KR20090093883A - Phosphate-treated electrogalvanized steel sheet - Google Patents

Phosphate-treated electrogalvanized steel sheet

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KR20090093883A
KR20090093883A KR1020090016944A KR20090016944A KR20090093883A KR 20090093883 A KR20090093883 A KR 20090093883A KR 1020090016944 A KR1020090016944 A KR 1020090016944A KR 20090016944 A KR20090016944 A KR 20090016944A KR 20090093883 A KR20090093883 A KR 20090093883A
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Abstract

A phosphate treated electrolytic galvanized iron is provided to keep the brightness high after the phosphate treatment. A phosphate treated electrolytic galvanized iron comprises an electric zinc plating layer and a phosphate zinc film. The phosphate zinc film is coated on the electric zinc plating layer. The orientation index Ico(hk.1) of the crystal plane of the electric zinc plating layer is satisfied the following conditions. 4.0<=Ico(00.2), 4.0<=Ico(00.2), 0<Ico(10.0)<=0.020, 0<Ico(10.0)<=0.020, 0<Ico(10.1)<=0.20, 0<Ico(10.1)<=0.20. The Ico is 6 page the orientation index of the Wilson in the crystal plane. The brilliance value of the electrolytic galvanized iron is 70.00 or greater.

Description

인산염 처리 전기 아연 도금 강판{PHOSPHATE-TREATED ELECTROGALVANIZED STEEL SHEET}Phosphated Electroplated Galvanized Steel Sheet {PHOSPHATE-TREATED ELECTROGALVANIZED STEEL SHEET}

본 발명은 색조가 밝은 인산염 처리 전기 아연 도금 강판에 관한 것이다. 본 발명의 전기 아연 도금 강판은 인산염 처리 후의 명도(L값)가 높고, 예컨대, 가정용 전기 제품, 배전반, 전기 교환기 패널, 자동차 부품, 건재 등의 소재로서 적합하게 사용할 수 있다. The present invention relates to a phosphate treated electrogalvanized steel sheet having a bright color tone. The galvanized steel sheet of the present invention has a high brightness (L value) after phosphate treatment, and can be suitably used as a material for, for example, a household electrical appliance, a switchboard, an electric exchanger panel, an automobile part, a building material, and the like.

인산 아연 피막을 갖는 전기 아연 도금 강판(이하, 「인산염 처리 강판」이라고 약칭하기도 함)은 상술한 가정용 전기 제품 등에 사용되는 경우, 백색 도료로 도장되는 경우가 많다. 그러나, 인산염 처리 강판이 거무스름하면(명도가 낮으면), 백색 도료를 두텁게 도포해야 하므로 도료량 및 그 비용이 증대한다. 그 때문에 사용자로부터 명도가 높은 인산염 처리 강판이 요구되고 있다. 그 요구는 점점 더 까다로워져, 현재에는 명도(L값)가 70.00 이상인 인산염 처리가 요망되고 있다. 그래서 인산염 처리 강판의 명도를 높이는 기술이 지금까지 제안되고 있다. An electrogalvanized steel sheet (hereinafter sometimes referred to as "phosphate-treated steel sheet") having a zinc phosphate coating is often coated with a white paint when used in household electrical appliances or the like described above. However, if the phosphate-treated steel sheet is black (low brightness), a thick white paint must be applied, so that the amount of paint and its cost increase. For this reason, there is a demand for a phosphate treated steel sheet having high brightness from the user. The demand is becoming more and more demanding, and phosphate treatments with a brightness (L value) of 70.00 or more are currently desired. Thus, a technique for increasing the brightness of the phosphate treated steel sheet has been proposed so far.

예컨대 일본 특허공개 제1999-61430호는 인산 아연 피막의 명도에 악영향을 미치는 Ni량을 적절히 조정하는 기술을 개시하고 있다. 구체적으로, 일본 특허공개 제1999-61430호의 기술에서는 인산 아연 피막 중의 Ni량과 Zn량과의 비, 인산 아연 부착량, 및 아연 도금 중의 Ni량을 조정함으로써, 인산염 처리 강판의 명도를 높게 유지하고 있다. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 1999-61430 discloses a technique for appropriately adjusting the amount of Ni which adversely affects the brightness of the zinc phosphate coating. Specifically, in the technique of Japanese Patent Laid-Open No. 1999-61430, the brightness of the phosphate-treated steel sheet is maintained high by adjusting the ratio of the amount of Ni and Zn in the zinc phosphate film, the amount of zinc phosphate deposited, and the amount of Ni in zinc plating. .

한편, 일본 특허공개 제1998-18078호 및 일본 특허공개 제2002-256480호는 인산염 처리 강판이 아니라, 크로메이트 처리 또는 비크로메이트(non-chromate) 처리 강판의 명도를 개선하는 기술을 개시하고 있다. 구체적으로는 이러한 기술은 전기 아연 도금층의 각 결정면의 배향 지수(일본 특허공개 제1998-18078호에서의 파라미터) 또는 배향률(일본 특허공개 제2002-256480호에서의 파라미터)을 적절히 제어함으로써, 아연 도금층 자체의 명도를 향상시키고 있다.On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1998-18078 and Japanese Patent Laid-Open No. 2002-256480 disclose techniques for improving the brightness of chromate-treated or non-chromate-treated steel sheets, not phosphate-treated steel sheets. Specifically, such a technique uses zinc by appropriately controlling the orientation index (parameter in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 1998-18078) or orientation ratio (parameter in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-256480) of each crystal plane of the electrogalvanized layer. The brightness of the plating layer itself is improved.

본 발명의 목적은 높은 명도(특히 L값이 70.00 이상)의 인산염 처리 전기 아연 도금 강판을 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a phosphate treated galvanized steel sheet having a high brightness (particularly an L value of 70.00 or more).

상기 과제를 해결할 수 있는 본 발명에 따른 색조가 밝은 인산염 처리 전기 아연 도금 강판은 전기 아연 도금층 위에 인산 아연 피막을 갖고, 상기 전기 아연 도금층의 결정면 (00·2), (10·0) 및 (10·1)의 배향 지수 Ico(hk·1)가, 하기 수학식 1 내지 3의 요건을 만족시킨다.The phosphate treated electrogalvanized steel sheet having a light color tone according to the present invention which can solve the above problems has a zinc phosphate coating on the electrogalvanized layer, and the crystal faces (00 · 2), (10 · 0) and (10) of the electrogalvanized layer. The orientation index I co (hk · 1) of 1) satisfies the following formulas (1) to (3).

4.0≤Ico(00·2)4.0≤I co (00 · 2)

0<Ico(10·0)≤0.0200 <I co (10 · 0) ≤0.020

0<Ico(10·1)≤0.200 <I co (10 · 1) ≤0.20

[상기 식에서, Ico(hk·1)는 결정면 (00·2), (10·0), (10·1), (10·2), (10·3) 및 (11·0)에 있어서의 Willson의 6면 배향 지수이고, 상기 전기 아연 도금층의 각 결정면 (hk·1)의 X선 회절 피크 강도값(cps)을 I(hk·1)라고 하고, 표준 아연 분말의 각 결정면 (hk·1)의 X선 회절 피크 강도값(cps)을 Is(hk·1)라고 한 경우에 하기 수학식 4 내지 6으로부터 계산된다.[Wherein, I co (hk · 1) is in the crystal planes (00 · 2), (10 · 0), (10 · 1), (10 · 2), (10 · 3) and (11 · 0) It is Willson's six-plane orientation index, and the X-ray diffraction peak intensity value (cps) of each crystal plane (hk · 1) of the electrogalvanized layer is called I (hk · 1), and each crystal plane (hk · 1) is calculated by X-ray diffraction peak intensity values (cps) I s (hk · 1) as to a case where from equation (4) to six.

Ico(hk·1)= i(hk·1)/is(hk·1)I co (hk · 1) = i (hk · 1) / i s (hk · 1)

i(hk·l)= I(hk·1)/{I(00·2)+ I(10·0)+ I(10·1)+ I(10·2)+ I(10·3)+ I(11·0)}i (hk · l) = I (hk · 1) / {I (00 · 2) + I (10 · 0) + I (10 · 1) + I (10 · 2) + I (10 · 3) + I (11 · 0)}

is(hk·1)= Is(hk·1)/{Is(00·2)+ Is(10·0)+ Is(10·1)+ Is(10·2)+ Is(10·3)+ Is(11·0)}]i s (hk · 1) = I s (hk · 1) / (I s (00 · 2) + I s (10 · 0) + I s (10 · 1) + I s (10 · 2) + I s (10 · 3) + I s (11 · 0)}]

본 발명의 바람직한 실시 형태에 있어서, 상기 인산염 처리 전기 아연 도금 강판의 명도(L값)는 70.00 이상이다. In a preferred embodiment of the present invention, the brightness (L value) of the phosphate-treated galvanized steel sheet is 70.00 or more.

본 발명에 의하면, 베이스인 전기 아연 도금층 결정면의 배향 지수가 적절히 제어되어 있기 때문에, 인산염 처리 후의 명도를 높게 유지할 수 있다. 그 결과, 사용자의 까다로운 요구를 만족시킬 수 있는 명도가 높은 인산염 처리 전기 아연 도금 강판을 제공할 수 있었다.According to this invention, since the orientation index of the crystal surface of the electrogalvanized layer which is a base is controlled suitably, the brightness after a phosphate treatment can be kept high. As a result, it was possible to provide a high brightness phosphate treated electrogalvanized steel sheet that could satisfy the demanding requirements of the user.

도 1은 전기 아연 도금층의 Ico(00·2)와, 도금 상태 또는 인산 아연 처리 후의 강판의 명도(L값)와의 관계를 나타내는 그래프이다. 도 1b는 도 1a의 일부를 확대한 그래프이다.1 is a graph showing a relationship between I co (00 · 2) of an electrogalvanized layer and the brightness (L value) of a steel sheet after a plating state or zinc phosphate treatment. FIG. 1B is an enlarged graph of part of FIG. 1A.

도 2는 전기 아연 도금층의 Ico(10·0)와, 도금 상태 또는 인산 아연 처리 후의 강판의 명도(L값)와의 관계를 나타내는 그래프이다. 도 2b는 도 2a의 일부를 확대한 그래프이다.2 is a graph showing the relationship between I co (10 · 0) of the electrogalvanized layer and the brightness (L value) of the steel sheet after the plating state or the zinc phosphate treatment. FIG. 2B is an enlarged graph of part of FIG. 2A.

도 3은 전기 아연 도금층의 Ico(10·1)와, 도금 상태 또는 인산 아연 처리 후의 강판의 명도(L값)와의 관계를 나타내는 그래프이다. 도 3b는 도 3a의 일부를 확대한 그래프이다.3 is a graph showing the relationship between I co (10 · 1) of the electrogalvanized layer and the brightness (L value) of the steel sheet after the plating state or the zinc phosphate treatment. FIG. 3B is an enlarged graph of part of FIG. 3A.

본 발명자는 전기 아연 도금층(베이스 도금층) 위에 인산 아연 피막을 갖는 인산염 처리 전기 아연 도금 강판의 명도를 높이기 위해, 베이스 도금층의 결정 배향 지수에 착안하여 검토해왔다. 상술한 일본 특허공개 제1998-18078호나 일본 특허공개 제2002-256480호와 같은 크로메이트 처리 강판이나 비크로메이트 처리 강판에서는 베이스 도금층의 결정 배향성과 처리 강판의 명도와의 관계에 대하여 자세히 연구되고 있지만, 인산염 처리 강판에서는 지금까지 결정 배향 지수와 명도와의 관계에 대하여 전혀 언급되지 않았기 때문이다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor paid attention to the crystal orientation index of a base plating layer in order to raise the brightness of the phosphate-treated electrogalvanized steel plate which has a zinc phosphate film on an electrogalvanizing layer (base plating layer). In chromate-treated steel sheets and non-chromate-treated steel sheets such as Japanese Patent Application Laid-Open No. 1998-18078 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-256480, the relationship between the crystal orientation of the base plating layer and the brightness of the treated steel sheet is studied in detail. This is because the treated steel sheet has not been mentioned at all about the relationship between the crystal orientation index and the brightness.

특히, 인산 아연 피막은 상술한 일본 특허공개 제1999-61430호에도 자세히 기재되어 있지만, 호페아이트(hopeite) 결정이라고 불리는 직경이 약 수 μm 정도의 인산 아연 결정을 주성분으로서 함유한다. 그 때문에 인산염 처리 후의 강판의 색조는 베이스 도금층의 색조에 의한 영향을 받지 않고, 인산 아연 결정의 광학적 특성에 강하게 의존한다. 따라서, 인산염 처리 강판의 명도를 높이기 위해서는, 베이스의 아연 도금층이 아니라 그 위의 인산 아연 피막의 명도를 향상시킬 필요가 있다. 이 점에서, 일본 특허공개 제1998-18078호나 일본 특허공개 제2002-256480호에 기재되어 있는 바와 같이, 베이스인 아연 도금층 자체의 명도를 높임으로써 처리 후의 명도를 향상시킨 크로메이트 처리 강판이나 비크로메이트 처리 강판과는 상이하다. 이들 크로메이트 처리 강판이나 비크로메이트 처리 강판은, 비결정의 투명 박막 피막을 갖고 있고, 베이스 도금층의 색조가 그대로 처리 후의 강판의 색조에 반영되기 때문이다. 따라서, 본 발명에서 대상으로 삼는 인산염 처리 강판의 명도를 높이기 위해서는 크로메이트 처리 강판 등의 기술을 그대로 전용할 수는 없다. In particular, the zinc phosphate coating is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1999-61430, but contains a zinc phosphate crystal having a diameter of about several μm as a main component called a hopeite crystal. Therefore, the color tone of the steel plate after the phosphate treatment is not influenced by the color tone of the base plating layer, and strongly depends on the optical properties of the zinc phosphate crystal. Therefore, in order to increase the brightness of the phosphate treated steel sheet, it is necessary to improve the brightness of the zinc phosphate coating thereon rather than the base galvanized layer. In this regard, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1998-18078 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-256480, a chromate-treated steel sheet or a bichromate treatment in which the brightness after treatment is improved by increasing the brightness of the zinc-plated layer itself as a base. It is different from the steel plate. This is because these chromate-treated steel sheets and non-chromate-treated steel sheets have an amorphous transparent thin film, and the color tone of the base plating layer is directly reflected in the color tone of the steel sheet after the treatment. Therefore, in order to raise the brightness of the phosphate processed steel plate made into object by this invention, techniques, such as a chromate-treated steel plate, cannot be diverted as it is.

본 발명자가 검토한 결과, 인산 아연 피막의 명도는 베이스인 전기 아연 도금층의 특정 결정면의 결정 구조와 밀접한 관계를 갖고 있고, 전기 아연 도금층의 결정면 (00·2), (10·0) 및 (10·1)의 배향 지수 Ico(hk·1) 모두를 적절히 제어하면, 인산염 처리 후의 명도가 높게 유지된다는 것을 알아내고 본 발명을 완성했다.As a result of this inventor's examination, the brightness of the zinc phosphate film has a close relationship with the crystal structure of the specific crystal surface of the electrogalvanized layer which is a base, and the crystal surfaces (00 * 2), (10 * 0), and (10) of the electrogalvanized layer When all of the orientation index Ico (hk * 1) of * 1) was suitably controlled, it discovered that the brightness after phosphate treatment was kept high, and completed this invention.

즉, 본 발명의 인산염 처리 전기 아연 도금 강판은 전기 아연 도금층 위에 인산 아연 피막을 갖고 있고, 상기 전기 아연 도금층의 결정면 (00·2), (10·0) 및 (10·1)의 배향 지수 Ico(hk·1)가, 하기 수학식 1 내지 3의 요건을 만족시킨다.That is, the phosphate treated electrogalvanized steel sheet of the present invention has a zinc phosphate coating on the electrogalvanized layer, and the orientation index I of the crystal faces (00 · 2), (10 · 0) and (10 · 1) of the electrogalvanized layer co (hk · 1) satisfies the following formulas (1) to (3).

[수학식 1][Equation 1]

4.0≤Ico(00·2)4.0≤I co (00 · 2)

[수학식 2][Equation 2]

0<Ico(10·0)≤0.0200 <I co (10 · 0) ≤0.020

[수학식 3][Equation 3]

0<Ico(10·1)≤0.200 <I co (10 · 1) ≤0.20

[상기 식에서, Ico(hk·1)는 결정면 (00·2), (10·0), (10·1), (10·2), (10·3) 및 (11·0)에 있어서의 Willson의 6면 배향 지수이다. 그리고, Ico(hk·1)는 전기 아연 도금층의 각 결정면 (hk·1)의 X선 회절 피크 강도값(cps)을 I(hk·1)라고 하고, 표준 아연 분말의 각 결정면 (hk·1)의 X선 회절 피크 강도값(cps)을 Is(hk·1)라고 한 경우에 하기 수학식 4 내지 6으로부터 계산된다.[Wherein, I co (hk · 1) is in the crystal planes (00 · 2), (10 · 0), (10 · 1), (10 · 2), (10 · 3) and (11 · 0) Willson's six-sided orientation index. In addition, I co (hk · 1) denotes the X-ray diffraction peak intensity value (cps) of each crystal plane (hk · 1) of the electrogalvanized layer as I (hk · 1), and each crystal plane of the standard zinc powder (hk · 1). 1) is calculated by X-ray diffraction peak intensity values (cps) I s (hk · 1) as to a case where from equation (4) to six.

[수학식 4][Equation 4]

Ico(hk·1)= i(hk·1)/is(hk·1)I co (hk · 1) = i (hk · 1) / i s (hk · 1)

[수학식 5][Equation 5]

i(hk·l)= I(hk·1)/{I(00·2)+ I(10·0)+ I(10·1)+ I(10·2)+ I(10·3)+ I(11·0)}i (hk · l) = I (hk · 1) / {I (00 · 2) + I (10 · 0) + I (10 · 1) + I (10 · 2) + I (10 · 3) + I (11 · 0)}

[수학식 6][Equation 6]

is(hk·1)= Is(hk·1)/{Is(00·2)+ Is(10·0)+ Is(10·1)+ Is(10·2)+ Is(10·3)+ Is(11·0)}]i s (hk · 1) = I s (hk · 1) / (I s (00 · 2) + I s (10 · 0) + I s (10 · 1) + I s (10 · 2) + I s (10 · 3) + I s (11 · 0)}]

예컨대, Ico(00·2)는 상기 수학식 4 내지 6의 (hk·1)에 (00·2)를 대입함으로써, 즉 하기와 같이 하여 계산할 수 있다.For example, I co (00 · 2) can be calculated by substituting (00 · 2) into (hk · 1) in the above formulas 4 to 6, that is, as follows.

Ico(00·2)= i(00·2)/is(00·2)I co (00 · 2) = i (00 · 2) / i s (00 · 2)

i(00·2)= I(00·2)/{I(00·2)+ I(10·0)+ I(10·1)+ I(10·2)+ I(10·3)+ I(11·0)}i (00 · 2) = I (00 · 2) / {I (00 · 2) + I (10 · 0) + I (10 · 1) + I (10 · 2) + I (10 · 3) + I (11 · 0)}

is(00·2)= Is(00·2)/{Is(00·2)+ Is(10·0)+ Is(10·1)+ Is(10·2)+ Is(10·3)+ Is(11·0)}i s (00 · 2) = I s (00 · 2) / (I s (00 · 2) + I s (10 · 0) + I s (10 · 1) + I s (10 · 2) + I s (10 · 3) + I s (11 · 0)}

또한, Ico 및 Is의 첨자인 「co」 및 「s」는 각각 「결정 배향(crystal orientation)」 및 「표준(standard)」을 나타낸다.In addition, "co" and "s" which are subscripts of I co and I s represent "crystal orientation" and "standard", respectively.

전기 아연 도금층의 X선 회절 피크 강도값 I(hk·1)는 하기 실시예에 나타내는 조건으로 X선 회절을 실시함으로써 구해진다. 또한, 표준 아연 분말의 X선 회절 피크 강도값 Is(hk·1)의 데이타는 ASTM(및 JCPD)에 기재되어 있고, 그것을 하기 표 1에 전기(轉記)한다. 본 발명에서는 이 표 1에 기재하는 Is(hk·1)의 값을 상술한 계산에 이용하는 것으로 한다. 따라서, X선 회절에 의해서 구해지는 I(hk·l)의 값, 및 하기 표 1의 Is(hk·l)의 값으로부터, 상기 Ico(hk·1)의 값을 계산할 수 있다.The X-ray diffraction peak intensity value I (hk · 1) of the electrogalvanized layer is obtained by performing X-ray diffraction under the conditions shown in the following examples. In addition, X-ray data of the diffraction peak intensity value I s (hk · 1) of the standard zinc powder has been described in ASTM (and JCPD), and electrical (轉記) in Table 1 below it. In the present invention, it is assumed that the value of I s (hk · 1) shown in Table 1 is used for the above calculation. Accordingly, the value of I co (hk · 1) can be calculated from the value of I (hk · l) obtained by X-ray diffraction and the value of I s (hk · l) shown in Table 1 below.

또한, 표 1에 기재된 「지수면 각도(deg)」란 아연 육방정의 기저면과 각 미러 지수면(결정면)과의 이루는 각도를 의미한다. 그리고 육방정의 경우에, 양 결정면이 이루는 각도(deg)는 하기와 같이 하여 산출할 수 있다. 즉, In addition, "exponential-surface angle (deg)" of Table 1 means the angle which the base surface of zinc hexagonal crystal and each mirror index surface (crystal surface) make. In the case of hexagonal crystals, the angle deg formed by both crystal planes can be calculated as follows. In other words,

·격자 정수: a, cGrid constants: a, c

·결정면 (미러 지수면): (h1k1·l1)과 (h2k2·l2), Crystal face (mirror jisumyeon): (h 1 k 1 · l 1) and (h 2 k 2 · l 2 )

·면 결정면이 이루는 각도: φ라 하고The angle formed by the plane crystal plane: φ

·X= h1×h2+k1×k2+[1/2×(h1×k2+h2×k1)]+[3/4×(a/c)2×(l1×l2)]X = h 1 × h 2 + k 1 × k 2 + [1/2 × (h 1 × k 2 + h 2 × k 1 )] + [3/4 × (a / c) 2 × (l 1 × l 2 )]

·Y= h1 2+k1 2+(h1×k1)+[3/4×(a/c)2×(l1 2)]Y = h 1 2 + k 1 2 + (h 1 × k 1 ) + [3/4 × (a / c) 2 × (l 1 2 )]

·Z= h2 2+k2 2+(h2×k2)+[3/4×(a/c)2×(l2 2)]라 하면,If Z = h 2 2 + k 2 2 + (h 2 x k 2 ) + [3/4 x (a / c) 2 x (l 2 2 )],

·cosφ=X/(Y×Z)1/2 Cosφ = X / (Y × Z) 1/2

의 관계식으로부터, 양 결정면이 이루는 각도φ(deg)가 산출된다. 이 양 결정면이 이루는 각도 φ의 값은 반드시 0∼90°의 범위에 들어간다. From the relational equation, the angle? (Deg) formed by both crystal planes is calculated. The value of the angle phi formed by both crystal planes always falls within the range of 0 to 90 degrees.

본 발명자들은 전기 아연 도금층의 상기 6면의 배향 지수에 착안하여, 인산염 처리 전의 전기 아연 도금 강판(도금 상태)에서의 명도(L값), 추가로 인산염 처리 후의 전기 아연 도금 강판(인산염 처리 강판)의 명도(L값)를 각각 측정했다. 상기 6면의 배향 지수 중, 본 발명에서 특정하는 면의 배향 지수와, 도금 상태 및 인산염 처리 후의 명도(L값)와의 관계를 나타내는 그래프를 도 1 내지 3에 나타낸다. 이들 그래프는 모두 후술하는 실시예의 표 2에 나타내는 그래프에 근거하여 작성한 것이다. The present inventors pay attention to the orientation index of the six surfaces of the electrogalvanized layer, the brightness (L value) in the electrogalvanized steel sheet (plated state) before the phosphate treatment, and the electrogalvanized steel sheet after the phosphate treatment (phosphate treated steel sheet) The brightness (L value) of was measured, respectively. The graph which shows the relationship between the orientation index of the surface specified by this invention and the brightness (L value) after a plating state and a phosphate treatment among the said six surface indexes is shown in FIGS. These graphs are all created based on the graph shown in Table 2 of the Example mentioned later.

도 1은 전기 아연 도금층의 Ico(00·2)와, 도금 상태 또는 인산 아연 처리 후의 강판의 명도(L값)와의 관계를 나타내는 그래프이다. 도 1b는 도 1a의 일부를 확대한 그래프이다.1 is a graph showing a relationship between I co (00 · 2) of an electrogalvanized layer and the brightness (L value) of a steel sheet after a plating state or zinc phosphate treatment. FIG. 1B is an enlarged graph of part of FIG. 1A.

마찬가지로, 도 2는 전기 아연 도금층 Ico(10·0)과의 관계를 나타내는 그래프, 도 3은 전기 아연 도금층의 Ico(10·1)과의 관계를 나타내는 그래프이다.Similarly, FIG. 2 is a graph showing the relationship with the electrogalvanized layer I co (10 · 0), and FIG. 3 is a graph showing the relationship with the Ico (10 · 1) of the electrogalvanized layer.

이들 도 1 내지 도 3에 나타낸 바와 같이, 이 실험에서 사용한 전기 아연 도금 강판은 모두 도금된 상태(도면 중, ○)에서는 명도(L값)가 높고, 이들 값과 배향 지수와의 사이에는 상관 관계가 보이지 않았다. 즉, 전기 아연 도금층의 상기 6면의 배향 지수에 따라 도금된 상태의 명도(L값)가 증가하거나 감소하거나 하는 관계는 보이지 않았다. As shown in Figs. 1 to 3, all of the electrogalvanized steel sheets used in this experiment had a high brightness (L value) in the plated state (○ in the figure), and there was a correlation between these values and the orientation index. Did not look. That is, the relationship that the brightness (L value) of the plated state increases or decreases according to the orientation index of the said 6 surface of the electrogalvanized layer was not seen.

그러나, 인산염 처리 후(도면 중, ●)의 명도(L값)는 도금된 상태인 경우와 상이하고, 도 1 내지 도 3에 나타낸 바와 같이, 인산 전기 아연 도금층의 (00·2), (10·0) 및 (10·1)면의 배향 지수에 강하게 영향을 받는다는 것을 알 수 있었다. 구체적으로는, Ico(00·2)가 4.0 미만인 경우, Ico(10·0)가 0.020을 초과하는 경우, 및 Ico(10·1)가 0.20을 초과하는 경우에는 모두 인산염 처리 후의 명도가 저하되고, L값이 70.00 미만이 되었다. 즉, 배향 지수가 상기 수학식 1 내지 3의 요건을 벗어나면, 인산염 처리 강판에서 70.00 이상의 명도(L값)를 달성할 수 없다.However, the brightness (L value) after the phosphate treatment (in the figure) is different from that in the plated state, and as shown in FIGS. 1 to 3, (00 · 2), (10) It was found that the orientation indexes of the (0) and (10 · 1) planes were strongly affected. Specifically, when I co (00 · 2) is less than 4.0, when I co (10 · 0) exceeds 0.020, and when I co (10 · 1) exceeds 0.20, both brightness after phosphate treatment Decreased and the L value became less than 70.00. That is, if the orientation index deviates from the requirements of Equations 1 to 3 above, the brightness (L value) of 70.00 or more cannot be achieved in the phosphate treated steel sheet.

한편, 도 1 내지 3에 나타낸 바와 같이, 배향 지수가 상기 수학식 1 내지 3의 요건을 단독으로 만족시키는 경우라 해도, 인산염 처리 후의 명도(L값)가 70.00 미만이 되는 경우가 있다. 예컨대, 도 1에서는 Ico(00·2)가 4.0 이상이어도 L값이 70.00 미만이 되는 예가 존재한다. 이는 인산염 처리 강판의 명도(L값)를 70.00 이상으로 하기 위해서는 상기 수학식 1 내지 3의 요건을 하나만, 또는 2개만을 충족시키는 것만으로는 불충분하고, 이들 세가지 요건을 전부 충족할 필요가 있다는 것을 나타내고 있다. 도 1을 참조하면, Ico(00·2)가 4.0 이상이어도, L값이 70.00 미만이 되는 예는 수학식 2 및 3의 요건을 만족시키지 않기 때문에, 인산염 처리 강판의 명도(L값)가 70.00 미만이 되어 있다.On the other hand, as shown in FIGS. 1-3, even if an orientation index satisfy | fills the requirements of the said Formulas 1-3, the brightness (L value) after phosphate treatment may be less than 70.00. For example, in FIG. 1, there exists an example in which L value becomes less than 70.00 even if Ico (00 * 2) is 4.0 or more. This means that in order to make the brightness (L value) of the phosphate treated steel sheet more than 70.00, it is insufficient to satisfy only one or two requirements of Equations 1 to 3, and it is necessary to satisfy all three requirements. It is shown. Referring to FIG. 1, even if I co (00 · 2) is 4.0 or more, the example in which the L value is less than 70.00 does not satisfy the requirements of Equations 2 and 3, so that the brightness (L value) of the phosphate treated steel sheet is It is less than 70.00.

또한, 상기 수학식 2 및 3에 나타낸 바와 같이, Ico(10·2) 및 Ico(10·1)은 0이 되지는 않는다. 이들이 0이 되면, 인산염 처리 후의 명도(L값)가 다시 저하된다(도 2의 Ico(10·0)= 0인 데이터 참조)In addition, as shown in Formulas 2 and 3, I co (10 · 2) and I co (10 · 1) do not become zero. When these become 0, the brightness (L value) after phosphate treatment falls again (refer to the data whose I co (10 * 0) = 0 of FIG. 2).

이러한 현상은, 상기 수학식 1 내지 3의 요건 중 하나라도 만족하지 않는 전기 아연 도금층의 결정 구조는, 그 위에 형성되는 인산 아연 피막의 결정 구조에 악영향을 미쳐, 인산 아연 피막의 명도를 저하시키기 때문이라고 추정된다. 한편, 상기 수학식 1 내지 3의 모든 요건을 만족시키는 전기 아연 도금층의 결정 구조는, 그 위에 형성되는 인산 아연 결정의 크기, 형상 및 배향에 좋은 영향을 미쳐, 그 결과, 인산 아연 피막이 입사광을 반사하기 쉬워진다고 생각된다. This phenomenon is because the crystal structure of the electrogalvanized layer, which does not satisfy any of the requirements of the above formulas 1 to 3, adversely affects the crystal structure of the zinc phosphate film formed thereon, thereby lowering the brightness of the zinc phosphate film. Is estimated. On the other hand, the crystal structure of the electrogalvanized layer that satisfies all the requirements of the above formulas (1) to (3) has a good effect on the size, shape, and orientation of the zinc phosphate crystal formed thereon, and as a result, the zinc phosphate film reflects incident light. It is thought that it becomes easy to do it.

한편, 본 발명에서 규정하지 않는 결정면의 배향 지수, 즉, Ico(10·2), Ico(10·3) 및 Ico(11·0)과 인산염 처리 강판의 명도(L값)와의 사이에는 후기하는 실시예에 나타낸 바와 같이, 상관 관계가 보이지 않았다.On the other hand, the orientation index of the crystal plane, which is not defined in the present invention, that is, between I co (10 · 2), I co (10 · 3) and I co (11 · 0) and the brightness (L value) of the phosphate-treated steel sheet As shown in Examples described later, no correlation was observed.

이상의 기초 실험에 기초하여, 본 발명자는 결정면 (00·2), (10·0), (10·1), (10·2), (10·3) 및 (11·0)에 있어서의 Willson의 6면 배향 지수 Ico(hk·1) 중에서도, Ico(00·2), Ico(10·0) 및 Ico(10·1)에 착안하기로 하고, 이러한 3개의 배향 지수를 제어함으로써 인산 아연 피막의 명도(즉, 인산염 처리 후의 명도)를 특히 70.00 이상으로 높이는 데 성공했다. 본 발명에 있어서, Ico(00·2)는 바람직하게는 4.5 이상이고, Ico(10·0)는 바람직하게는 0.05 이하이며, Ico(10·1)는 바람직하게는 0.15 이하이다.Based on the above basic experiments, the inventor of the present invention Willson in the crystal plane (00 · 2), (10 · 0), (10 · 1), (10 · 2), (10 · 3) and (11 · 0). Among the six-sided orientation indices I co (hk · 1), Ico (00 · 2), I co (10 · 0), and I co (10 · 1) are considered, and these three orientation indices are controlled. As a result, the brightness of the zinc phosphate coating (that is, the brightness after phosphate treatment) was successfully increased to 70.00 or more. In the present invention, I co (00 · 2) is preferably 4.5 or more, I co (10 · 0) is preferably 0.05 or less, and I co (10 · 1) is preferably 0.15 or less.

다음으로, 본 발명에 따른 인산염 처리 강판의 제조 방법에 관하여 설명한다. Next, the manufacturing method of the phosphate treated steel plate which concerns on this invention is demonstrated.

전기 아연 도금이 실시되는 원판에 대하여 본 발명에서는 특별히 한정되지 않지만, 아연 도금 원판으로서는 일반적으로 판 두께가 1mm 정도인 연강(예컨대, Al 킬드강, Ti 킬드강) 등이 사용된다. 또한, 고장력 강판 등의 냉연 강판, 및 산 세정으로 흑피를 제거한 열연 강판 등을 사용할 수 있다. 또한, 도금을 실시하기 전에 통상적인 방법에 따라 원판을 탈지하는 것이 바람직하다. The base plate to be subjected to electrogalvanization is not particularly limited in the present invention. As the base plate of the galvanized plate, mild steel (eg, Al-killed steel, Ti-killed steel, etc.) having a plate thickness of about 1 mm is generally used. Moreover, cold rolled steel sheets, such as a high tensile strength steel plate, and hot rolled steel sheets etc. which removed black skin by acid washing can be used. In addition, it is preferable to degrease the original disc according to a conventional method before performing plating.

다음으로, 전기 아연 도금 조건에 대하여 설명한다. 상기 수학식 1 내지 3의 요건을 만족하도록 전기 아연 도금층의 결정 구조 또는 배향을 제어하기 위해서는 도금액에 첨가하는 지지 전해질(도전성 보조제)을 적절히 선택하는 것이 중요하다. 예컨대, 종래 잘 사용되고 있는 Na2SO4에서는 후기하는 실시예에서 실증한 바와 같이, 도금층의 구조 제어가 곤란했다. 따라서 본 발명의 인산염 처리 강판을 제조하기 위한 지지 전해질로서는 Al2(SO4)3, (NH4)2SO4, KCl 및 NaCl이 바람직하고, Al2(SO4)3이 보다 바람직하다.Next, the electrogalvanization conditions are demonstrated. In order to control the crystal structure or orientation of the electrogalvanized layer so as to satisfy the requirements of Equations 1 to 3, it is important to appropriately select a supporting electrolyte (conductive aid) to be added to the plating liquid. For example, in Na 2 SO 4 which is well used conventionally, as demonstrated in Examples described later, it is difficult to control the structure of the plating layer. Therefore, as a supporting electrolyte for producing the phosphate-treated steel sheet of the present invention, Al 2 (SO 4 ) 3 , (NH 4 ) 2 SO 4 , KCl and NaCl are preferable, and Al 2 (SO 4 ) 3 is more preferable.

또한, 도금액의 온도 및 도금액 중의 Ni 농도도 중요하다. 구체적으로는, 도금액의 온도를 40 내지 50℃ 정도, 도금액 중의 Ni 농도를 130 내지 250ppm 정도의 범위 내로 제어하면, 상기 수학식 1 내지 3의 요건을 만족하는 전기 아연 도금층이 수득되기 쉽다는 것을 알 수 있었다(후술하는 실시예 참조). In addition, the temperature of the plating liquid and the Ni concentration in the plating liquid are also important. Specifically, it is understood that when the temperature of the plating liquid is controlled in the range of about 40 to 50 ° C. and the Ni concentration in the plating liquid is in the range of about 130 to 250 ppm, it is easy to obtain an electrogalvanized layer that satisfies the requirements of Equations 1 to 3 above. (See Examples described later).

또한, 덱스트린, 덱스트란 및 아밀로펙틴 등의 고분자 유기물 등이, 도금액 중에 혼입되는 것은 피해야 한다. 이러한 고분자 유기물이 혼입되면, 전기 아연 도금층의 결정 배향을 컨트롤하기 어려워진다. In addition, incorporation of high molecular weight organic materials such as dextrin, dextran and amylopectin into the plating solution should be avoided. When such a high molecular organic substance is mixed, it becomes difficult to control the crystal orientation of the electrogalvanized layer.

도금액으로서는 산성욕(예컨대, 황산염욕, 염화물욕)을 사용할 수 있다. 도금액의 pH는 도금층의 결정 배향, 전류 효율, 및 도금 그을음 현상 등을 고려하면, 바람직하게는 0.5 이상, 바람직하게는 4 이하(보다 바람직하게는 1 미만)이다. As the plating liquid, an acid bath (for example, a sulfate bath and a chloride bath) can be used. The pH of the plating liquid is preferably 0.5 or more, preferably 4 or less (more preferably less than 1) in consideration of the crystallographic orientation of the plating layer, current efficiency, plating soot phenomenon, and the like.

전기 아연 도금층의 결정 배향을 제어하기 위해서는 상술한 지지 전해질, 고분자 유기물 및 도금액의 pH가 중요하고, 이들 이외의 도금 조건은 다른 문제(도금 그을음 등)를 고려하여 적절히 선택할 수 있다. 예컨대 도금에 사용하는 셀로서는 세로형 또는 가로형 중 어느 하나일 수 있다. 또한, 전기 도금의 통전 방법도 특별히 규정되지 않고, 공지된 방법, 예컨대 직류(정전류) 도금법 또는 펄스 도금법을 채용할 수 있다. 상대 유속은 예컨대 0.3 내지 5m/초이다. 또한, 「상대 유속」이란 도금액의 흐름 방향 및 도금 원판의 통판 방향을 고려한 도금액의 유속과 통판 속도와의 차이이다. In order to control the crystal orientation of the electrogalvanized layer, the pHs of the above-described supporting electrolyte, the polymer organic substance and the plating liquid are important, and plating conditions other than these can be appropriately selected in consideration of other problems (plating soot, etc.). For example, the cell used for plating may be either vertical or horizontal. In addition, the method of energizing the electroplating is not particularly specified, and a known method such as a direct current (constant current) plating method or a pulse plating method can be adopted. The relative flow rate is for example 0.3 to 5 m / sec. In addition, a "relative flow velocity" is a difference between the flow velocity of a plating liquid and the plate | plate speed which considered the flow direction of a plating liquid, and the plate | plate direction of a plating master.

도금욕 중의 전류 밀도는 아연 도금의 부착 속도를 양호하게 확보하기 위해, 바람직하게는 30A/dm2 이상, 보다 바람직하게는 50A/dm2 이상이다. 한편, 전류 밀도가 너무 높아지면, Zn 이온의 공급이 제때 이루어지지 못하게 되어 도금 외관이 검게 변색되는 「도금 그을음」현상이 생긴다. 그래서, 전류 밀도는 200A/dm2 이하로 하는 것이 바람직하다.The current density in the plating bath is preferably 30 A / dm 2 or more, more preferably 50 A / dm 2 or more, in order to ensure a good deposition rate of the zinc plating. On the other hand, if the current density becomes too high, the supply of Zn ions cannot be performed in a timely manner, so that a "plating soot" phenomenon occurs in which the plating appearance becomes black. Therefore, the current density is preferably 200 A / dm 2 or less.

전기 아연 도금 부착량은 바람직하게는 1g/m2 이상(보다 바람직하게는 3g/m2 이상), 보다 바람직하게는 100g/m2 이하(보다 바람직하게는 60g/m2 이하, 더 바람직하게는 40g/m2 이하)이다. 전기 아연 도금 부착량이 과도하게 적으면, 인산염 처리 강판의 내식성이 불충분하다. 반대로 부착량이 과도하게 많으면, 아연 도금의 제조 비용이 증대된다. 전기 아연 도금은 원판의 한쪽 면에만 실시할 수도 있고, 그 양면에 실시할 수도 있다.The electrogalvanization amount is preferably 1 g / m 2 or more (more preferably 3 g / m 2 or more), more preferably 100 g / m 2 or less (more preferably 60 g / m 2 or less, more preferably 40 g / m 2 or less). If the electrogalvanized amount is excessively small, the corrosion resistance of the phosphate treated steel sheet is insufficient. On the contrary, when the amount of adhesion is excessively large, the manufacturing cost of zinc plating is increased. Electro-galvanization may be performed only to one side of a disc, and may be performed to both surfaces.

상기와 같이 전기 아연 도금을 실시한 후, 인산 아연 처리를 실시한다. 인산 아연 처리액으로서는 Zn 이온, Ni 이온, 인산 이온 및 질산 이온 등을 포함하는 시판되는 처리액을 사용할 수 있다(예컨대, 니혼 파카라이징 주식회사 제품인 「팔본드-3312」등). 또한, 인산 아연 처리액에 알칼리 토류 금속, Fe, Co, Mn, Mg, Cr 및 Sb 등을 미량 첨가할 수도 있고, 또한 글루콘산 소다 및 폴리에터 등의 유기물을 첨가할 수도 있다. 그 때문에 인산 아연 피막은 이들로부터 유래되는 불순물을 포함할 수도 있다. 인산 아연 화성 처리는 전기 아연 도금 강판을 처리액에 침지하여 실시할 수도 있고, 또한 처리액을 스프레이하여 실시할 수도 있다. After performing electrogalvanization as above, a zinc phosphate process is performed. As the zinc phosphate treatment liquid, a commercially available treatment liquid containing Zn ions, Ni ions, phosphate ions, nitrate ions and the like can be used (for example, "Pal Bond-3312" manufactured by Nippon Parkarizing Co., Ltd.). In addition, trace amounts of alkaline earth metals, Fe, Co, Mn, Mg, Cr, and Sb may be added to the zinc phosphate treatment liquid, and organic materials such as sodium gluconate and polyether may be added. Therefore, a zinc phosphate film may also contain the impurity derived from these. Zinc phosphate chemical conversion treatment may be performed by immersing an electrogalvanized steel plate in a process liquid, and may also be performed by spraying a process liquid.

인산 아연 부착량은, 바람직하게는 0.8g/m2 이상(보다 바람직하게는 1.0g/m2 이상), 바람직하게는 3.0g/m2 이하(보다 바람직하게는 2.5g/m2 이하)이다. 인산 아연 부착량이 과도하게 많으면, 인산 아연 피막의 내박리성 및 색조(특히 명도)가 저하된다. 한편, 부착량이 과도하게 적으면, 인산 아연 피막과 도막과의 밀착성이 저하되는 경향이 있다.The zinc phosphate adhesion amount is preferably 0.8 g / m 2 or more (more preferably 1.0 g / m 2 or more), preferably 3.0 g / m 2 or less (more preferably 2.5 g / m 2 or less). When the zinc phosphate adhesion amount is excessively large, peeling resistance and color tone (particularly lightness) of the zinc phosphate film are reduced. On the other hand, when there is too little adhesion amount, there exists a tendency for the adhesiveness of a zinc phosphate film and a coating film to fall.

인산염 처리 강판의 Ico(00·2), Ico(10·0) 및 Ico(10·0)은 인산 아연 피막을 제거한 후, 전기 아연 도금층을 X선 회절함으로써 구할 수 있다. 구체적으로는, 우선 중크롬산 암모늄 20질량부, 25질량%의 암모니아수 490질량부 및 증류수 490질량부를 함유하는 용해액을 제작한다. 계속해서, 이 용해액을 실온에서 조정한 후, 인산염 처리 강판을 15분 정도 침지함으로써, 인산 아연 피막을 제거할 수 있다. 그리고 인산 아연 피막을 제거한 후, 하기 실시예에서 나타내는 조건으로, X선 회절을 실시함으로써 전기 아연 도금층의 배향 지수를 산출할 수 있다. Ico (00 · 2), Ico (10 · 0) and Ico (10 · 0) of the phosphate-treated steel sheet can be obtained by removing the zinc phosphate film and then diffracting the electrogalvanized layer with X-ray diffraction. Specifically, first, a solution containing 20 parts by mass of ammonium dichromate, 490 parts by mass of 25% by mass of ammonia water and 490 parts by mass of distilled water is prepared. Subsequently, after adjusting this melt liquid at room temperature, a zinc phosphate film can be removed by immersing a phosphate treated steel plate for about 15 minutes. And after removing a zinc phosphate film, the orientation index of an electrogalvanized layer can be computed by performing X-ray diffraction on the conditions shown in the following Example.

본 발명의 인산염 처리 강판의 명도(L값)는 바람직하게는 70.00 이상, 보다 바람직하게는 71 이상이다. 본 발명에 있어서 명도(L값)는 하기 실시예에서 나타내는 측정법에 의해 측정되는 값이다. The lightness (L value) of the phosphate-treated steel sheet of the present invention is preferably 70.00 or more, more preferably 71 or more. Brightness (L value) in this invention is a value measured by the measuring method shown in the following Example.

[실시예]EXAMPLE

이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하겠지만, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 제한되지 않고, 상기·하기의 취지에 적합한 범위에서 적당히 변경하여 실시하는 것도 물론 가능하며, 이들 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not restrict | limited by the following example, Of course, it is also possible to change suitably and to implement in the range suitable for the said and following, Both of these It is included in the technical scope of the invention.

[실시예 1]Example 1

〈도금 원판〉〈Plating Original〉

Al 킬드 냉연 강판을 도금 원판으로서 이용했다. 이것을 탈지·산 세정한 후, 하기 조건으로 전기 아연 도금을 실시했다. An Al-killed cold rolled steel sheet was used as the plating disc. After this was degreased and acid washed, electrogalvanization was performed under the following conditions.

〈전기 아연 도금의 조건〉<Condition of electro galvanization>

(1) 도금액(황산염욕) 조성(1) Plating solution (sulphate bath) composition

ZnSO4·7H2O: 350g/LZnSO 4 7H 2 O: 350 g / L

Al2(SO4)3: 170g/LAl 2 (SO 4 ) 3 : 170g / L

H2SO4: 20g/LH 2 SO 4 : 20g / L

NiSO4·6H2O: 0 내지 0.9g/LNiSO 4 6H 2 O: 0 to 0.9 g / L

Fe2SO4·7H2O: 9g/L Fe 2 SO 4 · 7H 2 O : 9g / L

Fe2(SO4)3·9.5H2O: 1.8g/L Fe 2 (SO 4) 3 · 9.5H 2 O: 1.8g / L

Na2MoO4·2H2O: 0.03g/LNa 2 MoO 4 2H 2 O: 0.03 g / L

40질량%의 Cr2(SO4)3 용액: 0.9g/L40 mass% Cr 2 (SO 4 ) 3 solution: 0.9 g / L

(2) 전류 밀도: 50A/dm2 (2) Current Density: 50A / dm 2

(3) 도금액의 온도: 20 내지 60℃(3) Temperature of plating solution: 20 to 60 ° C

(4) 도금액의 상대 속도: 1.5m/초(4) Relative Speed of Plating Solution: 1.5m / s

(5) 전극(양극): IrOx 전극(5) Electrode (anode): IrO x electrode

(6) 도금욕의 pH: 1미만(6) pH of plating bath: less than 1

(7) 아연 도금 부착량: 20g/m2 (7) Zinc plating weight: 20g / m 2

(8) 아연 도금 면적: 300mm×180mm(8) Zinc plating area: 300mm × 180mm

〈X선 회절의 조건〉<Condition of X-ray diffraction>

상술한 바와 같이 하여 제작한 전기 아연 도금 강판(도금 상태)에 대하여, 하기 조건의 X선 회절에 의해 전기 아연 도금층의 배향 지수를 산출했다. About the electrogalvanized steel plate (plated state) produced as mentioned above, the orientation index of the electrogalvanized layer was computed by the X-ray diffraction of the following conditions.

(1) 장치: 리가쿠사 제품 회전대음극형 X선 회절 장치(1) Apparatus: Rigaku Corporation X-ray Diffraction System

(2) 타겟: Cu(평판 모노크롬 결정에 의한 단색비; Cu·Kα선)(2) Target: Cu (monochrome ratio by flat monochrome crystals; Cu · Kα rays)

(3) 관 전압: 40kV(3) tube voltage: 40kV

(4) 관 전류: 300mA(4) tube current: 300mA

(5) 측정각: 2θ 30° 내지 80°(5) Measurement angle: 2θ 30 ° to 80 °

(6) 주사 속도: 2°/분(6) scanning speed: 2 ° / min

(7) 샘플링 각도: 0.02°(7) Sampling Angle: 0.02 °

(8) 발산 슬릿: 1°(8) diverging slit: 1 °

(9) 산란 슬릿: 1°(9) Scattering Slit: 1 °

(10) 수광 슬릿: 0.15mm(10) Light receiving slit: 0.15mm

(11) 시료면내 회전: 100rpm (11) In-plane rotation: 100 rpm

〈인산 아연 처리〉<Zinc phosphate treatment>

상술한 바와 같이 하여 제작한 전기 아연 도금 강판을 수돗물로 세정하고, 니혼 파카라이징 주식회사 제품인 인산 아연 처리액(팔본드 3312)에 60℃로 5초간 침지한 후 다시 물로 세정하여 건조함으로써 인산염 처리 강판을 제작했다. The electrogalvanized steel sheet produced as described above was washed with tap water, immersed in a zinc phosphate treatment liquid (arm bond 3312) manufactured by Nippon Parkarizing Co., Ltd. (pal bond 3312) at 60 ° C. for 5 seconds, and then washed again with water to dry the phosphate treated steel sheet. Made.

(1) TA(Total Acid): 17 내지 20point(1) TA (Total Acid): 17 to 20point

(2) FA(Free Acid): 2.0 내지 2.5point(2) Free Acid (FA): 2.0 to 2.5 points

(3) 인산 아연 부착량: 1.8 내지 2.2g/m2 (3) Zinc phosphate adhesion amount: 1.8 to 2.2 g / m 2

〈명도(L값)의 측정 조건〉<Measurement condition of brightness (L value)>

상술한 바와 같이 하여 제작한 전기 아연 도금 강판(도금 상태) 및 인산염 처리 강판(인산 아연 처리 후)의 명도(L값)를, 색차계(SZS-Σ90: 일본전색사 제품)를 이용하여 JIS-Z-8722의 0°-d법에 근거하여 측정했다. 이 0°-d법은 광트랩을 이용함으로써 정반사광 성분은 놓아주고 정반사광 이외의 확산 반사광 성분만을 적분구로 모아, 그 적분 강도로 백색도를 평가하는 것이다. The brightness (L value) of the electro-galvanized steel sheet (plated state) and the phosphate-treated steel sheet (after zinc phosphate treatment) produced as mentioned above was measured using a color difference meter (SZS-Σ90: manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.). It measured based on the 0 degree-d method of Z-8722. In this 0 ° -d method, by using an optical trap, the specular light component is released, and only diffused reflected light components other than the specular light are collected into the integrating sphere, and the whiteness is evaluated by the integrated intensity.

표 2에, 제조 조건(도금액 온도 및 도금액 중의 Ni 농도)과, 상술한 바와 같이 하여 측정한 전기 아연 도금층의 배향 지수, 도금 상태 및 인산 아연 처리 후의 명도(L값) 및 인산 아연 부착량을 기재한다. 또한, 표 2에 나타내는 전기 아연 도금층의 배향 지수와, 도금 상태 또는 인산 아연 처리 후의 명도(L값)와의 관계를 나타내는 그래프를 도 1 내지 3에 나타낸다.In Table 2, manufacturing conditions (plating liquid temperature and Ni concentration in plating liquid), the orientation index of the electrogalvanized layer measured as mentioned above, the plating state, the brightness (L value) after zinc phosphate treatment, and zinc phosphate adhesion amount are described. . Moreover, the graph which shows the relationship between the orientation index of the electrogalvanized layer shown in Table 2, and the brightness (L value) after a plating state or a zinc phosphate process is shown in FIGS.

표 2 및 도 1 내지 3에 나타낸 바와 같이, 상기 수학식 1 내지 3을 만족하도록 전기 아연 도금층의 배향 지수를 제어하면, 인산염 처리 강판의 명도(L값)를 70.00 이상으로 할 수 있다. 또한 지지 전해질로서 Al2(SO4)3를 사용하고, 도금액의 온도를 40 내지 50℃, 도금액 중의 Ni 농도를 130 내지 250ppm으로 제어하면, 상기 수학식 1 내지 3을 만족하도록 배향 지수를 제어할 수 있다.As shown in Table 2 and FIGS. 1 to 3, when the orientation index of the electrogalvanized layer is controlled to satisfy the above formulas 1 to 3, the brightness (L value) of the phosphate treated steel sheet may be 70.00 or more. In addition, when Al 2 (SO 4 ) 3 is used as the supporting electrolyte, and the temperature of the plating liquid is controlled to 40 to 50 ° C. and the Ni concentration in the plating liquid is 130 to 250 ppm, the orientation index can be controlled to satisfy the above formulas 1 to 3. Can be.

[참고예 1(비교예)][Reference Example 1 (Comparative Example)]

지지 전해질로서 Al2(SO4)3 대신에 Na2SO4를 80g/L로 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 조건으로 인산염 처리 강판을 제작했다. 표 3에, 이들의 제조 조건(도금액 온도 및 도금액 중의 Ni 농도)와, 상술한 바와 같이 하여 측정한 전기 아연 도금층의 배향 지수(Ico(00·2), Ico(10·0) 및 Ico(10·1)), 인산 아연 처리 후의 명도(L값) 및 인산 아연 부착량을 기재한다.A phosphate-treated steel sheet was produced under the same conditions as in Example 1 except that Na 2 SO 4 was used at 80 g / L instead of Al 2 (SO 4 ) 3 as the supporting electrolyte. Table 3 shows these production conditions (plating solution temperature and Ni concentration in the plating solution) and the orientation indexes (I co (00 · 2), I co (10 · 0) and I of the electrogalvanized layer measured as described above). co (10 · 1)), brightness (L value) after zinc phosphate treatment, and zinc phosphate adhesion amount are described.

표 3에 나타낸 바와 같이, 지지 전해질로서 Na2SO4를 이용하면, 도금액 온도 및 도금액 중의 Ni 농도를 적절한 범위로 조정해도, 상기 수학식 1 내지 3의 요건을 만족시키도록 전기 아연 도금층의 배향 지수를 제어하는 것은 곤란하여, 인산염 처리 강판의 명도는 모두 70.00 미만으로 저하되었다.As shown in Table 3, when Na 2 SO 4 is used as the supporting electrolyte, even if the plating liquid temperature and the Ni concentration in the plating liquid are adjusted to an appropriate range, the orientation index of the electrogalvanized layer is satisfied so as to satisfy the requirements of Equations 1 to 3 above. It was difficult to control, and the brightness of the phosphate-treated steel sheet was all lowered to less than 70.00.

Claims (2)

전기 아연 도금층 위에 인산 아연 피막을 갖고, Has a zinc phosphate coating on the electro galvanized layer, 상기 전기 아연 도금층의 결정면 (00·2), (10·0) 및 (10·1)의 배향 지수 Ico(hk·1)가, 하기 수학식 1 내지 3의 요건을 만족하는 인산염 처리 전기 아연 도금 강판.The crystal plane of the electro-zinc plating layer (00, 2), (10, 0) and (10, 1) orientation index I co (hk, 1) is, to phosphating electrolytic zinc to satisfy the requirements of equations (1) through (3) of the Plated steel plate. [수학식 1][Equation 1] 4.0≤Ico(00·2)4.0≤I co (00 · 2) [수학식 2][Equation 2] 0<Ico(10·0)≤0.0200 <I co (10 · 0) ≤0.020 [수학식 3][Equation 3] 0<Ico(10·1)≤0.200 <I co (10 · 1) ≤0.20 [상기 식에서, Ico(hk·1)는 결정면 (00·2), (10·0), (10·1), (10·2), (10·3) 및 (11·0)에 있어서의 Willson의 6면 배향 지수이고,[Wherein, I co (hk · 1) is in the crystal planes (00 · 2), (10 · 0), (10 · 1), (10 · 2), (10 · 3) and (11 · 0) Willson's six-sided orientation index, 상기 전기 아연 도금층의 각 결정면 (hk·1)의 X선 회절 피크 강도값(cps)을 I(hk·1)라고 하고, 표준 아연 분말의 각 결정면 (hk·1)의 X선 회절 피크 강도값(cps)을 Is(hk·1)라고 한 경우에 하기 수학식 4 내지 6으로부터 계산된다.The X-ray diffraction peak intensity value (cps) of each crystal plane (hk · 1) of the electrogalvanized layer is called I (hk · 1), and the X-ray diffraction peak intensity value of each crystal plane (hk · 1) of the standard zinc powder When (cps) is set to I s (hk · 1), it is calculated from the following equations (4) to (6). [수학식 4] [Equation 4] Ico(hk·1)= i(hk·1)/is(hk·1)I co (hk · 1) = i (hk · 1) / i s (hk · 1) [수학식 5][Equation 5] i(hk·l)= I(hk·1)/{I(00·2)+ I(10·0)+ I(10·1)+ I(10·2)+ I(10·3)+ I(11·0)}i (hk · l) = I (hk · 1) / {I (00 · 2) + I (10 · 0) + I (10 · 1) + I (10 · 2) + I (10 · 3) + I (11 · 0)} [수학식 6][Equation 6] is(hk·1)= Is(hk·1)/{Is(00·2)+ Is(10·0)+ Is(10·1)+ Is(10·2)+ Is(10·3)+ Is(11·0)}]i s (hk · 1) = I s (hk · 1) / (I s (00 · 2) + I s (10 · 0) + I s (10 · 1) + I s (10 · 2) + I s (10 · 3) + I s (11 · 0)}] 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 명도(L값)가 70.00 이상인 인산염 처리 전기 아연 도금 강판.A phosphate treated electrogalvanized steel sheet with a brightness (L value) of 70.00 or more.
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