KR20090088578A - Resin composition su khem characteristic scale removal tax administration me - Google Patents

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KR20090088578A
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Abstract

A cleaning agent is provided to reduce pollution by strongly dissolving resinous scale accumulated in a developer bath and a nozzle, to prevent facilities or parts from being rusted, and to ensure excellent cleaning workability. A cleaning agent for removing a resin composition scum scale comprises glycol ether-based component 15~65 weight%, organic acid component 10~35 weight%, and water 25~50 weight% but excludes amine-based and surfactant material components. The organic acid component is at least one selected from acetic acid, oxalic acid, sulfamic acid, hydroxy acetic acid, propionic acid, salicylic acid, citric acid, malic acid and sorbic acid.

Description

수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제{Resin composition su khem characteristic scale removal tax administration me}Resin composition su khem characteristic scale removal tax administration me}

본 발명은 각종 수지제품 및 전자제품 제조를 위한 장치나 설비, 현상조(Dry Film Developing Bath, DFR조) 등을 세정 또는 세척하는 세정제에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 현상조 및 이와 관련된 노즐 및 배관 등에 생기는 포토레지스터 필름수지와 현상액으로 사용하는 무기염 약품의 혼합에 의한 수지조성물 스컴성 스케일을 제거하는데 있어 보다 강력하고 밀도 있게 세정 또는 세척할 수 있으면서도 노즐이나 배관과 같은 세정 되는 설비나 부품에 부식을 주지 않고 친환경적이며 세정작업성 개선은 물론이거니와 세정작업 효율성을 크게 높일 수 있도록 하는 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning agent for cleaning or washing a device or facility for manufacturing various resin products and electronics, a dry film developing bath (DFR bath), and more particularly, a developing tank and nozzles and pipes related thereto. Corrosion to cleaned equipment and parts such as nozzles and pipes while being more powerful and densely cleaned in removing scum scales of resin compositions by mixing photoresist film resins generated on the back and inorganic salt chemicals used as developers. The present invention relates to a resin composition scum descaling agent that can improve cleaning efficiency as well as being environmentally friendly and improving cleaning efficiency.

일반적으로 휴대폰이나 디지털카메라 등과 같은 소형 제품에서부터 컴퓨터, 텔레비전, 전화 등의 가전제품, 그리고 자동차 등의 이동수단에 이르기까지 우리는 주위에서 수지를 이용한 많은 제품들을 접할 수 있다.In general, from small products such as mobile phones and digital cameras to home appliances such as computers, televisions, telephones, and automobiles, we can find many products using resins around us.

완제품이나 중간제품으로 생산되는 많고도 다양한 수지성 제품들은 그 제조과정에서 여러번의 세정 또는 세척 과정을 거치게 된다.Many different resinous products, produced as finished or intermediate products, are subjected to several cleaning or cleaning processes during their manufacture.

이런 다양한 제품들에서 흔히 볼 수 있는 인쇄회로기판 PCB의 경우를 살펴보자. Let's take a look at the printed circuit board PCB that is common in these various products.

PCB는 최종 완제품 내부의 각종 부품들을 실장(mounting)하고 실장된 부품들을 전기적으로 서로 연결하는 회로패턴으로, 받침대로도 기능하는 인쇄기판이다.The PCB is a printed circuit board that functions as a pedestal as a circuit pattern for mounting various components in the final finished product and electrically connecting the mounted components.

이러한 PCB도 단면(single-sided), 양면(double-sided), 다층(multi layer) PCB 등 그 종류가 다양하다. 이 중에 기술의 발달에 따라 최근 자주 쓰이는 다층 PCB는, 내층회로 인쇄, 내층 에칭 및 레지스트 박리, 적층, 홀가공, 도금, 회로패턴인쇄, 외층 에칭 및 레지스트, 솔더 마스크 인쇄, 외형가공, 검사 등의 순서로 제조되는 것이 일반적이다. Such PCBs also come in a variety of types, including single-sided, double-sided, and multi-layer PCBs. Among these, multilayer PCBs, which are frequently used in accordance with the development of technology, include inner circuit printing, inner layer etching and resist stripping, lamination, hole processing, plating, circuit pattern printing, outer layer etching and resist, solder mask printing, outline processing, inspection, etc. It is usually produced in order.

또한, 상기 PCB 제조 공정 중 현상과정에서 아크릴 수지 등의 열경화성 수지와 현상액으로 사용하는 무기염 약품이 혼합되어 현상조 및, 이와 관련된 노즐 및 배관 등에는 스컴성 스케일(scum scale)이 생성되는데, 이런 것들은 깨끗이 제거되어야 장비의 수명이 증가하고 감광성필름(DFR:Dry Film Photoresist)의 현상 효율도 향상된다.In addition, a thermosetting resin such as an acrylic resin and an inorganic salt chemical used as a developer are mixed in the development process of the PCB manufacturing process to generate a scum scale in the developing tank and related nozzles and pipes. They must be cleaned to increase the life of the equipment and to improve the development efficiency of the dry film photoresist (DFR).

아울러 현상조(DFR조) 뿐만 아니라, 수지제품이나 전자제품 제조와 관련된 각종 장치나 설비, 그리고 시설들은 깨끗하게 세정하거나 세척되어야 제품의 질을 높이고 불량률도 개선할 수 있으며, 이를 위해 세정제나 세척제 등이 수시로 쓰이게 되는 것이다.In addition to the development tank (DFR), various devices, equipment, and facilities related to the manufacture of resin products or electronic products should be cleaned or cleaned to improve the quality of products and to improve the defect rate. It is often used.

여기서 세정이나 세척과 관련된 종래의 몇몇 문헌을 살펴본다.Here we look at some of the conventional literature relating to cleaning or cleaning.

[문헌 1] 대한민국 특허출원 제2005-14317호(발명의 명칭:아민옥사이드계 계면활성제 및 이를 함유한 세정제 조성물), KR 10-2006-0093471 A 2006.08.25.[Patent 1] Korean Patent Application No. 2005-14317 (name of the invention: an amine oxide surfactant and a cleaning composition containing the same), KR 10-2006-0093471 A 2006.08.25.

[문헌 2] 대한민국 특허출원 제2003-83797호(발명의 명칭:에멀젼을 포함한 형광막 선별 세정용 세척제 및 조성물), KR 10-2005-0050004 A 2005.05.27.[Patent 2] Republic of Korea Patent Application No. 2003-83797 (name of the invention: cleaning agent and composition for cleaning fluorescent membrane screening including emulsion), KR 10-2005-0050004 A 2005.05.27.

상기 [문헌 1]에는 개선된 마일드성(mildness)을 가지면서 세정력과, 섬유유연 효과 및 대전방지 효과를 모두 가지고 있어 세정제에 사용 가능한 디알킬 아미드 사슬(di-alkyl amide chain)을 가지는 아민 옥사이드(amine oxide)형 계면활성제 및 이를 이용한 세정제 조성물에 관한 기술 내용이 기재되어 있다.In [Document 1], an amine oxide having a dialkyl amide chain (di-alkyl amide chain) which can be used for cleaning agents having both mild cleaning property, fiber softening effect, and antistatic effect has improved mildness. A description is made of an amine oxide type surfactant and a cleaning composition using the same.

그리고 [문헌 2]에는 형광막 공정과 에멀젼막 공정에서 불량이 발생된 막을 선별 제거하는 세척제와 이를 포함한 세척 조성물 및 이를 이용한 에멀젼을 포함한 형광막 재생 방법에 관한 것으로서, [문헌 2]의 불량막 선별 세정용 세척제는 술폰산 나트륨 크실렌(Sodium xylenesulfonate), 이디티에이 사엔에이(EDTA-4Na), 프로필렌 글리콜(propyleneglycol) 및 트리에탄올 아민(Triethanol amine)을 포함하여 구성되며, 디스플레이 장치의 형광막 제조시 발생된 불량막을 선별 세정하여 중간막을 재생하는 공정에서 사용되는 선별 세정용 조성물은, 순수 50% 내지 60%, 과산화수소수 30% 내지 50%, 암모니아수 1% 내지 2%, 및 상기 세척제(KCRUKA#R-300) 2% 내지 5%를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하고 있다.In addition, [Document 2] relates to a cleaning agent for screening out and removing a defective film from a fluorescent film process and an emulsion film process, a cleaning composition including the same, and a fluorescent film regeneration method including an emulsion using the same. The cleaning agent comprises sodium xylenesulfonate, EDTA-4Na, propyleneglycol, and triethanol amine. The selective cleaning composition used in the process of selectively washing the membrane to regenerate the interlayer includes 50% to 60% pure water, 30% to 50% hydrogen peroxide, 1% to 2% ammonia water, and the cleaning agent (KCRUKA # R-300). It is characterized by including 2% to 5%.

하지만 종래의 세척 또는 세정 용제들은 사용과정에서 현상조 등에 손상을 주는 것이 다반사이다. 일반적으로 세정이나 세척을 해 주어야 하는 장치나 설비, 그리고 시설들 중에는 아크릴(Acryl)이나 PVC 재질로 된 경우가 많은데, 세척제 또는 세정제로 인해 기본 용기인 조(Bath)에 손상을 주는 것이다.However, conventional cleaning or cleaning solvents are a common reflection to damage the developing tank in use. In general, some of the equipment, equipment, and facilities that need to be cleaned or cleaned are made of acrylic or PVC, and the cleaning agent or cleaning agent damages the basic container bath.

더불어, 세정을 밀도있게 수행하기 위해서는 완전히 용해시키는 것이 중요한데, 종래의 세척 또는 세정 용제는 대부분 용해가 아닌 박리의 개념을 기본으로 하고 있어서, 장치나 설비 및 시설 등에 손상을 입히고 결국 완성된 제품의 불량률을 높이게 된다.In addition, it is important to dissolve completely in order to perform the cleaning in a dense manner. Conventional cleaning or cleaning solvents are based on the concept of peeling rather than dissolving, which causes damage to devices, facilities, and facilities, and eventually the defective rate of the finished product. Will increase.

또한 종래의 제품은 에테르계(ether계, ether류)의 유기성 솔벤트(organic solvent)와 수지 및 스컴류의 스케일(scale) 제거를 위해 산(acid) 물질을 기본으로 하며, 이때 기본물질로 사용하는 산(acid) 물질군은 무기산류의 염산, 황산, 질산, 초산, 개미산 등의 물질을 이용하는 것이 가능하고, 대부분 황산 또는 질산을 쓴다. 이중에서도 특히 상당수의 제품군에서 질산을 기본물질(베이스)로 이용하며 이런 류의 제품군은 사용 후 폐액처리 시 사용한 세정제 등을 고려하여 적절한 폐수처리 방법으로 처리하게 되는데, 이때 질산에서 나온 질산성 질소는 환경규제물질로 처리가 잘 되지 않아 폐수처리에 어려움이 많다.In addition, the conventional product is based on the organic solvent (ether-based, ether type) of organic solvent (acid solvent) and the acid (acid) material to remove the scale of the resin and scum, which is used as a base material The acid substance group can use substances such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, formic acid and the like of inorganic acids, and mostly use sulfuric acid or nitric acid. In particular, a large number of products use nitric acid as a base material (base), and this type of product is treated by an appropriate wastewater treatment method in consideration of the detergent used in the waste liquid treatment after use. It is difficult to treat wastewater because it is not treated well with environmental regulations.

아울러 종래의 세척 또는 세정 용제는 사용 과정에서 환경 오염 물질을 발생시키고, 앞서 제시한 [문헌 1] 및 [문헌 2]에도 기술되어 있듯이, 특히 아민계(아민류,Amine) 화합물을 기초로 하는 세척 또는 세정 용제는 유해한 환경 물질들을 많이 포함하고 있다.In addition, conventional washing or cleaning solvents generate environmental pollutants in the process of use, and as described in the above-mentioned [Document 1] and [Document 2], in particular, washing or cleaning based on amine-based (amine) compounds. Cleaning solvents contain many harmful environmental substances.

뿐만 아니라, 세정제의 조제 시 계면활성제를 포함하고 있는 경우도 다반사인데, 이렇게 되면 세척이나 세정이 필요한 각종 장치나 설비의 세척이나 스케 일(scale) 제거 시 거품이 많이 발생되므로 작업시간도 많이 소요되고 환경문제를 일으키는 문제점까지 안고 있다.In addition, the preparation of the cleaning agent includes a surfactant that is often reflected. In this case, since a lot of bubbles are generated when washing or descaling various devices or facilities that require cleaning or cleaning, a lot of working time is required. It also has problems that cause environmental problems.

또한, 이러한 성분들이 포함되어 조성됨으로 인해 종래의 제품은 장치나 설비의 세척이나 세정 시 세척력을 높이기 위해 온도를 40~50℃로 가온해 주는 것이 요구되어 지며, 이는 제품 사용시 산성가스(acid fume)의 발생을 높이는 원인이 되기도 함으로써 산성가스(산가스)가 노즐이나 배관을 부식시키게 되고 2차 오염의 주된 원인이 된다.In addition, since these ingredients are included, the conventional product is required to warm the temperature to 40 ~ 50 ℃ to increase the cleaning power when cleaning or cleaning the device or equipment, which is acid fume when using the product In some cases, acid gas (acid gas) may corrode nozzles or pipes, and may be a major cause of secondary pollution.

따라서, 상기 선행기술의 세정제들은 PCB 제조 공정 중 현상과정에서 아크릴 수지 등의 열경화성 수지와 현상액으로 사용하는 무기염 약품이 혼합되어 사용되는 현상조 및 이와 관련된 노즐과 배관 등에 생기게 되는 수지조성물 스컴성 스케일을 세정하는데 바람직하지 않은 문제점이 있는 것이다.Accordingly, the cleaning agents of the prior art have a resin composition scum scale generated in a developing tank and a nozzle and a pipe related thereto, which are mixed with a thermosetting resin such as an acrylic resin and an inorganic salt chemical used as a developing solution during a development process of a PCB manufacturing process. There is an undesirable problem in cleaning.

본 발명은 무기염 약품에 의해서 현상조 내부 및 노즐 등에 생성 축적되는 수지조성물 스컴성 스케일 제거에 있어 강력한 용해력을 가지면서도 세정제에 의한 부식 위험이 없고 세정작업성이 매우 좋은 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제를 제공하려는데 그 목적이 있는 것이다.The present invention has a strong solvent in removing resin composition scum composition scales generated and accumulated in developing tanks and nozzles by inorganic salt chemicals, but does not have a risk of corrosion by the cleaning agent and has excellent cleaning workability. The purpose is to provide a cleaner.

본 발명의 다른 목적은, 아민류 물질 및 계면활성제 성분과 같은 환경유해물질을 전혀 이용하지 않고도 강력한 세정력을 발휘할 뿐만 아니라 환경오염을 미연에 방지할 수 있어 친환경적이고, 세정 유효성분이 소진될 때까지 재사용이 가능하여 경제성을 가짐으로써 세정비용을 크게 절감시킬 수 있도록 하려는데 있다.Another object of the present invention is not only to exhibit a strong cleaning power without using any environmentally harmful substances such as amines and surfactant components, but also to prevent environmental pollution in advance, it is environmentally friendly, and reused until the cleaning effective ingredient is exhausted. It is intended to be able to significantly reduce the cleaning cost by having economic feasibility.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 수지조성물 스컴성 스케일 제거 세정제는, 글리콜에테르계 성분물질 15~65 중량%와, 유기산 성분물질 10~35 중량%와, 물 25~50 중량%를 포함하여 조성된다.The resin composition scum descaling detergent of the present invention for achieving the above object comprises 15 to 65% by weight of a glycol ether component, 10 to 35% by weight of an organic acid component, and 25 to 50% by weight of water. It is created.

이 경우 본 발명의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는, 아민계(아민류) 물질성분을 포함하지 않고 조성되는 것이 중요하다.In this case, it is important that the resin composition scum descaling detergent of the present invention is formulated without including an amine (amine) substance component.

아울러 본 발명의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제에 있어, 상기 글리콜에테르계 성분물질은, 에틸렌글리콜_모노에틸에테르, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜_메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜_모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜_모노메틸에테르, 에틸렌글리콜_모노부틸에테르, 프로필렌글리콜_모노알킬에테르, 프로필렌글리콜_모노프로필에테르 중 어느 하나 이상을 포함하는 특징을 갖는다.In addition, in the resin composition scum-scale scrubbing agent of the present invention, the glycol ether component material is ethylene glycol _ monoethyl ether, butyl carbitol, propylene glycol _ methyl ether acetate, dipropylene glycol _ monoethyl ether, tri Ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, and propylene glycol monopropyl ether.

또한 상기 유기산 성분물질은 아세트산(acetic acid), 옥살산(oxalic acid), 설파민산(sulfamic acid), 글리콜산(hydroxy acetic acid), 프로피온산(propionic acid), 살리신산(salicylic acid), 시트르산(citric acid), 말산(maric acid), 소빅산(sorbic acid) 중 어느 하나 이상을 포함하는 특징을 갖는다.In addition, the organic acid component is acetic acid (oxalic acid), oxalic acid (oxalic acid), sulfamic acid (sulfamic acid), glycolic acid (hydroxy acetic acid), propionic acid (propionic acid), salicylic acid (salicylic acid), citric acid (citric acid) ), Malic acid (maric acid), sobic acid (sorbic acid) has a characteristic comprising any one or more.

따라서 앞서 살핀 특징으로 조성 또는 조제되는 본 발명의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는 다음과 같은 중요한 효과를 나타낸다.Therefore, the scum-based scrubbing agent of the resin composition of the present invention, which is previously formulated or prepared by the salping character, has the following important effects.

먼저, 페놀류, 벤젠계 화합물, N-헥세인, TCE(Tri Chloro Ethylene) 및 클 로로계 화합물들의 유해물질을 포함하고 있지 않으며, 특히 아민계 물질이나 계면활성 물질 등을 사용하지 않아 기존의 아민계 물질을 이용한 제품에서 나는 독성 높은 냄새가 적고, 추가적인 2차 오염까지도 방지할 수 있어 환경오염을 줄이는 높은 친환경성을 나타낸다.First, it does not contain harmful substances such as phenols, benzene compounds, N-hexane, Tri Chloro Ethylene (TCE) and chloro-based compounds. The product has a high toxic smell with less toxic smell and can prevent additional secondary pollution, thus reducing environmental pollution.

둘째, 각종 장치나 설비, 현상조 내부 및 노즐 등에 생성 축적되는 수지성 스케일 제거시 불편없이 사용하는 것이 가능하며 상온에서도 뛰어난 세정력을 나타낸다. 아울러 가온 사용시에도 산가스가 발생되지 않아 금속으로 된 기계설비 및 장치, 그리고 PCB 동판제품에도 2차적인 부식의 위험요소가 현격히 줄어든다.Second, it is possible to use without inconvenience when removing the resinous scale generated and accumulated in various devices, facilities, developing tanks, nozzles, etc., and shows excellent cleaning power even at room temperature. In addition, acid gas is not generated during warming, which significantly reduces the risk of secondary corrosion in metal machinery and equipment, and PCB copper plate products.

셋째, 세척력 및 침투력이 강력하여 세척 후 현상조 및 노즐 등에서 떨어져 나온 수지성 스케일을 강력하게 용해하여 오염도를 현저하게 줄여주며 현상 장비에 손상을 주지 않는다.Third, it has strong cleaning and penetrating power, so it dissolves the resin scale from the developing tank and nozzle after washing so that it significantly reduces pollution and does not damage the developing equipment.

넷째, 아민계 물질이나 계면활성 물질 등이 포함되어 있지 않아 거품의 발생을 줄이고 작업시간을 단축시키며 따라서 근로자의 작업여건 및 환경을 개선하는 효과도 제공한다.Fourth, it does not contain amine-based materials or surfactants, reducing the occurrence of bubbles and shortening the working time, thus providing the effect of improving the working conditions and environment of workers.

다음으로, 본 발명의 세정제에 함유되어 있는 유효성분이 소진될때까지 연속적으로 반복 사용(3~4회 정도)이 가능하며 이로 인한 세정비용이 종래에 비해 적게 들어 매우 경제적일 뿐만 아니라 대내외적인 경쟁력을 향상시킬 수 있는 효과를 제공하게 되는 것이다.Next, it can be used repeatedly (about 3 to 4 times) continuously until the active ingredient contained in the cleaning agent of the present invention is exhausted. As a result, the cleaning cost is less than that of the conventional one, which is very economical and improves internal and external competitiveness. It will provide a possible effect.

본 발명의 일실시예에 따른 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제를 보 다 상세히 설명하면 다음과 같다.If more detailed description of the resin composition scum descaling detergent according to an embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 수지조성물 스케일 제거용 세정제는, 글리콜에테르계 성분물질 15~65 중량%와, 유기산 성분물질 10~35 중량%와, 물 25~50 중량%를 포함하여 조성된다.The cleaning agent for scale removal of the resin composition according to the present embodiment is composed of 15 to 65% by weight of a glycol ether component, 10 to 35% by weight of an organic acid component, and 25 to 50% by weight of water.

본 발명의 이해를 돕기 위해 종래의 세정제에 포함하고 있는 아민(amine)은 이미 주지되는 바와 같이 암모니아로부터 유도되는 질소를 포함한 유기화합물로서, 암모니아 중의 수소원자를 탄화수소가 치환하여 얻는 화합물의 총칭이다.The amine included in the conventional detergent for the purpose of understanding the present invention is an organic compound containing nitrogen derived from ammonia, as is already known, and is a generic term for a compound obtained by replacing a hydrogen atom in ammonia with a hydrocarbon.

여기서 치환한 탄화수소기의 수에 따라서 1차아민(R-NH2), 2차아민(R-NH-R), 3차아민(R3-N)으로 분류되는데, 탄화수소기가 모두 알킬기인 경우에는 지방족아민(Aliphatic amine)이라 하고 탄화수소기 중 1개 이상이 아릴기인 경우를 방향족아민(Aromatic amine)이라 하며 그 대표적인 것에는 아닐린이 있다. 아민은 할로겐화알킬과 암모니아를 반응시키는 방법, 니트로 화합물 니트릴 등을 환원시키는 방법, 산아미드에 브롬과 알칼리를 가해서 데우는 방법 등에 의해 제조할 수 있다.According to the number of hydrocarbon groups substituted here, it is classified into primary amine (R-NH 2 ), secondary amine (R-NH-R), and tertiary amine (R 3 -N). Aliphatic amine (Aliphatic amine) and when one or more of the hydrocarbon group is an aryl group is called an aromatic amine (Aromatic amine) and a typical one is aniline. An amine can be manufactured by the method of reacting alkyl halide and ammonia, the method of reducing nitro compound nitrile, etc., the method of adding bromine and an alkali to an acid amide, and the like.

먼저, 메틸아민 등 저급 지방족아민은 동식물체가 썩을 때 생긴다. 저급 지방족아민은 암모니아와 비슷한 냄새가 나며 물에 녹으나 고급인 것일수록 냄새가 약해진다. 방향족 아민은 물에 잘 녹지 않는 액체 또는 고체이며 특유한 냄새가 난다. 지방족 아민은 암모니아 비슷한 약한 염기성을 보이며 방향족아민은 더 약한 염기성을 보인다. 또 이 염기성 때문에 산과 반응하여 염을 만드는데 이들 염을 암모늄염이라고 한다.First, lower aliphatic amines, such as methylamine, are produced when plants and animals decay. Lower aliphatic amines smell like ammonia and are soluble in water, but the higher the odor, the weaker the smell. Aromatic amines are liquids or solids that are insoluble in water and have a characteristic odor. Aliphatic amines show weak basicity similar to ammonia and aromatic amines show weaker basicity. Because of this basicity, they react with acids to form salts. These salts are called ammonium salts.

이러한 아민은 공업적으로도 고무·염료·제약품·합성수지·섬유 등 적용범위가 매우 다양하며, 수지가 물에 녹는 수용성을 높이기 위하여 아민(amine)류가 들어 가는 것이 대부분이다.Industrially, such amines have a wide range of applications such as rubber, dyes, pharmaceuticals, synthetic resins, and fibers, and most of them contain amines to increase water solubility.

그러나 이러한 아민은 피부, 점막에 대하여 강한 자극성을 나타내고 피부로부터도 용이하게 흡수되고, 두통, 오심(惡心), 불안감, 실신 등의 전신증상은 물론 흡입하는 양이 많게되면 코, 인두점막, 기관, 기관지를 자극해서 기침을 일으켜 호흡곤란을 유발하며, 휘발성이 높은 아민은 그 증기가 눈을 자극하여 눈물을 나게 하여 결막염, 어막부종(魚膜浮腫)을 일으킨다.However, these amines have strong irritation to the skin and mucous membranes, and are easily absorbed from the skin, and systemic symptoms such as headaches, nausea, anxiety, and fainting, as well as inhalation of the nose, pharyngeal mucosa and organs. It stimulates the bronchus, causing coughing, causing respiratory distress, and the highly volatile amine causes the vapor to irritate the eyes, causing tears, resulting in conjunctivitis and membrane edema.

고농도를 증기는 직접피부를 자극해서 화학피부염을, 피부를 감작하는 일에 의해서 이차적으로 피부염을 일으키는 일도 있다. 액체가 접촉하면 눈의 각막을 손상시켜 영구적인 시각장해가 올 경우가 많으며, 피부에는 화학화상을 일으킨다. 따라서, 아민 액상이 눈으로 들어가고, 피부에 접촉되었을 때는 즉각 흐르는 물로 씻어낼 필요가 있다. High concentrations of steam directly irritate the skin and cause chemical dermatitis and dermatitis secondary by sensitizing the skin. Contact with liquids can damage the cornea of the eye and result in permanent visual impairment, causing chemical burns on the skin. Therefore, when the amine liquid enters the eyes and comes into contact with the skin, it is necessary to rinse immediately with running water.

본 발명과 관련하여 살펴보면, 본 실시예의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는 아민계(아민류)물질 성분이 포함되어 있지 않다. 따라서 종래 아민계 물질성분이 포함된 세정제 또는 세척제는 독한 냄새를 풍기지만, 본 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는 이러한 독한 냄새를 풍기지 않아 근로자의 작업환경은 물론 건강한 생활도 영위할 수 있도록 해 준다.Looking at with respect to the present invention, the resin composition scum descaling detergent of the present embodiment does not contain the amine-based (amines) material component. Therefore, the conventional cleaning agent or cleaning agent containing an amine-based substance has a strong odor, but the resin composition scum descaling detergent does not emit such a strong odor so that the worker's working environment and healthy life can be maintained. give.

아울러 후술하는 과정에서 파악되겠지만, 본 실시예의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는 종래의 세정제에서 종래 통상적으로 포함되어 있는 계면활 성물질을 조성성분으로 하고 있지 않다.In addition, as will be understood in the process to be described later, the detergent for scum scale removal of the resin composition of the present embodiment does not include a surfactant as a composition component conventionally included in conventional cleaning agents.

세정제의 조제에 계면활성제가 포함되면 설비나 장치에 세척이나 스케일(scale) 제거 시 거품을 많이 발생시킨다. 이렇게 되면 작업자들로 하여금 세척작업을 힘들게 할 뿐만 아니라 작업시간도 길어지게 된다. 특히, 세정 후 거품을 제거하기 위하여 여러번 세척해 주어야 하므로 작업이 매우 번거롭고 힘든 작업에 해당되기 때문에 매우 비효율적이고 작업을 기피하는 현상으로까지 이어지고 있다.The inclusion of surfactants in the preparation of detergents creates a lot of foam during cleaning or descaling of equipment or equipment. This not only makes it difficult for the workers, but also lengthens the working time. In particular, since it is necessary to wash several times in order to remove bubbles after washing, the work is very cumbersome and difficult work, leading to very inefficient and avoiding work.

그러나 본 실시예의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는 세척작업시 거품 발생이 적고 환경오염도 줄이며 작업자들의 작업시간도 줄여주게 된다.However, the resin composition scum-based scrubbing agent of the present embodiment is less foaming during the cleaning operation, less environmental pollution and reduces the working time of workers.

다음, 본 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제를 조성하는 각각의 성분물질 각각 파악해 본다.Next, each component substance which comprises this resin composition scum descaling detergent is grasped | ascertained, respectively.

먼저, 글리콜에테르계 성분은 침투를 높이고 수지성 스케일을 거의 완전할 정도로 용해시킨다. 그리고 유기산 성분은 알칼리성 현상액 등을 염류성 스케일을 용해시킴과 동시에 수소이온농도(PH)를 조절한다.First, the glycol ether component enhances penetration and dissolves the resinous scale almost completely. The organic acid component dissolves the salt scale in an alkaline developer and adjusts the hydrogen ion concentration (PH).

본 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제를 조성함에 있어, 글리콜에테르계 성분물질, 유기산 성분물질은 한가지 뿐만 아니라 해당 성분의 어느 하나 이상을 포함하도록 추가하여 조성하는 것이 가능하다.In forming the present resin composition scum descaling detergent, the glycol ether component material and the organic acid component material may be added to include not only one but also any one or more of the corresponding components.

글리콜에테르계 성분물질로는, 에틸렌글리콜_모노에틸에테르, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜_메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜_모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜_모노메틸에테르, 에틸렌글리콜_모노부틸에테르, 프로필렌글리콜_모노알킬에테르, 프로필렌글리콜_모노프로필에테르 등에서 하나이상 선택될 수 있다.As the glycol ether-based substance, ethylene glycol _ monoethyl ether, butyl carbitol, propylene glycol _ methyl ether acetate, dipropylene glycol _ monoethyl ether, triethylene glycol, ethylene glycol _ monomethyl ether, ethylene glycol _ monobutyl One or more selected from ether, propylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monopropyl ether and the like.

그리고 유기산 성분물질로는, 아세트산(acetic acid), 옥살산(oxalic acid), 설파민산(sulfamic acid), 글리콜산(hydroxy acetic acid), 프로피온산(propionic acid), 살리신산(salicylic acid), 시트르산(citric acid), 말산(maric acid), 소빅산(sorbic acid) 등에서 선택될 수 있다.Organic acid components include acetic acid, oxalic acid, sulfamic acid, glycolic acid, propionic acid, salicylic acid and citric acid. acid), malic acid, sorbic acid, and the like.

다음은 각 성분물질 가운데 위에서 설명한 몇몇을 선택하여 조성한 하나의 바람직한 본 발명에 따른 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제의 조성 일실시예로서, 그 조성 성분을 자세히 살펴보면 다음과 같다. The following is a composition of the resin composition scum-based scrubbing agent according to one preferred embodiment of the present invention selected by selecting a few of the above described each component material, the composition of the components in detail as follows.

< 실시예 ><Example>

① 부틸카비톨[ 2-(2-butoxy ethoxy) ethanol ] 25 중량%,① Butyl carbitol [2- (2-butoxy ethoxy) ethanol] 25 wt%,

② 프로필렌글리콜_메틸에테르아세테이트[ propylene glycol methyl ether acetate ] 15 중량%,② 15% by weight of propylene glycol methyl ether acetate

③ 디프로필렌글리콜_모노메틸에테르[ DIpropylene glycol mono methyl ether ] 15 중량%,③ 15% by weight of dipropylene glycol mono methyl ether [DIpropylene glycol mono methyl ether]

④ 하이드록시_아세트산[ hydroxy acetic acid ] 10 중량%,④ 10% by weight of hydroxy acetic acid,

⑤ 설파민산[ sulfamic acid ] 10 중량%,⑤ 10 wt% sulfamic acid,

⑥ 물 35 중량%.⑥ 35% by weight of water.

본 조성 실시예에서는 글리콜에테르계 성분물질로 부틸카비톨, 프로필렌글리콜_메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜_모노메틸에테르를, 유기산 성분물질로 하이드록시_아세트산(hydroxy acetic acid), 설파민산(sulfamic acid)을 각각 채택하고 있는 경우를 나타내고 있다. 상기와 같이 해당 성분을 갖는 물질을 필요에 따라 선택하여 조성하는 경우, 보다 세정률이 뛰어난 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제를 조성할 수 있다.In this composition example, butyl carbitol, propylene glycol _methyl ether acetate, dipropylene glycol _ monomethyl ether as glycol ether component materials, hydroxy acetic acid and sulfamic acid as organic acid components. ) Shows the case where each is adopted. As described above, when a substance having the component is selected and selected as necessary, a resin composition scum descaling agent having a higher cleaning rate can be formed.

위와 같이 조성된 본 실시예의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는 특별한 색을 띠지 않는 무색 혹은 무색에 가까울 정도의 투명성이 강한 액상이며, 상온을 20℃ 기준으로 했을 때, 그 비중은 1.04±0.03, 수소이온농도(PH)는 1.2±0.7 정도의 특징을 나타낸다.The resin composition scum descaling detergent of the present embodiment, prepared as described above, is a colorless or colorless liquid with a high transparency close to no color, and its specific gravity is 1.04 ± 0.03 when the room temperature is 20 ° C. Hydrogen ion concentration (PH) is characterized by 1.2 ± 0.7.

또한, 상기 실시예 이외에도 본 발명의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제의 기술성과 효과를 높이기 위해 아래와 같이 다양한 성분비율을 갖는 조성예들을 조성하고 세정실험, 산가스 발생 여부, 악취 여부, 환경오염 여부, 수세시 잔존물 여부, 산가스 2차오염 여부 등을 실험하여 보았다.In addition to the above embodiments, in order to enhance the technical properties and effects of the resin composition scum-based scrubbing agent of the present invention, a composition example having various component ratios is prepared and washing experiments, acid gas generation, odor, environmental pollution, etc. In addition, experiments were conducted on the presence of residues at the time of washing and the secondary pollution of acid gas.

* 조성예1> 글리콜에테르계 물질성분에 질산*을 질량비 15중량% 첨가하여 조제.Composition Example 1 Prepared by adding 15% by weight of nitric acid * to a glycol ether-based material component.

* 조성예2> 글리콜에테르계 물질성분에 염산*을 질량비 15중량% 첨가하여 조제.Composition Example 2 Prepared by adding 15% by weight of hydrochloric acid * to the glycol ether-based material component.

* 조성예3> 글리콜에테르계 물질성분에 황산*을 질량비 15중량% 첨가하여 조제.Composition Example 3 Formulated by adding 15% by weight of sulfuric acid * to a glycol ether material component.

* 조성예4> 글리콜에테르계 물질성분에 글리콜산*을 질량비 15중량% 첨가하여 조제.Composition 4 Preparation by adding glycolic acid * 15% by weight to a glycol ether material component.

* 조성예5> 에테르계:글리콜산:아민계 = 55 : 15 : 30 중량%비율로 조제.Composition Example 5 Ether based: glycolic acid: amine based: 55: 15: 30 wt%.

* 조성예6> 에테르계:글리콜산:다른 에테르계물질 = 55 : 15 : 30 중량%비율로 조제.Composition Example 6 Ether: Glycolic acid: Other ether-based material = 55: 15: 30% by weight.

* 조성예7> 에테르계:글리콜산:계면활성제 = 80 : 15 : 5 중량%비율로 조제.Composition Example 7 Ether based: glycolic acid: surfactant = 80: 15: Prepared at 5% by weight.

Figure 112008011516376-PAT00001
Figure 112008011516376-PAT00001

위의 실험결과 본 발명의 실시예로 될 수 있는 조성예들 중, 4번 조성예와 6번 조성예가 다른 실시예들에 비해 세정효율이 양호하고 산가스 및 악취 발생이 없으며 환경오염 및 산가스 2차 오염이 없고 수세시 잔존물이 없는 좋은 결과를 나타내고 있으며, 종래와 같은 세정제에서 사용하는 아민류가 첨가된 5번 조성예를 살펴보면 실험결과가 세정효율은 양호하나 산가스 및 악취가 많이 발생하고 환경오염 및 산가스 2차 오염이 따르는 것을 알 수 있으며, 계면활성제를 첨가한 7번 조성예는 수세상태가 좋지 않은 결과를 보이고 있기 때문에 본 발명에 따른 세정제가 양호한 세정을 도모할 수 있으면서도 산가스와 악취가 발생되지 않고 수세시 거품과 같은 잔존물이 전혀 없을 뿐만 아니라 환경오염 및 산가스에 의한 부식과 같은 2차 오염을 주지 않게 되는 세정제임을 알 수 있는 것이다.As a result of the above experiment, the composition examples 4 and 6 of the composition examples that can be an embodiment of the present invention, the cleaning efficiency is better than the other embodiments, there is no acid gas and odor generation, environmental pollution and acid gas It shows good results without secondary pollution and no residue when washed. When looking at the composition No. 5 in which amines used in the conventional cleaning agents were added, the experimental results showed good cleaning efficiency, but generated a lot of acid gases and odors. It can be seen that pollution and acid gas secondary pollution are caused. In the seventh composition example in which the surfactant is added, the water washing state shows a poor result, so that the cleaning agent according to the present invention can achieve good cleaning, There is no odor and no residue such as foam at the time of washing, and no secondary pollution such as environmental pollution and corrosion by acid gas. Is to know that the cleaner.

따라서, 본 실시예의 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제를 이용하여 현상조를 세정하는 일례를 설명한다.Therefore, an example in which the developing tank is cleaned using the resin composition scum descaling detergent of the present embodiment will be described.

㉮ 먼저, 현상조 내의 현상액이나 물을 호스 등으로 완전히 빼낸다.㉮ First, completely remove the developer or water in the developing tank with a hose or the like.

㉯ 현상조의 오염된 부분 최상부까지 상기 조성물을 투입한다.상기 Inject the composition to the top of the contaminated part of the developing bath.

㉰ 상기 조성물을 펌프로 순환시킨다.㉰ The composition is circulated by a pump.

㉱ 30분 정도 순환시킨 다음, 뚜껑을 열어 오염이 제거되었는지 확인하고 오염이 완전히 제거되지 않고 남아 있을 경우에는, 한번 더 30분 정도 다시 순환시키고 오염이 완전히 제거되었는지 확인하여 오염이 남아 있지 않을 경우에 상기 조성물을 드럼으로 다시 넣는다.순환 After 30 minutes of circulation, open the lid to confirm that the contamination has been removed, and if the contamination has not been completely removed, circulate again for another 30 minutes and make sure that the contamination has been completely removed. The composition is put back into the drum.

㉲ 현상조에 물을 채우고 10분 정도 순환시킨 다음, 용액을 폐수 처리한다(알칼리계 폐수로 처리).㉲ Fill the developing tank with water, circulate for 10 minutes, and then treat the solution with wastewater (alkali wastewater).

㉳ 물을 한번 더 채우고 20분 정도 순환시킨다.채우 Fill with water and circulate for 20 minutes.

㉴ 마지막으로 한번 더 물을 채우고 30분 정도 순환하고 배수함으로써 세정 작업을 완료하게 된다.㉴ Finally, fill the water once more, circulate 30 minutes and drain to complete the cleaning process.

상기와 같은 세정작업은 일관되고 간편 용이할 뿐만 아니라 거품이나 냄새가 거의 발생 되지 않기 때문에 작업 근로자의 작업환경이 개선되고 양호한 상태가 됨으로써 작업효율이 높고 향상되는 것이다.The cleaning operation as described above is not only easy and consistent, but also generates little foam or odor, so that the working environment of the working worker is improved and brought to a good state, thereby increasing the work efficiency and improving the work environment.

그리고 본 발명에 따른 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제는 상기의 실시예에 한정되지 않고 각각 유사한 특성을 나타내는 성분물질을 일정 비율에 따라 조성하는 것이 가능 하는 등, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 다양하게 변형하여 조성하는 것이 가능하며, 이러한 다양한 실시예들은 본 발명의 권리범위에 속한다고 할 것이다.And the resin composition scum descaling cleaning agent according to the present invention is not limited to the above embodiments, it is possible to formulate a component material exhibiting similar characteristics, respectively, according to a certain ratio, such as the general knowledge in the field of the present invention Those with a variety of modifications can be made, and these various embodiments will be said to belong to the scope of the present invention.

Claims (4)

글리콜에테르계 성분물질 15~65 중량%와, 15 to 65% by weight of a glycol ether component, 유기산 성분물질 10~35 중량%와,10-35% by weight of organic acid components, 물 25~50 중량%를 포함하여 조성되는 것을 특징으로 하는 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제.A resin composition scum-based scrubbing agent, comprising 25 to 50% by weight of water. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 아민계 및 계면활성제 물질성분을 포함하지 않고 조성되는 것을 특징으로 하는 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제.A resin composition scum descaling cleaner, comprising: an amine-based and surfactant-free component. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 글리콜에테르계 성분물질은 에틸렌글리콜_모노에틸에테르, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜_메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜_모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜_모노메틸에테르, 에틸렌글리콜_모노부틸에테르, 프로필렌글리콜_모노알킬에테르, 프로필렌글리콜_모노프로필에테르 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제.The glycol ether component material is ethylene glycol _ monoethyl ether, butyl carbitol, propylene glycol _ methyl ether acetate, dipropylene glycol _ monoethyl ether, triethylene glycol, ethylene glycol _ monomethyl ether, ethylene glycol _ monobutyl ether And a propylene glycol monoalkyl ether or a propylene glycol monopropyl ether. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 유기산 성분물질은 아세트산(acetic acid), 옥살산(oxalic acid), 설 파민산(sulfamic acid), 글리콜산(hydroxy acetic acid), 프로피온산(propionic acid), 살리신산(salicylic acid), 시트르산(citric acid), 말산(maric acid), 소빅산(sorbic acid) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 수지조성물 스컴성 스케일 제거용 세정제.The organic acid component is acetic acid, oxalic acid, sulfamic acid, glycolic acid, hydroxy acetic acid, propionic acid, salicylic acid, citric acid ), Malic acid (maric acid), sobic acid (sorbic acid) any one or more of the scum composition descaling detergent for the resin composition.
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