KR20090107709A - 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 방법 - Google Patents

증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 방법에 관한 것으로, 기판에 유기물을 증착하기 위한 처리공간을 제공하며, 상기 처리공간을 비추는 촬영창을 통해, 상기 기판에 형성된 정렬마크를 촬영하는 카메라를 구비하는 증착챔버에 있어서, 본 발명의 실시예에 따른 증착챔버의 촬영창 오염 방지장치는, 상기 정렬마크의 촬영을 마친 상기 카메라를 상기 촬영창으로 접근 및 이탈시키는 이동부; 및 상기 카메라가 상기 촬영창 상에서 이탈되면 상기 촬영창에 위치하며, 상기 촬영창에 접촉되어 상기 촬영창을 가열하는 가열기;를 구비함으로써, 증착챔버의 촬영창을 가열하여, 유기소스가 촬영창에 증착되어 촬영창이 오염되는 것을 방지하는 효과가 있다.

Description

증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 방법{Apparatus and method for preventing contamination of camera view port of evaporation chamber}
증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 증착챔버의 내부를 비추는 촬영창의 오염을 방지하는 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 방법에 관한 것이다.
최근 들어 급속히 정보화 시대로 진입하면서, 언제 어디서나 정보를 접할 수 있도록, 정보를 문자 또는 영상으로 표시하여 눈으로 볼 수 있게 해주는 디스플레이 기술이 더욱 중요시 되고 있다.
이러한 디스플레이 장치의 소비경향을 살펴보면, 기존의 CRT는 부피가 크고, 무거운 단점이 있어서 사용하기 편리한 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel), 유기 EL 디스플레이(organic electroluminescence display device;OLED) 등의 평판 디스플레이의 수요가 급격히 늘어나고 있다.
그러나 LCD는 근본적으로 자체 발광소자가 아닌 별도의 광원을 필요로 하는 수동형 소자이고, 시야각, 응답속도, 대조비 등에서 기술적 한계를 가지며, PDP는 시야각과 응답속도에서 LCD보다 좋은 특성을 가지고 있으나, 소형화가 어렵고, 소비전력이 크고, 생산 단가가 비싸다는 단점을 가지고 있다.
이에 반해, 유기 EL 디스플레이(이하, 'OLED'라 함)는 자체 발광형이므로 별도의 광원이 필요 없고, 소비 전력이 작으며, 응답속도가 10㎲ 이하로 빠르고, 시야각에 문제가 없어 소형에서 대형에 이르기까지의 어떠한 동화상도 실감나게 구현할 수 있다. 또한, 기본구조가 간단하여 제작이 용이하고 궁극적으로 두께 1mm이하의 초박형, 초경량 디스플레이 제작이 가능하며, 더 나아가 디스플레이를 유리 기판 대신에 플라스틱과 같은 유연한 기판 위에 제작하여 더 얇고, 더 가볍고, 깨지지 않는 플렉시블 디스플레이(flexible display)를 개발하는 연구가 진행 중에 있다.
일반적으로 OLED는 양극(ITO), 유기박막, 음극전극의 구조를 가지고 있다. 유기박막층은 단일 물질로 제작할 수 있으나, 일반적으로 정공수송층(hole trancport layer;HTL), 발광층, 전자수송층(electron trancport layer;ETL) 등의 다층으로 구성된다.
이와 같이 다층구조로 구성되는 OLED는 정공수송층으로부터 공급받는 정공과, 전자수송층으로부터 공급받는 전자가 발광층으로 전달되어 정공-전자로 결합되는 여기자(勵起子)를 형성하고 다시 여기자가 바닥상태로 돌아오면서 발생되는 에너지에 의해 발광하게 된다.
한편, 다층구조를 갖는 OLED 제조 공정에서의 대표적인 박막증착방법으로는 기상증착(VD;Vapor Deposition)방법을 들 수 있다.
즉, 유기물이 저장된 소스 공급원을 가열하여 유기물로부터 유기소스를 발생시키고, 소스 공급원으로 이송가스를 주입시켜, 유기소스를 증착공정이 이루어지는 챔버 내부로 공급하게 된다. 이때, 챔버는 기체상태의 유기소스가 챔버 내벽에 증착되는 것을 방지하고자, 열선과 같은 가열수단을 구비하여, 챔버 내부의 온도를 조절할 수 있도록 구성된다.
한편, 챔버는 내부에 증착공정을 위한 처리공간을 제공하며, 유기박막의 패턴 형성을 위한 마스크와 기판이 반입된다. 기판과 마스크의 정렬은 유기박막 증착공정에 필수요소로 작용한다.
따라서, 챔버의 윗면에는 처리공간을 비추는 촬영창이 구비되며, 이 촬영창을 통해, 기판과 마스크에 형성되는 정렬마크를 촬영함으로써, 기판과 마스크의 정렬상태를 측정한다.
종래의 증착챔버는, 처리공간을 비추는 촬영창에 유기소스가 증착되어 촬영창이 오염될 수 있어, 처리공간의 관측하기 곤란한 문제점이 있다. 이는 곧, 증착공정에서 기판과 마스크에 형성되는 정렬마크의 촬영에 장애요소로 작용하는 문제점으로 이어진다.
이에 따른 본 발명의 목적은, 증착챔버의 촬영창에 유기소스가 증착되어 촬 영창을 오염시키는 것을 방지하도록 한 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 이를 이용한 오염방지 방법를 제공함에 있다.
기판에 유기물을 증착하기 위한 처리공간을 제공하며, 상기 처리공간을 비추는 촬영창을 통해, 상기 기판에 형성된 정렬마크를 촬영하는 카메라를 구비하는 증착챔버에 있어서, 본 발명의 실시예에 따른 증착챔버의 촬영창 오염 방지장치는, 상기 정렬마크의 촬영을 마친 상기 카메라를 상기 촬영창으로 접근 및 이탈시키는 이동부; 및 상기 카메라가 상기 촬영창 상에서 이탈되면 상기 촬영창에 위치하며, 상기 촬영창에 접촉되어 상기 촬영창을 가열하는 가열기;를 구비한다.
상기 이동부는, 상기 카메라가 상기 촬영창을 바라보는 방향인 제1 방향으로 마련되는 제1 축;상기 제1 방향과 교차되는 방향인 제2 방향으로 마련되어, 상기 제1 축이 상기 제2 방향으로 왕복되도록 결합되는 제2 축; 및 상기 카메라와 상기 가열기가 상기 제2 방향으로 이격되어 결합되며, 상기 제1 방향으로 승강되도록 상기 제1 축에 결합되는 이동본체;를 구비할 수 있다.
상기 이동부는, 상기 가열기를 상기 이동본체로부터 상기 제1 방향으로 승강시키는 승강유닛을 더 구비할 수 있다.
상기 제1 축과 상기 제2 축은 볼 스크류로 사용되고, 상기 이동본체는 상기 제1 축의 상기 촬영창을 향한 단부에 결합되며, 상기 이동부는, 상기 제1 축을 회전시켜, 상기 제1 축이 상기 제1 방향으로 승강시키는 제1 회전모터; 및 상기 제2 축을 회전시켜, 상기 제2 축의 회전에 따라 상기 제1 축이 상기 제2 방향으로 왕복시키는 제2 회전모터;를 더 구비할 수 있다.
상기 가열기는, 전기에너지에 의해 열을 발생시키는 발열판; 및 상기 발열판에 결합되고, 상기 발열판에 의해 발생되는 열을 상기 촬영창으로 전달하는 열 전달판;을 구비할 수 있다.
상기 촬영창 오염 방지장치는 상기 열 전달판의 일측면에 결합되며, 상기 열 전달판의 온도를 감지하는 온도 센서; 및 상기 온도 센서에 의해 감지되는 온도에 따라 상기 발열판에 공급되는 전류량을 조절하는 온도 컨트롤러;를 더 구비할 수 있다.
상기 발열판은 고무 히터이며, 상기 열 전달판은 알루미늄 판일 수 있다.
한편, 기판에 유기물을 증착하기 위한 처리공간을 제공하며, 상기 처리공간을 비추는 촬영창을 통해, 상기 기판에 형성된 정렬마크를 촬영하는 카메라를 구비하는 증착챔버의 촬영창 오염방지 방법에 있어서, 본 발명의 실시예에 따른 증착챔버의 촬영창 오염방지 방법에 있어서, 상기 카메라를 상기 촬영창 상으로부터 이탈시키는 이탈단계;상기 촬영창을 가열하기 위한 가열기를 상기 촬영창 상에 위치시키는 정렬단계;상기 가열기를 승강시켜 상기 촬영창에 접촉시키는 접촉단계; 및 상기 가열기에 전원을 공급하여, 상기 가열기를 발열시켜 상기 촬영창을 가열하는 촬영창 가열단계;를 구비한다.
본 발명에 따른 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 이를 이용한 오염방지 방법는 증착챔버의 촬영창을 가열시킴으로써, 유기소스가 촬영창에 증착되어 촬영창이 오염되는 것을 방지하는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 증착챔버의 오염방지 장치에 대해, 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 촬영창 오염방지 장치가 설치된 유기물 증착장치를 간략하게 나타낸 단면도이다. 도 1을 참조하면, 유기물 증착장치(100)는 챔버(110)와, 소스 공급부(130)를 구비한다.
챔버(110)는 기판(S)에 유기박막을 증착시키기 위한 처리공간(110a)을 제공한다. 챔버(110)는 일측면에 기판(S)과 마스크(M)의 반입 및 반출을 위한 도어(111)가 설치된다. 처리공간(110a)의 하측에는 기판(S)을 지지하기 위한 스테이지(113)가 구비된다.
소스 공급부(130)는 유기물을 기화시켜 유기소스를 발생시키며, 유기소스를 처리공간(110a)으로 공급한다. 소스 공급부(130)로는 유기소스를 처리공간(110a)으로 이송시키기 위한 이송가스가 공급되며, 처리공간(110a)의 상측에는 유기소스를 분사시키기 위한 샤워헤드(미도시)가 구비될 수 있다.
한편, 기판(S)은 제1 정렬마크(Sa)을 구비하고, 기판(S)에 증착될 유기막박의 패턴이 형성된 마스크(M)는 제2 정렬마크(Ma)를 구비한다. 기판(S)의 제1 정렬 마크(Sa)는 기판(S)의 각 모서리 또는, 테두리부에 적어도 하나 이상으로 형성된다. 마스크(M)의 제2 정렬마크(Ma)는 제1 정렬마크(Sa)에 대응되는 위치에 형성된다.
챔버(110)는 윗면에 기판(S)과 마스크(M)의 정렬상태를 측정하기 위해, 처리공간(110a)을 비추는 촬영창(115)을 구비한다. 촬영창(115) 상에는 제1 정렬마크(Sa)와 제2 정렬마크(Ma)를 촬영하기 위한 카메라(150)가 구비된다. 이때, 카메라(150)는 챔버(110) 윗면과 카메라(150)의 거리를 측정하는 센서(미도시)를 구비할 수 있다.
여기서, 처리공간(110a)으로 반입되는 마스크(M)는 스테이지(113)에 의해 지지되는 기판(S) 상에 위치한다. 따라서, 마스크(M)의 소재가 불투명한 경우, 마스크(M)를 관통하여 카메라(150)가 기판(S)의 제1 정렬마크(Sa)를 촬영할 수 있도록, 제2 정렬마크(Ma)는 마스크(M)를 관통하는 홀의 형상을 가질 수 있으며, 다른 실시예로, 마스크(M)의 소재가 투명한 경우에는 마스크(M)의 표면에 인쇄되어 형성될 수 있을 것이다.
또한, 상술된 설명에서는, 유기박막의 패턴 형성을 위한 마스크(M)가 처리공간(110a)으로 반입되고, 기판(S) 상에 위치하며, 카메라(150)는 제1 정렬마크(Sa)와 제2 정렬마크(Ma)를 촬영하는 것으로 설명하고 있다. 그러나, 기판(S)에 증착될 유기박막의 패턴 형성이 필요하지 않은 경우, 카메라(150)는 제1 정렬마크(Sa)만을 촬영하여, 기판(S)이 스테이지(113)의 정위치에 지지되고 있는지를 촬영할 수 있다.
한편, 챔버(110)의 윗면에는 촬영창(115)에 유기소스가 증착되어 *촬영창(115)을 오염시키는 것을 방지하기 위한 촬영창 오염방지 장치(200)가 구비된다.
도 2는 도 1에 표기된 "A"부를 나타낸 확대 사시도이고, 도 3은 카메라가 장착된 본 발명의 실시예에 따른 촬영창 오염방지 장치를 나타낸 정면도이다. 도 2 내지 도 3을 참조하면, 촬영창 오염방지 장치(200)는 이동부(210) 및 가열기(230)를 구비한다.
이동부(210)는 제1, 제2 정렬마크(Sa, Ma)의 촬영을 마친 카메라(150)를 촬영창(115) 상에서 이탈시킨다. 이동부(210)는, 카메라(150)가 촬영창(115)을 바라보는 제1 방향으로 마련되는 제1 축(211)과, 제1 방향에 대해 교차되는 제2 방향으로 마련되는 제2 축(213)을 구비한다. 다시 말해, 제1 방향은 도 2에 표기된 z축 방향이며, 제2 방향은 도 2에 표기된 x축 방향과, y축 방향 중 어느 한 방향이다.
제1 축(211)의 촬영창(115)을 향한 단부에는 제1 방향으로 왕복되도록 이동본체(215)가 결합된다. 이동본체(215)에는 카메라(150)와 가열기(230)가 제2 방향으로 이격되어 결합된다. 제1 축(211)은 제2 방향으로 왕복가능하도록 제2 축(213)에 결합된다.
여기서, 도 2 내지 도 3에서 도시된 바와 같이, 제1 축(211)과 제2 축(213)은 각각 볼 스크류로 사용될 수 있다. 이동부(210)는 제1 축(211)과 제2 축(213)을 회전시키는 제1 회전모터(211a)와 제2 회전모터(213a)를 더 구비할 수 있다.
이에 따라, 제1 축(211)은, 제1 회전모터(211a)에 의해 회전되어 제1 방향으로 승강되며, 제2 축(213)이 제2 회전모터(213a)에 의해 회전됨에 따라, 제2 방향 으로 왕복된다.
다른 실시예로, 도시되지 않았지만, 제1 축(211)과 제2 축(213)은 각각 피스톤 로드로 구성되고, 이동부(210)는 제1 축(211)과 제2 축(213)을 구동시키는 펌프를 더 구비할 수 있다. 이 외에도 제1 축(211)은 이동본체(215)를 제1 방향으로 선형 이동시키고, 제2 축(213)은 제1 축(211)을 제2 방향으로 선형 이동시키는 모든 선형 이동수단으로 변형실시될 수 있을 것이다.
한편, 이동부(210)는 카메라(150)와 별도로, 가열기(230)를 이동본체(215)로부터 제1 방향으로 승강시키는 승강유닛(217)을 더 구비한다. 즉, 카메라(150)가 챔버(110)의 윗면에 접촉되기 전, 이동본체(215)는 제1 방향으로의 이동을 멈춘다. 이때, 승강유닛(217)은 이동본체(215)가 정지된 상태에서, 가열기(230)를 제1 방향으로 더 이동시켜, 가열기(230)가 촬영창(115)에 접촉되도록 한다. 이러한 승강유닛(217)은 공압 실린더로 구성될 수 있다.
한편, 가열기(230)는 촬영을 마친 카메라(150)가 촬영창(115) 상에서 이탈되면, 촬영창(115)에 접촉되어 촬영창(115)을 가열하기 위해 구비된다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 촬영창 오염방지 장치의 가열기를 나타낸 단면도이다. 도 4를 참조하면, 가열기(230)는 발열판(231) 및 열 전달판(233)을 구비한다.
발열판(231)으로는 고무 히터(rubber heater)가 사용될 수 있다. 고무 히터는 두 장의 실리콘 코무 시트의 사이에 저항요소를 두고, 내부의 공기를 제거한 후, 두 장의 실리콘 고무 시트를 압축 프레스하여, 얇은 시트 형상으로 일체화 된 구조를 갖는다. 이러한 고무 히터는 얇은 시트의 형상을 가지므로, 가열면의 전면에 균일하게 열을 전달할 수 있다.
열 전달판(233)은 발열판(231)에 결합되고, 발열판(231)에 의해 발생되는 열을 촬영창(115)으로 전달한다. 열 전달판(233)으로는 알루미늄 판과 같은 열 전달효율이 높은 금속재질이 사용되는 것이 바람직하다.
이러한 발열판(231)과 열 전달판(233)은, 발열판(231)을 사이에 두고 열 전달판(233)과 대향되는 고정판(235)에 나사 결합되고, 고정판(235)은 승강유닛(217)에 결합된다.
그리고 촬영창 오염방지 장치(200)는 온도 센서(237) 및 온도 컨트롤러(239)를 더 구비한다. 온도 센서(237)는 열 전달판(233)의 일측면에 결합되며, 열 전달판(233)의 온도를 감지한다. 온도 컨트롤러(239)는 온도 센서(237)에 의해 감지되는 온도에 따라, 발열판(231)에 공급되는 전류량을 조절하여, 발열판(231)의 온도를 조절한다.
이러한 온도 컨트롤러(239)는 유기소스가 챔버(110)의 내벽에 증착되지 않도록, 챔버(110)의 내벽에 내장될 수 있는 열선과 같은 가열수단(미도시)의 온도를 동시에 조절할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치의 작동에 대해, 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 실시예에 따른 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치의 작동상태를 도 1에 표기된 "A"부를 확대하여 나타낸 작동도이다.
먼저, 도 5a를 참조하면, 처리공간(110a)으로 기판(S)과 마스크(M)가 반입되어, 기판(S)은 스테이지(113)에 의해 지지되고, 마스크(M)는 기판(S) 상에 위치한다.
이때, 이동부(210)에 의해, 카메라(150)와 가열기(230)는 챔버(110)의 윗면과 촬영창(115)에 접촉되지 않는 높이를 유지하며, 제2 축(213)을 따라 제1 축(211)이 제2 방향으로 이동된다. 카메라(150)는 촬영창(115) 상에 위치한다. 촬영창(115) 상에 위치하는 카메라(150)는 촬영창(115)을 통해 제1 정렬마크(Sa)와 제2 정렬마크(Ma)를 촬영한다.
이후, 도 5b를 참조하면, 카메라(150)가 제1 정렬마크(Sa)와 제2 정렬마크(Ma)의 촬영을 마치면, 제1 축(211)은 제2 축(213)을 따라 제2 방향으로 이동된다. 제1 축(211)이 제2 방향으로 이동됨에 따라, 카메라(150)는 촬영창(115) 상에서 이탈되며, 가열부(250)는 촬영창(115) 상에 위치한다.
이후, 도 5c를 참조하면, 가열부(250)가 촬영창(115) 상에 위치하면, 제1 축(211)을 따라 이동본체(230)가 제1 방향으로 이동된다. 이동본체(230)가 제1 방향으로 이동됨에 따라, 카메라(150)와 가열부(250)는 제1 방향으로 이동된다.
이때, 카메라(150)의 설치공간에 따라, 제1 방향으로 이동되는 카메라(150)가 챔버(110)의 윗면에 접촉되기 전에, 가열기(253)가 먼저 촬영창에 접촉될 수 있다(이하,'제1 경우').
반면, 카메라(150)의 설치공간에 따라, 제1 방향으로 이동되는 가열기(253)가 촬영창(115)에 접촉되기 전에, 카메라(150)가 먼저 챔버의 윗면에 접촉될 수 있 다(이하,'제2 경우').
물론 제2 경우에는, 카메라(150)에 구비되는 센서(미도시)에 의해, 카메라(150)가 챔버(110)의 윗면에 접촉되기 전, 이동본체(230)의 이동을 정지시켜, 카메라(150)가 챔버(110)의 윗면에 접촉되어 카메라(150)가 오염되거나 파손되는 것을 방지하는 것이 바람직하다.
한편, 제1 경우, 승강유닛(251)은 구동되지 않아도 된다. 즉, 제1 경우는, 제1 축(211)을 따라 이동본체(230)가 제1 방향으로 이동되는 것만으로 가열기(253)가 촬영창(115)에 접촉된다. 따라서, 촬영창(115)에 접촉된 가열기(253)에 전류가 공급되어, 촬영창(115)은 가열될 수 있다.
반면, 제2 경우, 승강유닛(251)은 구동된다. 즉, 제2 경우는, 제1 방향으로 이동되는 이동본체(230)의 이동이 정지되더라도 가열기(253)가 촬영창(115)에 접촉되지 않으므로, 승강유닛(251)이 구동된다. 승강유닛(251)에 의해 가열기(253)는 제1 방향으로 더 이동되어 촬영창(115)에 접촉되고, 촬영창(115)에 접촉된 가열기(253)로 전류가 공급되어, 촬영창(115)은 가열될 수 있다.
한편, 촬영창(115)이 가열됨과 동시에, 챔버(110) 내벽은 별도의 가열수단(미도시)에 의해 가열될 수 있다. 촬영창(115)과 챔버(110) 내벽이 가열되기 시작하면, 처리공간(110a)으로 유기소스가 공급되어, 기판(S) 상에 유기박막의 증착이 진행된다. 이때, 촬영창(115)과 챔버(110)의 내벽은 가열되는 상태로, 유기소스는 촬영창(115)과 챔버(110)의 내벽에 증착되지 않는다.
이와 같이, 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치(200)는 촬영창(115)을 가열시 킴으로써, 유기소스가 촬영창(115)에 증착되어 촬영창(115)이 오염되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 촬영창 오염방지 장치가 설치된 유기물 증착장치를 간략하게 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1에 표기된 "A"부를 나타낸 확대 사시도이다.
도 3은 카메라가 장착된 본 발명의 실시예에 따른 촬영창 오염방지 장치를 나타낸 정면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 촬영창 오염방지 장치의 가열기를 나타낸 단면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 실시예에 따른 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치의 작동상태를 도 1에 표기된 "A"부를 확대하여 나타낸 작동도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>
110 : 증착챔버
115 : 촬영창
200 : 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치
210 : 이동부
230 : 가열기

Claims (8)

  1. 기판에 유기물을 증착하기 위한 처리공간을 제공하며, 상기 처리공간을 비추는 촬영창을 통해, 상기 기판에 형성된 정렬마크를 촬영하는 카메라를 구비하는 증착챔버에 있어서,
    상기 정렬마크의 촬영을 마친 상기 카메라를 상기 촬영창으로 접근 및 이탈시키는 이동부;및
    상기 카메라가 상기 촬영창 상에서 이탈되면 상기 촬영창에 위치하며, 상기 촬영창에 접촉되어 상기 촬영창을 가열하는 가열기;를 구비하는 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염 방지장치.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 이동부는,
    상기 카메라가 상기 촬영창을 바라보는 방향인 제1 방향으로 마련되는 제1 축;
    상기 제1 방향과 교차되는 방향인 제2 방향으로 마련되어, 상기 제1 축이 상기 제2 방향으로 왕복되도록 결합되는 제2 축;및
    상기 카메라와 상기 가열기가 상기 제2 방향으로 이격되어 결합되며, 상기 제1 방향으로 승강되도록 상기 제1 축에 결합되는 이동본체;를 구비하는 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염 방지장치.
  3. 제2 항에 있어서, 상기 이동부는,
    상기 가열기를 상기 이동본체로부터 상기 제1 방향으로 승강시키는 승강유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염 방지장치.
  4. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 축과 상기 제2 축은 각각 볼 스크류로 이루어지고, 상기 이동본체는 상기 제1 축의 상기 촬영창을 향한 단부에 결합되며,
    상기 이동부는,
    상기 제1 축을 회전시켜, 상기 제1 축이 상기 제1 방향으로 승강시키는 제1 회전모터;및
    상기 제2 축을 회전시켜, 상기 제2 축의 회전에 따라 상기 제1 축이 상기 제2 방향으로 왕복시키는 제2 회전모터;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염 방지장치.
  5. 제1 항에 있어서, 상기 가열기는,
    전기에너지에 의해 열을 발생시키는 발열판;및
    상기 발열판에 결합되고, 상기 발열판에 의해 발생되는 열을 상기 촬영창으로 전달하는 열 전달판;을 구비하는 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 열 전달판의 일측면에 결합되며, 상기 열 전달판의 온도를 감지하는 온도 센서; 및
    상기 온도 센서에 의해 감지되는 온도에 따라 상기 발열판에 공급되는 전류량을 조절하는 온도 컨트롤러;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치.
  7. 제5 항에 있어서,
    상기 발열판은 고무 히터이며,
    상기 열 전달판은 알루미늄 판인 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치.
  8. 기판에 유기물을 증착하기 위한 처리공간을 제공하며, 상기 처리공간을 비추 는 촬영창을 통해, 상기 기판에 형성된 정렬마크를 촬영하는 카메라를 구비하는 증착챔버의 촬영창 오염방지 방법에 있어서,
    상기 카메라를 상기 촬영창 상으로부터 이탈시키는 이탈단계;
    상기 촬영창을 가열하기 위한 가열기를 상기 촬영창 상에 위치시키는 정렬단계;
    상기 가열기를 승강시켜 상기 촬영창에 접촉시키는 접촉단계;및
    상기 가열기에 전원을 공급하여, 상기 가열기를 발열시켜 상기 촬영창을 가열하는 촬영창 가열단계;를 구비하는 것을 특징으로 하는 증착챔버의 촬영창 오염방지 방법.
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