KR20090110787A - Colored photosensitive resin composition - Google Patents

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KR20090110787A
KR20090110787A KR1020090032658A KR20090032658A KR20090110787A KR 20090110787 A KR20090110787 A KR 20090110787A KR 1020090032658 A KR1020090032658 A KR 1020090032658A KR 20090032658 A KR20090032658 A KR 20090032658A KR 20090110787 A KR20090110787 A KR 20090110787A
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마사토 이노우에
세이지 무로
미키오 다키가와
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A coloring photosensitive resin is provided to easily re-dissolve the composition. CONSTITUTION: A coloring photosensitive resin composition contains coloring agent, binder resin, photo polymerizable compound, photopolymerization initiator and solvent. The solvent comprises a solvent selected from dipropylene glycol monoalkylether ester of C1-C4 alkyl group and dipropylene glycol monoalkylether of C1-C4 alkyl group and other solvent. The content of the solvent is more than 5 mass% and less than 40 mass% based on total solvent amount.

Description

착색 감광성 수지 조성물{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}Colored photosensitive resin composition {COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}

본 발명은, 착색 감광성 수지 조성물 및 그것을 이용하여 형성된 패턴 및 컬러 필터에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition and a pattern and a color filter formed using the same.

최근, 컬러 필터의 제조에 사용되는 도포장치로서, 슬릿 앤드 스핀방식이나 스핀리스방식으로 대표되는 액절약 코터가 사용되도록 되어 왔다(특허문헌 1). 이 액절약 코터는, 종래의 스핀 코터에 비하여, 소량의 착색 감광성 수지 조성물로 기재(基材)에 도포할 수 있기 때문에, 비용면에서 우수하다.In recent years, a liquid saving coater typified by a slit-and-spin method or a spinless method has been used as a coating apparatus used for the production of color filters (Patent Document 1). This liquid-saving coater is excellent in cost because it can be applied to a substrate with a small amount of colored photosensitive resin composition as compared with a conventional spin coater.

그러나, 이 액절약 코터에서는, 기재에 착색 감광성 수지 조성물을 접촉시키는 슬릿 주변부에서, 착색 감광성 수지 조성물이 건조하여 이물이 되고, 기재 상으로 낙하하여, 컬러 필터의 수율 저하를 일으키는 경우가 있다. 이것을 피하기 위하여 슬릿 주변의 세정조작이 필요하게 되어, 생산성의 면에서의 개선이 요망되고 있었다.However, in this liquid-saving coater, the colored photosensitive resin composition may dry and become a foreign material at the slit periphery portion where the colored photosensitive resin composition is brought into contact with the substrate, and may fall onto the substrate, causing a decrease in the yield of the color filter. In order to avoid this, a washing operation around the slit is required, and improvement in productivity has been desired.

이것에 대하여, 착색 감광성 수지 조성물에 비점(沸點)이 높은 용제를 사용함으로써, 건조를 방지하는 것을 일반적으로 생각할 수 있다. 그러나, 비점이 높은 용제를 과잉으로 사용하면, 노광공정 전에 용제를 휘발 제거하는 프리베이크공 정의 작업성이 저하한다는 문제가 있었다. On the other hand, it is generally conceivable to prevent drying by using a solvent having a high boiling point in the colored photosensitive resin composition. However, when the solvent with a high boiling point is used excessively, there exists a problem that the workability of the prebaking process which volatilizes and removes a solvent before an exposure process falls.

[특허문헌 1][Patent Document 1]

일본국 특개2002-23352호 공보 2페이지 오른쪽란 11행째 내지 22행째Japanese Patent Laid-Open No. 2002-23352, page 2, right column 11th to 22nd row

본 발명의 목적은, 쉽게 건조되지 않고, 건조된 경우라도 용이하게 재용해시킬 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다. An object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition which is not easily dried and can be easily redissolved even when dried.

본 발명자들은, 어느 종류의 용매를 어느 범위에서 사용함으로써, 상기와 같은 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하였다. The present inventors found that the above problems can be solved by using any kind of solvent in a certain range.

즉, 본 발명은, 이하의 [7]을 제공하는 것이다. That is, this invention provides the following [7].

[1]. 착색제, 바인더수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물에 있어서,[One]. In the coloring photosensitive resin composition containing a coloring agent, binder resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent,

용매는, 알킬기의 탄소수 1 내지 4의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르 및 알킬기의 탄소수 1 내지 4의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용매 (A) 및 (A)와는 다른 용매 (B)로 이루어지고,The solvent is different from at least one solvent (A) and (A) selected from the group consisting of dipropylene glycol monoalkyl ethers having 1 to 4 carbon atoms of an alkyl group and dipropylene glycol monoalkyl ether esters having 1 to 4 carbon atoms of an alkyl group. Consisting of different solvents (B),

용매 (A)의 함유량이 전체 용매량에 대하여, 5 질량% 이상 40 질량% 이하이며,Content of solvent (A) is 5 mass% or more and 40 mass% or less with respect to all solvent amounts,

용매 (B)의 함유량이 전체 용매량에 대하여, 60 질량% 이상 95 질량% 이하 인 착색 감광성 수지 조성물. The coloring photosensitive resin composition whose content of a solvent (B) is 60 mass% or more and 95 mass% or less with respect to all solvent amounts.

[2]. 용매 (B)가, 121℃ 이상 171℃ 이하의 비점을 가지는 용매인 [1]에 기재된 착색 감광성 수지 조성물. [2]. The coloring photosensitive resin composition as described in [1] whose solvent (B) is a solvent which has a boiling point of 121 degreeC or more and 171 degrees C or less.

[3]. 용매 (A)가, 알킬기의 탄소수 1 내지 4의 디프로필렌글리콜모노알킬에 테르인 [1] 또는 [2]에 기재된 착색 감광성 수지 조성물. [3]. The colored photosensitive resin composition as described in [1] or [2] whose solvent (A) is a C1-C4 dipropylene glycol monoalkyl ether of an alkyl group.

[4]. 용매 (A)가, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르인 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 착색 감광성 수지 조성물. [4]. The coloring photosensitive resin composition in any one of [1]-[3] whose solvent (A) is dipropylene glycol monomethyl ether.

[5]. 용매 (B)가, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트인 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 착색 감광성 수지 조성물. [5]. The coloring photosensitive resin composition in any one of [1]-[4] whose solvent (B) is propylene glycol methyl ether acetate.

[6]. [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 패턴. [6]. The pattern formed using the coloring photosensitive resin composition in any one of [1]-[5].

[7]. [6]에 기재된 패턴을 함유하는 컬러 필터. [7]. The color filter containing the pattern of [6].

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 주로 착색제, 바인더수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 함유한다. The coloring photosensitive resin composition of this invention mainly contains a coloring agent, binder resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent.

본 발명에 사용되는 착색제는, 유기안료이어도 되고, 무기안료이어도 된다. 또, 염료이어도 된다. 그 중에서도 내열성, 발색성이 우수하기 때문에, 유기안료가 바람직하게 사용된다. The colorant used in the present invention may be an organic pigment or an inorganic pigment. Moreover, dye may be sufficient. Especially, since it is excellent in heat resistance and color development, an organic pigment is used preferably.

상기한 유기안료 및 무기안료로서, 예를 들면 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들수 있다. Examples of the organic and inorganic pigments described above include compounds classified as pigments in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colourists).

구체적으로는, C. I. 피그먼트 옐로우 1(이하, C.I. 피그먼트 옐로우를 생략하고 번호만 기재한다. 다른 색상에 대해서도 마찬가지로 기재한다.), 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214 등의 황색 안료 ; Specifically, CI Pigment Yellow 1 (hereinafter, CI Pigment Yellow is omitted and only numbers are described. Other colors are also described in the same manner.), 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, Yellow such as 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214 Pigments;

C. I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등의 오렌지색 안료 ; C. I. Orange pigments, such as pigment orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73;

C. I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 264, 265 등의 적색 안료 ; C. I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 264, 265 and the like;

C. I. 피그먼트 블루 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 등의 청색안료 ; C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등의 바이올렛색 안료 ; C. I. Blue pigments, such as Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 60; C. I. Violet pigments, such as pigment violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38;

C. I. 피그먼트 그린 7, 36 등의 녹색 안료 ; C. I. Green pigment, such as Pigment Green 7, 36;

C. I. 피그먼트 브라운 23, 25 등의 브라운색 안료 ; C. I. Brown pigments, such as Pigment Brown 23 and 25;

C. I. 피그먼트 블랙 1, 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있다.C. I. Black pigments, such as Pigment Black 1 and 7, etc. are mentioned.

이들 유기안료 및 무기안료는, 각각 단독으로 사용하여도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용하여도 된다. 예를 들면, 적색 화소를 형성하기 위해서는 C. I. 피그먼트 레드 254 및 C. I. 피그먼트 레드 177 또는 C. I. 피그먼트 옐로우 139를 함유하고 있는 것이 바람직하고, 녹색 화소를 형성하기 위해서는 C. I. 피그먼트 그린 36 및 C. I. 피그먼트 옐로우 150 및 C. I. 피그먼트 옐로우 138로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하고 있는 것이 바람직하며, 청색 화소를 형성하기 위해서는, C. I. 피그먼트 블루 15 : 6 및 C. I. 피그먼트 바이올렛 23을 함유하고 있는 것이 바람직하다. These organic pigments and inorganic pigments may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used. For example, it is preferable to contain CI pigment red 254 and CI pigment red 177 or CI pigment yellow 139 in order to form a red pixel, and CI pigment green 36 and CI pigment to form a green pixel. It is preferable to contain at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of yellow 150 and CI pigment yellow 138, and in order to form a blue pixel, it contains CI pigment blue 15: 6 and CI pigment violet 23. desirable.

상기한 염료로서는, 유기용제에 가용성인 염료이면 특별히 제한은 없이 사용할 수 있다. 화학구조의 관점에서는, 상기 유기용제 가용성 염료로서, 트리페닐 메탄계, 안트라퀴논계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계, 등의 염료를 사용할 수 있다. 바람직하게는, 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 안트라퀴논계, 안트라피리돈계의 염료이다.As said dye, if it is a dye soluble in the organic solvent, it can use without a restriction | limiting in particular. From the viewpoint of the chemical structure, the organic solvent soluble dyes include triphenyl methane, anthraquinone, benzylidene, oxonol, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, xanthene, phthalocyanine, Dye, such as benzopyran system and indigo system, can be used. Preferably, they are dyes of a pyrazole azo system, an anilino azo system, a pyrazolotriazole azo system, a pyridone azo system, an anthraquinone system, and an anthrapyridone system.

상기 염료 중에서도 산성염료 및 직접 염료의 예로서, 이하와 같은 것을 구체적으로 들 수 있다.Among the above dyes, examples of the acid dyes and direct dyes include the following.

애시드 알리자린 바이올렛 N(acid alizarin violet N) ;Acid alizarin violet N;

애시드 블랙(acid black) 1, 2, 24, 48 ; Acid blacks 1, 2, 24, 48;

애시드 블루(acid blue) 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324 : 1, 335, 340 ; Acid blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324: 1, 335, 340;

애시드 크롬 바이올렛 K(acid chrome violet K) ;Acid chrome violet K;

애시드 푹신(acid Fuchsin) ; Acid Fuchsin;

애시드 그린(acid green) 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 ; Acid green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109;

애시드 오렌지(acid orange) 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173 ; Acid oranges 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;

애시드 레드(acid red) 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 ; Acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426;

애시드 바이올렛(acid violet) 6B, 7, 9, 17, 19 ; Acid violet 6B, 7, 9, 17, 19;

애시드 옐로우(acid yel1ow) 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251Acid yellow (1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251

다이렉트 옐로우(Direct Yellow) 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141 ; Direct Yellow 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141;

다이렉트 오렌지(Direct Orenge) 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107 ; Direct Orenge 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;

다이렉트 레드(Direct Red) 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 ; Direct Red 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;

다이렉트 바이올렛(Direct Violet) 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104 ; Direct Violet 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;

다이렉트 블루(Direct Blue) 57, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 ; Direct Blue 57, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;

다이렉트 그린(Direct green) 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 ; Direct green 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82;

모던트 옐로우(Mordant Yellow) 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 50, 61, 62, 65 ; Mordant Yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 50, 61, 62, 65;

모던트 오렌지(Mordant Orenge) 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 ; Mortant Orenge 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 ;

모던트 레드(Mordant Red) 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95 ; Modern Red 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38 , 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95;

모던트 바이올렛(Mordant Violet) 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58 ; Mortant Violet 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58;

모던트 블루(Mordant Blue) 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 ;Modern Blue 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41 , 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;

모던트 그린(Mordant green) 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 ; Mordant green 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53;

식용 옐로우 3(Food Yellow 3) ;Food Yellow 3;

및 이들 염료의 유도체를 들 수 있다. 유도체로서는, 술폰산기를 아민에 의하여 아미드화한 것이 적합하게 사용된다. And derivatives of these dyes. As a derivative, what amidated the sulfonic acid group with the amine is used suitably.

착색제의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 질량 분율로, 25 질량% 이상 60 질량% 이하가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 27 질량% 이상 55 질량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상 50 질량% 이하이다. 착색제의 함유량이 상기한 범위에 있으면, 컬러 필터로 하였을 때의 색농도가 충분하고, 또한 조성물 중에 바인더수지를 필요량 함유시킬 수 있기 때문에, 기계적 강도가 우수한 패턴을 형성할 수 있다. As for content of a coloring agent, 25 mass% or more and 60 mass% or less are preferable by mass fraction with respect to solid content of the photosensitive resin composition, More preferably, they are 27 mass% or more and 55 mass% or less, More preferably, it is 30 mass% or more It is 50 mass% or less. When content of a coloring agent exists in the said range, since the color concentration at the time of using a color filter can be sufficient, and a binder resin can be contained in a composition in a required amount, the pattern excellent in mechanical strength can be formed.

상기한 안료는, 필요에 따라, 로진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체 등을 사용한 표면처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에 대한 그라프트처리, 황산미립화법 등에 의한 미립화처리, 또는 불순물을 제거하기 위한 유기용제나 물 등에 의한 세정처리, 이온교환법 등에 의한 이온성 불순물의 제거처리 등이 실시되어 있어도 된다.The pigment may be optionally treated with rosin treatment, surface treatment using a pigment derivative having an acidic group or a basic group introduced therein, graft treatment on the surface of the pigment with a high molecular compound, atomization treatment by a sulfur atomization method, or impurities. A washing treatment with an organic solvent, water, or the like for removal, or a treatment for removing ionic impurities by an ion exchange method or the like may be performed.

본 발명에서 얻어지는 착색 감광성 수지 조성물은, 안료가 균일한 입자지름인 것이 바람직하다. It is preferable that the pigment | dye is uniform particle diameter of the colored photosensitive resin composition obtained by this invention.

안료를 균일한 입자지름으로 하기 위하여, 계면활성제를 함유시켜 분산처리를 행함으로써 안료가 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다. In order to make the pigment a uniform particle diameter, it is possible to obtain a pigment dispersion liquid in which the pigment is uniformly dispersed in a solution by containing a surfactant and performing a dispersion treatment.

상기한 계면활성제로서는, 예를 들면, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 (兩性) 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용된다. As said surfactant, surfactant, such as cationic, anionic, nonionic, and amphoteric, etc. are mentioned, for example, It is used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

안료 분산액의 조제시에 계면활성제를 사용하는 경우, 그 사용량은 안료 1 질량부당, 통상, 1 질량부 이하, 바람직하게는 0.05 질량부 이상 0.5 질량부 이하이다. 계면활성제의 사용량이 상기한 범위에 있으면, 균일한 입자지름의 안료가 얻어지는 경향이 있다.When surfactant is used at the time of preparation of a pigment dispersion, the usage-amount is 1 mass part or less normally per 1 mass part of pigment, Preferably it is 0.05 mass part or more and 0.5 mass part or less. When the usage-amount of surfactant exists in the said range, there exists a tendency for the pigment of a uniform particle diameter to be obtained.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 바인더수지를 함유한다. 상기한 바인더 수지로서는, 아크릴계 공중합체를 사용할 수 있다. 아크릴계 공중합체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산 등의 카르복실기 함유 모노머와, 이 모노머와 공중합 가능한 다른 모노머와의 공중합체 등을 들 수 있다. 본 명세서 중에서, (메타)아크릴산이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. (메타)아크릴레이트도 마찬가지이다.The coloring photosensitive resin composition of this invention contains a binder resin. As said binder resin, an acryl-type copolymer can be used. As an acryl-type copolymer, the copolymer etc. of carboxyl group-containing monomers, such as (meth) acrylic acid, and the other monomer copolymerizable with this monomer are mentioned, for example. In this specification, (meth) acrylic acid represents at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to (meth) acrylate.

상기한 카르복실기 함유 모노머로서는, 예를 들면 불포화 모노카르본산이나, 불포화 디카르본산, 불포화 트리카르본산 등의 불포화 다가 카르본산 등, 분자 중에 적어도 1개의 카르복실기를 가지는 불포화 카르본산을 들 수 있다. As said carboxyl group-containing monomer, unsaturated carboxylic acid which has at least 1 carboxyl group in a molecule | numerator, such as unsaturated monocarboxylic acid, unsaturated polycarboxylic acid, such as unsaturated dicarboxylic acid and unsaturated tricarboxylic acid, is mentioned, for example.

여기서, 불포화 모노카르본산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로르아크릴산, 계피산 등을 들 수 있다. 불포화 디카르본산으로서는 예를 들면, 말레인산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다.Here, as unsaturated monocarboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, (alpha)-chloroacrylic acid, cinnamic acid etc. are mentioned, for example. As unsaturated dicarboxylic acid, maleic acid, a fumaric acid, itaconic acid, a citraconic acid, a mesaconic acid, etc. are mentioned, for example.

불포화 다가 카르본산은, 그 산무수물, 구체적으로는, 무수말레인산, 무수이타콘산, 무수시트라콘산 등이어도 된다. 또, 불포화 다가 카르본산은, 그 모노 (2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르이어도 되고, 예를 들면, 호박산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 호박산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등이어도 된다. 불포화 다가 카르본산은, 그 양 말단 디카르복시폴리머의 모노(메타)아크릴레이트이어도 되고, 예를 들면, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트 등이어도 된다. 이들 카르복실기 함유 모노머는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The unsaturated polyhydric carboxylic acid may be an acid anhydride, specifically maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, or the like. Moreover, the mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester may be sufficient as unsaturated polyhydric carboxylic acid, For example, succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and succinic acid mono (2-methacryloyloxy). Ethyl), mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate, mono (2-methacryloyloxyethyl) phthalate, or the like. Unsaturated polyhydric carboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the both terminal dicarboxy polymers, for example, (omega) -carboxypolycaprolactone monoacrylate, (omega) -carboxypolycaprolactone monomethacrylate, etc. may be sufficient as it. These carboxyl group-containing monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기한 카르복실기 함유 모노머와 공중합 가능한 다른 모노머로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 모노머 및/또는 부가 중합 가능한 모노머 등을 들 수 있고, 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로르스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜 에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐화합물 ; As another monomer copolymerizable with said carboxyl group-containing monomer, the monomer which has an ethylenically unsaturated bond, and / or the monomer which can be addition-polymerized, etc. are mentioned, For example, styrene, (alpha) -methylstyrene, o-vinyltoluene, m- Vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorstyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl ether, m-vinylbenzylmethyl ether, p-vinylbenzylmethyl Aromatic vinyl compounds such as ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether and indene;

메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 3-하이드록시프로필아크릴레이트, 3-하이드록시프로필메타크릴레이트, 2-하이드록시부틸아크릴레이트, 2-하이드록시부틸메타크릴레이트, 3-하이드록시부틸아크릴레이트, 3-하이드록시부틸메타크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 이소보닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐메타크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르본산 에스테르류 ;Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxy Tyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate , 2-methoxyethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, Methoxy triethylene glycol methacrylate, methoxy propylene glycol acrylate, methoxy propylene glycol methacrylate, methoxy dipropylene glycol acrylate, methoxy dipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, Dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadienyl methacrylate Unsaturated carboxylic acid esters such as yate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, and glycerol monomethacrylate;

2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미 노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르본산 아미노알킬에스테르류 ; 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Unsaturated carboxylates such as aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate and 3-dimethylaminopropyl methacrylate Main acid aminoalkyl esters;

글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르본산 글리시딜에스테르류 ;Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate;

아세트산비닐, 프로피온산비닐, 낙산비닐, 벤조산비닐 등의 카르본산 비닐 에스테르류 ; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;

비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류 ; Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;

아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴 등의 시안화 비닐화합물 ; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide;

아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류 ; Unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide, and N-2-hydroxyethyl methacrylamide;

말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류 ; Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide;

1, 3-부타디엔, 아이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공역 디엔류 ; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene;

폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 가지는 매크로모노머류 등을 들 수 있다. Polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of the polymer molecular chain of polysiloxane Macromonomers; and the like.

이들 모노머는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기한 공중합체에서의 카르복실기 함유 모노머단위의 함유량은, 공중합체의 전구성 단위의 합계 몰수에 대하여, 바람직하게는 5% 내지 45% 이고, 더욱 바람직하게는 10% 내지 40% 이며, 더욱 바람직하게는 15% 내지 35% 이다. 카르복실기 함유 모노머단위의 함유량이 상기한 범위에 있으면, 현상액에 대한 용해성이 양호하여, 현상시에 패턴이 정확하게 형성되는 경향이 있다. The content of the carboxyl group-containing monomer unit in the copolymer described above is preferably 5% to 45%, more preferably 10% to 40%, and more preferably to the total moles of the precursor units of the copolymer. Is 15% to 35%. When content of a carboxyl group-containing monomeric unit exists in the said range, solubility to a developing solution is favorable and it exists in the tendency for a pattern to be formed correctly at the time of image development.

상기한 아크릴계 중합체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트공중합체, (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트공중합체, (메타)아크릴산/2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트공중합체, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리스티렌매그로모노머공중합체, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/폴리메틸(메타)아크릴레이트매크로모노머공중합체, (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌매크로모노머공중합체, (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸(메타)아크릴레이트매크로모노머공중합체, (메타)아크릴산/2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리스티렌매크로모노머공중합체, (메타)아크릴산/2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/폴리메틸(메타)아크릴레이트매크로모노머공중합체, (메타)아크릴산/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드공중합체, (메타)아크릴산/호박산모노(2-아크릴로일록시에틸)/스티렌/벤질(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드공중합체, (메타)아크릴산/호박산모노(2-아크릴로일옥시에틸)/스티렌/알릴(메타)아크릴레이트/N-페닐말레이미드공중합체(메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴 레이트/N-페닐말레이미드/스티렌/글리세롤모노(메타)아크릴레이트공중합체 등을 들 수 있다. As said acrylic polymer, it is (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth), for example. ) Acrylic / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylic Late macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth ) Acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) a Relate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / monoacid mono (2-acryloyl) Oxyethyl) / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / monoacid mono (2-acryloyloxyethyl) / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenyl Maleimide copolymer (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / styrene / glycerol mono (meth) acrylate copolymer and the like.

그 중에서도 (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트공중합체, (메타)아크릴산/벤질(메타)아크릴레이트/스티렌공중합체, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트공중합체, (메타)아크릴산/메틸(메타)아크릴레이트/스티렌공중합체 등이 바람직하다. Above all, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / Methyl (meth) acrylate / styrene copolymer, etc. are preferable.

이들은, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

바인더수지의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 5,00O 내지 50,000 이고, 더욱 바람직하게는 7,000 내지 40,000 이며, 특히 바람직하게는 8,000 내지 35,000 이다. 바인더수지의 분자량이 상기한 범위에 있으면, 도포막 경도가 향상하고, 잔막율도 높으며, 미노광부의 현상액에 대한 용해성이 양호하여, 해상도가 향상하는 경향에 있다. The polystyrene reduced weight average molecular weight of the binder resin is preferably 5,00O to 50,000, more preferably 7,000 to 40,000, and particularly preferably 8,000 to 35,000. When the molecular weight of the binder resin is in the above-described range, the coating film hardness is improved, the residual film ratio is also high, the solubility in the developer of the unexposed part is good, and the resolution tends to be improved.

바인더수지의 산가는, 바람직하게는 50 내지 150 이고, 더욱 바람직하게는 60 내지 140, 더욱 바람직하게는 70 내지 130 이다. 산가가, 상기한 범위에 있으면, 현상액에 대한 용해성이 향상하여 미노광부가 용해되기 쉬워지고, 또 고감도화하여 현상시에 노광부의 패턴이 남아 잔막율이 향상하는 경향이 있다.The acid value of binder resin becomes like this. Preferably it is 50-150, More preferably, it is 60-140, More preferably, it is 70-130. When the acid value is in the above-described range, the solubility in the developer is improved, the unexposed portion is easily dissolved, and the sensitivity is increased, and the pattern of the exposed portion remains at the time of development, and the residual film ratio tends to be improved.

여기서 산가란, 카르본산 등의 기를 가지는 수지 1 g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값으로, 통상은 종래 농도의 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다. The acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of a resin having a group such as carboxylic acid, and can usually be obtained by titration using a conventional aqueous potassium hydroxide solution.

바인더수지의 함유량은, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 질량분 율로, 바람직하게는 5 질량% 이상 30 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이상 28 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 15 질량 % 이상 26 질량 % 이하이다. 바인더수지의 함유량이, 상기한 범위에 있으면, 패턴을 형성할 수 있고, 또 해상도 및 잔막율이 향상하는 경향에 있다.Content of binder resin is a mass fraction with respect to solid content of a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 5 mass% or more and 30 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or more and 28 mass% or less, More preferably, 15 mass% It is more than 26 mass%. When content of a binder resin exists in the said range, a pattern can be formed and there exists a tendency for the resolution and residual film rate to improve.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 광중합성 화합물을 함유한다. 광중합성 화합물은, 빛을 조사받음으로써 광중합 개시제로부터 발생한 활성라디칼, 산 등에 의하여 중합할 수 있는 화합물로서, 예를 들면 중합성의 탄소 - 탄소 불포화 결합을 가지는 화합물 등을 들 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention contains a photopolymerizable compound. A photopolymerizable compound is a compound which can superpose | polymerize with active radicals, an acid, etc. which generate | occur | produced by irradiating light, and a compound etc. which have a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond are mentioned, for example.

상기한 광중합성 화합물은, 3관능 이상의 다관능 광중합성 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that said photopolymerizable compound is a trifunctional or more than polyfunctional photopolymerizable compound.

3관능 이상의 다관능의 광중합성 화합물로서는, 예를 들면 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다. As a trifunctional or more than polyfunctional photopolymerizable compound, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol Pentaerythritol hexamethacrylate etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

그 함유량은, 착색 감광성 수지 조성물의 질량분율로, 바람직하게는 5 질량% 이상 90 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이상 80 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상 70 질량% 이하이다. 상기한 광중합성 화합물의 함유량이, 5 질량% 이상 90 질량% 이하이면, 경화가 충분히 일어나 잔막율이 향상하고, 패턴에 언더컷이 들어가기 어렵게 되어 밀착성이 양호해지는 경향이 있다. The content is the mass fraction of the coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 5 mass% or more and 90 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or more and 80 mass% or less, More preferably, it is 20 mass% or more and 70 mass% or less to be. When content of the said photopolymerizable compound is 5 mass% or more and 90 mass% or less, hardening will fully arise and a residual film ratio will improve and it will become difficult to undercut into a pattern, and adhesiveness tends to become favorable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 광중합개시제를 함유한다. The coloring photosensitive resin composition of this invention contains a photoinitiator.

상기한 광중합개시제로서는, 아세토페논계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물, 활성 라디칼발생제, 산 발생제 등을 들 수 있다. As said photoinitiator, an acetophenone type compound, a benzoin type compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, a triazine type compound, an oxime type compound, an active radical generator, an acid generator, etc. are mentioned.

상기한 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. As said acetophenone type compound, diethoxy acetophenone, 2-methyl- 2-morpholino-1- (4-methylthio phenyl) propane- 1-one, 2-hydroxy-2- methyl-, 1-phenylpropane-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketones, oligomers of 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1-one, and the like, and preferably 2-methyl-2-morpholino-. 1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one etc. are mentioned.

상기한 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. As said benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.

상기한 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. As said benzophenone type compound, for example, benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'- Tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

상기한 티옥산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다. As said thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro- 4-propoxy city oxanthone etc. are mentioned.

상기한 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)- 1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.As said triazine type compound, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1, 3, 5- triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl), for example -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-tri Azine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl ) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino- 2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3, 5-triazine etc. are mentioned.

상기한 옥심계 화합물로서는, 예를 들면 O-아실옥심계 화합물을 들 수 있고, 그 구체예로서는, 1-(4-페닐술파닐-페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-0-아세테이트 등을 들수 있다.As said oxime type compound, an O-acyl oxime type compound is mentioned, for example, As a specific example, 1- (4-phenylsulfanyl-phenyl) -butane-1,2-dione 2-oxime-O- Benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2-dione2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1-one oxime-O- Acetate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butan-1-one oxime-0-acetate, and the like.

상기한 활성 라디칼발생제로서, 예를 들면 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난스렌퀴논, 캄파퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센화합물 등을 사용할 수도 있다.As the above-mentioned active radical generator, for example, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl -1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenansrenquinone, camphorquinone, phenylglyoxylate, titanocene compound, etc. You can also use

상기한 산 발생제로서는, 예를 들면 4-하이드록시페닐디메틸술포늄p-톨루엔술포나이트, 4-하이드록시페닐디메틸술포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸술포늄p-톨루엔술포네이트, 4-아세톡시페닐·메틸·벤질술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄p-톨루엔술포네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오드늄p-톨루엔술포네이트, 디페닐요오드늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나, 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.As said acid generator, 4-hydroxyphenyl dimethyl sulfonium p-toluene sulfonite, 4-hydroxyphenyl dimethyl sulfonium hexafluoro antimonate, 4-acetoxy phenyl dimethyl sulfonium p-toluene, for example Sulfonate, 4-acetoxyphenylmethyl benzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl iodonium p-toluenesulfo Onium salts, such as a nitrate and diphenyl iodonium hexafluoro antimonate, nitrobenzyl tosylates, benzoin tosylate, etc. are mentioned.

이들은, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다.These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

광중합개시제의 함유량은, 바인더수지 및 광중합성 화합물의 합계량에 대하여 질량분율로, 바람직하게는 0.1 질량% 이상 20 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 1 질량% 이상 15 질량% 이하이다. 광중합개시제의 함유량이, 상기한 범위에 있으면, 고감도화되어 노광시간이 단축되어 생산성이 향상하고, 한편, 고감도가 지나쳐 해상도가 불량이 되지 않는 경향이 있다. The content of the photopolymerization initiator is a mass fraction with respect to the total amount of the binder resin and the photopolymerizable compound, preferably 0.1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less. When content of a photoinitiator exists in the said range, it becomes high sensitivity and shortens an exposure time, and productivity improves, on the other hand, there exists a tendency for the high sensitivity to be excessive and a resolution not to become bad.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서는, 광중합개시조제를 사용하여도 된다. 광중합개시조제는, 광중합개시제와 조합시켜 사용되는 경우가 있고, 광중합개시제에 의하여 중합이 개시된 광중합성 화합물의 중합을 더욱 촉진하기 위하여 사용되는 화합물이다. In the coloring photosensitive resin composition of this invention, you may use a photoinitiator. A photoinitiator is a compound which may be used in combination with a photoinitiator, and is used in order to further accelerate superposition | polymerization of the photopolymerizable compound in which superposition | polymerization was started by a photoinitiator.

광중합개시조제로서는, 아민계 화합물, 알콕시안트라센계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, an amine compound, an alkoxy anthracene type compound, a thioxanthone type compound, etc. are mentioned.

상기한 아민계 화합물로서는, 예를 들면 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미히라케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. 그 중에서도 4, 4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. As said amine type compound, for example, triethanolamine, methyl diethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, and benzoic acid 2-dimethylamino Ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name mihiraketone), 4,4'-bis (diethylamino) Benzophenone, 4, 4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone, etc. are mentioned. Especially, 4, 4'-bis (diethylamino) benzophenone is preferable.

상기한 알콕시안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시 안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. As said alkoxy anthracene type compound, 9,10- dimethoxy anthracene, 2-ethyl-9,10- dimethoxy anthracene, 9,10- diethoxy anthracene, 2-ethyl-9, 10- diethoxy anthracene, for example Etc. can be mentioned.

상기한 티옥산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다. As said thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro- 4-propoxy city oxanthone etc. are mentioned.

또, 광중합개시조제로서 시판의 것을 사용할 수도 있고, 시판의 광중합개시조제로서는, 예를 들면 상품명「EAB-F」(호도가야화학공업(주)제) 등을 들 수 있다.Moreover, a commercial thing can also be used as a photoinitiator, As a commercial photoinitiator, a brand name "EAB-F" (made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) etc. is mentioned, for example.

광중합개시조제는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다.A photoinitiator can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서의 광중합개시제 및 광중합개시조제의 조합으로서는, 디에톡시아세토페논/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 벤질디메틸케탈/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논의 조합 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐) 프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논의 조합이 바람직하다. As a combination of the photoinitiator and the photoinitiator in the coloring photosensitive resin composition of this invention, diethoxy acetophenone / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-methyl- 2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one / 4,4'- Bis (diethylamino) benzophenone, benzyldimethyl ketal / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl ] Propan-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2 Oligomer / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone of 2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- ( And combinations of 4-morpholinophenyl) butan-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone. Among them, a combination of 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propane-1-one / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is preferable.

이들 광중합개시조제를 사용하는 경우, 그 사용량은, 광중합개시제 1 mol당, 바람직하게는 10 mol 이하, 더욱 바람직하게는 0.01 mol 이상 5 mol 이하이다. When using these photoinitiators, the usage-amount is per mol of photoinitiators, Preferably it is 10 mol or less, More preferably, it is 0.01 mol or more and 5 mol or less.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 용매는, 알킬기의 탄소수가 1 내지 4인 디프로필렌글리콜모노알킬에테르 및 알킬기의 탄소수가 1 내지 4인 디프로필렌글리콜모노알킬에테르에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용매 (A)(이하「용매 (A)」라는 경우가 있다)를 함유한다. The solvent used for the coloring photosensitive resin composition of this invention is at least selected from the group which consists of a dipropylene glycol monoalkyl ether of C1-C4 of an alkyl group, and the dipropylene glycol monoalkyl ether ester of C1-C4 of an alkyl group. It contains 1 type of solvent (A) (Hereinafter, it may be called "solvent (A).").

여기서, 디프로필렌글리콜모노알킬에테르에스테르란, 디프로필렌글리콜의 하나의 수산기가 에테르결합을 형성하고, 또 하나의 수산기가 아실화되어 에스테르가 되어 있는 화합물을 말한다. Here, dipropylene glycol monoalkyl ether ester means the compound in which one hydroxyl group of dipropylene glycol forms an ether bond, and another hydroxyl group acylates and becomes ester.

알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, n 부틸기, t 부틸기, i 부틸기를 들 수 있다. 그 중에서도, 메틸기, 에틸기가 바람직하고, 메틸기가 더욱 바람직하다.As an alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, n butyl group, t butyl group, i butyl group is mentioned, for example. Especially, a methyl group and an ethyl group are preferable and a methyl group is more preferable.

구체적으로는, 알킬기의 탄소수가 1 내지 4인 디프로필렌글리콜모노알킬에테르로서는, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르를 들 수 있다. 바람직하게는 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르를 들 수 있고, 더욱 바람직하게는 디프로필렌글리콜모노메틸에테르를 들 수 있다. Specifically, as a C1-C4 dipropylene glycol monoalkyl ether of an alkyl group, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether is mentioned. have. Preferably, dipropylene glycol monomethyl ether and dipropylene glycol monoethyl ether are mentioned, More preferably, dipropylene glycol monomethyl ether is mentioned.

알킬기의 탄소수가 1 내지 4인 디프로필렌글리콜모노알킬에테르에스테르로서는, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 들 수 있다. Dipropylene glycol monomethyl ether acetate is mentioned as a C1-C4 dipropylene glycol monoalkyl ether ester of an alkyl group.

이들 중에서도, 용매 (A)는, 알킬기의 탄소수가 1 내지 4인 디프로필렌글리콜모노알킬에테르인 것이 바람직하고, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르인 것이 더욱 바람직하다. Among these, the solvent (A) is preferably a dipropylene glycol monoalkyl ether having 1 to 4 carbon atoms of an alkyl group, and more preferably dipropylene glycol monomethyl ether.

용매 (A)의 함유량은, 전체 용매량에 대하여, 5 질량% 이상 40 질량% 이하 이고, 10% 이상 40% 이하인 것이 바람직하며, 10% 이상 30% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이것에 의하여, 슬릿 코터의 슬릿부에서 착색 감광성 수지 조성물이 고화하여, 컬러 필터 상에 이물이 생기는 것을 방지할 수 있다. 또, 노광 전의 프리베이크시간을 단축화하여, 생산성을 향상시킬 수 있다. 또한, 경우에 따라서는 프리베이크 노(爐) 내에서 용매가 응축하고, 응축한 용매가 기판 상으로 낙하하여, 현상 후에 얻어진 기판 상에서 용매가 낙하한 부위에 얼룩의 발생을 초래하는 것으로 이어져, 수율을 저하시키는 경우가 있으나, 상기한 범위로 함으로써, 이것을 유효하게 방지할 수 있다. Content of solvent (A) is 5 mass% or more and 40 mass% or less with respect to the total amount of solvent, It is preferable that they are 10% or more and 40% or less, It is more preferable that they are 10% or more and 30% or less. Thereby, a coloring photosensitive resin composition solidifies in the slit part of a slit coater, and it can prevent that a foreign material arises on a color filter. Moreover, the prebaking time before exposure can be shortened and productivity can be improved. In some cases, the solvent condenses in the prebaking furnace, and the condensed solvent falls on the substrate, causing staining to occur at the site where the solvent has fallen on the substrate obtained after development, resulting in a yield. Although it may reduce, it can prevent this effectively by making it into the said range.

또한, 본 발명의 용매는, 다른 관점에서, 상기한 바와 같은 특정한 용매의 화학구조 등의 성질과 아울러, 적당한 비점(沸點)을 가지는 것이 바람직하다. 예를 들면, 비점의 범위는, 172℃ 정도 이상이 바람직하고, 180℃ 정도 이상이 더욱 바람직하며, 230℃ 정도 이하가 바람직하고, 220℃ 정도 이하가 더욱 바람직하다. 이와 같은 범위의 비점을 가지는 용매를 사용함으로써, 착색 감광성 수지조성물에 있어서, 다른 용매의 종류 및 양, 또한 다른 성분과의 조합에 의하여, 건조의 방지및 용제의 휘발의 밸런스를 도모할 수 있다. Moreover, it is preferable that the solvent of this invention has an appropriate boiling point in addition to the property, such as the chemical structure of a specific solvent as mentioned above from another viewpoint. For example, about 172 degreeC or more is preferable, about 180 degreeC or more is more preferable, about 230 degreeC or less is preferable, and, as for the range of a boiling point, about 220 degreeC or less is more preferable. By using a solvent having a boiling point in such a range, the coloring photosensitive resin composition can be prevented from drying and the volatilization of the solvent can be achieved by combination with other kinds and amounts of other solvents and other components.

또, 용매로서는, 상기한 용매 (A) 외에, 용매 (A)와는 다른 용매 (B)를 함유 한다. 용매 (B)로서는, 디프로필렌글리콜에테르류 및 디프로필렌글리콜에테르에스테르류를 제외하는 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류, 아미드류 등을 들 수 있다.Moreover, in addition to the solvent (A) mentioned above, the solvent contains a solvent (B) different from the solvent (A). Examples of the solvent (B) include ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters, amides and the like excluding dipropylene glycol ethers and dipropylene glycol ether esters.

상기한 에테르류로서는, 예를 들면, As said ether, for example,

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르와 같은 에틸렌글리콜모노알킬에테르류 ;Ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether;

디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르와 같은 디에틸렌글리콜모노알킬에테르류 ; Diethylene glycol monoalkyl ethers such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol monobutyl ether;

디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 및 디에틸렌글리콜디부틸에테르와 같은 디에틸렌글리콜디알킬에테르류 ; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether;

프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르와 같은 프로필렌글리콜모노알킬에테르류 ;Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monobutyl ether;

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜디메틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트와 같은 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류 ; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol dimethyl ether acetate, methoxy butyl acetate and methoxy pentyl acetate;

메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트와 같은 알킬에테르아세테이트류 ;Alkyl ether acetates such as methoxy butyl acetate and methoxy pentyl acetate;

메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트와 같은 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류 ; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate;

그외, 에틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 1,4-디옥산, 아니솔, 페네톨, 메틸아니솔 등을 들 수 있다.In addition, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, anisole, phentol, methyl anisole, etc. are mentioned.

상기한 방향족 탄화수소류로서는, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등을 들 수 있다. As said aromatic hydrocarbons, benzene, toluene, xylene, mesitylene, etc. are mentioned, for example.

상기한 케톤류로서는, 예를 들면 아세톤, 2-부탄온, 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 4-메틸-2-펜타논, 시클로펜타논, 시클로헥산온 등을 들 수 있다.Examples of the ketones include acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone, cyclohexanone, and the like. have.

상기한 알콜류로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린, 디아세톤알콜, 3-메틸-3-메톡시-1-부탄올 등을 들 수 있다.Examples of the alcohols include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, diacetone alcohol, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol, and the like.

상기한 에스테르류로서는, 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산아밀, 아세트산이소아밀, 아세트산이소부틸, 프로피온산부틸, 낙산이소프로필, 낙산에틸, 낙산부틸, 알킬에스테르류, 유산메틸, 유산에틸, 옥시아세트산메틸, 옥시아세트산에틸, 옥시아세트산부틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 필빈산메틸, 필빈산에틸, 필빈산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산메틸, 2-옥소부탄산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, γ-부틸로락톤 등을 들 수 있다.Examples of the esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoam acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl acetate, ethyl butyrate, butyl butyrate and alkyl esters. , Methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl acetate, ethoxyacetic acid, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, Ethyl 3-oxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, 2-oxypropionic acid In propyl, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, 2-ethoxypropionic acid , Methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, methyl fibrate, ethyl fibrate Propyl fibrate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutyrate, ethyl 2-oxobutyrate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, γ-butyrolactone Etc. can be mentioned.

특히, 에테르류의 용매가 바람직하고, 그 중에서도 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하고, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트가 더 바람직하다.In particular, solvents of ethers are preferable, and alkylene glycol alkyl ether acetates are preferred, and propylene glycol methyl ether acetate is more preferable.

상기한 아미드류로서는, 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드 등을 들 수 있다.As said amides, N, N- dimethylformamide, N, N- dimethylacetoamide, etc. are mentioned, for example.

그 밖의 용제로서는, 예를 들면 N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드 등을 들수 있다. As another solvent, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, etc. are mentioned, for example.

이들은, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다.These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

용매 (B)의 함유량은, 전체 용매량에 대하여, 60 질량% 이상 95 질량% 이하 이고, 60% 이상 90% 이하가 바람직하며, 70% 이상 90% 이하가 더욱 바람직하다. 이것에 의하여, 슬릿 코터의 슬릿부에서 착색 감광성 수지 조성물이 고화하여, 컬러 필터 상에 이물이 생기는 것을 방지할 수 있다. 또, 노광 전의 프리베이크시간을 단축화하여, 생산성을 향상시킬 수 있다. 또한, 경우에 따라서는 프리베이크 노 내에서 용매가 응축하고, 응축한 용매가 기판 상으로 낙하하여, 현상 후에 얻어 진 기판 상에서 용매가 낙하한 부위에 얼룩의 발생을 초래하는 것으로 연결되어, 수율을 저하시키는 경우가 있으나, 상기한 범위로 함으로써, 이것을 유효하게 방지할 수 있다.Content of a solvent (B) is 60 mass% or more and 95 mass% or less with respect to the total amount of solvent, 60% or more and 90% or less are preferable, and 70% or more and 90% or less are more preferable. Thereby, a coloring photosensitive resin composition solidifies in the slit part of a slit coater, and it can prevent that a foreign material arises on a color filter. Moreover, the prebaking time before exposure can be shortened and productivity can be improved. In some cases, the solvent condenses in the prebaking furnace, and the condensed solvent falls on the substrate, leading to the occurrence of spots on the site where the solvent has fallen on the substrate obtained after development, thereby improving the yield. Although it may reduce, by setting it as said range, this can be effectively prevented.

또한, 본 발명의 용매 (B)는, 다른 관점에서, 상기한 바와 같은 특정한 용매 (A)의 화학구조 등의 성질과 아울러, 적당한 비점을 가지는 것이 바람직하다. 예를 들면, 비점의 범위는, 171℃ 이하, 121℃ 이상인 것이 바람직하다. 이와 같은 범위의 비점을 가지는 용매를 사용함으로써, 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, 다른 용매의 종류 및 양, 또한 다른 성분과의 조합에 의하여, 건조의 방지 및 용제의 휘발의 밸런스를 도모할 수 있어, 수율을 향상시킴과 동시에, 현상 후의 면에 있어서의 얼룩의 발생이 억제되는 것을 확인하고 있다.Moreover, it is preferable that the solvent (B) of this invention has a suitable boiling point in addition to the property, such as chemical structure of specific solvent (A), as mentioned above from another viewpoint. For example, it is preferable that the ranges of a boiling point are 171 degreeC or less and 121 degreeC or more. By using the solvent which has a boiling point of such a range, in the coloring photosensitive resin composition, the balance of the prevention of drying and the volatilization of a solvent can be aimed at by the kind and quantity of another solvent, and the combination with another component, While improving the yield, it is confirmed that the occurrence of spots on the surface after development is suppressed.

용매 (A) 및 용매 (B)의 조합으로서, 바람직하게는 상기 용매 (A)와 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류[용매 (B)]와의 조합, 상기 용매 (A)와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트[용매 (B)]와의 조합, 1종류 이상의 탄소수 1 내지 4의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르류에서 선택되는 용매[용매 (A)]와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트[용매 (B)]와의 조합을 들 수 있다. As a combination of a solvent (A) and a solvent (B), Preferably, the combination of the said solvent (A) and alkylene glycol alkyl ether acetates [solvent (B)], the said solvent (A) and propylene glycol monomethyl ether acetate Combination with [Solvent (B)], a combination of a solvent [solvent (A)] and propylene glycol monomethyl ether acetate [solvent (B)] selected from one or more types of dipropylene glycol monoalkyl ethers having 1 to 4 carbon atoms Can be mentioned.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 계면활성제를 함유하고 있어도 된다. 상기한 계면활성제로서는, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 및 불소원자를 가지는 실리콘계 계면활성제를 들 수 있다. The coloring photosensitive resin composition of this invention may contain surfactant. As said surfactant, silicone type surfactant which has a silicone type surfactant, a fluorine type surfactant, and a fluorine atom is mentioned.

실리콘계 계면활성제로서는, 실록산결합을 가지는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 토오레 실리콘DC3PA, 토오레 실리콘SH7PA, 토오레 실리콘DC11PA, 토 오레 실리콘SH21PA, 토오레 실리콘SH28PA, 토오레 실리콘29SHPA, 토오레 실리콘SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일SH8400(토오레 실리콘(주)제), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신에츠 실리콘제), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(GE 도시바 실리콘(주)제) 등을 들 수 있다.As silicone type surfactant, surfactant which has a siloxane bond is mentioned. Specifically, Toray silicone DC3PA, Toray silicone SH7PA, Toray silicone DC11PA, Toray silicone SH21PA, Toray silicone SH28PA, Toray silicone 29SHPA, Toray silicone SH30PA, Polyether modified silicone oil SH8400 (Toray silicone ( KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (made by Shin-Etsu Silicone), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) 1) etc. can be mentioned.

불소계 계면활성제로서는, 플루오로카본쇄를 가지는 계면활성제를 들 수 있다. As a fluorine-type surfactant, surfactant which has a fluorocarbon chain | strand is mentioned.

구체적으로는, 플로리나트(상품명) FC430, 플로리나트 FC431(스미토모 쓰리엠(주)제), 메가팩(상품명) F142D, 메가팩 F171, 메가팩 F172, 메가팩 F173, 메가팩 F177, 메가팩 F183, 메가팩 R30(다이니혼잉크화학공업(주)제), 에프톱(상품명) EF301, 에프톱 EF303, 에프톱 EF351, 에프톱 EF352(신아키화성(주)제), 사프론(상품명) S381, 사프론 S382, 사프론 SC101, 사프론 SC105(아사히가라스(주)제), E5844((주)다이킨파인케미컬연구소제), BM-1000, BM-1100(모두 상품명 : BM Chemie 사제) 등을 들 수 있다. Specifically, Florinat FC430, Florinat FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Megapack (brand name) F142D, Megapack F171, Megapack F172, Megapack F173, Megapack F177, Megapack F183, Mega pack R30 (made by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.), F top (brand name) EF301, F top EF303, F top EF351, F top EF352 (manufactured by Shin-Aki Kasei Co., Ltd.), saffron (brand name) S381, Saffron S382, Saffron SC101, Saffron SC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Research Institute), BM-1000, BM-1100 (all manufactured by BM Chemie Corporation), etc. Can be mentioned.

불소원자를 가지는 실리콘계 계면활성제로서는, 실록산결합 및 플루오로카본쇄를 가지는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팩(상품명) R08, 메가팩 BL20, 메가팩 F475, 메가팩 F477, 메가팩 F 443(다이니혼잉크화학공업(주)제) 등을 들 수 있다. As silicone type surfactant which has a fluorine atom, surfactant which has a siloxane bond and a fluorocarbon chain | strand is mentioned. Specifically, mega pack (brand name) R08, mega pack BL20, mega pack F475, mega pack F477, mega pack F 443 (made by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), etc. are mentioned.

이들 계면활성제는, 단독으로 또는 2종류 이상을 조합시켜 사용할 수 있다.These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.

이들 계면활성제를 사용하는 경우 그 함유량은, 착색 감광성 수지 조성물에 대하여 질량분율로, 0.0005 질량% 이상 0.6 질량% 이하, 바람직하게는 0.001 질량% 이상 0.5 질량% 이하이다. 계면활성제의 함유량이 상기한 범위에 있으면, 얻어지는 도포막의 평탄성이 좋아지는 경향이 있다. When using these surfactant, the content is 0.0005 mass% or more and 0.6 mass% or less in mass fraction with respect to a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 0.001 mass% or more and 0.5 mass% or less. When content of surfactant exists in the said range, there exists a tendency for the flatness of the coating film obtained to improve.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 충전제, 바인더수지 이외의 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 응집방지제, 유기산, 유기아민화합물, 경화제 등의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The coloring photosensitive resin composition of this invention may contain additives, such as a high molecular compound other than a filler and binder resin, an adhesion promoter, antioxidant, an ultraviolet absorber, an aggregation agent, an organic acid, an organic amine compound, and a hardening | curing agent.

충전제로서는, 예를 들면, 유리, 알루미나 등의 미립자를 들 수 있다.As a filler, microparticles | fine-particles, such as glass and alumina, are mentioned, for example.

바인더수지 이외의 고분자 화합물로서는, 예를 들면 폴리비닐알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플로로알킬아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the polymer compound other than the binder resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, and the like.

밀착 촉진제로서는, 예를 들면 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the adhesion promoter include vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N. -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxymethyldimethoxysilane, 2- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimeth Oxysilane, etc. are mentioned.

산화방지제로서는, 예를 들면 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. As antioxidant, 4,4'- thiobis (6-t- butyl- 3-methyl phenol), 2, 6- di- t- butyl- 4-methyl phenol, etc. are mentioned, for example.

자외선 흡수제로서는, 예를 들면 2-(2-하이드록시-3-t-부틸-5-메틸페닐)-5- 클로로벤조트리아졸 등의 벤조트리아졸계, 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논 등의 벤조페논계, 2,4-디-t-부틸페닐-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤조에이트 등의 벤조에이트계, 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-헥실옥시페놀 등의 트리아진계 등을 들 수 있다.As a ultraviolet absorber, benzotriazole type, such as 2- (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2-hydroxy-4-octyloxybenzophenone, etc., for example Benzoate, such as benzophenone series, 2,4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (4,6-diphenyl-1, Triazines such as 3,5-triazin-2-yl) -5-hexyloxyphenol; and the like.

응집 방지제로서는, 예를 들면 폴리아크릴산나트륨 등을 들 수 있다. As an aggregation inhibitor, sodium polyacrylate etc. are mentioned, for example.

유기산으로서는, 예를 들면 포름산, 아세트산, 프로피온산, 낙산(酪酸), 길초산(吉草酸), 피발산, 카프론산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 지방족 모노카르본산류 ; As an organic acid, For example, aliphatic monocarboxylic acids, such as formic acid, an acetic acid, propionic acid, butyric acid, a citric acid, pivalic acid, capronic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid;

옥살산, 말론산, 호박산, 글루타르산, 아디핀산, 피메린산, 스베린산, 아젤라인산, 세바신산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸호박산, 테트라메틸호박산, 시클로헥산디카르본산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레인산, 푸마르산, 메사콘산 등의 지방족 디카르본산류 ;Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimeric acid, sublinic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methyl amber acid, tetramethyl amber acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid and mesaconic acid;

트리카르발릴산, 아코니트산, 캄포론산 등의 지방족 트리카르본산류 ;Aliphatic tricarboxylic acids such as tricarvalic acid, aconitic acid and camphoronic acid;

벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카르본산류 ; Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemelic acid and mesitylene acid;

프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카르본산류 ;Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid;

트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산 등의 방향족 폴리카르본산류 등을 들 수 있다.Aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, melanoic acid and pyromellitic acid.

유기아민화합물로서는, 예를 들면, n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민 등의 모노알킬아민류 ; As an organic amine compound, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n, for example Monoalkylamines such as -heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine and n-dodecylamine;

시클로헥실아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸시클로헥실아민, 4-메틸시클로헥실아민 등의 모노시클로알킬아민류 ;Monocycloalkylamines such as cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, and 4-methylcyclohexylamine;

메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸n-프로필아민, 에틸n-프로필아민, 디n-프로필아민, 디i-프로필아민, 디n-부틸아민, 디i-부틸아민, 디sec-부틸아민, 디t-부틸 아민, 디n-펜틸아민, 디n-헥실아민 등의 디알킬아민류 ; Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, din-propylamine, dii-propylamine, din-butylamine, dii-butylamine, disec-butylamine, Dialkyl amines such as dit-butyl amine, din-pentylamine and din-hexylamine;

메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민 등의 모노알킬모노시클로알킬아민류 ;Monoalkyl monocycloalkylamines such as methylcyclohexylamine and ethylcyclohexylamine;

디시클로헥실아민 등의 디시클로알킬아민류 ; Dicycloalkylamines such as dicyclohexylamine;

디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸n-프로필아민, 디에틸n-프로필아민, 메틸디n-프로필아민, 에틸디n-프로필아민, 트리n-프로필아민, 트리i-프로필아민, 트리n-부틸아민, 트리i-부틸아민, 트리sec-부틸아민, 트리t-부틸아민, 트리n-펜틸아민, 트리n-헥실아민 등의 트리알킬아민류 ; Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyldin-propylamine, ethyldin-propylamine, trin-propylamine, trii-propyl Trialkylamines such as amine, trin-butylamine, trii-butylamine, trisec-butylamine, trit-butylamine, trin-pentylamine and trin-hexylamine;

디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민 등의 디알킬모노시클로알킬아민류 ; Dialkyl monocycloalkylamines such as dimethylcyclohexylamine and diethylcyclohexylamine;

메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민, 트리시클로헥실아민 등의 모노알킬디시클로알킬아민류 ;Monoalkyldicycloalkylamines such as methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine and tricyclohexylamine;

2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올 등의 모노알칸올아민류 ; Monoalkanes such as 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol Olamines;

4-아미노-1-시클로헥산올 등의 모노시클로알칸올아민류 ;Monocycloalkanolamines such as 4-amino-1-cyclohexanol;

디에탄올아민, 디n-프로판올아민, 디i-프로판올아민, 디n-부탄올아민, 디i-부탄올아민, 디n-펜탄올아민, 디n-헥산올아민 등의 디알칸올아민류 ;Dialkanolamines such as diethanolamine, din-propanolamine, dii-propanolamine, din-butanolamine, dii-butanolamine, din-pentanolamine, and din-hexanolamine;

디(4-시클로헥산올)아민 등의 디시클로알칸올아민류 ;Dicycloalkanolamines such as di (4-cyclohexanol) amine;

트리에탄올아민, 트리n-프로판올아민, 트리i-프로판올아민, 트리n-부탄올아민, 트리i-부탄올아민, 트리n-펜탄올아민, 트리n-헥산올아민 등의 트리알칸올아민류 ;Trialkanolamines such as triethanolamine, trin-propanolamine, trii-propanolamine, trin-butanolamine, trii-butanolamine, trin-pentanolamine, and trin-hexanolamine;

트리(4-시클로헥산올)아민 등의 트리시클로알칸올아민류 ;Tricycloalkanolamines such as tri (4-cyclohexanol) amine;

3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등의 아미노알칸디올류 ; 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 3-dimethylamino-1,2 Aminoalkanediols such as propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol and 2-diethylamino-1,3-propanediol;

4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올 등의 아미노 시클로알칸디올류 ; Amino cycloalkanediols such as 4-amino-1,2-cyclohexanediol and 4-amino-1,3-cyclohexanediol;

1-아미노 시클로펜타논메탄올, 4-아미노시클로펜타논메탄올 등의 아미노기 함유 시클로알칸올메탄올류 ; Amino group-containing cycloalkanol methanols such as 1-amino cyclopentanone methanol and 4-aminocyclopentanone methanol;

1-아미노시클로헥산온메탄올, 4-아미노시클로헥산온메탄올, 4-디메틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노시클로헥산메탄올 등의 아미노기 함유 시클로알칸메탄올류 ;1-aminocyclohexanonemethanol, 4-aminocyclohexanonemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanmethanol, 4-diethylaminocyclopentanmethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, 4-diethylaminocyclohexanemethanol Amino group-containing cycloalkanethanols;

β-알라닌, 2-아미노낙산, 3-아미노낙산, 4-아미노낙산, 2-아미노이소아세트 산, 3-아미노이소아세트산, 2-아미노길초산, 5-아미노길초산, 6-아미노카프론산, 1-아미노시클로프로판카르본산, 1-아미노시클로헥산카르본산, 4-아미노시클로헥산카르본산 등의 아미노카르본산류 ; β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisoacetic acid, 3-aminoisoacetic acid, 2-aminogilic acid, 5-aminogilic acid, 6-aminocaproic acid, Aminocarboxylic acids such as 1-aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid;

아닐린, o-메틸아닐린, m-메틸아닐린, p-메틸아닐린, p-에틸아닐린, p-n-프로필아닐린, p-i-프로필아닐린, p-n-부틸아닐린, p-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, p-메틸-N,N-디메틸아닐린 등의 방향족 아민류 ; Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propylaniline, pi-propylaniline, pn-butylaniline, pt-butylaniline, 1-naphthylamine, 2- Aromatic amines such as naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline and p-methyl-N, N-dimethylaniline;

o-아미노벤질알콜, m-아미노벤질알콜, p-아미노벤질알콜, p-디메틸아미노벤질알콜, p-디에틸아미노벤질알콜 등의 아미노벤질알콜류 ;aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol and p-diethylaminobenzyl alcohol;

o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀, p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등의 아미노페놀류 ; aminophenols such as o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol and p-diethylaminophenol;

m-아미노벤조산, p-아미노벤조산, p-디메틸아미노벤조산, p-디에틸아미노벤조산 등의 아미노벤조산류 등을 들 수 있다.and aminobenzoic acids such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid and p-diethylaminobenzoic acid.

경화제로서는, 예를 들면 가열됨으로써 바인더 폴리머 중의 카르복실기와 반응하여 바인더 폴리머를 가교할 수 있는 화합물을 들 수 있다. 또, 그것 단독으로 중합하여 착색 패턴을 경화시킬 수 있는 화합물도 들 수 있다. 상기 화합물로서는, 예를 들면 에폭시화합물, 옥세탄화합물 등을 들 수 있다. As a hardening | curing agent, the compound which can crosslink a binder polymer by reacting with the carboxyl group in a binder polymer by heating, for example is mentioned. Moreover, the compound which can superpose | polymerize independently and harden a coloring pattern is mentioned. As said compound, an epoxy compound, an oxetane compound, etc. are mentioned, for example.

에폭시화합물로서는, 예를 들면, 비스페놀 A계 에폭시수지, 수소화비스페놀 A계 에폭시수지, 비스페놀 F계 에폭시수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시수지, 노보락형 에폭시수지, 다른 방향족계 에폭시수지, 지환족계 에폭시수지, 복소환식 에폭 시수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 에폭시화 오일 등의 에폭시수지나, 이들 에폭시수지의 브롬화 유도체, 에폭시수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족의 에폭시화합물, 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화물, 아이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레이트의(공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다. Examples of the epoxy compound include bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, novolak epoxy resins, other aromatic epoxy resins, cycloaliphatic epoxy resins, Epoxy resins such as heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, epoxidized oils, and aliphatic, alicyclic or aromatic groups other than brominated derivatives, epoxy resins and brominated derivatives of these epoxy resins. Epoxide compounds, epoxides of (co) polymers of butadiene, epoxides of (co) polymers of isoprene, (co) polymers of glycidyl (meth) acrylate, triglycidyl isocyanurate, and the like. have.

옥세탄화합물로서는, 예를 들면 카보네이트비스옥세탄, 크실리렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르본산비스옥세탄 등을 들 수 있다.Examples of the oxetane compound include carbonate bis oxetane, xylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane, and cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane.

본 발명의 착색 감광성 조성물은, 경화제로서 에폭시화합물, 옥세탄화합물 등을 함유하는 경우에는, 에폭시화합물의 에폭시기, 옥세탄화합물의 옥세탄 골격을 개환(開環) 중합시킬 수 있는 화합물을 함유하고 있어도 된다. 상기한 화합물로서는, 예를 들면, 다가 카르본산류, 다가 카르본산무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다. When the coloring photosensitive composition of this invention contains an epoxy compound, an oxetane compound, etc. as a hardening | curing agent, even if it contains the compound which can ring-open-polymerize the epoxy group of an epoxy compound, the oxetane skeleton of an oxetane compound, do. As said compound, polyhydric carboxylic acid, polyhydric carboxylic anhydride, an acid generator, etc. are mentioned, for example.

다가 카르본산류로서는, 예를 들면 프탈산, 3,4-디메틸프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르본산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 등의 방향족 다가 카르본산류 ;Examples of the polycarboxylic acids include phthalic acid, 3,4-dimethylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, 3,3 ', 4 Aromatic polyhydric carboxylic acids such as, 4'-benzophenone tetracarboxylic acid;

호박산, 글루타르산, 아디핀산, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산, 말레인산, 푸마르산, 이타콘산 등의 지방족 다가 카르본산류 ; Aliphatic polyvalent carboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid;

헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로이소프탈산, 헥사하이드로테레프탈산, 1,2,4-시클로펜탄트리카르본산, 1,2,4-시클로헥산 트리카르본산, 시클로펜탄테트라카르본산, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 등의 지환족 다가 카르본산류 등을 들 수 있다. Hexahydrophthalic acid, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid, 1,2,4-cyclohexane tricarboxylic acid, cyclopentanetetracar Alicyclic polyhydric carboxylic acids, such as this acid and 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic acid, etc. are mentioned.

다가 카르본산 무수물류로서는, 예를 들면, 무수프탈산, 무수피로멜리트산, 무수트리멜리트산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물 등의 방향족 다가 카르본산 무수물류 ;As polyhydric carboxylic anhydride, For example, Aromatic polyhydric carboxylic anhydrides, such as a phthalic anhydride, a pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride;

무수이타콘산, 무수호박산, 무수시트라콘산, 무수도데세닐호박산, 무수트리카르발릴산, 무수말레인산, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2무수물 등의 지방족 다가 카르본산 무수물류 ; Aliphatic polyhydric carboxylic anhydrides such as itaconic anhydride, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodechenyl anhydride, tricarvallylic acid, maleic anhydride, and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;

무수헥사하이드로프탈산, 3,4-디메틸테트라하이드로프탈산무수물, 1,2,4-시클로펜탄트리카르본산무수물, 1,2,4-시클로헥산트리카르본산무수물, 시클로펜탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2무수물, 무수하이믹산, 무수나딘산 등의 지환족 다가 카르본산 무수물류 ; Hexahydrophthalic anhydride, 3,4-dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4-cyclopentanetricarboxylic acid anhydride, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, 1 Alicyclic polyhydric carboxylic acid anhydrides such as 2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, hymic acid anhydride and nadic anhydride;

에틸렌글리콜비스트리멜리테이트산, 글리세린트리스트리멜리테이트무수물 등의 에스테르기함유 카르본산 무수물류 등을 들 수 있다. And ester group-containing carboxylic acid anhydrides such as ethylene glycol bistrimellitate acid and glycerin tristrimellitate anhydride.

카르본산 무수물류로서, 에폭시수지 경화제로서 시판되고 있는 것을 사용하여도 된다. 상기한 에폭시수지 경화제로서는, 예를 들면 상품명「아데카하드너 EH-700」(아사히덴카공업(주)제), 상품명「리카싯드 HH」(신니혼리카(주)제), 상품명「MH-700」(신니혼리카(주)제) 등을 들 수 있다. As carboxylic anhydrides, those commercially available as epoxy resin curing agents may be used. As said epoxy resin hardening | curing agent, for example, brand name "adekahardner EH-700" (made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), brand name "Licashid HH" (made by Shin-Nihon Rika Co., Ltd.), brand name "MH- 700 "(made by Shin-Nihon Rika Co., Ltd.), etc. are mentioned.

상기한 경화제는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다.Said hardening | curing agent can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 패턴을 형성하는 방법으로서 는, 구체적으로는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을, 기판 또는 기판 위에 먼저 형성한 고체의 착색 감광성 수지 조성물층(이하, 이것을 기판 등이라 하는 경우가 있다.)의 위에 도포하고, 도포된 착색 감광성 수지 조성물층으로부터 용제 등 휘발성분을 제거하고, 포토마스크를 거쳐 휘발성분이 제거된 층을 노광한 후, 현상하는 방법을 들 수 있다. Specifically as a method of forming a pattern using the colored photosensitive resin composition of this invention, the solid colored photosensitive resin composition layer (henceforth a board | substrate etc.) which formed the coloring photosensitive resin composition of this invention on a board | substrate or a board | substrate is mentioned specifically, And a volatile component such as a solvent is removed from the applied colored photosensitive resin composition layer and exposed to a layer from which the volatile component has been removed via a photomask, followed by development.

기판으로서는, 예를 들면 유리기판, 실리콘 기판, 폴리카보네이트기판, 폴리에스테르기판, 방향족 폴리아미드기판, 폴리아미드이미드기판, 폴리이미드기판, Al 기판, GaAs 기판 등의 표면이 평탄한 기판을 들 수 있다. 이들 기판은, 실란커플링제 등의 약품에 의한 약품처리, 플라즈마처리, 이온플레이팅처리, 스퍼터링처리, 기상반응처리, 진공증착처리 등의 전처리가 실시되고 있어도 된다. 기판으로서 실리콘 기판 등을 사용하는 경우, 상기 실리콘 기판 등의 표면에는 전하 결합 소자(CCD), 박막 트랜지스터(TFT) 등이 형성되어 있어도 된다.Examples of the substrate include flat substrates such as glass substrates, silicon substrates, polycarbonate substrates, polyester substrates, aromatic polyamide substrates, polyamideimide substrates, polyimide substrates, Al substrates, and GaAs substrates. These substrates may be subjected to pretreatment such as chemical treatment with a chemical such as a silane coupling agent, plasma treatment, ion plating treatment, sputtering treatment, vapor phase reaction treatment, vacuum deposition treatment, or the like. When a silicon substrate or the like is used as the substrate, a charge coupling element (CCD), a thin film transistor (TFT), or the like may be formed on the surface of the silicon substrate or the like.

상기한 기판의 위에 착색 감광성 수지 조성물을 도포하기 위해서는, 스핀 코터나 액절약 코터, 그 중에서도 슬릿 코터를 사용하여, 기판 등의 위에 도포하고, 이어서 용매 등의 휘발성분을 가열에 의해 휘발시키면 된다. 이와 같이 하여, 기판 등의 위에 착색 감광성 수지 조성물의 고형분으로 이루어지는 층이 평탄성 좋게 형성된다. 이와 같이 하여 얻어진 도포막에, 원하는 화상을 형성하기 위한 마스크를 거쳐 자외선을 조사한다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 행하여지도록, 마스크 얼라이너나 스텝퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 이후, 경화가 종료한 도포막을 알칼리수용액에 접촉시켜 비노광부를 용해시키고, 현상함으로써, 목적으로 하는 화상이 얻어진다. 현상 후, 필요에 따라, 150 내지 230℃에서 10 내지 60분 정도의 포스트 베이크를 실시할 수도 있다.In order to apply | coat a coloring photosensitive resin composition on the said board | substrate, it apply | coats on a board | substrate etc. using a spin coater, a liquid saving coater, especially a slit coater, and then volatile matters, such as a solvent, may be volatilized by heating. In this way, the layer which consists of solid content of a coloring photosensitive resin composition on a board | substrate etc. is formed flat. Thus, the coating film obtained is irradiated with an ultraviolet-ray through the mask for forming a desired image. At this time, it is preferable to use apparatuses, such as a mask aligner and a stepper, so that the parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure part, and the exact alignment of a mask and a board | substrate may be performed. Moreover, the target image is obtained by then contacting the aqueous alkali solution with the aqueous alkali solution, dissolving and developing the non-exposed portion. After image development, you may perform a post-baking about 10 to 60 minutes at 150-230 degreeC as needed.

패터닝 노광 후의 현상에 사용하는 현상액은, 통상 알칼리성 화합물과 계면활성제를 함유하는 수용액이다.The developing solution used for image development after patterning exposure is the aqueous solution containing an alkaline compound and surfactant normally.

상기한 알카리성화합물은, 무기 및 유기의 알칼리성 화합물의 어느 것이어도 된다.The alkaline compound described above may be either an inorganic or organic alkaline compound.

상기한 무기알카리성 화합물의 구체예로서는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산2수소 칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. Specific examples of the inorganic alkaline compounds described above include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen phosphate, sodium hydrogen diphosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate and potassium carbonate. And sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like.

상기한 유기알카리성 화합물의 구체예로서는, 테트라메틸암모늄하이드록시드, 2-하이드록시에틸트리메틸암모늄하이드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic alkaline compound described above include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, mono Isopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, etc. are mentioned.

이들 무기 및 유기알칼리성 화합물은, 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합시켜 사용할 수 있다. These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

알칼리 현상액 중의 알카리성 화합물의 바람직한 농도는, 0.01 내지 10 질량% 이고, 더욱 바람직하게는 0.03 내지 5 질량% 이다. Preferable concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.03 to 5% by mass.

또, 알칼리 현상액 중의 계면활성제는, 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면활성제의 어느 것이어도 된다.Moreover, any of nonionic surfactant, anionic surfactant, or cationic surfactant may be sufficient as surfactant in alkaline developing solution.

상기한 비이온계 계면활성제의 구체예로서는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌블록코폴리머, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. Specific examples of the above nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, and sorbitan fatty acid esters. , Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like.

상기한 음이온계 계면활성제의 구체예로서는, 라우릴알콜황산에스테르나트륨이나 올레일알콜황산에스테르나트륨과 같은 고급 알콜황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄과 같은 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨과 같은 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다. Specific examples of the aforementioned anionic surfactants include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfate salts such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, and sodium dodecylbenzenesulfonate And alkyl aryl sulfonates such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate.

상기한 양이온계 계면활성제의 구체예로서는, 스테알릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드와 같은 아민염 또는 제4급 암모늄염 등을 들 수 있다.As an example of said cationic surfactant, amine salt, quaternary ammonium salt, etc., such as stearyl amine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, etc. are mentioned.

이들 계면활성제는, 각각 단독으로 사용할 수도, 또 2종 이상 조합시켜 사용할 수도 있다.These surfactants may be used alone, or may be used in combination of two or more thereof.

알칼리 현상액 중의 계면활성제의 농도는, 질량 기준으로, 통상 0.01 내지 10 질량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 질량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량% 이다.The concentration of the surfactant in the alkaline developer is usually 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 8% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass.

이상과 같은 착색 감광성 수지 조성물의 도포, 건조, 얻어지는 건조 도포막에의 패터닝 노광, 그리고 현상이라는 각 조작을 거쳐, 착색 감광성 수지 조성물 중의 착색재료의 색에 상당하는 화소가 얻어지고, 또한 이들 조작을 컬러 필터에 필요하게 되는 색의 수만큼 반복함으로써, 컬러 필터가 얻어진다. 또한, 컬러 필터의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 사용한 착색제의 종류 및 양, 사용한 바인더수지, 용매 등의 종류 및 양 등에 의하여, 적절하게 조정할 수 있다.The pixel corresponding to the color of the coloring material in a colored photosensitive resin composition is obtained through each operation of application | coating, drying of the above-mentioned colored photosensitive resin composition, and patterning exposure to the dry coating film obtained, and image development, and these operations By repeating as many times as the number of colors required for a color filter, a color filter is obtained. In addition, the thickness of a color filter is not specifically limited, According to the kind and quantity of the used coloring agent, the kind and quantity of the used binder resin, a solvent, etc., it can adjust suitably.

본 발명에 의하면, 착색 감광성 수지 조성물이 슬릿 주변에서 고화하기 어렵고, 일부 고화하여도, 착색 감광성 수지 조성물 중의 용매에 의하여 재용해하기 쉽기때문에, 컬러 필터 상에서의 이물의 생성을 억제할 수 있다. 또, 슬릿 세정의 빈도를 적게 하거나 또는 프리 베이크 공정의 생산성을 확보함으로써, 생산성을 향상시킬 수 있다. According to the present invention, the colored photosensitive resin composition is hardly solidified around the slit, and even if partially solidified, the colored photosensitive resin composition is easily re-dissolved by the solvent in the colored photosensitive resin composition, so that generation of foreign matter on the color filter can be suppressed. Moreover, productivity can be improved by reducing the frequency of slit cleaning or ensuring productivity of a prebaking process.

(실시예) (Example)

이하, 실시예에 의하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하나, 본 발명은 이들 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 예 중에서, 함유량 내지 사용량을 나타내는 % 및 부(部)는, 특별히 양해가 없는 한 질량 기준이다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In the examples,% and parts indicating content to amount of use are based on mass unless otherwise specified.

<바인더 수지의 합성> <Synthesis of Binder Resin>

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 가스 도입관을 구비한 1 L의 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 150 g을 도입하였다. 그 후, 질소가스를, 가스 도입관을 통하여 플라스크 내로 도입시켜, 플라스크 내 분위기를 질소가스로 치환한다. 계속해서, 플라스크 내의 용액을 100℃로 승온시키고, 벤질메타크릴레이트 130.4 g(0.74 mol), 메타크릴산 31.0 g(0.26 mol), 아조비스이소부틸로니트릴 2.6 g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 163 g으로 이루어지 는 혼합물을, 적하 로트를 이용하여 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하였다. 적하 완료 후, 다시 100℃에서 5시간 교반을 계속하였다. 고형분 34 질량%, 산가(酸價) 100 mgKOH/g의 수지를 얻었다. 150 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was introduced into a 1 L flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping lot, and a gas introduction tube. Thereafter, nitrogen gas is introduced into the flask through a gas introduction pipe, and the atmosphere in the flask is replaced with nitrogen gas. Subsequently, the solution in the flask was heated to 100 ° C., benzyl methacrylate 130.4 g (0.74 mol), methacrylic acid 31.0 g (0.26 mol), azobisisobutylonitrile 2.6 g and propylene glycol monomethyl ether acetate 163 The mixture consisting of g was added dropwise to the flask over 2 hours using the dropping lot. After completion of the dropwise addition, stirring was continued at 100 ° C for 5 hours. Solid content 34 mass% and the acid value 100 mgKOH / g resin were obtained.

여기서, 산가는, 카르본산 등의 산기(酸基)를 가지는 중합체 1 g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 통상, 종래 농도의 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정(適定)함으로써 구해진다. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of a polymer having an acid group such as carboxylic acid, and is usually titrated using an aqueous solution of potassium hydroxide at a conventional concentration. It is calculated | required by setting.

얻어진 바인더수지의, 하기 조건의 GPC법에 의하여 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 25,000 이었다. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by the GPC method of the following conditions of the obtained binder resin was 25,000.

장치 ; HLC-8120 GPC(도소(주)제)Device ; HLC-8120 GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

컬럼 ; TSK- GEL G2000HXLcolumn ; TSK- GEL G2000HXL

컬럼온도 ; 40℃Column temperature; 40 ℃

용매 ; THF Solvent; THF

유속 ; 1.0 mL/min Flow rate; 1.0 mL / min

피검액 고형분 농도 ; 0.001 내지 0.01 질량% Test liquid solids concentration; 0.001 to 0.01 mass%

주입량 ; 50μL Injection volume; 50 μL

검출기 ; RI Detector; RI

교정용 표준물질 ; TSK STANDARD POLYASTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소(주)제)Calibration standard; TSK STANDARD POLYASTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (made by Tosoh Corporation)

<실시예 1><Example 1>

상기한 바와 같이 하여 얻어진 바인더 수지(메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체) 14.6부, 광중합성 화합물(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트) 3.3부, 광중합개시제(이르카큐어-907) 0.5부, 광중합개시조제(2,4-디에틸티옥산톤) 0.5부와 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부 및 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 35.4부를 혼합하였다. 또한, 착색제(C.I. 피그먼트 레드 254) 10.2부와 분산제(아지스파 PB821 ; 산가 17 mg(KOH)/g ; 아지노모또파인테크노(주)제) 3부와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 63부를 미리 혼합 분산한 것을 가하고, 교반하여 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다.14.6 parts of binder resin (methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer) obtained by making it above, 3.3 parts of photopolymerizable compounds (dipentaerythritol hexaacrylate), 0.5 part of photoinitiators (ircacure-907), photopolymerization 0.5 part of the initiator (2,4-diethyl thioxanthone), 10 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, and 35.4 parts of dipropylene glycol monomethyl ether were mixed as a solvent. In addition, 10.2 parts of a coloring agent (CI pigment red 254), a dispersing agent (Azispa PB821; acid value 17 mg (KOH) / g; 3 parts of Ajinomoto Pinetechno Co., Ltd.), and 63 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate beforehand The thing which mixed-dispersed was added and stirred, and the coloring photosensitive resin composition was obtained.

다음에, 유리기판(#1737 ; 코닝저팬(주)제) 위에 크롬막이 격자형상으로 패터닝된 것을, 중성세제, 물 및 알콜로 차례로 세정하고 나서 건조하였다.Next, the chromium film patterned on the glass substrate (# 1737 (manufactured by Corning Japan Co., Ltd.) in a lattice shape) was washed with a neutral detergent, water, and alcohol in that order and dried.

이 유리기판 상에, 얻어진 착색 감광성 수지 조성물을, 포스트 베이크 후의 색도 x = O.655(CIE1931 표색계)가 되도록 슬릿 노즐을 구비한 코터로 도포하고, 감압 건조장치로, 1 torr, 70℃, 60초간 유지하여 용매를 증류 제거하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 기판과 스트라이프 패턴을 가지는 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 150 ㎛로 하고, 초고압 수은램프를 사용하여 대기분위기하, 1OO mJ/㎠의 노광량(365 nm 기준)으로 광조사하였다.On this glass substrate, the obtained colored photosensitive resin composition was apply | coated with the coater provided with the slit nozzle so that it might become chromaticity x = O.655 (CIE1931 colorimetric system) after post-baking, and it is 1 torr, 70 degreeC, 60 in a pressure reduction drying apparatus. Hold for a second to distill off the solvent. After cooling, the distance between the substrate coated with the colored photosensitive resin composition and a quartz glass photomask having a stripe pattern was set to 150 µm, and an exposure amount of 100 mJ / cm 2 under an atmospheric atmosphere using an ultrahigh pressure mercury lamp (365 nm standard). ) Was irradiated with light.

그 후, 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.06%를 함유하는 수용액 인 현상액을 23℃에서 80초간, 상기한 도포막에 샤워노즐을 통하여 분사함으로써, 현상을 행하였다. 수세 후, 220℃에서 20분간 포스트 베이크를 행하여 패턴을 형성하였다.Then, image development was performed by spraying the developing solution which is the aqueous solution containing 0.12% of nonionic surfactant and 0.06% of potassium hydroxide at 23 degreeC for 80 second through the shower nozzle. After washing with water, post-baking was performed at 220 ° C. for 20 minutes to form a pattern.

<평가> <Evaluation>

얻어진 패턴 기판에 대하여, 나트륨램프 하에서 얼룩의 관찰을 행하였다. 사용한 감압 건조장치에는 기판을 지지하는 핀이 일정한 위치에 배치되어 있으나, 이 핀의 위치에 대응한 기판 상의 위치에 얼룩을 확인할 수 있는 경우, 상기 기판은 핀 얼룩에 의한 불량이라고 판단된다. 이와 같은 핀 얼룩이, 투입한 기판의 30%를 넘는 매수 관찰된 경우, 표 1의 핀 얼룩란에 ×로 기재하였다. 30% 이하의 경우 ○으로 기재하였다.On the obtained patterned substrate, staining was observed under a sodium lamp. Although the pin which supports a board | substrate is arrange | positioned in a fixed position in the used pressure reduction drying apparatus, when a spot can be confirmed in the position on the board | substrate corresponding to the position of this pin, it is judged that the said board | substrate is a defect by pin spot. When more than 30% of such pin spots were observed, the pin spots in Table 1 were described as x. In the case of 30% or less, it described as (circle).

또, 핀의 위치에 대응하지 않는 부분에서 얼룩이 관찰된 경우, 그 부분을 광학현미경으로 관찰하여, 착색 감광성 수지 조성물과 동일한 색, 즉, 적색의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 경우이면 적색의 이물을 확인한 경우, 이물에 의한 불량 기판으로서 기판 매수를 기록하였다. In addition, when a stain was observed in the part which does not correspond to the position of a pin, the part was observed with the optical microscope, and the red foreign material was confirmed when the same color as the colored photosensitive resin composition, ie, the red colored photosensitive resin composition, was used. In this case, the number of substrates was recorded as a defective substrate due to foreign matter.

투입한 기판의 총수와, 이물에 의한 불량 기판의 누계와의 차가, 투입한 기판의 총수의 95% 이상인 경우, 표 1의 수율란에 ○으로 기재하였다. 95% 미만인 경우, ×로 기재하였다. When the difference between the total number of the board | substrates thrown in and the cumulative total of the defective board | substrate by a foreign material is 95% or more of the total number of the board | substrates put, it described in the yield column of Table 1 as (circle). When less than 95%, it described by x.

<실시예 2∼7, 비교예 1∼5> <Examples 2-7, Comparative Examples 1-5>

실시예 1에 기재된 용매를 표 1의 것으로 변경하고, 착색 감광성 수지 조성물을 마찬가지로 제작하여, 도포, 노광, 현상하여 패턴 기판을 얻었다.The solvent of Example 1 was changed to the thing of Table 1, the coloring photosensitive resin composition was similarly produced, apply | coated, exposed, and developed, and the pattern substrate was obtained.

상기한 평가 결과를 표 1에 기재하였다.The above evaluation results are shown in Table 1.

Figure 112009022646801-PAT00001
Figure 112009022646801-PAT00001

용매명 옆의 숫자는, 용매 전체에 대한 각 용매의 질량분율을 나타낸다.The number next to a solvent name shows the mass fraction of each solvent with respect to the whole solvent.

PGMEA ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(비점 146℃) PGMEA; Propylene glycol monomethyl ether acetate (boiling point 146 degrees Celsius)

PGME ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르(비점 l21℃)PGME; Propylene glycol monomethyl ether (boiling point l21 degrees Celsius)

EEP ; 에톡시에틸프로피오네이트(비점 165℃)EEP; Ethoxyethyl propionate (boiling point of 165 ° C)

MFDG ; 디프로필렌글리콜모노메틸에테르(비점 190℃)MFDG; Dipropylene glycol monomethyl ether (boiling point 190 degrees Celsius)

MBA ; 메톡시부틸아세테이트(비점 171℃)MBA; Methoxybutyl acetate (boiling point 171 ° C)

CHN ; 시클로헥산온(비점 156℃)CHN; Cyclohexanone (boiling point 156 degrees Celsius)

표 1에 의하면, 본 실시예에서는, 어느 것이나 수율은 양호하고, 핀 얼룩도 거의 관찰되지 않았다. According to Table 1, in this Example, the yield was good in all of them, and pin unevenness was hardly observed.

녹색(green) 화소의 작성 Creation of Green Pixels

실시예 1에 기재된 착색제를 C. I. 피그먼트 그린 36(7.1부)과 C. I. 피그먼트 옐로우 150(3.1부)로 변경한 이외는 동일하게 하여 녹색 착색 감광성 조성물을 제작하고, 상기한 적색 화소를 작성한 기판 상에 마찬가지로 도포, 노광, 현상, 포스트 베이크를 행하여, 녹색 화소를 작성하였다. 단, 녹색의 포스트 베이크 후의 색도 y = 0.590(CIE1931 표색계)이 되도록 도포를 행하였다.A green-colored photosensitive composition was prepared in the same manner except that the colorant described in Example 1 was changed to CI Pigment Green 36 (7.1 parts) and CI Pigment Yellow 150 (3.1 parts), and the above-described red pixel was prepared on a substrate. Similarly, application | coating, exposure, image development, and post-baking were performed, and the green pixel was created. However, application | coating was performed so that it might become chromaticity y = 0.590 (CIE1931 colorimetric system) after green post-baking.

청색(Blue) 화소의 작성 Creating Blue Pixels

실시예 1에 기재된 착색제를 C. I. 피그먼트 블루 15 : 6(7부)과 C. I. 피그먼트 바이올렛 23(0.5부)으로 변경한 이외는 동일하게 하여 청색 착색 감광성 조성물을 제작하고, 녹색 화소를 작성한 기판 상에 마찬가지로 도포, 노광, 현상, 포스트 베이크를 행하고, 청색 화소를 작성하여, RGB의 패턴을 구비하는 컬러 필터를 작성하였다. 단, 청색의 포스트 베이크 후의 색도 y = 0.100(CIE1931 표색계)이 되도록 도포를 행하였다.A blue-colored photosensitive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the colorant was changed to CI Pigment Blue 15: 6 (7 parts) and CI Pigment Violet 23 (0.5 parts). In the same manner, coating, exposure, development, and post-baking were performed, blue pixels were created, and a color filter having an RGB pattern was created. However, application | coating was performed so that it might become chromaticity y = 0.100 (CIE1931 colorimetric system) after blue post-baking.

실시예 8 블랙 매트릭스의 제작Example 8 Preparation of Black Matrix

[바인더 수지의 조제][Preparation of Binder Resin]

용량 300 mL의 4구 플라스크 중에, 비스페놀플루오렌디글리시딜에테르 46.3 g과, 이타콘산 8.7 g, 트리에틸벤질암모늄클로라이드 0.09 g, 테트라에틸암모늄브로마이드 0.18 g, 메트퀴논 0.02 g과, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 55 g을 준비하여, 가열 교반 하, 120℃에서 4시간 반응시켜, 투명한 담황색의 점조액체(粘調液體)를 얻었다. 얻어진 점조액체에, 다시 4.8 g의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 및 4.8 g의 아크릴산을 가하여, 120℃에서 8시간 반응시켰다. 이것을 화합물 A라 한다. In a four-necked flask with a volume of 300 mL, 46.3 g of bisphenol fluorenediglycidyl ether, 8.7 g of itaconic acid, 0.09 g of triethylbenzylammonium chloride, 0.18 g of tetraethylammonium bromide, 0.02 g of methquinone, and propylene glycol mono 55 g of methyl ether acetates were prepared and reacted at 120 degreeC for 4 hours, under heating and stirring, and the transparent pale yellow viscous liquid was obtained. To the obtained viscous liquid, 4.8 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 4.8 g of acrylic acid were further added, and the mixture was allowed to react at 120 ° C for 8 hours. This is called Compound A.

다음에, 화합물 A 55 g과, 테트라하이드로프탈산무수물 10.2 g과, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10.2 g을 준비하여, 120℃에서 가열 교반하에 2시간 반응시켜, 담황색 투명한 불포화기 함유 카르본산 화합물 용액 A1을 얻었다.Next, 55 g of Compound A, 10.2 g of tetrahydrophthalic anhydride, and 10.2 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were prepared, and reacted at 120 ° C. under heating and stirring for 2 hours to give a pale yellow transparent unsaturated group-containing carboxylic acid compound solution A1. Got.

[착색 감광성 수지 조성물의 제조][Production of Colored Photosensitive Resin Composition]

착색제[평균 입자지름이 O.03 ㎛인 흑색 안료(C. I. 피그먼트 블랙 7) 40 질량부와 분산제 12 질량부와의 혼합물] 52 질량부, 52 parts by mass of a coloring agent [40 parts by mass of a black pigment (C. I. pigment black 7) having an average particle diameter of 0.03 μm and 12 parts by mass of a dispersant);

바인더 수지(상기에서 얻어진 수지용액 A1) 33 질량부(고형분 환산),Binder resin (resin solution A1 obtained above) 33 mass parts (solid content conversion),

에틸렌성 불포화 결합을 가지는 부가 중합 가능한 화합물[디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트] 10 질량부, 10 parts by mass of an addition polymerizable compound [dipentaerythritol hexaacrylate] having an ethylenically unsaturated bond,

광중합개시제[2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진] 5.0 질량부 및5.0 parts by mass of a photopolymerization initiator [2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine] and

용매[프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트] 252 질량부와 [디프로필렌글리콜모노메틸에테르] 122 질량부를 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물(흑색)을 얻었다. 252 parts by mass of the solvent [propylene glycol monomethyl ether acetate] and 122 parts by mass of [dipropylene glycol monomethyl ether] were mixed to obtain a colored photosensitive resin composition (black).

[흑색 패턴의 형성][Formation of black pattern]

중성세제, 물 및 알콜로 차례로 세정하고 나서 건조한 유리기판(#1737 ; 코닝저팬(주)제] 위에, 얻어진 흑색 감광성 수지 조성물을, 포스트 베이크 후의 광학 농도가 3.1 이 되도록 슬릿 노즐을 구비한 코터로 도포하였다.The black photosensitive resin composition obtained on the glass substrate (# 1737; Corning Japan Co., Ltd. product) which was wash | cleaned in order with neutral detergent, water, and alcohol then, was made into the coater provided with the slit nozzle so that the optical density after post-baking might be 3.1. Applied.

다음에, 감압 건조장치로, 1 torr, 70℃, 60초간 유지하여 용매를 증류 제거하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 기판과 석영 유리제 포토마스크(30 ㎛ 폭의 광투과부를 가지고, 또한, 차광부는 80 ㎛와 40 ㎛의 변을 가지는 직사각형인 격자 패턴을 구비한다)와의 간격을 150 ㎛로 하고, 초고압 수은램프를 사용하여 대기분위기하, 200 mJ/㎠의 노광량(365 nm 기준)으로 광조사하였다.Next, the solvent was distilled off by holding for 1 torr, 70 degreeC, and 60 second with a vacuum drying apparatus. After cooling, the space | interval of the board | substrate which apply | coated this coloring photosensitive resin composition and a quartz glass photomask (it has a 30 micrometers wide light transmission part, and a light shielding part has a rectangular grid pattern which has 80 micrometers and 40 micrometers sides). It was set to 150 micrometers, and it irradiated with the exposure amount (365 nm reference | standard) of 200 mJ / cm <2> under atmospheric conditions using the ultrahigh pressure mercury lamp.

그 후, 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.06%를 함유하는 수용액인 현상액을 23℃에서 80초간, 상기한 도포막에 샤워노즐을 통하여 분사함으로써, 현상을 행하였다. 수세 후, 220℃에서 20분간 포스트 베이크를 행하여 블랙 매트릭스를 형성하였다. Then, image development was performed by spraying the developing solution which is an aqueous solution containing 0.12% of nonionic surfactant and 0.06% of potassium hydroxide for 80 second at 23 degreeC through the shower nozzle. After washing with water, post-baking was carried out at 220 ° C. for 20 minutes to form a black matrix.

마찬가지로, 합계 451매 작성한 블랙 매트릭스 기판을, 나트륨 램프 하, 또한 광학현미경으로 관찰하여, 흑색 이물의 유무를 관찰하고, 그 수를 누적하였다. 그 결과를, 시트 총수 451로 나눔으로써, 1 시트당 관찰된 흑색 이물의 수를 산출하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.Similarly, black matrix substrates prepared in total of 451 sheets were observed under a sodium lamp and under an optical microscope, and the presence or absence of black foreign matter was observed and the number was accumulated. The result was divided by the total number of sheets 451 to calculate the number of black foreign matters observed per sheet. The results are shown in Table 2.

비교예 6 Comparative Example 6

실시예 6의 [착색 감광성 수지 조성물의 제조]에서 사용한 용매[프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테트] 252질량부와 [디프로필렌글리콜모노메틸에테르] 122질량부 대신에 용매[프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트] 377질량부를 사용하여 착색 감광성 수지 조성물(흑색)을 작성한 이외는 동일하게 하여 조작을 행하여, 235매의 블랙 매트릭스 기판을 작성하였다. Instead of 252 parts by mass of solvent [propylene glycol monomethyl ether acetate] and 122 parts by mass of [dipropylene glycol monomethyl ether] used in [production of colored photosensitive resin composition] of Example 6, solvent [propylene glycol monomethyl ether acetate] Except having prepared the coloring photosensitive resin composition (black) using 377 mass parts, it operated similarly and created 235 black-matrix board | substrates.

얻어진 기판을 나트륨 램프 하, 또한 광학현미경으로 관찰하여, 흑색 이물의 유무를 관찰하고, 그 수를 누적하였다. 그 결과를, 시트 총수 235로 나눔으로써, 1 시트(370 mm × 470 mm)당 관찰된 흑색 이물의 수를 산출하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다. The obtained board | substrate was observed under the sodium lamp further by the optical microscope, the presence or absence of the black foreign material was observed, and the number accumulate | stored. The result was divided by the total number of sheets 235 to calculate the number of black foreign matters observed per sheet (370 mm x 470 mm). The results are shown in Table 2.

Figure 112009022646801-PAT00002
Figure 112009022646801-PAT00002

이상, 비교예 1∼3, 5에서는, 수율이 95% 미만인 데 대하여, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 실시예 1 내지 7에서는, 수율이 95% 이상으로 높고, 생산성이 우수한 것을 알 수 있다. 비교예 4는 핀 얼룩에 의한 불량이 많기 때문에, 생산성이 뒤떨어진다. As described above, in Comparative Examples 1 to 3 and 5, while the yield is less than 95%, in Examples 1 to 7 using the colored photosensitive resin composition of the present invention, it can be seen that the yield is high at 95% or more and excellent in productivity. . Since the comparative example 4 has many defects by pin spots, productivity is inferior.

또, 실시예 8과 비교예 6을 비교한 경우, 마찬가지로 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 실시예 8의 쪽이 시트 1매당의 이물이 적은, 즉, 불량이 되는 기판이 발생하는 율이 낮아 생산성이 우수한 것을 알 수 있다. Moreover, when Example 8 and Comparative Example 6 were compared, the rate of the occurrence of the board | substrate to which Example 8 which used the coloring photosensitive resin composition of this invention uses few foreign substances per sheet, ie, a defect is low is low. It turns out that productivity is excellent.

<실시예 9∼12> <Examples 9-12>

실시예 1에 기재된 용매를 표 3의 것으로 변경하고, 착색 감광성 수지 조성물을 동일하게 하여 제작하고, 도포, 노광, 현상하여 패턴 기판을 얻는다. 어느 것이나 실시예 1과 마찬가지로 양호한 결과가 얻어진다. The solvent of Example 1 is changed to the thing of Table 3, the coloring photosensitive resin composition is produced similarly, and it apply | coats, exposes, and develops, and a pattern substrate is obtained. Either way, as in Example 1, good results are obtained.

Figure 112009022646801-PAT00003
Figure 112009022646801-PAT00003

용매명 옆의 숫자는, 용매 전체에 대한 각 용매의 질량분율을 나타낸다.The number next to a solvent name shows the mass fraction of each solvent with respect to the whole solvent.

PGMEA ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(비점 146℃)PGMEA; Propylene glycol monomethyl ether acetate (boiling point 146 degrees Celsius)

MFDG ; 디프로필렌글리콜모노메틸에테르(비점 190℃)MFDG; Dipropylene glycol monomethyl ether (boiling point 190 degrees Celsius)

DPMA ; 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(비점 209℃) DPMA; Dipropylene glycol monomethyl ether acetate (boiling point of 209 degreeC)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 컬러 필터의 제조에 있어서, 생산성을 향상시키기 위하여 사용할 수 있음과 동시에, 여러가지의 광학특성을 부가하거나, 차광성 등을 부가하는 것과 같은, 여러가지 필터, 막, 층 등의 형성을 위하여 적합하게 사용할 수 있다. The coloring photosensitive resin composition of this invention can be used in order to improve productivity in manufacture of a color filter, and also various filters, a film | membrane, a layer, such as adding various optical characteristics or adding light shielding etc. It can be used suitably for formation of the back.

Claims (7)

착색제, 바인더수지, 광중합성 화합물, 광중합개시제 및 용매를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물에 있어서,In the coloring photosensitive resin composition containing a coloring agent, binder resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent, 용매는, 알킬기의 탄소수 1 내지 4의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르 및 알킬기의 탄소수 1 내지 4의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용매 (A) 및 (A)와는 다른 용매 (B)로 이루어지고,The solvent is different from at least one solvent (A) and (A) selected from the group consisting of dipropylene glycol monoalkyl ethers having 1 to 4 carbon atoms of an alkyl group and dipropylene glycol monoalkyl ether esters having 1 to 4 carbon atoms of an alkyl group. Consisting of different solvents (B), 용매 (A)의 함유량이 전체 용매량에 대하여, 5 질량% 이상 40 질량% 이하이며, Content of solvent (A) is 5 mass% or more and 40 mass% or less with respect to all solvent amounts, 용매 (B)의 함유량이 전체 용매량에 대하여, 60 질량% 이상 95 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.Content of solvent (B) is 60 mass% or more and 95 mass% or less with respect to the total amount of solvent, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 용매 (B)가, 121℃ 이상 171℃ 이하의 비점을 가지는 용매인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.A solvent (B) is a solvent which has a boiling point of 121 degreeC or more and 171 degrees C or less, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 용매 (A)가, 알킬기의 탄소수 1 내지 4의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르 인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The solvent (A) is C1-C4 dipropylene glycol monoalkyl ether of an alkyl group, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 용매 (A)가, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The solvent (A) is dipropylene glycol monomethyl ether, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 용매 (B)가, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The solvent (B) is propylene glycol methyl ether acetate, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴.It is formed using the coloring photosensitive resin composition of any one of Claims 1-5, The pattern characterized by the above-mentioned. 제 6항에 기재된 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터. The color filter containing the pattern of Claim 6.
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