KR20090095638A - Resin composition and use thereof - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a resin composition which is composed of a styrene copolymer and a norbornene polymer, while having excellent compatibility and being free from phase separation. This resin composition can be easily formed into a film. Also disclosed are an optical film mainly composed of this resin composition and having excellent transparency, such an optical film further having reverse wavelength dispersion, and uses of such an optical film. Specifically disclosed is a resin composition characterized by containing a styrene copolymer (A) having a structural unit (1) represented by the formula (1) below and a structural unit (2) represented by the formula (2) below, and a norbornene polymer (B).

Description

수지 조성물 및 그 용도{RESIN COMPOSITION AND USE THEREOF}Resin composition and its use {RESIN COMPOSITION AND USE THEREOF}

본 발명은 스티렌계 공중합체와 노르보르넨계 중합체를 함유하는 수지 조성물 및 그 용도에 관한 것이다. 상세하게는, 본 발명은 스티렌계 공중합체와 노르보르넨계 중합체를 포함하고, 투명성이 우수하며, 광학 필름 등의 제조에 적합한 수지 조성물, 이 수지 조성물로부터 얻어지는 성형체 및 광학 필름, 및 이 광학 필름을 이용한 연신 필름, 편광판 및 액정 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a resin composition containing a styrene copolymer and a norbornene polymer and its use. Specifically, the present invention comprises a resin composition comprising a styrene copolymer and a norbornene-based polymer, having excellent transparency and suitable for the production of an optical film, a molded article and an optical film obtained from the resin composition, and this optical film. It relates to the used stretched film, polarizing plate, and liquid crystal display device.

종래부터 광학 필름으로서 사용되고 있는 폴리카르보네이트, 폴리에스테르 등의 필름은 광 탄성 계수가 크기 때문에 미소한 응력의 변화 등에 의해 투과광에 위상차가 발현되거나 하여 위상차가 변화하는 문제가 있다. 또한, 트리아세틸셀룰로오스 등의 필름에는, 내열성이 낮고 흡수 변형 등의 문제가 있다. Films, such as polycarbonate and polyester, which are conventionally used as optical films, have a large photoelastic coefficient, and thus have a problem in that retardation is expressed in transmitted light due to a slight change in stress or the like, resulting in a change in retardation. In addition, films such as triacetyl cellulose have low heat resistance and have problems such as absorption deformation.

열가소성 노르보르넨계 수지(환상 올레핀계 수지)는 유리 전이 온도, 광선 투과율이 높고, 더구나 굴절률의 이방성이 작은 것에 의해 종래의 광학 필름에 비해 저복굴절성을 나타낸다는 등의 특징을 갖고 있고, 내열성, 투명성, 광학 특성이 우수한 투명 열가소성 수지로서 주목받고 있다. 그리고 이러한 특징을 이용하여, 예를 들면, 광 디스크, 광학 렌즈, 광 섬유, 투명 플라스틱 기반, 저유전 재료 등의 전자·광학 재료, 광 반도체 밀봉 등의 밀봉 재료 등의 분야에서, 환상 올레핀 계 수지를 응용하는 것이 검토되고 있다. Thermoplastic norbornene-based resins (cyclic olefin resins) have high glass transition temperature and light transmittance, and also exhibit low birefringence compared to conventional optical films due to their low anisotropy of refractive index. It is attracting attention as a transparent thermoplastic resin excellent in transparency and optical characteristics. And using these characteristics, for example, cyclic olefin resin in the field of optical materials, such as an optical lens, an optical fiber, transparent plastics base, electronic and optical materials, such as a low dielectric material, and sealing materials, such as an optical semiconductor sealing, etc. The application of this is under consideration.

상기한 환상 올레핀계 수지의 특성은 광학 필름용 수지로서 보더라도, 상기 종래 수지의 문제점을 개선할 수 있는 것이고, 이 때문에, 환상 올레핀계 수지를 포함하는 필름이 광학용의 각종 필름으로서 제안되어 있다. The above-described properties of the cyclic olefin resin can improve the problems of the conventional resin even when viewed as a resin for an optical film. For this reason, a film containing a cyclic olefin resin has been proposed as various films for optics.

예를 들면, 특허 문헌 1, 2에는, 환상 올레핀계 수지의 필름을 이용한 위상차판이 기재되어 있다. 또한, 특허 문헌 3 내지 5에는 환상 올레핀계 수지의 필름을 편광판의 보호 필름에 사용하는 것이 기재되어 있다. 또한, 특허 문헌 6에는 환상 올레핀계 수지의 필름을 포함하는 액정 표시 소자용 기판이 기재되어 있다.For example, Patent Documents 1 and 2 describe retardation plates using films of cyclic olefin resins. In addition, Patent Documents 3 to 5 describe using a film of cyclic olefin resin for a protective film of a polarizing plate. In addition, Patent Document 6 describes a substrate for a liquid crystal display device including a film of cyclic olefin resin.

일반적으로 위상차 필름은 연신 배향시켜 얻어지는 투과광에 위상차(복굴절)을 제공하는 기능이, 투과광의 파장이 장파장이 됨에 따라서 투과광의 위상차(복굴절)의 절대치가 작아진다는 특성(플러스의 파장 분산성)을 갖기 때문에, 가시광 영역(400 내지 800 nm) 전부에 있어서, 예를 들면 1/4 파장 등의 특정한 위상차를 투과광에 제공하는 것이 매우 곤란하였다. 실제로 위상차가 광범위한 파장 영역(400 내지 800 nm)에 있어서 1/4 파장으로서의 기능이 반사형이나 반투과형의 액정 디스플레이나 광 디스크용 픽업 등에 필요하다. 또한, 액정 프로젝터에서는 1/2λ의 위상차가 필요하여, 종래의 환상 올레핀계 수지를 포함하는 광학 필름에서는, 필름을 적층화시키지 않을 수 없었다. 필름의 적층화로는 필름의 접합, 절단, 접착 등의 공정이 복잡화할 뿐만 아니라, 얻어지는 광학 필름의 두께도 감소시키는 것이 곤란해진다.In general, the retardation film has a function of providing retardation (birefringence) to transmitted light obtained by stretching orientation, and the characteristic that the absolute value of the retardation (birefringence) of transmitted light becomes smaller as the wavelength of transmitted light becomes longer (plus wavelength dispersion). In this case, it was very difficult to provide the transmitted light with a specific phase difference such as 1/4 wavelength in all of the visible light region (400 to 800 nm). In fact, in a wavelength range (400 to 800 nm) with a wide phase difference, a function as a quarter wavelength is required for a reflective or semi-transmissive liquid crystal display or an optical disk pickup. In addition, in the liquid crystal projector, a phase difference of 1/2 lambda is required, and in the optical film containing the conventional cyclic olefin resin, the film has to be laminated. The lamination of the film not only complicates the processes such as bonding, cutting, and bonding of the film, but also makes it difficult to reduce the thickness of the resulting optical film.

이 과제를 해결하기 위해서는, 파장이 장파장이 됨에 따라서 투과광의 위상 차의 절대치가 커지는 특성, 즉, 역파장 분산성을 나타내는 광학 필름이 필요하다. 이 역파장 분산성을 나타내는 광학 필름으로서는, 특허 문헌 7 및 특허 문헌 8에 있어서, 특정한 셀룰로오스아세테이트계 수지를 포함하는 위상차 필름, 폴리카르보네이트계 수지나 스티렌계 수지의 블렌드가 제안되어 있다. 그러나, 셀룰로오스계 수지를 포함하는 필름에서는, 흡수에 의한 특성 변화나 내열성 등 면에서 문제점이 있고, 폴리카르보네이트계에서는 유리 전이 온도가 높고, 고온에서의 연신 가공이 필요하게 될 뿐만아니라, 필름의 광 탄성 계수가 크기 때문에 응력에 의한 광학 변형이 발생된다.In order to solve this problem, the optical film which shows the characteristic that the absolute value of the phase difference of transmitted light becomes large as a wavelength becomes long wavelength, ie, reverse wavelength dispersion property is needed. As an optical film which shows this reverse wavelength dispersibility, in patent document 7 and patent document 8, the blend of retardation film, polycarbonate resin, and styrene resin containing specific cellulose acetate type resin is proposed. However, in the film containing the cellulose-based resin, there are problems in terms of changes in properties due to absorption, heat resistance, and the like. In the polycarbonate system, the glass transition temperature is high, and stretching at high temperatures is required. Because the photoelastic coefficient of is large, optical deformation due to stress occurs.

또한, 스티렌계 수지와 환상 시클로올레핀계 수지와의 블렌드 조성물에서는, 필름화 시에 제막성이 좋은 염화메틸렌 등의 휘발성이 높은 용매는 대부분의 경우 상분리가 생기기 때문에 사용할 수 없어 특정한 용제를 선정해야 한다. 그 때문에 용제의 건조 시간이 걸려 생산성이 극단적으로 저하되고, 투명도가 높은 필름을 용이하게 얻는 것이 곤란하다는 문제가 있었다. In addition, in the blend composition of styrene resin and cyclic cycloolefin resin, highly volatile solvents, such as methylene chloride, which have good film forming property at the time of film formation, cannot be used in most cases because phase separation occurs, and a specific solvent must be selected. . Therefore, the drying time of a solvent takes long, productivity fell extremely, and there existed a problem that it was difficult to obtain a film with high transparency easily.

이 때문에, 상분리를 억제하여 투명한 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있는 수지 조성물, 및 그 수지 조성물을 주성분으로 하는, 역파장 분산성을 나타내고, 투명성이 높은 광학 필름의 출현이 강하게 요망되고 있었다. For this reason, the appearance of the resin composition which can suppress phase separation and can obtain a transparent optical film easily, and the reverse film dispersibility which has the resin composition as a main component, and the optical film with high transparency was strongly desired.

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 (평)5-2108호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-2108

특허 문헌 2: 일본 특허 공개 (평)5-64865호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-64865

특허 문헌 3: 일본 특허 공개 (평)5-212828호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-212828

특허 문헌 4: 일본 특허 공개 (평)6-51117호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-51117

특허 문헌 5: 일본 특허 공개 (평)7-77608호 공보Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-77608

특허 문헌 6: 일본 특허 공개 (평)5-61026호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-61026

특허 문헌 7: 일본 특허 공개 제2000-137116호 공보Patent Document 7: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-137116

특허 문헌 8: 일본 특허 공개 제2001-337222호 공보 Patent Document 8: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-337222

[발명의 개시][Initiation of invention]

[발명이 해결하고자 하는 과제][Problem to Solve Invention]

본 발명은 스티렌계 공중합체와 노르보르넨계 중합체를 포함하는 조성물로서, 우수한 상용성을 갖고 상분리되지 않기 때문에 투명성이 우수하고, 필름화가 용이한 수지 조성물을 제공하는 것을 과제로 하고 있다. 또한 본 발명은 이 수지 조성물을 주성분으로 한 투명성이 우수한 광학 필름, 역파장 분산성을 나타내는 광학 필름, 및 그 용도를 제공하는 것을 과제로 하고 있다. An object of the present invention is to provide a resin composition comprising a styrene copolymer and a norbornene-based polymer, which has excellent compatibility and is not phase separated, thereby providing a resin composition having excellent transparency and easy filming. Moreover, this invention makes it a subject to provide the optical film excellent in transparency which has this resin composition as a main component, the optical film which shows reverse wavelength dispersion, and its use.

[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]

본 발명자는 상기 실정을 감안하여 예의 검토한 결과, 특정한 구조 단위를 특정한 양으로 갖는 스티렌계 공중합체와, 노르보르넨계 중합체를 함유하는 수지 조성물, 이 수지 조성물을 주성분으로 한 광학 필름 및 그의 제조 방법 및 그 용도에 의해 상기 과제가 해결되는 것을 발견하였다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor earnestly examined in view of the said situation, As a result, the styrene copolymer which has a specific structural unit in a specific quantity, the resin composition containing a norbornene-type polymer, the optical film which has this resin composition as a main component, and its manufacturing method And it found that the said subject is solved by the use.

즉 본 발명은 이하의〔1〕 내지〔16〕의 발명에 관한 것이다. That is, this invention relates to the invention of the following [1]-[16].

〔1〕(A) 하기 화학식 (1)로 표시되는 구조 단위 (1) 및 하기 화학식 (2)로 표시되는 구조 단위 (2)를 갖고, 상기 구조 단위 (2)의 함유율이 전체 구조 단위 100 mol% 중 0.1 내지 50 mol%인 스티렌계 공중합체와, [1] (A) A structural unit (1) represented by the following general formula (1) and a structural unit (2) represented by the following general formula (2), wherein the content of the structural unit (2) is 100 mol % Of Styrene copolymer of 0.1 to 50 mol%,

(B) 노르보르넨계 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.(B) A resin composition comprising a norbornene-based polymer.

Figure 112009040747410-PCT00001
Figure 112009040747410-PCT00001

(식 (1) 및 식 (2) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 식 (2) 중, R0은 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타냄). (In formula (1) and formula (2), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and in formula (2), R 0 represents a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom). A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or a polar group).

〔2〕상기 스티렌계 공중합체 (A)는 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 중량 평균 분자량 Mw가 30,000 내지 1,000,000인 것을 특징으로 하는, 〔1〕에 기재된 수지 조성물. [2] The resin composition according to [1], wherein the styrene copolymer (A) has a weight average molecular weight Mw of 30,000 to 1,000,000 measured by gel permeation chromatography (GPC).

〔3〕상기 스티렌계 공중합체 (A)는 색측계를 이용하여 측정한 10 중량% 톨루엔 용액의 황색도(YI)가 5.0 이하인 것을 특징으로 하는, 〔1〕에 기재된 수지 조성물. [3] The resin composition according to [1], in which the styrene copolymer (A) has a yellowness (YI) of 10% by weight toluene solution measured using a colorimeter at 5.0 or less.

〔4〕상기 스티렌계 공중합체 (A)가 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과, 하기 화학식 (4)로 표시되는 단량체 (4)를 중합 반응시킨 후, 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환하는 공정을 포함하는 방법에 의해 얻어지 는 것을 특징으로 하는, 〔1〕에 기재된 수지 조성물; [4] After the styrene copolymer (A) polymerizes styrene and / or α-methylstyrene with the monomer (4) represented by the following general formula (4), in the structural unit derived from the monomer (4) -OR 14 group of the resin composition according to [1], characterized in that the paper obtained by a process comprising the step of converting a group -OH;

Figure 112009040747410-PCT00002
Figure 112009040747410-PCT00002

(식 (4) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R0은 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, R14는 아세틸기, t-부틸기, t-부톡시카르보닐기, -CH(OR15)(R16), 또는 -SiR15 3으로 표시되는 기 중 어느 하나를 나타내고, R15 및 R16은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, R15와 R16, 또는 R15끼리는 서로 결합하여 탄소수 2 내지 12의 복소환을 형성할 수도 있음). (In formula (4), R represents a hydrogen atom or a methyl group, R 0 represents a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted that may have a linking group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. A hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or a polar group, and R 14 represents an acetyl group, t-butyl group, t-butoxycarbonyl group, -CH (OR 15 ) (R 16 ), or -SiR 15 3 group R 15 and R 16 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 15 and R 16 , or R 15 may be bonded to each other to form a hetero ring having 2 to 12 carbon atoms). .

〔5〕상기 스티렌계 공중합체 (A)가 상기 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환하는 공정을 산의 존재 하에서 행하고, 그 후, 염기성 물질을 첨가하여 계 내의 산과 반응시키는 공정을 포함하는 방법에 의해 얻어진 것을 특징으로 하는, 〔4〕에 기재된 수지 조성물. [5] The step of converting the -OR 14 group in the structural unit derived from the monomer (4) into the -OH group by the styrene copolymer (A) in the presence of an acid, and then adding a basic substance The resin composition as described in [4] obtained by the method including the process of making it react with the acid inside.

〔6〕상기 노르보르넨계 중합체 (B)가 하기 화학식 (6)으로 표시되는 단량체 (6)으로부터 유도되는 구조 단위를 갖는 (공)중합체인 것을 특징으로 하는, 〔1〕 에 기재된 수지 조성물.[6] The resin composition according to [1], wherein the norbornene-based polymer (B) is a (co) polymer having a structural unit derived from a monomer (6) represented by the following general formula (6).

Figure 112009040747410-PCT00003
Figure 112009040747410-PCT00003

(식 (6) 중, a 및 b는 독립적으로 0 또는 1을 나타내고, c 및 d는 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타내고, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11, R12, 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, R10과 R11, 또는 R12와 R13은 일체화하여 2가의 탄화수소기를 형성할 수도 있고, R10 또는 R11과 R12 또는 R13은 서로 결합하여 탄소환 또는 복소환(이들 탄소환 또는 복소환은 단환 구조일 수도 있고, 다른 환이 축합하여 다환 구조를 형성할 수도 있음)을 형성할 수도 있음). (Wherein (6), a and b are independently 0 or 1, c and d are independently 0 to indicate a second integer, R 4, R 5, R 6, R 7, R 8, R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , and R 13 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted carbon number that may have a linking group including an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom A hydrocarbon group of 30 to 30; or a polar group, R 10 and R 11 , or R 12 and R 13 may be integrated to form a divalent hydrocarbon group, and R 10 or R 11 and R 12 or R 13 may be bonded to each other; Carbocycles or heterocycles (which may be monocyclic or may be condensed to form a polycyclic structure).

〔7〕상기 노르보르넨계 중합체 (B)가 하기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위를 갖는 (공)중합체인 것을 특징으로 하는, 〔1〕에 기재된 수지 조성물. [7] The resin composition according to [1], in which the norbornene-based polymer (B) is a (co) polymer having a structural unit represented by the following general formula (i).

Figure 112009040747410-PCT00004
Figure 112009040747410-PCT00004

(식 (i) 중, A1 내지 A4는 각각 독립적으로, 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소 원자수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, A1 내지 A4 중의 하나 이상은 -(CH2)nCOOA5로 표시되는 기(A5는 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기임)이고, n은 0 또는 1 내지 5의 정수임)(In Formula (i), A 1 to A 4 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; the number of substituted or unsubstituted carbon atoms which may have a linking group including an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. A hydrocarbon group of 1 to 30; or a polar group, and at least one of A 1 to A 4 is a group represented by-(CH 2 ) n COOA 5 (A 5 includes an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom Is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and n is 0 or an integer of 1 to 5)

〔8〕상기 노르보르넨계 중합체 (B)가 상기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위를 노르보르넨계 중합체 (B)의 전체 구조 단위 100 mol% 중 10 내지 70 mol%로 갖는 것을 특징으로 하는, 〔7〕에 기재된 수지 조성물. [8] The norbornene-based polymer (B) has a structural unit represented by the general formula (i) as 10 to 70 mol% in 100 mol% of the total structural units of the norbornene-based polymer (B), The resin composition as described in [7].

〔9〕상기 스티렌계 공중합체 (A)와 상기 노르보르넨계 중합체 (B)의 조성비((A)/(B))가 중량비로 5/95 내지 70/30의 범위인 것을 특징으로 하는, 〔1〕에 기재된 수지 조성물. [9] The composition ratio ((A) / (B)) of the styrene-based copolymer (A) and the norbornene-based polymer (B) is in the range of 5/95 to 70/30 by weight ratio, [ The resin composition as described in 1].

〔10〕〔1〕에 기재된 수지 조성물을 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 성형체. [10] A molded article comprising the resin composition according to [1] as a main component.

〔11〕용융 압출 성형에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는, 〔10〕에 기재 된 성형체. [11] The molded article according to [10], which is obtained by melt extrusion molding.

〔12〕〔1〕에 기재된 수지 조성물을 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 광학 필름. [12] An optical film containing the resin composition according to [1] as a main component.

〔13〕캐스팅법에 의해 제막하여 얻어지는 것을 특징으로 하는, 〔12〕에 기재된 광학 필름.[13] The optical film according to [12], which is obtained by forming a film by a casting method.

〔14〕압출법에 의해 제막하여 얻어지는 것을 특징으로 하는, 〔12〕에 기재된 광학 필름.[14] The optical film according to [12], which is obtained by forming a film by an extrusion method.

〔15〕〔12〕에 기재된 광학 필름을 가열 연신하여 얻어지는 연신 필름. [15] A stretched film obtained by heating and stretching the optical film according to [12].

〔16〕〔12〕에 기재된 광학 필름을 포함하는 편광판. [16] A polarizing plate comprising the optical film according to [12].

〔17〕〔12〕에 기재된 광학 필름을 포함하는 액정 표시 장치. [17] A liquid crystal display device comprising the optical film according to [12].

[발명의 효과][Effects of the Invention]

본 발명에 따르면, 필름 성형 시에 이용되는 염화메틸렌 등의 용매를 이용하더라도 상분리를 억제할 수가 있어, 광학 필름 용도에 바람직하고, 역파장 분산성과 우수한 투명성을 갖는 광학 필름을 용이하게 제조할 수 있는 수지 조성물을 제공할 수가 있다.According to the present invention, even if a solvent such as methylene chloride used in film forming is used, phase separation can be suppressed, and thus it is preferable for optical film applications, and an optical film having excellent reverse wavelength dispersion and excellent transparency can be easily produced. A resin composition can be provided.

또한, 본 발명에 따르면, 수지 조성물에 함유되는 스티렌계 공중합체의 각 구조 단위의 함유율을 조절함으로써 가열 시에도 양호한 상용성을 나타내고, 고온 하에서도 투명성을 유지할 수 있는, 필름 성형성이 우수한 수지 조성물을 제공할 수 있다. Moreover, according to this invention, by adjusting the content rate of each structural unit of the styrene-type copolymer contained in a resin composition, it shows the favorable compatibility also at the time of heating, and is excellent in the film composition which can maintain transparency even at high temperature. Can be provided.

또한 본 발명에 따르면, 스티렌계 공중합체와 노르보르넨계 중합체의 조성비 를 조절함으로써 저복굴절성을 나타내는 수지 조성물을 제공할 수가 있다.Moreover, according to this invention, the resin composition which shows low birefringence can be provided by adjusting the composition ratio of a styrene-type copolymer and a norbornene-type polymer.

또한, 본 발명의 수지 조성물로부터 얻어지는 광학 필름은 연신 필름, 상기 연신 필름을 이용한 편광판, 액정 표시 장치, 광학 부품으로서도 유용하다. Moreover, the optical film obtained from the resin composition of this invention is useful also as a stretched film, the polarizing plate using the said stretched film, a liquid crystal display device, and an optical component.

도 1은 합성예 1에서 얻은 스티렌계 중합체 (1A)의 IR 스펙트럼을 도시한다.1 shows the IR spectrum of the styrene polymer (1A) obtained in Synthesis Example 1. FIG.

도 2는 합성예 1에서 얻은 스티렌계 중합체 (1A)의 13C-NMR 스펙트럼을 도시한다. 2 shows the 13 C-NMR spectrum of the styrenic polymer (1A) obtained in Synthesis Example 1. FIG.

도 3은 합성예 4에서 얻은 스티렌계 중합체 (4A)의 IR 스펙트럼을 도시한다.3 shows the IR spectrum of the styrenic polymer (4A) obtained in Synthesis Example 4. FIG.

도 4는 합성예 4에서 얻은 스티렌계 중합체 (4A)의 13C-NMR 스펙트럼을 도시한다. 4 shows the 13 C-NMR spectrum of the styrenic polymer (4A) obtained in Synthesis Example 4. FIG.

도 5는 합성예 5에서 얻은 스티렌계 중합체 (5A)의 IR 스펙트럼을 도시한다.5 shows the IR spectrum of the styrenic polymer (5A) obtained in Synthesis Example 5. FIG.

도 6은 합성예 5에서 얻은 스티렌계 중합체 (5A)의 13C-NMR 스펙트럼을 도시한다. FIG. 6 shows a 13 C-NMR spectrum of a styrenic polymer (5A) obtained in Synthesis Example 5. FIG.

도 7은 실시예 10에서 얻은 블렌드 수지의 Tg 측정에 있어서의 차트를 도시한다. 7 shows a chart in a Tg measurement of the blend resin obtained in Example 10. FIG.

도 8은 실시예 11에서 얻은 블렌드 수지의 Tg 측정에 있어서의 차트를 도시한다.8 shows a chart in a Tg measurement of the blend resin obtained in Example 11. FIG.

[발명을 실시하기 위한 최선의 형태]Best Mode for Carrying Out the Invention

본 발명에 따른 수지 조성물은 스티렌계 공중합체 (A)와 노르보르넨계 중합 체 (B)를 함유하고 있다. 이하, 이들에 대해서 설명한다. The resin composition according to the present invention contains a styrene copolymer (A) and a norbornene polymer (B). Hereinafter, these are demonstrated.

또한, 본 명세서 중에 있어서 (공)중합체란 중합체 또는 공중합체를 의미한다.In addition, in this specification, a (co) polymer means a polymer or a copolymer.

<스티렌계 공중합체 (A)> <Styrene-based copolymer (A)>

본 발명에 따른 수지 조성물에 함유되는 스티렌계 공중합체 (A)는 하기 화학식 (1)로 표시되는 구조 단위 (1) 및 하기 화학식 (2)로 표시되는 구조 단위 (2)를 갖는다. The styrene-based copolymer (A) contained in the resin composition according to the present invention has a structural unit (1) represented by the following general formula (1) and a structural unit (2) represented by the following general formula (2).

Figure 112009040747410-PCT00005
Figure 112009040747410-PCT00005

화학식 (1) 및 화학식 (2) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. 화학식 (2) 중, R0은 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타낸다. In formula (1) and formula (2), R represents a hydrogen atom or a methyl group. In formula (2), R 0 is a hydrogen atom; Halogen atom; Substituted or unsubstituted C1-C30 hydrocarbon group which may have a coupling group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom; Or a polar group.

구조 단위 (2)의 함유율은 전체 구조 단위 100 mol% 중, 통상 0.1 내지 50 mol%, 바람직하게는 0.2 내지 40 mol%, 보다 바람직하게는 1 내지 20 mol%이다. 상기 수치 범위 내이면, 본 발명에 따른 수지 조성물에 함유되는 스티렌계 공중합체 (A)와 노르보르넨계 중합체 (B)의 쌍방이 양호한 용해성을 나타내는 용매가 존 재하는 것에 추가로, 고온 하에서도 상분리되지 않고 투명성을 유지할 수 있기 때문에, 바람직하다. The content rate of the structural unit (2) is usually 0.1 to 50 mol%, preferably 0.2 to 40 mol%, and more preferably 1 to 20 mol% in 100 mol% of the total structural units. If it is in the said numerical range, both the styrene-type copolymer (A) and the norbornene-type polymer (B) which are contained in the resin composition which concerns on this invention exist in addition to the solvent which shows favorable solubility, and also phase-separates even at high temperature. Since transparency can be maintained, it is preferable.

또한 스티렌계 공중합체 (A)는 하기 화학식 (3)으로 표시되는 구조 단위 (3)를 가질 수도 있다. In addition, the styrenic copolymer (A) may have a structural unit (3) represented by the following general formula (3).

Figure 112009040747410-PCT00006
Figure 112009040747410-PCT00006

화학식 (3) 중, R1 내지 R3은 각각 독립적으로, 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소 원자수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타낸다. 또한, R1과 R2는 서로 결합하여 탄소환 또는 복소환(이들 탄소환 또는 복소환은 단환 구조일 수도 있고, 다른 환이 축합하여 다환 구조를 형성할 수도 있음)을 형성할 수도 있다. In formula (3), R <1> -R <3> is respectively independently a hydrogen atom; Halogen atom; A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a linking group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom; Or a polar group. In addition, R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a carbocyclic ring or a heterocycle (these carbocyclic rings or heterocycles may have a monocyclic structure or other rings may condense to form a polycyclic structure).

상기 화학식 (1) 내지 (3)에 있어서, 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자 및 브롬 원자를 들 수 있다. In the formulas (1) to (3), examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.

탄소 원자수 1 내지 30의 탄화수소기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기; 비닐기, 알릴기, 프로페닐기 등의 알케닐기 등을 들 수 있다. As a hydrocarbon group of 1-30 carbon atoms, For example, Alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group; Cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; Alkenyl groups, such as a vinyl group, an allyl group, and a propenyl group, etc. are mentioned.

또한, 상기한 치환 또는 비치환된 탄화수소기는 직접 환 구조에 결합하고 있을 수도 있고, 또는 연결기(linkage)를 통해 결합하고 있을 수도 있다. 연결기로 서는, 예를 들면, 탄소 원자수 1 내지 10의 2가의 탄화수소기(예를 들면, -(CH2)m-(식 중, m은 1 내지 10의 정수)으로 표시되는 알킬렌기); 산소, 질소, 황 또는 규소를 포함하는 연결기(예를 들면, 카르보닐기(-CO-), 옥시카르보닐기(-0(CO)-), 카르보닐옥시기(-CO0-), 술폰기(-SO2-), 에테르 결합(-0-), 티오에테르 결합(-S-), 이미노기(-NH-), 아미드 결합(-NHCO-, -CONH-), 실록산 결합(-OSi(R)-(식 중, R은 메틸, 에틸 등의 알킬기))) 등을 들 수 있으며, 이들을 복수 포함하는 연결기일 수도 있다. In addition, the above-mentioned substituted or unsubstituted hydrocarbon group may be directly bonded to the ring structure, or may be bonded via a linkage. As the linking group, for example, a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms (for example, an alkylene group represented by-(CH 2 ) m- (wherein m is an integer of 1 to 10)); Linking groups containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon (e.g., carbonyl group (-CO-), oxycarbonyl group (-0 (CO)-), carbonyloxy group (-CO0-), sulfone group (-SO 2 -, Ether bond (-0-), thioether bond (-S-), imino group (-NH-), amide bond (-NHCO-, -CONH-), siloxane bond (-OSi (R)-( In formula, R is alkyl groups, such as methyl and ethyl)))), etc. are mentioned, The coupling group containing two or more may be sufficient.

극성기로서는, 예를 들면, 수산기, 탄소 원자수 1 내지 10의 알콕시기, 카르보닐옥시기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 트리오르가노실록시기, 트리오르가노실릴기, 아미노기, 아실기, 알콕시실릴기, 술포닐기, 및 카르복실기 등을 들 수 있다. 더욱 구체적으로는, 상기 알콕시기로서는, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기 등; 카르보닐옥시기로서는, 예를 들면, 아세톡시기, 프로피오닐옥시기 등의 알킬카르보닐옥시기, 및 벤조일옥시기 등의 아릴카르보닐옥시기; 알콕시카르보닐기로서는, 예를 들면, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등; 아릴옥시카르보닐기로서는, 예를 들면, 페녹시카르보닐기, 나프틸옥시카르보닐기, 플루오레닐옥시카르보닐기, 비페닐릴옥시카르보닐기 등; 트리오르가노실록시기로서는, 예를 들면, 트리메틸실록시기, 트리에틸실록시기 등; 트리오르가노실릴기로서는, 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기 등; 아미노기로서는, 제1급 아미노기; 알콕시실릴기로서는, 예를 들면, 트리메톡시실릴기, 트리에톡시실릴기 등을 들 수 있다. Examples of the polar group include a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carbonyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, an amide group, an imide group, a triorganosiloxy group, and triorganosilyl A group, an amino group, an acyl group, an alkoxy silyl group, a sulfonyl group, a carboxyl group, etc. are mentioned. More specifically, as said alkoxy group, For example, a methoxy group, an ethoxy group, etc .; As a carbonyloxy group, For example, Alkylcarbonyloxy groups, such as an acetoxy group and a propionyloxy group, and arylcarbonyloxy groups, such as a benzoyloxy group; As an alkoxycarbonyl group, For example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, etc .; As an aryloxycarbonyl group, For example, a phenoxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, a fluorenyloxycarbonyl group, a biphenylyloxycarbonyl group, etc .; As a triorgano siloxy group, For example, a trimethyl siloxy group, a triethyl siloxy group, etc .; Examples of the triorganosilyl group include trimethylsilyl group and triethylsilyl group; As an amino group, Primary amino group; As an alkoxy silyl group, a trimethoxy silyl group, a triethoxy silyl group, etc. are mentioned, for example.

화학식 (3)으로 표시되는 구조 단위를 유도하는 단량체의 구체예로서는, (메트)아크릴아미드, (메트)아크릴산 및 그의 유도체, 무수 말레산, 말레이미드류, 말레산 및 그의 유도체, 푸마르산 및 그의 유도체, p-메톡시스티렌 등을 들 수 있다. 또한, 후술하는 탈보호 반응으로 변환되지 않고서 부분적으로 화학식 (4)로 표시되는 스티렌 유도체 유래의 구조 단위가 잔존하는 경우 등, 화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체 등도 상기 단량체에 포함된다. 구조 단위 (3)의 함유율은 전체 구조 단위 100 mol% 중, 통상 20 mol% 이하, 바람직하게는 15 mol% 이하, 보다 바람직하게는 10 mol% 이하이다. As a specific example of the monomer which derives the structural unit represented by General formula (3), (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid and its derivative (s), maleic anhydride, maleimide, maleic acid and its derivative (s), fumaric acid and its derivative (s), p-methoxy styrene etc. are mentioned. Moreover, the styrene monomer represented by Formula (4), etc. are contained in the said monomer, such as the case where the structural unit derived from the styrene derivative represented by Formula (4) remains partially, without being converted into the deprotection reaction mentioned later. The content rate of the structural unit (3) is usually 20 mol% or less, preferably 15 mol% or less, and more preferably 10 mol% or less in 100 mol% of all the structural units.

본 발명에 이용되는 스티렌계 공중합체 (A)는, 30℃의 클로로벤젠 용액(농도 0.5 g/dL) 중에서 측정한 대수 점도(η)가 0.1 내지 3.0 dL/g인 것이 바람직하다. 또한, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정되는 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw가 통상 30,000 내지 1,000,000, 바람직하게는 40,000 내지 800,000, 보다 바람직하게는 50,000 내지 500,000이다. 분자량이 너무 작으면, 얻어지는 필름 등의 성형품의 강도가 낮아지는 경우가 있다. 분자량이 너무 크면, 용액 점도가 너무 높아져 본 발명에 이용하는 수지 조성물의 생산성이나 가공성이 악화하는 경우가 있다.As for the styrene copolymer (A) used for this invention, it is preferable that the logarithmic viscosity ((eta)) measured in 30 degreeC chlorobenzene solution (concentration 0.5 g / dL) is 0.1-3.0 dL / g. In addition, the weight average molecular weight Mw of polystyrene conversion measured by gel permeation chromatography (GPC) is usually 30,000 to 1,000,000, preferably 40,000 to 800,000, and more preferably 50,000 to 500,000. When molecular weight is too small, the strength of molded articles, such as a film obtained, may fall. When molecular weight is too big, solution viscosity may become high too much and productivity and workability of the resin composition used for this invention may deteriorate.

또한, 스티렌계 공중합체 (A)의 분자량 분포(Mw/Mn)는 통상 1.0 내지 10, 바람직하게는 1.2 내지 5.0, 보다 바람직하게는 1.2 내지 4.0이다. In addition, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the styrenic copolymer (A) is usually 1.0 to 10, preferably 1.2 to 5.0, and more preferably 1.2 to 4.0.

또한 스티렌계 공중합체 (A)로서는 황변 등의 착색이 적고, 투명성이 우수한 것이 바람직하다. 구체적으로는, 색측계를 이용하여 측정한 10 중량% 톨루엔 용액의 황색도(YI)가 바람직하게는 통상 5.0 이하, 보다 바람직하게는 4.0 이하, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 3.0의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 황색도는 통상 0.2로 무색이다. Moreover, as a styrene-type copolymer (A), what has little coloring, such as yellowing, and is excellent in transparency is preferable. Specifically, the yellowness (YI) of the 10% by weight toluene solution measured using a colorimeter is preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less, and still more preferably 0.05 to 3.0. . In addition, the yellowness is usually colorless at 0.2.

[스티렌계 공중합체 (A)의 제조 방법][Method for producing styrene copolymer (A)]

본 발명에 이용되는 스티렌계 공중합체 (A)는 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과 하기 화학식 (4)로 표시되는 단량체 (4)의 R14를 수소 원자로 치환한 비닐페놀류를 직접 공중합하여 얻을 수도 있는데, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과, 하기 화학식 (4)로 표시되는 단량체 (4)와, 필요에 따라서 하기 화학식 (5)로 표시되는 단량체를 적당한 중합 개시제의 존재 하에서 중합 반응시킨 후, 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수도 있다. 중합 개시제로서는 라디칼 중합 개시제, 음이온 중합 촉매, 배위 중합 촉매, 양이온 중합 촉매 등을 이용하는 것이 바람직하고, 라디칼 중합 개시제를 이용하는 것이 특히 바람직하다. The styrenic copolymer (A) used in the present invention may be obtained by directly copolymerizing styrene and / or α-methylstyrene and vinylphenols in which R 14 of the monomer (4) represented by the following general formula (4) is substituted with a hydrogen atom. There is a polymerization reaction between styrene and / or α-methylstyrene, the monomer (4) represented by the following general formula (4) and the monomer represented by the following general formula (5), if necessary, in the presence of a suitable polymerization initiator, a group -OR 14 in the structural unit of the monomer (4) derived may be prepared by a process comprising the step of converting a group -OH. It is preferable to use a radical polymerization initiator, an anionic polymerization catalyst, a coordination polymerization catalyst, a cationic polymerization catalyst, etc. as a polymerization initiator, and it is especially preferable to use a radical polymerization initiator.

Figure 112009040747410-PCT00007
Figure 112009040747410-PCT00007

화학식 (4) 중, R 및 R0은 화학식 (2)와 같은 의미이다. R14는 아세틸기, t- 부틸기, t-부톡시카르보닐기, -CH(OR15)(R16), 또는 -SiR15 3으로 표시되는 기 중 어느 하나를 나타낸다. R15 및 R16은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, R15와 R16, 또는 R15끼리는 서로 결합하여 탄소수 2 내지 12의 복소환을 형성할 수도 있다.In formula (4), R and R 0 have the same meaning as in formula (2). R 14 represents any of a group represented by an acetyl group, t-butyl group, t-butoxycarbonyl group, -CH (OR 15 ) (R 16 ), or -SiR 15 3 . R 15 and R 16 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 15 and R 16 or R 15 may be bonded to each other to form a hetero ring having 2 to 12 carbon atoms.

R 및 R0로서는 수소 원자가 바람직하다. R14로서, 그 중에서도 아세틸기, t-부틸기가 바람직하다. As R and R 0, a hydrogen atom is preferable. As R <14> , an acetyl group and t-butyl group are especially preferable.

또한, 상기 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌은 스티렌만인 것이 바람직하다.Further, the styrene and / or α-methylstyrene is preferably styrene only.

Figure 112009040747410-PCT00008
Figure 112009040747410-PCT00008

화학식 (5) 중, R1 내지 R3은 화학식 (3)에 있어서의 R1 내지 R3과 같은 의미이다.In the formula (5), R 1 to R 3 is the same meaning as R 1 to R 3 in the general formula (3).

또한, 본 발명에 따른 스티렌계 공중합체 (A)는, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과, 하기 화학식 (4')로 표시되는 단량체 (4')와, 필요에 따라서 상기 화학식 (5)로 표시되는 단량체를 공중합 반응시키는 공정에 의해서도 바람직하게 제조할 수 있다. 이 경우에는 후술하는 -OH기로의 변환 반응 공정을 거치지 않고서 본 발명에서 이용하는 스티렌계 공중합체 (A)를 제조할 수 있다. In addition, the styrene-based copolymer (A) according to the present invention may be a styrene and / or α-methylstyrene, a monomer (4 ') represented by the following general formula (4'), and, if necessary, the general formula (5) It can manufacture suitably also by the process of copolymerizing the monomer shown. In this case, the styrene copolymer (A) used by this invention can be manufactured, without going through the conversion reaction process to -OH group mentioned later.

Figure 112009040747410-PCT00009
Figure 112009040747410-PCT00009

(식 (4') 중, R 및 R0은 상기 화학식 (2)에서의 정의와 같음)(In formula (4 '), R and R <0> are the same as the definition in the said General formula (2).)

이러한 각 단량체는 각 단량체로부터 유도되는 각 구조 단위의 원하는 함유율와 동일한 비율로 바람직하게 사용할 수 있다. Each of these monomers can be preferably used in the same ratio as the desired content rate of each structural unit derived from each monomer.

〈중합 반응〉<polymerization>

중합 반응에 이용되는 라디칼 개시제로서는, 자유 라디칼을 발생하는 공지된 유기 과산화물, 또는 아조비스계의 라디칼 중합 개시제를 사용할 수 있다. 또한, 다관능 개시제 또는 수소 방출 반응을 일으키기 쉬운 개시제는, 얻어지는 스티렌계 공중합체의 선상성(線狀姓)이 저하될 우려가 있기 때문에, 바람직하지 않다.As a radical initiator used for a polymerization reaction, the well-known organic peroxide which generate | occur | produces a free radical, or an azobis type radical polymerization initiator can be used. Moreover, since the linearity of the styrene-type copolymer obtained may fall, the polyfunctional initiator or the initiator which is easy to produce a hydrogen release reaction is not preferable.

유기 과산화물로서는, 디아세틸퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, 디이소부티로일퍼옥사이드, 디(2,4-디클로로벤조일)퍼옥사이드, 디(3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드, 디옥타노일퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드, 디스테아로일퍼옥사이드, 비스{4-(m-톨루오일)벤조일}퍼옥사이드 등의 디아실퍼옥사이드류; Examples of the organic peroxide include diacetyl peroxide, dibenzoyl peroxide, diisobutyroyl peroxide, di (2,4-dichlorobenzoyl) peroxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide and diocta Diacyl peroxides such as noyl peroxide, dilauroyl peroxide, distearoyl peroxide, and bis {4- (m-toluyl) benzoyl} peroxide;

메틸에틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드, 메틸시클로헥사논퍼옥사이드, 아세틸아세톤퍼옥사이드 등의 케톤퍼옥사이드류; Ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide and acetylacetone peroxide;

과산화수소, t-부틸하이드로퍼옥사이드, α-쿠멘하이드로퍼옥사이드, p-멘탄 하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠하이드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸하이드로퍼옥사이드, t-헥실하이드로퍼옥사이드 등의 하이드로퍼옥사이드류; Hydrogen peroxide, t-butylhydroperoxide, α-cumene hydroperoxide, p-mentane hydroperoxide, diisopropylbenzenehydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylhydroperoxide, t-hexylhydro Hydroperoxides such as loperoxide;

디-t-부틸퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디라우릴퍼옥사이드, α,α'-비스(t-부틸퍼옥시)디이소프로필벤젠, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥산, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥신-3 등의 디알킬퍼옥사이드류; Di-t-butylperoxide, dicumylperoxide, dilaurylperoxide, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butyl Dialkyl peroxides such as peroxy) hexane, t-butyl cumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexine-3;

t-부틸퍼옥시아세테이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, t-부틸퍼옥시말레에이트, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(m-톨루오일퍼옥시)헥산, α,α'-비스(네오데카노일퍼옥시)디이소프로필벤젠, 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오도데카노에이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, 비스(t-부틸퍼옥시)이소프탈레이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시-m-톨루오일벤조에이트, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 등의 퍼옥시에스테르류; t-butylperoxy acetate, t-butylperoxy pivalate, t-hexyl peroxy pivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl- 2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t- Butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, t-butylperoxymaleate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylau Late, 2,5-dimethyl-2,5-bis (m-toluoylperoxy) hexane, α, α'-bis (neodecanoylperoxy) diisopropylbenzene, cumylperoxy neodecanoate, 1 , 1,3,3-tetramethylbutylperoxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy neodecanoate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-butylperoxy neodode Decanoate, t-butylperoxybenzoate, t-hexylperoxybene Ate, bis (t-butylperoxy) isophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxy-m-toluoylbenzoate, 3,3 ', 4 Peroxy esters such as 4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone;

1,1-비스(t-헥실퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼 옥시)시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로도데칸, 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄, n-부틸-4,4-비스(t-부틸퍼옥시)피발레이트, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시시클로헥실)프로판 등의 퍼옥시케탈류; 1,1-bis (t-hexylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3 , 3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylper Peroxy ketals such as oxy) butane, n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) pivalate and 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) propane ;

t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시알릴모노카르보네이트 등의 퍼옥시모노카르보네이트류; t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butyl peroxy allyl monocarbonate, etc. Peroxy monocarbonates;

디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트, 디-n-프로필퍼옥시디카르보네이트, 디이소프로필퍼옥시디카르보네이트, 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-2-에톡시에틸퍼옥시디카르보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카르보네이트, 디-2-메톡시부틸퍼옥시디카르보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시디카르보네이트 등의 퍼옥시디카르보네이트류; Di-sec-butylperoxydicarbonate, di-n-propylperoxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2 -Ethoxyethylperoxydicarbonate, di-2-ethylhexylperoxydicarbonate, di-2-methoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydica Peroxydicarbonates such as carbonate;

기타, t-부틸트리메틸실릴퍼옥사이드 등을 들 수 있지만, 본 발명에 이용되는 유기 과산화물은 이들 예시 화합물에 한정되는 것은 아니다. Although t-butyl trimethylsilyl peroxide etc. are mentioned, The organic peroxide used for this invention is not limited to these exemplary compounds.

아조계 라디칼 중합 개시제로서는, 아조비스이소부티로니트릴, 아조비스이소발레로니트릴, 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-(카르바모일아조)이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스[2-메틸-N-{1,1-비스(히드록시메틸)-2-히드록시에틸}프로피온아미드], 2,2'-아조비스[2-메틸-N-{2-(1-히드록시부틸)}프로피온아미드], 2,2'-아조비스[2-메틸-N-(2-히드록시에틸)-프로피온아미드], 2,2'-아조비스[N-(2-프로페닐)-2-메틸프로피온아 미드], 2,2'-아조비스(N-부틸-2-메틸프로피온아미드), 2,2'-아조비스(N-시클로헥실-2-메틸프로피온아미드), 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판]디술페이트·디하이드레이트, 2,2'-아조비스[2-(3,4,5,6-테트라히드로피리미딘-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-{1-(2-히드록시에틸)-2-이미다졸린-2-일}프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판], 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[N-(2-카르복시에틸)-2-메틸-프로피온아미딘], 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미드옥심), 디메틸-2,2'-아조비스부티레이트, 4,4'-아조비스(4-시아노펜탄산), 2,2'-아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄) 등을 들 수 있는데, 바람직한 개시제는 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-(카르바모일아조)이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(N-부틸-2-메틸프로피온아미드)로, 중량 평균 분자량이 85000 이상인 고분자량체의 스티렌계 공중합체가 얻어진다. 본 발명에 이용되는 아조비스계 라디칼 중합 개시제는 이들 예시 화합물에 한정되는 것은 아니다. Examples of azo radical polymerization initiators include azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile, 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azo. Bis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2- (carba Moyl azo) isobutyronitrile, 2,2'-azobis [2-methyl-N- {1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl} propionamide], 2,2'-azo Bis [2-methyl-N- {2- (1-hydroxybutyl)} propionamide], 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) -propionamide], 2 , 2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2'-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azo Bis [2- (2-imidazolin-2-yl) pro ] Dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] disulfate dihydrate, 2,2'-azobis [2- (3,4,5] , 6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- {1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl} propane ] Dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 2, 2'-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methyl-propionamidine], 2,2'-azobis (2-methylpropionamide oxime), dimethyl-2,2'-azobisbutyrate , 4,4'-azobis (4-cyanopentanoic acid), 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane), and the like. Preferred initiators include 1,1'-azobis ( Cyclohexane-1-carbonitrile), 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile, 2,2'-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), having a weight average molecular weight of 850 A styrene copolymer of a high molecular weight body of 00 or more is obtained. The azobis type radical polymerization initiator used for this invention is not limited to these exemplary compounds.

양이온 중합 개시제로서는, 염산, 황산, p-톨루엔술폰산, 인산 등의 브뢴스테드산, 삼불화붕소 착체, 삼염화알루미늄, 에틸알루미늄디클로라이드, 사염화티탄, 티탄테트라이소프로폭시드, 염화텅스텐 등의 루이스산을 들 수 있다. Examples of cationic polymerization initiators include brested acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid and phosphoric acid, boron trifluoride complexes, aluminum trichloride, ethyl aluminum dichloride, titanium tetrachloride, titanium tetraisopropoxide and tungsten chloride. Mountain.

음이온 중합 개시제로서는, 부틸리튬, 페닐리튬 등의 유기리튬류, 리튬아미드, 나트륨아미드 등의 금속 아미드류, 에틸마그네슘브로마이드, 페닐마그네슘클로 라이드 등의 그리나드 시약, 나트륨메톡시드, 나트륨에톡시드 등의 금속 알콕시드 등을 들 수 있다. As an anionic polymerization initiator, organic lithiums, such as butyl lithium and phenyl lithium, metal amides, such as lithium amide and sodium amide, Grignard reagent, such as ethyl magnesium bromide, and phenyl magnesium chloride, sodium methoxide, sodium ethoxide, etc. And metal alkoxides.

이들 중합 개시제의 사용량은 상기 단량체 전량 100 mol% 중, 통상 0.01 내지 5 mol%, 바람직하게는 0.03 내지 3 mol%, 보다 바람직하게는 0.05 내지 2 mol%이다. The use amount of these polymerization initiators is usually 0.01 to 5 mol%, preferably 0.03 to 3 mol%, more preferably 0.05 to 2 mol% in 100 mol% of the total monomers.

또한, 상기 스티렌계 단량체의 중합 반응에는 촉매가 이용될 수도 있다. 이 촉매는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 공지된 음이온 중합 촉매, 배위 중합 촉매, 양이온 중합 촉매 등을 들 수 있다. In addition, a catalyst may be used in the polymerization reaction of the styrene monomer. This catalyst is not specifically limited, For example, a well-known anionic polymerization catalyst, a coordination polymerization catalyst, a cationic polymerization catalyst, etc. are mentioned.

상기 스티렌계 단량체의 중합 반응은 상기 중합 개시제나 촉매의 존재 하에서, 상기 스티렌계 단량체를 괴상 중합법, 용액 중합법, 침전 중합법, 유화 중합법, 현탁 중합법 또는 괴상-현탁 중합법 등의 종래 공지된 방법으로 공중합시킴으로써 행해진다. The polymerization reaction of the styrene monomers is conventionally performed in the presence of the polymerization initiator or catalyst, such as bulk polymerization, solution polymerization, precipitation polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization or bulk-suspension polymerization. It is performed by copolymerizing by a well-known method.

용액 중합을 실시할 때에 사용하는 용제로서는, 상기 단량체 및 중합체를 용해하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 시클로헥산 등의 탄화수소계 용제, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소계 용제가 바람직하다. 용제의 사용량은 상기 스티렌계 단량체 전량에 대하여 0 내지 3배(중량비)의 양인 것이 바람직하다. 라디칼 중합을 이용하는 경우에는, 원하는 분자량을 갖는 중합체를 얻기 위해서 필요에 따라서 연쇄 이동제를 첨가할 수도 있다. 연쇄 이동제로서는 특별한 한정 없이 종래 공지된 연쇄 이동제를 사용할 수가 있는데, 보다 구체적으로는 하기와 같은 것을 열거할 수 있다. 도데칸티올, 머캅토에탄올, 머캅토프로판올, 머캅토아세트산, 머캅토프로피 온산 등. 이들 연쇄 이동제는 단독으로 사용할 수도 있고, 복수종을 혼합하여 사용할 수도 있다. Although it will not specifically limit, if it melt | dissolves the said monomer and polymer as a solvent used at the time of performing solution polymerization, A hydrocarbon solvent, such as cyclohexane, and aromatic hydrocarbon solvents, such as toluene, are preferable. It is preferable that the usage-amount of a solvent is an amount of 0 to 3 times (weight ratio) with respect to the said styrene-based monomer whole quantity. When using radical polymerization, a chain transfer agent can also be added as needed in order to obtain the polymer which has a desired molecular weight. As a chain transfer agent, a conventionally well-known chain transfer agent can be used without a restriction | limiting, More specifically, the following can be enumerated. Dodecanethiol, mercaptoethanol, mercaptopropanol, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, and the like. These chain transfer agents may be used independently, or may mix and use multiple types.

중합 반응 시간은 통상 1 내지 30시간, 바람직하게는 3 내지 20시간이고, 중합 반응 온도는 사용하는 라디칼 개시제의 종류에 의존하기 때문에 특별히 한정되지 않지만, 통상 40 내지 180℃, 바람직하게는 50 내지 120℃이다. The polymerization reaction time is usually 1 to 30 hours, preferably 3 to 20 hours, and the polymerization reaction temperature is not particularly limited because it depends on the type of radical initiator to be used, but is usually 40 to 180 ° C, preferably 50 to 120 ℃.

〈OH기로의 변환 반응〉<Conversion reaction to OH group>

본 발명에 이용되는 스티렌계 공중합체 (A)는 상기 스티렌계 단량체를 중합시킨 후, 추가로 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환함으로써 얻을 수 있다. 이에 따라, 예를 들면, 화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체의 R14가 이탈하여, 스티렌계 공중합체 (A)에 함유되는 화학식 (2)로 표시되는 구조 단위를 형성하게 된다. The styrene-based copolymer (A) used in the present invention can be obtained by polymerizing the styrene-based monomer, and then further converting the -OR 14 group in the structural unit derived from the monomer (4) to the -OH group. Thus, for example, R 14 of the styrene monomer represented by the formula (4) is released to form the structural unit represented by the formula (2) contained in the styrene copolymer (A).

상기 변환 반응으로서는, 산 또는 염기의 존재 하에서 가알코올 분해 또는 가수 분해로 변환하는 방법, 산성 조건 하에서 가열하여 변환하는 방법, 가열만에 의해서 변환하는 방법, 및 불화물 이온을 이용하여 변환하는 방법 등을 들 수 있고, 상기 O-R14기에서의 R14의 구조에 따라 채용할 수 있는 바람직한 방법이 서로 다르지만, 산의 존재 하에서 단량체 (4)에서 유래되는 구조 단위 중 -OR14로 표시되는 기를 -OH기로 변환하는 것이 바람직하고, 산의 존재 하에서 가알코올 분해 또는 가수 분해로 변환하는 방법, 또는 산성 조건 하에서 가열하여 변환하는 방법이 바람 직하게 채용된다. As the conversion reaction, a method of converting to alcoholic or hydrolysis in the presence of an acid or a base, a method of heating and converting under acidic conditions, a method of converting by heating only, a method of converting using fluoride ions, and the like Although the preferable method which can be employ | adopted according to the structure of R <14> in the said OR <14> group differs from each other, in the presence of an acid, the group represented by -OR <14> from the structural unit derived from monomer (4) is -OH group It is preferable to convert, and the method of converting into an alcoholic decomposition or hydrolysis in the presence of an acid, or the method of converting by heating under acidic conditions is preferably employed.

상기 -OR14기에서의 R14가 예를 들면, 아세틸기(-COCH3), t-부톡시카르보닐기(-COOtBu), 실릴기(SiR15 3), 산소 원자와 결합하여 아세탈기를 형성할 수 있는 알콕시알킬기(-CH(OR15)(R16)) 등의 경우, 산성 조건 하에서 가수 분해 또는 가알코올 분해하는 방법이 바람직하게 채용된다. R 14 in the —OR 14 group may be bonded to an acetyl group (-COCH 3 ), t-butoxycarbonyl group (-COO t Bu), silyl group (SiR 15 3 ), and an oxygen atom to form an acetal group In the case of the alkoxyalkyl group (-CH (OR 15 ) (R 16 )) which can be used, the method of hydrolyzing or an alcoholic decomposition under acidic conditions is employ | adopted preferably.

상기 -OR14기에서의 R14가 예를 들면, 아세틸기(-COCH3), t-부톡시카르보닐기(-COOtBu) 등의 경우, 염기성 조건 하에서 가수 분해 또는 가알코올 분해하는 방법이 바람직하게 채용된다. In the case where R 14 in the —OR 14 group is, for example, an acetyl group (-COCH 3 ), a t-butoxycarbonyl group (-COO t Bu), or the like, a method of hydrolyzing or alcoholic decomposition under basic conditions is preferable. Is adopted.

산성 조건 하에서 가열하여 변환하는 방법 또는 가열만에 의해서 변환하는 방법을 적용할 수 있는 상기 -OR14기에서의 R14로서는, 예를 들면, t-부틸기(-tBu), t-부톡시카르보닐기(-COOtBu)를 들 수 있고, 불화물 이온을 이용하여 변환시키는 방법을 적용할 수 있는 R14로서는 실릴기(SiR15 3)를 들 수 있다. As R <14> in the said -OR <14> group to which the method of heating and converting under acidic conditions or the method of converting only by heating is applicable, it is a t-butyl group ( -t Bu) and t-butoxy, for example. group (-COO t Bu) may be mentioned, can be given as R 14 that can be applied to a method for conversion using the fluoride ion silyl group (SiR 15 3).

≪가수 분해 및 가알코올 분해≫`` Hydrolysis and Alcohol Decomposition ''

가수 분해 및 가알코올 분해에 이용되는 산으로서는, 염산, 브롬산 등의 할로겐화수소, 포름산, 옥살산, 아세트산, 트리플루오로아세트산 등의 카르복실산류, 황산, p-톨루엔술폰산, 벤젠술폰산, 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산 등의 술 폰산류, 질산, 또는 페놀류 등의 브뢴스테드산, 인텅스텐산, 인몰리브덴산 등의 헤테로폴리산, 황산화지르코니아, 제올라이트 등의 고체산, 이온 교환 수지, 고분자 전해질 등의 고분자 산, 및 할로겐화, 알킬화 및/또는 알콕시화된 알루미늄, 티탄, 텅스텐, 또는 붕소 화합물 등의 루이스산, 공지된 고정화 루이스산을 들 수 있다. 이들 산 중에서는 특히 황산이 바람직하게 이용된다. 산의 사용량은 화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체의 사용량과의 몰비가 통상 산/화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체=1/1000 내지 1/1, 바람직하게는 1/300 내지 1/5이다. Examples of the acid used for hydrolysis and dialcohol decomposition include carboxylic acids such as hydrogen halides such as hydrochloric acid and bromic acid, formic acid, oxalic acid, acetic acid and trifluoroacetic acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, methanesulfonic acid, Sulfonic acids such as trifluoromethanesulfonic acid, bronsted acids such as nitric acid, or phenols, heteropoly acids such as phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, solid acids such as zirconia sulfate, zeolite, ion exchange resin, polymer electrolyte, etc. And high molecular acids, and Lewis acids such as halogenated, alkylated and / or alkoxylated aluminum, titanium, tungsten, or boron compounds, and known immobilized Lewis acids. Among these acids, sulfuric acid is particularly preferably used. The amount of acid used is styrene monomer of the molar ratio with the amount of styrene monomer represented by the general formula (4), which is usually represented by acid / chemical formula (4) = 1/1000 to 1/1, preferably 1/300 to 1 / 5.

또한, 염기로서는, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화리튬, 수산화암모늄, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드 등을 들 수 있다. 염기의 사용량은 화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체의 몰수 이상의 몰수를 요하고, 통상 화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체의 사용량과의 몰비가 염기/화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체=1/1 내지 5/1이다. 또한, 가수 분해 후 또는 가알코올 분해 후에 산에 의해서 중화할 필요가 있다. 중화에 이용되는 산으로서는 상기 산과 동일한 산을 사용할 수 있다. 염기로서 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화리튬 등의 금속 히드록시드와 같은 수용성 염기를 이용하는 경우에는, 추가로 상관 이동 촉매로서, 4급 암모늄염, 4급 포스포늄염, 크라운 에테르, 폴리(올리고)에틸렌글리콜 등을 사용할 수도 있다. Examples of the base include potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, ammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide and the like. The usage-amount of a base requires the number-of-moles more than the number-of-moles of the styrene-type monomer represented by General formula (4), and the styrene type whose molar ratio with the usage-amount of the styrene-type monomer represented by general formula (4) is represented by base / chemical formula (4) Monomer = 1/1 to 5/1. In addition, it is necessary to neutralize with an acid after hydrolysis or after alcoholic decomposition. As an acid used for neutralization, the same acid as the said acid can be used. In the case of using a water-soluble base such as a metal hydroxide such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, or the like as a base, as a correlation transfer catalyst, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, crown ethers, poly (oligo) ethylene Glycol etc. can also be used.

반응 온도로서는 통상 0 내지 180℃, 바람직하게는 30 내지 150℃, 더욱 바람직하게는 40 내지 120℃이다. 반응 시간으로서는 통상 1 내지 30시간, 바람직하게는 1 내지 25시간, 보다 바람직하게는 1 내지 20시간이다. 반응 용매로서는 변 환 반응 전의 중합체 및 변환 반응 후의 중합체가 용해하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 중합 반응과 동일 용매인 것이 바람직하다. 또한, 용매의 사용량으로서는, 중합 반응에 사용하는 용매의 1 내지 5배의 중량인 것이 바람직하고, 1 내지 3배의 중량인 것이 보다 바람직하다. 물 또는 알코올의 첨가량으로서는 -OR14기의 1 내지 30배몰인 것이 바람직하고, 1 내지 20배몰인 것이 보다 바람직하다. 사용하는 알코올은 특별히 한정되지 않지만, 탄소수 1 내지 4의 알코올이 바람직하다.As reaction temperature, it is 0-180 degreeC normally, Preferably it is 30-150 degreeC, More preferably, it is 40-120 degreeC. As reaction time, it is 1 to 30 hours normally, Preferably it is 1 to 25 hours, More preferably, it is 1 to 20 hours. The reaction solvent is not particularly limited as long as the polymer before the conversion reaction and the polymer after the conversion reaction are dissolved, but is preferably the same solvent as the polymerization reaction. Moreover, as a usage-amount of a solvent, it is preferable that it is 1 to 5 times the weight of a solvent used for a polymerization reaction, and it is more preferable that it is 1 to 3 times the weight. As the addition amount of water or alcohol, preferably 1 to 30 moles per mole of the -OR 14 group, and more preferably from 1 to 20 moles per mole. The alcohol to be used is not particularly limited, but an alcohol having 1 to 4 carbon atoms is preferable.

≪산성 조건 하에서의 가열 변환 반응≫`` Heating conversion reaction under acidic conditions ''

산성 조건 하에서의 가열 변환 반응에 사용할 수 있는 산 및 그 첨가량, 반응 온도, 반응 시간, 용매종, 용매 사용량에 대해서, 상기 ≪가수 분해 및 가알코올 분해≫에서 예를 든 것과 동일한 조건을 적용할 수 있다. 다만, 본 방법에서는 물 또는 알코올은 첨가할 수도 있고 첨가하지 않을 수도 있다. The same conditions as those exemplified in the above-mentioned `` hydrolysis and alcoholic decomposition '' can be applied to the acid and its addition amount, the reaction temperature, the reaction time, the solvent species, and the amount of solvent used for the heat conversion reaction under acidic conditions. . However, in this method, water or alcohol may or may not be added.

≪변환 반응 후의 중화≫`` Neutralization after Conversion Reaction ''

본 발명에서 이용되는 스티렌계 공중합체 (A)의 제조에 있어서, -OR14기를 OH기로 변환하는 변환 반응을 산 또는 염기를 이용하여 행한 경우에는, 변환 반응 후의 계 내에 잔존하는 산 또는 염기의 적어도 일부를, 염기 또는 산으로 중화하는 공정을 가질 수도 있다. In the production of the styrenic copolymer (A) used in the present invention, when the conversion reaction for converting the -OR 14 group to the OH group is performed using an acid or a base, at least the acid or base remaining in the system after the conversion reaction It may have a process of neutralizing a part with a base or an acid.

스티렌계 공중합체 (A)의 제조에 있어서, 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환하는 변환 반응을 산의 존재 하에서 행한 경우에는, 이어서 염기성 물질을 첨가하여, 계 내의 산과 반응시키는 공정을 행하는 것이 바 람직하다. 또한, 변환 반응을 염기의 존재 하에서 행한 경우에는, 이어서 산성 물질을 첨가하여, 계 내의 염기와 반응시키는 공정을 행하는 것이 바람직하다. In the production of styrene-based copolymer (A), the case where the conversion reaction for converting -OR 14 groups -OH group in the structural unit of the monomer (4) derived in the presence of an acid is then added to a basic substance, It is preferable to carry out the step of reacting with the acid in the system. In addition, when a conversion reaction is performed in presence of a base, it is preferable to perform the process of adding an acidic substance next and making it react with the base in a system.

이하, 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환하는 변환 반응을 산의 존재 하에서 행하고, 이어서 염기성 물질을 첨가하여, 계 내의 산과 반응시키는 경우에 대해서 상술한다. 여기서, 계 내의 산이란 -OR14기를 -OH기로 변환하는 변환 반응으로 이용한 산 중, 변환 반응에서 소비되지 않고서 계 내에 잔존하는 산을 의미한다. Or less, it performs the conversion reaction to convert -OR 14 groups -OH group in the structural unit of the monomer (4) derived in the presence of an acid, and subsequently described with respect to the case of the addition of a basic material, reacts with the acid in the system. Here, the acid in the system means an acid remaining in the system without being consumed in the conversion reaction among the acids used in the conversion reaction for converting the -OR 14 group to the -OH group.

염기성 물질로서는, 금속 수산화물, 금속 알콕시드류, 카르복실산염류, 페놀염류, 탄산염류 및 아민류 등이 바람직하게 이용되고, 보다 바람직하게는 염기성 물질이, 금속 수산화물, 금속 알콕시드류, 카르복실산염류, 페놀염류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상으로서, 그 대(對)양이온이 리튬, 나트륨, 칼륨, 칼슘 중의 어느 하나이다. 이들 염기성 물질은 단독으로 이용하거나 2종 이상 조합하여 이용할 수도 있다. As the basic substance, metal hydroxides, metal alkoxides, carboxylates, phenol salts, carbonates, amines and the like are preferably used. More preferably, the basic substances are metal hydroxides, metal alkoxides, carboxylates, As one or more types chosen from the group which consists of phenol salts, the large cation is any one of lithium, sodium, potassium, and calcium. These basic substances may be used alone or in combination of two or more thereof.

이러한 염기성 물질로서는, 구체적으로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화칼슘 등의 금속 수산화물; 나트륨메톡시드, 나트륨에톡시드, 나트륨-t-부톡시드, 등의 금속 알콕시드류; 아세트산나트륨, 프로피온산나트륨, 락트산나트륨, 2-에틸헥산산나트륨, 벤조산나트륨 등의 카르복실산염류; 나트륨페녹시드 등의 페놀염류; 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 피리딘 등의 아민류를 이용할 수 있다. 이들 염기는 무엇을 이용해도 되고, 단독으로나 복수를 동시에 사용할 수도 있는데, 입수성 및 가격면에서 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 나트륨메톡시드, 아세트산나트륨, 락트산나트륨, 벤조산나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨이 바람직하다. 이들 중에서, 아세트산나트륨, 락트산나트륨, 벤조산나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등을 이용하면, 후술하는 약산성 물질을 첨가하는 공정을 행하지 않더라도 OH기가 안정적으로 유지되기 때문에, 특히 바람직하다. Specific examples of such a basic substance include metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and calcium hydroxide; Metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and sodium t-butoxide; Carboxylates such as sodium acetate, sodium propionate, sodium lactate, sodium 2-ethylhexanoate and sodium benzoate; Phenol salts such as sodium phenoxide; Carbonates, such as sodium carbonate, potassium carbonate, and sodium hydrogencarbonate, amines, such as a triethylamine and a pyridine, can be used. Any of these bases may be used alone or in combination of a plurality thereof. In terms of availability and price, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium methoxide, sodium acetate, sodium lactate, sodium benzoate, sodium carbonate and potassium carbonate This is preferred. Among them, sodium acetate, sodium lactate, sodium benzoate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are particularly preferable since the OH group is stably maintained even if the step of adding a weakly acidic substance described later is not performed.

염기성 물질과 잔존하는 산과의 반응 온도는 15 내지 100℃, 바람직하게는 20 내지 90℃, 더욱 바람직하게는 30 내지 80℃이다. 상기 반응 온도 범위를 초과하면 중합체의 색상이 악화하는 경우가 있다. 또한, 상기 반응 온도 범위 미만이면 반응이 충분히 진행하지 않는 경우가 있다. The reaction temperature of the basic substance and the remaining acid is 15 to 100 ° C, preferably 20 to 90 ° C, more preferably 30 to 80 ° C. When the said reaction temperature range is exceeded, the color of a polymer may deteriorate. Moreover, reaction may not fully advance as it is less than the said reaction temperature range.

반응 시간은 5 내지 120분간, 바람직하게는 10 내지 100분간, 더욱 바람직하게는 15 내지 80분간이다. 상기 반응 시간 범위를 초과하면 생산성이 저하되고, 상기 반응 시간 범위 미만이면 반응이 충분히 진행하지 않는 경우가 있다. The reaction time is 5 to 120 minutes, preferably 10 to 100 minutes, more preferably 15 to 80 minutes. If it exceeds the said reaction time range, productivity will fall, and if it is less than the said reaction time range, reaction may not fully advance.

첨가하는 염기성 물질의 양은 잔존하는 산이 충분히 중화되는 양이면 되지만, -OR14로 표시되는 기를 -OH기로 변환하는 공정에서 이용한 산의 몰수와, 그 산의 가수와의 곱 A와, 첨가하는 염기성 물질의 몰수와 그의 염기의 가수와의 곱 B가 하기 식을 만족시키는 것이 바람직하다. The amount of the basic substance to be added may be an amount in which the remaining acid is sufficiently neutralized, but the product A of the number of moles of acid used in the step of converting the group represented by -OR 14 to the -OH group, the valence of the acid, and the basic substance to be added It is preferable that the product B of the number of moles of and the valence of its base satisfies the following formula.

A≤B≤[A×3] A≤B≤ [A × 3]

또한, 상기한 염기성 물질 중, 그 공액 산의 산성도가 중합체 중에 포함되는 페놀 부위의 산성도보다도 낮은 경우에는, 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기로부터 변환된 -OH기가 불안정해질 우려가 있기 때문에, 상기 염기를 이용할 때 동시에, 또는 이용한 후에 중합체 중에 포함되는 페놀 부위보다 산성도가 높은 약산성 물질을 첨가하여 반응계 내를 약산성으로 하는 것이 바람직하다. 이러한 약산성 물질로서는 페놀, 니트로페놀, 시아노페놀, 할로겐화페놀 등의 페놀류; 아세트산, 프로피온산, 락트산, 2-에틸헥산산, 벤조산 등의 카르복실산류; 탄산을 들 수 있는데, 가격 및 반응 용액에 대한 상용성으로부터 아세트산, 락트산, 벤조산이 바람직하다. In addition, when the acidity of the conjugate acid is lower than the acidity of the phenol moiety contained in the polymer among the above-described basic substances, the -OH group converted from -OR 14 group in the structural unit derived from monomer (4) becomes unstable. Since there is a concern, it is preferable to add a weakly acidic substance having a higher acidity than the phenol moiety contained in the polymer at the same time or after using the base to make the reaction system weakly acidic. Examples of such weakly acidic substances include phenols such as phenol, nitrophenol, cyanophenol, and halogenated phenol; Carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, lactic acid, 2-ethylhexanoic acid and benzoic acid; Carbonic acid is mentioned, and acetic acid, lactic acid and benzoic acid are preferable from the price and compatibility with the reaction solution.

반응 조건으로서는 상기 염기를 첨가했을 때의 반응 조건과 동일 조건을 적용할 수 있다. As reaction conditions, the same conditions as the reaction conditions when the base is added can be applied.

반응계 내를 약산성으로 함으로써 보다 색상이 양호하고 내열 안정성이 우수한 스티렌계 공중합체 (A)를 얻을 수 있다. By making the inside of the reaction system weakly acidic, a styrene copolymer (A) having better color and excellent heat stability can be obtained.

≪가열만에 의한 변환 반응≫≪Conversion reaction only by heating≫

화학식 (4)로 표시되는 O-R14기에서의 R14가 열에너지만에 의해서 이탈할 수 있는 경우에는, 중합체쇄가 분해되는 온도를 크게 초과하지 않는 온도 조건 하에서 열 분해를 함으로써 스티렌계 공중합체 (A)를 얻을 수 있다. 이러한 온도는 통상 100 내지 350℃, 바람직하게는 120 내지 300℃이다. In the case where R 14 in the OR 14 group represented by the formula (4) can be released by only thermal energy, the styrene copolymer (A) is thermally decomposed under a temperature condition that does not significantly exceed the temperature at which the polymer chain is decomposed. ) Can be obtained. This temperature is usually 100 to 350 ° C, preferably 120 to 300 ° C.

≪불화물 이온을 이용한 변환 반응≫`` Conversion reaction using fluoride ions ''

불화물 이온을 이용한 변환 반응에 이용할 수 있는 시제(試劑)로서는 테트라 메틸암모늄플루오라이드, 테트라부틸암모늄플루오라이드, 불화칼륨, 불화나트륨, 불화수소 등을 들 수 있다. 불화물 이온의 사용량으로서는, 불화물 이온의 사용량과 화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체의 사용량과의 몰비(불화물 이온/화학식 (4)로 표시되는 스티렌계 단량체)가 통상 1/1 내지 5/1, 바람직하게는 1/1 내지 3/1이다. As a reagent which can be used for the conversion reaction using a fluoride ion, tetramethylammonium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, potassium fluoride, sodium fluoride, hydrogen fluoride, etc. are mentioned. As the amount of fluoride ions used, the molar ratio between the amount of fluoride ions and the amount of styrene monomer represented by the general formula (4) (a fluoride ion / styrene monomer represented by the formula (4)) is usually 1/1 to 5/1. , Preferably from 1/1 to 3/1.

<정제><Tablet>

상기 변환 반응 후, 정제함으로써 스티렌계 공중합체 (A)가 얻어진다. 정제에는 종래 공지된 방법을 사용할 수 있고, 예를 들면, 얻어진 반응물 용액을 톨루엔 또는 테트라히드로푸란 등의 양용매로 희석한 후, 메탄올, 물, 또는 이들의 혼합 용액을 첨가하고 중합체를 적절히 응집시키고 추출 처리하는 방법을 들 수 있다. 추출 처리 시에, 반응 용매로서 사용한 용매 및 희석을 위해 첨가한 용매를 합계한 양용매량과 중합체와의 중량비(양용매/중합체)는 0.5/1 내지 6/1, 바람직하게는 0.7/1 내지 4/1이다. 또한, 추출에 사용하는 메탄올, 물, 또는 이들의 혼합 용액 등의 빈용매의 사용량은 중량비(빈용매/상기 양용매)로 0.3 내지 5, 바람직하게는 0.5 내지 3이다. 추출 온도로서는 통상 40 내지 120℃, 바람직하게는 50 내지 100℃이다. A styrene-type copolymer (A) is obtained by refine | purifying after the said conversion reaction. For purification, a conventionally known method can be used. For example, after diluting the obtained reactant solution with a good solvent such as toluene or tetrahydrofuran, methanol, water, or a mixed solution thereof is added, and the polymer is appropriately aggregated. The extraction process is mentioned. At the time of extraction treatment, the weight ratio (good solvent / polymer) of the good solvent amount and the polymer, which is the sum of the solvent used as the reaction solvent and the solvent added for dilution, is 0.5 / 1 to 6/1, preferably 0.7 / 1 to 4/1. The amount of the poor solvent such as methanol, water, or a mixed solution thereof used for extraction is 0.3 to 5, preferably 0.5 to 3, by weight ratio (poor solvent / good solvent). As extraction temperature, it is 40-120 degreeC normally, Preferably it is 50-100 degreeC.

상기한 바와 같이 추출한 후, 용액을 냉각하여 가벼운 층과 무거운 층으로 분리시키고, 원심 분리기 등으로 가벼운 층을 제거한다. 이들 추출 조작을 1 내지 10회 반복한 후, 중액을 농축하여 디보라티라이터, 루더 등의 탈용 장치로 탈용한다. 탈용 시의 온도는 150 내지 350℃, 바람직하게는 200 내지 350℃, 진공도는 0.1 내지 50 mmHg, 바람직하게는 1 내지 40 mmHg이다. 또한, 탈용 전에 희석하여 순환 여과를 실시할 수도 있다. 여과 시에 여과제의 공경은 0.1 내지 100 μm인 것을 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 공경이 서로 다른 필터를 단계적으로 복수 설치할 수도 있다. 또한, 탈용 후의 용융 중합체를 여과함으로써 정제할 수도 있다. 이 때의 중합체 필터의 공경은 0.1 내지 100 μm인 것이 바람직하다. After extraction as described above, the solution is cooled to separate the light and heavy layers, and the light layer is removed using a centrifuge or the like. After repeating these extraction operations 1 to 10 times, the heavy liquid is concentrated and deaerated by a desorber such as a divorati writer or a luther. The temperature at the time of desorption is 150-350 degreeC, Preferably it is 200-350 degreeC, and a vacuum degree is 0.1-50 mmHg, Preferably it is 1-40 mmHg. Moreover, it can also dilute before filtration and perform circulating filtration. In the case of a filtration, the pore size of a filter agent may be used individually by 1 type, and multiple filters with different pore sizes may be provided in steps. Moreover, it can also refine | purify by filtering the molten polymer after demolition. It is preferable that the pore size of the polymer filter at this time is 0.1-100 micrometers.

<노르보르넨계 중합체 (B)><Norbornene-based polymer (B)>

본 발명에 따른 수지 조성물에 함유되는 노르보르넨계 중합체 (B)는 하기 화학식 (6)으로 표시되는 단량체 (6)으로부터 유도되는 구조 단위를 갖는 (공)중합체이고, 구체적으로는, 단량체 (6)의 개환 중합체, 단량체 (6)과 공중합성 단량체와의 개환 공중합체, 또는 이들의 수소 첨가물, 또는 1종 단독 또는 2종 이상의 단량체 (6)을 포함하는 부가형 (공)중합체, 및 단량체 (6)과 비닐계 화합물의 부가형 (공)중합체이다.The norbornene-based polymer (B) contained in the resin composition according to the present invention is a (co) polymer having a structural unit derived from monomer (6) represented by the following general formula (6), and specifically, monomer (6) Ring-opening polymer of a monomer, a ring-opening copolymer of a monomer (6) with a copolymerizable monomer, or a hydrogenated substance thereof, or an addition (co) polymer comprising one or more monomers (6), and a monomer (6) And a vinyl compound-based addition type (co) polymer.

Figure 112009040747410-PCT00010
Figure 112009040747410-PCT00010

(식 (6) 중, a 및 b는 독립적으로 0 또는 1을 나타내고, c 및 d는 독립적으 로 0 내지 2의 정수를 나타내고, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11, R12, 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, R10과 R11, 또는 R12와 R13은 일체화하여 2가의 탄화수소기를 형성할 수도 있고, R10 또는 R11과 R12 또는 R13은 서로 결합하여 탄소환 또는 복소환(이들 탄소환 또는 복소환은 단환 구조일 수도 있고, 다른 환이 축합하여 다환 구조를 형성할 수도 있음)을 형성할 수도 있음). (Formula (6) of, a, and b are independently 0 or 1, c and d represents an integer of 0 to 2 independently, R 4, R 5, R 6, R 7, R 8, R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , and R 13 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted carbon number that may have a linking group including an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom Or a polar group, R 10 and R 11 , or R 12 and R 13 may be integrated to form a divalent hydrocarbon group, and R 10 or R 11 and R 12 or R 13 may be bonded to each other. To form a carbocyclic ring or heterocycle (these carbocycles or heterocycles may be monocyclic, or other rings may condense to form a polycyclic structure).

할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자 및 브롬 원자를 들 수 있다. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.

탄소 원자수 1 내지 30의 탄화수소기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기; 비닐기, 알릴기, 프로페닐기 등의 알케닐기 등을 들 수 있다. As a hydrocarbon group of 1-30 carbon atoms, For example, Alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group; Cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; Alkenyl groups, such as a vinyl group, an allyl group, and a propenyl group, etc. are mentioned.

또한, 상기한 치환 또는 비치환된 탄화수소기는 직접 환 구조에 결합하고 있을 수도 있고, 또는 연결기를 통해 결합하고 있을 수도 있다. 연결기로서는, 예를 들면, 탄소 원자수 1 내지 10의 2가의 탄화수소기(예를 들면, -(CH2)m-(식 중, m은 1 내지 10의 정수)으로 표시되는 알킬렌기); 산소, 질소, 황 또는 규소를 포함하는 연결기(예를 들면, 카르보닐기(-CO-), 옥시카르보닐기(-0(CO)-), 카르보닐옥시기(-CO0-), 술폰기(-SO2-), 에테르 결합(-0-), 티오에테르 결합(-S-), 이미노기(-NH-), 아미드 결합(-NHCO-, -CONH-), 실록산 결합(-OSi(R)-(식 중, R은 메틸, 에틸 등의 알킬기)) 등을 들 수 있으며, 이들을 복수 포함하는 연결기일 수도 있다. In addition, the above-mentioned substituted or unsubstituted hydrocarbon group may be directly bonded to the ring structure, or may be bonded via a linking group. As the linking group, for example, a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms (for example, an alkylene group represented by-(CH 2 ) m- (wherein m is an integer of 1 to 10)); Linking groups containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon (e.g., carbonyl group (-CO-), oxycarbonyl group (-0 (CO)-), carbonyloxy group (-CO0-), sulfone group (-SO 2 -, Ether bond (-0-), thioether bond (-S-), imino group (-NH-), amide bond (-NHCO-, -CONH-), siloxane bond (-OSi (R)-( In formula, R is alkyl groups, such as methyl and ethyl)), etc. are mentioned, A coupling group containing two or more may be sufficient.

극성기로서는, 예를 들면, 수산기, 탄소 원자수 1 내지 10의 알콕시기, 카르보닐옥시기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 트리오르가노실록시기, 트리오르가노실릴기, 아미노기, 아실기, 알콕시실릴기, 술포닐기, 및 카르복실기 등을 들 수 있다. 더욱 구체적으로는, 상기 알콕시기로서는, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기 등; 카르보닐옥시기로서는, 예를 들면, 아세톡시기, 프로피오닐옥시기 등의 알킬카르보닐옥시기, 및 벤조일옥시기 등의 아릴카르보닐옥시기; 알콕시카르보닐기로서는, 예를 들면, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등; 아릴옥시카르보닐기로서는, 예를 들면, 페녹시카르보닐기, 나프틸옥시카르보닐기, 플루오레닐옥시카르보닐기, 비페닐릴옥시카르보닐기 등; 트리오르가노실록시기로서는, 예를 들면, 트리메틸실록시기, 트리에틸실록시기 등; 트리오르가노실릴기로서는, 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기 등; 아미노기로서는, 제1급 아미노기; 알콕시실릴기로서는, 예를 들면, 트리메톡시실릴기, 트리에톡시실릴기 등을 들 수 있다. Examples of the polar group include a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carbonyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, an amide group, an imide group, a triorganosiloxy group, and triorganosilyl A group, an amino group, an acyl group, an alkoxy silyl group, a sulfonyl group, a carboxyl group, etc. are mentioned. More specifically, as said alkoxy group, For example, a methoxy group, an ethoxy group, etc .; As a carbonyloxy group, For example, Alkylcarbonyloxy groups, such as an acetoxy group and a propionyloxy group, and arylcarbonyloxy groups, such as a benzoyloxy group; As an alkoxycarbonyl group, For example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, etc .; As an aryloxycarbonyl group, For example, a phenoxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, a fluorenyloxycarbonyl group, a biphenylyloxycarbonyl group, etc .; As a triorgano siloxy group, For example, a trimethyl siloxy group, a triethyl siloxy group, etc .; Examples of the triorganosilyl group include trimethylsilyl group and triethylsilyl group; As an amino group, Primary amino group; As an alkoxy silyl group, a trimethoxy silyl group, a triethoxy silyl group, etc. are mentioned, for example.

상기 화학식 (6)으로 표시되는 단량체 (6)의 구체예로서는, 다음과 같은 화합물을 들 수 있다. As a specific example of the monomer (6) represented by the said General formula (6), the following compounds are mentioned.

비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

트리시클로[4.3.0.12,5]-3-데센, Tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3-decene,

트리시클로[5.2.1.02,6]-데카-3,8-디엔, Tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] -deca-3,8-diene,

트리시클로[4.4.0.12,5]-3-운데센, Tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] -3-undecene,

테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

펜타시클로[6.5.1.13,6.02,7.09,13]-4-펜타데센, Pentacyclo [6.5.1.1 3,6 2,7 .0 9,13 ] -4- pentadecene ,

펜타시클로[7.4.0.12,5.19,12.08,13]-3-펜타데센, Pentacyclo [7.4.0.1 2,5 .1 9,12 .0 8,13 ] -3- pentadecene ,

5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-메틸-5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-시아노비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-cyanobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-메톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-에톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-n-프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-이소프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-n-부톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센,8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-페녹시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-phenoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-(1-나프톡시)카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8- (1-naphthoxy) carbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-(2-나프톡시)카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8- (2-naphthoxy) carbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-〈4-페닐페녹시〉카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8- <4-phenylphenoxy> carbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-에톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-n-프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-이소프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-n-부톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-페녹시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-phenoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-(1-나프톡시)카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8- (1-naphthoxy) carbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-(2-나프톡시)카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8- (2-naphthoxy) carbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-〈4-페닐페녹시〉카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8- <4-phenylphenoxy> carbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

펜타시클로[8.4.0.12,5.19,12.08,13]-3-헥사데센, Pentacyclo [8.4.0.1 2,5 .1 9,12 .0 8,13 ] -3-hexadecene,

헵타시클로[8.7.0.13.6.110,17.112,15.02,7.011,16]-4-에이코센, Heptacyclo [8.7.0.1 3.6 .1 10,17 .1 12,15 .0 2,7 .0 11,16 ] -4-eicosene,

헵타시클로[8.8.0.14.7.111,18.113,16.03,8.012,17]-5-헨에이코센, Heptacyclo [8.8.0.1 4.7 .1 11,18 .1 13,16 .0 3,8 .0 12,17 ] -5- heneicosene ,

5-에틸리덴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-ethylidenebicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-에틸리덴테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

5-페닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-페닐-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-phenyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-페닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-phenyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10] -3- dodecene,

5-n-부틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-n-butylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-n-헥실비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-n-hexylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-시클로헥실비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-cyclohexylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-(2-시클로헥세닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5- (2-cyclohexenyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-n-옥틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-n-octylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-n-데실비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-n-decylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-이소프로필비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-isopropylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-(1-나프틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5- (1-naphthyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-(2-나프틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5- (2-naphthyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-(2-나프틸)-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5- (2-naphthyl) -5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-(4-비페닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5- (4-biphenyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-(4-비페닐)-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5- (4-biphenyl) -5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-아미노메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-aminomethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리메톡시실릴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-trimethoxysilylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리에톡시실릴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-triethoxysilylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리-n-프로폭시실릴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-tri-n-propoxysilylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리-n-부톡시실릴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-tri-n-butoxysilylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-클로로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-chloromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-히드록시메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-hydroxymethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-시클로헤세닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-cyclohesenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-fluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-fluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5-디플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,6-디플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,6-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-메틸-5-트리플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methyl-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6-트리플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6,6-테트라플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6,6-tetrafluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-fluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-fluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-트리플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8-디플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

스피로[플루오렌-9,8'-트리시클로[4.3.0.12,5][3]데센] Spiro [fluorene-9,8'-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] [3] decene]

등을 들 수 있다. Etc. can be mentioned.

이들 화합물은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 단량체 (6)으로서 사용할 수 있다. These compounds can be used as monomer (6) individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

이들 단량체 (6) 중, 상기 화학식 (6)에 있어서의 R10 내지 R13 중의 하나 이상이 하기 화학식 (I)로 표시되는 특정한 극성기인 상기 특정 단량체가 얻어지는 수지 조성물 및 광학 필름의 내열성과 내습(수)성이 양호한 균형을 유지한다는 점에서 바람직하다.Heat resistance and moisture resistance of the resin composition and optical film from which the said specific monomer in which at least one of R <10> -R <13> in the said General formula (6) is a specific polar group represented by following General formula (I) are obtained among these monomers (6) It is preferable at the point that water-repellency maintains a favorable balance.

-(CH2)nCOOR17 (I)-(CH 2 ) n COOR 17 (I)

(식 중, n은 통상 0 또는 1 내지 5의 정수, R17은 탄소수 1 내지 15의 탄화수소기임)(Wherein n is usually 0 or an integer of 1 to 5, R 17 is a hydrocarbon group of 1 to 15 carbon atoms)

상기 화학식 (I)에 있어서, n의 값이 작을수록, 또한 R17의 탄소수가 작을수록 얻어지는 수지 조성물의 유리 전이 온도가 높아져서 내열성이 향상된다는 점에서 바람직하다. 즉, n은 통상 0 또는 1 내지 5의 정수인데, 바람직하게는 0 또는 1이고, 또한 R17은 통상 탄소수 1 내지 15의 탄화수소기인데, 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알킬기가 바람직하다. In the general formula (I), the smaller the value of n and the smaller the number of carbon atoms of R 17, the higher the glass transition temperature of the resin composition obtained and the higher the heat resistance. That is, n is usually 0 or an integer of 1 to 5, preferably 0 or 1, and R 17 is usually a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

또한, 상기 화학식 (6)에 있어서, 상기 화학식 (I)로 표시되는 극성기가 결합한 탄소 원자에 추가로 알킬기가 결합하고 있는 상기 단량체는, 얻어지는 수지 조성물 및 광학 필름의 내열성과 내습(수)성이 양호한 균형을 유지한다는 점에서 바람직하다. 이 알킬기의 탄소수는 1 내지 5인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1 내지 2, 특히 바람직하게는 1이다. In addition, in the said General formula (6), the said monomer which the alkyl group couple | bonded with the carbon atom which the polar group represented by the said General formula (I) couple | bonded further has heat resistance and moisture resistance (water) resistance of the resin composition and optical film obtained. It is preferable at the point which maintains a good balance. It is preferable that carbon number of this alkyl group is 1-5, More preferably, it is 1-2, Especially preferably, it is 1.

이러한 단량체 (6) 중, 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센, 8-메틸-8-에톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센, 8-메틸-8-부톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센, 및 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센과 5-메틸-5-메톡시카르보닐-비시클로[2.2.1]헵트-2-엔과의 병용은 얻어지는 수지 조성물 및 광학 필름이 내열성이 우수하다는 점에서 바람직하고, 특히 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센 및 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센과 5-메틸-5-메톡시카르보닐-비시클로[2.2.1]헵트-2-엔과의 병용은, 스티렌계 공중합체 (A)와의 상용성이 우수한 노르보르넨계 중합체 (B)가 얻어진다는 점에서 바람직하다.Of these monomers (6), 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene and 8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene, 8-methyl-8-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene, And 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene and 5-methyl-5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept Use with 2-ene is preferable at the point which the resin composition and optical film obtained are excellent in heat resistance, and especially 8-methyl-8-methoxycarbonyl tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene and 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene and 5-methyl-5-methoxycarbonyl-bicyclo [ 2.2.1] Combination with hept-2-ene is preferable in that a norbornene-based polymer (B) having excellent compatibility with the styrene-based copolymer (A) is obtained.

그 밖의 화학식 (6)으로 표시되는 단량체 (6) 중에서 바람직한 예로서는, 비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 트리시클로[5.2.1.02,6]-데카-3,8-디엔, 5-에틸리덴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-페닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-n-부틸비시클로[2.2.1]헵 트-2-엔, 5-n데실비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등을 들 수 있다. Preferred examples of other monomers (6) represented by the general formula (6) include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene and tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] -deca-3,8-diene, 5 -Ethylidenebicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-n-butylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene , 5- n decylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, and the like.

[개환 (공)중합체][Opening (co) polymer]

상술한 단량체 (6)을 개환 중합하여 얻어지는 노르보르넨계 중합체 (B)로서는, 예를 들면 하기 화학식 (II)로 표시되는 구조 단위를 갖는 중합체를 들 수 있다. As a norbornene-type polymer (B) obtained by ring-opening-polymerizing the monomer (6) mentioned above, the polymer which has a structural unit represented by following General formula (II) is mentioned, for example.

Figure 112009040747410-PCT00011
Figure 112009040747410-PCT00011

(식 (II) 중, a, b, c, d 및 R4 내지 R13은 각각 상기 화학식 (6)에 있어서의 a, b, c, d 및 R4 내지 R13의 정의와 동일하고, X는 식: -CH=CH-로 표시되는 기 또는 식: -CH2CH2-로 표시되는 기이고, 복수 존재하는 X는 동일 또는 상이함).(In formula (II), a, b, c, d and R 4 to R 13 are the same as the definitions of a, b, c, d and R 4 to R 13 in the formula (6), respectively. Is a group represented by the formula: -CH = CH- or a group represented by the formula: -CH 2 CH 2- , and plural X's are the same or different).

상술한 단량체 (6)을 개환 중합하여 얻어지는 노르보르넨계 중합체 (B)로서는, 바람직하게는 하기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위를 갖는 (공)중합체인 것이 바람직하다.As a norbornene-type polymer (B) obtained by ring-opening-polymerizing the above-mentioned monomer (6), It is preferable that it is a (co) polymer which has a structural unit represented by following General formula (i) preferably.

Figure 112009040747410-PCT00012
Figure 112009040747410-PCT00012

(식 (i) 중, A1 내지 A4는 각각 독립적으로, 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소 원자수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, A1 내지 A4 중의 하나 이상은 -(CH2)nCOOA5로 표시되는 기(A5는 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기)이고, n은 0 또는 1 내지 5의 정수임).(In Formula (i), A 1 to A 4 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; the number of substituted or unsubstituted carbon atoms which may have a linking group including an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. A hydrocarbon group of 1 to 30; or a polar group, and at least one of A 1 to A 4 is a group represented by-(CH 2 ) n COOA 5 (A 5 includes an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and n is 0 or an integer of 1 to 5).

노르보르넨계 중합체 (B)가 상기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위를 포함하는 경우, 노르보르넨계 중합체 (B)의 전체 구조 단위 100 mol% 중, 상기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위를 통상 5 mol% 이상, 바람직하게는 10 내지 70 mol%, 보다 바람직하게는 20 내지 50 mol%로 함유하는 것이 바람직하다. When the norbornene-based polymer (B) includes the structural unit represented by the above formula (i), the structural unit represented by the above formula (i) is contained in 100 mol% of all the structural units of the norbornene-based polymer (B). It is preferable to contain 5 mol% or more normally, Preferably it is 10-70 mol%, More preferably, it is 20-50 mol%.

상기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위는 상기 단량체 (6) 중, 하기 화학식 (i-a)로 표시되는 단량체를 개환 공중합하고, 수소 첨가함으로써 바람직하게 얻어지는 구조 단위이다. The structural unit represented by the said general formula (i) is a structural unit preferably obtained by ring-opening-copolymerizing the monomer represented by the following general formula (i-a) in the said monomer (6), and hydrogenating.

Figure 112009040747410-PCT00013
Figure 112009040747410-PCT00013

화학식 (i-a) 중, A1 내지 A4는 상기 화학식 (i)에서의 정의와 같다.In formula (ia), A <1> -A <4> is as defined in the said Formula (i).

이러한 단량체 (i-a)로서는, 예를 들면 As such a monomer (i-a), for example

5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-에톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-프로폭시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-propoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-벤질옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 5-benzyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene

등을 들 수 있다. 바람직한 단량체는 5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔이다. Etc. can be mentioned. Preferred monomer is 5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene.

이러한 단량체 (i-a)는 화학식 (i-a) 중의 A1 내지 A4 중의 하나 이상이 -(CH2)nCOOA5로 표시되는 기(에스테르 결합을 갖는 기)인데, -(CH2)nCOOR5로 표시되는 기가 결합하는 탄소 원자에 결합하는 또 하나의 원자 또는 기가 수소 원자 이외의 원자 또는 기인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, A1이 -(CH2)nCOOA5로 표시되는 기이고, A2가 수소 원자 이외의 원자 또는 기인 구조 단위가 바람직하다.Such monomers (ia) are groups (groups having ester bonds) in which at least one of A 1 to A 4 in formula (ia) is represented by-(CH 2 ) n COOA 5 , wherein-(CH 2 ) n COOR 5 It is preferable that another atom or group which couple | bonded with the carbon atom which the displayed group couple | bonds is an atom or group other than a hydrogen atom. Specifically, for example, A 1 is a group represented by-(CH 2 ) n COOA 5 , and A 2 is preferably a structural unit or an atom other than a hydrogen atom.

보다 바람직하게는, 단량체 (i-a)로서는, 하기 화학식으로 표시되는 화합물 (i-a')를 들 수 있다. More preferably, as a monomer (i-a), the compound (i-a ') represented by a following formula is mentioned.

Figure 112009040747410-PCT00014
Figure 112009040747410-PCT00014

화학식 (i-a') 중, A5는 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기를 나타내고, A6은 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소 원자수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타낸다. 여기서 A는 보다 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기이다. In formula (i-a '), A 5 represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a linking group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom, and A 6 is a halogen atom ; A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a linking group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom; Or a polar group. More preferably, A is a C1-C10 hydrocarbon group.

이러한 단량체 (1-a')로서는, 예를 들면, 이하와 같은 것을 예시할 수 있다.As such a monomer (1-a '), the following can be illustrated, for example.

5-메틸-5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene

Figure 112009040747410-PCT00015
Figure 112009040747410-PCT00015

5-메틸-5-에톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔5-methyl-5-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene

Figure 112009040747410-PCT00016
Figure 112009040747410-PCT00016

5-메틸-5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔5-methyl-5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene

Figure 112009040747410-PCT00017
Figure 112009040747410-PCT00017

단량체 (6) 중, 상기 화학식 (6)에 있어서의 c 및 d 중의 하나 이상이 0이 아닌 화합물, 바람직하게는 c 및 d 중의 하나 이상이 1을 나타내는 화합물인 단량체(이하 「다핵체」라고도 함)와, 단량체 (i-a')를 공중합시키는 경우 단량체 (i-a')의 반응성이 낮기 때문에, 중합 전환율이 낮아지거나, 중합 후기에 단량체 (i-a')가 반응계에 많이 잔류하여 단량체 (i-a')만으로부터 유래하는 중합쇄가 생성되기도 한다는 우려가 있다. 단량체 (i-a')만으로부터 유래하는 중합쇄는 후술하는 수소 첨가 반응을 진행시키기 어렵기 때문에, 이 중합체쇄의 생성을 억제하는 것이 바람직하다. 이 문제를 해결하는 방법으로서, 다핵체를 축차 첨가 또는 연속 첨가하고 중합하는 방법을 들 수 있다. 구체적으로는, 다핵체의 일부와 단량체 (i-a')를 배치 중합시키면서, 다핵체를 축차 첨가 또는 연속 첨가하는 방법, 반응의 개시부터 끝까지 다핵체와 단량체 (i-a')의 혼합물을 축차 첨가 또는 연속 첨가하는 방법 등을 들 수 있다. 공중합 반응성비는 공지된 방법, 파인만-로스(Fineman-Ross)법에 의한 곡선 합치법이나 메이요-루이스(Mayo-Lewis)법에 의한 적분식에 의해 산출할 수가 있다 (문헌 [오오쯔 류코우·기노시타 마사요시 교서, 화학동인, 제12인, 고분자 합성의 실험법, pp183 내지 189]). 특히 바람직한 구체예는 하기와 같다. 다핵체가 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센, 단량체 (i-a')가 5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔의 경우, 파인만-로스법에 의해 구한 80℃에서의 공중합성 반응성비는 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로〔4.4.0.12,5.17,10〕-3-도데센은 2.1, 5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔이 1.0이다. 즉, 다핵체는 단량체 (i-a')보다 2.1배의 속도로 소비되기 때문에, 투입 조성은 단량체 (i-a'):다핵체=1:2.1(mol%)로 하는 것이 특히 바람직하고, 바람직한 범위로서, 단량체 (i-a') 1 mol에 대하여 다핵체 1 내지 4 mol이다. 반응의 개시부터 끝까지 이 범위의 조성을 유지하도록 다핵체를 첨가하는 것이 바람직하다. In the monomer (6), at least one of c and d in the formula (6) is a non-zero compound, preferably a monomer in which at least one of c and d represents 1 (hereinafter also referred to as "multinuclear body"). ) And the monomer (i-a ') have low reactivity of the monomer (i-a'), so that the polymerization conversion rate is low, or a large amount of monomer (i-a ') remains in the reaction system at the end of the polymerization and the monomer There exists a possibility that the polymer chain derived only from (i-a ') may produce | generate. Since the polymer chain derived only from the monomer (i-a ') is difficult to advance the hydrogenation reaction mentioned later, it is preferable to suppress generation | occurrence | production of this polymer chain. As a method of solving this problem, the method of sequentially adding or continuously adding a polynuclear body and superposing | polymerizing is mentioned. Specifically, a method of sequentially adding or continuously adding a multinuclear body while batch polymerizing a part of the multinuclear body and the monomer (i-a '), a mixture of the polynuclear body and the monomer (i-a') from the start to the end of the reaction Successive addition or the method of continuous addition, etc. are mentioned. Copolymerization reactivity ratio can be calculated by the well-known method, the curve matching method by the Fineman-Ross method, or the integral formula by the Mayo-Lewis method (Otsu Ryuko-Otsu). Kinoshita Masayoshi Textbook, Chemical Drivers, Twelfth Person, Experimental Method of Polymer Synthesis, pp183-189]. Particularly preferred embodiments are as follows. The polynuclear body is 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene and the monomer (i-a ') is 5-methoxycarbonylbicyclo [ 2.2.1] In the case of hept-2-ene, the copolymerizable reactivity ratio at 80 ° C. determined by the Fineman-Ross method was 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7 , 10 ] -3-dodecene is 1.0, and 5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene is 1.0. That is, since the polynuclear body is consumed at a rate 2.1 times higher than that of the monomer (i-a '), it is particularly preferable that the input composition is monomer (i-a'): polynuclear body = 1: 2.1 (mol%), As a preferable range, it is 1-4 mol of polynuclear bodies with respect to 1 mol of monomers (i-a '). It is preferable to add a polynuclear body to maintain the composition in this range from the beginning to the end of the reaction.

[공중합성 단량체][Copolymerizable Monomer]

상기 단량체 (6)은 단독으로 개환 중합할 수도 있지만, 추가로 상기 단량체 (6)과 다른 공중합성 단량체를 개환 공중합시킬 수도 있다. Although the said monomer (6) may carry out ring-opening-polymerization independently, you may further ring-open-polymerize the said monomer (6) and another copolymerizable monomer.

상기 공중합성 단량체로서, 구체적으로는, 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로헵텐, 시클로옥텐 등의 시클로올레핀을 들 수 있다. 시클로올레핀의 탄소수는 4 내지 20이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 4 내지 12이다. Specific examples of the copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, and cyclooctene. 4-20 are preferable and, as for carbon number of cycloolefin, 4-12 are more preferable.

또한, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 스티렌-부타디엔 공중합체, 에틸렌-비공액 디엔 공중합체, 폴리노르보르넨 등의, 주쇄에 탄소-탄소 간 이중 결합을 포함하는 불포화 탄화수소계 중합체 등의 존재 하에서 상기 단량체 (6)을 개환 중합시킬 수도 있다. 이 경우, 얻어지는 개환 공중합체 및 그의 수소 첨가 공중합체는 내충격성이 큰 수지 조성물의 원료로서 유용하다. In addition, the monomer in the presence of an unsaturated hydrocarbon-based polymer containing a carbon-carbon double bond in the main chain, such as polybutadiene, polyisoprene, styrene-butadiene copolymer, ethylene-non-conjugated diene copolymer, polynorbornene and the like You can also ring-open-polymerize (6). In this case, the ring-opening copolymer obtained and its hydrogenated copolymer are useful as raw materials of the resin composition having high impact resistance.

상기 개환 중합체 (식 (II)로 표시되는 구조 단위를 갖는 (공)중합체)는 개환 중합 촉매의 존재 하에서, 필요에 따라서 분자량 조절제 및 개환 중합용 용매를 이용하여, 상기 단량체 (6)의 1종 이상, 및 필요에 따라서 공중합성 단량체를 종래 공지된 방법으로 개환 (공)중합시킴으로써 얻을 수 있다. The said ring-opening polymer ((co) polymer which has a structural unit represented by Formula (II)) is 1 type of the said monomer (6) using a molecular weight modifier and the ring-opening polymerization solvent as needed in presence of a ring-opening polymerization catalyst. As mentioned above and if necessary, a copolymerizable monomer can be obtained by ring-opening (co) polymerizing by a conventionally well-known method.

또한, 상기 단량체 (6)과 상기 공중합성 단량체를 공중합시키는 경우, 상기 단량체 (6)과 상기 공중합성 단량체의 합계 100 중량%에 대하여, 상기 단량체 (6)을 통상 50 중량% 이상, 바람직하게는 60 중량% 이상, 보다 바람직하게는 70 중량% 이상, 또한 100 중량% 이하, 상기 공중합성 단량체를 0 중량% 이상, 통상 50 중량% 이하, 바람직하게는 40 중량% 이하, 보다 바람직하게는 30 중량% 이하의 비율로 공중합시키는 것이 바람직하다. In addition, when copolymerizing the said monomer (6) and the said copolymerizable monomer, the said monomer (6) is 50 weight% or more normally with respect to a total of 100 weight% of the said monomer (6) and the said copolymerizable monomer, Preferably 60 wt% or more, more preferably 70 wt% or more, and 100 wt% or less, 0 wt% or more, usually 50 wt% or less, preferably 40 wt% or less, more preferably 30 wt% of the copolymerizable monomer. It is preferable to copolymerize in the ratio of% or less.

본 발명에서 이용하는 개환 중합체로서는 단량체 (6)의 단독 중합체, 또는 2종 이상의 단량체 (6)의 공중합체가 가장 바람직하다. As the ring-opening polymer used in the present invention, a homopolymer of the monomer (6) or a copolymer of two or more kinds of monomers (6) is most preferred.

〈개환 (공)중합 촉매〉<Opening (co) polymerization catalyst>

본 발명에 이용되는 개환 (공)중합용의 촉매로서는, 문헌 [Olefin Metathesis and Metathesis Polymerization(K.J.IVIN, J.C.MOL, Academic Press 1997])에 기재되어 있는 촉매가 바람직하게 이용된다. As the catalyst for ring-opening (co) polymerization used in the present invention, the catalyst described in Olefin Metathesis and Metathesis Polymerization (K.J.IVIN, J.C.MOL, Academic Press 1997) is preferably used.

이러한 촉매로서는 예를 들면, (a) W, Mo, Re, V 및 Ti의 화합물로부터 선택된 1종 이상과, (b) Li, Na, K, Mg, Ca, Zn, Cd, Hg, B, Al, Si, Sn, Pb 등의 화합물로서, 하나 이상의 해당 원소-탄소 결합 또는 해당 원소-수소 결합을 갖는 것으로부터 선택된 1종 이상의 조합으로 이루어지는 복분해 중합 촉매를 들 수 있다. 이 촉매는 촉매의 활성을 높이기 위해서 후술할 첨가제 (c)가 첨가된 것일 수도 있다. 또한, 그 밖의 촉매로서 (d) 조촉매를 이용하지 않는 주기율표 제4족 내지 8족 전이 금속-카르벤 착체나 메타라시클로부탄 착체 등을 포함하는 복분해 촉매를 들 수 있다. As such a catalyst, for example, (a) one or more selected from compounds of W, Mo, Re, V and Ti, and (b) Li, Na, K, Mg, Ca, Zn, Cd, Hg, B, Al And metathesis polymerization catalysts composed of one or more combinations selected from those having at least one corresponding element-carbon bond or the element-hydrogen bond as compounds such as Si, Sn, and Pb. This catalyst may be added with additive (c) which will be described later in order to increase the activity of the catalyst. Moreover, the metathesis catalyst which contains the periodic table group 4-8 transition metal-carbene complex, metacyclocyclobutane complex, etc. which do not use the (d) cocatalyst as another catalyst is mentioned.

상기 (a) 성분으로서 적당한 W, Mo, Re, V 및 Ti의 화합물의 대표예로서는, WCl6, MoCl5, ReOCl3, VOCl3, TiCl4 등 일본 특허 공개 (평)1-240517호 공보에 기재된 화합물을 들 수 있다. Representative examples of the compounds of W, Mo, Re, V and Ti suitable as the component (a) include WCl 6 , MoCl 5 , ReOCl 3 , VOCl 3 , TiCl 4 and the like described in JP-A-240517 The compound can be mentioned.

상기 (b) 성분으로서는, n-C4H9Li, (C2H5)3Al, (C2H5)2AlCl, (C2H5)1.5AlCl1.5, (C2H5)AlCl2, 메틸알루목산, LiH 등 일본 특허 공개 (평)1-240517호 공보에 기재된 화합물을 들 수 있다. Examples of the component (b) include nC 4 H 9 Li, (C 2 H 5 ) 3 Al, (C 2 H 5 ) 2 AlCl, (C 2 H 5 ) 1.5 AlCl 1.5 , (C 2 H 5 ) AlCl 2 , The compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 1-240517, such as methyl alumoxane and LiH, is mentioned.

첨가제인 (c) 성분의 대표예로서는 알코올류, 알데히드류, 케톤류, 아민류 등을 바람직하게 사용할 수 있고, 또한 일본 특허 공개 (평)1-240517호 공보에 기재된 화합물을 사용할 수 있다. As representative examples of the component (c) which is an additive, alcohols, aldehydes, ketones, amines and the like can be preferably used, and the compounds described in JP-A-240517 can be used.

상기 촉매 (d)의 대표예로서는, W(=N-2,6-C6H3iPr2)(=CHtBu)(OtBu)2, Mo(=N-2,6-C6H3iPr2)(=CHtBu)(OtBu)2, Ru(=CHCH=CPh2)(PPh3)2Cl2, Ru(=CHPh)(PC6H11)2Cl2 등을 들 수 있다. Representative examples of the catalyst (d) include W (= N-2,6-C 6 H 3 iPr 2 ) (= CHtBu) (OtBu) 2 , Mo (= N-2,6-C 6 H 3 iPr 2 ) (= CHtBu) (OtBu) 2 , Ru (= CHCH = CPh 2 ) (PPh 3 ) 2 Cl 2 , Ru (= CHPh) (PC 6 H 11 ) 2 Cl 2 , and the like.

복분해 촉매의 사용량으로서는, 상기 (a) 성분과 전체 단량체(단량체 (6)의 전량 및 다른 공중합 가능한 단량체, 이하 동일함)와의 몰비로 「(a) 성분:전체 단 량체」가 통상 1:500 내지 1:500,000이 되는 범위, 바람직하게는 1:1,000 내지 1:100,000이 되는 범위인 것이 바람직하다. (a) 성분과 (b) 성분의 비율은 금속 원자비로 「(a):(b)」가 1:1 내지 1:100, 바람직하게는 1:2 내지 1:50의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 이 복분해 촉매에 상기 (c) 첨가제를 첨가하는 경우, (a) 성분과 (c) 성분의 비율은 몰비로 「(c):(a)」가 0.005:1 내지 15:1, 바람직하게는 0.05:1 내지 7:1의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 촉매 (d)의 사용량은 (d) 성분과 전체 단량체와의 몰비로 「(d) 성분:전체 단량체」가 통상 1:50 내지 1:100,000이 되는 범위, 바람직하게는 1:100 내지 1:50,000이 되는 범위인 것이 바람직하다.As the usage-amount of a metathesis catalyst, "(a) component: whole monomer" is usually 1: 500-in the molar ratio of the said (a) component and all the monomers (the total amount of monomer (6) and the other copolymerizable monomer, the same hereafter). It is preferable that it is the range which becomes 1: 500,000, Preferably it is the range which becomes 1: 1,000-1: 100,000. As for the ratio of (a) component and (b) component, it is preferable that "(a) :( b)" is 1: 1-1: 100 in the metal atomic ratio, Preferably it is the range of 1: 2-1: 50. . In addition, when the said (c) additive is added to this metathesis catalyst, the ratio of (a) component and (c) component has a molar ratio of "(c) :( a)" of 0.005: 1-15: 1, Preferably Is preferably in the range of 0.05: 1 to 7: 1. In addition, the usage-amount of catalyst (d) is a range in which "(d) component: whole monomer" is usually 1: 50-1: 100,000 by the molar ratio of (d) component and all monomers, Preferably it is 1: 100-1. The range is preferably 50,000.

〈분자량 조절제〉<Molecular weight regulator>

개환 (공)중합체의 분자량의 조절은 중합 온도, 촉매의 종류, 용매의 종류에 따라서도 행할 수 있지만, 본 발명에 있어서는 분자량 조절제를 반응계에 공존시킴으로써 조절하는 것이 바람직하다. 여기에, 바람직한 분자량 조절제로서는, 예를 들면, 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-헵텐, 1-옥텐, 1-노넨, 1-데센 등의 α-올레핀류, 스티렌, 비닐톨루엔 등의 스티렌류, 알릴아세트산, 알릴벤젠 등 알릴 화합물류를 들 수 있고, 이들 중에서 1-부텐, 1-헥센, 1-옥텐이 특히 바람직하다. 이들 분자량 조절제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 분자량 조절제의 사용량으로서는 개환 (공)중합 반응에 제공되는 전체 단량체 1몰에 대하여 0.001 내지 0.6몰, 바람직하게는 0.02 내지 0.5몰인 것이 바람직하다.Although adjustment of the molecular weight of a ring-opening (co) polymer can be performed also according to polymerization temperature, the kind of catalyst, and the kind of solvent, in this invention, it is preferable to adjust by coexisting a molecular weight modifier in a reaction system. Preferred molecular weight modifiers include, for example, α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene and 1-decene; Allyl compounds, such as styrene, such as styrene and vinyltoluene, allyl acetic acid, and allylbenzene, are mentioned, Among these, 1-butene, 1-hexene, and 1-octene are especially preferable. These molecular weight modifiers can be used individually or in mixture of 2 or more types. As a usage-amount of a molecular weight modifier, it is preferable that it is 0.001-0.6 mol, Preferably it is 0.02-0.5 mol with respect to 1 mol of all monomers provided for a ring-opening (co) polymerization reaction.

〈개환 (공)중합 반응용 용매〉<Solvent for ring-opening (co) polymerization reaction>

개환 (공)중합 반응에 이용되는 용매, 즉, 노르보르넨계 단량체, 복분해 촉매 및 분자량 조절제를 용해하는 용매로서는, 예를 들면, 석유 에테르, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸 등의 탄화수소류; 시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄, 데칼린, 노르보르난 등의 환상 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 쿠멘, 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로부탄, 클로로포름, 테트라클로로에틸렌 등의 할로겐화탄화수소류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산-iso-부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류; 디부틸에테르, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄, 디옥산 등의 에테르류; N,N-11디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에서는 이들 중에서 방향족 탄화수소가 바람직하다. As a solvent used for the ring-opening (co) polymerization reaction, that is, a solvent for dissolving a norbornene-based monomer, a metathesis catalyst and a molecular weight modifier, for example, hydrocarbons such as petroleum ether, pentane, hexane, heptane, octane, nonane and decane Ryu; Cyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, decalin and norbornane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene and chlorobenzene; Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chlorobutane, chloroform and tetrachloroethylene; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, iso-butyl acetate, and methyl propionate; Ethers such as dibutyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane and dioxane; N, N-11 dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture. In this invention, an aromatic hydrocarbon is preferable in these.

용매의 사용량으로서는 「용매:전체 단량체(중량비)」가 통상 0.5:1 내지 20:1이 되는 양이고, 바람직하게는 0.5:1 내지 10:1이 되는 양인 것이 바람직하다.As a usage-amount of a solvent, "solvent: all monomers (weight ratio)" is the quantity which is 0.5: 1-20: 1 normally, It is preferable that it is the quantity which becomes 0.5: 1-10: 1.

[수소 첨가][Hydrogenation]

본 발명에서는 상기한 개환 중합만에 의해 노르보르넨계 중합체 (B)를 제조할 수도 있지만, 개환 중합으로 얻은 개환 중합체에 추가로 수소 첨가하는 것이 바람직하다. 개환 중합만으로는, 얻어지는 노르보르넨계 중합체는 상술한 화학식 (II)로 표시되는 구조 단위 (II) 중의 X가 모두 식: -CH=CH-로 표시되는 올레핀성 불포화기의 상태이다. 이러한 개환 중합체는 그대로 사용할 수 있지만, 내열 안정 성 측면에서, 상기한 올레핀성 불포화기가 수소 첨가되어 상기 X가 -CH2-CH2-로 표시되는 기로 전환된 수소 첨가물인 것이 바람직하다. 다만, 본 발명에서 말하는 수소 첨가물이란 상기한 올레핀성 불포화기가 수소 첨가된 것이고, 노르보르넨계 단량체에 기초하는 측쇄의 방향환은 실질적으로 수소 첨가되어 있지 않은 것이다.In the present invention, the norbornene-based polymer (B) may be produced only by the above-described ring-opening polymerization, but it is preferable to further hydrogenate the ring-opening polymer obtained by the ring-opening polymerization. In the ring-opening polymerization alone, the norbornene-based polymer obtained is in the state of an olefinically unsaturated group in which all X in the structural unit (II) represented by the general formula (II) are represented by the formula: -CH = CH-. The ring-opening polymer can be used as it is, but from the viewpoint of heat stability, it is preferable that the olefinically unsaturated group described above is hydrogenated in which X is converted to a group represented by -CH 2 -CH 2- . However, the hydrogenated substance used in this invention means that the said olefinic unsaturated group was hydrogenated, and the aromatic ring of the side chain based on norbornene-type monomer is not hydrogenated substantially.

또한, 수소 첨가하는 비율로서는, 상기 구조 단위 (II)에 있어서의 X의 90몰% 이상, 바람직하게는 95% 이상, 더욱 바람직하게는 97% 이상인 것이 바람직하다. 수소 첨가하는 비율이 높을수록 열에 의한 착색이나 열화를 억제할 수가 있기 때문에 바람직하다. Moreover, as a ratio to hydrogenate, it is preferable that it is 90 mol% or more of X in the said structural unit (II), Preferably it is 95% or more, More preferably, it is 97% or more. Since the coloring and deterioration by heat can be suppressed so that the ratio to add hydrogen is high, it is preferable.

이 제조 방법에서는, 수소 첨가 반응은 단량체 (6)에 기초하는 측쇄의 방향환이 실질적으로 수소 첨가되지 않는 조건으로 행해질 필요가 있다. 이 때문에 통상은 개환 중합체의 용액에 수소 첨가 촉매를 첨가하고, 이것에 상압 내지 30 MPa, 바람직하게는 2 내지 20 MPa, 더욱 바람직하게는 3 내지 18 MPa에서 수소를 작용시킴으로써 행하는 것이 바람직하다. In this production method, the hydrogenation reaction needs to be carried out under the condition that the aromatic ring of the side chain based on the monomer (6) is not substantially hydrogenated. For this reason, it is usually preferable to add a hydrogenation catalyst to the solution of the ring-opening polymer, and act on this at normal pressure to 30 MPa, preferably 2 to 20 MPa, more preferably 3 to 18 MPa.

수소 첨가 촉매로서는 통상의 올레핀성 화합물의 수소 첨가 반응에 이용되는 것을 사용할 수 있다. 이 수소 첨가 촉매로서는 공지된 불균일계 촉매 및 균일계 촉매를 모두 사용할 수 있다. 불균일계 촉매로서는, 팔라듐, 백금, 니켈, 로듐, 루테늄 등의 귀금속 촉매 물질을, 카본, 실리카, 알루미나, 티타니아 등의 담체에 담지시킨 고체 촉매를 들 수 있다. 또한, 균일계 촉매로서는, 나프텐산니켈/트리에틸알루미늄, 비스(아세틸아세토네이토)니켈(II)/트리에틸알루미늄, 옥텐산코발트 /n-부틸리튬, 티타노센디클로라이드/디에틸알루미늄모노클로라이드, 아세트산로듐, 클로로트리스(트리페닐포스핀)로듐, 디클로로트리스(트리페닐포스핀)루테늄, 클로로히드로카르보닐트리스(트리페닐포스핀)루테늄, 디클로로카르보닐트리스(트리페닐포스핀)루테늄 등을 들 수 있다. 촉매의 형태는 분말이거나 입상일 수도 있다. 또한, 이 수소 첨가 반응 촉매는 1종 단독으로도 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.As a hydrogenation catalyst, what is used for the hydrogenation reaction of a normal olefinic compound can be used. As this hydrogenation catalyst, both a well-known heterogeneous catalyst and a homogeneous catalyst can be used. As a heterogeneous catalyst, the solid catalyst which carried noble metal catalyst substances, such as palladium, platinum, nickel, rhodium, ruthenium, on support | carriers, such as carbon, a silica, alumina, titania, is mentioned. As the homogeneous catalyst, nickel naphthenate / triethylaluminum, bis (acetylacetonato) nickel (II) / triethylaluminum, cobalt octate / n-butyllithium, titanocenedichloride / diethylaluminum monochloride, Rhodium acetate, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium, dichlorotris (triphenylphosphine) ruthenium, chlorohydrocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, dichlorocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium Can be. The form of the catalyst may be powder or granular. In addition, this hydrogenation reaction catalyst can also be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 수소 첨가 촉매는 단량체 (6) 또는 다른 단량체에 기초하는 측쇄의 방향환이 실질적으로 수소 첨가되지 않도록 하기 위해서 그 첨가량을 조정할 필요가 있는데, 통상은, 「개환 (공)중합체:수소 첨가 촉매 (중량비)」가 1:1×10-6 내지 1:2가 되는 비율로 사용하는 것이 바람직하다. These hydrogenated catalysts need to be adjusted in amount so that the aromatic rings of the side chains based on the monomer (6) or other monomers are not substantially hydrogenated. Generally, "opening (co) polymer: hydrogenated catalyst (weight ratio ) Is preferably used in a ratio of 1: 1 × 10 −6 to 1: 2.

정제 방법으로서는 스티렌계 공중합체 (A)와 동일한 방법을 채용할 수 있다.As a purification method, the method similar to a styrene-type copolymer (A) can be employ | adopted.

[부가형 (공)중합체][Additional (co) polymer]

본 발명에서는 노르보르넨계 중합체 (B)로서 상기 개환 (공)중합체 및 그의 수소 첨가 중합체 외에, 1종 단독 또는 2종 이상의 상기 단량체 (6)을 포함하는 부가형 (공)중합체, 및 상기 단량체 (6)과 불포화 이중 결합 함유 화합물의 부가형 (공)중합체를 사용할 수 있다. 1종 단독 또는 2종 이상의 상기 단량체 (6)의 (공)중합 반응에 의해 생성된 부가형 (공)중합체는 종래 공지된 방법에 의해 얻을 수 있다. 또한, 상기 단량체 (6)과 불포화 이중 결합 함유 화합물은 이들의 합계량 100 중량%에 대하여, 상기 단량체 (6)을 통상 50 내지 90 중량%, 바람직하게는 60 내지 90 중량%, 보다 바람직하게는 70 내지 90 중량%, 불포화 이중 결합 함유 화합물을 통상 10 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 30 중량%의 비율로 공중합시키는 것이 바람직하다. In the present invention, in addition to the ring-opening (co) polymer and its hydrogenated polymer as the norbornene-based polymer (B), an addition-type (co) polymer comprising one or two or more of the monomers (6), and the monomer (6 ) And an unsaturated (co) polymer of an unsaturated double bond containing compound can be used. The addition type (co) polymer produced | generated by the (co) polymerization reaction of 1 type individually or 2 or more types of said monomers (6) can be obtained by a conventionally well-known method. In addition, the monomer (6) and the unsaturated double bond-containing compound are usually 50 to 90% by weight, preferably 60 to 90% by weight, more preferably 70 to the monomer (6) to 100% by weight of the total amount thereof. It is preferable to copolymerize the compound at 90 to 90% by weight, and the unsaturated double bond-containing compound at a ratio of usually 10 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight, more preferably 10 to 30% by weight.

상기 불포화 이중 결합 함유 화합물로서는, 예를 들면, 에틸렌, 프로필렌, 부텐 등의 탄소수 2 내지 12, 바람직하게는 2 내지 8의 올레핀계 화합물을 들 수 있다. As said unsaturated double bond containing compound, C2-C12, Preferably 2 to 8 olefin type compounds, such as ethylene, propylene, butene, are mentioned, for example.

상기 단량체 (6)과 불포화 이중 결합 함유 화합물과의 공중합 반응에 이용되는 촉매로서는, 바나듐 화합물과 유기 알루미늄 화합물을 포함하는 촉매를 들 수 있다. 바나듐 화합물로서는, VO(OR)aXb 또는 V(OR)cXd(다만, R은 탄화수소기, 0≤a≤3, 0≤b≤3, 2≤a+b≤3, 0≤c≤4, 0≤d≤4, 3≤c+d≤4)로 표시되는 바나듐 화합물, 또는 이들의 전자 공여체 부가물을 들 수 있다. 전자 공여체로서는 알코올, 페놀류, 케톤, 알데히드, 카르복실산, 유기산 또는 무기산의 에스테르, 에테르, 산 아미드, 산 무수물, 알콕시실란 등의 산소 함유 전자 공여체, 암모니아, 아민, 니트릴, 이소시아네이트 등의 질소 함유 전자 공여체 등을 들 수 있다. 상기 유기 알루미늄 화합물로서는, 알루미늄-탄소 결합 또는 알루미늄-수소 결합을 하나 이상 갖는 화합물로부터 선택된 1종 이상의 유기 알루미늄 화합물을 들 수 있다. 상기 촉매에 있어서 바나듐 화합물과 유기 알루미늄 화합물의 비율은 바나듐 원자에 대한 알루미늄 원자의 비(Al/V)로 통상 2 이상, 바람직하게는 2 내지 50, 특히 바람직하게는 3 내지 20이다. As a catalyst used for the copolymerization reaction of the said monomer (6) with an unsaturated double bond containing compound, the catalyst containing a vanadium compound and an organoaluminum compound is mentioned. As a vanadium compound, VO (OR) a X b or V (OR) c X d (where R is a hydrocarbon group, 0≤a≤3, 0≤b≤3, 2≤a + b≤3, 0≤c Vanadium compounds represented by ≦ 4, 0 ≦ d ≦ 4, 3 ≦ c + d ≦ 4), or electron donor adducts thereof. As electron donors, oxygen-containing electron donors such as alcohols, phenols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, organic acids or esters of organic acids or inorganic acids, ethers, acid amides, acid anhydrides and alkoxysilanes, and nitrogen-containing electrons such as ammonia, amines, nitriles and isocyanates Donors and the like. Examples of the organoaluminum compound include at least one organoaluminum compound selected from compounds having at least one aluminum-carbon bond or aluminum-hydrogen bond. The ratio of the vanadium compound and the organoaluminum compound in the catalyst is usually 2 or more, preferably 2 to 50, particularly preferably 3 to 20, in terms of the ratio (Al / V) of the aluminum atoms to the vanadium atoms.

상기 공중합 반응에 이용되는 용매로서는, 예를 들면, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸 등의 탄화수소류; 시클로헥산, 메틸시클로헥산 등의 환상 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 및 그의 할로겐 유도체를 들 수 있다. 이들 중에서 시클로헥산, 메틸시클로헥산이 바람직하다. As a solvent used for the said copolymerization reaction, For example, hydrocarbons, such as a pentane, hexane, heptane, an octane, a nonane, a decane; Cyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane; Aromatic hydrocarbons, such as benzene, toluene, and xylene, and their halogen derivatives are mentioned. Among these, cyclohexane and methylcyclohexane are preferable.

정제 방법으로서는 상기 스티렌계 공중합체 (A)와 동일한 방법을 채용할 수 있다. As a purification method, the method similar to the said styrene-type copolymer (A) can be employ | adopted.

본 발명에 이용되는 노르보르넨계 중합체 (B)는 30℃의 클로로벤젠 용액(농도 0.5 g/dL) 중에서 측정한 대수 점도(η)가 0.3 내지 2.0 dL/g인 것이 바람직하다. 또한, 노르보르넨계 중합체 (B)의 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정되는 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(Mn)은 통상 1,000 내지 500,000, 바람직하게는 3,000 내지 300,000, 더욱 바람직하게는 5,000 내지 100,000이고, 중량 평균 분자량(Mw)은 통상 10,000 내지 1,000,000, 바람직하게는 20,000 내지 500,000, 더욱 바람직하게는 30,000 내지 200,000인 것이 바람직하다. As for norbornene-type polymer (B) used for this invention, it is preferable that the logarithmic viscosity ((eta)) measured in 30 degreeC chlorobenzene solution (concentration 0.5 g / dL) is 0.3-2.0 dL / g. In addition, the number average molecular weight (Mn) of polystyrene conversion measured by gel permeation chromatography (GPC) of the norbornene-based polymer (B) is usually 1,000 to 500,000, preferably 3,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 100,000. The weight average molecular weight (Mw) is usually 10,000 to 1,000,000, preferably 20,000 to 500,000, more preferably 30,000 to 200,000.

분자량이 너무 작으면 얻어지는 성형품이나 필름의 강도가 낮아지는 경우가 있다. 분자량이 너무 크면 용액 점도가 너무 높아져 본 발명에 이용하는 수지 조성물의 생산성이나 가공성이 악화하는 경우가 있다. When molecular weight is too small, the intensity | strength of the molded article and film obtained may become low. When molecular weight is too big, solution viscosity may become high too much and productivity and workability of the resin composition used for this invention may deteriorate.

또한, 노르보르넨계 중합체 (B)의 분자량 분포(Mw/Mn)는 통상 1.5 내지 10, 바람직하게는 2 내지 8, 더욱 바람직하게는 2 내지 6인 것이 바람직하다. In addition, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the norbornene-based polymer (B) is usually from 1.5 to 10, preferably from 2 to 8, more preferably from 2 to 6.

노르보르넨계 중합체 (B)의 유리 전이 온도(Tg)는 통상 100 내지 250℃이고, 바람직하게는 110 내지 220℃, 더욱 바람직하게는 115 내지 200℃이다. Tg가 너무 낮으면 열변형 온도가 낮아지기 때문에 내열성에 문제가 생길 우려가 있고, 또한 얻어지는 성형품이나 필름의 온도에 의한 광학 특성의 변화가 커진다는 문제가 생기는 경우가 있다. 한편, Tg가 너무 높으면 가공 온도를 높게 할 필요가 있어, 이에 따라 수지 조성물이 열 열화하는 경우가 있다. The glass transition temperature (Tg) of the norbornene-based polymer (B) is usually 100 to 250 ° C, preferably 110 to 220 ° C, more preferably 115 to 200 ° C. If the Tg is too low, the heat deformation temperature is lowered, which may cause a problem in heat resistance, and there may be a problem that the change in optical properties due to the temperature of the obtained molded product or film increases. On the other hand, when Tg is too high, it is necessary to raise processing temperature, and a resin composition may thermally deteriorate by this.

<수지 조성물 및 광학 필름> <Resin composition and optical film>

본 발명에 따른 수지 조성물 및 광학 필름은 상기 스티렌계 공중합체 (A)와 노르보르넨계 중합체 (B)의 조성비((A)/(B))가 중량비로 스티렌계 공중합체/노르보르넨계 중합체=5/95 내지 70/30, 바람직하게는 15/85 내지 60/40, 보다 바람직하게는 20/80 내지 50/50의 범위이다. 스티렌계 공중합체 (A)의 배합량이 상기 범위에 있으면, 제막 후, 연신함으로써 역파장 분산성을 갖는 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 필름의 강도도 향상된다. 스티렌계 공중합체 (A)의 배합량이 상기 하한 미만이 되면 수지 조성물로부터 얻어지는 연신 필름이 역파장 분산성을 나타내지 않지 않는 경우가 있다. 또한, 스티렌계 공중합체 (A)의 배합량이 상기 상한을 초과하면, 얻어지는 수지 조성물이나 광학 필름의 내열성이 저하되거나, 광학 필름의 강도가 저하되거나 하는 경우가 있다. The resin composition and the optical film according to the present invention have a composition ratio ((A) / (B)) of the styrene copolymer (A) and the norbornene polymer (B) in a weight ratio of styrene copolymer / norbornene polymer = 5/95 to 70/30, preferably 15/85 to 60/40, more preferably 20/80 to 50/50. When the compounding quantity of a styrene-type copolymer (A) exists in the said range, an optical film which has reverse wavelength dispersion can be obtained by extending | stretching after film forming. In addition, the strength of the film is also improved. When the compounding quantity of a styrene copolymer (A) is less than the said minimum, the stretched film obtained from a resin composition may not show reverse wavelength dispersion. Moreover, when the compounding quantity of a styrene copolymer (A) exceeds the said upper limit, the heat resistance of the resin composition and optical film obtained may fall, or the intensity | strength of an optical film may fall.

상기 수지 조성물 및 광학 필름은 추가로 탄화수소 수지를 함유하고 있을 수도 있다. 이 탄화수소 수지로서는 C5계 수지, C9계 수지, C5계/C9계 혼합 수지, 시클로펜타디엔계 수지, 올레핀/비닐 치환 방향족계 화합물의 공중합체계 수지, 시클로펜타디엔계 화합물/비닐 치환 방향족계 화합물의 공중합체계 수지, 이들 수지의 수소 첨가물 및 비닐 치환 방향족계 수지의 수소 첨가물 등을 들 수 있다. 탄화수소 수지의 함유량은 노르보르넨계 중합체 (B) 100 중량부에 대하여 통상 0.01 내지 50 중량부, 바람직하게는 0.1 내지 25 중량부이다. The resin composition and the optical film may further contain a hydrocarbon resin. Examples of the hydrocarbon resin, C 5 resins, C 9 resins, C 5 series / C 9 based mixed resin, cyclopentadiene-based resins, olefin / vinyl substituted copolymer-based resin, aromatic-based compounds, cyclopentadiene compound / vinyl substituted The copolymer system resin of an aromatic compound, the hydrogenated substance of these resin, the hydrogenated substance of vinyl substituted aromatic resin, etc. are mentioned. The content of the hydrocarbon resin is usually 0.01 to 50 parts by weight, preferably 0.1 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the norbornene-based polymer (B).

상기 수지 조성물에, 내열 열화성이나 내광성의 개량을 위해 하기에 나타내는 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을 첨가할 수도 있다. In order to improve heat | fever deterioration resistance and light resistance, the antioxidant, ultraviolet absorber, etc. which are shown below can also be added to the said resin composition.

산화 방지제로서는, As antioxidant

2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2,2'-디옥시-3,3'-디-t-부틸-5,5'-디메틸디페닐메탄, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 스테아릴-β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 2,2'-디옥시-3,3'-디-t-부틸-5,5'-디에틸페닐메탄, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-(β-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시)에틸], 2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 시클릭 네오펜탄테트라일비스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 시클릭 네오펜탄테트라일비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 2,2-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)옥틸포스파이트를 들 수 있다. 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2'-dioxy-3,3'-di-t-butyl-5,5'-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [methylene-3 -(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl- 4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-dioxy-3,3'-di-t-butyl-5,5'-diethylphenylmethane, 3,9-bis [1,1-dimethyl -2- (β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy) ethyl], 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, tris (2, 4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrabisbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrabisbis (2,6-di-t- Butyl-4-methylphenyl) phosphite and 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octylphosphite.

자외선 흡수제로서는, As a ultraviolet absorber,

2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디-tert-펜틸페놀, 2-벤조트리아졸-2-일-4,6-디-tert-부틸페놀, 2,2'-메틸렌비스〔4- (1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀]〕 등을 들 수 있다. 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl ) Phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di-tert-pentylphenol, 2-benzotriazol-2-yl-4,6-di-tert-butylphenol, 2 , 2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6-[(2H-benzotriazol-2-yl) phenol]] and the like.

이들 첨가제의 첨가량은 본 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 통상 0.01 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.05 내지 4 중량부이다. The amount of these additives added is usually 0.01 to 5 parts by weight, preferably 0.05 to 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the present resin composition.

또한, 가공성을 향상시킬 목적으로 윤활제 등의 첨가제를 첨가할 수도 있다.Moreover, additives, such as a lubricant, can also be added for the purpose of improving workability.

<수지 조성물의 제조 방법> <Method for producing resin composition>

본 발명에 따른 수지 조성물은, 예를 들면, 하기 (i) 내지 (iii)의 방법에 의해 얻을 수 있다.The resin composition which concerns on this invention can be obtained by the method of following (i)-(iii), for example.

(i) 스티렌계 공중합체 (A)와 노르보르넨계 중합체 (B)와 임의 성분을, 이축 압출기 또는 롤 혼련기 등을 이용하여 혼합하는 방법. (i) A method in which a styrene copolymer (A), a norbornene polymer (B) and an optional component are mixed using a twin screw extruder or a roll kneader.

(ii) 노르보르넨계 중합체 (B)를 적당한 용매에 용해한 용액에 스티렌계 공중합체 (A)를 첨가 혼합하는 방법. (ii) A method in which a styrene copolymer (A) is added and mixed in a solution in which a norbornene-based polymer (B) is dissolved in a suitable solvent.

(iii) 스티렌계 공중합체 (A) 또는 그 용액과 노르보르넨계 중합체 (B) 또는 그 용액을 혼합 용해하여, 디보라티라이터나 루더 등을 이용하여 탈용하는 방법. (iii) A method of mixing and dissolving a styrene copolymer (A) or a solution thereof and a norbornene-based polymer (B) or a solution thereof, and desolvating it using a diboratiwriter, a luder or the like.

이 때에 사용하는 용제로서는 스티렌계 공중합체 (A) 또는 노르보르넨계 중합체 (B)의 제조에 사용하는 중합 용매나, 광학 필름의 용제 캐스팅법에서 이용하는 일반적인 용제를 사용할 수 있다. 상기 방법에 의해 얻어지는 수지 조성물은 고분자량의 중합체를 함유하기 때문에 필름 강도가 우수한 광학 필름을 얻을 수 있다. As a solvent used at this time, the polymerization solvent used for manufacture of a styrene copolymer (A) or a norbornene-type polymer (B), and the general solvent used by the solvent casting method of an optical film can be used. Since the resin composition obtained by the said method contains a high molecular weight polymer, the optical film excellent in film strength can be obtained.

또한, 상기 (ii), (iii) 등에서 얻어지는 수지 조성물 용액을 압출기에 도입하고, 압출기 내에서 이 수지 조성물 용액 내의 휘발분을 제거한 후, 필름 형상 또 는 스트랜드 형상으로 다이로부터, 후술하는 용융 압출 성형(이하, 단순히 압출 성형이라고도 함)을 행하여 성형체 또는 광학 필름을 얻을 수 있다.Furthermore, after introducing the resin composition solution obtained by said (ii), (iii) etc. into an extruder and removing the volatile matter in this resin composition solution in an extruder, it melt-extrusion shape mentioned later from die | dye in film shape or strand shape ( Hereinafter, also referred to simply as extrusion molding), a molded article or an optical film can be obtained.

<광학 필름의 제조 방법> <Method for producing optical film>

본 발명의 광학 필름은 상술한 수지 조성물을 용융 성형법, 용액 유연법(용제 캐스팅법) 등에 의해 필름으로 성형함으로써 얻을 수 있다. The optical film of this invention can be obtained by shape | molding the resin composition mentioned above to a film by melt-molding method, the solution casting method (solvent casting method), etc.

용제 캐스팅법으로서는, 예를 들면, 상술한 본 발명에 따른 수지 조성물을 용매에 용해 또는 분산시켜 적합한 농도의 액으로 하고, 적당한 캐리어 상에 붓거나, 또는 도포하고, 이것을 건조한 후, 캐리어로부터 박리시키는 방법을 들 수 있다.As the solvent casting method, for example, the resin composition according to the present invention described above is dissolved or dispersed in a solvent to form a liquid having a suitable concentration, poured onto a suitable carrier, or applied, and dried and then peeled from the carrier. A method is mentioned.

본 발명에 따른 수지 조성물을 용매에 용해 또는 분산시킬 때에는, 이 수지 조성물의 농도를 통상은 1 내지 90 중량%, 바람직하게는 5 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 35 중량%으로 한다. 이 수지의 농도를 상기 미만으로 하면 필름의 두께를 확보하는 것이 곤란해진다. 또한 용매 증발에 수반하는 발포 등에 의해 필름의 표면 평활성이 얻기 어려워지는 등의 문제가 생긴다. 한편, 상기를 초과한 농도로 하면 용액 점도가 너무 높아져 얻어지는 광학 필름의 두께나 표면이 균일해지기 어려워지기 때문에 바람직하지 않다. When dissolving or dispersing the resin composition according to the present invention in a solvent, the concentration of the resin composition is usually 1 to 90% by weight, preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 35% by weight. When the concentration of this resin is less than the above, it becomes difficult to secure the thickness of the film. Moreover, the problem that the surface smoothness of a film becomes difficult to obtain by foaming etc. accompanying solvent evaporation arises. On the other hand, when the concentration exceeds the above, the solution viscosity becomes too high, so that the thickness and the surface of the optical film obtained become difficult to be uniform.

또한, 실온에서의 상기 용액의 점도는 통상은 1 내지 1,000,000(mPa·s), 바람직하게는 10 내지 500,000(mPa·s), 더욱 바람직하게는 100 내지 200,000(mPa·s), 특히 바람직하게는 1,000 내지 100,000(mPa·s)이다. In addition, the viscosity of the solution at room temperature is usually 1 to 1,000,000 (mPa · s), preferably 10 to 500,000 (mPa · s), more preferably 100 to 200,000 (mPa · s), particularly preferably 1,000 to 100,000 (mPa · s).

여기서 사용하는 용매로서는, 시클로헥산, 시클로펜탄, 메틸시클로헥산 등의 탄화수소계 용매, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용매, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올 등의 셀로솔브계 용매, 디아세톤알코올, 아세톤, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 4-메틸-2-펜타논, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매, 락트산메틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르계 용매, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 할로겐 함유 용매, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디메톡시에탄, 1,3-디옥솔란 등의 에테르계 용매, 1-부탄올, 1-펜탄올 등의 알코올계 용매를 들 수 있다. Examples of the solvent used herein include hydrocarbon solvents such as cyclohexane, cyclopentane and methylcyclohexane, aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and 1-methoxy-2-propanol. Ketone solvents such as cellosolve solvents, diacetone alcohol, acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, 4-methyl-2-pentanone, methyl isobutyl ketone, methyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid Ester solvents such as butyl, halogen-containing solvents such as methylene chloride and chloroform, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane and 1,3-dioxolane, 1-butanol and 1-pentanol Alcohol solvents are mentioned.

또한, 상기 이외에도 SP값(용해도 파라미터)가 통상 10 내지 30(MPa1/2), 바람직하게는 10 내지 25(MPa1 /2), 더욱 바람직하게는 15 내지 25(MPa1 /2), 특히 바람직하게는 17 내지 20(MPa1 /2)의 범위의 용매를 사용하면 표면 균일성과 광학 특성이 양호한 광학 필름을 얻을 수 있다. Further, in addition to the SP value (solubility parameter) is usually 10 to 30 (MPa 1/2), preferably from 10 to 25 (MPa 1/2), more preferably from 15 to 25 (MPa 1/2), in particular preferably it is achieved by a good optical film surface uniformity and optical properties using a solvent in the range of 17 to 20 (MPa 1/2).

상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상 병용하여 사용할 수 있다. 용매를 2종 이상 병용하는 경우에는 혼합물로서의 SP값의 범위를 상기 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 이 때, 혼합물로서의 SP값은 그 중량비로부터 구할 수 있고, 예를 들면 2종의 혼합물의 경우에는, 각 용매의 중량분율을 W1, W2, 또한 SP값을 SP1, SP2라 하면 혼합 용매의 SP값은 하기 수학식에 의해 계산한 값으로서 구할 수 있다.The said solvent can be used individually or in combination of 2 or more types. When using 2 or more types of solvents together, it is preferable to make the range of SP value as a mixture into the said range. At this time, when the SP value as a mixture may be obtained from the weight ratio, for example, in the case of a mixture of two, the weight fraction of each solvent, W 1, W 2, also referred to an SP value SP 1, SP 2 mixture The SP value of a solvent can be calculated | required as the value computed by the following formula.

SP값=W1·SP1+W1·SP2 SP value = W 1 SP 1 + W 1 SP 2

수지 용액의 제조에 있어서, 본 발명에 따른 열가소성 수지 조성물을 용매에 용해하는 경우의 온도는 실온이거나 고온일 수도 있다. 충분히 교반함으로써 균일한 용액이 얻어진다. 또한, 필요에 따라서 착색하는 경우에는, 용액에 염료, 안료 등의 착색제를 적절하게 첨가할 수도 있다. In the production of the resin solution, the temperature when dissolving the thermoplastic resin composition according to the present invention in a solvent may be room temperature or high temperature. A uniform solution is obtained by stirring sufficiently. Moreover, when coloring as needed, coloring agents, such as dye and a pigment, can also be added suitably.

또한, 광학 필름의 표면 평활성을 향상시키기 위해서 레벨링제를 첨가할 수도 있다. 일반적인 레벨링제이면 어느 것이든 사용할 수 있는데, 예를 들면, 불소계 비이온 계면 활성제, 특수 아크릴 수지계 레벨링제, 실리콘계 레벨링제 등을 사용할 수 있다. Moreover, in order to improve the surface smoothness of an optical film, you may add a leveling agent. As long as it is a general leveling agent, any can be used, For example, a fluorine-type nonionic surfactant, a special acrylic resin type leveling agent, a silicone type leveling agent, etc. can be used.

본 발명의 광학 필름을 용제 캐스팅법에 의해 제조하는 방법으로서는, 상기 용액을 다이나 코터를 사용하여 금속 드럼, 스틸 벨트, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)나 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스테르 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌제 벨트 등의 기재 상에 도포하고, 그 후 용제를 건조·제거하여 기재로부터 필름을 박리하는 방법을 일반적으로 들 수 있다. 또한, 분무, 솔, 롤 스핀 코팅, 침지 등의 수단을 이용하여 수지 조성물 용액을 기재에 도포하고, 그 후 용제를 건조·제거하여 기재로부터 필름을 박리함으로써 제조할 수도 있다. 또한, 도포의 반복에 의해 두께나 표면 평활성 등을 제어할 수도 있다. As a method for producing the optical film of the present invention by a solvent casting method, a polyester drum such as a metal drum, a steel belt, polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), poly The method of apply | coating on base materials, such as a belt made from tetrafluoroethylene, drying and removing a solvent after that, and peeling a film from a base material is mentioned generally. Moreover, it can also manufacture by apply | coating a resin composition solution to a base material using means, such as spraying, a brush, roll spin coating, and immersion, drying and removing a solvent after that, and peeling a film from a base material. Moreover, thickness, surface smoothness, etc. can also be controlled by repetition of application | coating.

또한, 기재로서 폴리에스테르 필름을 사용하는 경우에는 표면 처리된 필름을 사용할 수도 있다. 표면 처리의 방법으로서는 일반적으로 행해지고 있는 친수화 처리 방법, 예를 들면 아크릴계 수지나 술폰산염기 함유 수지를 코팅이나 라미네이트에 의해 적층하는 방법, 또는 코로나 방전 처리 등에 의해 필름 표면의 친수성을 향상시키는 방법 등을 들 수 있다. In addition, when using a polyester film as a base material, the surface-treated film can also be used. As the surface treatment method, a hydrophilic treatment method which is generally performed, for example, a method of laminating an acrylic resin or a sulfonate group-containing resin with a coating or a laminate, or a method of improving the hydrophilicity of the film surface by corona discharge treatment or the like Can be mentioned.

상기 용제 캐스팅법의 건조(용제 제거) 공정에 대해서는 특별히 제한은 없고 일반적으로 이용되는 방법, 예를 들면 다수의 롤러를 통해 건조로 안을 통과시키는 방법 등으로 실시할 수 있는데, 건조 공정에서 용매의 증발에 수반하여 기포가 발생하면, 필름의 특성을 현저히 저하시키기 때문에, 이것을 피하기 위해서 건조 공정을 2단 이상의 복수 공정으로 하고, 각 공정에서의 온도 또는 풍량을 제어하는 것이 바람직하다. There is no restriction | limiting in particular about the drying (solvent removal) process of the said solvent casting method, It can carry out by the method generally used, for example, passing through a drying furnace through a number of rollers, and evaporating a solvent in a drying process. Since bubbles generate | occur | produce along with this, the characteristic of a film will fall remarkably, In order to avoid this, it is preferable to make a drying process into two or more steps, and to control the temperature or air volume in each process.

또한, 광학 필름 중의 잔류 용매량은 통상은 10 중량% 이하, 바람직하게는 5 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 2 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다. 여기서, 잔류 용매량이 10 중량% 이상이면 실제로 이 광학 필름을 사용했을 때에 시간 경과에 따른 치수 변화가 커져서 바람직하지 않다. 또한, 잔류 용매에 의해 Tg가 낮아지고, 내열성도 저하하기 때문에 바람직하지 않다. Moreover, the amount of residual solvent in an optical film is 10 weight% or less normally, Preferably it is 5 weight% or less, More preferably, it is 2 weight% or less, Especially preferably, it is 1 weight% or less. Here, when the amount of residual solvent is 10 weight% or more, when actually using this optical film, the dimensional change with time becomes large and it is unpreferable. Moreover, since Tg becomes low and heat resistance also falls by a residual solvent, it is unpreferable.

또한, 후술하는 연신 공정을 바람직하게 행하기 위해서는 상기 잔류 용매량을 상기 범위 내로 적절하게 조절할 필요가 있는 경우가 있다. 구체적으로는, 연신 배향 시의 위상차를 안정적으로 균일하게 발현시키기 위해서 잔류 용매량을 통상은 10 내지 0.1 중량%, 바람직하게는 5 내지 0.1 중량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 0.1 중량%로 하는 경우가 있다. 용매를 미량 잔류시킴으로써 연신 가공이 용이해지거나 또는 위상차의 제어가 용이해지는 경우가 있다. In addition, in order to perform the extending process mentioned later preferably, it may be necessary to adjust the said residual solvent amount suitably in the said range. Specifically, in order to stably and uniformly express the phase difference in the stretching orientation, the amount of the residual solvent is usually 10 to 0.1% by weight, preferably 5 to 0.1% by weight, more preferably 1 to 0.1% by weight. There is. By remaining a trace amount of solvent, the stretching process may be easy or the control of the phase difference may be easy.

본 발명의 광학 필름의 두께는 통상은 0.1 내지 3,000 μm, 바람직하게는 0.1 내지 1,000 μm, 더욱 바람직하게는 1 내지 500 μm, 가장 바람직하게는 5 내지 300 μm이다. 0.1 μm 미만의 두께의 경우 실질적으로 취급이 곤란해진다. 한 편, 3,000 μm 이상의 경우 롤 형상으로 권취하는 것이 곤란해진다.The thickness of the optical film of the present invention is usually 0.1 to 3,000 μm, preferably 0.1 to 1,000 μm, more preferably 1 to 500 μm, and most preferably 5 to 300 μm. For thicknesses less than 0.1 μm, handling becomes substantially difficult. On the other hand, when it is 3,000 micrometers or more, it becomes difficult to wind up in roll shape.

본 발명의 광학 필름의 두께 분포는 통상은 평균치에 대하여 ±20% 이내, 바람직하게는 ±10% 이내, 더욱 바람직하게는 ±5% 이내, 특히 바람직하게는 ±3% 이내이다. 또한, 1 cm당의 두께의 변동은 통상은 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하, 더욱 바람직하게는 1% 이하, 특히 바람직하게는 0.5% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 두께 제어를 실시함으로써 균질한 광학 필름으로 할 수 있음과 동시에, 연신 배향했을 때의 투과광의 위상차 불균일을 막을 수 있다. The thickness distribution of the optical film of the present invention is usually within ± 20%, preferably within ± 10%, more preferably within ± 5%, particularly preferably within ± 3% of the average value. In addition, the variation in thickness per cm is usually 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 1% or less, particularly preferably 0.5% or less. By performing such thickness control, it can be set as a homogeneous optical film and the phase difference unevenness of the transmitted light at the time of extending | stretching orientation can be prevented.

압출 성형법으로서는 압출기에 의해 수지를 용융하고, 기어 펌프에 의해 정량 공급하고, 이것을 금속 필터로 여과에 의해 불순물을 제거하고, 다이로 필름 형상으로 부형하고, 인발기를 이용하여 필름을 냉각하고, 권취기를 이용하여 권취하는 방법이 일반적으로 사용된다. In the extrusion method, the resin is melted by an extruder, quantitatively supplied by a gear pump, the impurities are removed by filtration by a metal filter, molded into a film by a die, the film is cooled by using a drawer, The winding method by using is generally used.

압출 성형에 사용되는 압출기로서는, 단축, 이축, 유성식, 코니더, 벤버리 믹서 타입 등을 모두 사용할 수도 있는데, 바람직하게는 단축 압출기가 이용된다. 또한, 압출기의 스크류 형상으로서는 벤트형, 선단 덜메이지(dulmadge)형, 더블 플라이트형, 풀 플라이트형, 배리어형 등이 있고, 압축 타입으로서는, 완압축 타입, 급압축 타입 등이 있는데, 풀 플라이트형 완압축 타입 또는 배리어형이 바람직하다. As an extruder used for extrusion molding, all of single screw, twin screw, planetary type, a kneader, a Benbury mixer type, etc. can also be used, Preferably a single screw extruder is used. In addition, the screw shape of the extruder includes a vent type, a tip dulmadge type, a double flight type, a full flight type, a barrier type, and the like, and the compression type includes a slow compression type and a rapid compression type. Slow compression type or barrier type is preferred.

계량에 사용하는 기어 펌프에 대해서는, 기어의 사이에서 하류측으로부터 되돌아오는 수지가 계 내에 들어가는 내부 윤활 방식과, 외부로 배출되는 외부 윤활 방식이 있는데, 열 안정성이 양호하지 않은 노르보르넨계 중합체의 경우에는 외부 윤활 방식이 바람직하다. 기어 펌프의 기어 톱니의 절단 방향은 축에 대하여 평행인 방향보다도, 나선형 쪽이 계량의 안정화면에서 바람직하다. As for the gear pump used for metering, there are an internal lubrication method in which the resin returned from the downstream side between the gears enters the system, and an external lubrication method discharged to the outside. External lubrication is preferable. The cutting direction of the gear tooth of the gear pump is more preferable in terms of stabilization of metering than in the direction parallel to the axis.

이물질의 여과에 사용하는 필터에 대해서는, 리프 디스크 타입, 캔들 필터 타입, 리프 타입, 스크린 메쉬 등을 들 수 있는데, 비교적 체류 시간 분포가 작고, 여과 면적을 크게 하는 것이 가능한 리프 디스크 타입의 것이 바람직하다. 필터 요소로서는, 금속 섬유 소결 타입, 금속 분말 소결 타입, 금속 섬유/분말 적층타입 등을 들 수 있다. Examples of the filter used for filtration of foreign substances include leaf disc type, candle filter type, leaf type, screen mesh, and the like. A leaf disc type that is relatively small in distribution of residence time and which can increase the filtration area is preferable. . Examples of the filter element include metal fiber sintering type, metal powder sintering type, metal fiber / powder lamination type and the like.

필터의 센터 폴의 형상에는 외류 타입, 육각기둥 내부 유동 타입, 원주 내부 유동 타입 등을 들 수 있는데, 체류부가 작은 형상이면, 어느 쪽의 형상을 선택하는 것도 가능하다. Examples of the shape of the center pole of the filter include an outflow type, a hexagonal column inner flow type, a circumferential inner flow type, and the like, and any shape can be selected as long as the retention portion is small.

용융된 수지는 다이로부터 토출되고, 냉각 드럼에 밀착 고화되어 목적으로 하는 필름으로 성형된다. 다이 형상에 대해서는 다이 내부의 수지 유동을 균일하게 하는 것이 필수이고, 필름의 두께의 균일성을 유지하기 위해서는, 다이 출구 근방에서의 다이 내부의 압력 분포가 폭 방향에서 일정한 것이 필수이다. 또한, 폭 방향에서의 수지의 유량이 거의 일정하고, 다이의 출구에서의 유량의 미조정을 리프 개방도에 의해 조정 가능한 범위에서 일정한 것이 두께의 균일성을 얻기 위해서 필수 용건이다. 상기, 조건을 만족시키기 위해서는 매니폴드 형상은 코트 행거 타입이 바람직하고, 스트레이트 매니폴드, 피시테일(fishtail) 타입 등은 폭 방향에서의 유량 분포 등이 발생하기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다. The molten resin is discharged from the die, solidified in close contact with the cooling drum, and molded into a target film. It is essential to make the resin flow inside a die uniform about die shape, and in order to maintain the uniformity of the thickness of a film, it is essential that the pressure distribution inside a die near die exit is constant in the width direction. In addition, the flow rate of the resin in the width direction is almost constant, and it is essential to obtain a uniformity of thickness, in which the fine adjustment of the flow rate at the outlet of the die can be adjusted by the leaf opening degree. In order to satisfy the above conditions, the manifold shape is preferably a coat hanger type, and the straight manifold, fishtail type and the like are not preferable because the flow rate distribution in the width direction tends to occur.

또한, 상기한 필름의 두께 분포를 균일하게 하기 위해서는, 다이 출구에서의 온도 분포를 폭 방향에서 일정하게 하는 것이 중요하고, 온도 분포는 바람직하게는 ±1℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 ±0.5℃ 이하이다. ±1℃를 초과하여 폭 방향으로 온도 불균일이 발생되어 있으면 수지의 용융 점도차가 생겨, 두께 불균일, 응력 분포 불균일 등이 생기기 때문에, 연신 조작을 실시하는 과정에서, 위상차 불균일이 발생하기 쉬워져서 바람직하지 않다. In addition, in order to make the thickness distribution of the film uniform, it is important to make the temperature distribution at the die outlet constant in the width direction, and the temperature distribution is preferably ± 1 ° C or less, and more preferably ± 0.5 ° C. It is as follows. If temperature nonuniformity is generated in the width direction exceeding ± 1 ° C, a difference in melt viscosity of the resin may occur, resulting in thickness nonuniformity, stress distribution nonuniformity, and the like, and thus, phase difference nonuniformity tends to occur during the stretching operation. not.

또한, 다이 출구의 리프 개방량(이하, 「리프갭」이라고 함)는 통상 0.3 내지 1.5 mm이고, 바람직하게는 0.3 내지 1.2 mm이고, 더욱 바람직하게는 0.35 내지 1.0 mm이다. 리프갭이 0.3 mm 미만이면 다이 내부의 수지 압력이 너무 높아져서, 수지가 다이의 리프 이외의 장소에서 수지 누설을 발생시키기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 리프갭이 1.5 mm를 초과하면, 다이의 수지 압력이 높아지기 어려워지기 때문에, 필름의 폭 방향의 두께의 균일성이 나빠져서 바람직하지 않다.The leaf opening amount (hereinafter referred to as "leaf gap") at the die exit is usually 0.3 to 1.5 mm, preferably 0.3 to 1.2 mm, and more preferably 0.35 to 1.0 mm. If the leaf gap is less than 0.3 mm, the resin pressure inside the die becomes too high and the resin tends to cause resin leakage at a place other than the leaf of the die, which is not preferable. On the other hand, when the leaf gap exceeds 1.5 mm, since the resin pressure of the die becomes difficult, the uniformity of the thickness in the width direction of the film is deteriorated, which is not preferable.

다이로부터 압출된 필름을 밀착 고화시키는 방법으로서는, 닙 롤 방식, 정전 인가 방식, 에어 나이프 방식, 진공 챔버 방식, 캘린더 방식 등을 들 수 있고, 필름의 두께, 용도에 따라서 적절한 방식이 선택된다. Examples of a method for tightly solidifying the film extruded from the die include a nip roll method, an electrostatic application method, an air knife method, a vacuum chamber method, a calender method, and the like, and an appropriate method is selected according to the thickness of the film and the application.

다이로부터 압출된 필름을 고화하기 위한 냉각 롤 표면에 대해서도, 압출기실린더, 다이의 내면 등과 마찬가지로 각종 표면 처리가 행하여지는 것이 바람직하다. It is preferable that various surface treatments are performed also on the cooling roll surface for solidifying the film extruded from the die like the extruder cylinder, the inner surface of the die, and the like.

압출기(실린더·스크류 등), 다이의 재질로서는 SCM계의 강철, SUS 등의 스테인리스재 등을 들 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 압출기 실린더, 다이의 내면 및 압출기 스크류 표면에는, 크롬, 니켈, 티탄 등의 도금이 실시 된 것, PVD(물리적 증착)법 등에 의해, TiN, TiAlN, TiCN, CrN, DLC(다이아몬드상 카본) 등의 피막이 형성된 것, WC 등의 텅스텐계 물질, 시멘트 등의 세라믹이 용사된 것, 표면이 질화 처리된 것 등을 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 표면 처리는 수지와의 마찰계수가 작기 때문에, 균일한 수지의 용융 상태가 얻어진다는 점에서 바람직하다. Examples of the material of the extruder (cylinder screw, etc.) and the die include stainless steel such as SCM-based steel and SUS, but are not limited thereto. In addition, the inner surface of the extruder cylinder, the die, and the surface of the extruder screw are coated with chromium, nickel, titanium, or the like, and TiN, TiAlN, TiCN, CrN, DLC (diamond-like carbon) by PVD (Physical Vapor Deposition) or the like. It is preferable to use a film having a film formed thereon or the like, a tungsten-based material such as WC, or a ceramic such as cement sprayed or a nitrided surface thereof. Such surface treatment is preferable in that a uniform melt state of the resin is obtained because the coefficient of friction with the resin is small.

본 발명의 광학 필름을 제조할 때의 수지 온도(압출기 실린더 온도)로서는 통상 200 내지 350℃, 바람직하게는 220 내지 320℃이다. 수지 온도가 200℃ 미만이면 수지 조성물을 균일하게 용융시킬 수 없고, 한편, 350℃를 초과하면 용융 시에 수지 조성물이 열 열화하여 표면성이 우수한 고품질 필름의 제조가 곤란해진다. 또한, 상기 온도 범위 내이며, 수지 조성물의 유리 전이 온도(Tg)에 대하여, Tg+120℃ 내지 Tg+160℃의 범위 내의 온도인 것이 특히 바람직하다. 예를 들면, 수지 조성물의 Tg가 130℃이면 필름 제조에 있어서 특히 바람직한 온도 범위는 250℃ 내지 290℃이다. 본 발명의 수지 조성물은 상기한 바와 같은 고온 하에서도 필름의 결정화(백탁)을 억제할 수가 있고, 우수한 상용성을 갖기 때문에 압출 성형성이 양호하다. 압출 특성의 지표로서는, 이용하는 수지 조성물의 260℃에 있어서의 용융 유속(MFR)이 10 내지 200 g/10분, 바람직하게는 15 내지 150 g/10분, 특히 바람직하게는 30 내지 120 g/10분이다. 또한, 용융 유속값은 수지 조성물 전체에 있어서 일정한 것이 바람직하고, 그 변동은 바람직하게는 ±10% 이내, 특히 바람직하게는 ±5% 이내이다. 용융 유속값을 일정하게 함으로써 압출 가공 시의 압력 변동을 억제할 수 있어, 막 두께 균일성이 우수한 필름을 얻을 수 있다. As resin temperature (extruder cylinder temperature) at the time of manufacturing the optical film of this invention, it is 200-350 degreeC normally, Preferably it is 220-320 degreeC. If the resin temperature is less than 200 ° C, the resin composition cannot be melted uniformly. On the other hand, if the resin temperature is higher than 350 ° C, the resin composition is thermally deteriorated at the time of melting, making it difficult to manufacture a high quality film having excellent surface properties. Moreover, it is especially preferable that it is in the said temperature range and is temperature in the range of Tg + 120 degreeC-Tg + 160 degreeC with respect to the glass transition temperature (Tg) of a resin composition. For example, when Tg of a resin composition is 130 degreeC, especially preferable temperature range is 250 degreeC-290 degreeC in film manufacture. Since the resin composition of this invention can suppress the crystallization (cloudy) of a film even at the high temperature as mentioned above, and has excellent compatibility, extrusion molding property is favorable. As an index of the extrusion characteristics, the melt flow rate (MFR) at 260 ° C. of the resin composition to be used is 10 to 200 g / 10 minutes, preferably 15 to 150 g / 10 minutes, particularly preferably 30 to 120 g / 10 Minutes. The melt flow rate value is preferably constant throughout the resin composition, and the variation is preferably within ± 10%, particularly preferably within ± 5%. By making a melt flow rate constant, the pressure fluctuation at the time of extrusion process can be suppressed, and the film excellent in film thickness uniformity can be obtained.

또한, 용융 압출 시의 전단 속도로서는, 통상 1 내지 500(1/초), 바람직하게는 2 내지 350(1/초), 보다 바람직하게는 5 내지 200(1/초)이다. 압출 시의 전단 속도가 1(1/초) 미만이면 수지 조성물을 균일하게 용융시킬 수 없기 때문에 두께 불균일이 작은 압출 필름을 얻을 수 없고, 한편, 500(1/초)를 초과하면 전단력이 너무 커서 수지 및 첨가물이 분해·열화하여, 압출 필름의 표면에 발포, 다이 라인, 부착물 등의 결함이 생기는 경우가 있다. The shear rate at the time of melt extrusion is usually 1 to 500 (1 / sec), preferably 2 to 350 (1 / sec), more preferably 5 to 200 (1 / sec). If the shear rate at the time of extrusion is less than 1 (1 / sec), the resin composition cannot be melted uniformly, so that an extruded film with a small thickness nonuniformity cannot be obtained. On the other hand, if the shear rate is greater than 500 (1 / sec), the shear force is too large. Resin and an additive may decompose | disassemble and deteriorate, and defects, such as foaming, a die line, and a deposit, may arise in the surface of an extruded film.

본 발명의 광학 필름의 두께는 통상 10 내지 800 μm, 바람직하게는 20 내지 500 μm, 보다 바람직하게는 40 내지 500 μm이다. 10 μm 미만의 두께의 경우, 기계적 강도 부족 등에 의해 연신 가공 등 후가공하는 경우에 곤란한 경우가 있고, 한편, 800 μm를 초과하는 두께의 경우, 두께나 표면성 등이 균일한 필름을 제조하는 것이 어려울 뿐만 아니라, 얻어진 필름을 권취하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. The thickness of the optical film of this invention is 10-800 micrometers normally, Preferably it is 20-500 micrometers, More preferably, it is 40-500 micrometers. In the case of a thickness of less than 10 μm, it may be difficult in the case of post-processing such as stretching processing due to lack of mechanical strength, etc. On the other hand, in the case of thickness exceeding 800 μm, it is difficult to produce a film having a uniform thickness or surface property. In addition, it may become difficult to wind up the obtained film.

본 발명의 원반(原反) 필름의 두께 분포는 통상 평균치에 대하여 ±5% 이내, 바람직하게는 ±3% 이내, 보다 바람직하게는 ±1% 이내이다. 두께 분포가 ±5%를 초과하면, 연신 처리를 행하여 광학 필름으로 한 경우에 위상차 불균일이 발생하기 쉬워지는 경우가 있다. The thickness distribution of the raw film of the present invention is usually within ± 5%, preferably within ± 3%, more preferably within ± 1% of the average value. When thickness distribution exceeds +/- 5%, retardation nonuniformity may arise easily when extending | stretching process is made into an optical film.

<연신 필름> <Stretched film>

본 발명에 따른 연신 필름은 상기 방법에 의해서 얻은 본 발명의 광학 필름을 추가로 가열 연신 가공함으로써 얻을 수 있고, 투과광에 위상차를 제공하는 필름으로서 사용할 수 있다. 구체적으로는, 공지된 일축 연신법, 이축 연신법, Z축 연신법에 의해 제조할 수 있다. 즉, 텐터법에 의한 일축 연신법, 롤간 압축 연신법, 원주의 속도가 서로 다른 롤을 이용하는 세로 일축 연신법 등 또는 가로 일축과 세로 일축을 조합한 이축 연신법, 인플레이션법에 의한 연신법 등을 사용할 수 있다. The stretched film which concerns on this invention can be obtained by further heat-stretching the optical film of this invention obtained by the said method, and can be used as a film which provides retardation to transmitted light. Specifically, it can manufacture by a well-known uniaxial stretching method, biaxial stretching method, and Z-axis stretching method. That is, the uniaxial stretching method by the tenter method, the compression stretching method between rolls, the longitudinal uniaxial stretching method using rolls with different circumferential speeds, or the biaxial stretching method which combined the horizontal uniaxial and longitudinal uniaxial methods, the stretching method by the inflation method, etc. Can be used.

일축 연신법의 경우, 연신 속도는 통상은 1 내지 5,000%/분이고, 바람직하게는 50 내지 1,000%/분이고, 더욱 바람직하게는 100 내지 1,000%/분이다.In the case of the uniaxial stretching method, the stretching speed is usually 1 to 5,000% / min, preferably 50 to 1,000% / min, and more preferably 100 to 1,000% / min.

이축 연신법의 경우, 동시 2방향으로 연신을 행하는 경우나 일축 연신 후에 최초의 연신 방향과 다른 방향으로 연신 처리하는 경우가 있다. 이 때, 굴절률 타원체의 형상을 제어하기 위한 2개의 연신축의 교차 각도는 원하는 특성에 따라 결정되기 때문에 특별히 한정은 되지 않지만, 통상은 120 내지 60도의 범위이다. 또한, 연신 속도는 각 연신 방향에서 동일하거나 상이할 수도 있고, 통상은 1 내지 5,000%/분이고, 바람직하게는 50 내지 1,000%/분이고, 더욱 바람직하게는 100 내지 1,000%/분이고, 특히 바람직하게는 100 내지 500%/분이다. In the biaxial stretching method, stretching may be performed in two directions at the same time, or stretching may be performed in a direction different from the first stretching direction after uniaxial stretching. At this time, the angle of intersection of the two stretching axes for controlling the shape of the refractive index ellipsoid is not particularly limited because it is determined according to desired characteristics, but is usually in the range of 120 to 60 degrees. The stretching speed may be the same or different in each stretching direction, usually 1 to 5,000% / min, preferably 50 to 1,000% / min, more preferably 100 to 1,000% / min, particularly preferably 100 to 500% / min.

연신 가공 온도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 스티렌계 중합체 (A)와 노르보르넨계 중합체 (B)를 함유하는 수지 조성물의 유리 전이 온도 Tg를 기준으로 하여, 통상은 Tg±30℃, 바람직하게는 Tg±15℃, 더욱 바람직하게는 Tg-5℃ 내지 Tg+15℃의 범위이다. 상기 범위 내로 함으로써 위상차 불균일의 발생을 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 본 명세서에 있어서 수지 조성물의 유리 전이 온도란 일본 공업 규격 K7121에 따라서 구한 보외 유리 전이 개시 온도를 말하고, 본 발명의 수지 조성물은 스티렌계 중합체 (A)와 노르보르넨계 중합체 (B)의 상용성이 우수하 기 때문에 측정이 가능한 값이다. 또한, 본 발명의 수지 조성물은 이러한 고온에 의한 연신 가공에 있어서도 스티렌계 공중합체 (A)를 구성하는 각 구조 단위의 함유율을 조절함으로써 필름의 결정화나 상분리에 의한 필름의 투과율 저하 및 백탁을 억제할 수가 있어, 우수한 상용성이 부여되고, 가열 연신 가공성이 양호하다. The stretching processing temperature is not particularly limited, but is usually Tg ± 30 ° C., preferably Tg, based on the glass transition temperature Tg of the resin composition containing the styrene-based polymer (A) and the norbornene-based polymer (B). ± 15 ° C, more preferably Tg-5 ° C to Tg + 15 ° C. By setting it in the said range, it becomes possible to suppress generation | occurrence | production of phase difference nonuniformity. In addition, in this specification, the glass transition temperature of a resin composition means the extrapolation glass transition start temperature calculated | required according to Japanese Industrial Standard K7121, and the resin composition of this invention is compatible with styrene type polymer (A) and norbornene type polymer (B). It is a value that can be measured because of its superiority. In addition, the resin composition of the present invention can suppress the decrease in the transmittance and the cloudiness of the film due to crystallization or phase separation of the film by controlling the content of each structural unit constituting the styrene-based copolymer (A) even in the stretching process at such a high temperature. Number, excellent compatibility is imparted, and heat drawing processability is good.

연신 배율은 원하는 특성에 따라 결정되기 때문에 특별히 한정은 되지 않지만, 통상은 1.01 내지 10배, 바람직하게는 1.03 내지 5배, 더욱 바람직하게는 1.03 내지 3배이다. 연신 배율이 10배 이상인 경우, 위상차의 제어가 곤란해지는 경우가 있다. The draw ratio is not particularly limited since it is determined according to desired characteristics, but is usually 1.01 to 10 times, preferably 1.03 to 5 times, and more preferably 1.03 to 3 times. When the draw ratio is 10 times or more, control of the phase difference may be difficult.

연신된 필름은 그대로 냉각할 수도 있지만, Tg-20℃ 내지 Tg의 온도 분위기 하에 적어도 10초 이상, 바람직하게는 30초 내지 60분간, 더욱 바람직하게는 1분 내지 60분간 유지하고 열 세팅하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 투과광의 위상차의 경시 변화가 적어 안정된 광학 필름이 얻어진다. Although the stretched film may be cooled as it is, it is preferable to maintain and heat set at least 10 seconds, preferably 30 seconds to 60 minutes, more preferably 1 minute to 60 minutes, under a temperature atmosphere of Tg-20 ° C to Tg. Do. Thereby, there exists little change of the phase difference of transmitted light with time, and a stable optical film is obtained.

연신 가공을 실시하지 않은 본 발명의 광학 필름의 가열에 의한 치수 수축률은 100℃에서의 가열을 500시간 행한 경우에, 통상 5% 이하, 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 1% 이하, 특히 바람직하게는 0.5% 이하이다. The dimensional shrinkage ratio by heating of the optical film of the present invention which has not been subjected to stretching is usually 5% or less, preferably 3% or less, more preferably 1% or less, when heating at 100 ° C. is performed for 500 hours. Especially preferably, it is 0.5% or less.

또한, 본 발명의 연신 필름의 가열에 의한 치수 수축률은 100℃에서의 가열을 500시간 행한 경우에, 통상 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하, 더욱 바람직하게는 3% 이하, 특히 바람직하게는 1% 이하이다. Moreover, when the dimensional shrinkage rate by heating of the stretched film of this invention is performed at 100 degreeC for 500 hours, it is 10% or less normally, Preferably it is 5% or less, More preferably, it is 3% or less, Especially preferably, 1% or less.

치수 수축률을 상기 범위 내로 하기 위해서는, 본 발명 중의 단량체 (6)의 선택이나 그 밖의 공중합성 단량체의 선택에 추가로, 연신 방법의 조건을 조정하는 것도 유력한 수단이다. In order to carry out dimensional shrinkage rate in the said range, in addition to the selection of the monomer (6) in this invention, or the selection of another copolymerizable monomer, it is also a powerful means to adjust the conditions of an extending method.

상기한 바와 같이 하여 얻어지는 연신 필름은 연신에 의해 분자가 배향하여 투과광에 위상차를 부여하게 되는데, 이 위상차는 연신 배율, 연신 온도 또는 필름의 두께 등에 의해 제어할 수 있다. 예를 들면, 연신 전의 필름의 두께가 동일한 경우, 연신 배율이 큰 필름일수록 투과광의 위상차의 절대치가 커지는 경향이 있기 때문에, 연신 배율을 변경함으로써 원하는 위상차를 투과광에 부여하는 광학 필름을 얻을 수 있다. 한편, 연신 배율이 동일한 경우, 연신 전의 필름의 두께가 두꺼울수록 투과광의 위상차의 절대치가 커지는 경향이 있기 때문에, 연신 전의 필름의 두께를 변경함으로써 원하는 위상차를 투과광에 부여하는 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 상기 연신 가공 온도 범위에서는, 연신 온도가 낮을수록 투과광의 위상차의 절대치가 커지는 경향이 있기 때문에, 연신 온도를 변경함으로써 원하는 위상차를 투과광에 부여하는 광학 필름을 얻을 수 있다. In the stretched film obtained as described above, molecules are oriented by stretching to impart retardation to transmitted light, and the retardation can be controlled by stretching ratio, stretching temperature, film thickness, or the like. For example, when the film thickness before extending | stretching is the same, since the absolute value of the phase difference of transmitted light tends to become large, the film with a big draw ratio is large, and the optical film which gives a desired phase difference to transmitted light can be obtained by changing draw ratio. On the other hand, when the draw ratio is the same, since the absolute value of the phase difference of transmitted light tends to increase as the thickness of the film before extending | stretching is thick, the optical film which gives a desired phase difference to transmitted light can be obtained by changing the thickness of the film before extending | stretching. Moreover, in the said extending | stretching process temperature range, since the absolute value of the phase difference of transmitted light tends to become large, so that extending | stretching temperature is low, the optical film which gives a desired phase difference to transmitted light by changing extending | stretching temperature can be obtained.

연신 필름이 투과광에 제공하는 위상차의 값은 그 용도에 따라 결정되는 것이어서 특별히 한정은 되지 않지만, 액정 표시 소자나 전계 발광 표시 소자 또는 레이저 광학계의 파장판에 사용하는 경우에는, 통상은 1 내지 10,000 nm, 바람직하게는 10 내지 2,000 nm, 더욱 바람직하게는 15 내지 1,000 nm이다. Although the value of the phase difference which a stretched film provides to transmitted light is determined according to the use, it does not specifically limit, When using for a wavelength plate of a liquid crystal display element, an electroluminescent display element, or a laser optical system, it is usually 1-10,000 nm. , Preferably 10 to 2,000 nm, more preferably 15 to 1,000 nm.

또한, 연신 필름을 투과한 광의 위상차는 균일성이 높은 것이 바람직하고, 파장 550 nm에서의 위상차의 변동은 통상 ±20% 이하이고, 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 ±5% 이하이다. 즉, 파장 550 nm에서의 위상차는 통상 평균치에 대하여 ±20% 이하이고, 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 ±5 % 이하의 범위 내에 있다. 위상차의 변동이 ±20%를 초과하면, 액정 표시 소자 등에 이용한 경우, 색 얼룩 등이 발생하여, 디스플레이 본체의 성능이 악화하는 경우가 있다. Moreover, it is preferable that the phase difference of the light which permeate | transmitted the stretched film is high uniformity, and the variation of the phase difference in wavelength 550nm is usually ± 20% or less, Preferably it is 10% or less, More preferably, it is ± 5% or less. . That is, the phase difference at a wavelength of 550 nm is usually ± 20% or less with respect to the average value, preferably 10% or less, and more preferably within the range of ± 5% or less. When the variation of the phase difference exceeds ± 20%, when used for a liquid crystal display element or the like, color unevenness may occur, and the performance of the display main body may deteriorate.

또한, 본 발명에 따른 광학 필름은 파장 650 nm에서의 위상차 Re(650)와 파장 450 nm에서의 위상차 Re(450)의 비(Re(650)/Re(450))가 1.8 내지 1, 바람직하게는 1.7 내지 1, 더욱 바람직하게는 1.6 내지 1의 범위에 있는 것이 바람직하다. 이러한 조건을 만족시키는 광학 필름으로서는, 어떤 파장 λ에서의 위상차를 Re(λ)로 했을 때, 400 내지 800 nm의 전체 파장 영역에서, Re(λ)/λ의 값을 거의 일정하게 하는 것이 가능해진다. In addition, the optical film according to the present invention has a ratio (Re (650) / Re (450)) of retardation Re (650) at a wavelength of 650 nm and retardation Re (450) at a wavelength of 450 nm of 1.8 to 1, preferably Is preferably in the range of 1.7 to 1, more preferably 1.6 to 1. As an optical film which satisfies such a condition, when the phase difference at a certain wavelength? Is set to Re (λ), the value of Re (λ) / λ can be made substantially constant in the entire wavelength region of 400 to 800 nm. .

<편광판> <Polarizing plate>

본 발명의 광학 필름은 단독으로 이용되는 것뿐만아니라, 투명 기판 등에 접합시켜 편광판으로서 사용할 수 있다. 또한, 편광판을 다른 필름, 시트, 기판에 적층하여 사용할 수 있다. 적층하는 경우에는 점착제나 접착제를 사용할 수 있다. 이들 점착제, 접착제로서는 투명성이 우수한 것이 바람직하고, 구체예로서는 천연고무, 합성 고무, 아세트산비닐/염화비닐 공중합체, 폴리비닐에테르, 아크릴계, 변성 폴리올레핀계, 및 이들에 이소시아네이트 등의 경화제를 첨가한 경화형 점착제, 폴리우레탄계 수지 용액과 폴리이소시아네이트계 수지 용액을 혼합하는 건식 라미네이트용 접착제, 합성 고무계 접착제, 에폭시계 접착제 등을 들 수 있다. Not only are the optical films of this invention used independently, they can be bonded to a transparent substrate etc. and can be used as a polarizing plate. Moreover, a polarizing plate can be laminated | stacked and used for another film, a sheet, and a board | substrate. When laminating | stacking, an adhesive or an adhesive agent can be used. As these adhesives and adhesives, those excellent in transparency are preferable, and specific examples thereof include a natural rubber, a synthetic rubber, a vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, a polyvinyl ether, an acryl-based, a modified polyolefin-based, and a curable pressure-sensitive adhesive in which a curing agent such as isocyanate is added thereto. And the adhesive for dry lamination, a synthetic rubber adhesive, an epoxy adhesive, etc. which mix a polyurethane resin solution and a polyisocyanate resin solution.

또한, 상기 편광판은 다른 필름 시트, 기판 등과의 적층의 작업성을 향상시키기 위해서, 미리 점착제층 또는 접착제층을 적층할 수 있다. 적층하는 경우 점 착제나 접착제로서는 전술한 바와 같은 점착제 또는 접착제를 사용할 수 있다.In addition, in order to improve the workability of laminating with another film sheet, a board | substrate, etc., the said polarizing plate can laminate an adhesive layer or an adhesive bond layer previously. When laminating | stacking, the adhesive or adhesive agent mentioned above can be used as an adhesive and an adhesive agent.

<액정 표시 장치, 기타 광학 부품> <Liquid Crystal Display, Other Optical Components>

본 발명의 광학 필름은 액정 표시 장치에 이용할 수 있고, 액정 표시 장치의 표시 특성을 보다 개선할 수 있다. 액정 표시 장치로서는, 예를 들면, 휴대 전화, 디지털 정보 단말기, 삐삐, 내비게이션, 차량 탑재용 액정 디스플레이, 액정 모니터, 조광 패널, OA 기기용 디스플레이, AV 기기용 디스플레이 등의 각종 액정 표시 장치를 들 수 있다. The optical film of this invention can be used for a liquid crystal display device, and can improve the display characteristic of a liquid crystal display device. As a liquid crystal display device, various liquid crystal display devices, such as a mobile telephone, a digital information terminal, a page beep, a navigation, a vehicle-mounted liquid crystal display, a liquid crystal monitor, a light control panel, a display for OA equipment, and a display for AV equipment, are mentioned, for example. have.

또한, 본 발명의 수지 조성물을 이용하여 사출 성형함으로써 다양한 광학 부품을 얻을 수 있다. 광학 부품으로서는 원추 렌즈나 구면·원통 렌즈 등의 각종 특수 렌즈, 유전체 미러 또는 금 미러, 파장판 등을 들 수 있다. Moreover, various optical components can be obtained by injection molding using the resin composition of this invention. Examples of the optical component include various special lenses such as conical lenses and spherical and cylindrical lenses, dielectric mirrors or gold mirrors, and wave plates.

사출 성형에는 종래 공지된 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 수지 조성물을 가열 실린더 중에서 가열·혼련하여 용융하고, 상기 가열 실린더로부터 금형 내에 가압 하에 사출한다. 그 후, 금형 내에서 냉각·고화시키고, 압출 장치에 의해 압출시켜 성형품을 얻는다. 이용하는 금형 구조를 바꿈으로써 다양한 형상을 갖는 광학 부품으로 할 수 있다. 이때 수지의 용융 온도는 상기 압출 성형 시의 용융 온도와 마찬가지인 것이 바람직하다.Conventionally well-known methods can be used for injection molding. For example, the resin composition of the present invention is heated and kneaded in a heating cylinder to melt, and is injected from the heating cylinder under pressure into a mold. Then, it cools and solidifies in a metal mold | die, and extrudes with an extrusion apparatus and obtains a molded article. By changing the mold structure used, it can be set as the optical component which has a various shape. At this time, the melting temperature of the resin is preferably the same as the melting temperature at the time of the extrusion molding.

이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예 및 비교예에 있어서 「부」 및 「%」는 특별한 언급이 없는 한 「중량부」 및 「중량%」를 의미한다. 또한, 실온이란 25℃이다. 또한, 시약은 전부 건조 질소로 버블링을 행하고, 탈수하여 수분 함유량 1 ppm 이하로 하여 이용하였다. Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In addition, in the following example and a comparative example, "part" and "%" mean "weight part" and "weight%" unless there is particular notice. In addition, room temperature is 25 degreeC. In addition, all the reagents were bubbled with dry nitrogen, dehydrated, and used as the water content of 1 ppm or less.

이하의 실시예, 비교예에 있어서, 각종 측정 및 평가는 이하와 같이 하여 행하였다.In the following Examples and Comparative Examples, various measurements and evaluations were performed as follows.

[중합 반응률][Polymerization reaction rate]

알루미늄제 용기 중에 칭량투입한 중합 반응 용액을, 300℃로 가열한 핫플레이트에서 항온이 될 때까지 가열하여, 잔류 단량체 및 용매를 제거한 후, 잔류한 중합체 중량을 계측하여, 이론상의 중합체 생성량과의 비로부터 반응률을 구하였다. The polymerization reaction solution weighed in an aluminum container is heated on a hot plate heated to 300 ° C until constant temperature, and after removing the residual monomer and the solvent, the remaining polymer weight is measured to compare with the theoretical amount of polymer production. The reaction rate was calculated | required from ratio.

[중합체 분자 구조][Polymer molecular structure]

초전도 핵 자기 공명 흡수 장치(NMR, 브루커社(Bruker) 제조, 상품명: AVANCE500)를 이용하여, 중수소화클로로포름 중에서 13C-NMR을 측정하여, 공중합 조성비 및 아세톡시기 또는 부톡시기의 OH기로의 변환률을 산출하였다. Using a superconducting nuclear magnetic resonance absorption device (NMR, manufactured by Bruker, trade name: AVANCE500), 13 C-NMR was measured in deuterated chloroform, and copolymerization ratio and acetoxy group or butoxy group were converted into OH group. The conversion rate was calculated.

적외 분광계(IR)는 닛본 분꼬우社 제조 FT/IR-420을 이용하여 측정하였다. Infrared spectrometer (IR) was measured using FT / IR-420 by Nippon Bunko Corporation.

[고유 점도·대수 점도] [Intrinsic viscosity, logarithmic viscosity]

농도 0.5 g/100 ml의 클로로벤젠 용액을 제조하여 시료로 하고, 30℃의 조건에서 웁벨로데형 점도계를 이용하여 측정하였다. A chlorobenzene solution having a concentration of 0.5 g / 100 ml was prepared and used as a sample, and measured using an wobeldeide viscometer under the condition of 30 ° C.

[유리 전이 온도(Tg)][Glass Transition Temperature (Tg)]

시차 주사 열량계(세이코 인스트루먼츠社 제조, 상품명: DSC6200)를 이용하 여, 일본 공업 규격 K7121에 따라서 보외 유리 전이 개시 온도(이하, 단순히 유리 전이 온도(Tg)라 함)를 구하였다. Using a differential scanning calorimeter (manufactured by Seiko Instruments, Inc., trade name: DSC6200), extrapolation glass transition start temperature (hereinafter, simply referred to as glass transition temperature (Tg)) was obtained according to Japanese Industrial Standard K7121.

[중량 평균 분자량(Mw) 및 분자량 분포(Mw/Mn)][Weight Average Molecular Weight (Mw) and Molecular Weight Distribution (Mw / Mn)]

겔 투과 크로마토그래피(도소(주) 제조 HLC-8220GPC, 칼럼: 도소(주) 제조 가드칼럼 HXL-H, TSK gel G7000HXL, TSK gel GMHXL 2개, TSK gel G2000HXL를 순차 연결함, 용매: 테트라히드로푸란, 유속: 1 mL/분, 샘플 농도: 0.7 내지 0.8 중량%, 주입량: 70 μL, 측정 온도: 40℃, 검출기: RI(40℃), 표준 물질: 도소(주) 제조 TSK 표준 폴리스티렌)를 이용하여, 중량 평균 분자량(Mw) 및 분자량 분포(Mw/Mn)를 측정하였다. 또한, 상기 Mn은 수 평균 분자량이다. Gel permeation chromatography (Tosoh Co., Ltd. HLC-8220GPC, column: Tosoh Co., Ltd. guard column H XL- H, TSK gel G7000H XL , TSK gel GMH XL 2, TSK gel G2000H XL sequentially connected, solvent : Tetrahydrofuran, flow rate: 1 mL / min, sample concentration: 0.7-0.8 weight%, injection | pouring amount: 70 microliters, measurement temperature: 40 degreeC, a detector: RI (40 degreeC), a standard substance: TSK standard manufactured by Tosoh Corporation Polystyrene), and the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) were measured. In addition, said Mn is a number average molecular weight.

[위상차 평가][Phase difference evaluation]

개환 중합체의 톨루엔 또는 염화메틸렌 용액(농도: 25%)를 평활한 유리판 상에 캐스팅한 후, 건조하여, 두께 50 내지 200 μm, 잔류 용매 0.5 내지 0.8%의 무색 투명인 필름을 얻었다. 이 필름의 유리 전이 온도(Tg)보다도 5 내지 10℃ 높은 온도에서, 1.2 내지 3.0배로 자유폭 일축 연신 또는 폭구속 일축 연신하였다. 또한, 캐스트 필름의 두께, 연신 배율 및 연신 방법은 후술하는 각 실시예 및 표 1에 기재된 바와 같다. 이 연신 필름의 위상차를 지연 측정기(오지 게이소꾸 기키 제조, 상품명: KOBRA 21DH)를 이용하여 측정하였다. A toluene or methylene chloride solution (concentration: 25%) of the ring-opening polymer was cast on a smooth glass plate, and then dried to obtain a colorless transparent film having a thickness of 50 to 200 µm and a residual solvent of 0.5 to 0.8%. Free-width uniaxial stretching or width limited uniaxial stretching was carried out 1.2 to 3.0 times at the temperature 5-10 degreeC higher than the glass transition temperature (Tg) of this film. In addition, the thickness, the draw ratio, and the extending | stretching method of a cast film are as each Example mentioned later and Table 1 mentioned. The phase difference of this stretched film was measured using the delay measuring machine (Oji Keisokukiki make, brand name: KOBRA 21DH).

[수지 조성물 중의 중합체 블렌드 비] [Polymer Blend Ratio in Resin Composition]

수지 조성물을 테트라히드로푸란에 용해하고, 겔 투과 크로마토그래프 장치 (도소(주) 제조 HLC-8220GPC, 칼럼: 도소(주) 제조 가드칼럼 HXL-H, TSK gel G7000HXL, TSK gel GMHXL 2개, TSK gel G2000HXL을 순차 연결함, 용매: 테트라히드로푸란, 유속: 1 mL/분, 샘플 농도: 0.7 내지 0.8 중량%, 주입량: 100 μL, 측정 온도: 40℃, 검출기: UV(254 nm))를 이용하여 얻어진 스펙트럼의 면적 강도로부터 수지 조성물 중의 스티렌계 중합체를 정량하여 블렌드 비를 산출하였다. The resin composition was dissolved in tetrahydrofuran and gel permeation chromatograph equipment (HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation, Column: Guard Column H XL- H, TSK gel G7000H XL , TSK gel GMH XL , TSK gel G2000H XL sequentially connected, solvent: tetrahydrofuran, flow rate: 1 mL / min, sample concentration: 0.7 to 0.8% by weight, injection amount: 100 μL, measurement temperature: 40 ℃, detector: UV (254 nm) The blend ratio was calculated by quantifying the styrenic polymer in the resin composition from the area intensity of the spectrum obtained using

[수지의 황색도(YI)][Yellow Degree of Resin]

스가 시켕키(주) 제조 SM 컬러 컴퓨터 SM-7-CH를 이용하여, C광 2° 시야 투과 측정을 3회 행하고 그 평균치를 구하였다(측정 시료: 10 중량%의 수지를 포함하는 톨루엔 용액 20 g, 측정용 셀: 내경 60 mm, 높이 30 mm의 원통형 유리셀). The C-light 2 ° visual permeation measurement was performed 3 times using SM color computer SM-7-CH by Suga Shijanki Co., Ltd., and the average value was calculated | required (a measurement sample: toluene solution 20 containing 10 weight% of resin). g, measuring cell: cylindrical glass cell with an internal diameter of 60 mm and a height of 30 mm).

[필름의 황색도(YI)][Yellow Degree of Film (YI)]

스가 시켕키(주) 제조 SM 컬러 컴퓨터 SM-7-CH를 이용하여, ASTM D1925에 따라서 막 두께 100 μm의 필름의 YI치를 측정하였다. The YI value of the film with a film thickness of 100 micrometers was measured according to ASTMD1925 using SM Color Computer SM-7-CH by Suga Shikinki Corporation.

[가열 하에서의 상용성 평가][Evaluation of Compatibility under Heating]

(주)신또 긴조꾸 고교쇼 제조 신또식 SFA-37형 가열&냉각 이단 성형기를 이용하여, 280 내지 300℃의 가열 하에서 두께 약 100 μm의 필름을 성형하고, 필름의 헤이즈(헤이즈)를 측정하여 평가하였다. Using a Shinto type SFA-37 type heating & cooling two-stage molding machine manufactured by Shinto Kinzoku Kogyo Sho, a film having a thickness of about 100 μm was formed under heating at 280 to 300 ° C., and the haze of the film was measured. Evaluated.

[수지 중의 불용물의 유무] [Presence or absence of insoluble matter in resin]

수지 샘플 30 mg을 톨루엔 5 mL에 용해하고, 불용물의 유무를 육안으로 관찰하였다. 불용물 없음의 경우를 A, 일부 불용의 경우를 B로 평가하였다.30 mg of the resin sample was dissolved in 5 mL of toluene, and the presence or absence of an insoluble matter was visually observed. A case of no insoluble matter was evaluated as A and a case of some insoluble matters as B.

[용액 여과성] [Solution filterability]

수지 샘플 30 mg을 테트라히드로푸란 5 mL에 용해하고, 공경 0.45 μm, 직경1 cm의 PTFE제 필터를 이용한 여과성을 평가하였다. 폐색이 발생하지 않고 전량 여과 가능하던 경우를 A, 폐색이 발생하여 일부 여과하지 못한 경우를 B로 평가하였다. 30 mg of the resin sample was dissolved in 5 mL of tetrahydrofuran, and the filterability was evaluated using a PTFE filter having a pore size of 0.45 µm and a diameter of 1 cm. A case where no blockage occurred and the whole amount was filtered was evaluated as A, and a case where blockage occurred and partial filtration was not evaluated as B.

[용융 유속(MFR)] Melt Flow Rate (MFR)

JIS K7210에 준거하여, 98 N 하중, 260℃에서 MFR을 측정하였다. MFR was measured at 98 N load and 260 degreeC based on JISK7210.

[전체 광선 투과율(헤이즈(Haze))][Total Light Transmittance (Haze)]

무라카미 시끼사이 기쥬쯔 겐뀨죠(주) 제조의 헤이즈미터 HM-150형을 이용하여 측정하였다. It was measured using a Haze meter HM-150 manufactured by Murakami Shikisai Kijutsu Genjijo Co., Ltd.

[인열 강도] [Tear strength]

필름의 인열 강도를 JIS K6772에 준하여 측정하였다.The tear strength of the film was measured according to JIS K6772.

[점상 결함 측정] [Point Defect Measurement]

A 성분과 B 성분의 혼합 수지를 건조 온도 100℃에서, 질소 하에서 4시간의 제습 건조를 행한 후, 크린룸 내에서 800 kg의 스테인리스 용기에 해당 수지를 도입하고, 8 kPa의 양압으로 한 상태에서 15일간 보존하였다. 또한, 상기 스테인리스 용기는 수지 도입 전에 미리 내부의 공기를 건조 질소로 치환한 후에, 0.2 μm의 PVDF제 필터를 통해서 청정수로 적신 세정지(아사히 가세이 고교 제조; 상품명 「벤코트」)에 의해 내부의 진개 등을 제거한 것을 이용하였다. 그 후, 해당 수지를 압출기(GM 엔지니어링社 제조: GM-65)로 유도하고 260℃에서 용융하고, 기어 펌 프를 이용하여 정량으로 송액하고, 5 μm 리프 디스크 필터를 이용하여 이물질을 제거하고, 260℃로 설정한 알루미늄 주입 히터에 의해 가열된 T 다이로부터 압출을 실시하여 수지 필름을 얻었다. 이 필름을 10 m2 감은 흑지 위에 놓고, 100 w의 형광등 하에서 반사광의 불안정함을 확인하였다. 반사광이 불안정한 부분을 점상 결함으로 하고, 그 부분을 마킹하였다. 그 후, 50배의 광학 현미경으로 필름 표면을 관찰하고, 직경 30 μm 이상의 점상 결함의 개수를 세었다. The mixed resin of component A and component B was dehumidified and dried for 4 hours under nitrogen at a drying temperature of 100 ° C., and then the resin was introduced into an 800 kg stainless steel container in a clean room, and the pressure was 8 kPa. It was preserved daily. In addition, the said stainless steel container is internally replaced by the washing paper (Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. make; brand name "Bencourt") wetted with clean water through a 0.2 μm PVDF filter after replacing the internal air with dry nitrogen before introducing the resin. The one which removed a tendon etc. was used. Then, the resin was introduced into an extruder (GM-65 manufactured by GM Engineering Co., Ltd.), melted at 260 ° C., quantitatively delivered using a gear pump, and removed with a 5 μm leaf disc filter. Extrusion was performed from the T die heated by the aluminum injection heater set to 260 degreeC, and the resin film was obtained. This film was placed on 10 m 2 black paper , and it was confirmed that the reflected light was unstable under a fluorescent lamp of 100 w. The part where reflected light was unstable was made into a point defect, and the part was marked. Thereafter, the film surface was observed with a 50x optical microscope, and the number of point defects having a diameter of 30 µm or more was counted.

[위상차 측정][Phase Difference Measurement]

파장 550 nm에서의 위상차(지연)을 자동 복굴절계(오지 게이소꾸 기키(주) 제조, KOBRA-21ADH)를 이용하여 측정하였다. Retardation (delay) at a wavelength of 550 nm was measured using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.).

[제조예 1] 스티렌계 공중합체 (1A)의 제조 Production Example 1 Preparation of Styrene Copolymer (1A)

교반기, 컨덴서, 온도계를 구비한 유리제 플라스크에 스티렌 127.87 g(1.23 mol), p-아세톡시스티렌 22.13 g(0.136 mol), 용매로서 톨루엔 75 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.67 g(2.7 mmol)을 첨가하고, 90℃로 가열하고 15시간 반응시켰다. 이 중합액의 일부를 취출하고, 반응률을 측정한바 85%였다. 또한, 분자량을 측정한바 Mw=129,935, Mw/Mn=2.00이었다. In a glass flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 127.87 g (1.23 mol) of styrene, 22.13 g (0.136 mol) of p-acetoxystyrene, 75 g of toluene as a solvent, and 1,1'-azobis (cyclo) as a radical initiator Hexane-1-carbonitrile) 0.67 g (2.7 mmol) was added, heated to 90 ° C. and reacted for 15 hours. A part of this polymerization liquid was taken out and the reaction rate was 85%. Moreover, when molecular weight was measured, it was Mw = 129,935 and Mw / Mn = 2.00.

얻어진 중합 반응 용액 내에 톨루엔 150 g을 첨가하고 희석한 후, 메탄올 43.6 g(1.36 mol), 아세톡시스티렌량의 1/100 등량인 농황산 1.338 g(0.0136 mol)을 첨가하고 60℃로 가열하고 2시간 반응시켰다. 얻어진 반응액을 테트라히드로푸란으로 희석하고, 대량의 메탄올 중에 응고시킴으로써 중합체를 회수·정제하고, 80℃의 진공 건조기에서 2일간 건조시켰다. 얻어진 중합체의 분자량, 대수 점도를 각각 측정한바 Mw=131,910(Mw/Mn=1.88), 대수 점도 η=0.44 dL/g, 수율은 80%였다. 도 1 및 도 2에 얻어진 중합체의 IR 스펙트럼 및 13C-NMR 스펙트럼을 각각 나타내었다. NMR에 의해 구한 공중합 조성비는 투입치와 같고, 가메탄올 분해율은 99% 이상이었다. 이후, 얻어진 스티렌계 공중합체를 1A로 한다. 150 g of toluene was added and diluted in the obtained polymerization reaction solution, and 43.6 g (1.36 mol) of methanol and 1.338 g (0.0136 mol) of concentrated sulfuric acid, which were 1/100 equivalents of acetoxystyrene, were added and heated to 60 ° C. for 2 hours. Reacted. The obtained reaction solution was diluted with tetrahydrofuran and solidified in a large amount of methanol to recover and purify the polymer, and dried in a vacuum dryer at 80 ° C. for 2 days. The molecular weight and logarithmic viscosity of the obtained polymer were measured, respectively. Mw = 131,910 (Mw / Mn = 1.88), logarithmic viscosity η = 0.44 dL / g, and the yield were 80%. IR spectrum and 13 C-NMR spectrum of the polymer obtained in FIGS. 1 and 2 are shown, respectively. The copolymerization composition ratio determined by NMR was the same as the charged value, and the methanol decomposition rate was 99% or more. Thereafter, the obtained styrenic copolymer is 1A.

[제조예 2] 스티렌계 공중합체 (2A)의 제조Preparation Example 2 Preparation of Styrene Copolymer (2A)

스티렌 146.53 g(1.407 mol), p-아세톡시스티렌 3.47 g(0.0214 mol), 용매로서 톨루엔 75 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.35 g(1.4 mmol)을 사용하여 중합을 행한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여, 중합 반응, 가알코올 분해, 정제 및 건조를 행하여 스티렌계 공중합체를 얻었다. 얻어진 중합체의 Mw=199,200(Mw/Mn=1.96)이고, 수율은 80%였다. 이후, 얻어진 스티렌계 공중합체를 2A로 한다. 146.53 g (1.407 mol) of styrene, 3.47 g (0.0214 mol) of p-acetoxystyrene, 75 g of toluene as solvent, and 0.35 g (1.4) of 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) as radical initiator The polymerization was carried out in the same manner as in Production Example 1, except that polymerization was carried out using mmol), and then a styrene copolymer was obtained by performing polymerization reaction, dissolution of alcohol, purification and drying. Mw = 199,200 (Mw / Mn = 1.96) of the obtained polymer, and the yield was 80%. Thereafter, the obtained styrene copolymer is 2A.

[제조예 3] 스티렌계 공중합체 (3A)의 제조Preparation Example 3 Preparation of Styrene-Based Copolymer (3A)

스티렌 117.66 g(1.13 mol), p-아세톡시스티렌 32.34 g(0.199 mol), 용매로서 톨루엔 75 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.65 g(2.65 mmol)을 사용하여 중합을 행한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여, 중합 반응, 가알코올 분해, 정제 및 건조를 행하여 스티렌계 공중합체를 얻었다. 얻어진 중합체의 Mw=120,553(Mw/Mn=1.97)이고, 수율은 80%였다. 이후, 얻어진 스티렌계 공중합체를 3A로 한다. 117.66 g (1.13 mol) of styrene, 32.34 g (0.199 mol) of p-acetoxystyrene, 75 g of toluene as solvent, and 0.65 g (2.65) of 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) as radical initiator The polymerization was carried out in the same manner as in Production Example 1, except that polymerization was carried out using mmol), and then a styrene copolymer was obtained by performing polymerization reaction, dissolution of alcohol, purification and drying. Mw of the obtained polymer was 120,553 (Mw / Mn = 1.97) and the yield was 80%. Thereafter, the obtained styrenic copolymer is 3A.

[제조예 4] 스티렌계 공중합체 (4A)의 제조Preparation Example 4 Preparation of Styrene Copolymer (4A)

스티렌 84.17 g(0.808 mol), p-t-부톡시스티렌 15.83 g(0.0898 mol), 용매로서 톨루엔 75 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.44 g(1.8 mmol)을 사용하여 중합을 행한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여, 중합 반응, 산 촉매에 의한 변환, 정제 및 건조를 행하여 스티렌계 공중합체를 얻었다. 얻어진 중합체의 Mw=112,000(Mw/Mn=2.73)이고, 수율은 80%였다. 도 3 및 도 4에 얻어진 중합체의 IR 스펙트럼 및 13C-NMR 스펙트럼을 각각 도시하였다. NMR에 의해 구한 공중합 조성비는 투입치와 같고, OH기로의 변환률은 50%였다. 이후, 얻어진 스티렌계 공중합체를 4A로 한다. 84.17 g (0.808 mol) of styrene, 15.83 g (0.0898 mol) of pt-butoxystyrene, 75 g of toluene as solvent, and 0.44 g (1.8) of 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) as radical initiator The polymerization was carried out in the same manner as in Production Example 1, except that polymerization was carried out using mmol), and the polymerization reaction, conversion with an acid catalyst, purification, and drying were performed to obtain a styrene copolymer. Mw = 112,000 (Mw / Mn = 2.73) of the obtained polymer, and the yield was 80%. The IR spectrum and 13 C-NMR spectrum of the polymer obtained in FIGS. 3 and 4 are respectively shown. The copolymerization composition ratio calculated | required by NMR was the same as the input value, and conversion rate to OH group was 50%. Thereafter, the obtained styrenic copolymer is 4A.

[제조예 5] 스티렌계 공중합체 (5A)의 제조Production Example 5 Preparation of Styrene Copolymer (5A)

스티렌 78.44 g(0.753 mol), p-t-부톡시스티렌 21.56 g(0.133 mol), 용매로서 톨루엔 50 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.43 g(1.8 mmol)을 사용하여 중합을 행한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합 반응을 행하였다. 그 후, 톨루엔 50 g을 첨가하고 희석하고, n-부탄올 20 g 및 황산 0.26 g을 첨가하고 80℃에서 8시간 반응을 행하였다. 정제 및 건조를 제조예 1과 동일하게 행하여 스티렌계 공중합체를 얻었다. 얻어진 중합체의 Mw=219,000(Mw/Mn=2.45)이고, 수율은 85%였다. 도 5 및 도 6에 얻어진 중합체의 IR 스펙트럼 및 13C-NMR 스펙트럼을 각각 나타내었다. NMR에 의해 구한 공중합 조성비는 투입치와 같고, OH기로의 변환률은 99% 이상이었다. 이후, 얻어진 스티렌 계 공중합체를 5A로 한다. 78.44 g (0.753 mol) of styrene, 21.56 g (0.133 mol) of pt-butoxystyrene, 50 g of toluene as solvent, and 0.43 g (1.8% of 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) as radical initiator The polymerization reaction was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that the polymerization was carried out using mmol). Then, 50 g of toluene was added and diluted, 20 g of n-butanol and 0.26 g of sulfuric acid were added, and reaction was performed at 80 degreeC for 8 hours. Purification and drying were carried out in the same manner as in Production Example 1 to obtain a styrene copolymer. Mw of the obtained polymer was 219,000 (Mw / Mn = 2.45) and the yield was 85%. The IR spectrum and 13 C-NMR spectrum of the polymer obtained in FIGS. 5 and 6 are shown, respectively. The copolymerization composition ratio determined by NMR was the same as the charged value, and the conversion rate to the OH group was 99% or more. Thereafter, the obtained styrene copolymer is 5 A.

[제조예 6] 스티렌계 중합체 (6A)의 제조 Production Example 6 Preparation of Styrene-Based Polymer (6A)

교반기, 컨덴서, 온도계를 구비한 유리제 플라스크에 스티렌 117.66 g(1.13 mol), p-아세톡시스티렌 32.34 g(0.199 mol), 용매로서 톨루엔 75 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.65 g(2.65 mmol)을 첨가하고, 90℃로 가열하고 15시간 반응시켰다. 이 중합액의 일부를 취출하여 반응률을 측정한바 85%였다. In a glass flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 117.66 g (1.13 mol) of styrene, 32.34 g (0.199 mol) of p-acetoxystyrene, 75 g of toluene as solvent, and 1,1'-azobis (cyclo) as a radical initiator Hexane-1-carbonitrile) 0.65 g (2.65 mmol) was added, heated to 90 ° C and reacted for 15 hours. It was 85% when a part of this polymerization liquid was taken out and the reaction rate was measured.

얻어진 중합 반응 용액 내에 톨루엔 150 g을 첨가하고 희석한 후, 메탄올 43.6 g(1.36 mol), 농황산 1.338 g(0.0136 mol)을 첨가하고 60℃로 가열하고 2시간 반응시켰다. 얻어진 반응액을 테트라히드로푸란으로 희석하고, 대량의 메탄올 중에 응고시킴으로써 중합체를 회수·정제하고, 80℃의 진공 건조기에서 2일간 건조시켜 스티렌계 중합체 6A를 얻었다. 얻어진 중합체 6A는 Mw=120,553(Mw/Mn=1.97)이고, 수율은 80%였다. 150 g of toluene was added and diluted in the obtained polymerization reaction solution, 43.6 g (1.36 mol) of methanol and 1.338 g (0.0136 mol) of concentrated sulfuric acid were added, and it heated at 60 degreeC and made it react for 2 hours. The obtained reaction liquid was diluted with tetrahydrofuran and solidified in a large amount of methanol to recover and purify the polymer, and dried in a vacuum dryer at 80 ° C. for 2 days to obtain styrene polymer 6A. Obtained polymer 6A was Mw = 120,553 (Mw / Mn = 1.97) and the yield was 80%.

[제조예 7] 스티렌계 중합체 (7A)의 제조Production Example 7 Preparation of Styrene-Based Polymer (7A)

교반기, 컨덴서, 온도계를 구비한 유리제 플라스크에 스티렌 392.3 g(3.766 mol), p-t부톡시스티렌 57.72 g(0.3275 mol), 용매로서 톨루엔 211 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 1.50 g(6.141 mmol)을 첨가하고, 90℃로 가열하고, 10시간 반응시킨 후, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.50 g(2.047 mmol)을 추가 첨가하고 90℃에서 추가로 10시간 반응을 행하였 다. 이 중합액의 일부를 취출하여 반응률을 측정한바 92%였다. 또한, 분자량을 측정한바, Mw=126,700, Mw/Mn=2.00이었다. In a glass flask equipped with a stirrer, a condenser, and a thermometer, 392.3 g (3.766 mol) of styrene, 57.72 g (0.3275 mol) of p- t butoxystyrene, 211 g of toluene as a solvent, and 1,1'-azobis (as a radical initiator) 1.50 g (6.141 mmol) of cyclohexane-1-carbonitrile) were added, heated to 90 ° C., and reacted for 10 hours, followed by 0.50 g (2.047) of 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) mmol) was further added and the reaction was further conducted at 90 ° C for 10 hours. It was 92% when a part of this polymerization liquid was taken out and the reaction rate was measured. Moreover, when molecular weight was measured, it was Mw = 126,700 and Mw / Mn = 2.00.

얻어진 중합 반응 용액 내에 톨루엔 225 g을 첨가하고 희석한 후, 메탄올(황산의 확산제) 90 g, 농황산 1.15 g(0.0117 mol)을 첨가하고 60℃로 가열하고 8시간 반응시켰다. 그 후, 50.5 중량%의 락트산나트륨 수용액 3.03 g(0.027 mol)을 첨가하고 60℃에서 30분간 교반을 계속하였다. 반응 용액을 pH 시험지(와츠만社(Whatman) 제조 CS 타입, 0.2 간격)에 소량 도포하여 pH를 측정한바 pH=3.8이었다. 225 g of toluene was added and diluted in the obtained polymerization reaction solution, 90 g of methanol (diffusion agent of sulfuric acid) and 1.15 g (0.0117 mol) of concentrated sulfuric acid were added, and it heated at 60 degreeC and made it react for 8 hours. Then, 3.03 g (0.027 mol) of 50.5 weight% sodium lactate aqueous solution was added, and stirring was continued at 60 degreeC for 30 minutes. A small amount of the reaction solution was applied to a pH test paper (CS type manufactured by Whatman, Inc., 0.2 interval), and the pH was measured. The pH was 3.8.

이 반응액에 톨루엔 449 g을 첨가하고 균일하게 혼합한 후, 메탄올 899 g을 첨가하고 60℃에서 1시간 추출을 행하였다. 이것을 30℃ 이하로 냉각하고 1시간 정치하고 중합체를 포함하는 하층 용액과 중합체를 거의 포함하지 않는 상층 용액으로 분리하였다. 이 상층 용액만을 분리하여 제거하였다. 남은 하층 용액에 톨루엔 440 g을 첨가하고 균일하게 혼합한 후, 메탄올 617 g을 첨가하고 재차 60℃에서 1시간 추출을 행하였다. 이것을 30℃ 이하로 냉각하고 1시간 정치하여 중합체를 포함하는 하층 용액과 중합체를 거의 포함하지 않는 상층 용액으로 분리하였다. 톨루엔 440 g 및 메탄올 617 g을 첨가하고 냉각 정치 후에 상층을 분리 제거하는 조작을 추가로 2회 반복하여 중합체, 톨루엔 및 메탄올을 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 이 중합체 용액 중 중합체 농도를 측정한바 30 중량%이고, 얻어진 용액 중량으로부터 산출한 수율은 90%였다. 이 용액의 일부를 건조하여 분석한 결과, Mw=129,208, Mw/Mn=1.90, Tg=111℃, NMR에 의해 구한 공중합 조성비는 투입비와 같 고 부톡시기의 OH기로의 변환률은 98%였다.After adding 449 g of toluene to this reaction liquid and mixing it uniformly, 899 g of methanol was added and extraction was performed at 60 degreeC for 1 hour. It was cooled to 30 DEG C or lower, left to stand for 1 hour, and separated into a lower layer solution containing a polymer and an upper layer solution containing almost no polymer. Only this upper solution was separated and removed. 440 g of toluene was added to the remaining lower layer solution, and the mixture was uniformly mixed. Then, 617 g of methanol was added, and extraction was again performed at 60 ° C for 1 hour. It was cooled to 30 DEG C or lower and left to stand for 1 hour to separate the lower layer solution containing the polymer and the upper layer solution containing almost no polymer. 440 g of toluene and 617 g of methanol were added, and the operation of separating and removing the upper layer after cooling still further was repeated twice to obtain a polymer solution containing polymer, toluene and methanol. When the polymer concentration in this polymer solution was measured, it was 30 weight%, and the yield computed from the obtained solution weight was 90%. As a result of drying and analyzing a part of this solution, the copolymer composition ratio calculated | required by Mw = 129,208, Mw / Mn = 1.90, Tg = 111 degreeC, and NMR was the same as preparation ratio, and the conversion rate of butoxy group to OH group was 98%.

동일하게 하여 추출 정제한 중합체 용액(중합체 농도 30 중량%)을 10 Kg 제조하고 산화 방지제로서 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄 9 g을 첨가하고 균일하게 혼합하였다(이하 이 수지 용액을 도핑 1이라 부른다). 이 용액을 50 mmφ(L/D=13.2)의 이축 압출기를 이용하여 220℃, 20 mmHg에서 탈용하여 펠릿화하여 펠릿 형상의 수지 7A를 얻었다. 얻어진 수지 펠릿 7A를 분석한 결과, YI=0.8, Mw=119369, Mw/Mn=1.98, Tg=111℃, 잔류 톨루엔=900 ppm이었다. 수지 7A 중의 불용물의 유무 및 용액 여과성의 평가 결과를 표 3에 나타내었다. In the same manner, 10 kg of a polymer solution (polymer concentration of 30% by weight) extracted and purified was prepared, and tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate was used as an antioxidant. ] 9 g of methane were added and mixed uniformly (hereinafter this resin solution is called doping 1). This solution was demelted and pelletized at 220 degreeC and 20 mmHg using the twin screw extruder of 50 mm (L / D = 13.2), and pellet-shaped resin 7A was obtained. As a result of analyzing the obtained resin pellet 7A, it was YI = 0.8, Mw = 119369, Mw / Mn = 1.98, Tg = 111 degreeC, and residual toluene = 900 ppm. Table 3 shows the results of evaluating the presence or absence of an insoluble matter in the resin 7A and the solution filterability.

[제조예 8] 스티렌계 중합체 (8A)의 제조 Production Example 8 Preparation of Styrene-Based Polymer (8A)

제조예 7과 동일하게 하여 얻은 스티렌/p-t부톡시스티렌 공중합체의 톨루엔 용액에 톨루엔 225 g을 첨가하여 희석한 후, 메탄올 90 g, 농황산 1.15 g(0.0117 mol)을 첨가하고 60℃로 가열하고 8시간 반응시켰다. 그 후 5 중량%의 수산화리튬 수용액 39.3 g(0.0469 mol)을 첨가하고 60℃에서 30분간 교반을 계속하였다. 반응 용액을 pH 시험지(와츠만社 제조 CS 타입, 0.2 간격)에 소량 도포하여 pH 측정한바 pH=8.6이었다. 이 반응 용액에 50 중량%의 락트산 수용액 5.267 g(0.0235 mol)을 첨가하고 60℃에서 30분간 교반을 계속하였다. 반응 용액을 pH 시험지(와츠만社 제조 CS 타입, 0.2 간격)에 소량 도포하여 pH 측정한바 pH=3.8이었다. 실시예와 동일하게 하여 구한 수율은 91%였다. 225 g of toluene was added to and diluted in the toluene solution of the styrene / p- t butoxystyrene copolymer obtained in the same manner as in Preparation Example 7, followed by adding 90 g of methanol and 1.15 g (0.0117 mol) of concentrated sulfuric acid and heating to 60 ° C. And reacted for 8 hours. Thereafter, 39.3 g (0.0469 mol) of 5 wt% lithium hydroxide aqueous solution was added, and stirring was continued at 60 ° C for 30 minutes. A small amount of the reaction solution was applied to a pH test paper (CS type manufactured by Wattsman Co., Ltd., 0.2 interval) to measure pH. 5.267 g (0.0235 mol) of 50 wt% aqueous lactic acid solution was added to the reaction solution, and stirring was continued at 60 ° C for 30 minutes. A small amount of the reaction solution was applied to a pH test paper (CS type manufactured by Wattsman Co., Ltd., 0.2 interval) to measure pH. The yield obtained in the same manner as in Example was 91%.

제조예 7과 동일하게 하여 얻어진 중합체 용액의 추출 정제를 행하여 중합체 농도가 30 중량%인 중합체 용액을 얻었다. 이 용액의 일부를 건조하여 분석한 결과 Mw=130,050, Mw/Mn=1.91, Tg=111℃, NMR에 의해 구한 공중합 조성비는 투입비와 같고 부톡시기의 OH기로의 변환률은 98%였다. Extraction and purification of the polymer solution obtained in the same manner as in Production Example 7 was carried out to obtain a polymer solution having a polymer concentration of 30% by weight. As a result of drying and analyzing a part of this solution, the copolymer composition ratio calculated | required by Mw = 130,050, Mw / Mn = 1.91, Tg = 111 degreeC, and NMR was the same as preparation ratio, and the conversion rate of butoxy group to OH group was 98%.

상기한 바와 같이 하여 추출 정제한 중합체 용액(중합체 농도 30 중량%)을 10 Kg 제조하고, 산화 방지제로서 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄 9 g을 첨가하고 균일하게 혼합하였다(이하 이 수지 용액을 도프 2라고 부름). 이 용액을 50 mmφ(L/D=13.2)의 이축 압출기를 이용하여, 220℃, 20 mmHg에서 탈용하여 펠릿화하여 펠릿 형상의 수지 8A를 얻었다. 얻어진 수지 펠릿 8A를 분석한 결과, YI=0.9, Mw=120,000, Mw/Mn=1.96, Tg=111℃, 잔류 톨루엔=900 ppm이었다. 수지 8A 중의 불용물의 유무 및 용액 여과성의 평가 결과를 표 3에 나타내었다. 10 kg of a polymer solution (polymer concentration of 30% by weight) extracted and purified as described above was prepared, and tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) was used as an antioxidant. 9 g propionate] methane was added and mixed uniformly (hereinafter this resin solution is called dope 2). This solution was demelted and pelletized at 20 degreeC and 220 degreeC using the twin screw extruder of 50 mm (L / D = 13.2), and pellet-shaped resin 8A was obtained. As a result of analyzing the obtained resin pellet 8A, it was YI = 0.9, Mw = 120,000, Mw / Mn = 1.96, Tg = 111 degreeC, and residual toluene = 900 ppm. Table 3 shows the results of evaluating the presence or absence of an insoluble matter in the resin 8A and the solution filterability.

[제조예 9] 스티렌계 중합체 (9A)의 제조Preparation Example 9 Preparation of Styrene-Based Polymer (9A)

염기를 사용하지 않은 것 이외에는 제조예 11과 동일하게 하여 합성한 중합체 용액을 50 mmφ(L/D=13.2)의 이축 압출기를 이용하여, 220℃, 20 mmHg에서 탈용하여 펠릿화하여 펠릿 9A를 얻었다. 얻어진 펠릿 9A를 분석한 결과, 유기 용매에 불용인 성분이 생성되었고, 가용부 분석을 행한바, YI=5.8, Mw=244,410, Mw/Mn=3.62, Tg=115℃, 잔류 톨루엔=1000 ppm이었다. 얻어진 수지 9A 중의 불용물의 유무 및 용액 여과성의 평가 결과를 표 3에 나타내었다. A polymer solution synthesized in the same manner as in Production Example 11 except for not using a base was pelletized by demelting at 20 ° C. at 20 ° C. using a twin screw extruder of 50 mmφ (L / D = 13.2) to obtain pellet 9A. . As a result of analyzing the obtained pellet 9A, an insoluble component was produced in the organic solvent, and an soluble part analysis was carried out and found to be YI = 5.8, Mw = 244,410, Mw / Mn = 3.62, Tg = 115 ° C and residual toluene = 1000 ppm. . Table 3 shows the results of evaluating the presence or absence of an insoluble matter in the obtained resin 9A and solution filterability.

[제조예 10] 스티렌계 중합체 (10A)의 제조 Production Example 10 Preparation of Styrene-Based Polymer (10A)

교반기, 컨덴서, 온도계를 구비한 유리제 플라스크에 스티렌 340.8 g(3.275 mol), p-이소프로페닐페놀 54.83 g(0.409 mol), 아크릴산메틸 35.21 g(0.409 mol)용매로서 톨루엔 215 g, 및 라디칼 개시제로서 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 1.50 g(6.141 mmol)을 첨가하고, 90℃로 가열하고, 10시간 반응시킨 후, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 0.50 g(2.047 mmol)을 추가 첨가하고 90℃에서 추가로 10시간 반응을 행하였다. 이 중합액의 일부를 취출하고, 반응률을 측정한바 92%였다. 또한, 분자량을 측정한바 Mw=57,000, Mw/Mn=2.00이었다. In a glass flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 340.8 g (3.275 mol) of styrene, 54.83 g (0.409 mol) of p-isopropenylphenol, 215 g of toluene as a solvent of 35.21 g (0.409 mol) methyl acrylate, and as a radical initiator 1.50 g (6.141 mmol) of 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) was added, heated to 90 ° C, and reacted for 10 hours, followed by 1,1'-azobis (cyclohexane-1). -Carbonitrile) 0.50 g (2.047 mmol) was further added, and reaction was further performed at 90 degreeC for 10 hours. A part of this polymerization liquid was taken out and the reaction rate was measured and found to be 92%. Moreover, when molecular weight was measured, it was Mw = 57,000 and Mw / Mn = 2.00.

[제조예 11] 노르보르넨계 중합체 (1B)의 제조Preparation Example 11 Preparation of Norbornene-Based Polymer (1B)

단량체로서 하기 화학식 (1a)로 표시되는 8-메톡시카르보닐-8-메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센 100g, 분자량 조절제로서 1-헥센 3.6 g, 및 톨루엔 200 g을 질소 치환한 반응 용기에 투입하고, 80℃로 가열하였다. 이것에 트리에틸알루미늄(0.6 mol/L)의 톨루엔 용액 0.21 mL, 및 메탄올 변성 WCl6 톨루엔 용액(0.025 몰/L) 0.86 mL를 첨가하고, 80℃에서 1시간 반응시킴으로써 개환 중합체를 얻었다. 이어서, 얻어진 개환 중합체 용액에 수소 첨가 반응 촉매인 RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3을 0.04 g 첨가하고, 수소 가스압을 9 내지 10 MPa로 하고, 160 내지 165 ℃의 온도에서 3시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 얻어진 생성물을 다량의 메탄올 중에서 침전시킴으로써 수소 첨가물을 얻었다[유리 전이 온도(Tg)=167 ℃, 중량 평균 분자량(Mw)=14.4×104, 분자량 분포(Mw/Mn)=5.0, 대수 점도 0.79 dL/g, 수량 90 g(수율 90%)]. NMR 측정에 의해 구한 이 수소 첨가물의 수소 첨가율은 99.0% 이상이었다. 이후, 얻어진 개환 중합체 수소 첨가물을 1B로 한다. 100 g of 8-methoxycarbonyl-8-methyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene represented by the following general formula (1a) as a monomer, 3.6 g of 1-hexene as a molecular weight regulator And 200 g of toluene were introduced into a nitrogen-substituted reaction vessel and heated to 80 ° C. 0.21 mL of toluene solution of triethylaluminum (0.6 mol / L) and 0.86 mL of methanol-modified WCl 6 toluene solution (0.025 mol / L) were added to this, and the ring-opening polymer was obtained by making it react at 80 degreeC for 1 hour. Subsequently, 0.04 g of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 as a hydrogenation reaction catalyst was added to the obtained ring-opened polymer solution, and the hydrogen gas pressure was 9 to 10 MPa at a temperature of 160 to 165 ° C. The reaction was carried out for 3 hours. After completion of the reaction, the obtained product was precipitated in a large amount of methanol to obtain a hydrogenated product [glass transition temperature (Tg) = 167 ° C., weight average molecular weight (Mw) = 14.4 × 10 4 , molecular weight distribution (Mw / Mn) = 5.0, Logarithmic viscosity 0.79 dL / g, yield 90 g (yield 90%)]. The hydrogenation rate of this hydrogenated substance calculated | required by NMR measurement was 99.0% or more. Then, the obtained ring-opening polymer hydrogenated substance is set to 1B.

Figure 112009040747410-PCT00018
Figure 112009040747410-PCT00018

[제조예 12] 노르보르넨계 중합체 (2B)의 제조Preparation Example 12 Preparation of Norbornene-Based Polymer (2B)

상기 화학식 (1a)로 표시되는 8-메톡시카르보닐-8-메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센 144 g, 하기 화학식 (2a)로 표시되는 비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 6 g, 분자량 조절제로서 1-헥센 14.4 g, 및 톨루엔 225 g을 질소 치환한 반응 용기에 투입하고, 80℃로 가열하였다. 이것에 트리에틸알루미늄(0.6 mol/L)의 톨루엔 용액 0.34 mL, 및 메탄올 변성 WCl6 톨루엔 용액(0.025 몰/L) 1.37 mL를 첨가하고, 80℃에서 1시간 반응시킴으로써 개환 중합체를 얻었다. 이어서, 얻어진 개환 중합체 용액에 수소 첨가 반응 촉매인 RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3을 0.06 g 첨가하고, 수소 가스압을 9 내지 10 MPa로 하고, 160 내지 165℃의 온도에서 3시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 얻어진 생성물을 다량의 메탄올 중에서 침전시킴으로써 수소 첨가물을 얻었다[유리 전이 온도(Tg)=154℃, 중량 평균 분자량(Mw)=7.4×104, 분자량 분포(Mw/Mn)=4.2, 대수 점도 0.55 dL/g, 수량 90 g(수율 90%)]. NMR 측정에 의해 구한 이 수소 첨가물의 수소 첨가율은 99.0% 이상이었다. 이후, 얻어진 개 환 중합체 수소 첨가물을 2B로 한다. 144 g of 8-methoxycarbonyl-8-methyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene represented by the above formula (1a), the ratio represented by the following formula (2a) 6 g of cyclo [2.2.1] hept-2-ene, 14.4 g of 1-hexene as a molecular weight regulator, and 225 g of toluene were introduced into a reaction vessel substituted with nitrogen, and heated to 80 ° C. 0.34 mL of toluene solution of triethylaluminum (0.6 mol / L) and 1.37 mL of methanol-modified WCl 6 toluene solution (0.025 mol / L) were added to this, and the ring-opening polymer was obtained by making it react at 80 degreeC for 1 hour. Subsequently, 0.06 g of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3, which is a hydrogenation reaction catalyst, was added to the obtained ring-opened polymer solution, and the hydrogen gas pressure was 9 to 10 MPa at a temperature of 160 to 165 ° C. The reaction was carried out for 3 hours. After completion of the reaction, the obtained product was precipitated in a large amount of methanol to obtain a hydrogenated product [glass transition temperature (Tg) = 154 ° C., weight average molecular weight (Mw) = 7.4 × 10 4 , molecular weight distribution (Mw / Mn) = 4.2, Logarithmic viscosity 0.55 dL / g, yield 90 g (yield 90%)]. The hydrogenation rate of this hydrogenated substance calculated | required by NMR measurement was 99.0% or more. Then, the obtained ring-opened polymer hydrogenated substance is set to 2B.

Figure 112009040747410-PCT00019
Figure 112009040747410-PCT00019

[제조예 13] 노르보르넨계 중합체 (3B)의 제조Preparation Example 13 Preparation of Norbornene-Based Polymer (3B)

상기 화학식 (1a)로 표시되는 8-메톡시카르보닐-8-메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센 135 g, 하기 화학식 (3a)로 표시되는 트리시클로[5.2.1.02.6]데카-3,8-디엔 15 g, 분자량 조절제로서 1-헥센 20.5 g, 및 톨루엔 225 g을 질소 치환한 반응 용기에 투입하고, 80℃로 가열하였다. 이것에 트리에틸알루미늄(0.6 mol/L)의 톨루엔 용액 0.34 mL, 및 메탄올 변성 WCl6 톨루엔 용액(0.025 몰/L) 1.39 mL를 첨가하고, 80℃에서 1시간 반응시킴으로써 개환 중합체를 얻었다. 이어서, 얻어진 개환 중합체 용액에 수소 첨가 반응 촉매인 RuH(OCO-Ar-CH2CH2CH2CH2CH3)(CO)[P(C6H5)3]2(식 중 Ar은 파라페닐렌기를 나타냄)를 0.06 g 첨가하고, 90℃로 승온한 후, 수소 가스압을 9 내지 10 MPa로 하고, 추가로 160 내지 165℃까지 승온하여 3시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 얻어진 생성물을 다량의 메탄올 중에서 침전시킴으로써 수소 첨가물을 얻었다[유리 전이 온도(Tg)=160℃, 중량 평균 분자량(Mw)=4.4×104, 분자량 분포(Mw/Mn)=5.5, 대수 점도 0.41 dL/g, 수량 90 g(수율 90%)]. NMR 측정에 의해 구한 이 수소 첨가물의 수소 첨가율은 99.0% 이상이었다. 이후, 얻어진 개환 중합체 수소 첨가물을 3B로 한다. 135 g of 8-methoxycarbonyl-8-methyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene represented by the formula (1a), a tree represented by the following formula (3a) 15 g of cyclo [5.2.1.0 2.6 ] deca-3,8-diene, 20.5 g of 1-hexene as a molecular weight modifier, and 225 g of toluene were charged to a nitrogen-substituted reaction vessel and heated to 80 ° C. 0.34 mL of toluene solution of triethylaluminum (0.6 mol / L) and 1.39 mL of methanol-modified WCl 6 toluene solution (0.025 mol / L) were added thereto, and a ring-opening polymer was obtained by reacting at 80 ° C for 1 hour. Subsequently, in the obtained ring-opened polymer solution, RuH (OCO-Ar-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 2 as a hydrogenation reaction catalyst, wherein Ar is paraphenyl 0.06 g of a benzene group) was added, and after heating up at 90 degreeC, the hydrogen gas pressure was 9-10 MPa, and it heated up to 160-165 degreeC and made it react for 3 hours. After completion of the reaction, the obtained product was precipitated in a large amount of methanol to obtain a hydrogenated product [glass transition temperature (Tg) = 160 ° C., weight average molecular weight (Mw) = 4.4 × 10 4 , molecular weight distribution (Mw / Mn) = 5.5, Logarithmic viscosity 0.41 dL / g, yield 90 g (yield 90%)]. The hydrogenation rate of this hydrogenated substance calculated | required by NMR measurement was 99.0% or more. Then, the obtained ring-opening polymer hydrogenated substance is set to 3B.

Figure 112009040747410-PCT00020
Figure 112009040747410-PCT00020

[제조예 14] 노르보르넨계 중합체 (4B)의 제조Preparation Example 14 Preparation of Norbornene-Based Polymer (4B)

상기 화학식 (1a)로 표시되는 8-메톡시카르보닐-8-메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센 12.46 Kg, 상기 화학식 (2a)로 표시되는 비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 0.14 Kg, 상기 화학식 (3a)로 표시되는 트리시클로[5.2.1.02,6]데카-3,8-디엔 1.4 Kg, 분자량 조절제로서 1-헥센 1.214 Kg, 및 톨루엔 21 Kg을 질소 치환한 반응 용기에 투입하고, 80℃로 가열하였다. 이것에 트리에틸알루미늄(0.6 mol/L)의 톨루엔 용액 37.7 mL, 및 메탄올 변성 WCl6 톨루엔 용액(0.025 몰/L) 131.44 mL를 첨가하고, 80℃에서 1시간 반응시킴으로써 개환 중합체를 얻었다. 이어서, 얻어진 개환 중합체 용액을 톨루엔 17.7 Kg으로 희석하고, 수소 첨가 반응 촉매인 RuH(OCO-Ar-CH2CH2CH2CH2CH3)(CO)[P(C6H5)3]2(식 중 Ar은 파라페닐렌기를 나타냄)를 4.69 g 첨가하고, 90℃로 승온한 후, 수소 가스압을 9 내지 10 MPa로 하고, 추가로 160 내지 165℃까지 승온하고 3시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 얻어진 생성물을 다량의 메탄올 중에서 침전시킴으로써 수소 첨가물을 얻었다[유리 전이 온도(Tg)=159℃, 중량 평균 분자량(Mw)=8.8×104, 분자량 분포(Mw/Mn)=3.0, 대수 점도 0.65 dL/g, 수량 13 Kg(수율 93%)]. NMR 측정에 의해 구한 이 수소 첨가물의 수소 첨가율은 99.0% 이상이었다. 이후, 얻어진 개환 중합체 수소 첨가물을 4B로 한다. 8-methoxycarbonyl-8-methyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene 12.46 Kg represented by the formula (1a), the ratio represented by the formula (2a) 0.14 Kg of cyclo [2.2.1] hept-2-ene, 1.4 Kg of tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca-3,8-diene represented by the formula (3a), 1.214 Kg of 1-hexene as molecular weight regulator And 21 Kg of toluene were put into the reaction vessel which carried out the nitrogen substitution, and it heated at 80 degreeC. 37.7 mL of toluene solution of triethylaluminum (0.6 mol / L) and 131.44 mL of methanol-modified WCl 6 toluene solution (0.025 mol / L) were added to this, and the ring-opening polymer was obtained by making it react at 80 degreeC for 1 hour. Subsequently, the obtained ring-opened polymer solution was diluted with 17.7 Kg of toluene, and RuH (OCO-Ar-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 2 which was a hydrogenation reaction catalyst. 4.69g of (wherein Ar represents a paraphenylene group) were added, and after heating up at 90 degreeC, hydrogen gas pressure was 9-10 MPa, and it heated up to 160-165 degreeC and made it react for 3 hours. After completion of the reaction, the obtained product was precipitated in a large amount of methanol to obtain a hydrogenated product [glass transition temperature (Tg) = 159 ° C, weight average molecular weight (Mw) = 8.8 x 10 4 , molecular weight distribution (Mw / Mn) = 3.0, Logarithmic viscosity 0.65 dL / g, yield 13 Kg (yield 93%)]. The hydrogenation rate of this hydrogenated substance calculated | required by NMR measurement was 99.0% or more. Thereafter, the obtained ring-opening polymer hydrogenated substance is 4B.

[제조예 15] 노르보르넨계 중합체 (5B)의 제조Preparation Example 15 Preparation of Norbornene-Based Polymer (5B)

상기 화학식 (1a)로 표시되는 8-메틸-8-카르복시메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센(이하, 「DNM」이라고도 함) 50 중량부, 하기 화학식 (4a)로 표시되는 5-메틸-5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔(이하, 「NM」이라고도 함) 25 중량부, 톨루엔 150 중량부, 1-헥센 3.18 중량부를 투입하고, 80℃로 승온하였다. 트리에틸알루미늄 0.030 중량부, 메탄올 변성 WCl6(무수메탄올: PhPOCl2:WCl6=103:630:427(중량비)) 0.0510 중량부를 첨가하고 반응을 개시하였다. 2분후에 DNM 25 중량부를 10분에 걸쳐서 적하하고, 추가로 1시간 반응시켰다. NM, DNM의 변환률은 각각 반응 개시 후 2분 후가 52%, 61%, 반응 종료 후가 96.2%, 97.2%였다. 50 parts by weight of 8-methyl-8-carboxymethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene (hereinafter also referred to as "DNM") represented by the formula (1a), 25 parts by weight of 5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene (hereinafter also referred to as "NM") represented by the formula (4a), 150 parts by weight of toluene, 1-hexene 3.18 weight part was thrown in and heated up at 80 degreeC. 0.030 parts by weight of triethylaluminum and 0.0510 parts by weight of methanol-modified WCl 6 (methanol: PhPOCl 2 : WCl 6 = 103: 630: 427 (weight ratio)) were added and the reaction was started. After 2 minutes, 25 parts by weight of DNM was added dropwise over 10 minutes, and further reacted for 1 hour. The conversion rates of NM and DNM were 52%, 61%, 96.2%, and 97.2% after the completion of the reaction, 2 minutes after the start of the reaction, respectively.

톨루엔 110 중량부, RuH(OCOPh-C5H11)(CO)(PPh3)2 루테늄 수소화 촉매 0.0418 중량부를 첨가하고, 수소 치환을 3회 행하여 8 MPa로 승압하였다. 그 후 반응기의 내온을 160℃로 높이고, 10 MPa로 압력을 설정하고, 3h의 수소 첨가 반응을 행하였다. 수소 첨가 후의 1H-NMR 분석에 의하면 99.9% 이상의 수소 첨가율이었다.110 parts by weight of toluene and 0.0418 parts by weight of RuH (OCOPh-C 5 H 11 ) (CO) (PPh 3 ) 2 ruthenium hydrogenation catalyst were added, and hydrogen substitution was carried out three times to increase the pressure to 8 MPa. Then, the internal temperature of the reactor was raised to 160 ° C, the pressure was set at 10 MPa, and a hydrogenation reaction of 3 h was performed. According to 1 H-NMR analysis after hydrogenation, it was 99.9% or more of hydrogenation rate.

반응 종료 후, 톨루엔 100 중량부를 첨가하여 희석하고, 증류수 3 중량부, 락트산 0.72 중량부, 과산화수소 0.00214 중량부를 첨가하고 60℃, 30분 가열하였다. 그 후 메탄올 234 중량부를 첨가하고 60℃, 30분 가열하였다. 25℃까지 냉각 하였더니 2층으로 분리되었다. 상청액 333 중량부를 제거하고, 톨루엔 202 중량부, 물 3 중량부를 첨가하고 60℃, 30분 가열하였다. 그 후 메탄올 132 중량부를 첨가하고 60℃, 30분 가열하였다. 25℃까지 냉각하였더니 2층으로 분리되었다. 재차, 상청액 333 중량부를 제거하고, 톨루엔 202 중량부, 물 3 중량부를 첨가하고 60℃, 30분 가열하였다. 그 후 메탄올 132 중량부를 첨가하고 60℃, 30분 가열하였다. 25℃까지 냉각하였더니 2층으로 분리되었다. 마지막으로 상청액 333 중량부를 제거한 후, 하층부의 중합체 용액을 고형분 농도 20%로 희석하고, 2.0 μm, 1.0 μm, 0.2 μm의 3단 여과를 행하였다. 이것을 건조하여 중합체 5B를 얻었다. 중합체 수율=92%, 10% 톨루엔 용액의 YI=0.31, η=0.64, Mw=101450, Mn=36658, Tg=137℃였다.After completion of the reaction, 100 parts by weight of toluene was added and diluted, and 3 parts by weight of distilled water, 0.72 parts by weight of lactic acid and 0.00214 parts by weight of hydrogen peroxide were added, followed by heating at 60 ° C. for 30 minutes. Then 234 parts by weight of methanol was added and heated to 60 ° C. for 30 minutes. After cooling to 25 ℃ it was separated into two layers. 333 parts by weight of the supernatant was removed, 202 parts by weight of toluene and 3 parts by weight of water were added, followed by heating at 60 ° C. for 30 minutes. Then 132 parts by weight of methanol was added and heated to 60 ° C. for 30 minutes. After cooling to 25 ° C., it was separated into two layers. Again, 333 parts by weight of the supernatant was removed, 202 parts by weight of toluene and 3 parts by weight of water were added, followed by heating at 60 ° C. for 30 minutes. Then 132 parts by weight of methanol was added and heated to 60 ° C. for 30 minutes. After cooling to 25 ° C., it was separated into two layers. Finally, after removing 333 parts by weight of the supernatant, the polymer solution of the lower layer was diluted to 20% of solid content concentration, and three-stage filtration of 2.0 µm, 1.0 µm and 0.2 µm was performed. This was dried and polymer 5B was obtained. Polymer yield = 92%, 10% toluene solution of YI = 0.31, η = 0.64, Mw = 101450, Mn = 36658, and Tg = 137 ° C.

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[실시예 1] Example 1

제조예 1에서 얻어진 중합체 1A 7 g과 제조예 11에서 얻어진 중합체 1B 13 g을 염화메틸렌 200 g에 용해하고, 감압여과(여과제: 아드반텍社(ADVANTEC) 제조의 GA200)한 용액을 평활한 유리제 욕조에 캐스팅하였다. 이 필름을 욕조로부터 박리한 후, 100℃의 진공 건조기에서 12시간 건조하여 두께 145 μm의 필름을 얻었다. 얻어진 조성물(필름)의 대수 점도, 유리 전이 온도를 각각 측정한바, 대수 점도 η =0.68 dL/g, Tg=141℃였다. 또한, 필름의 헤이즈는 0.3이었다. 7 g of the polymer 1A obtained in Production Example 1 and 13 g of the polymer 1B obtained in Production Example 11 were dissolved in 200 g of methylene chloride, and the solution obtained by filtration under reduced pressure (filter: GA200 manufactured by Advantech Co., Ltd.) was made of smooth glass. Cast to the bath. After peeling this film from the bathtub, it dried in the vacuum dryer of 100 degreeC for 12 hours, and obtained the film of 145 micrometers in thickness. The logarithmic viscosity and glass transition temperature of the obtained composition (film) were measured, respectively, and the logarithmic viscosity η = 0.68 dL / g and Tg = 141 ° C. In addition, the haze of the film was 0.3.

이 필름을 폭 10 mm, 길이 70 mm로 절취하고, 항온층을 구비한 인장 시험기(인스트론 코포레이션 제조의 모델 5567)로 가열 연신하여 자유폭 1축 연신 필름을 제조하였다. 146℃에서 220%/분의 속도로 2배로 연신한 바, 연신 시의 최대 응력은 73 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 104 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=125 nm, Re550=141 nm, Re650=149 nm였다. 여기서 Re450, Re550 및 Re650은 각각 파장 450, 550 및 650 nm에서의 위상차(Re)를 나타낸다. 또한, 연신 방향을 x축, 필름면 내의 x축과 직교하는 축을 y축, 필름의 두께 방향을 z축(x축 및 y축의 양쪽과 직교하는 방향)으로 하고, 각 축 방향의 굴절률을 각각 nx, ny, 및 nz로 하였을 때에, NZ=(nx-nz)/(nx-ny)으로 표시되는 NZ 계수는 1이었다. This film was cut out to a width of 10 mm and a length of 70 mm, and stretched by a tensile tester (Model 5567 manufactured by Instron Corporation) equipped with a constant temperature layer to prepare a free width uniaxial stretched film. When extended | stretched twice at the rate of 220% / min at 146 degreeC, the maximum stress at the time of extending | stretching was 73 Kgf / cm <2>. The film thickness of the obtained film was 104 micrometers, and when retardation (Re) was measured, it was Re450 = 125 nm, Re550 = 141 nm, and Re650 = 149 nm. Where Re450, Re550 and Re650 represent phase differences Re at wavelengths 450, 550 and 650 nm, respectively. Further, the stretching direction is the x-axis, the axis orthogonal to the x-axis in the film plane, the thickness direction of the film is the z-axis (the direction orthogonal to both the x-axis and the y-axis), and the refractive index in each axis direction is n, respectively. In the case of x , n y , and n z , the NZ coefficient represented by NZ = (n x -n z ) / (n x -n y ) was 1.

연신 전의 수지 조성물 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 280 내지 300℃의 가열 하에서도 투명성은 유지되고, 열 처리 후의 헤이즈=0.3이었다. 결과를 표 1에 나타내었다. When compatibility evaluation under the heating of the resin composition film before extending | stretching was performed, transparency was maintained also under the heating of 280-300 degreeC, and haze after heat processing was 0.3. The results are shown in Table 1.

[실시예 2]Example 2

제조예 2에서 얻어진 중합체 2A 2.9 g과 제조예 11에서 얻은 중합체 1B 5.4 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 캐스트 제막하여 두께 59 μm의 필름을 얻었다. 얻어진 조성물 (필름)의 유리 전이 온도를 측정한바, Tg=134℃였다. 또한, 필름의 헤이즈는 0.3이었다. A mixture film of 2.9 g of the polymer 2A obtained in Production Example 2 and 5.4 g of the polymer 1B obtained in Production Example 11 was cast in the same manner as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 59 μm. It was Tg = 134 degreeC when the glass transition temperature of the obtained composition (film) was measured. In addition, the haze of the film was 0.3.

이 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 자유폭 1축 연신 필름을 제조하였다. 142℃에서 220%/분의 속도로 2배로 연신한 바, 연신 시의 최대 응력은 68 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 43 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=62 nm, Re550=66 nm, Re650=68 nm였다. 또한, NZ 계수는 1이었다. A free width uniaxial stretched film was produced in the same manner as in Example 1. When extended | stretched twice at the speed | rate of 220% / min at 142 degreeC, the maximum stress at the time of extending | stretching was 68 Kgf / cm <2>. The film thickness of the obtained film was 43 µm, and the retardation (Re) was measured to find Re450 = 62 nm, Re550 = 66 nm, and Re650 = 68 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.

연신 전의 수지 조성물 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 280℃의 가열 하에서 마이크로 상분리가 인정되고, 헤이즈=50이었다. 결과를 표 1에 나타내었다. When compatibility evaluation under the heating of the resin composition film before extending | stretching was performed, micro phase separation was recognized under the heating of 280 degreeC, and haze = 50. The results are shown in Table 1.

[실시예 3]Example 3

제조예 3에서 얻어진 중합체 3A 2.9 g과 제조예 12에서 얻어진 중합체 2B 5.4 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 캐스트 제막하여 두께 100 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. A mixture film of 2.9 g of the polymer 3A obtained in Production Example 3 and 5.4 g of the polymer 2B obtained in Production Example 12 was cast in the same manner as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 100 µm and a haze of 0.3.

이 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 자유폭 1축 연신 필름을 제조하였다. 135℃에서 220%/분의 속도로 2배로 연신한 바, 연신 시의 최대 응력은 61 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 79 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=80 nm, Re550=93 nm, Re650=99 nm였다. 또한, NZ 계수는 1이었다. A free width uniaxial stretched film was produced in the same manner as in Example 1. When extended | stretched twice at the speed | rate of 220% / min at 135 degreeC, the maximum stress at the time of extending | stretching was 61 Kgf / cm <2>. The film thickness of the obtained film was 79 µm, and the retardation (Re) was measured to find Re450 = 80 nm, Re550 = 93 nm, and Re650 = 99 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.

이 수지 조성물 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 280 내지 300℃의 가열 하에서도 투명성은 유지되고, 열 처리 후의 헤이즈=0.3이었다. 결과를 표 1에 나타내었다. When compatibility evaluation under the heating of this resin composition film was performed, transparency was maintained also under the heating of 280-300 degreeC, and haze after heat processing was 0.3. The results are shown in Table 1.

[실시예 4] Example 4

제조예 3에서 얻어진 중합체 3A 2.9 g과 제조예 13에서 얻은 중합체 3B 5.4 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 캐스트 제막하여 두께 91 μm, 헤 이즈=0.3의 필름을 얻었다. A mixture film of 2.9 g of the polymer 3A obtained in Production Example 3 and 5.4 g of the polymer 3B obtained in Production Example 13 was cast in the same manner as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 91 μm and a haze of 0.3.

이 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 자유폭 1축 연신 필름을 제조하였다. 142℃에서 220%/분의 속도로 1.9배로 연신한 바, 연신 시의 최대 응력은 89 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 67 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=72 nm, Re550=86 nm, Re650=92 nm였다. 또한, NZ 계수는 1이었다. A free width uniaxial stretched film was produced in the same manner as in Example 1. When stretched at 1.9 times at 220% / min at 142 ° C, the maximum stress at the time of stretching was 89 Kgf / cm 2. The film thickness of the obtained film was 67 µm, and the retardation (Re) was measured to find Re450 = 72 nm, Re550 = 86 nm, and Re650 = 92 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.

이 수지 조성물 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 280 내지 300℃의 가열 하에서도 투명성은 유지되고, 열 처리 후의 헤이즈=0.3이었다. 결과를 표 1에 나타내었다. When compatibility evaluation under the heating of this resin composition film was performed, transparency was maintained also under the heating of 280-300 degreeC, and haze after heat processing was 0.3. The results are shown in Table 1.

[실시예 5] Example 5

제조예 4에서 얻어진 중합체 4A 2.9 g과 제조예 11에서 얻어진 중합체 1B 5.4 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 캐스트 제막하여 두께 90 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. A mixture film of 2.9 g of the polymer 4A obtained in Production Example 4 and 5.4 g of the polymer 1B obtained in Production Example 11 was cast in the same manner as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 90 µm and a haze of 0.3.

이 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 자유폭 1축 연신 필름을 제조하였다. 145℃에서 220%/분의 속도로 2배로 연신한 바, 연신 시의 최대 응력은 60 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 65 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=77 nm, Re550=86 nm, Re650=90 nm였다. 또한, NZ 계수는 1이었다. A free width uniaxial stretched film was produced in the same manner as in Example 1. When extended | stretched twice at the rate of 220% / min at 145 degreeC, the maximum stress at the time of extending | stretching was 60 Kgf / cm <2>. The film thickness of the obtained film was 65 micrometers, and when retardation (Re) was measured, it was Re450 = 77 nm, Re550 = 86 nm, and Re650 = 90 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.

이 수지 조성물 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 280℃의 가열 하에서도 투명성은 유지되고, 열 처리 후의 헤이즈=0.3이었다. 결과를 표 1에 나타내었다. When compatibility evaluation under the heating of this resin composition film was performed, transparency was maintained also under the heating of 280 degreeC, and haze after heat processing was 0.3. The results are shown in Table 1.

[실시예 6] Example 6

제조예 5에서 얻어진 중합체 5A 2.9 g과 제조예 13에서 얻어진 중합체 3B 5.4 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 캐스트 제막하여 두께 92 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. A mixture film of 2.9 g of the polymer 5A obtained in Production Example 5 and 5.4 g of the polymer 3B obtained in Production Example 13 was cast in the same manner as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 92 µm and a haze of 0.3.

이 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 자유폭 1축 연신 필름을 제조하였다. 147℃에서 220%/분의 속도로 1.9배로 연신한 바, 연신 시의 최대 응력은 35 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 72 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=88 nm, Re550=96 nm, Re650=101 nm였다. 또한, NZ 계수는 1이었다. A free width uniaxial stretched film was produced in the same manner as in Example 1. When stretched at 1.9 times at a rate of 220% / min at 147 ° C, the maximum stress at the time of stretching was 35 Kgf / cm 2. The film thickness of the obtained film was 72 micrometers, and when retardation (Re) was measured, it was Re450 = 88 nm, Re550 = 96 nm, and Re650 = 101 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.

이 수지 조성물 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 300℃의 가열 하에서도 투명성은 유지되고, 열 처리 후의 헤이즈=0.3이었다. 결과를 표 1에 나타내었다. When compatibility evaluation under the heating of this resin composition film was performed, transparency was maintained even under 300 degreeC heating, and haze after heat processing was 0.3. The results are shown in Table 1.

[실시예 7]Example 7

제조예 5에서 얻어진 중합체 5A 7 g과 제조예 14에서 얻어진 중합체 4B 13 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 캐스트 제막하여 두께 93 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. A mixture film of 7 g of the polymer 5A obtained in Production Example 5 and 13 g of the polymer 4B obtained in Production Example 14 was cast in the same manner as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 93 µm and a haze of 0.3.

이 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 자유폭 1축 연신 필름을 제조하였다. 147℃에서 220%/분의 속도로 2.8배로 연신한 바, 연신 시의 최대 응력은 65 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 58 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=99 nm, Re550=111 nm, Re650=118 nm였다. 또한, NZ 계수는 1이었다. A free width uniaxial stretched film was produced in the same manner as in Example 1. When extended | stretched 2.8 times at the rate of 220% / min at 147 degreeC, the maximum stress at the time of extending | stretching was 65 Kgf / cm <2>. The film thickness of the obtained film was 58 micrometers, and when retardation (Re) was measured, it was Re450 = 99 nm, Re550 = 111 nm, and Re650 = 118 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.

이 수지 조성물 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 300℃의 가열 하에서도 투명성은 유지되고, 열 처리 후의 헤이즈=0.3이었다. 결과를 표 1에 나 타내었다. When compatibility evaluation under the heating of this resin composition film was performed, transparency was maintained even under 300 degreeC heating, and haze after heat processing was 0.3. The results are shown in Table 1.

[실시예 8] Example 8

제조예 5에서 얻어진 중합체 5A 7 g과 제조예 14에서 얻어진 중합체 4B 13 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일한 수법으로 캐스트 제막하여 두께 180 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. A mixture film of 7 g of the polymer 5A obtained in Production Example 5 and 13 g of the polymer 4B obtained in Production Example 14 was cast into a film by the same method as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 180 μm and a haze of 0.3.

얻어진 필름을 10 cm 사방으로 절취하고, (주)도요 세이끼 세이사꾸쇼 제조의 유압 서보식 이축 연신 시험 장치 X6H-S를 이용하고, 145℃에서 300%/분의 속도로 2.4배로 폭구속 1축 연신하였다. 연신 시의 최대 응력은 4 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 75 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=86 nm, Re550=95 nm, Re650=99 nm였다. 또한, NZ 계수는 1.44였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The obtained film was cut out in 10 cm directions, and the width was confined at 2.4 times at a speed of 300% / min at 145 ° C using a hydraulic servo-type biaxial stretching test apparatus X6H-S manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. 1 Axial-stretched. The maximum stress at the time of stretching was 4 Kgf / cm 2. The film thickness of the obtained film was 75 µm, and the retardation (Re) was measured to find Re450 = 86 nm, Re550 = 95 nm, and Re650 = 99 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.44. The results are shown in Table 1.

[실시예 9]Example 9

제조예 5에서 얻어진 중합체 5A 6.6 g과 제조예 14에서 얻어진 중합체 4B 13.4 g과의 혼합물 필름을 실시예 1과 동일한 수법으로 캐스트 제막하여 두께 189 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. A mixture film of 6.6 g of the polymer 5A obtained in Production Example 5 and 13.4 g of the polymer 4B obtained in Production Example 14 was cast to form a film by the same method as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 189 μm and a haze of 0.3.

얻어진 필름을 실시예 8과 동일하게 하여 147℃ 2.3배로 폭구속 1축 연신하였다. 연신 시의 최대 응력은 3 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 83 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=98 nm, Re550=104 nm, Re650=108 nm였다. 또한, NZ 계수는 1.38이었다. 결과를 표 1에 나타내었다. In the same manner as in Example 8, the obtained film was uniaxially stretched at a width of 147 ° C at 2.3 times. The maximum stress at the time of stretching was 3 Kgf / cm 2. The film thickness of the obtained film was 83 µm, and the retardation (Re) was measured to find Re450 = 98 nm, Re550 = 104 nm, and Re650 = 108 nm. In addition, the NZ coefficient was 1.38. The results are shown in Table 1.

[실시예 10, 11] [Examples 10 and 11]

제조예 7에서 얻은 탈용매 전의 스티렌계 공중합체 7A와, 제조예 15에서 얻은 탈용매 전의 노르보르넨계 수지 5B를, 중량비로 6/14(실시예 10) 및 9/11(실시예 11)의 비율로 제조하고 고형분을 20%로 조정하였다. 각각의 중합체 용액을 0.2 μm 기공 크기의 PTFE 필터로 여과를 행하였다. 그 후, 260℃, 1.0 torr의 조건으로 용매 제거를 행하고, 5 μm 필터를 통과시켜 블렌드 수지 펠릿을 얻었다. 실시예 10의 Tg 측정에 있어서의 차트를 도 7에, 실시예 11의 Tg 측정에 있어서의 차트를 도 8에 각각 도시한다. 모두, 단독 중합체 유래의 Tg는 소실되고, 단일 피크가 확인되어, 스티렌계 공중합체 7A와 노르보르넨계 수지 5B는 어떤 조성이어도 상용화되어 있는 것을 알 수 있었다. 실시예 10에 있어서의 Tg는 128 ℃, 실시예 11에 있어서의 Tg는 124 ℃였다. Styrene copolymer 7A before desolvent obtained in Production Example 7 and norbornene-based resin 5B before desolvent obtained in Production Example 15 were used as the weight ratios of 6/14 (Example 10) and 9/11 (Example 11). It prepared by the ratio and adjusted solid content to 20%. Each polymer solution was filtered through a 0.2 μm pore size PTFE filter. Then, solvent removal was performed on condition of 260 degreeC and 1.0 torr, and the blend resin pellet was obtained through the 5 micrometer filter. The chart in the Tg measurement of Example 10 is shown in FIG. 7, and the chart in the Tg measurement of Example 11 is shown in FIG. In all, Tg derived from a homopolymer was lost, and a single peak was confirmed, and it was found that styrene-based copolymer 7A and norbornene-based resin 5B were commercialized in any composition. Tg in Example 10 was 128 degreeC, and Tg in Example 11 was 124 degreeC.

실시예 10의 조성물을 5 μm 중합체 필터를 갖는 용융 압출 장치로 260℃에서 10 m/분의 속도로 성막한 결과, 필터 통과 전과 통과 후의 압력차는 2 MPa로 낮고, 폭 500 mm, 250 μm 막 두께의 필름을 얻었다. 헤이즈=0.3, YI=0.3으로 착색성이 작고, 투명한 필름이었다. 필름의 Tg=128℃의 싱글 피크이기 때문에, 스티렌계 공중합체 7A와 노르보르넨계 수지 5B는 필름 성형 후에도 분리되지 않은 것을 알 수 있었다. 이 필름을 10 cm×10 cm로 절취하고, 가로 방향의 폭을 10 cm인 채로 변화시키지 않는 폭구속 연신을 행하였다. 연신 조건: 연신 온도=133℃(Tg+5℃), 연신 속도=300 mm/분, 세로 방향의 연신 배율=3.0배. 연신 후 막 두께=80 μm. 550 nm, 650 nm의 위상차는 각각 140 nm, 145 nm이고, 650 nm과 550 nm의 위상차비(파장 분산성)=1.036이었다. 550 nm, 650 nm의 복굴절은 위상차/막 두께로부 터 산출하였더니 각각 0.00175, 0.00181이었다. 또한 NZ 계수=1.025였다. 결과를 표 1에 나타내었다. The composition of Example 10 was deposited at a rate of 10 m / min at 260 ° C. with a melt extrusion apparatus having a 5 μm polymer filter. As a result, the pressure difference before and after passing the filter was as low as 2 MPa and was 500 mm wide and 250 μm thick. Film was obtained. Haze = 0.3 and YI = 0.3, the coloring property was small and it was a transparent film. Since the film had a single peak of Tg = 128 ° C., it was found that the styrene copolymer 7A and the norbornene-based resin 5B did not separate even after film molding. This film was cut out to 10 cm x 10 cm, and the width | variement binding extending | stretching which does not change with the width | variety of the lateral direction being 10 cm was performed. Stretching conditions: Stretching temperature = 133 degreeC (Tg + 5 degreeC), extending | stretching speed = 300 mm / min, draw ratio of the longitudinal direction = 3.0 times. Membrane thickness after stretching = 80 μm. The phase differences of 550 nm and 650 nm were 140 nm and 145 nm, respectively, and the phase difference ratio (wavelength dispersibility) of 650 nm and 550 nm was 1.036. The birefringence of 550 nm and 650 nm was calculated from retardation / film thickness and was 0.00175 and 0.00181, respectively. Moreover, it was NZ coefficient = 1.025. The results are shown in Table 1.

또한, 실시예 11의 조성물을 이용하고 사출 성형기를 이용하여, 280℃에서 3 mm 두께의 성형품을 제조하였다. 성형품의 위상차는 최대 2 nm로 매우 작고, 저복굴절성, YI=0.7로 착색성이 적은 것을 알 수 있었다. In addition, a molded article having a thickness of 3 mm was prepared at 280 ° C using the composition of Example 11 and using an injection molding machine. It was found that the phase difference of the molded article was very small at a maximum of 2 nm, low birefringence, and low colorability at YI = 0.7.

[실시예 12] Example 12

제조예 10에서 합성한 스티렌계 공중합체 10A와, 제조예 15에서 얻은 탈용매 전의 노르보르넨계 수지 5B를 6 g/14 g의 비율로 제조하고 조정하고 실시예 1과 동일한 수법으로 캐스트 제막하여 두께 190 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타내었다. Styrene-based copolymer 10A synthesized in Production Example 10 and norbornene-based resin 5B before desolvent obtained in Production Example 15 were prepared and adjusted in a ratio of 6 g / 14 g, and casted into a film by the same method as in Example 1. A film of 190 µm and haze = 0.3 was obtained. The results are shown in Table 1.

[비교예 1]Comparative Example 1

중합체 1A 대신에 PS 재팬(주) 제조 폴리스티렌을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 제조예 11에서 얻어진 중합체 1B와의 혼합물의 캐스트 제막을 행하였다. 그 결과, 사용 용매에 상관없이 투명한 필름을 얻을 수 없었다.Cast film forming of the mixture with Polymer 1B obtained in Production Example 11 was carried out in the same manner as in Example 1 except that PS Japan Co., Ltd. manufactured polystyrene was used instead of Polymer 1A. As a result, a transparent film could not be obtained regardless of the solvent used.

또한, 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 280℃에서 해도 구조 모양의 상분리가 관측되었다. 결과를 표 2에 나타내었다. Moreover, when compatibility evaluation was performed under heating, phase separation of the shape of the structure was observed at 280 ° C. The results are shown in Table 2.

[비교예 2]Comparative Example 2

환상 중합체 1A 대신에 노바 케미컬즈社(Nova chemicals) 제조의 무수 말레산/스티렌 공중합체 (DYLARK232)를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 제조예 11에서 얻어진 중합체 1B와의 혼합물의 캐스트 제막을 행하였다. 그 결과, 염화메틸렌을 용매로서 사용했을 때 투명한 필름을 얻을 수 없었다. 한편, 톨루엔을 용매에 이용하면 투명한 필름을 얻을 수 있었지만, 건조 속도가 느려서 공업적 생산에는 부적합하였다.Cast film formation of the mixture with Polymer 1B obtained in Preparation Example 11 was carried out in the same manner as in Example 1 except that maleic anhydride / styrene copolymer (DYLARK232) manufactured by Nova Chemicals was used instead of cyclic polymer 1A. It was. As a result, when methylene chloride was used as a solvent, a transparent film could not be obtained. On the other hand, when toluene was used as the solvent, a transparent film could be obtained, but the drying rate was slow, which was not suitable for industrial production.

또한, 톨루엔을 이용하여 얻은 캐스트 필름의 가열 하에서의 상용성 평가를 행한 바, 280℃에서 마이크로 상분리가 관측되었다. Moreover, when the compatibility evaluation of the cast film obtained using toluene was performed under heating, micro phase separation was observed at 280 degreeC.

또한, 이축 압출기를 이용한 용융 혼련에 의한 상용화를 검토한 바, 290℃에 있어서 백탁한 펠릿 밖에 얻을 수 없었다. 결과를 표 2에 나타내었다. Moreover, when commercialization by melt kneading using a twin screw extruder was examined, only a cloudy pellet was obtained at 290 degreeC. The results are shown in Table 2.

[비교예 3]Comparative Example 3

아세톡시스티렌 대신에 p-이소프로페닐페놀을 사용한 것 이외에는, 제조예 1과 동일하게 하여 중합체를 합성하였다. 얻어진 중합물의 분자량은 Mw=20,000(Mw/Mn=2.2)이고, 반응률은 57%였다. 얻어진 중합물과 제조예 5에서 얻어진 중합체 1B와의 혼합물의 캐스트 제막을 행한 바, 필름의 강도가 낮아서, 특성평가를 할 수 없었다. 결과를 표 2에 나타내었다. A polymer was synthesized in the same manner as in Production Example 1 except that p-isopropenylphenol was used instead of acetoxy styrene. The molecular weight of the obtained polymer was Mw = 20,000 (Mw / Mn = 2.2) and the reaction rate was 57%. When the film was cast into a mixture of the obtained polymerized product and the polymer 1B obtained in Production Example 5, the strength of the film was low, and the characteristics could not be evaluated. The results are shown in Table 2.

[비교예 4] [Comparative Example 4]

제조예 11에서 얻어진 중합체 1B 20 g을 실시예 1과 동일한 수법으로 캐스트 제막하여 두께 140 μm, 헤이즈=0.3의 필름을 얻었다. 20 g of the polymer 1B obtained in Production Example 11 was cast into a film in the same manner as in Example 1 to obtain a film having a thickness of 140 µm and a haze of 0.3.

얻어진 필름을 실시예 1과 동일하게 하여 177℃에서 2.0배로 자유단 1축 연신하였다. 연신 시의 최대 응력은 40 Kgf/㎠였다. 얻어진 필름의 막 두께는 100 μm이고, 위상차(Re)를 측정한바, Re450=396 nm, Re550=388 nm, Re650=384 nm였다. 또한, NZ 계수는 1이었다. 결과를 표 2에 나타내었다. In the same manner as in Example 1, the obtained film was uniaxially stretched free at 2.0 times at 177 ° C. The maximum stress at the time of stretching was 40 Kgf / cm 2. The film thickness of the obtained film was 100 micrometers, and when retardation (Re) was measured, it was Re450 = 396 nm, Re550 = 388 nm, and Re650 = 384 nm. In addition, the NZ coefficient was 1. The results are shown in Table 2.

Figure 112009040747410-PCT00022
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Figure 112009040747410-PCT00023
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[실시예 13] Example 13

제조예 7에서 얻은 수지 펠릿 7A를 5 Kg, 제조예 15에서 얻은 중합체 5B를 3 Kg, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄 9 g, 및 톨루엔 7 Kg을 첨가하고 균일하게 혼합하였다. 이 블렌드 수지 용액을 50 mmφ(L/D=13.2)의 이축 압출기를 이용하여, 280℃, 20 mmHg에서 탈용하여 펠릿화하여 수지 펠릿 1을 얻었다. 얻어진 펠릿 1을 분석한 결과, YI=1.1, Mw=132,000, Mw/Mn=2.96, Tg=136℃, 잔류 톨루엔=1000 ppm이었다. 또한, 얻어진 수지 펠릿 1 중의 불용물의 유무 및 용액 여과성의 평가 결과를 표 3에 나타내었다. 5 Kg of the resin pellet 7A obtained in Production Example 7, 3 Kg of the polymer 5B obtained in Production Example 15, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ] 9 g of methane and 7 Kg of toluene were added and mixed uniformly. This blend resin solution was demelted and pelletized at 20 mmHg at 280 degreeC using the twin-screw extruder of 50 mm (L / D = 13.2), and the resin pellet 1 was obtained. The obtained pellet 1 was analyzed and found to be YI = 1.1, Mw = 132,000, Mw / Mn = 2.96, Tg = 136 ° C. and residual toluene = 1000 ppm. In addition, the evaluation result of the presence or absence of an insoluble matter in the obtained resin pellet 1 and solution filterability is shown in Table 3.

[실시예 14] Example 14

수지 펠릿 7A 대신에, 제조예 8에서 얻은 수지 펠릿 8A를 사용한 것 이외에는, 실시예 13과 동일하게 하여 수지 용액을 제조하였다. 이 블렌드 수지 용액을 50 mmφ(L/D=13.2)의 이축 압출기를 이용하여, 280℃, 20 mmHg에서 탈용하여 펠릿화하여 수지 펠릿 2를 얻었다. 얻어진 펠릿 2를 분석한 결과, YI=1.0, Mw=131,000, Mw/Mn=2.86, Tg=136℃, 잔류 톨루엔=1000 ppm이었다. 또한, 얻어진 수지 펠릿 2 중의 불용물의 유무 및 용액 여과성의 평가 결과를 표 3에 나타내었다.A resin solution was prepared in the same manner as in Example 13 except that the resin pellet 8A obtained in Production Example 8 was used instead of the resin pellet 7A. This blend resin solution was demelted and pelletized at 20 mmHg at 280 degreeC using the twin-screw extruder of 50 mm (L / D = 13.2), and the resin pellet 2 was obtained. The obtained pellet 2 was analyzed and found to be YI = 1.0, Mw = 131,000, Mw / Mn = 2.86, Tg = 136 ° C. and residual toluene = 1000 ppm. In addition, the evaluation result of the presence or absence of an insoluble matter in the obtained resin pellet 2 and solution filterability are shown in Table 3.

[실시예 15] Example 15

실시예 11에 있어서, 수지 펠릿 7A 대신에, 제조예 9에서 얻은 수지 펠릿 9A를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 수지 용액을 제조하였다. 이 블렌드 수지 용액을 50 mmφ(L/D=13.2)의 이축 압출기를 이용하여, 280℃, 20 mmHg에서 탈용하여 펠릿화하여 수지 펠릿 3을 얻었다. 얻어진 펠릿 3을 분석한 결과, YI=5.6, Mw=150751, Mw/Mn=3.66, Tg=119℃, 잔류 톨루엔=2890 ppm이었다. 또한, 얻어진 수지 펠릿 3 중의 불용물의 유무 및 용액 여과성의 평가 결과를 표 3에 나타내었다. In Example 11, the resin solution was manufactured like Example 1 except having used the resin pellet 9A obtained by the manufacture example 9 instead of the resin pellet 7A. This blend resin solution was demelted and pelletized at 20 mmHg at 280 degreeC using the twin-screw extruder of 50 mm (L / D = 13.2), and the resin pellet 3 was obtained. The obtained pellet 3 was analyzed and found to be YI = 5.6, Mw = 150751, Mw / Mn = 3.66, Tg = 119 ° C. and residual toluene = 2890 ppm. In addition, the evaluation result of the presence or absence of an insoluble matter in the obtained resin pellet 3 and solution filterability are shown in Table 3.

Figure 112009040747410-PCT00024
Figure 112009040747410-PCT00024

본 발명의 수지 조성물은 상용성이 우수함과 동시에 투명성이 우수하고, 가열 시에도 착색되기 어렵고, 더구나 고분자량의 스티렌계 공중합체를 포함하는 수지 조성물로 할 수 있다. 본 발명의 수지 조성물은 각종 광학 재료의 성형 용도에 바람직하게 사용할 수 있고, 제막성이 우수하기 때문에 특히 광학 필름 용도에 바람직하게 사용할 수 있고, 강도가 우수한 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 수지 조성물로부터 얻어지는 광학 필름을 연신하면, 입사광 파장이 장파장이 됨에 따라서 위상차가 증대하는, 이른바 역파장 분산성을 발현시킬 수도 있기 때문에, 각종 액정 표시 장치나 편광판 등에 사용할 수 있다. 또한, 스티렌계 공중합체 (A)와 노르보르넨계 중합체 (B)의 조성비를 조절함으로써, 위상차의 크기나 파장 분산성을 용이하게 조절하는 것이 가능하기 때문에, 저복굴절성이 요구되는 광학 부품 등에도 사용할 수 있다. The resin composition of this invention is excellent in compatibility, excellent in transparency, hard to be colored at the time of heating, and can also be set as the resin composition containing a styrene copolymer of high molecular weight. Since the resin composition of this invention can be used suitably for the shaping | molding use of various optical materials, and is excellent in film forming property, it can be used especially for an optical film use, and the optical film excellent in the strength can be obtained. Moreover, when extending | stretching the optical film obtained from the resin composition of this invention, since what is called reverse wavelength dispersibility which phase difference increases as incident light wavelength becomes long wavelength can also be expressed, it can be used for various liquid crystal display devices, polarizing plates, etc. Further, by adjusting the composition ratio of the styrene copolymer (A) and the norbornene-based polymer (B), it is possible to easily adjust the magnitude of the phase difference and the wavelength dispersibility, so that the optical component or the like for which low birefringence is required Can be used.

Claims (17)

(A) 하기 화학식 (1)로 표시되는 구조 단위 (1) 및 하기 화학식 (2)로 표시되는 구조 단위 (2)를 갖고, 상기 구조 단위 (2)의 함유율이 전체 구조 단위 100 mol% 중 0.1 내지 50 mol%인 스티렌계 공중합체와, (A) It has a structural unit (1) represented by following General formula (1), and a structural unit (2) represented by following General formula (2), and content rate of the said structural unit (2) is 0.1 in 100 mol% of all the structural units. Styrene copolymer which is from 50 mol%, (B) 노르보르넨계 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.(B) A resin composition comprising a norbornene-based polymer.
Figure 112009040747410-PCT00025
Figure 112009040747410-PCT00025
(식 (1) 및 식 (2) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 식 (2) 중, R0은 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타냄). (In formula (1) and formula (2), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and in formula (2), R 0 represents a hydrogen atom; a halogen atom; an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom). A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or a polar group).
제1항에 있어서, 상기 스티렌계 공중합체 (A)는 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 중량 평균 분자량 Mw가 30,000 내지 1,000,000인 것을 특징으로 하는 수지 조성물. The resin composition according to claim 1, wherein the styrene copolymer (A) has a weight average molecular weight Mw of 30,000 to 1,000,000 measured by gel permeation chromatography (GPC). 제1항에 있어서, 상기 스티렌계 공중합체 (A)는 색측계를 이용하여 측정한 10 중량% 톨루엔 용액의 황색도(YI)가 5.0 이하인 것을 특징으로 하는 수지 조성물. The resin composition according to claim 1, wherein the styrene copolymer (A) has a yellowness (YI) of 5.0 wt% or less of a 10 wt% toluene solution measured using a colorimeter. 제1항에 있어서, 상기 스티렌계 공중합체 (A)가 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과, 하기 화학식 (4)로 표시되는 단량체 (4)를 중합 반응시킨 후, 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환하는 공정을 포함하는 방법에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.The structure derived from the monomer (4) according to claim 1, wherein the styrene-based copolymer (A) polymerizes styrene and / or α-methylstyrene with the monomer (4) represented by the following general formula (4). resin composition, characterized in that is obtained by a process comprising the step of converting an -OH group -OR 14 in the unit.
Figure 112009040747410-PCT00026
Figure 112009040747410-PCT00026
(식 (4) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R0은 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, R14는 아세틸기, t-부틸기, t-부톡시카르보닐기, -CH(OR15)(R16), 또는 -SiR15 3으로 표시되는 기 중 어느 하나를 나타내고, R15 및 R16은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, R15와 R16, 또는 R15끼리는 서로 결합하여 탄소 수 2 내지 12의 복소환을 형성할 수도 있음). (In formula (4), R represents a hydrogen atom or a methyl group, R 0 represents a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted that may have a linking group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. A hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or a polar group, and R 14 represents an acetyl group, t-butyl group, t-butoxycarbonyl group, -CH (OR 15 ) (R 16 ), or -SiR 15 3 group R 15 and R 16 may each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 15 and R 16 , or R 15 may be bonded to each other to form a hetero ring having 2 to 12 carbon atoms; ).
제4항에 있어서, 상기 스티렌계 공중합체 (A)가 상기 단량체 (4) 유래의 구조 단위에 있어서의 -OR14기를 -OH기로 변환하는 공정을 산의 존재 하에서 행하고, 그 후, 염기성 물질을 첨가하여 계 내의 산과 반응시키는 공정을 포함하는 방법에 의해 얻어진 것을 특징으로 하는 수지 조성물.The process according to claim 4, wherein the styrene copolymer (A) converts the -OR 14 group in the structural unit derived from the monomer (4) in the presence of an acid, followed by a basic substance. The resin composition obtained by the method including the process of adding and making it react with the acid in a system. 제1항에 있어서, 상기 노르보르넨계 중합체 (B)가 하기 화학식 (6)으로 표시되는 단량체 (6)으로부터 유도되는 구조 단위를 갖는 (공)중합체인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.The resin composition according to claim 1, wherein the norbornene-based polymer (B) is a (co) polymer having a structural unit derived from a monomer (6) represented by the following general formula (6).
Figure 112009040747410-PCT00027
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(식 (6) 중, a 및 b는 독립적으로 0 또는 1을 나타내고, c 및 d는 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타내고, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11, R12, 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자, 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, R10과 R11, 또는 R12와 R13은 일체화하여 2가의 탄화수소기를 형성할 수도 있고, R10 또는 R11과 R12 또는 R13은 서로 결합하여 탄소환 또는 복소환(이들 탄소환 또는 복소환은 단환 구조일 수도 있고, 다른 환이 축합하여 다환 구조를 형성할 수도 있음)을 형성할 수도 있음). (Wherein (6), a and b are independently 0 or 1, c and d are independently 0 to indicate a second integer, R 4, R 5, R 6, R 7, R 8, R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , and R 13 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted carbon number that may have a linking group including an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom A hydrocarbon group of 30 to 30; or a polar group, R 10 and R 11 , or R 12 and R 13 may be integrated to form a divalent hydrocarbon group, and R 10 or R 11 and R 12 or R 13 may be bonded to each other; Carbocycles or heterocycles (which may be monocyclic or may be condensed to form a polycyclic structure).
제1항에 있어서, 상기 노르보르넨계 중합체 (B)가 하기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위를 갖는 (공)중합체인 것을 특징으로 하는 수지 조성물. The resin composition according to claim 1, wherein the norbornene-based polymer (B) is a (co) polymer having a structural unit represented by the following general formula (i).
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(식 (i) 중, A1 내지 A4는 각각 독립적으로, 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소 원자수 1 내지 30의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, A1 내지 A4 중의 하나 이상은 -(CH2)nCOOA5로 표시되는 기(A5는 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기)이고, n은 0 또는 1 내지 5의 정수임). (In Formula (i), A 1 to A 4 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; the number of substituted or unsubstituted carbon atoms which may have a linking group including an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom. A hydrocarbon group of 1 to 30; or a polar group, and at least one of A 1 to A 4 is a group represented by-(CH 2 ) n COOA 5 (A 5 includes an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom A substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and n is 0 or an integer of 1 to 5).
제7항에 있어서, 상기 노르보르넨계 중합체 (B)가 상기 화학식 (i)로 표시되는 구조 단위를 노르보르넨계 중합체 (B)의 전체 구조 단위 100 mol% 중 10 내지 70 mol%로 갖는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.The norbornene-based polymer (B) has a structural unit represented by the general formula (i) as 10 to 70 mol% in 100 mol% of the total structural units of the norbornene-based polymer (B). Resin composition made into. 제1항에 있어서, 상기 스티렌계 공중합체 (A)와 상기 노르보르넨계 중합체 (B)의 조성비((A)/(B))가 중량비로 5/95 내지 70/30의 범위인 것을 특징으로 하는 수지 조성물. The composition ratio ((A) / (B)) of the styrene-based copolymer (A) and the norbornene-based polymer (B) is in the range of 5/95 to 70/30 by weight. Resin composition. 제1항에 기재된 수지 조성물을 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 성형체.A molded article comprising the resin composition according to claim 1 as a main component. 제10항에 있어서, 용융 압출 성형에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 성형체.The molded article according to claim 10, which is obtained by melt extrusion molding. 제1항에 기재된 수지 조성물을 주성분으로 하는 것을 특징으로 하는 광학 필름. The optical film which has a resin composition of Claim 1 as a main component. 제12항에 있어서, 캐스팅법에 의해 제막하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 광학 필름.The optical film of Claim 12 obtained by forming into a film by the casting method. 제12항에 있어서, 압출법에 의해 제막하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 광학 필름.The optical film of Claim 12 obtained by forming into a film by the extrusion method. 제12항에 기재된 광학 필름을 가열 연신하여 얻어지는 연신 필름. The stretched film obtained by heat extending | stretching the optical film of Claim 12. 제12항에 기재된 광학 필름을 포함하는 편광판. The polarizing plate containing the optical film of Claim 12. 제12항에 기재된 광학 필름을 포함하는 액정 표시 장치. The liquid crystal display device containing the optical film of Claim 12.
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