원(220)으로 사용하기 때문에, 상기 자외선(UV)이 측정 글래스 기판(240)을 통과하는 과정에서 측정 글래스 기판(240)의 미세한 굴곡에 따른 빛의 경로가 민감해지므로 스트릭과 코드를 손쉽게 구별할 수 있게 되고, 나아가 스트릭이 측정 글래스 기판(240)의 어느 면에 발생된 것인가에 대한 정보까지 판별할 수 있게 된다.Therefore, in the first embodiment of the present invention, since the ultraviolet light (UV) having a wavelength band similar to the size of the unori 210 is used as the light source 220, the ultraviolet light (UV) is the measurement glass substrate 240. In the process of passing through the light path due to the minute curvature of the measurement glass substrate 240 becomes sensitive, it is easy to distinguish between the streak and the cord, furthermore, on which side of the measurement glass substrate 240 is the streak generated? The information on can be determined.

즉, 도 6a에 도시한 바와 같이, 측정 글래스 기판(240)의 상부 표면에 우네리(210)가 존재할 때는 광원(220)으로부터의 자외선(UV)이 우네리(210)가 존재하지 않는 부분에서는 측정 글래스 기판(240)을 굴절 없이 그대로 관통할 것이고, 우네리(210)가 존재하는 부분에서는 우네리(210)의 미세한 굴곡에 의해 1회 굴절된 제 1 굴절 패턴(R1)으로 형광 스크린(250)에 조사될 것이다.That is, as shown in FIG. 6A, when the unori 210 is present on the upper surface of the measurement glass substrate 240, the UV light from the light source 220 is not present at the portion where the uneri 210 is not present. The measurement glass substrate 240 will be penetrated as it is without refraction, and the fluorescent screen may be formed by the first refraction pattern R 1 , which is refracted once by minute bending of the uneri 210, at the portion where the uneri 210 is present. 250).

또한, 도 6b에 도시한 바와 같이, 측정 글래스 기판(240)의 하부 표면에 우 네리(210)가 존재할 때는 광원(220)으로부터의 자외선(UV)이 측정 글래스 기판(240)의 상부 표면과 그 내부를 굴절 없이 그대로 통과한 후, 측정 글래스 기판(240)의 하부 표면에 존재하는 우네리(210)에 의해 1회 굴절된 제 2 굴절 패턴(R2)이 형광 스크린(250)에 조사될 것이다.In addition, as shown in FIG. 6B, when the anneal 210 is present on the lower surface of the measuring glass substrate 240, ultraviolet rays (UV) from the light source 220 may be exposed to the upper surface of the measuring glass substrate 240 and the same. After passing through the interior as it is without refraction, the second refraction pattern R 2 , once refracted by the UNERI 210 present on the lower surface of the measurement glass substrate 240, will be irradiated onto the fluorescent screen 250. .

또한, 도 6c에 도시한 바와 같이, 측정 글래스 기판(240)의 상부 표면과 하부 표면 모두에 우네리(210)가 존재할 때는 광원(220)으로부터의 자외선(UV)이 상부 표면의 우네리(210)와 하부 표면의 우네리(210)에 의해 2회 굴절된 제 3 굴절 패턴(R3)으로 형광 스크린(250)에 조사될 것이다.In addition, as shown in FIG. 6C, when the unery 210 is present on both the upper surface and the lower surface of the measurement glass substrate 240, ultraviolet light (UV) from the light source 220 is exposed to the unery 210 of the upper surface. ) And the third refractive pattern R 3 refracted by the unary 210 of the lower surface will be irradiated to the fluorescent screen 250.

이러한 제 1, 제 2, 제 3 굴절 패턴(R1, R2, R3)을 형광 스크린(250)과 측정 카메라(260)로 탐지하는 것을 통해 우네리(210)의 종류뿐만 아니라, 측정 글래스 기판(240)의 어느 면에 우네리(210)가 발생된 것인가를 판별할 수 있게 된다.Through detecting the first, second, and third refraction patterns R 1 , R 2 , and R 3 with the fluorescent screen 250 and the measurement camera 260, not only the type of the unori 210, but also the measurement glass It is possible to determine which side of the substrate 240 has the unery 210 generated.

따라서, 본 발명의 제 1 실시예에서는 우네리의 종류 뿐만 아니라 글래스 기판의 어느 면에 우네리가 발생된 것인가를 판별하는 것이 가능해지므로, 측정 글래스 기판의 양산 적용 여부를 사전에 판별하는 것을 통해 생산 수율을 개선할 수 있다.Therefore, in the first embodiment of the present invention, it is possible to determine not only the kind of unori but also on which side of the glass substrate. Therefore, the production yield can be determined by determining in advance whether mass production of the measuring glass substrate is applied. Can be improved.

또한, 글래스 기판의 어느 한쪽 면에 우네리가 존재하는 스트릭의 경우, 스트릭이 존재하는 면이 액정층과 접촉되지 않는 외부 면에 글래스 기판을 배치하는 것을 통해 화질 불량 문제를 미연에 방지할 수 있다.In addition, in the case of the streaks in which one side of the glass substrate is present, the problem of poor image quality can be prevented by arranging the glass substrate on the outer surface where the streaks are not in contact with the liquid crystal layer.

--- 제 2 실시예 ------ Second Embodiment ---

본 발명의 제 2 실시예는 형광 스크린과 측정 카메라 대신 전류 검출기를 이용하여 우네리의 종류를 손쉽게 구별할 수 있는 우네리 측정 장비를 제공하는 것을 특징으로 한다.The second embodiment of the present invention is characterized by providing a uneori measuring equipment that can easily distinguish the type of uneori using a current detector instead of a fluorescent screen and a measuring camera.

본 발명의 제 2 실시예는 제 1 실시예와 일부 구성만을 달리할 뿐, 그 목적 및 효과 면에서는 동일한 바, 제 1 실시예와 중복된 설명은 생략하도록 한다.The second embodiment of the present invention differs only in some configurations from the first embodiment, and the description thereof will be omitted since it is the same in terms of objects and effects.

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 우네리 측정 장비를 개략적으로 나타낸 도면으로, 보다 상세하게는 우네리의 종류를 판별할 수 있는 우네리 측정 장비에 관한 것이다.FIG. 7 is a view schematically illustrating the unori measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention, and more particularly, relates to the uneri measuring apparatus capable of determining the type of uneri.

도시한 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 우네리 측정 장비(300)는 외부의 빛을 차단하는 챔버(305)와, 상기 챔버(305)의 내부 일 측에서 자외선(UV)을 생성하는 광원(320)과, 상기 광원(320)과 평행하게 이격된 전류 검출기(350)와, 상기 광원 및 전류 검출기(350)의 이격된 사이 공간에 평행하게 배치된 측정 글래스 기판(340)을 포함한다.As shown, the unary measuring apparatus 300 according to the second embodiment of the present invention generates a chamber 305 for blocking external light and ultraviolet (UV) at one inner side of the chamber 305. A light source 320, a current detector 350 spaced in parallel with the light source 320, and a measurement glass substrate 340 disposed in parallel to the spaced space between the light source and the current detector 350. do.

이때, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 우네리 측정 장비(300)는 형광 스크린(도 4의 250)과 측정 카메라(도 4의 260) 대신 전류 검출기(350)를 이용하는 것을 특징으로 한다.In this case, the unary measuring apparatus 300 according to the second embodiment of the present invention is characterized by using the current detector 350 instead of the fluorescent screen 250 of FIG. 4 and the measurement camera 260 of FIG. 4.

이러한 전류 검출기(350)를 전면에 배치한 상태에서 광원(320)으로부터의 자외선(UV)을 측정 글래스 기판(340)에 조사한 후, 측정 글래스 기판(340)을 관통하는 자외선(UV) 중 측정 글래스 기판(340)에 존재하는 우네리(310)에 의한 굴절 패 턴(R) 만을 바로 전산화할 수 있는 바, 보다 정밀하게 우네리(310)의 종류 및 위치를 판별하는 것이 가능해진다.After irradiating ultraviolet (UV) light from the light source 320 to the measurement glass substrate 340 in a state where the current detector 350 is disposed on the front surface, the measurement glass of ultraviolet rays (UV) penetrating the measurement glass substrate 340. Since only the refractive pattern R by the unori 310 present in the substrate 340 can be directly computerized, the kind and position of the uneri 310 can be determined more precisely.

따라서, 본 발명의 제 2 실시예에서는 제 1 실시예와 동일한 효과를 얻을 수 있다.Therefore, in the second embodiment of the present invention, the same effects as in the first embodiment can be obtained.

그러나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 정신 및 사상을 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변형 및 변경할 수 있다는 것은 자명한 사실일 것이다.However, the present invention is not limited to the above embodiments, and it will be apparent that various modifications and changes can be made without departing from the spirit and the spirit of the present invention.

도 1은 종래에 따른 액정표시장치를 개략적으로 나타낸 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display according to the related art.

도 2a는 우네리가 발생된 글래스 기판을 나타낸 평면도.FIG. 2A is a plan view illustrating a glass substrate on which unery is generated. FIG.

도 2b는 도 2a의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절단하여 나타낸 단면도.FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 2A;

도 3은 종래에 따른 제논 램프를 이용한 우네리 측정 장비를 개략적으로 나타낸 도면.Figure 3 is a schematic view showing the uneori measuring equipment using a xenon lamp according to the prior art.

4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 우네리 측정 장비를 개략적으로 나타낸 도면.4 is a schematic view of the unori measuring equipment according to the first embodiment of the present invention.

도 5a와 도 5b는 스트릭과 코드를 설명하기 위한 도면.5A and 5B are diagrams for explaining streaks and codes.

도 6a, 도 6b, 도 6c는 스트릭과 코드의 검출 예시를 설명하기 위한 각각의 도면.6A, 6B, and 6C are respective diagrams for explaining example detection of streaks and codes.

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 우네리 측정 장비를 개략적으로 나타낸 도면.7 is a schematic view of the unori measurement equipment according to a second embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for the main parts of the drawings *

200 : 우네리 측정 장비 205 챔버200: uri chamber measuring equipment 205

210 : 우네리 220 : 광원210: Uneri 220: light source

230 : 스테이지 240 : 측정 글래스 기판230: stage 240: measuring glass substrate

250 : 형광 스크린 260 : 측정 카메라250: fluorescent screen 260: measuring camera

UV : 자외선UV: UV

Claims (6)

외부의 빛을 차단하는 챔버와;A chamber for blocking external light; 상기 챔버 내부의 일 측에서 자외선을 생성하는 광원과;A light source generating ultraviolet rays from one side of the chamber; 상기 광원과 평행하게 이격된 형광 스크린과;A fluorescent screen spaced in parallel with the light source; 상기 광원 및 형광 스크린의 이격된 사이 공간에 평행하게 배치된 측정 글래스 기판과;A measurement glass substrate disposed parallel to the spaced space between the light source and the fluorescent screen; 상기 형광 스크린과 이격된 일 측에 위치하고, 상기 광원으로부터의 자외선을 측정 글래스 기판에 조사하여 상기 측정 글래스 기판의 어느 면에 우네리가 존재하는 가를 탐지하는 측정 카메라A measuring camera positioned on one side of the fluorescent screen and irradiated with ultraviolet rays from the light source to the measuring glass substrate to detect which side of the measuring glass substrate exists; 를 포함하는 우네리 측정 장비.Uneri measuring equipment comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 자외선은 300 ~ 400nm의 파장대를 가지는 것을 특징으로 하는 우네리 측정 장비.The UV measurement apparatus of claim 1, characterized in that having a wavelength band of 300 ~ 400nm. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 자외선은 야광 램프와 포충용 자외선 램프를 포함하는 자외선 램프인 것을 특징으로 하는 우네리 측정 장비.The ultraviolet light is a UV measurement lamp, characterized in that the UV lamp including a luminous lamp and insect repellent UV lamp. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 형광 스크린은 상기 자외선에 의해 발광하는 형광 물질이 도포된 것을 특징으로 하는 우네리 측정 장비.The fluorescent screen is a unimetric measuring equipment, characterized in that the fluorescent material is applied to the ultraviolet light is applied. 광원, 측정 글래스 기판, 형광 스크린 및 측정 카메라가 차례로 배치되는 우네리 측정 장비에 있어서,In the Uneri measuring equipment in which a light source, a measuring glass substrate, a fluorescent screen, and a measuring camera are arranged in sequence, 제논 램프를 이용한 우네리 측정 장비로 상기 측정 글래스 기판에서의 우네리 발생 지점을 확인하는 단계와;Confirming the unery generation point on the measuring glass substrate by using the unery measuring equipment using a xenon lamp; 상기 광원으로부터의 자외선을 상기 측정 글래스 기판의 우네리 발생 지점에 조사하여 상기 우네리에 의한 굴절 패턴을 상기 형광 스크린 및 측정 카메라로 판별하는 단계Irradiating ultraviolet rays from the light source to the unery generation point of the measurement glass substrate to determine the refractive pattern of the unery by the fluorescent screen and the measurement camera. 를 포함하는 우네리 측정 방법.Unori measuring method comprising a. 외부의 빛을 차단하는 챔버와;A chamber for blocking external light; 상기 챔버 내부의 일 측에서 자외선을 생성하는 광원과;A light source generating ultraviolet rays from one side of the chamber; 상기 광원과 평행하게 이격 배치된 측정 글래스 기판과;A measurement glass substrate spaced apart from and parallel to the light source; 상기 측정 글래스 기판과 평행하게 이격 배치되고, 상기 광원으로부터의 자외선을 상기 측정 글래스 기판에 조사하여 상기 측정 글래스 기판의 어느 면에 우네리가 존재하는 가를 탐지하는 전류 검출기A current detector disposed parallel to the measurement glass substrate and irradiating ultraviolet rays from the light source to the measurement glass substrate to detect on which side of the measurement glass substrate there is an unery; 를 포함하는 우네리 측정 장비.Uneri measuring equipment comprising a.
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JP3551551B2 (en) * 1995-06-20 2004-08-11 株式会社ニコン Method and apparatus for measuring uneven shape
KR100222921B1 (en) 1997-08-28 1999-10-01 전주범 Apparatus and method for measuring surface curvature
JP4945181B2 (en) * 2006-07-12 2012-06-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ Surface inspection method and surface inspection apparatus

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