KR20090081761A - 파장 필터, 그의 제조하는 방법 및 그를 구비한 전자 장치 - Google Patents

파장 필터, 그의 제조하는 방법 및 그를 구비한 전자 장치 Download PDF

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박주도
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이홍식
이기동
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Abstract

본 발명은 파장 필터, 그의 제조하는 방법 및 그를 구비한 전자 장치에 관한 것으로, 관통홀들의 주기(T)와 폭(G) 그리고 금속 패턴의 선폭(W) 및 높이(H) 등을 조절하여 투과되는 특정 파장 대역을 제어할 수 있어 다양한 파장 필터를 제조할 수 있는 장점이 있다.
그리고, 본 발명은 투명 기판 상부에 있는 금속 패턴의 관통홀들 내부에 투명 기판과 굴절률이 동일하거나 또는 큰 물질을 충진하여, 투과되는 특정 파장의 투과율을 향상시킬 수 있으므로, 특성을 우수하게 할 수 있는 것이다.
더불어, 본 발명은 레이저 간섭 리소그래피 공정을 이용하여 나노 크기의 금속 패턴을 쉽게 제조할 수 있어, 파장 필터의 제조 비용을 줄일 수 있는 장점이 있다.
발광, 주결정면, 경사, 평탄, 성장

Description

파장 필터, 그의 제조하는 방법 및 그를 구비한 전자 장치 { Wavelength filter, method for fabricating thereof and electronic apparatus with the same }
본 발명은 제조 비용을 줄이고 생산 수율을 증가시키며, 특성을 향상시킬 수 있는 파장 필터, 그의 제조하는 방법 및 그를 구비한 전자 장치에 관한 것이다.
파장 필터는 입사된 광을 특정 파장의 광으로 필터링하는 것으로, 최근 액정 표시 장치 및 이미지 센서 등의 장치에서 파장 필터로 컬러 필터가 사용되고 있다.
먼저, 액정 표시장치는 액정 분자의 광학적 이방성과 복굴절 특성을 이용하여 화상을 표현하는 장치이다.
액정 표시장치는 전계 생성 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고, 두 기판 사이에 액정 물질을 주입하여 제조된다.
이런 액정 표시장치는 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 상기 액정 분자 배열을 변경시키고, 이를 통하여 투명 절연 기판에 투과되는 빛의 양을 조절함으로써, 원하는 화상을 표현하게 된다.
이러한 액정 표시장치는 각 액정 화소 상에 배치된 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 컬러필터층을 투과해 나오는 빛의 가법 혼색을 통해 컬러 화면이 만들어진다.
그리고, CCD 및 CMOS 등의 이미지 센서에 사용되는 컬러필터는 적외선 영역의 빛을 제거함으로써, 가사광선 영역의 투과를 상대적으로 향상시켜 색재현성 및 색분리도를 우수하게 하는 것이다.
도 1은 종래 기술에 따라 컬러 필터가 형성된 이미지 센서의 단면도로서, 실리콘 기판(10) 위에 포토다이오드(20)가 형성되어 있고, 층간 절연막(30) 및 복수의 금속 배선(40) 상부에 녹색(50), 적색(60), 청색(70)의 컬러 필터 어레이와 마이크로 렌즈(80)가 형성되어 있다.
이미지 센서는 디지털 카메라에 많이 사용되고 있으며, 광학 신호를 전기적인 신호로 바꾸어주는 역할을 한다.
이러한 이미지 센서는 이미지의 색 정보를 얻기 위해서 컬러 필터가 필요로 한다.
더불어, 컬러 필터는 디스플레이에도 적용되고 있고, 다양한 전자 장치에 활용되어 있다.
이런, 컬러 필터의 제조 방법으로는 고급 전자 빔 리소그래피 방식으로 다양한 형태의 필터 제작이 가능하지만 고가 장비로 인한 비용 상승과 제조 수율이 낮 아 생산성이 저하되는 단점이 있다.
본 발명은 제조 비용 상승 및 생산 수율이 낮아지는 문제를 해결하는 것이다.
본 발명의 바람직한 양태(樣態)는,
투명 기판과;
상기 투명 기판 상부에 형성되며, 열(列)과 행(行)으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴으로 구성된 파장 필터가 제공된다.
본 발명의 바람직한 다른 양태(樣態)는,
투명 기판 상부에 금속막 및 감광막을 순차적으로 형성하는 단계와;
상기 감광막을 레이저 간섭 리소그래피 공정을 수행하여, 열과 행으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 패턴으로 노광시키는 단계와;
상기 감광막을 현상하여 마스크 패턴을 형성하는 단계와;
상기 마스크 패턴으로 상기 금속막을 식각하여 열과 행으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴이 형성하는 단계로 이루어진 파장 필터의 제 조 방법이 제공된다.
본 발명의 바람직한 또 다른 양태(樣態)는,
광을 출사하며, 출사된 광의 특정 파장을 투과시키는 파장 필터가 설치되어 있는 전자 장치에 있어서,
상기 파장 필터는,
투명 기판과;
상기 투명 기판 상부에 형성되며, 열(列)과 행(行)으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 파장 필터를 구비한 전자 장치가 제공된다.
본 발명은 관통홀들의 주기(T)와 폭(G) 그리고 금속 패턴의 선폭(W) 및 높이(H) 등을 조절하여 투과되는 특정 파장 대역을 제어할 수 있어 다양한 파장 필터를 제조할 수 있는 효과가 있다.
그리고, 본 발명은 투명 기판 상부에 있는 금속 패턴의 관통홀들 내부에 투명 기판과 굴절률이 동일하거나 또는 큰 물질을 충진하여, 투과되는 특정 파장의 투과율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 레이저 간섭 리소그래피 공정을 이용하여 나노 크기의 금속 패턴을 쉽게 제조할 수 있어, 파장 필터의 제조 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 파장 필터를 도시한 개략적인 사시도로서, 투명 기판(100)과; 상기 투명 기판(100) 상부에 형성되며, 열(列)과 행(行)으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴(110)으로 구성된다.
여기서, 상기 투명 기판(100) 상부에 상기 금속 패턴(110)의 산화를 방지하는 산화 방지막이 더 형성할 수 있다.
더 자세하게는, 상기 산화 방지막은 상기 금속 패턴(110)을 감싸고, 상기 투명 기판(100) 상부에 형성되어 있는 것이 바람직하다.
이때, 상기 산화 방지막은 상기 투명 기판(100) 상부와 금속 패턴(110)으로 이루어진 형상을 따라 형성되어 있을 수 있다.
이렇게 형성된 파장 필터는 상기 기판(100) 하부로 광이 입사되면, 상기 투명 기판(100)을 투과하고, 상기 투명 기판(100)에서 투과된 광이 상기 금속 패턴(110)을 통과할 때, 특정 파장의 광만 투과된다.
전술된 바와 같이, 열과 행으로 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 관통홀들이 형성된 금속 패턴(110)은 격자 형상으로 형성된 것이라 표현할 수 있다.
그리고, 열과 행으로 관통홀들이 형성되어 있는 것은 2차원으로 관통홀들이 형성되어 있는 것을 의미한다.
그러므로, 본 발명의 파장 필터는 관통홀들의 주기(T)가 입사되는 광 파장의 반 이하가 되면, 구조 복굴절률(Form birefringence)이 발생되어, 일정 이상의 파장에 대해서는 차단하고, 더 짧은 파장에 대해서는 투과하는 특성을 나타내어 특정 파장의 광을 투과할 수 있게 된다.
이와 같이, 본 발명의 파장 필터는 격자 형태, 즉, 관통홀들의 주기(T)와 폭(G) 그리고 금속 패턴의 선폭(W) 및 높이(H)에 따라 특정 파장 대역을 투과시킬 뿐만 아니라, 다양한 투과율을 얻을 수 있다.
여기서, 상기 관통홀들의 주기(T)는 투과시키는 파장 대역을 특정화시킬 수 있는 가장 중요한 제어 팩터(Factor)이다.
따라서, 본 발명은 관통홀들의 주기(T)와 폭(G) 그리고 금속 패턴의 선폭(W) 및 높이(H) 등을 조절하여 투과되는 특정 파장 대역을 제어할 수 있어 다양한 파장 필터를 제조할 수 있는 장점이 있다.
이하, 본 발명의 파장 필터가 투과되는 개념을 설명하면, 상기 투명 기판(100) 상부에 존재하는 금속 패턴은 상기 투명 기판(100)에서 투과되는 광을 반사한다.
이때, 관통홀들의 주기(T)가 입사되는 광 파장의 반 이하가 되면, 특정 파장은 상기 관통홀들을 통하여 투과되고 다른 파장은 상기 금속 패턴에서 반사된다.
여기서, 상기 관통홀들의 주기(T)는 200㎚ ~ 350㎚인 것이 바람직하다.
그리고, 상기 금속 패턴의 선폭(W)는 상기 관통홀들의 주기의 20 ~ 50%인 것 이 바람직하다.
한편, 도 6과 같이, 1차원적으로 배열되어 있는 선 격자 편광자(370)의 구조는 투명기판(371)과; 상기 투명기판(371) 상부에 상호 이격되어 배열되어 있는 복수개의 금속 와이어(372)로 구성된다.
상기 복수개의 금속 와이어(372)는 상호 이격되어 있으며, 평행하게 배열되어 있다.
그러므로, 입사되는 광의 파장보다 금속 와이어 배열의 주기(T)가 짧을 경우, 상기 선 격자 편광자(370)로 입사되는 광은 편광 성분에 따라 반사 및 투과한다.
세부적으로, 상기 금속 와이어(372)와 평행한 편광 성분인 'S파'는 반사되고, 수직한 편광 성분인 'P파'는 투과된다.
따라서, 도 6과 같은 1차원적으로 배열되어 있는 선 격자 편광자는 입사된 광이 특정 방향으로 편광되는 현상이 발생되나, 본 발명의 파장 필터는 2차원적으로 관통홀들이 배열되어 있는 금속 패턴을 구비하고 있어 편광 현상은 발생되지 않고, 특정 파장의 광만 투과된다.
도 3a와 3b는 본 발명에 따라 파장 필터의 금속 패턴에 형성되어 있는 관통홀의 형상을 설명하기 위한 개략적인 평면도로서, 금속 패턴에는 주기적인 관통홀들이 형성되어 있는바, 이 관통홀들은 도 3a와 같이, 횡단면이 사각형(120)이거나, 또는 도 3b와 같이, 횡단면이 원형(130)이다.
이때, 상기 관통홀들의 횡단면은 정사격형인 것이 바람직하다.
도 4a와 4b는 본 발명에 적용된 파장 필터의 금속 패턴에 형성되어 있는 관통홀의 형상에 따라 투과율을 측정한 그래프로서, 먼저, 도 4a는 원형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들이 형성된 금속 패턴에서 파장에 따른 투과율을 측정한 그래프이다.
그리고, 도 4a에서 주기적으로 형성된 원형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들의 피치(Pitch)가 220㎚인 금속 패턴에서 측정된 그래프는 'A'이고, 280㎚인 금속 패턴에서 측정된 그래프는 'B'이며, 340㎚인 금속 패턴에서 측정된 그래프는 'C'이다.
도 4a에 도시된 바와 같이, 관통홀들의 피치가 220㎚인 금속 패턴에서는 450㎚의 파장을 갖는 광이 투과율이 가장 높고, 관통홀들의 피치가 280㎚인 금속 패턴에서는 550㎚의 파장을 갖는 광이 투과율이 가장 높고, 관통홀들의 피치가 340㎚인 금속 패턴에서는 650㎚의 파장을 갖는 광이 투과율이 가장 높게 나타났다.
또한, 도 4b는 정사각형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들이 형성된 금속 패턴에서 파장에 따른 투과율을 측정한 그래프로, 주기적으로 형성된 정사각형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들의 피치(Pitch)가 220㎚인 금속 패턴에서 측정된 그래프는 'D'이고, 280㎚인 금속 패턴에서 측정된 그래프는 'E'이고, 340㎚인 금속 패턴에서 측정된 그래프는 'F'이다.
도 4b에서는, 관통홀들의 피치가 220㎚인 금속 패턴에서는 440㎚의 파장을 갖는 광이 투과율이 가장 높고, 관통홀들의 피치가 280㎚인 금속 패턴에서는 520㎚ 의 파장을 갖는 광이 투과율이 가장 높고, 관통홀들의 피치가 340㎚인 금속 패턴에서는 640㎚의 파장을 갖는 광이 투과율이 가장 높게 나타났다.
이와 같이, 원형 또는 정사각형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들이 형성된 금속 패턴에서 관통홀들의 피치에 따라 다른 파장 대역의 광을 투과시킬 수 있는 것이다.
그리고, 본 발명의 파장 필터는 가시광의 파장 대역만을 투과하는 것이 바람직하다.
또한, 도 4a와 도 4b를 비교해보면, 원형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들이 형성된 금속 패턴보다 정사각형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들이 형성된 금속 패턴에서 투과율이 높은 것을 알 수 있다.
그러므로, 정사각형의 횡단면 형상을 갖는 관통홀들이 형성된 금속 패턴을 갖는 파장 필터가 더 바람직한 것이다.
도 5a와 5b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 파장 필터를 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 도 5a의 파장 필터는 본 발명의 제 1 실시예를 도시한 것으로, 투명 기판(100)은 광이 투과될 수 있는 유리 기판을 사용한다.
그리고, 상기 투명 기판(100) 상부에는 금속 패턴(110)이 형성되어 있고, 이 금속 패턴(110)은 복수개의 관통홀들(115)이 주기적으로 형성되어 있다.
그러므로, 상기 금속 패턴(110)에 형성된 관통홀들(115) 내부로 상기 투명 기판(100)이 노출되고, 상기 관통홀들(115) 내부에는 공기가 존재하게 된다.
한편, 상기 투명 기판(100)을 투과한 광이 상기 관통홀들(115)로 빠져나갈 때, 상기 투명 기판(100)과 상기 관통홀들(115) 내부에 있는 공기의 경계면을 통과해야 한다.
이때, 상기 투명 기판(100)을 유리 기판으로 사용하는 경우, 유리 기판의 굴절률은 대략 1.5이고, 상기 관통홀들(115) 내부에 있는 공기의 굴절률은 대략 1.0이므로, 밀한 매질인 유리 기판에서 소한 매질인 공기로 광이 진행하게 된다.
그러므로, 임계각 이하로 진행하는 광(A)은 상기 투명 기판(100)과 상기 관통홀들(115) 내부에 있는 공기의 경계면을 통과하지만, 임계각 이상으로 진행하는 광(B)은 상기 투명 기판(100)과 상기 관통홀들(115) 내부에 있는 공기의 경계면에서 전반사된다.
따라서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 파장 필터는 투과된 광의 투과율을 향상시키는데 한계가 있다.
도 5b의 파장 필터는 본 발명의 제 2 실시예의 파장 필터를 도시한 것으로, 투명 기판(100) 상부에 있는 금속 패턴(110)의 관통홀들(115) 내부에 상기 투명 기판(100)과 굴절률이 동일하거나 또는 큰 물질(200)을 충진한다.
그러므로, 상기 투명 기판(100)을 투과한 광은 상기 투명 기판(100)과 상기 관통홀들(115) 내부에 충진되어 있는 물질(200)의 경계면에서 전반사되지 않고 통과하게 되어 투과율을 높일 수 있는 것이다.
여기서, 상기 금속 패턴(110)의 관통홀들(115) 내부에 충진된 물질(200)은 고분자인 것이 바람직하다.
도 7은 본 발명에 따라 레이저 간섭 리소그래피 공정을 설명하는 개념도로서, 레이저 간섭 리소그래피 공정을 수행하기 위한 장치는, 레이저를 출사하는 광원(400)과; 상기 광원(400)에서 출사된 레이저의 노출시간을 조정하는 전기 셔터(Electric Shutter)(420)와; 상기 전기 셔터(420)에서 조정된 레이저를 회절시켜서 회절무늬를 생성하는 빔 확장기(Beam Expander)(440)와; 상기 빔 확장기(440)에서 출력된 레이저를 평행하게 출사시키는 렌즈(450)로 구성된다.
그리고, 상기 광원(400)과 전기 셔터(420) 사이에 제 1 미러(410) 및 상기 전기 셔터(420)와 빔 확장기(440) 사이에 제 2 미러(430)를 설치할 수 있다.
또한, 상기 샘플이 장착되어 있는 스테이지(Stage)와 99%이상의 유전체의 반사 미러를 90도 각을 이루어 직교하도록 위치해 두면, 상기 렌즈를 통한 하나의 빔은 바로 샘플로 입사되고, 다른 빔은 반사 미러에서 반사되어 샘플로 향하게 되어, 두 개의 빔이 샘플에서 만나 간섭 현상이 일어나 그레이팅(Grating) 패턴을 형성하게 된다.
상기 그레이팅 패턴의 주기는 반사 미러에서 반사된 빔과 샘플로 직접 입사된 빔의 각도에 의해 결정된다.
결국, 간섭에 의한 그레이팅 패턴으로 샘플을 노광시킬 수 있는 것이므로, 간섭 패턴이 있는 광으로 상기 감광막을 노광하고 현상하여 마스크 패턴을 형성할 수 있게 된다.
그러므로, 본 발명에 따른 파장 필터를 제조하는 일례의 방법으로, 투명 기판 상부에 금속막을 형성하고, 상기 금속막 상부에 감광막을 형성하고, 상기 감광막을 전술된 레이저 간섭 리소그래피 공정을 수행하여, 열과 행으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 패턴으로 노광시킨 후, 상기 감광막을 현상하여 마스크 패턴을 형성한다.
그 다음, 상기 마스크 패턴으로 상기 금속막을 식각하면, 열과 행으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴이 형성되어, 파장 필터를 제조할 수 있는 것이다.
그러므로, 본 발명은 레이저 간섭 리소그래피 공정으로 제조 비용을 줄일 수 있는 장점이 있다.
도 8은 본 발명에 따른 파장 필터의 격자 형태에 따라 투과되는 광의 파장을 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 투명 기판(100) 상부에 열(列)과 행(行)으로 횡단면이 정사각형인 관통홀들(115)이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴(110)이 형성되어 있고, 이 관통홀들(115)의 폭(G), 금속 패턴(110)의 피치(P), 선폭(W)과 높이(H)에 따라 투과되는 광의 파장이 다르게 된다.
즉, 상기 관통홀들(115)의 폭(G), 금속 패턴(110)의 피치(P), 선폭(W)과 높이(H)를 다르게 하여, 투과되는 광의 파장을 측정한 결과,
상기 금속 패턴(110)의 피치(P)가 340㎚, 관통홀들(115)의 폭(G)이 230㎚, 금속 패턴(110)의 선폭(W)이 110㎚, 금속 패턴(110)의 높이(H)가 200㎚인 경우, 적색광(파장이 650㎚)이 투과되었다.
그리고, 상기 금속 패턴(110)의 피치(P)가 280㎚, 관통홀들(115)의 폭(G)이 190㎚, 금속 패턴(110)의 선폭(W)이 90㎚, 금속 패턴(110)의 높이(H)가 200㎚인 경우, 녹색광(파장이 550㎚)이 투과되었다.
또한, 상기 금속 패턴(110)의 피치(P)가 220㎚, 관통홀들(115)의 폭(G)이 150㎚, 금속 패턴(110)의 선폭(W)이 70㎚, 금속 패턴(110)의 높이(H)가 200㎚인 경우, 청색광(파장이 450㎚)이 투과되었다.
본 발명은 상술된 바와 같은 파장 필터는 예컨대, 광을 출사하는 액정 표시장치 또는 이미지 센서와 같은 전자 장치에 설치될 수 있으며, 파장 필터는 전자 장치에서 출사된 광의 특정 파장을 투과시키게 된다.
이때, 상기 파장 필터가 RGB 컬러 필터로 구현되는 경우, 상기 파장 필터의 금속 패턴에는 관통홀들의 주기가 각각 다른 3개 영역들으로 분할시키면, 각각의 3개의 영역들에서 적색광, 녹색광 및 청색광을 투과할 수 있게 된다.
그러므로, 전자 장치의 활용 범위에 따라, 금속 패턴을 관통홀들의 주기가 각각 다른 복수개의 영역들으로 분할시킬 수 있으며, 각각 분할된 영역에서는 각기 다른 파장의 광을 선택적으로 투과시킬 수 있게 된다.
본 발명은 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
도 1은 종래 기술에 따라 컬러 필터가 형성된 이미지 센서의 단면도
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 파장 필터를 도시한 개략적인 사시도
도 3a와 3b는 본 발명에 따라 파장 필터의 금속 패턴에 형성되어 있는 관통홀의 형상을 설명하기 위한 개략적인 평면도
도 4a와 4b는 본 발명에 적용된 파장 필터의 금속 패턴에 형성되어 있는 관통홀의 형상에 따라 투과율을 측정한 그래프
도 5a와 5b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 파장 필터를 설명하기 위한 개략적인 단면도
도 6은 일반적인 선 격자 편광자의 구조를 설명하기 위한 개념도
도 7은 본 발명에 따라 레이저 간섭 리소그래피 공정을 설명하는 개념도
도 8은 본 발명에 따른 파장 필터의 격자 형태에 따라 투과되는 광의 파장을 설명하기 위한 개략적인 단면도

Claims (11)

  1. 투명 기판과;
    상기 투명 기판 상부에 형성되며, 열(列)과 행(行)으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴으로 구성된 파장 필터.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 투명 기판 상부에 상기 금속 패턴의 산화를 방지하는 산화 방지막이 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 파장 필터.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 관통홀들 내부에 상기 투명 기판과 굴절률이 동일하거나 또는 큰 물질이 더 충진되어 있는 것을 특징으로 하는 파장 필터.
  4. 청구항 1 내지 3 중 한 항에 있어서,
    상기 관통홀들의 횡단면은,
    사각형이거나, 또는 원형인 것을 특징으로 하는 파장 필터.
  5. 청구항 1 내지 3 중 한 항에 있어서,
    상기 관통홀들의 횡단면은,
    정사각형인 것을 특징으로 하는 파장 필터.
  6. 청구항 1 내지 3 중 한 항에 있어서,
    상기 관통홀들의 주기(T)는,
    200㎚ ~ 350㎚인 것을 특징으로 하는 파장 필터.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 금속 패턴의 선폭(W)은,
    상기 관통홀들의 주기의 20 ~ 50%인 것을 특징으로 하는 파장 필터.
  8. 투명 기판 상부에 금속막 및 감광막을 순차적으로 형성하는 단계와;
    상기 감광막을 레이저 간섭 리소그래피 공정을 수행하여, 열과 행으로 관통 홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 패턴으로 노광시키는 단계와;
    상기 감광막을 현상하여 마스크 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 마스크 패턴으로 상기 금속막을 식각하여 열과 행으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴이 형성하는 단계로 이루어진 파장 필터의 제조 방법.
  9. 광을 출사하며, 출사된 광의 특정 파장을 투과시키는 파장 필터가 설치되어 있는 전자 장치에 있어서,
    상기 파장 필터는,
    투명 기판과;
    상기 투명 기판 상부에 형성되며, 열(列)과 행(行)으로 관통홀들이 소정 주기를 갖고 형성되어 있는 금속 패턴을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 파장 필터를 구비한 전자 장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 금속 패턴은,
    상기 관통홀들의 주기가 각각 다른 복수개의 영역들으로 분할되어 있는 것을 특징으로 하는 파장 필터를 구비한 전자 장치.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 전자 장치는,
    액정 표시장치 또는 이미지 센서인 것을 특징으로 하는 파장 필터를 구비한 전자 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101688186B1 (ko) * 2015-12-03 2016-12-20 한국기계연구원 파장 선택적 투과 및 반사 기능을 갖는 광학필터
CN107365958A (zh) * 2017-07-13 2017-11-21 上海天马有机发光显示技术有限公司 金属掩膜板的制备方法
KR20180081879A (ko) * 2017-01-09 2018-07-18 (주)에이피텍 적외선 필터링 장치

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